KR940021554A - 트리아졸로피리미딘 유도체, 이것의 제조방법 및 이것을 함유한 조성물 - Google Patents

트리아졸로피리미딘 유도체, 이것의 제조방법 및 이것을 함유한 조성물 Download PDF

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Abstract

트리아졸로피리미딘 유도체
본 발명은 하기 구조식(Ⅰ)의 트리아졸로피리미딘 유도체, 이것의 제조방법, 이러한 화합물을 함유한 조성물 및 살균제로서의 이것들의 용도에 관한 것이다.
상기식에서, R1은 임의적으로 치환된 알킬, 알케닐, 알키닐, 알카디에닐, 시클로알킬, 비시클로알킬 또는 헤테로시클일기이며; R2는 수소 원자 또는 알킬기이거나; 또는 R1및 R2는 사이에 있는 질소 원자와 함께 임의적으로 치환된 시클로알킬 또는 복소환식 고리를 형성하며; R3는 임의적으로 치환된 시클로알킬 또는 헤테로시클일기이며; R4는 수소 원자, 할로겐 원자 또는 -NR5R6기이며; R5는 수소 원자, 아미노, 알킬, 시클로알킬 또는 비시클로알킬기이며; R6은 수소 원자 또는 알킬기이다.

Description

트리아졸로피리미딘 유도체, 이것의 제조방법 및 이것을 함유한 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (15)

  1. 하기 구조식(Ⅰ)의 화합물:
    상기식에서, R1은 임의적으로 치환된 알킬, 알케닐, 알키닐, 알카디에닐, 시클로알킬, 비시클로알킬 또는 헤테로시클일기이며; R2는 수소 원자 또는 알킬기이거나; 또는 R1및 R2는 사이에 있는 질소 원자와 함께 임의적으로 치환된 복소환식 고리를 형성하며; R3는 임의적으로 치환된 시클로알킬 또는 헤테로시클일기이며; R4는 수소 원자, 할로겐 원자 또는 -NR5R6기이며;|R5는 수소 원자, 아미노, 알킬, 시클로알킬 또는 비시클로알킬기이며; R6는 수소 원자 또는 알킬기이다.
  2. 제1항에 있어서, R1은 C1-12알킬, C2-6알케닐, C2-6알키닐, C4-12알카디에닐, C3-8시클로알킬 또는 C4-8비시클로알킬기 또는 3- 내지 6-원 복소환식 고리이며, 상기 각기 및 고리는 할로겐 원자, 니트로, 시아노, 히드록실, C1-4알킬, C1-4할로알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알킬, 아미노, C1-4알킬아미노, 디-C1-4알킬아미노, 포르밀, C1-4알콕시카르보닐, 카르복실, 페닐, C1-4할로알킬페닐, 디-C1-4알콕시페닐, 푸릴 및 디할로-C3-6시클로알킬기로부터 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 임의적으로 치환되거나, 혹은 R1이 C3-8시클로알킬기 또는 3- 내지 6-원 복소환식 고리를 나타내는 경우 벤젠고리로 임의적으로 오르토-융합되는 화합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, R2가 수소 원자 또는 C1-4알킬 기인 화합물.
  4. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, R3가 C3-8시클로알킬기 또는 3- 내지 6-원 복소환식 고리이며; 상기 각기 및 고리는 할로겐 원자, 니트로, 시아노, 히드록실, C1-4알킬, C1-4할로알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알콕시, 아미노, C1-4알킬아미노, 디-C1-4알킬아미노, 포르밀, C1-4알콕시카르보닐, 카르복실, 페닐, 페녹시 및 벤질옥시로부터 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 임의적으로 치환하는 화합물.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, R4가 수소 원자, 할로겐 원자 또는 -NR5R6이며, 이때 R5는 수소 원자 또는 아미노, C1-4알킬, C3-6시클로알킬, 또는 C4-8비시클로알킬기이며, R6은 수소 원자 또는 C1-4알킬기인 화합물.
  6. 제1항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, R1은 프로필, 시슬로펜틸 또는 비시클로헵틸기이고; R2는 수소 원자이고; R3는 티에닐기이며; R4는 염소 원자인 화합물.
  7. 제1항에 있어서, 실시예 1-3중의 어느 하나에서 지칭된 화합물.
  8. (a) 하기 구조식(Ⅱ)의 화합물:
    (식중에서 R3는 전술된 항들중 어느 한 항에서 정의된 바와 같으며, Hal은 염소 원자 또는 브롬원자임)을, 하기구조식(Ⅲ)의 화합물:
    HNR1R2(Ⅲ)
    (식중에서, R1및 R2는 전술된 항들중 어느 한 항에서 정의된 바와 같음)과 반응시켜 R4가 염소 또는 브롬원자인 구조식(Ⅰ)의 화합물을 제조하고; (b) 필요에 따라, (a)에서 형성된 구조식(Ⅰ)의 화합물을 플루오르화제와 반응시켜 R4가 플루오르 원자인 구조식(Ⅰ)의 화합물을 제조하고; (c) 필요에 따라, (a)에서 형성된 구조식(Ⅰ)의 화합물을 환원제와 반응시켜 R4가 수소원자인 구조식(Ⅰ)의 화합물을 제조하고; (d) 필요에 따라, (a)에서 형성된 구조식(Ⅰ)의 화합물을 하기 구조식(Ⅳ)의 화합물:
    HNR5R6(Ⅳ)
    (식중에서, R5및 R6은 전술한 항들중 어느 한항에서 정의된 바와 같음)과 반응시켜 R4가 -NR5R6인 구조식(Ⅰ)의 화합물을 제조하고; (e) 필요에 따라, R5및 R6이 모두 수소 원자인 상기(d)에서 형성된 구조식(Ⅰ)의 화합물을 디아조화제의 존재하에서 디요오도메탄과 반응시켜 R4가 요오드 원자인 구조식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 것으로 이루어진, 전술된 항들중 어느 한항에서 정의된 구조식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법.
  9. 제8항에 있어서, 실질적으로 전술되었으며 실시예 1과 관련된 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 따른 방법에 의해 제조된 구조식(Ⅰ)의 화합물.
  11. 활성 성분으로서 제1항 내지 제7항과 제10항중 어느 한 항에 따른 구조식(Ⅰ)의 화합물과 담체를 포함하는 살균 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 두 개의 담체로 이루어졌으며, 이러한 담체중 적어도 하나는 표면-활성제인 조성물.
  13. 제1항 내지 제7항과 제10항중 어느 한 항에 따른 구조식(Ⅰ)의 화합물 또는 제11항 또는 제12항에 따른 조성물로 병소를 처리하는 것으로 이루어진 병소에서 진균을 박멸하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 병소는 진균 공격을 받은 식물 또는 받고 있는 식물, 상기 식물의 씨앗 또는 상기 식물이 성장하고 있거나 성장할 배지인 방법.
  15. 제1항 내지 제7항과 제10항중 어느 한 항에 따른 구조식(Ⅰ)의 화합물 또는 제11항 또는 제12항에 따른 조성물을 살균제로서 사용하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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