JPH05117229A - 化合物、製造および使用 - Google Patents
化合物、製造および使用Info
- Publication number
- JPH05117229A JPH05117229A JP3318749A JP31874991A JPH05117229A JP H05117229 A JPH05117229 A JP H05117229A JP 3318749 A JP3318749 A JP 3318749A JP 31874991 A JP31874991 A JP 31874991A JP H05117229 A JPH05117229 A JP H05117229A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disulfide
- compound
- general formula
- carbon atoms
- bis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C323/30—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D275/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings
- C07D275/04—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/50—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C323/61—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
- C07C2601/10—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being unsaturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 式
【化１】
〔式中、Ｒ1 およびＲ2 が一緒になって、およびＲ3 お
よびＲ4 が一緒になって、独立に３または４の炭素原子
を持つポリメチレン鎖、または１から４の炭素原子を持
つ少くとも１つの低級アルキル基で置換された３または
４の炭素原子を持つポリメチレン鎖を表わし、およびＲ
5 からＲ8 は独立して水素、ヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビルである。典型的にはＲ1 およびＲ2 およ
びまたＲ3 およびＲ4 はトリメチレン環を完成し、Ｒ5
およびＲ7 は各々水素であり、およびＲ6 およびＲ8 は
メチルのごときアルキルである〕で表される化合物。 【効果】 産業用生物致死性薬剤として有用であり、ペ
ンキ、接着剤、皮革、木材、金属作用性流体および冷却
水の保存等に用いられる。
よびＲ4 が一緒になって、独立に３または４の炭素原子
を持つポリメチレン鎖、または１から４の炭素原子を持
つ少くとも１つの低級アルキル基で置換された３または
４の炭素原子を持つポリメチレン鎖を表わし、およびＲ
5 からＲ8 は独立して水素、ヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビルである。典型的にはＲ1 およびＲ2 およ
びまたＲ3 およびＲ4 はトリメチレン環を完成し、Ｒ5
およびＲ7 は各々水素であり、およびＲ6 およびＲ8 は
メチルのごときアルキルである〕で表される化合物。 【効果】 産業用生物致死性薬剤として有用であり、ペ
ンキ、接着剤、皮革、木材、金属作用性流体および冷却
水の保存等に用いられる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は産業用生物致死性薬剤と
して有用な化合物およびそのような化合物の製造および
使用に関する。
して有用な化合物およびそのような化合物の製造および
使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】産業用生物致死性薬剤は特に、細菌およ
び真菌類により起こされる産業上の損傷の防止に有用で
ある。産業用生物致死性薬剤はペンキ、ラテックス、接
着剤、皮革、木材、金属使用性流体および冷却水の保存
に応用される。
び真菌類により起こされる産業上の損傷の防止に有用で
ある。産業用生物致死性薬剤はペンキ、ラテックス、接
着剤、皮革、木材、金属使用性流体および冷却水の保存
に応用される。
【０００３】産業用生物致死性薬剤として使用できる化
合物の１つの群はイソチアゾリノン構造に基づいてい
る。有用な生物致死性を持つと記述しているイソチアゾ
リノン誘導体の多くの特許開示がある。米国特許第３７
６１４８８号は任意に置換されてもよいアルキル、アル
ケニル、アルキニル、シクロアルキル、アラルキルまた
はアリール基が窒素原子に結合され、４および５位が無
置換またはハロゲンまたは低級アルキル基で置換されて
いるイソチアゾリノン誘導体を開示している。米国特許
第４１６５３１８号は極性有機溶媒中のイソチアゾリン
−３−オンの溶液を開示しており、その溶液はまた安定
剤量のホルムアルデヒドも含んでいる。英国特許出願第
２０８７３８８号はポリメチレン鎖が３つまたは４つの
炭素原子を持つ４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン類について開示している。
合物の１つの群はイソチアゾリノン構造に基づいてい
る。有用な生物致死性を持つと記述しているイソチアゾ
リノン誘導体の多くの特許開示がある。米国特許第３７
６１４８８号は任意に置換されてもよいアルキル、アル
ケニル、アルキニル、シクロアルキル、アラルキルまた
はアリール基が窒素原子に結合され、４および５位が無
置換またはハロゲンまたは低級アルキル基で置換されて
いるイソチアゾリノン誘導体を開示している。米国特許
第４１６５３１８号は極性有機溶媒中のイソチアゾリン
−３−オンの溶液を開示しており、その溶液はまた安定
剤量のホルムアルデヒドも含んでいる。英国特許出願第
２０８７３８８号はポリメチレン鎖が３つまたは４つの
炭素原子を持つ４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン類について開示している。
【０００４】産業用生物致死性薬剤として使用できるこ
とが見い出されている別の群の化合物は２，２′−ビス
（メチルアミノカルボニル）ジフェニルジスルフィドの
ごときジスルフィドであり、その使用は英国特許出願第
１５３２９８４号に記載および特許請求されている。
とが見い出されている別の群の化合物は２，２′−ビス
（メチルアミノカルボニル）ジフェニルジスルフィドの
ごときジスルフィドであり、その使用は英国特許出願第
１５３２９８４号に記載および特許請求されている。
【０００５】これらの群の化合物は両方とも産業用生物
致死性薬剤として商業的に重要になってきた。
致死性薬剤として商業的に重要になってきた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】産業用生物致死性薬剤
として有効であり、驚くほど有用な殺菌および特に抗菌
性質を持つ新規の群の化合物が発見された。
として有効であり、驚くほど有用な殺菌および特に抗菌
性質を持つ新規の群の化合物が発見された。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に従うと、一般式
Ｉの化合物が提供される。
Ｉの化合物が提供される。
【化１０】 Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって、およびＲ3およびＲ4
は一緒になって独立して３または４の炭素原子を持つポ
リメチレン鎖または１から４の炭素原子を持つ少くとも
１つの低級アルキル基により置換された３または４の炭
素原子を持つポリメチレン鎖を表わし；およびＲ5 から
Ｒ8 は各々独立して水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒ
ドロカルビルまたはＲ5 およびＲ6 は窒素原子と一緒に
なって環を形成し、および／またはＲ7 およびＲ8 は窒
素原子と一緒になって環を形成する〕
は一緒になって独立して３または４の炭素原子を持つポ
リメチレン鎖または１から４の炭素原子を持つ少くとも
１つの低級アルキル基により置換された３または４の炭
素原子を持つポリメチレン鎖を表わし；およびＲ5 から
Ｒ8 は各々独立して水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒ
ドロカルビルまたはＲ5 およびＲ6 は窒素原子と一緒に
なって環を形成し、および／またはＲ7 およびＲ8 は窒
素原子と一緒になって環を形成する〕
【０００８】Ｒ1 およびＲ2 が低級アルキルにより置換
されたポリメチレン鎖を形成する場合、８つまでの低級
アルキル基が存在してもよい。しかしながら、Ｒ1 およ
びＲ2 がアルキル置換を含まないものが好適である。
されたポリメチレン鎖を形成する場合、８つまでの低級
アルキル基が存在してもよい。しかしながら、Ｒ1 およ
びＲ2 がアルキル置換を含まないものが好適である。
【０００９】Ｒ1 およびＲ2 が一緒になって、およびＲ
3 およびＲ4 が一緒になってポリメチレン鎖を形成して
いる本発明の１つの特別の実施態様においては化合物は
一般式ＩＩの１つである。
3 およびＲ4 が一緒になってポリメチレン鎖を形成して
いる本発明の１つの特別の実施態様においては化合物は
一般式ＩＩの１つである。
【化１１】 〔式中、Ｒ5 からＲ8 は前に定義したとおり；およびｔ
およびｖは独立に１または２である〕
およびｖは独立に１または２である〕
【００１０】好適であるのはｔおよびｖは同じであり、
特に両方とも１である。
特に両方とも１である。
【００１１】Ｒ5 からＲ8 はヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビルであり、Ｒ5 、Ｒ6、Ｒ7 およびＲ8 は
各々２０までの炭素原子および特に１２までの炭素原子
を含んでもよい。Ｒ5 からＲ8 がヒドロカルビルである
場合、それはアルキル、アリール、シクロアルキル、ア
ルカリルまたはアルケニルであり得、Ｒ5 からＲ8 が置
換ヒドロカルビルである場合、それは酸素、窒素、硫黄
および例えばフッ素、塩素および臭素などのハロゲンか
ら選択される少くとも１つのヘテロ原子をさらに含むま
たは運ぶ前述のものの１つのごときヒドロカルビル部分
である。
ヒドロカルビルであり、Ｒ5 、Ｒ6、Ｒ7 およびＲ8 は
各々２０までの炭素原子および特に１２までの炭素原子
を含んでもよい。Ｒ5 からＲ8 がヒドロカルビルである
場合、それはアルキル、アリール、シクロアルキル、ア
ルカリルまたはアルケニルであり得、Ｒ5 からＲ8 が置
換ヒドロカルビルである場合、それは酸素、窒素、硫黄
および例えばフッ素、塩素および臭素などのハロゲンか
ら選択される少くとも１つのヘテロ原子をさらに含むま
たは運ぶ前述のものの１つのごときヒドロカルビル部分
である。
【００１２】Ｒ5 およびＲ6 が窒素原子と一緒に、およ
び／またはＲ7 およびＲ8 が窒素原子と一緒に環を形成
する場合、環は酸素、硫黄および窒素のごときヘテロ原
子をさらに含んでいてもよい。好適であるのはモルホリ
ノ、ピペリジノまたはピペラジノ環のごとき５または６
員環である。
び／またはＲ7 およびＲ8 が窒素原子と一緒に環を形成
する場合、環は酸素、硫黄および窒素のごときヘテロ原
子をさらに含んでいてもよい。好適であるのはモルホリ
ノ、ピペリジノまたはピペラジノ環のごとき５または６
員環である。
【００１３】一般式Ｉの化合物の好適な実施態様におい
て、Ｒ5 はＲ7 のものと同じであり、およびＲ6 はＲ8
のものと同じである。
て、Ｒ5 はＲ7 のものと同じであり、およびＲ6 はＲ8
のものと同じである。
【００１４】Ｒ5 からＲ8 は水素またはヒドロカルビ
ル、特にアルキル（直鎖でもまたは分枝していてもよ
い）が一般的に好適である。特に有用な化合物はｔおよ
びｖが両方とも１であり、およびＲ5 からＲ8 がすべて
水素である一般式ＩＩの化合物、およびまたＲ5 および
Ｒ7 が両方とも水素であり、Ｒ6 およびＲ8 がＣ1 −Ｃ
12アルキル、特にＣ1 −Ｃ6 アルキル（メチルのごと
き）である化合物である。
ル、特にアルキル（直鎖でもまたは分枝していてもよ
い）が一般的に好適である。特に有用な化合物はｔおよ
びｖが両方とも１であり、およびＲ5 からＲ8 がすべて
水素である一般式ＩＩの化合物、およびまたＲ5 および
Ｒ7 が両方とも水素であり、Ｒ6 およびＲ8 がＣ1 −Ｃ
12アルキル、特にＣ1 −Ｃ6 アルキル（メチルのごと
き）である化合物である。
【００１５】具体的な例は、ビス−（２−アミノカルボ
ニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド、ビス−
（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−１−エニ
ル）ジスルフィド、ビス−（２−ブチルアミノカルボニ
ルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド、ビス−
（２−ヘキシルアミノカルボニルシクロペンタ−１−エ
ニル）ジスルフィドおよびビス−（２−オクチルアミノ
カルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィドで
ある。
ニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド、ビス−
（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−１−エニ
ル）ジスルフィド、ビス−（２−ブチルアミノカルボニ
ルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド、ビス−
（２−ヘキシルアミノカルボニルシクロペンタ−１−エ
ニル）ジスルフィドおよびビス−（２−オクチルアミノ
カルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィドで
ある。
【００１６】一般式Ｉの化合物は例えば、一般式ＩＩＩ
ａおよび／またはＩＩＩｂのチオール−アミド前駆体の
制御された酸化による任意の都合のよい方法により製造
されるであろう。
ａおよび／またはＩＩＩｂのチオール−アミド前駆体の
制御された酸化による任意の都合のよい方法により製造
されるであろう。
【化１２】
【００１７】チオール−アミドのジスルフィドへの変換
は、無水条件下適した非水液体媒質にチオール−アミド
を懸濁または好適には溶解させて好適に実施される。液
体媒質は問題とする特定のチオール−アミドおよび酸化
剤に適するように選択され、典型的にはメタノールまた
はエタノールのごときアルコール、トルエンのごとき芳
香族溶剤、ヘキサンのごとき脂肪族溶媒および特にはメ
チレンクロリド、クロロホルムまたはテトラクロロエチ
レンのごときクロロ脂肪族炭化水素から選択される。ま
た溶媒の混合物を使用してもよい。しかしながら、もし
チオール−アミドが水に十分に可溶であり、およびより
重要な点は酸化剤が水と適合するならばそのような情況
下では液体媒質は水であってもよい。
は、無水条件下適した非水液体媒質にチオール−アミド
を懸濁または好適には溶解させて好適に実施される。液
体媒質は問題とする特定のチオール−アミドおよび酸化
剤に適するように選択され、典型的にはメタノールまた
はエタノールのごときアルコール、トルエンのごとき芳
香族溶剤、ヘキサンのごとき脂肪族溶媒および特にはメ
チレンクロリド、クロロホルムまたはテトラクロロエチ
レンのごときクロロ脂肪族炭化水素から選択される。ま
た溶媒の混合物を使用してもよい。しかしながら、もし
チオール−アミドが水に十分に可溶であり、およびより
重要な点は酸化剤が水と適合するならばそのような情況
下では液体媒質は水であってもよい。
【００１８】酸化剤は過酸化水素、アルカリ金属過酸化
物、過酢酸のごとき有機ペルオキシ化合物のごときペル
オキシ化合物、塩素および臭素のごときハライドおよび
特に塩化スルフリルのごとき硫黄のオキシハライドから
選択される。酸化剤は例えばアルミナ上のメタ過ヨウ素
酸ナトリウムのごとく不活性担体上に支持されていても
よい。前述のほとんどの酸化剤では、反応は実質的に無
水の条件下、好適には１つまたはそれ以上の上述の有機
溶媒中で実施されねばならない。
物、過酢酸のごとき有機ペルオキシ化合物のごときペル
オキシ化合物、塩素および臭素のごときハライドおよび
特に塩化スルフリルのごとき硫黄のオキシハライドから
選択される。酸化剤は例えばアルミナ上のメタ過ヨウ素
酸ナトリウムのごとく不活性担体上に支持されていても
よい。前述のほとんどの酸化剤では、反応は実質的に無
水の条件下、好適には１つまたはそれ以上の上述の有機
溶媒中で実施されねばならない。
【００１９】チオール−アミドの反応は容易に起こり、
通常６０℃以下および典型的には３０℃以下（例えば０
および１０℃の間）で実施される。
通常６０℃以下および典型的には３０℃以下（例えば０
および１０℃の間）で実施される。
【００２０】温度、酸化剤、溶媒および反応物の濃度な
どの反応条件の選択は一般式Ｉのジスルフィド、特にＲ
5 およびＲ7 が水素である化合物の製造の際に重要であ
る。もし酸化剤があまりに強力であるか、または条件が
あまりに強制的であり、またはチオール−アミドに対す
る酸化剤の比があまりに高ければ、反応は進行しすぎ、
類似の環状４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリン
−３−オンまたはその更なる酸化生成物を与える。
どの反応条件の選択は一般式Ｉのジスルフィド、特にＲ
5 およびＲ7 が水素である化合物の製造の際に重要であ
