KR920007100A - 엔모오스 제조방법 - Google Patents

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김홍선
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문정환
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

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Abstract

내용 없음

Description

엔모오스 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도 (A)~(E)는 본 발명에 따른 에모오스 제조공정도,
제3도는 본 발명에 따른 실시예시도.

Claims (3)

  1. 게이트를 형성한 후에 VTN이온을 깊게 주입시킴으로서 VTN이온이 채널영역에는 표면에 도우핑되게 하고 소오스 드레인 영역에는 깊게 도우핑되게 하여 소오스 드레인 펀처 드루우를 막아줄 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 엔모오스 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, VTN이온을 깊게 주입한 후에 N+소오스 드레인 이온을 주입하여 VTN도우스가 N+소오스 드레인 영역을 감싸주도록 하는 것을 특징으로하는 엔모오스 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 게이틀 형성하기 위해 비정질 폴리실리콘을 도우핑하는 것을 특징으로 엔모오스 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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