KR920006307A - 공업용 살륜 화합물, 이것의 제조방법 및 용도 - Google Patents

공업용 살륜 화합물, 이것의 제조방법 및 용도 Download PDF

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티레맨 엔.
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수잔 제인 젠틀
임페리알 케미칼 인더스트리스 피엘씨
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Abstract

내용 없음

Description

공업용 살균 화합물, 이것의 제조방법 및 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 다음 구조식(Ⅰ)의 화합물.
    식중, R1과 R2가 함께 합해지고 R3와 R4가 함께 합해져 각각 C3또는 C4의 폴리메틸렌 사슬 또는 C1-4를 갖는 최소한 하나의 저급 알킬 라디칼로 치환된 C3또는 C4의 폴리메틸렌 사슬을 표시하고, R5-R8은 각각 수소, 하이드로카빌 또는 치환된 하이드로카빌이거나 또는 R5및 R6는 질소원자와 함께 고리를 형성하거나 및/또는 R7및 R8은 질소원자와 함께 고리를 형성함.
  2. 제1항에서,다음구조식 (Ⅱ)를 갖는 화합물.
    식중, R5-R8은 전기한 바와 같고, t및 v는 각각 1 또는 2임.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, R5및 R7이 서로 같고, R6및 R8이 서로 같은 화합물.
  4. 제1항 내지 제3항중의 어느 한 항에 있어서, R5및 R7이 수소이고 R6및 R8이 C12까지를 갖는 알킬인 화합물.
  5. 비스-(2-아미노카보닐시클로펜테-1-닐)디설파이드, 비스-(2-메틸아미노카보닐시클로펜테-1-닐)디설파이드, 비스스(2-아미노카보닐시클로펜테-1-닐)디설파이드, 비스-(2-헥실아미노카보닐시클로펜테-1-닐)디설파이드 및 비스(2-옥틸아미노카보닐시클로펜테-1-닐)디설파이드로부터 선택된 화합물.
  6. 다음 구조식 (Ⅲa) 및/또는 (Ⅲb)의 티올-아미드를 반응시켜 제1항 내지 제5항중의 어느 한 항의 화합물을 제조하는 방법.
  7. 다음 구조식(Ⅰ)화합물 및 담체로 이루어진 조성물.
  8. 제1항 내지 제5항중의 어느 한 항에 따르는 화합물을 미생물이 증식하지 못하도록 하기에 충분한 양으로 함유하는, 미생물에 민감한 매체.
  9. 제8항에 있어서, 화합물을 매체 중량의 0.001-30 중량%로 함유하는 매체.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 냉각수 시스템, 종이 분쇄용 용액, 금속 처리용액, 굴착용 윤활제, 중합체유제, 라테스, 페인트, 락커, 와니스, 액체탄화수소, 접착제, 화장품, 염료 또는 잉크 제제, 농화학약품용 제제, 가죽제품 또는 목재로부터 선택된 매체.
  11. 제1항 내지 제5항중의 어느 한 항의 화합물로 매체를 처리하는 것으로 이루어지는, 매체내 또는 매체상에서 미생물의 증식을 억제하는 방법.
  12. 용매내에서 다음 구조식(Ⅴ)의 화합물을
    산화제와 반응시켜 다음 구조식(Ⅵ)의 화합물을 제조하는 방법.
    식중,R1과 R2가 함께 합해져 C3또는 C4의 폴리메틸렌 사슬 또는 C1-4를 갖는 최소한 하나의 저급 알킬 라디칼로 치환된C3또는 C4의 폴리메틸렌 사슬을 표시하고, R6은 수소, 하이드로카빌 또는 치환된 하이드로카빌임.
  13. 용매내에서 다음 구조식(Ⅳ)의 화합물을
    환원제와 반응시켜 다음 구조식(Ⅴ)의 화합물을 제조하는 방법
    식중, R1과 R2가 함께 합해져 C3또는 C4의 폴리메틸렌 사슬 또는 C1-4를 갖는 최소한 하나의 저급 알킬 라디칼로 치환된C3또는 C4의 폴리메틸렌 사슬을 표시하고, R6은 수소, 하이드로카빌 또는 치환된 하이드로카빌임.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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