る。もし酸化剤があまりに強力であるか、または条件が
あまりに強制的であり、またはチオール−アミドに対す
る酸化剤の比があまりに高ければ、反応は進行しすぎ、
類似の環状４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリン
−３−オンまたはその更なる酸化生成物を与える。
【００２１】チオール−アミドをクロロ脂肪族炭化水素
溶媒中、低温でチオールのモル数当り約０．５モルの塩
化スルフリルと反応させることにより、一般式ＩＩＩａ
および／またはＩＩＩｂのチオール−アミドが効果的に
一般式Ｉのジスルフィドへ変換されることが発見され
た。
溶媒中、低温でチオールのモル数当り約０．５モルの塩
化スルフリルと反応させることにより、一般式ＩＩＩａ
および／またはＩＩＩｂのチオール−アミドが効果的に
一般式Ｉのジスルフィドへ変換されることが発見され
た。
【００２２】それ故、本発明の更なる態様に従うと、一
般式ＩＩＩａおよび／またはＩＩＩｂのチオール−アミ
ドをメチレンクロリドのごときクロロ脂肪族炭化水素溶
媒中で１モル未満の塩化スルフリルのごとき硫黄のオキ
シハライドと６０℃を越えない温度で反応させることに
より一般式Ｉのジスルフィドを製造する方法が提供され
る。好適には反応は３０℃以下、例えば０から１０℃の
間で実施される。理想的には硫黄のオキシハライドの比
率はチオール−アミドのモル当り０．７モル以下で、特
に０．５モル／モル以下（例えばチオール−アミドのモ
ル当り０．３から０．５モルの間）である。
般式ＩＩＩａおよび／またはＩＩＩｂのチオール−アミ
ドをメチレンクロリドのごときクロロ脂肪族炭化水素溶
媒中で１モル未満の塩化スルフリルのごとき硫黄のオキ
シハライドと６０℃を越えない温度で反応させることに
より一般式Ｉのジスルフィドを製造する方法が提供され
る。好適には反応は３０℃以下、例えば０から１０℃の
間で実施される。理想的には硫黄のオキシハライドの比
率はチオール−アミドのモル当り０．７モル以下で、特
に０．５モル／モル以下（例えばチオール−アミドのモ
ル当り０．３から０．５モルの間）である。
【００２３】チオール−アミドのジスルフィドへの変換
は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）のごとき通
常の方法でモニターされ、反応はジスルフィドの収率を
最高にする適当な時間に停止されるであろう。
は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）のごとき通
常の方法でモニターされ、反応はジスルフィドの収率を
最高にする適当な時間に停止されるであろう。
【００２４】一般式Ｉのジスルフィドは溶媒の蒸発、水
中への抽出または濾過および乾燥のごとき通常の手段に
より単離および回収されるであろう。
中への抽出または濾過および乾燥のごとき通常の手段に
より単離および回収されるであろう。
【００２５】先に説明したごとくチオール−アミドは使
用される酸化剤の性質およびチオール−アミドに対する
酸化剤の化学量論比に依存して一般式Ｉのジスルフィド
または類似の４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オンまで酸化されるであろう。それ故一般式Ｉ
のジスルフィドそれ自身もイソチアゾリン−３−オンへ
変換されるであろう。したがって、Ｒ5 およびＲ7 が両
方とも水素であり、Ｒ1 からＲ4 およびＲ6 およびＲ8
が前に定義したとうりの一般式Ｉのジスルフィドはそれ
自身４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリン−３−
オン製造のための価値ある中間体である。ジスルフィド
の環状イソチアゾリン−３−オンへの変換は酸化剤およ
びジスルフィドの性質および相対量にさほど依存しない
が、もし条件があまりに強いとイソチアゾリン−３−オ
ンを越えた酸化が起こり得る。一般式Ｉのジスルフィド
は水および有機溶媒へは比較的低い溶解性を示し、それ
故イソチアゾリン−３−オンの収率は低い。しかしなが
ら、反応を適当な有機溶媒およびその有機溶媒と混じる
強有機酸の混合物で実施することにより一般式Ｉのジス
ルフィドがイソチアゾリン−３−オンへ高収率で変換で
きるであろうことが見い出された。有機溶媒は好適には
反応不活性であり、好適にはメチレンクロリドのごとき
クロロ−脂肪族炭化水素溶媒から選択され、および強有
機酸で好適であるのはギ酸である。
用される酸化剤の性質およびチオール−アミドに対する
酸化剤の化学量論比に依存して一般式Ｉのジスルフィド
または類似の４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オンまで酸化されるであろう。それ故一般式Ｉ
のジスルフィドそれ自身もイソチアゾリン−３−オンへ
変換されるであろう。したがって、Ｒ5 およびＲ7 が両
方とも水素であり、Ｒ1 からＲ4 およびＲ6 およびＲ8
が前に定義したとうりの一般式Ｉのジスルフィドはそれ
自身４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリン−３−
オン製造のための価値ある中間体である。ジスルフィド
の環状イソチアゾリン−３−オンへの変換は酸化剤およ
びジスルフィドの性質および相対量にさほど依存しない
が、もし条件があまりに強いとイソチアゾリン−３−オ
ンを越えた酸化が起こり得る。一般式Ｉのジスルフィド
は水および有機溶媒へは比較的低い溶解性を示し、それ
故イソチアゾリン−３−オンの収率は低い。しかしなが
ら、反応を適当な有機溶媒およびその有機溶媒と混じる
強有機酸の混合物で実施することにより一般式Ｉのジス
ルフィドがイソチアゾリン−３−オンへ高収率で変換で
きるであろうことが見い出された。有機溶媒は好適には
反応不活性であり、好適にはメチレンクロリドのごとき
クロロ−脂肪族炭化水素溶媒から選択され、および強有
機酸で好適であるのはギ酸である。
【００２６】反応は容易に起こり好適には６０℃を越え
ない温度、より好適には３０℃以下でおよび特に０から
１０℃で実施される。
ない温度、より好適には３０℃以下でおよび特に０から
１０℃で実施される。
【００２７】酸化剤は前に記載したものから選択される
が、特には塩化スルフリルのごとき硫黄のオキシクロリ
ドである。
が、特には塩化スルフリルのごとき硫黄のオキシクロリ
ドである。
【００２８】チオール−アミドから一般式Ｉへの酸化に
対して、ジスルフィドから環状４，５−ポリメチレン−
４−イソオキサゾリン−３−オンへの酸化はより強い条
件を一般的に必要とし、典型的には（０．５モルを越え
る酸化剤／ジスルフィドモル数）の酸化剤のモル比率で
実施される。ジスルフィドモル当り１０モル過剰の酸化
剤の比率を用いてもよいが、それには何の利点も見い出
されず、高濃度の酸化剤、高い温度および長い反応時間
はイソチアゾリン−３−オンの歓迎しがたい酸化副生成
物を生じる。それ故、酸化剤（塩化スルフリルのごと
き）の比率をジスルフィドモル当り０．５モルを越える
酸化剤で、しかしジスルフィドモル当り１０モル以下の
酸化剤に保つのが好適である。一般的には、ジスルフィ
ドからのイソチアゾリン−３−オンの高収率はジスルフ
ィドのモル当り１から５モルの酸化剤で、特にはジスル
フィドモル当り１から２モルの酸化剤で、より特別には
１から１．２モルの酸化剤で得ることができることを見
い出している。
対して、ジスルフィドから環状４，５−ポリメチレン−
４−イソオキサゾリン−３−オンへの酸化はより強い条
件を一般的に必要とし、典型的には（０．５モルを越え
る酸化剤／ジスルフィドモル数）の酸化剤のモル比率で
実施される。ジスルフィドモル当り１０モル過剰の酸化
剤の比率を用いてもよいが、それには何の利点も見い出
されず、高濃度の酸化剤、高い温度および長い反応時間
はイソチアゾリン−３−オンの歓迎しがたい酸化副生成
物を生じる。それ故、酸化剤（塩化スルフリルのごと
き）の比率をジスルフィドモル当り０．５モルを越える
酸化剤で、しかしジスルフィドモル当り１０モル以下の
酸化剤に保つのが好適である。一般的には、ジスルフィ
ドからのイソチアゾリン−３−オンの高収率はジスルフ
ィドのモル当り１から５モルの酸化剤で、特にはジスル
フィドモル当り１から２モルの酸化剤で、より特別には
１から１．２モルの酸化剤で得ることができることを見
い出している。
【００２９】それ故、本発明のさらなる実施態様とし
て、一般式Ｉの化合物（式中、Ｒ5 およびＲ7 は両方水
素であり、Ｒ1 からＲ4 およびＲ6 およびＲ8 は前に定
義したとおりである。）の酸化により４，５−ポリメチ
レン−４−イソチアゾリン−３−オンを製造する方法が
提供される。生成物はＲ1 Ｒ2 およびＲ3 Ｒ4 が異な
り、およびＲ6 およびＲ8 が異なる２つの４，５−ポリ
メチレン−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物であ
ろう。
て、一般式Ｉの化合物（式中、Ｒ5 およびＲ7 は両方水
素であり、Ｒ1 からＲ4 およびＲ6 およびＲ8 は前に定
義したとおりである。）の酸化により４，５−ポリメチ
レン−４−イソチアゾリン−３−オンを製造する方法が
提供される。生成物はＲ1 Ｒ2 およびＲ3 Ｒ4 が異な
り、およびＲ6 およびＲ8 が異なる２つの４，５−ポリ
メチレン−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物であ
ろう。
【００３０】一般式Ｉのジスルフィドからそのようなイ
ソチアゾリノンを製造する場合、単一の生成物が生成さ
れるようにＲ1 およびＲ2がＲ3 およびＲ4 と同じであ
りＲ6 およびＲ8 が同じであることが一般的に好適であ
る。
ソチアゾリノンを製造する場合、単一の生成物が生成さ
れるようにＲ1 およびＲ2がＲ3 およびＲ4 と同じであ
りＲ6 およびＲ8 が同じであることが一般的に好適であ
る。
【００３１】それ故一般式ＩＶの４，５−ポリメチレン
−４−イソオキサゾリン−３−オンを製造する方法が、
−４−イソオキサゾリン−３−オンを製造する方法が、
【化１３】 一般式Ｖのジスルフィドの酸化によることにより提供さ
れる。
れる。
【化１４】 〔式中Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ6 は前に定義したとおりであ
る〕
る〕
【００３２】酸化は反応不活性有機溶媒中で実施される
が、一般式Ｖのジスルフィドの低溶解性のため、反応不
活性有機溶媒および強有機酸の混合物を使用することが
一般的に好適である。強有機酸で好適であるのはギ酸で
あり、反応不活性有機溶媒は好適にはメチルクロリドの
ごときクロロ−脂肪族炭化水素である。
が、一般式Ｖのジスルフィドの低溶解性のため、反応不
活性有機溶媒および強有機酸の混合物を使用することが
一般的に好適である。強有機酸で好適であるのはギ酸で
あり、反応不活性有機溶媒は好適にはメチルクロリドの
ごときクロロ−脂肪族炭化水素である。
【００３３】酸化剤で好適であるのは塩化スルフリルの
ごとき硫黄のオキシハライドである。酸化剤の比率は一
般的に少くともジスルフィドのモル当り０．５モルの酸
化剤で、ジスルフィドのモル当り１０モル未満の酸化剤
である。酸化剤の量はジスルフィドのモル当り１モルか
ら５モルの酸化剤、特にジスルフィドのモル当り１モル
から２モルの酸化剤が好適である。
ごとき硫黄のオキシハライドである。酸化剤の比率は一
般的に少くともジスルフィドのモル当り０．５モルの酸
化剤で、ジスルフィドのモル当り１０モル未満の酸化剤
である。酸化剤の量はジスルフィドのモル当り１モルか
ら５モルの酸化剤、特にジスルフィドのモル当り１モル
から２モルの酸化剤が好適である。
【００３４】反応温度で好適であるのは６０℃を越えて
いないもので、より好適には３０℃以下で、特に０から
１０℃である。
いないもので、より好適には３０℃以下で、特に０から
１０℃である。
【００３５】一般式ＩＶのイソチアゾリン−３−オンは
一般式Ｖのジスルフィドから直接製造されることが理解
されよう。Ｒ6 が水素である一般式Ｖのジスルフィドか
らＲ6 が水素である一般式ＩＶへのイソチアゾリン−３
−オンへの酸化およびこれをヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビル基、Ｒ6 、を含む適当な試薬と反応させ
ることによりＲ6がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカ
ルビルである一般式ＩＶのイソチアゾリン−３−オンが
製造されるであろう。適当な試薬とは英国特許出願第２
０８７３８８号に記載されているものである。
一般式Ｖのジスルフィドから直接製造されることが理解
されよう。Ｒ6 が水素である一般式Ｖのジスルフィドか
らＲ6 が水素である一般式ＩＶへのイソチアゾリン−３
−オンへの酸化およびこれをヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビル基、Ｒ6 、を含む適当な試薬と反応させ
ることによりＲ6がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカ
ルビルである一般式ＩＶのイソチアゾリン−３−オンが
製造されるであろう。適当な試薬とは英国特許出願第２
０８７３８８号に記載されているものである。
【００３６】イソチアゾリン−３−オンは濾過のごとく
本分野で既知の多くの方法により単離でき、または溶媒
を留去することにより溶液から回収されるであろう。好
都合なのは、イソチアゾリン−３−オンまたは有機相か
ら単離されることなく工業的使用のために処方でき、ま
たは水相へ抽出された後単離することなく水性処方とし
て処方されるであろう。
本分野で既知の多くの方法により単離でき、または溶媒
を留去することにより溶液から回収されるであろう。好
都合なのは、イソチアゾリン−３−オンまたは有機相か
ら単離されることなく工業的使用のために処方でき、ま
たは水相へ抽出された後単離することなく水性処方とし
て処方されるであろう。
【００３７】一般式Ｖのジスルフィドは酸化されて一般
式ＩＶの環状ポリメチレン イソチアゾリン−３−オン
を生成するので、イソチアゾリン−３−オンはそれ自身
が還元されてジスルフィドを生成するであろうことが理
解されよう。
式ＩＶの環状ポリメチレン イソチアゾリン−３−オン
を生成するので、イソチアゾリン−３−オンはそれ自身
が還元されてジスルフィドを生成するであろうことが理
解されよう。
【００３８】それ故、本発明のさらに別の実施態様にお
いて、一般式ＩＶの４，５−ポリメチレン−４−イソチ
アゾリン−３−オンを還元することにより、一般式Ｖの
ジスルフィドを製造する方法が提供される。
いて、一般式ＩＶの４，５−ポリメチレン−４−イソチ
アゾリン−３−オンを還元することにより、一般式Ｖの
ジスルフィドを製造する方法が提供される。
【００３９】反応は容易に起こり、好適には６０℃を越
えない温度で、好適には３０℃以下で、特に０から２０
℃で実施される。
えない温度で、好適には３０℃以下で、特に０から２０
℃で実施される。
【００４０】反応は好適には水、メタノールまたはエタ
ノールのごときアルカノールまたは水性アルカノール溶
液のごとき極性溶媒中で実施される。
ノールのごときアルカノールまたは水性アルカノール溶
液のごとき極性溶媒中で実施される。
【００４１】典型的な還元剤は亜硫酸水素およびハイド
ロサルファイト陰イオンのアルカリ金属塩（特にナトリ
ウム塩）である。
ロサルファイト陰イオンのアルカリ金属塩（特にナトリ
ウム塩）である。
【００４２】イソチアゾリン−３−オンのモル当り１０
モルの還元剤のごとく比較的高い比率の還元剤が使用さ
れるであろう。しかしながら、イソチアゾリン−３−オ
ンのモル当り１モルから２モルの還元剤で反応がよく進
行することが見い出されている。
モルの還元剤のごとく比較的高い比率の還元剤が使用さ
れるであろう。しかしながら、イソチアゾリン−３−オ
ンのモル当り１モルから２モルの還元剤で反応がよく進
行することが見い出されている。
【００４３】反応は典型的には水またはメタノール溶液
中、イソチアゾリン−３−オンおよび還元剤を一緒に攪
拌することにより実施する。そのような条件下、ジスル
フィドは通常分離し、濾過により回収されるであろう。
中、イソチアゾリン−３−オンおよび還元剤を一緒に攪
拌することにより実施する。そのような条件下、ジスル
フィドは通常分離し、濾過により回収されるであろう。
【００４４】多くの例において、実験室規模ではジスル
フィドをシリカ支持体上へ吸着させ、「フラッシュ ク
ロマトグラフィー」により精製および単離を達成するの
がより都合がよい。この場合、ジスルフィドはシリカか
ら適当な溶媒またはより極性を増加させた溶媒の混合物
中に選択的に溶出される。
フィドをシリカ支持体上へ吸着させ、「フラッシュ ク
ロマトグラフィー」により精製および単離を達成するの
がより都合がよい。この場合、ジスルフィドはシリカか
ら適当な溶媒またはより極性を増加させた溶媒の混合物
中に選択的に溶出される。
【００４５】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 が前に定義し
たとおりであり、Ｒ5 およびＲ7 が水素であり、および
Ｒ6 およびＲ8 が水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒド
ロカルビルである一般式ＩＩＩａまたはＩＩＩｂのある
種のチオール−アミドは英国特許出願第２０８７３８８
号に開示されており、それにはまた２−モノ置換アミノ
カルボニルシクロアルケン−１−オンへの硫化水素の作
用によるそのようなチオール−アミドの製造も開示され
ている。
たとおりであり、Ｒ5 およびＲ7 が水素であり、および
Ｒ6 およびＲ8 が水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒド
