KR920012240A - 안정화된 할로겐 함유 중합체 조성물 - Google Patents

안정화된 할로겐 함유 중합체 조성물 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

안정화된 할로겐 함유 중합체 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (30)

  1. 폴리(비닐 클로라이드)를 60용적%이상 함유하는 경질 중합체성 물질； 금속 기본 안정화제； 및 이나트륨 아디페이트를 포함하는 안정화된 중합체 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 이나트륨 아디페이트가 금속 기본 안정화제와 함께 상승적인 열 안정 효과를 생성하는 양으로 존재하는 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)를 기준으로 하여 이나트륨 아디페이트가 약 0.01 내지 10중량%로 존재하는 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)를 기준으로 하여 이나트륨 아디페이트가 약 0.1 내지 5.0중량%로 존재하는 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)를 기준으로 하여 이나트륨 아디페이트가 약 0.1 내지 2.0중량%로 존재하는 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)를 기준으로 하여 금속 기본 안정화제가 약 0.1 내지 약 2.0중량%로 존재하는 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 금속 기본 안정화제가 주석을 기본으로 하는 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 금속 기본 안정화제가 알킬 주석 머캅타이드, 알킬 주석 머캅토 에스테르, 및 알킬 주석황 교합 주석 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
  9. 제1항 있어서, 금속 기본 안정화제가 유기 금속, 금속-함유 유기물, 탄산납, 황산납, 산화납, 인산납, 및 규산납으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 중합체성 물질이 100% 폴리(비닐 클로라이드)인 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)가 단독 중합체인 조성물.
  12. 필수적으로 폴리(비닐 클로라이드)를 60중량%이상 함유하는 경질 중합체성 물질； 주석 기본 안정화제； 및 주석 기본 안정화제와 함께 상승적인 열 안정 효과를 생성하는 양으로 존재하는 이나트륨 아디페이트로 이루어진 안정화된 중합체 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)를 기준으로 하여 이나트륨 아디페이트가 약 0.01 내지 약 10중량%로 존재하는 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)를 기준으로 하여 이나트륨 아디페이트가 약 0.1 내지 5.0중량%로 존재하는 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)를 기준으로 하여 이나트륨 아디페이트가 약 0.1 내지 2.0중량%로 존재하는 조성물.
  16. 제12항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)를 기준으로 하여 주석 기본 안정화제가 약 0.01 내지 약 5.0중량%로 존재하는 조성물
  17. 제12항에 있어서, 주석 기본 안정화제가 알킬 주석 머캅타이드, 알킬 주석 머캅토 에스테르, 및 알킬주석황 교합된 주석 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
  18. 제12항에 있어서, 중합체성 물질이 100% 폴리(비닐 클로라이드)인 조성물.
  19. 제12항에 있어서, 폴리(비닐 클로라이드)가 단독 중합체인 조성물.
  20. 폴리(비닐 클로라이드)를 60용적%이상 함유하는 경질 중합체성 물질, 금속 기본 안정화제 및 이나트륨 아디페이트를 포함하는 혼합물을 가열하여 혼합물을 성형 구조물로 성형시킴을 특징으로 하여, 성형 구조물을 제조하는 방법.
  21. 제20항에 있어서 공정이 연속적인 방법.
  22. 제21항에 있어서, 이나트륨 아디페이트가 금속 기본 안정화제와 함께 상승적인 열 안정 효과를 생성하는 양으로 존재하는 방법.
  23. 제22항에 있어서, 금속 기본 안정화제가 주석을 기존으로 하는 방법.
  24. 제23항에 있어서, 주석 기본 안정화제가 알킬 주석 머캅타이드, 알킬 주석 머캅토 에스테르, 및 알킬 주석황 교합된 주석 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 방법.
  25. 제21항에 있어서, 성형 구조물이 비닐 하우스 사이딩(siding)인 방법.
  26. 제21항에 있어서, 성형 구조물이 파이프인 방법.
  27. 제20항에 있어서, 성형 제품이 사출성형에 의해 형성되는 방법.
  28. 할로겐 함유 중합체를 60용적%이상 함유하는 경질 중합체성 물질；주석 기본 안정화제；이나트륨 아디페이트； 및 비염소화된 가소화제로 필수적으로 이루어진 조성물.
  29. 폴리(비닐 클로라이드)를 60용적%이상 함유하는 경질 중합체성 물질；금속 기본 안정화제； 및 탄소수가 1 내지 22인 알콜 분획을 갖는 말레산 모노에스테르의나트륨염；폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 폴리(2-에틸헥실)아크릴레이트 및 부분적으로 비누화된 폴리아크릴레이트의 나트륨염；나트륨 신나메이트；(CH2)n(CO2Me)n(여기서, n은 2내지 18이고 Me는 나트륨 또는 칼륨이다)；NaO(O)CDH2CH(CH2CH=CHC9H19)CO2Na；〔NaO(O)CCH=(O)OCH2CH2〕2-O；；이나트륨 말레에이트 디하이드레이트；이나트륨 프탈레이트；1, 2, 4-벤젠트리카복실산 나트륨 염；1, 2, 4, 5-벤젠테트라 캅복실산 나트륨염；이나트륨 테레프탈레이트；이나트륨 옥살레이트；나트륨 벤조에이트；나트륨 티오글리콜레이트；나트륨 3급-부틸벤조에이트, 나트륨 3-메틸벤조에이트；나트륨 글리콜레이트；이칼륨 프탈레이트；나트륨 헥사노에이트；나트륨 옥타노에이트；나트름 데카노에이트；나트름 이소옥틸석시네이트；데하이드로아세트산나트륨염； 및 칼륨아디페이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 염을 포함하는 안정화된 중합체 조성물.
  30. 염이 (CH2)n(CO2Na)2이고 이때 n이 2내지 10인 제29항에 따른 안정화제.
    ※ 참고사항 ： 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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