ロカルビルである一般式ＩＩＩａまたはＩＩＩｂのある
種のチオール−アミドは英国特許出願第２０８７３８８
号に開示されており、それにはまた２−モノ置換アミノ
カルボニルシクロアルケン−１−オンへの硫化水素の作
用によるそのようなチオール−アミドの製造も開示され
ている。
【００４６】我々はシクロアルカノン−２−カルボキシ
ラートとアミンを反応させて２−アミノカルボニル誘導
体を生成させ、続いてこれを硫化水素と反応させて２−
アミノカルボニルシクロアルケン−１−イル チオール
を生成させることにより式ＩＩＩａまたはＩＩＩｂの化
合物が容易に製造されることを見い出した。もしくは、
およびより好適には、シクロアルカノン−２−カルボキ
シラートを硫化水素と反応させて１−メルカプトシクロ
アルケン−１−イル−２−カルボキシラートを生成させ
それをアミンと反応させてチオール−アミドを生成させ
る。
ラートとアミンを反応させて２−アミノカルボニル誘導
体を生成させ、続いてこれを硫化水素と反応させて２−
アミノカルボニルシクロアルケン−１−イル チオール
を生成させることにより式ＩＩＩａまたはＩＩＩｂの化
合物が容易に製造されることを見い出した。もしくは、
およびより好適には、シクロアルカノン−２−カルボキ
シラートを硫化水素と反応させて１−メルカプトシクロ
アルケン−１−イル−２−カルボキシラートを生成させ
それをアミンと反応させてチオール−アミドを生成させ
る。
【００４７】それ故、本発明のさらに別の態様のごと
く、一般式ＶＩの１−メルカプトシクロアルケン−１−
イル−２−カルボキシラートを式ＨＮＲ5Ｒ6 のアミン
と反応させることを特徴とする一般式ＩＩＩａのチオー
ル−アミドを製造するための方法が提供される。
く、一般式ＶＩの１−メルカプトシクロアルケン−１−
イル−２−カルボキシラートを式ＨＮＲ5Ｒ6 のアミン
と反応させることを特徴とする一般式ＩＩＩａのチオー
ル−アミドを製造するための方法が提供される。
【化１５】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 およびＲ5 およびＲ6 は前に定
義したとおりであり；およびＲ9 はヒドロカルビルまた
は置換ヒドロカルビル基である〕
義したとおりであり；およびＲ9 はヒドロカルビルまた
は置換ヒドロカルビル基である〕
【００４８】ヒドロカルビル基Ｒ9 は好適には１２を越
える炭素原子は含んでいず、典型的には８より多くない
炭素原子を含んでいる。Ｒ9 が置換ヒドロカルビルであ
る場合、窒素、酸素または硫黄から選択される少くとも
１つのヘテロ原子を含むおよび／またはフッ素、塩素ま
たは臭素のごときハロゲンを含むヒドロカルビル基であ
る。
える炭素原子は含んでいず、典型的には８より多くない
炭素原子を含んでいる。Ｒ9 が置換ヒドロカルビルであ
る場合、窒素、酸素または硫黄から選択される少くとも
１つのヘテロ原子を含むおよび／またはフッ素、塩素ま
たは臭素のごときハロゲンを含むヒドロカルビル基であ
る。
【００４９】好適であるのはＲ9 は１２より多くない炭
素原子をおよび特には８より多くない炭素原子を含むア
ルキルで、それは直鎖でも分枝していてもよい。
素原子をおよび特には８より多くない炭素原子を含むア
ルキルで、それは直鎖でも分枝していてもよい。
【００５０】Ｒ9 がメチルのごときＣ1 −Ｃ4 アルキル
である場合に反応がよく進行することが見い出されてい
る。
である場合に反応がよく進行することが見い出されてい
る。
【００５１】カルボキシラートとアミンの反応は特定の
アミンに依存して、緩和な条件下達成されるであろう。
最終ジスルフィド生成物がビス（２−アミノカルボニル
シクロアルカ−１−エニル）ジスルフィドであるために
は、アミンはＲ5 およびＲ6が両方とも水素であるもの
（即ちアンモニア）である。もしアミノ基が置換されて
いるジスルフィドを得ることを望むなら、少くとも基Ｒ
5 およびＲ6 の１つは水素以外であるべきであり（好適
にはヒドロキカルビル基または置換ヒドロカルビル）、
またはＲ5 およびＲ6 が窒素原子と一緒になって環を形
成しなければならない。基Ｒ5 およびＲ6 はそれ故アル
キル、シクロアルキル、アルケニル、アリール、アラル
キルまたはアルカリル基であり、典型的には２０までの
炭素原子、および特には１から１２の炭素原子を含んで
いる。Ｒ5 が水素であり、Ｒ6 が水素またはアルキル基
であることが一般的に好適である。
アミンに依存して、緩和な条件下達成されるであろう。
最終ジスルフィド生成物がビス（２−アミノカルボニル
シクロアルカ−１−エニル）ジスルフィドであるために
は、アミンはＲ5 およびＲ6が両方とも水素であるもの
（即ちアンモニア）である。もしアミノ基が置換されて
いるジスルフィドを得ることを望むなら、少くとも基Ｒ
5 およびＲ6 の１つは水素以外であるべきであり（好適
にはヒドロキカルビル基または置換ヒドロカルビル）、
またはＲ5 およびＲ6 が窒素原子と一緒になって環を形
成しなければならない。基Ｒ5 およびＲ6 はそれ故アル
キル、シクロアルキル、アルケニル、アリール、アラル
キルまたはアルカリル基であり、典型的には２０までの
炭素原子、および特には１から１２の炭素原子を含んで
いる。Ｒ5 が水素であり、Ｒ6 が水素またはアルキル基
であることが一般的に好適である。
【００５２】カルボキシラートとアミンの反応は、もし
アミンがメチルアミンのごとき低級アミンであるなら適
当な溶媒（水であろう）中で達成される。基Ｒ5 または
Ｒ6の少くとも１つが高級アルキル基であるアミンにつ
いては他の溶媒の使用が必要であろう、例えば、ヘキサ
ン、キシレンおよび石油エーテルまたはその混合物のご
とき炭化水素溶媒。未反応アミンからのチオール−アミ
ドの分離を容易にするために水−非混和性溶媒の使用が
一般的に好適である。
アミンがメチルアミンのごとき低級アミンであるなら適
当な溶媒（水であろう）中で達成される。基Ｒ5 または
Ｒ6の少くとも１つが高級アルキル基であるアミンにつ
いては他の溶媒の使用が必要であろう、例えば、ヘキサ
ン、キシレンおよび石油エーテルまたはその混合物のご
とき炭化水素溶媒。未反応アミンからのチオール−アミ
ドの分離を容易にするために水−非混和性溶媒の使用が
一般的に好適である。
【００５３】カルボキシラートおよびアミン間の反応は
容易に起こり、低級アルキルアミンを用いた場合、室温
に近い反応温度で十分である。より特定的には反応温度
は一般的に５０℃を越えず、好適には４０℃より高くな
く特定的には２５から３０℃である。
容易に起こり、低級アルキルアミンを用いた場合、室温
に近い反応温度で十分である。より特定的には反応温度
は一般的に５０℃を越えず、好適には４０℃より高くな
く特定的には２５から３０℃である。
【００５４】カルボキシラートは都合良くアミンの溶液
（例えば水溶液）へ添加される。アミンの濃度は重量で
１０％から重量でほとんど１００％（そのような高濃度
は低沸点を持ち、そのため室温およびそれ以下でも容易
に揮発する低級アルキルアミンには望ましくない）の範
囲にあるであろう。都合がよいのは重量で２０％から６
０％のアミン濃度である、例えば重量で４０％。
（例えば水溶液）へ添加される。アミンの濃度は重量で
１０％から重量でほとんど１００％（そのような高濃度
は低沸点を持ち、そのため室温およびそれ以下でも容易
に揮発する低級アルキルアミンには望ましくない）の範
囲にあるであろう。都合がよいのは重量で２０％から６
０％のアミン濃度である、例えば重量で４０％。
【００５５】アミンは好適にはカルボキシラートに比較
してモルで過剰に使用される。典型的には、カルボキシ
ラートの各々のモル数に対して少くとも２倍モルのアミ
ンから２０倍までのモル数のアミンを使用してよいが、
非常に高い比率のアミンの使用では何の利点も得られな
いと信じられている。カルボキシラートの各々のモル数
に対して１０倍モルのメチルアミンの使用が満足すべき
結果を与えた。
してモルで過剰に使用される。典型的には、カルボキシ
ラートの各々のモル数に対して少くとも２倍モルのアミ
ンから２０倍までのモル数のアミンを使用してよいが、
非常に高い比率のアミンの使用では何の利点も得られな
いと信じられている。カルボキシラートの各々のモル数
に対して１０倍モルのメチルアミンの使用が満足すべき
結果を与えた。
【００５６】反応の進行は、例えば液相クロマトグラフ
ィーなどの適当な分析技術によりモニターされるであろ
う。ここに示した条件下では、典型的には反応は約６時
間で完了した
ィーなどの適当な分析技術によりモニターされるであろ
う。ここに示した条件下では、典型的には反応は約６時
間で完了した
【００５７】反応生成物はアミドであり、反応が水中で
行われる場合には沈殿を形成する。過剰の、未反応のア
ミンは減圧下（水銀柱で５０ｍｍまたはそれ以下の圧力
で、水道ポンプを用いて達成できる）蒸留により反応混
合物から除去できる。
行われる場合には沈殿を形成する。過剰の、未反応のア
ミンは減圧下（水銀柱で５０ｍｍまたはそれ以下の圧力
で、水道ポンプを用いて達成できる）蒸留により反応混
合物から除去できる。
【００５８】固体チオール−アミドは濾過のごとき適当
な手段により反応混合物から回収でき、固形物は必要に
応じ洗浄および乾燥される。
な手段により反応混合物から回収でき、固形物は必要に
応じ洗浄および乾燥される。
【００５９】上のごとくして製造されたチオール−アミ
ドは容易に精製されるであろう。アミンがアンモニアま
たはメチルアミンである場合過剰のアミンは単に水で洗
浄するだけで除去できる。アミンがより水に溶け難い場
合、過剰のアミンは希水性酸で洗浄することにより除去
されるであろう。もしくは、チオール−アミドをアルカ
リ水溶液に溶解し、過剰のアミンを適当な溶媒中へ抽出
する。チオール−アミドは中和および濾過により回収さ
れるであろう。
ドは容易に精製されるであろう。アミンがアンモニアま
たはメチルアミンである場合過剰のアミンは単に水で洗
浄するだけで除去できる。アミンがより水に溶け難い場
合、過剰のアミンは希水性酸で洗浄することにより除去
されるであろう。もしくは、チオール−アミドをアルカ
リ水溶液に溶解し、過剰のアミンを適当な溶媒中へ抽出
する。チオール−アミドは中和および濾過により回収さ
れるであろう。
【００６０】前に説明したごとくチオール−アミドは一
般式〔化１〕のジスルフィドの製造に使用されるであろ
うし、またはＧＢ２１７６１８７に記載されているごと
く環化工程を用いたポリメチレン−４−イソチアゾリン
−３−オンの製造に使用されるであろう。
般式〔化１〕のジスルフィドの製造に使用されるであろ
うし、またはＧＢ２１７６１８７に記載されているごと
く環化工程を用いたポリメチレン−４−イソチアゾリン
−３−オンの製造に使用されるであろう。
【００６１】種々の型の応用において、一般式〔化１〕
のビス（２−アミノカルボニルシクロアルカ−１−エニ
ル）ジスルフィドを適当な液体媒質に（特に水またはア
ルコールのごとき極性有機溶媒）処方するのがしばしば
必要または都合が良い。
のビス（２−アミノカルボニルシクロアルカ−１−エニ
ル）ジスルフィドを適当な液体媒質に（特に水またはア
ルコールのごとき極性有機溶媒）処方するのがしばしば
必要または都合が良い。
【００６２】本発明のジスルフィド化合物は殺菌性を持
っており、産業用生物致死性薬剤としての使用に適して
いる。それらは良好な湿った状態での殺菌性を示し、切
断液体防腐剤、冷却水および製紙工場溶液中の微生物増
殖の阻害に使用されるであろう。本化合物はまた染料お
よび印刷インキのごとき彩色のために使用される産業的
に重要な処方（特に水性基剤処方）および流動可能な除
草剤および殺虫剤のごとき農業化学処方の保存にも使用
されるであろう。
っており、産業用生物致死性薬剤としての使用に適して
いる。それらは良好な湿った状態での殺菌性を示し、切
断液体防腐剤、冷却水および製紙工場溶液中の微生物増
殖の阻害に使用されるであろう。本化合物はまた染料お
よび印刷インキのごとき彩色のために使用される産業的
に重要な処方（特に水性基剤処方）および流動可能な除
草剤および殺虫剤のごとき農業化学処方の保存にも使用
されるであろう。
【００６３】本発明の化合物のさらに別の重要な応用に
は微生物損傷を抑制するためのジーゼル燃料、接着剤お
よび化粧品のごとき炭化水素液での使用および木材およ
び皮革の防腐のための使用が含まれる。
は微生物損傷を抑制するためのジーゼル燃料、接着剤お
よび化粧品のごとき炭化水素液での使用および木材およ
び皮革の防腐のための使用が含まれる。
【００６４】本発明の化合物はペンキの防腐（特に水性
基剤ラテックス）に特に有用である。
基剤ラテックス）に特に有用である。
【００６５】好適なラテックスはポリビニル アクリラ
ートおよび特にアクリル性ラテックス、特に７以上のｐ
Ｈを持ち、より特別にはアンモニアまたはアミンを含む
ものである。
ートおよび特にアクリル性ラテックス、特に７以上のｐ
Ｈを持ち、より特別にはアンモニアまたはアミンを含む
ものである。
【００６６】本発明の組成物は単独でまたは適当な担体
とともに使用されるであろう。
とともに使用されるであろう。
【００６７】それ故、本発明の更なる態様として、担体
および有効量の本発明に従った一般式Ｉの化合物を特徴
とする生物致死性薬剤組成物が提供される。
および有効量の本発明に従った一般式Ｉの化合物を特徴
とする生物致死性薬剤組成物が提供される。
【００６８】担体は典型的には殺菌活性をほとんど示さ
ず（たとえあるとしても）、細菌のごとき微生物の増殖
が可能な物質である（または物質を含んでいる）、担体
は好適には液体媒質であり、生物致死性薬剤組成物は好
適には液体担体中に加えた一般式Ｉの化合物の溶液、懸
濁液または乳濁液である。担体は水または酢酸、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコール、エチ
レンジアミン、ジメチルスルホキシドまたはＮ−メチル
−２−ピロリドンまたはそのような液状物の混合物のご
とき親水性溶媒であろう。もし組成物が懸濁剤または乳
化剤の形であるならば、相分離を防ぐために表面活性剤
が含まれているであろう。生物致死性薬剤組成物に使用
されることが知られている任意の表面活性剤がそのよう
な系で使用されるであろう、例えば脂肪アルコール、ア
ルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物およびナ
フトール スルホナートとホルムアルデヒドとの反応で
得られるようなアニオン性表面活性剤。
ず（たとえあるとしても）、細菌のごとき微生物の増殖
が可能な物質である（または物質を含んでいる）、担体
は好適には液体媒質であり、生物致死性薬剤組成物は好
適には液体担体中に加えた一般式Ｉの化合物の溶液、懸
濁液または乳濁液である。担体は水または酢酸、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコール、エチ
レンジアミン、ジメチルスルホキシドまたはＮ−メチル
−２−ピロリドンまたはそのような液状物の混合物のご
とき親水性溶媒であろう。もし組成物が懸濁剤または乳
化剤の形であるならば、相分離を防ぐために表面活性剤
が含まれているであろう。生物致死性薬剤組成物に使用
されることが知られている任意の表面活性剤がそのよう
な系で使用されるであろう、例えば脂肪アルコール、ア
ルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物およびナ
フトール スルホナートとホルムアルデヒドとの反応で
得られるようなアニオン性表面活性剤。
【００６９】生物致死性薬剤組成物中に存在する化合物
または一般式Ｉの化合物の量は殺菌効果を持つのにちょ
うど十分であるかまたはこの量より実質的に過剰に存在
しているかである。生物致死性薬剤組成物は大量輸送の
ため濃縮溶液として提供され、続いて抗菌保護に使用す
るために希釈されることが理解されるであろう。それ
故、生物致死性薬剤組成物に存在する一般式Ｉの化合物
の量は典型的には重量で生物致死性薬剤組成物の０．０
００１％から３０％までの範囲である。
または一般式Ｉの化合物の量は殺菌効果を持つのにちょ
うど十分であるかまたはこの量より実質的に過剰に存在
しているかである。生物致死性薬剤組成物は大量輸送の
ため濃縮溶液として提供され、続いて抗菌保護に使用す
るために希釈されることが理解されるであろう。それ
故、生物致死性薬剤組成物に存在する一般式Ｉの化合物
の量は典型的には重量で生物致死性薬剤組成物の０．０
００１％から３０％までの範囲である。
【００７０】本発明の組成物は抗細菌活性を提供するの
に特に有用である。それ故、組成物は微生物の増殖を阻
害するための種々の媒質の処理に使用できる。
に特に有用である。それ故、組成物は微生物の増殖を阻
害するための種々の媒質の処理に使用できる。
【００７１】本発明のさらなる態様として、一般式Ｉの
化合物または前に定義したごとき一般式Ｉの化合物を含
む組成物で媒質を処理することを特徴とする媒質上（ま
たは中）の微生物の増殖を阻害する方法が提供される。
化合物または前に定義したごとき一般式Ｉの化合物を含
む組成物で媒質を処理することを特徴とする媒質上（ま
たは中）の微生物の増殖を阻害する方法が提供される。
【００７２】組成物は微生物が増殖し問題を起こす系に
使用できる。これらの系には液体（特に水性）系、例え
ば冷却水液、製紙工場液、金属作用性液体、地質調査ド
リル用潤滑液、ポリマー乳化剤およびペンキ、ワニスお
よびラッカーのごとき表面被覆組成物、および木材およ
び皮革のごとき固体系が含まれる。本発明の組成物は抗
菌効果を提供するためにそのような系に含ませることが
できる。組成物の量はそれが添加される系に関して重量
で典型的には０．０００１から１０％まで、好適には
０．００１から５％まで、および特に０．００２から
０．１％までである。多くの場合、重量で０．０００５
％から０．０１％までの組成物で微生物阻害が達成され
ている。
使用できる。これらの系には液体（特に水性）系、例え
ば冷却水液、製紙工場液、金属作用性液体、地質調査ド
リル用潤滑液、ポリマー乳化剤およびペンキ、ワニスお
よびラッカーのごとき表面被覆組成物、および木材およ
び皮革のごとき固体系が含まれる。本発明の組成物は抗
菌効果を提供するためにそのような系に含ませることが
できる。組成物の量はそれが添加される系に関して重量
で典型的には０．０００１から１０％まで、好適には
０．００１から５％まで、および特に０．００２から
０．１％までである。多くの場合、重量で０．０００５
％から０．０１％までの組成物で微生物阻害が達成され
ている。
【００７３】一般式Ｉの化合物は本発明の組成物の唯一
の生物活性化合物であろうし、唯一の抗菌化合物であろ
うが、本組成物はさらに抗菌特性を持つ化合物を含んで
もよい。本組成物は１つ以上の一般式Ｉの化合物を含ん
でいてもよい。もしくは、本発明に使った化合物Ｉの組
成物は１つまたはそれ以上の抗菌化合物と一緒に使用し
てもよい。抗菌化合物の混合物の使用はより広い抗菌ス
ペクトルを持つ組成物を提供でき、それ故それらの個々
の成分より一般的により効果的である。別の抗菌化合物
は抗細菌、抗真菌、抗藻菌または別の抗菌特性を持って
いるものであろう。本発明の化合物Ｉと別の抗菌化合物
の混合物は典型的には化合物Ｉの重量で１から９９％、
および特に重量で４０から６０％（全抗菌活性化合物の
重量に相関して）を含んでいる。
の生物活性化合物であろうし、唯一の抗菌化合物であろ
うが、本組成物はさらに抗菌特性を持つ化合物を含んで
もよい。本組成物は１つ以上の一般式Ｉの化合物を含ん
でいてもよい。もしくは、本発明に使った化合物Ｉの組
成物は１つまたはそれ以上の抗菌化合物と一緒に使用し
てもよい。抗菌化合物の混合物の使用はより広い抗菌ス
ペクトルを持つ組成物を提供でき、それ故それらの個々
の成分より一般的により効果的である。別の抗菌化合物
は抗細菌、抗真菌、抗藻菌または別の抗菌特性を持って
いるものであろう。本発明の化合物Ｉと別の抗菌化合物
の混合物は典型的には化合物Ｉの重量で１から９９％、
および特に重量で４０から６０％（全抗菌活性化合物の
重量に相関して）を含んでいる。
【００７４】化合物Ｉと一緒に使用される既知の抗菌化
合物の例としては、ジエチルドデシルベンジル アンモ
ニウム クロリド；ジメチルオクタデシル−（ジメチル
ベンジル）−アンモニウム クロリド；ジメチルジデシ
ルアンモニウム クロリド；ジメチルジドデシルアンモ
ニウム クロリド；トリメチル−テトラデシルアンモニ
ウム クロリド；ベンジルジメチル（Ｃ12−Ｃ13アルキ
ル）アンモニウム クロリド；ジクロロベンジルジメチ
ルドデシルアンモニウム クロリド；ヘキサデシルピリ
ジニウム クロリド；ヘキサデシルピリジニウム ブロ
ミド；ヘキサデシルトリメチルアンモニウム ブロミ
ド；ドデシルピリジニウム クロリド；ドデシルピリジ
ニウム ビスルフェート；ベンジルドデシル−ビス（ベ
ーターヒドロキシエチル）アンモニウム クロリド；ド
デシルベンジルトリメチルアンモニウム クロリド；ベ
ンジルジメチル（Ｃ12−Ｃ18アルキル）アンモニウム
クロリド；ドデシルジメチルエチルアンモニウム エチ
ルスルフェート；ドデシルジメチル−（１−ナフチルメ
チル）アンモニウム クロリド；ヘキサデシルジメチル
ベンジル アンモニウム クロリド；ドデシルジメチル
ベンジル アンモニウム クロリドおよび１−（３−ク
ロロアリル）−３，５，７−トリアゾ−１−アゾニア−
アダマンタンクロリドのごとき４級アンモニウム化合
物；１，３−ビス（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメ
チルヒダントイン；ビス（ヒドロキシメチル）尿素；テ
トラキス（ヒドロキシメチル）アセチレン＝尿素；１−
（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメチルヒダントイン
およびイミダゾリジニル尿素のごとき尿素誘導体；１，
３−ビス（２−エチル−ヘキシル）−５−メチル−５−
アミノヘキサヒドロピリミジン、ヘキサメチレン テト
ラミン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパ
ン、および２−〔（ヒドロキシメチル）−アミノ〕エタ
ノールのごときアミノ化合物；１−〔２−（２，４−ジ
クロロフェニル）−２−（２−プロペニルオキシ）エチ
ル〕−１Ｈ−イミダゾール；２−（メトキシカルボニル
アミノ）−ベンゾイミダゾールのごときイミダゾール誘
導体；２−ブロモ−２−ブロモメチルグルタロニトリ
ル、２−クロロ−２−クロロメチルグルタロニトリル、
および２，４，５，６−テトラ−クロロシソナフタロジ
ニトリルのごときニトリル化合物；メチレンビスチオシ
アナートのごときチオシアナート誘導体；トリブチルス
ズ−オキシド，クロリド，ナフトアート，ベンゾアート
または２−ヒドロキシベンゾアートのごときスズ化合物
または複合体；４，５−トリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン，２−メチル−４，５−トリメチレン−
４−イソチアゾリン−３−オン，２−メチル−イソチア
ゾリン−３−オン，５−クロロ−２−メチル−イソチア
ゾリン−３−オン，ベンゾイソチアゾリン−３−オンお
よび２−メチル−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのご
ときイソチアゾリン−３−オン；２−チオシアノメチル
チオ）−ベンゾチアゾール，メルカプトベンゾチアゾー
ルのごときチアゾール誘導体；トリス（ヒドロキシメチ
ル）ニトロメタン，５−ブロモ−５−ニトロ−１，３−
ジオキセタンおよび２−ブロモ−２−ニトロプロパン−
１，３−ジオールのごときニトロ化合物；ヨードプロピ
ニル ブチル カーバメートおよびトリ−ヨードアリル
アルコールのごときヨウ素化合物；グルタルアルデヒド
（ペンタンジアール），ｐ−クロロフェニル−３−ヨー
ドプロパルギル ホルムアルデヒドおよびグリオキサー
ルのごときアルデヒドおよび誘導体；クロロアセトアミ
ド，Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）クロロアセトア
ミド，Ｎ−ヒドロキシメチル−クロロアセトアミドおよ
びジチオ−２，２−ビス（ベンズメチルアミド）のごと
きアミド；ポリヘキサメチレン ビグアニドおよび１，
６−ヘキサメチレン−ビス〔５−（４−クロロフェニ
ル）ビグアニド〕のごときグアニジン誘導体；３，５−
ジメチルテトラヒドロ−１，３，５−２Ｈ−チオジアジ
ン−２−チオンのごときチオン；ヘキサヒドロトリアジ
ンおよび１，３，５−トリ−（ヒドロキシエチル）−
１，３，５−ヘキサヒドロトリアジンのごときトリアジ
ン誘導体；オキサゾリジンおよびビス−オキサゾリジン
のごときその誘導体；フランおよび２，５−ジヒドロ−
２，５−ジアルコキシ−２，５−ジアルキルフランのご
ときその誘導体；ソルビン酸およびその塩および４−ヒ
ドロキシ安息香酸およびその塩およびエステルのごとき
カルボン酸およびその塩およびエステル；フェノールお
よび５−クロロ−２−（２，４−ジクロロフェノキシ）
フェノール、チオ−ビス（４−クロロフェノール）およ
び２−フェニルフェノールのごとき誘導体；ジヨードメ
チル−パラトルイルスルホン、２，３，５，６−テトラ
クロロ−４−（メチルスルホニル）ピリジンおよびヘキ
サクロロジメチル スルホンのごときスルホン誘導体が
挙げられる。
合物の例としては、ジエチルドデシルベンジル アンモ
ニウム クロリド；ジメチルオクタデシル−（ジメチル
ベンジル）−アンモニウム クロリド；ジメチルジデシ
ルアンモニウム クロリド；ジメチルジドデシルアンモ
ニウム クロリド；トリメチル−テトラデシルアンモニ
ウム クロリド；ベンジルジメチル（Ｃ12−Ｃ13アルキ
ル）アンモニウム クロリド；ジクロロベンジルジメチ
ルドデシルアンモニウム クロリド；ヘキサデシルピリ
ジニウム クロリド；ヘキサデシルピリジニウム ブロ
ミド；ヘキサデシルトリメチルアンモニウム ブロミ
ド；ドデシルピリジニウム クロリド；ドデシルピリジ
ニウム ビスルフェート；ベンジルドデシル−ビス（ベ
ーターヒドロキシエチル）アンモニウム クロリド；ド
デシルベンジルトリメチルアンモニウム クロリド；ベ
ンジルジメチル（Ｃ12−Ｃ18アルキル）アンモニウム
クロリド；ドデシルジメチルエチルアンモニウム エチ
ルスルフェート；ドデシルジメチル−（１−ナフチルメ
チル）アンモニウム クロリド；ヘキサデシルジメチル
ベンジル アンモニウム クロリド；ドデシルジメチル
ベンジル アンモニウム クロリドおよび１−（３−ク
ロロアリル）−３，５，７−トリアゾ−１−アゾニア−
アダマンタンクロリドのごとき４級アンモニウム化合
物；１，３−ビス（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメ
チルヒダントイン；ビス（ヒドロキシメチル）尿素；テ
トラキス（ヒドロキシメチル）アセチレン＝尿素；１−
（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメチルヒダントイン
およびイミダゾリジニル尿素のごとき尿素誘導体；１，
３−ビス（２−エチル−ヘキシル）−５−メチル−５−
アミノヘキサヒドロピリミジン、ヘキサメチレン テト
ラミン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパ
ン、および２−〔（ヒドロキシメチル）−アミノ〕エタ
ノールのごときアミノ化合物；１−〔２−（２，４−ジ
クロロフェニル）−２−（２−プロペニルオキシ）エチ
ル〕−１Ｈ−イミダゾール；２−（メトキシカルボニル
アミノ）−ベンゾイミダゾールのごときイミダゾール誘
導体；２−ブロモ−２−ブロモメチルグルタロニトリ
ル、２−クロロ−２−クロロメチルグルタロニトリル、
および２，４，５，６−テトラ−クロロシソナフタロジ
ニトリルのごときニトリル化合物；メチレンビスチオシ
アナートのごときチオシアナート誘導体；トリブチルス
ズ−オキシド，クロリド，ナフトアート，ベンゾアート
または２−ヒドロキシベンゾアートのごときスズ化合物
または複合体；４，５−トリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン，２−メチル−４，５−トリメチレン−
４−イソチアゾリン−３−オン，２−メチル−イソチア
ゾリン−３−オン，５−クロロ−２−メチル−イソチア
ゾリン−３−オン，ベンゾイソチアゾリン−３−オンお
よび２−メチル−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのご
ときイソチアゾリン−３−オン；２−チオシアノメチル
チオ）−ベンゾチアゾール，メルカプトベンゾチアゾー
ルのごときチアゾール誘導体；トリス（ヒドロキシメチ
ル）ニトロメタン，５−ブロモ−５−ニトロ−１，３−
ジオキセタンおよび２−ブロモ−２−ニトロプロパン−
１，３−ジオールのごときニトロ化合物；ヨードプロピ
ニル ブチル カーバメートおよびトリ−ヨードアリル
アルコールのごときヨウ素化合物；グルタルアルデヒド
（ペンタンジアール），ｐ−クロロフェニル−３−ヨー
ドプロパルギル ホルムアルデヒドおよびグリオキサー
ルのごときアルデヒドおよび誘導体；クロロアセトアミ
ド，Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）クロロアセトア
ミド，Ｎ−ヒドロキシメチル−クロロアセトアミドおよ
びジチオ−２，２−ビス（ベンズメチルアミド）のごと
きアミド；ポリヘキサメチレン ビグアニドおよび１，
６−ヘキサメチレン−ビス〔５−（４−クロロフェニ
ル）ビグアニド〕のごときグアニジン誘導体；３，５−
ジメチルテトラヒドロ−１，３，５−２Ｈ−チオジアジ
ン−２−チオンのごときチオン；ヘキサヒドロトリアジ
ンおよび１，３，５−トリ−（ヒドロキシエチル）−
１，３，５−ヘキサヒドロトリアジンのごときトリアジ
ン誘導体；オキサゾリジンおよびビス−オキサゾリジン
のごときその誘導体；フランおよび２，５−ジヒドロ−
２，５−ジアルコキシ−２，５−ジアルキルフランのご
ときその誘導体；ソルビン酸およびその塩および４−ヒ
ドロキシ安息香酸およびその塩およびエステルのごとき
カルボン酸およびその塩およびエステル；フェノールお
よび５−クロロ−２−（２，４−ジクロロフェノキシ）
フェノール、チオ−ビス（４−クロロフェノール）およ
び２−フェニルフェノールのごとき誘導体；ジヨードメ
チル−パラトルイルスルホン、２，３，５，６−テトラ
クロロ−４−（メチルスルホニル）ピリジンおよびヘキ
サクロロジメチル スルホンのごときスルホン誘導体が
挙げられる。
【００７５】本発明のさらなる態様は以下の例示的実施
例に記載されており、そこでは変更が述べられていない
限り、すべての量は重量による割合で与えられている。
例に記載されており、そこでは変更が述べられていない
限り、すべての量は重量による割合で与えられている。
【００７６】以下の実施例において本発明に従った化合
物は、以下に詳述するごとく無菌条件下抗菌性の評価が
なされた：微生物試験において、化合物の細菌、真菌お
よび酵母に対する抗菌活性が試験された。大腸菌、緑膿
菌、黄色ブドウ球菌および枯草菌の１つまたはそれ以上
の細菌が使用された。アスペルギルスニガ（Ａｓｐｅｒ
ｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）、カンジダ アルビカンス
（Ｃａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ）、オーレオバシ
ジウム プルランス（Ａｕｒｅｏｂａｓｉｄｉｕｍ ｐ
ｕｌｌｕｌａｎｓ）、グリオクラジウム ローゼウム
（Ｇｌｉｏｃｌａｄｉｕｍ ｒｏｓｅｕｍ）およびペニ
シリウム ピノフィルム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｐ
ｉｎｏｐｈｉｌｕｍ）の１つまたはそれ以上の真菌／酵
母が使用された。これらの試験微生物は以後各々ＥＣ、
ＰＡ、ＳＡ、ＢＳ、ＡＮ、ＣＡ、ＡＰ、ＧＲおよびＰＰ
のごとく表わされるであろう。
物は、以下に詳述するごとく無菌条件下抗菌性の評価が
なされた：微生物試験において、化合物の細菌、真菌お
よび酵母に対する抗菌活性が試験された。大腸菌、緑膿
菌、黄色ブドウ球菌および枯草菌の１つまたはそれ以上
の細菌が使用された。アスペルギルスニガ（Ａｓｐｅｒ
ｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）、カンジダ アルビカンス
（Ｃａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ）、オーレオバシ
ジウム プルランス（Ａｕｒｅｏｂａｓｉｄｉｕｍ ｐ
ｕｌｌｕｌａｎｓ）、グリオクラジウム ローゼウム
（Ｇｌｉｏｃｌａｄｉｕｍ ｒｏｓｅｕｍ）およびペニ
シリウム ピノフィルム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｐ
ｉｎｏｐｈｉｌｕｍ）の１つまたはそれ以上の真菌／酵
母が使用された。これらの試験微生物は以後各々ＥＣ、
ＰＡ、ＳＡ、ＢＳ、ＡＮ、ＣＡ、ＡＰ、ＧＲおよびＰＰ
のごとく表わされるであろう。
【００７７】微生物静力学評価 試験されるべき物質を適当な溶媒に溶解し、得られた溶
液は所望の生成物濃度を与えるためにさらに同一溶媒で
希釈された。
液は所望の生成物濃度を与えるためにさらに同一溶媒で
希釈された。
【００７８】適当な寒天培地に生成物の所望の濃度を与
えるように生成物溶液を加えた。生成物を含む寒天培地
をペトリ皿プレート内へ注ぎ放置して固めた。
えるように生成物溶液を加えた。生成物を含む寒天培地
をペトリ皿プレート内へ注ぎ放置して固めた。
【００７９】試験微生物は多点接種装置により試験プレ
ート上へ表面接種した。各々の試験プレートに細菌、真
菌および酵母が接種された。プレートは２５℃で４日間
インキュベートした。
ート上へ表面接種した。各々の試験プレートに細菌、真
菌および酵母が接種された。プレートは２５℃で４日間
インキュベートした。
【００８０】インキュベーション期間が終わったら、プ
レートは視覚的に微生物の増殖が評価された。特定の微
生物の増殖を阻害した生成物の濃度が記録された。これ
は最小阻害濃度（Ｍ．Ｉ．Ｃ．）である。
レートは視覚的に微生物の増殖が評価された。特定の微
生物の増殖を阻害した生成物の濃度が記録された。これ
は最小阻害濃度（Ｍ．Ｉ．Ｃ．）である。
【００８１】一般に化合物は細菌に対して２５および１
００ｐｐｍ濃度で、真菌および酵母に対しては５，２５
および１００ｐｐｍ濃度で評価される。
００ｐｐｍ濃度で、真菌および酵母に対しては５，２５
および１００ｐｐｍ濃度で評価される。
【００８２】
【実施例１】 ビス（２−アミノカルボニルシクロペンタ−１−エニ
ル）ジスルフィドの製造 ２−アミノカルボニルシクロペンタノン（２８．２５
部）をメタノール（８８部）に加えアミドがほとんど完
全に溶解するまで攪拌した。外部冷却により温度を３５
℃以下に維持するようにして、硫酸（９８％，１１０
部）を徐々に加える。反応液は次に２０−２５℃に冷却
し、硫化水素ガス洗浄装置を備えた容器に移した。
ル）ジスルフィドの製造 ２−アミノカルボニルシクロペンタノン（２８．２５
部）をメタノール（８８部）に加えアミドがほとんど完
全に溶解するまで攪拌した。外部冷却により温度を３５
℃以下に維持するようにして、硫酸（９８％，１１０
部）を徐々に加える。反応液は次に２０−２５℃に冷却
し、硫化水素ガス洗浄装置を備えた容器に移した。
【００８３】かき混ぜながら、および外部冷却により温
度を２０−２５℃に維持し、約５時間以上かけて硫化水
素（９．３５部）を反応液中へゆっくりぶくぶくと通気
した。
度を２０−２５℃に維持し、約５時間以上かけて硫化水
素（９．３５部）を反応液中へゆっくりぶくぶくと通気
した。
【００８４】反応液はさらに１．５時間攪拌し、次に激
しくかき混ぜながら蒸留水（３８３部）および砕いた氷
（１１０部）の中へ加えた。メチレンクロリド（２９２
部）を次に加え、攪拌を止める前に１０−１５分間かき
混ぜ、放置してメチレンクロリドを分離させ下相を形成
させる。メチレンクロリド層を分離し、水相はメチレン
クロリドで２度洗浄した（２×２９２部）。
しくかき混ぜながら蒸留水（３８３部）および砕いた氷
（１１０部）の中へ加えた。メチレンクロリド（２９２
部）を次に加え、攪拌を止める前に１０−１５分間かき
混ぜ、放置してメチレンクロリドを分離させ下相を形成
させる。メチレンクロリド層を分離し、水相はメチレン
クロリドで２度洗浄した（２×２９２部）。
【００８５】２−アミノカルボニルシクロペンタ−１−
エニル チオールを含むメチレンクロリド相は残存する
硫化水素を脱ガスするために加熱還流（４０℃）した。
反応物は次に２５℃に冷却して、攪拌し外部冷却により
温度を３０℃以下に維持しながら塩化スルフリル（１
４．６３部）を徐々に添加した。
エニル チオールを含むメチレンクロリド相は残存する
硫化水素を脱ガスするために加熱還流（４０℃）した。
反応物は次に２５℃に冷却して、攪拌し外部冷却により
温度を３０℃以下に維持しながら塩化スルフリル（１
４．６３部）を徐々に添加した。
【００８６】塩化スルフリル添加後、反応物はさらに１
５分間攪拌し、分離したジスルフィドを濾取し、メチレ
ンクロリドで洗浄して乾燥させると３０部の“ジスルフ
ィド二塩酸塩”を得る。これは水でスラリー状とし、水
酸化ナトリウム水溶液で中和し、濾過し、水で洗浄して
乾燥させるとビス（２−アミノカルボニルシクロペンタ
−１−エニル）ジスルフィド（２３．８部）を得る。
５分間攪拌し、分離したジスルフィドを濾取し、メチレ
ンクロリドで洗浄して乾燥させると３０部の“ジスルフ
ィド二塩酸塩”を得る。これは水でスラリー状とし、水
酸化ナトリウム水溶液で中和し、濾過し、水で洗浄して
乾燥させるとビス（２−アミノカルボニルシクロペンタ
−１−エニル）ジスルフィド（２３．８部）を得る。
【００８７】微生物静力学評価において、ビス（２−ア
ミノカルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィ
ドは前述のプロトコールに従った５，１０，２５，５０
および１００ｐｐｍで下に示した３つの細菌に対して評
価され、以下の値を与えた。
ミノカルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィ
ドは前述のプロトコールに従った５，１０，２５，５０
および１００ｐｐｍで下に示した３つの細菌に対して評
価され、以下の値を与えた。
【００８８】ＥＣ ２５ｐｐｍ ＰＡ ５０ｐｐｍ ＳＡ １０ｐｐｍ
【実施例２】 ビス（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−１−
エニル）ジスルフィドの製造 ２−メチル−４，５−トリエチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オン（１部）を蒸留水中（２５部）２０−２５
℃で攪拌した。３０分以上かけてハイドロサルファイト
ナトリウム（２×０．２部）を２つに分けて添加した。
ＨＰＬＣ分析は２つの生成物の生成を示した。
エニル）ジスルフィドの製造 ２−メチル−４，５−トリエチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オン（１部）を蒸留水中（２５部）２０−２５
℃で攪拌した。３０分以上かけてハイドロサルファイト
ナトリウム（２×０．２部）を２つに分けて添加した。
ＨＰＬＣ分析は２つの生成物の生成を示した。
【００８９】最初に生成された白色固形物を濾取し、エ
タノール／水から再結晶すると１４７−１５１℃で融解
するジスルフィド（０．４３部）を得た。
タノール／水から再結晶すると１４７−１５１℃で融解
するジスルフィド（０．４３部）を得た。
【００９０】元素分析は以下の結果を与えた： Ｃ14Ｈ20Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ５２．３％Ｃ， ６．５％Ｈ， ８．７％
Ｎ， １９．９％Ｓ 実測値 ５２．３％Ｃ， ６．７％Ｈ， ８．４％
Ｎ， １９．３％Ｓ 重クロロホルム中のプロトンＮＭＲ分析は以下の結果を
与えた： プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：２．０（２Ｈ，−ＣＨ
2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．６８（２Ｈ，−Ｃ−ＣＨ
2 −Ｃ−Ｃ−）；２．９０（２Ｈ，−Ｃ−ＣＨ2 −Ｃ−
Ｓ−）；２．９０（３Ｈ，−Ｎ−ＣＨ3 ）；５．６（１
Ｈ，−ＮＨ−） 微生物静力学評価は以下のＭＩＣ値を与えた： ＥＣ ２５ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ １００ｐｐｍ ＣＡ １００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ １００ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ２５ｐｐｍ ＰＰ １００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
Ｎ， １９．９％Ｓ 実測値 ５２．３％Ｃ， ６．７％Ｈ， ８．４％
Ｎ， １９．３％Ｓ 重クロロホルム中のプロトンＮＭＲ分析は以下の結果を
与えた： プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：２．０（２Ｈ，−ＣＨ
2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．６８（２Ｈ，−Ｃ−ＣＨ
2 −Ｃ−Ｃ−）；２．９０（２Ｈ，−Ｃ−ＣＨ2 −Ｃ−
Ｓ−）；２．９０（３Ｈ，−Ｎ−ＣＨ3 ）；５．６（１
Ｈ，−ＮＨ−） 微生物静力学評価は以下のＭＩＣ値を与えた： ＥＣ ２５ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ １００ｐｐｍ ＣＡ １００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ １００ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ２５ｐｐｍ ＰＰ １００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
【００９１】
【実施例３】混合接種物は以下の微生物を栄養寒天上３
０℃で２４時間培養することにより調製された。
０℃で２４時間培養することにより調製された。
【００９２】フェロモナス ヒドロフィラ（Ａｅｒｏｍ
ｏｎａｓ ｈｙｄｒｏｐｈｉｌａ）（Ｐ．Ｒ．Ａ．８）プロテウス レトゲリ（Ｐｒｏｔｅｕｓ ｒｅｔｔｇｅ
ｒｉ）（ＮＣＩＢ １０８４２）シュードモナス アエルギノサ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａ
ｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）
（ＢＳＩ ｅｘ Ｐ．Ｒ．Ａ．）セラチア マルセスセンス（Ｓｅｒｒａｔｉａ ｍａｒ
ｃｅｓｃｅｎｓ）（ＮＣＩＢ ９５２３）アルカリゲネス ｓｐ ．（Ａｌｃａｌｉｇｅｎｅｓ ｓ
ｐ．）（実験室単離物ＡＣ４）シュードモナス セパセア（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ
ｃｅｐａｃｅａ）（実験室単離物ＡＣ５）シュードモナス プチダ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｐ
ｕｔｉｄａ）（実験室単離物ＡＣ７）
ｏｎａｓ ｈｙｄｒｏｐｈｉｌａ）（Ｐ．Ｒ．Ａ．８）プロテウス レトゲリ（Ｐｒｏｔｅｕｓ ｒｅｔｔｇｅ
ｒｉ）（ＮＣＩＢ １０８４２）シュードモナス アエルギノサ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａ
ｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）
（ＢＳＩ ｅｘ Ｐ．Ｒ．Ａ．）セラチア マルセスセンス（Ｓｅｒｒａｔｉａ ｍａｒ
ｃｅｓｃｅｎｓ）（ＮＣＩＢ ９５２３）アルカリゲネス ｓｐ ．（Ａｌｃａｌｉｇｅｎｅｓ ｓ
ｐ．）（実験室単離物ＡＣ４）シュードモナス セパセア（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ
ｃｅｐａｃｅａ）（実験室単離物ＡＣ５）シュードモナス プチダ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｐ
ｕｔｉｄａ）（実験室単離物ＡＣ７）
【００９３】各々の微生物の懸濁液は約１×１０8 細胞
／ｍｌ（トーマ計算板）の濃度に容積で４分の１の強度
のリンガー液で調製された。混合接種物は等量の各々の
細胞懸濁液を合わせることにより調製された。
／ｍｌ（トーマ計算板）の濃度に容積で４分の１の強度
のリンガー液で調製された。混合接種物は等量の各々の
細胞懸濁液を合わせることにより調製された。
【００９４】実施例１に記載されたごとくして製造され
たビス−（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−
１−エニル）ジスルフィドを重量で０．２％の酵素抽出
物を含む標準アクリル乳化ペンキの一部５０ｇｍに以下
の表に示した重量による濃度で取り込ませた。これらの
試料は３つの別々の場合にわけられ（一週間の間隔
で）、容量で１部の混合接種物と３０℃でインキュベー
トされた。
たビス−（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−
１−エニル）ジスルフィドを重量で０．２％の酵素抽出
物を含む標準アクリル乳化ペンキの一部５０ｇｍに以下
の表に示した重量による濃度で取り込ませた。これらの
試料は３つの別々の場合にわけられ（一週間の間隔
で）、容量で１部の混合接種物と３０℃でインキュベー
トされた。
【００９５】１，３および７日の接触時間後、各々の試
料の一部を少量とり、栄養寒天プレートの表面を横ぎっ
てすじをつけて接種し、３０℃で２日間インキュベート
した。細菌増殖の存在または不在は視覚的に決定され
た。
料の一部を少量とり、栄養寒天プレートの表面を横ぎっ
てすじをつけて接種し、３０℃で２日間インキュベート
した。細菌増殖の存在または不在は視覚的に決定され
た。
【００９６】結果は下記の表１に示されており、殺菌剤
としてジスルフィドを含まない対照実験が含まれてい
る。
としてジスルフィドを含まない対照実験が含まれてい
る。
【表１】 表１の注 ａ） ０ 増殖なしを意味する（コロニーが見られな
い） １ 痕跡程度の増殖が見られることを意味する ２ 軽微な増殖を意味する（２，３のコロニーが見ら
れる） ３ 中程度の増殖を意味する（分離したコロニーが見
られる、おそらくいくつかが合体して） ４ 密な／コンフルエント増殖を意味する（全体に合
体したコロニーが見られる）
い） １ 痕跡程度の増殖が見られることを意味する ２ 軽微な増殖を意味する（２，３のコロニーが見ら
れる） ３ 中程度の増殖を意味する（分離したコロニーが見
られる、おそらくいくつかが合体して） ４ 密な／コンフルエント増殖を意味する（全体に合
体したコロニーが見られる）
【００９７】
【実施例４】 ４，５−トリメチレン−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、および２−メチル−４，５−トリメチレン−４−イ
ソチアゾリン−３−オンの製造 実施例１に記載されたごとく調製されたビス（２−アミ
ノカルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド
二塩酸塩（１６．１部）を２５−３０℃で攪拌しながら
ギ酸（１０７部）およびメチレンクロリド（１０７部）
に溶解させた。
ン、および２−メチル−４，５−トリメチレン−４−イ
ソチアゾリン−３−オンの製造 実施例１に記載されたごとく調製されたビス（２−アミ
ノカルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド
二塩酸塩（１６．１部）を２５−３０℃で攪拌しながら
ギ酸（１０７部）およびメチレンクロリド（１０７部）
に溶解させた。
【００９８】続いて攪拌しながら、および温度を４０℃
以下に保つように外部から冷却しながら塩化スルフリル
（６．６８部）をすみやかに加えた。反応物は次に２５
−３０℃に冷却し、さらに３０分間攪拌した。
以下に保つように外部から冷却しながら塩化スルフリル
（６．６８部）をすみやかに加えた。反応物は次に２５
−３０℃に冷却し、さらに３０分間攪拌した。
【００９９】メチレンクロリドを３５℃以下で真空蒸留
により除去した。真空度をさらに高め（２０−２５Ｔｏ
ｒｒ）ギ酸（５２ｍｍＨｇ圧で３０℃および８２ｍｍＨ
ｇ圧で４０℃にて沸とうする）の一部を除去する。約
７．２部のギ酸が除去されるまで蒸留を続けた。
により除去した。真空度をさらに高め（２０−２５Ｔｏ
ｒｒ）ギ酸（５２ｍｍＨｇ圧で３０℃および８２ｍｍＨ
ｇ圧で４０℃にて沸とうする）の一部を除去する。約
７．２部のギ酸が除去されるまで蒸留を続けた。
【０１００】反応物を激しく攪拌しながら蒸留水（２０
０部）中へ注いだ。この段階で中和およびメチレンクロ
リドへの抽出により４，５−トリメチレン−４−イソチ
アゾリン−３−オンが回収できた。しかしながらこの場
合、それはそのまま単離されないでＮ−メチル類似体へ
変換された。
０部）中へ注いだ。この段階で中和およびメチレンクロ
リドへの抽出により４，５−トリメチレン−４−イソチ
アゾリン−３−オンが回収できた。しかしながらこの場
合、それはそのまま単離されないでＮ−メチル類似体へ
変換された。
【０１０１】残存するギ酸およびジスルフィド二塩酸塩
出発物質からの塩酸を中和する為、注ぎ入れられた液体
を攪拌しながら水酸化ナトリウム水溶液（１４６部、重
量で３１％）を徐々に添加した。外部冷却により温度は
３０℃以下に維持された。液体のｐＨを約９に合わせる
ためさらに苛性液を加えた後攪拌しながら１から１１／
２時間以上かけてジメチル硫酸（１０．８部）を徐々に
加え、その間更に苛性ソーダ溶液を加えることによりｐ
Ｈを９．０±１．０に維持し、外部冷却により温度を３
０℃以下に維持していた。
出発物質からの塩酸を中和する為、注ぎ入れられた液体
を攪拌しながら水酸化ナトリウム水溶液（１４６部、重
量で３１％）を徐々に添加した。外部冷却により温度は
３０℃以下に維持された。液体のｐＨを約９に合わせる
ためさらに苛性液を加えた後攪拌しながら１から１１／
２時間以上かけてジメチル硫酸（１０．８部）を徐々に
加え、その間更に苛性ソーダ溶液を加えることによりｐ
Ｈを９．０±１．０に維持し、外部冷却により温度を３
０℃以下に維持していた。
【０１０２】ジメチル硫酸添加後、メチレンクロリド
（１００部）を添加し、反応物はさらに３０分間攪拌し
た。かき混ぜを止め、メチレンクロリドは放置して分離
される前に下相を形成させた。水相はさらに追加のメチ
レンクロリド（１００部）で抽出された。
（１００部）を添加し、反応物はさらに３０分間攪拌し
た。かき混ぜを止め、メチレンクロリドは放置して分離
される前に下相を形成させた。水相はさらに追加のメチ
レンクロリド（１００部）で抽出された。
【０１０３】メチレンクロリド液を合併し、蒸発により
溶媒を除去すると２−メチル−４，５−メチレン−４−
イソチアゾリン−３−オンを白色固形物として得た（１
０部）。
溶媒を除去すると２−メチル−４，５−メチレン−４−
イソチアゾリン−３−オンを白色固形物として得た（１
０部）。
【０１０４】
【実施例５】 ビス（２−ブチルアミノカルボニルシクロペンタ−１−
エニル）ジスルフィドの製造 ２−ブチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オン（０．６４部）を蒸留水（２０部）に溶解
し、攪拌しながら２０−２５℃で３０分離して２つに分
けたハイドロサルファイト ナトリウム（２×０．２
部）を添加した。
エニル）ジスルフィドの製造 ２−ブチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オン（０．６４部）を蒸留水（２０部）に溶解
し、攪拌しながら２０−２５℃で３０分離して２つに分
けたハイドロサルファイト ナトリウム（２×０．２
部）を添加した。
【０１０５】直後に白色沈殿が生じるがその後タール状
になっていく。反応生成物は一夜攪拌し、続いてメタノ
ール（２０部）を添加することにより溶解させ、蒸発さ
せてシリカ支持体上に残す。
になっていく。反応生成物は一夜攪拌し、続いてメタノ
ール（２０部）を添加することにより溶解させ、蒸発さ
せてシリカ支持体上に残す。
【０１０６】反応生成物は「フラッシュクロマトグラフ
ィー」により分離した。カラムにつめたシリカ支持体を
最初は石油エーテル（沸点４０から６０℃の間）で溶出
し、続いてメチレンクロリドの含量を増加させた、メチ
レンクロリドは１０％（容量で）づつ増加させ１００％
メチレンクロリドまで増やした。カラムは次にメチレン
クロリドおよびメタノールで溶出し、メタノールは１％
（容量）づつ増加させた。
ィー」により分離した。カラムにつめたシリカ支持体を
最初は石油エーテル（沸点４０から６０℃の間）で溶出
し、続いてメチレンクロリドの含量を増加させた、メチ
レンクロリドは１０％（容量で）づつ増加させ１００％
メチレンクロリドまで増やした。カラムは次にメチレン
クロリドおよびメタノールで溶出し、メタノールは１％
（容量）づつ増加させた。
【０１０７】各々の工程での溶出系の変化は溶出液が容
量で１００部後に実施された。
量で１００部後に実施された。
【０１０８】ジスルフィドは容量で３％メタノールを含
むメチレンクロリドの分画中に溶出された。溶媒を蒸発
させるとジスルフィドを粘着性固形物として得た（０．
２６部）。
むメチレンクロリドの分画中に溶出された。溶媒を蒸発
させるとジスルフィドを粘着性固形物として得た（０．
２６部）。
【０１０９】ジスルフィドの元素分析は以下の結果を得
た： Ｃ20Ｈ32Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ：０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ５９．２％Ｃ， ８．１％Ｈ， ６．９％Ｎ，
１５．８％Ｓ 実測値 ６１．９％Ｃ， ８．５％Ｈ， ５．４％Ｎ，
１３．４％Ｓ
た： Ｃ20Ｈ32Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ：０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ５９．２％Ｃ， ８．１％Ｈ， ６．９％Ｎ，
１５．８％Ｓ 実測値 ６１．９％Ｃ， ８．５％Ｈ， ５．４％Ｎ，
１３．４％Ｓ
【０１１０】重ジメチルフィホキシド中のプロトンＮＭ
Ｒは以下の結果を得た： プロトンＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：０．８５（３Ｈ，ＣＨ3
−Ｃ−）；１．２５（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ3 ）：１．
４０（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；１．９０
（２Ｈ，ｒｉｎｇ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．
６５（４Ｈ，−ＣＨ2 −Ｃ−）；３．１６（２Ｈ，−Ｎ
−ＣＨ2 −Ｃ−）；７．５５（１Ｈ，−ＮＨ−）．
Ｒは以下の結果を得た： プロトンＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：０．８５（３Ｈ，ＣＨ3
−Ｃ−）；１．２５（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ3 ）：１．
４０（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；１．９０
（２Ｈ，ｒｉｎｇ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．
６５（４Ｈ，−ＣＨ2 −Ｃ−）；３．１６（２Ｈ，−Ｎ
−ＣＨ2 −Ｃ−）；７．５５（１Ｈ，−ＮＨ−）．
【０１１１】重ジメチルスルホキシド中の13Ｃ ＮＭＲ
は以下の結果を与えた：−13 Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：１３．６（ＣＨ3 −）；１
９．５（−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２１．６（−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３１．２（−Ｎ−ＣＨ2
−）；３３．２（−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３
７．０（−ＣＨ2−ＣＨ2 −Ｃ−Ｃ−）；３８．２（−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；１３３．６（−ＣＨ2 −
Ｃ−Ｃ−）；１５０．０（−ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；１６
４．５（Ｃ＝Ｏ）
は以下の結果を与えた：−13 Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：１３．６（ＣＨ3 −）；１
９．５（−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２１．６（−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３１．２（−Ｎ−ＣＨ2
−）；３３．２（−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３
７．０（−ＣＨ2−ＣＨ2 −Ｃ−Ｃ−）；３８．２（−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；１３３．６（−ＣＨ2 −
Ｃ−Ｃ−）；１５０．０（−ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；１６
４．５（Ｃ＝Ｏ）
【０１１２】ジスルフィドに対する微生物静力学評価は
以下のＭＩＣ値を与えた。 ＥＣ １００ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＰ ＧＴ１００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
以下のＭＩＣ値を与えた。 ＥＣ １００ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＰ ＧＴ１００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
【０１１３】
【実施例６】 ビス（２−ヘキシルアミノカルボニルシクロペンタ−１
−エニル）ジスルフィドの製造 実施例５の過程をくり返す、ただ２−ブチルイソチアゾ
リン−３−オンの代わりに２−ヘキシル−４，５−トリ
メチレン−４−イソチアゾリン−３−オン（１．５５
部）が使用された。
−エニル）ジスルフィドの製造 実施例５の過程をくり返す、ただ２−ブチルイソチアゾ
リン−３−オンの代わりに２−ヘキシル−４，５−トリ
メチレン−４−イソチアゾリン−３−オン（１．５５
部）が使用された。
【０１１４】反応生成物は再び“フラッシュ クロマト
グラフィー”により分離され、ジスルフィドを粘着性の
固形物として得た（０．４部）。
グラフィー”により分離され、ジスルフィドを粘着性の
固形物として得た（０．４部）。
【０１１５】ジスルフィドに対する元素分析は以下の結
果を与えた： Ｃ24Ｈ40Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 として 計算値：６３．７％Ｃ， ８．８％Ｈ， ６．２％Ｎ，
１４．１％Ｓ 実測値：６３．６％Ｃ， ８．８％Ｈ， ５．１％Ｎ，
１２．４％Ｓ
果を与えた： Ｃ24Ｈ40Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 として 計算値：６３．７％Ｃ， ８．８％Ｈ， ６．２％Ｎ，
１４．１％Ｓ 実測値：６３．６％Ｃ， ８．８％Ｈ， ５．１％Ｎ，
１２．４％Ｓ
【０１１６】ジスルフィドは重ジメチルスルホキシド中
での溶液として以下のＮＭＲスペクトルを与えた。プロ
トンＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：０．８（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ
−）；１．２（８Ｈ，マルチプレット−（ＣＨ2 ）4 −
ＣＨ3 ）；１．４（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ2−ＣＨ2 −
Ｃ）；１．９（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；
２．６（４Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３．１
（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ2 −Ｃ−）；７．６（１Ｈ，−ＮＨ
−）
での溶液として以下のＮＭＲスペクトルを与えた。プロ
トンＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：０．８（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ
−）；１．２（８Ｈ，マルチプレット−（ＣＨ2 ）4 −
ＣＨ3 ）；１．４（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ2−ＣＨ2 −
Ｃ）；１．９（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；
２．６（４Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３．１
（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ2 −Ｃ−）；７．６（１Ｈ，−ＮＨ
−）
【０１１７】微生物静力学評価は以下のＭＩＣ値を与え
た： ＥＣ ＧＴ１００ｐｐｍ ＡＮ １００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ １００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ ２５ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ １００ｐｐｍ ＰＰ ２５ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
た： ＥＣ ＧＴ１００ｐｐｍ ＡＮ １００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ １００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ ２５ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ １００ｐｐｍ ＰＰ ２５ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
【０１１８】
【実施例７】 ビス（２−オクチルアミノカルボニルシクロペンタ−１
−エニル）ジスルフィドの製造 ２−オクチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン（１．０部）を蒸留水（２５部）中、ハ
イドロサルファイトナトリウム（０．２部）と２０−２
５℃にて一夜攪拌した。高速液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）による分析は、約３３％の出発物質の存在
を示していた。さらに新しいハイドロサルファイトナト
リウム（０．２部）を加え、反応物は２０−２５℃でさ
らに１時間攪拌した。ＨＰＬＣによる分析は反応はまだ
不完全であることを示したので、さらにハイドロサルフ
ァイト（０．２部）を添加し、反応物はさらに２時間攪
拌された。ＨＰＬＣによると反応は完了したように見え
た。
−エニル）ジスルフィドの製造 ２−オクチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン（１．０部）を蒸留水（２５部）中、ハ
イドロサルファイトナトリウム（０．２部）と２０−２
５℃にて一夜攪拌した。高速液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）による分析は、約３３％の出発物質の存在
を示していた。さらに新しいハイドロサルファイトナト
リウム（０．２部）を加え、反応物は２０−２５℃でさ
らに１時間攪拌した。ＨＰＬＣによる分析は反応はまだ
不完全であることを示したので、さらにハイドロサルフ
ァイト（０．２部）を添加し、反応物はさらに２時間攪
拌された。ＨＰＬＣによると反応は完了したように見え
た。
【０１１９】濾過により分離されたジスルフィドを水で
洗浄し、乾燥すると１１６−１１８℃で融解する白色固
形物を与えた（０．４２部）。
洗浄し、乾燥すると１１６−１１８℃で融解する白色固
形物を与えた（０．４２部）。
【０１２０】ジスルフィドの元素分析は以下の結果を与
えた： Ｃ28Ｈ48Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ６５．０％Ｃ， ９．５％Ｈ， ５．４％
Ｎ， １２．４％Ｓ 実測値 ６５．３％Ｃ， ９．５％Ｈ， ５．２％
Ｎ， １２．５％Ｓ
えた： Ｃ28Ｈ48Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ６５．０％Ｃ， ９．５％Ｈ， ５．４％
Ｎ， １２．４％Ｓ 実測値 ６５．３％Ｃ， ９．５％Ｈ， ５．２％
Ｎ， １２．５％Ｓ
【０１２１】重クロロホルム溶液としてのプロトンＮＭ
Ｒは以下の結果を与えた：プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）：０．９（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ−）；１．３（１０
Ｈ，マルチプレット−Ｃ−（ＣＨ2 ）5 −ＣＨ3 ）；
１．５（２Ｈ，−ＮＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−）；２．０
（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．７（２
Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｃ）；２．９（２Ｈ，−Ｃ
Ｈ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；３．３（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ
2 −Ｃ−）；５．５（１Ｈ，ＮＨ−）
Ｒは以下の結果を与えた：プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）：０．９（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ−）；１．３（１０
Ｈ，マルチプレット−Ｃ−（ＣＨ2 ）5 −ＣＨ3 ）；
１．５（２Ｈ，−ＮＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−）；２．０
（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．７（２
Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｃ）；２．９（２Ｈ，−Ｃ
Ｈ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；３．３（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ
2 −Ｃ−）；５．５（１Ｈ，ＮＨ−）
【０１２２】微生物静力学評価は以下のＭＩＣ値を与え
た： ＥＣ ＧＴ１００ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ ２５ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＰ ＧＴ１００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
た： ＥＣ ＧＴ１００ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ ２５ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＰ ＧＴ１００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は産業用生物致死性薬剤と
して有用な化合物およびそのような化合物の製造および
使用に関する。
して有用な化合物およびそのような化合物の製造および
使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】産業用生物致死性薬剤は特に、細菌およ
び真菌類により起こされる産業上の損傷の防止に有用で
ある。産業用生物致死性薬剤はペンキ、ラテックス、接
着剤、皮革、木材、金属使用性流体および冷却水の保存
に応用される。
び真菌類により起こされる産業上の損傷の防止に有用で
ある。産業用生物致死性薬剤はペンキ、ラテックス、接
着剤、皮革、木材、金属使用性流体および冷却水の保存
に応用される。
【０００３】産業用生物致死性薬剤として使用できる化
合物の１つの群はイソチアゾリノン構造に基づいてい
る。有用な生物致死性を持つと記述しているイソチアゾ
リノン誘導体の多くの特許開示がある。米国特許第３７
６１４８８号は任意に置換されてもよいアルキル、アル
ケニル、アルキニル、シクロアルキル、アラルキルまた
はアリール基が窒素原子に結合され、４および５位が無
置換またはハロゲンまたは低級アルキル基で置換されて
いるイソチアゾリノン誘導体を開示している。米国特許
第４１６５３１８号は極性有機溶媒中のイソチアゾリン
−３−オンの溶液を開示しており、その溶液はまた安定
剤量のホルムアルデヒドも含んでいる。英国特許出願第
２０８７３８８号はポリメチレン鎖が３つまたは４つの
炭素原子を持つ４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン類について開示している。
合物の１つの群はイソチアゾリノン構造に基づいてい
る。有用な生物致死性を持つと記述しているイソチアゾ
リノン誘導体の多くの特許開示がある。米国特許第３７
６１４８８号は任意に置換されてもよいアルキル、アル
ケニル、アルキニル、シクロアルキル、アラルキルまた
はアリール基が窒素原子に結合され、４および５位が無
置換またはハロゲンまたは低級アルキル基で置換されて
いるイソチアゾリノン誘導体を開示している。米国特許
第４１６５３１８号は極性有機溶媒中のイソチアゾリン
−３−オンの溶液を開示しており、その溶液はまた安定
剤量のホルムアルデヒドも含んでいる。英国特許出願第
２０８７３８８号はポリメチレン鎖が３つまたは４つの
炭素原子を持つ４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン類について開示している。
【０００４】産業用生物致死性薬剤として使用できるこ
とが見い出されている別の群の化合物は２，２′−ビス
（メチルアミノカルボニル）ジフェニルジスルフィドの
ごときジスルフィドであり、その使用は英国特許出願第
１５３２９８４号に記載および特許請求されている。
とが見い出されている別の群の化合物は２，２′−ビス
（メチルアミノカルボニル）ジフェニルジスルフィドの
ごときジスルフィドであり、その使用は英国特許出願第
１５３２９８４号に記載および特許請求されている。
【０００５】これらの群の化合物は両方とも産業用生物
致死性薬剤として商業的に重要になってきた。
致死性薬剤として商業的に重要になってきた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】産業用生物致死性薬剤
として有効であり、驚くほど有用な殺菌および特に抗菌
性質を持つ新規の群の化合物が発見された。
として有効であり、驚くほど有用な殺菌および特に抗菌
性質を持つ新規の群の化合物が発見された。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に従うと、一般式
Ｉの化合物が提供される。
Ｉの化合物が提供される。
【化１０】 Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって、およびＲ3およびＲ4
は一緒になって独立して３または４の炭素原子を持つポ
リメチレン鎖または１から４の炭素原子を持つ少くとも
１つの低級アルキル基により置換された３または４の炭
素原子を持つポリメチレン鎖を表わし；およびＲ5 から
Ｒ8 は各々独立して水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒ
ドロカルビルまたはＲ5 およびＲ6 は窒素原子と一緒に
なって環を形成し、および／またはＲ7 およびＲ8 は窒
素原子と一緒になって環を形成する〕
は一緒になって独立して３または４の炭素原子を持つポ
リメチレン鎖または１から４の炭素原子を持つ少くとも
１つの低級アルキル基により置換された３または４の炭
素原子を持つポリメチレン鎖を表わし；およびＲ5 から
Ｒ8 は各々独立して水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒ
ドロカルビルまたはＲ5 およびＲ6 は窒素原子と一緒に
なって環を形成し、および／またはＲ7 およびＲ8 は窒
素原子と一緒になって環を形成する〕
【０００８】Ｒ1 およびＲ2 が低級アルキルにより置換
されたポリメチレン鎖を形成する場合、８つまでの低級
アルキル基が存在してもよい。しかしながら、Ｒ1 およ
びＲ2 がアルキル置換を含まないものが好適である。
されたポリメチレン鎖を形成する場合、８つまでの低級
アルキル基が存在してもよい。しかしながら、Ｒ1 およ
びＲ2 がアルキル置換を含まないものが好適である。
【０００９】Ｒ1 およびＲ2 が一緒になって、およびＲ
3 およびＲ4 が一緒になってポリメチレン鎖を形成して
いる本発明の１つの特別の実施態様においては化合物は
一般式ＩＩの１つである。
3 およびＲ4 が一緒になってポリメチレン鎖を形成して
いる本発明の１つの特別の実施態様においては化合物は
一般式ＩＩの１つである。
【化１１】 〔式中、Ｒ5 からＲ8 は前に定義したとおり；およびｔ
およびｖは独立に１または２である〕
およびｖは独立に１または２である〕
【００１０】好適であるのはｔおよびｖは同じであり、
特に両方とも１である。
特に両方とも１である。
【００１１】Ｒ5 からＲ8 はヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビルであり、Ｒ5 、Ｒ6、Ｒ7 およびＲ8 は
各々２０までの炭素原子および特に１２までの炭素原子
を含んでもよい。Ｒ5 からＲ8 がヒドロカルビルである
場合、それはアルキル、アリール、シクロアルキル、ア
ルカリルまたはアルケニルであり得、Ｒ5 からＲ8 が置
換ヒドロカルビルである場合、それは酸素、窒素、硫黄
および例えばフッ素、塩素および臭素などのハロゲンか
ら選択される少くとも１つのヘテロ原子をさらに含むま
たは運ぶ前述のものの１つのごときヒドロカルビル部分
である。
ヒドロカルビルであり、Ｒ5 、Ｒ6、Ｒ7 およびＲ8 は
各々２０までの炭素原子および特に１２までの炭素原子
を含んでもよい。Ｒ5 からＲ8 がヒドロカルビルである
場合、それはアルキル、アリール、シクロアルキル、ア
ルカリルまたはアルケニルであり得、Ｒ5 からＲ8 が置
換ヒドロカルビルである場合、それは酸素、窒素、硫黄
および例えばフッ素、塩素および臭素などのハロゲンか
ら選択される少くとも１つのヘテロ原子をさらに含むま
たは運ぶ前述のものの１つのごときヒドロカルビル部分
である。
【００１２】Ｒ5 およびＲ6 が窒素原子と一緒に、およ
び／またはＲ7 およびＲ8 が窒素原子と一緒に環を形成
する場合、環は酸素、硫黄および窒素のごときヘテロ原
子をさらに含んでいてもよい。好適であるのはモルホリ
ノ、ピペリジノまたはピペラジノ環のごとき５または６
員環である。
び／またはＲ7 およびＲ8 が窒素原子と一緒に環を形成
する場合、環は酸素、硫黄および窒素のごときヘテロ原
子をさらに含んでいてもよい。好適であるのはモルホリ
ノ、ピペリジノまたはピペラジノ環のごとき５または６
員環である。
【００１３】一般式Ｉの化合物の好適な実施態様におい
て、Ｒ5 はＲ7 のものと同じであり、およびＲ6 はＲ8
のものと同じである。
て、Ｒ5 はＲ7 のものと同じであり、およびＲ6 はＲ8
のものと同じである。
【００１４】Ｒ5 からＲ8 は水素またはヒドロカルビ
ル、特にアルキル（直鎖でもまたは分枝していてもよ
い）が一般的に好適である。特に有用な化合物はｔおよ
びｖが両方とも１であり、およびＲ5 からＲ8 がすべて
水素である一般式ＩＩの化合物、およびまたＲ5 および
Ｒ7 が両方とも水素であり、Ｒ6 およびＲ8 がＣ1 −Ｃ
12アルキル、特にＣ1 −Ｃ6 アルキル（メチルのごと
き）である化合物である。
ル、特にアルキル（直鎖でもまたは分枝していてもよ
い）が一般的に好適である。特に有用な化合物はｔおよ
びｖが両方とも１であり、およびＲ5 からＲ8 がすべて
水素である一般式ＩＩの化合物、およびまたＲ5 および
Ｒ7 が両方とも水素であり、Ｒ6 およびＲ8 がＣ1 −Ｃ
12アルキル、特にＣ1 −Ｃ6 アルキル（メチルのごと
き）である化合物である。
【００１５】具体的な例は、ビス−（２−アミノカルボ
ニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド、ビス−
（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−１−エニ
ル）ジスルフィド、ビス−（２−ブチルアミノカルボニ
ルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド、ビス−
（２−ヘキシルアミノカルボニルシクロペンタ−１−エ
ニル）ジスルフィドおよびビス−（２−オクチルアミノ
カルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィドで
ある。
ニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド、ビス−
（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−１−エニ
ル）ジスルフィド、ビス−（２−ブチルアミノカルボニ
ルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド、ビス−
（２−ヘキシルアミノカルボニルシクロペンタ−１−エ
ニル）ジスルフィドおよびビス−（２−オクチルアミノ
カルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィドで
ある。
【００１６】一般式Ｉの化合物は例えば、一般式ＩＩＩ
ａおよび／またはＩＩＩｂのチオール−アミド前駆体の
制御された酸化による任意の都合のよい方法により製造
されるであろう。
ａおよび／またはＩＩＩｂのチオール−アミド前駆体の
制御された酸化による任意の都合のよい方法により製造
されるであろう。
【化１２】
【００１７】チオール−アミドのジスルフィドへの変換
は、無水条件下適した非水液体媒質にチオール−アミド
を懸濁または好適には溶解させて好適に実施される。液
体媒質は問題とする特定のチオール−アミドおよび酸化
剤に適するように選択され、典型的にはメタノールまた
はエタノールのごときアルコール、トルエンのごとき芳
香族溶剤、ヘキサンのごとき脂肪族溶媒および特にはメ
チレンクロリド、クロロホルムまたはテトラクロロエチ
レンのごときクロロ脂肪族炭化水素から選択される。ま
た溶媒の混合物を使用してもよい。しかしながら、もし
チオール−アミドが水に十分に可溶であり、およびより
重要な点は酸化剤が水と適合するならばそのような情況
下では液体媒質は水であってもよい。
は、無水条件下適した非水液体媒質にチオール−アミド
を懸濁または好適には溶解させて好適に実施される。液
体媒質は問題とする特定のチオール−アミドおよび酸化
剤に適するように選択され、典型的にはメタノールまた
はエタノールのごときアルコール、トルエンのごとき芳
香族溶剤、ヘキサンのごとき脂肪族溶媒および特にはメ
チレンクロリド、クロロホルムまたはテトラクロロエチ
レンのごときクロロ脂肪族炭化水素から選択される。ま
た溶媒の混合物を使用してもよい。しかしながら、もし
チオール−アミドが水に十分に可溶であり、およびより
重要な点は酸化剤が水と適合するならばそのような情況
下では液体媒質は水であってもよい。
【００１８】酸化剤は過酸化水素、アルカリ金属過酸化
物、過酢酸のごとき有機ペルオキシ化合物のごときペル
オキシ化合物、塩素および臭素のごときハライドおよび
特に塩化スルフリルのごとき硫黄のオキシハライドから
選択される。酸化剤は例えばアルミナ上のメタ過ヨウ素
酸ナトリウムのごとく不活性担体上に支持されていても
よい。前述のほとんどの酸化剤では、反応は実質的に無
水の条件下、好適には１つまたはそれ以上の上述の有機
溶媒中で実施されねばならない。
物、過酢酸のごとき有機ペルオキシ化合物のごときペル
オキシ化合物、塩素および臭素のごときハライドおよび
特に塩化スルフリルのごとき硫黄のオキシハライドから
選択される。酸化剤は例えばアルミナ上のメタ過ヨウ素
酸ナトリウムのごとく不活性担体上に支持されていても
よい。前述のほとんどの酸化剤では、反応は実質的に無
水の条件下、好適には１つまたはそれ以上の上述の有機
溶媒中で実施されねばならない。
【００１９】チオール−アミドの反応は容易に起こり、
通常６０℃以下および典型的には３０℃以下（例えば０
および１０℃の間）で実施される。
通常６０℃以下および典型的には３０℃以下（例えば０
および１０℃の間）で実施される。
【００２０】温度、酸化剤、溶媒および反応物の濃度な
どの反応条件の選択は一般式Ｉのジスルフィド、特にＲ
5 およびＲ7 が水素である化合物の製造の際に重要であ
る。もし酸化剤があまりに強力であるか、または条件が
あまりに強制的であり、またはチオール−アミドに対す
る酸化剤の比があまりに高ければ、反応は進行しすぎ、
類似の環状４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリン
−３−オンまたはその更なる酸化生成物を与える。
どの反応条件の選択は一般式Ｉのジスルフィド、特にＲ
5 およびＲ7 が水素である化合物の製造の際に重要であ
る。もし酸化剤があまりに強力であるか、または条件が
あまりに強制的であり、またはチオール−アミドに対す
る酸化剤の比があまりに高ければ、反応は進行しすぎ、
類似の環状４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリン
−３−オンまたはその更なる酸化生成物を与える。
【００２１】チオール−アミドをクロロ脂肪族炭化水素
溶媒中、低温でチオールのモル数当り約０．５モルの塩
化スルフリルと反応させることにより、一般式ＩＩＩａ
および／またはＩＩＩｂのチオール−アミドが効果的に
一般式Ｉのジスルフィドへ変換されることが発見され
た。
溶媒中、低温でチオールのモル数当り約０．５モルの塩
化スルフリルと反応させることにより、一般式ＩＩＩａ
および／またはＩＩＩｂのチオール−アミドが効果的に
一般式Ｉのジスルフィドへ変換されることが発見され
た。
【００２２】それ故、本発明の更なる態様に従うと、一
般式ＩＩＩａおよび／またはＩＩＩｂのチオール−アミ
ドをメチレンクロリドのごときクロロ脂肪族炭化水素溶
媒中で１モル未満の塩化スルフリルのごとき硫黄のオキ
シハライドと６０℃を越えない温度で反応させることに
より一般式Ｉのジスルフィドを製造する方法が提供され
る。好適には反応は３０℃以下、例えば０から１０℃の
間で実施される。理想的には硫黄のオキシハライドの比
率はチオール−アミドのモル当り０．７モル以下で、特
に０．５モル／モル以下（例えばチオール−アミドのモ
ル当り０．３から０．５モルの間）である。
般式ＩＩＩａおよび／またはＩＩＩｂのチオール−アミ
ドをメチレンクロリドのごときクロロ脂肪族炭化水素溶
媒中で１モル未満の塩化スルフリルのごとき硫黄のオキ
シハライドと６０℃を越えない温度で反応させることに
より一般式Ｉのジスルフィドを製造する方法が提供され
る。好適には反応は３０℃以下、例えば０から１０℃の
間で実施される。理想的には硫黄のオキシハライドの比
率はチオール−アミドのモル当り０．７モル以下で、特
に０．５モル／モル以下（例えばチオール−アミドのモ
ル当り０．３から０．５モルの間）である。
【００２３】チオール−アミドのジスルフィドへの変換
は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）のごとき通
常の方法でモニターされ、反応はジスルフィドの収率を
最高にする適当な時間に停止されるであろう。
は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）のごとき通
常の方法でモニターされ、反応はジスルフィドの収率を
最高にする適当な時間に停止されるであろう。
【００２４】一般式Ｉのジスルフィドは溶媒の蒸発、水
中への抽出または濾過および乾燥のごとき通常の手段に
より単離および回収されるであろう。
中への抽出または濾過および乾燥のごとき通常の手段に
より単離および回収されるであろう。
【００２５】先に説明したごとくチオール−アミドは使
用される酸化剤の性質およびチオール−アミドに対する
酸化剤の化学量論比に依存して一般式Ｉのジスルフィド
または類似の４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オンまで酸化されるであろう。それ故一般式Ｉ
のジスルフィドそれ自身もイソチアゾリン−３−オンへ
変換されるであろう。したがって、Ｒ5 およびＲ7 が両
方とも水素であり、Ｒ1 からＲ4 およびＲ6 およびＲ8
が前に定義したとうりの一般式Ｉのジスルフィドはそれ
自身４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリン−３−
オン製造のための価値ある中間体である。ジスルフィド
の環状イソチアゾリン−３−オンへの変換は酸化剤およ
びジスルフィドの性質および相対量にさほど依存しない
が、もし条件があまりに強いとイソチアゾリン−３−オ
ンを越えた酸化が起こり得る。一般式Ｉのジスルフィド
は水および有機溶媒へは比較的低い溶解性を示し、それ
故イソチアゾリン−３−オンの収率は低い。しかしなが
ら、反応を適当な有機溶媒およびその有機溶媒と混じる
強有機酸の混合物で実施することにより一般式Ｉのジス
ルフィドがイソチアゾリン−３−オンへ高収率で変換で
きるであろうことが見い出された。有機溶媒は好適には
反応不活性であり、好適にはメチレンクロリドのごとき
クロロ−脂肪族炭化水素溶媒から選択され、および強有
機酸で好適であるのはギ酸である。
用される酸化剤の性質およびチオール−アミドに対する
酸化剤の化学量論比に依存して一般式Ｉのジスルフィド
または類似の４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オンまで酸化されるであろう。それ故一般式Ｉ
のジスルフィドそれ自身もイソチアゾリン−３−オンへ
変換されるであろう。したがって、Ｒ5 およびＲ7 が両
方とも水素であり、Ｒ1 からＲ4 およびＲ6 およびＲ8
が前に定義したとうりの一般式Ｉのジスルフィドはそれ
自身４，５−ポリメチレン−４−イソチアゾリン−３−
オン製造のための価値ある中間体である。ジスルフィド
の環状イソチアゾリン−３−オンへの変換は酸化剤およ
びジスルフィドの性質および相対量にさほど依存しない
が、もし条件があまりに強いとイソチアゾリン−３−オ
ンを越えた酸化が起こり得る。一般式Ｉのジスルフィド
は水および有機溶媒へは比較的低い溶解性を示し、それ
故イソチアゾリン−３−オンの収率は低い。しかしなが
ら、反応を適当な有機溶媒およびその有機溶媒と混じる
強有機酸の混合物で実施することにより一般式Ｉのジス
ルフィドがイソチアゾリン−３−オンへ高収率で変換で
きるであろうことが見い出された。有機溶媒は好適には
反応不活性であり、好適にはメチレンクロリドのごとき
クロロ−脂肪族炭化水素溶媒から選択され、および強有
機酸で好適であるのはギ酸である。
【００２６】反応は容易に起こり好適には６０℃を越え
ない温度、より好適には３０℃以下でおよび特に０から
１０℃で実施される。
ない温度、より好適には３０℃以下でおよび特に０から
１０℃で実施される。
【００２７】酸化剤は前に記載したものから選択される
が、特には塩化スルフリルのごとき硫黄のオキシクロリ
ドである。
が、特には塩化スルフリルのごとき硫黄のオキシクロリ
ドである。
【００２８】チオール−アミドから一般式Ｉへの酸化に
対して、ジスルフィドから環状４，５−ポリメチレン−
４−イソオキサゾリン−３−オンへの酸化はより強い条
件を一般的に必要とし、典型的には（０．５モルを越え
る酸化剤／ジスルフィドモル数）の酸化剤のモル比率で
実施される。ジスルフィドモル当り１０モル過剰の酸化
剤の比率を用いてもよいが、それには何の利点も見い出
されず、高濃度の酸化剤、高い温度および長い反応時間
はイソチアゾリン−３−オンの歓迎しがたい酸化副生成
物を生じる。それ故、酸化剤（塩化スルフリルのごと
き）の比率をジスルフィドモル当り０．５モルを越える
酸化剤で、しかしジスルフィドモル当り１０モル以下の
酸化剤に保つのが好適である。一般的には、ジスルフィ
ドからのイソチアゾリン−３−オンの高収率はジスルフ
ィドのモル当り１から５モルの酸化剤で、特にはジスル
フィドモル当り１から２モルの酸化剤で、より特別には
１から１．２モルの酸化剤で得ることができることを見
い出している。
対して、ジスルフィドから環状４，５−ポリメチレン−
４−イソオキサゾリン−３−オンへの酸化はより強い条
件を一般的に必要とし、典型的には（０．５モルを越え
る酸化剤／ジスルフィドモル数）の酸化剤のモル比率で
実施される。ジスルフィドモル当り１０モル過剰の酸化
剤の比率を用いてもよいが、それには何の利点も見い出
されず、高濃度の酸化剤、高い温度および長い反応時間
はイソチアゾリン−３−オンの歓迎しがたい酸化副生成
物を生じる。それ故、酸化剤（塩化スルフリルのごと
き）の比率をジスルフィドモル当り０．５モルを越える
酸化剤で、しかしジスルフィドモル当り１０モル以下の
酸化剤に保つのが好適である。一般的には、ジスルフィ
ドからのイソチアゾリン−３−オンの高収率はジスルフ
ィドのモル当り１から５モルの酸化剤で、特にはジスル
フィドモル当り１から２モルの酸化剤で、より特別には
１から１．２モルの酸化剤で得ることができることを見
い出している。
【００２９】それ故、本発明のさらなる実施態様とし
て、一般式Ｉの化合物（式中、Ｒ5 およびＲ7 は両方水
素であり、Ｒ1 からＲ4 およびＲ6 およびＲ8 は前に定
義したとおりである。）の酸化により４，５−ポリメチ
レン−４−イソチアゾリン−３−オンを製造する方法が
提供される。生成物はＲ1 Ｒ2 およびＲ3 Ｒ4 が異な
り、およびＲ6 およびＲ8 が異なる２つの４，５−ポリ
メチレン−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物であ
ろう。
て、一般式Ｉの化合物（式中、Ｒ5 およびＲ7 は両方水
素であり、Ｒ1 からＲ4 およびＲ6 およびＲ8 は前に定
義したとおりである。）の酸化により４，５−ポリメチ
レン−４−イソチアゾリン−３−オンを製造する方法が
提供される。生成物はＲ1 Ｒ2 およびＲ3 Ｒ4 が異な
り、およびＲ6 およびＲ8 が異なる２つの４，５−ポリ
メチレン−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物であ
ろう。
【００３０】一般式Ｉのジスルフィドからそのようなイ
ソチアゾリノンを製造する場合、単一の生成物が生成さ
れるようにＲ1 およびＲ2がＲ3 およびＲ4 と同じであ
りＲ6 およびＲ8 が同じであることが一般的に好適であ
る。
ソチアゾリノンを製造する場合、単一の生成物が生成さ
れるようにＲ1 およびＲ2がＲ3 およびＲ4 と同じであ
りＲ6 およびＲ8 が同じであることが一般的に好適であ
る。
【００３１】それ故一般式ＩＶの４，５−ポリメチレン
−４−イソオキサゾリン−３−オンを製造する方法が、
−４−イソオキサゾリン−３−オンを製造する方法が、
【化１３】 一般式Ｖのジスルフィドの酸化によることにより提供さ
れる。
れる。
【化１４】 〔式中Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ6 は前に定義したとおりであ
る〕
る〕
【００３２】酸化は反応不活性有機溶媒中で実施される
が、一般式Ｖのジスルフィドの低溶解性のため、反応不
活性有機溶媒および強有機酸の混合物を使用することが
一般的に好適である。強有機酸で好適であるのはギ酸で
あり、反応不活性有機溶媒は好適にはメチルクロリドの
ごときクロロ−脂肪族炭化水素である。
が、一般式Ｖのジスルフィドの低溶解性のため、反応不
活性有機溶媒および強有機酸の混合物を使用することが
一般的に好適である。強有機酸で好適であるのはギ酸で
あり、反応不活性有機溶媒は好適にはメチルクロリドの
ごときクロロ−脂肪族炭化水素である。
【００３３】酸化剤で好適であるのは塩化スルフリルの
ごとき硫黄のオキシハライドである。酸化剤の比率は一
般的に少くともジスルフィドのモル当り０．５モルの酸
化剤で、ジスルフィドのモル当り１０モル未満の酸化剤
である。酸化剤の量はジスルフィドのモル当り１モルか
ら５モルの酸化剤、特にジスルフィドのモル当り１モル
から２モルの酸化剤が好適である。
ごとき硫黄のオキシハライドである。酸化剤の比率は一
般的に少くともジスルフィドのモル当り０．５モルの酸
化剤で、ジスルフィドのモル当り１０モル未満の酸化剤
である。酸化剤の量はジスルフィドのモル当り１モルか
ら５モルの酸化剤、特にジスルフィドのモル当り１モル
から２モルの酸化剤が好適である。
【００３４】反応温度で好適であるのは６０℃を越えて
いないもので、より好適には３０℃以下で、特に０から
１０℃である。
いないもので、より好適には３０℃以下で、特に０から
１０℃である。
【００３５】一般式ＩＶのイソチアゾリン−３−オンは
一般式Ｖのジスルフィドから直接製造されることが理解
されよう。Ｒ6 が水素である一般式Ｖのジスルフィドか
らＲ6 が水素である一般式ＩＶへのイソチアゾリン−３
−オンへの酸化およびこれをヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビル基、Ｒ6 、を含む適当な試薬と反応させ
ることによりＲ6がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカ
ルビルである一般式ＩＶのイソチアゾリン−３−オンが
製造されるであろう。適当な試薬とは英国特許出願第２
０８７３８８号に記載されているものである。
一般式Ｖのジスルフィドから直接製造されることが理解
されよう。Ｒ6 が水素である一般式Ｖのジスルフィドか
らＲ6 が水素である一般式ＩＶへのイソチアゾリン−３
−オンへの酸化およびこれをヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビル基、Ｒ6 、を含む適当な試薬と反応させ
ることによりＲ6がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカ
ルビルである一般式ＩＶのイソチアゾリン−３−オンが
製造されるであろう。適当な試薬とは英国特許出願第２
０８７３８８号に記載されているものである。
【００３６】イソチアゾリン−３−オンは濾過のごとく
本分野で既知の多くの方法により単離でき、または溶媒
を留去することにより溶液から回収されるであろう。好
都合なのは、イソチアゾリン−３−オンまたは有機相か
ら単離されることなく工業的使用のために処方でき、ま
たは水相へ抽出された後単離することなく水性処方とし
て処方されるであろう。
本分野で既知の多くの方法により単離でき、または溶媒
を留去することにより溶液から回収されるであろう。好
都合なのは、イソチアゾリン−３−オンまたは有機相か
ら単離されることなく工業的使用のために処方でき、ま
たは水相へ抽出された後単離することなく水性処方とし
て処方されるであろう。
【００３７】一般式Ｖのジスルフィドは酸化されて一般
式ＩＶの環状ポリメチレン イソチアゾリン−３−オン
を生成するので、イソチアゾリン−３−オンはそれ自身
が還元されてジスルフィドを生成するであろうことが理
解されよう。
式ＩＶの環状ポリメチレン イソチアゾリン−３−オン
を生成するので、イソチアゾリン−３−オンはそれ自身
が還元されてジスルフィドを生成するであろうことが理
解されよう。
【００３８】それ故、本発明のさらに別の実施態様にお
いて、一般式ＩＶの４，５−ポリメチレン−４−イソチ
アゾリン−３−オンを還元することにより、一般式Ｖの
ジスルフィドを製造する方法が提供される。
いて、一般式ＩＶの４，５−ポリメチレン−４−イソチ
アゾリン−３−オンを還元することにより、一般式Ｖの
ジスルフィドを製造する方法が提供される。
【００３９】反応は容易に起こり、好適には６０℃を越
えない温度で、好適には３０℃以下で、特に０から２０
℃で実施される。
えない温度で、好適には３０℃以下で、特に０から２０
℃で実施される。
【００４０】反応は好適には水、メタノールまたはエタ
ノールのごときアルカノールまたは水性アルカノール溶
液のごとき極性溶媒中で実施される。
ノールのごときアルカノールまたは水性アルカノール溶
液のごとき極性溶媒中で実施される。
【００４１】典型的な還元剤は亜硫酸水素およびハイド
ロサルファイト陰イオンのアルカリ金属塩（特にナトリ
ウム塩）である。
ロサルファイト陰イオンのアルカリ金属塩（特にナトリ
ウム塩）である。
【００４２】イソチアゾリン−３−オンのモル当り１０
モルの還元剤のごとく比較的高い比率の還元剤が使用さ
れるであろう。しかしながら、イソチアゾリン−３−オ
ンのモル当り１モルから２モルの還元剤で反応がよく進
行することが見い出されている。
モルの還元剤のごとく比較的高い比率の還元剤が使用さ
れるであろう。しかしながら、イソチアゾリン−３−オ
ンのモル当り１モルから２モルの還元剤で反応がよく進
行することが見い出されている。
【００４３】反応は典型的には水またはメタノール溶液
中、イソチアゾリン−３−オンおよび還元剤を一緒に攪
拌することにより実施する。そのような条件下、ジスル
フィドは通常分離し、濾過により回収されるであろう。
中、イソチアゾリン−３−オンおよび還元剤を一緒に攪
拌することにより実施する。そのような条件下、ジスル
フィドは通常分離し、濾過により回収されるであろう。
【００４４】多くの例において、実験室規模ではジスル
フィドをシリカ支持体上へ吸着させ、「フラッシュ ク
ロマトグラフィー」により精製および単離を達成するの
がより都合がよい。この場合、ジスルフィドはシリカか
ら適当な溶媒またはより極性を増加させた溶媒の混合物
中に選択的に溶出される。
フィドをシリカ支持体上へ吸着させ、「フラッシュ ク
ロマトグラフィー」により精製および単離を達成するの
がより都合がよい。この場合、ジスルフィドはシリカか
ら適当な溶媒またはより極性を増加させた溶媒の混合物
中に選択的に溶出される。
【００４５】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 が前に定義し
たとおりであり、Ｒ5 およびＲ7 が水素であり、および
Ｒ6 およびＲ8 が水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒド
ロカルビルである一般式ＩＩＩａまたはＩＩＩｂのある
種のチオール−アミドは英国特許出願第２０８７３８８
号に開示されており、それにはまた２−モノ置換アミノ
カルボニルシクロアルケン−１−オンへの硫化水素の作
用によるそのようなチオール−アミドの製造も開示され
ている。
たとおりであり、Ｒ5 およびＲ7 が水素であり、および
Ｒ6 およびＲ8 が水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒド
ロカルビルである一般式ＩＩＩａまたはＩＩＩｂのある
種のチオール−アミドは英国特許出願第２０８７３８８
号に開示されており、それにはまた２−モノ置換アミノ
カルボニルシクロアルケン−１−オンへの硫化水素の作
用によるそのようなチオール−アミドの製造も開示され
ている。
【００４６】我々はシクロアルカノン−２−カルボキシ
ラートとアミンを反応させて２−アミノカルボニル誘導
体を生成させ、続いてこれを硫化水素と反応させて２−
アミノカルボニルシクロアルケン−１−イル チオール
を生成させることにより式ＩＩＩａまたはＩＩＩｂの化
合物が容易に製造されることを見い出した。もしくは、
およびより好適には、シクロアルカノン−２−カルボキ
シラートを硫化水素と反応させて１−メルカプトシクロ
アルケン−１−イル−２−カルボキシラートを生成させ
それをアミンと反応させてチオール−アミドを生成させ
る。
ラートとアミンを反応させて２−アミノカルボニル誘導
体を生成させ、続いてこれを硫化水素と反応させて２−
アミノカルボニルシクロアルケン−１−イル チオール
を生成させることにより式ＩＩＩａまたはＩＩＩｂの化
合物が容易に製造されることを見い出した。もしくは、
およびより好適には、シクロアルカノン−２−カルボキ
シラートを硫化水素と反応させて１−メルカプトシクロ
アルケン−１−イル−２−カルボキシラートを生成させ
それをアミンと反応させてチオール−アミドを生成させ
る。
【００４７】それ故、本発明のさらに別の態様のごと
く、一般式ＶＩの１−メルカプトシクロアルケン−１−
イル−２−カルボキシラートを式ＨＮＲ5Ｒ6 のアミン
と反応させることを特徴とする一般式ＩＩＩａのチオー
ル−アミドを製造するための方法が提供される。
く、一般式ＶＩの１−メルカプトシクロアルケン−１−
イル−２−カルボキシラートを式ＨＮＲ5Ｒ6 のアミン
と反応させることを特徴とする一般式ＩＩＩａのチオー
ル−アミドを製造するための方法が提供される。
【化１５】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 およびＲ5 およびＲ6 は前に定
義したとおりであり；およびＲ9 はヒドロカルビルまた
は置換ヒドロカルビル基である〕
義したとおりであり；およびＲ9 はヒドロカルビルまた
は置換ヒドロカルビル基である〕
【００４８】ヒドロカルビル基Ｒ9 は好適には１２を越
える炭素原子は含んでいず、典型的には８より多くない
炭素原子を含んでいる。Ｒ9 が置換ヒドロカルビルであ
る場合、窒素、酸素または硫黄から選択される少くとも
１つのヘテロ原子を含むおよび／またはフッ素、塩素ま
たは臭素のごときハロゲンを含むヒドロカルビル基であ
る。
える炭素原子は含んでいず、典型的には８より多くない
炭素原子を含んでいる。Ｒ9 が置換ヒドロカルビルであ
る場合、窒素、酸素または硫黄から選択される少くとも
１つのヘテロ原子を含むおよび／またはフッ素、塩素ま
たは臭素のごときハロゲンを含むヒドロカルビル基であ
る。
【００４９】好適であるのはＲ9 は１２より多くない炭
素原子をおよび特には８より多くない炭素原子を含むア
ルキルで、それは直鎖でも分枝していてもよい。
素原子をおよび特には８より多くない炭素原子を含むア
ルキルで、それは直鎖でも分枝していてもよい。
【００５０】Ｒ9 がメチルのごときＣ1 −Ｃ4 アルキル
である場合に反応がよく進行することが見い出されてい
る。
である場合に反応がよく進行することが見い出されてい
る。
【００５１】カルボキシラートとアミンの反応は特定の
アミンに依存して、緩和な条件下達成されるであろう。
最終ジスルフィド生成物がビス（２−アミノカルボニル
シクロアルカ−１−エニル）ジスルフィドであるために
は、アミンはＲ5 およびＲ6が両方とも水素であるもの
（即ちアンモニア）である。もしアミノ基が置換されて
いるジスルフィドを得ることを望むなら、少くとも基Ｒ
5 およびＲ6 の１つは水素以外であるべきであり（好適
にはヒドロキカルビル基または置換ヒドロカルビル）、
またはＲ5 およびＲ6 が窒素原子と一緒になって環を形
成しなければならない。基Ｒ5 およびＲ6 はそれ故アル
キル、シクロアルキル、アルケニル、アリール、アラル
キルまたはアルカリル基であり、典型的には２０までの
炭素原子、および特には１から１２の炭素原子を含んで
いる。Ｒ5 が水素であり、Ｒ6 が水素またはアルキル基
であることが一般的に好適である。
アミンに依存して、緩和な条件下達成されるであろう。
最終ジスルフィド生成物がビス（２−アミノカルボニル
シクロアルカ−１−エニル）ジスルフィドであるために
は、アミンはＲ5 およびＲ6が両方とも水素であるもの
（即ちアンモニア）である。もしアミノ基が置換されて
いるジスルフィドを得ることを望むなら、少くとも基Ｒ
5 およびＲ6 の１つは水素以外であるべきであり（好適
にはヒドロキカルビル基または置換ヒドロカルビル）、
またはＲ5 およびＲ6 が窒素原子と一緒になって環を形
成しなければならない。基Ｒ5 およびＲ6 はそれ故アル
キル、シクロアルキル、アルケニル、アリール、アラル
キルまたはアルカリル基であり、典型的には２０までの
炭素原子、および特には１から１２の炭素原子を含んで
いる。Ｒ5 が水素であり、Ｒ6 が水素またはアルキル基
であることが一般的に好適である。
【００５２】カルボキシラートとアミンの反応は、もし
アミンがメチルアミンのごとき低級アミンであるなら適
当な溶媒（水であろう）中で達成される。基Ｒ5 または
Ｒ6の少くとも１つが高級アルキル基であるアミンにつ
いては他の溶媒の使用が必要であろう、例えば、ヘキサ
ン、キシレンおよび石油エーテルまたはその混合物のご
とき炭化水素溶媒。未反応アミンからのチオール−アミ
ドの分離を容易にするために水−非混和性溶媒の使用が
一般的に好適である。
アミンがメチルアミンのごとき低級アミンであるなら適
当な溶媒（水であろう）中で達成される。基Ｒ5 または
Ｒ6の少くとも１つが高級アルキル基であるアミンにつ
いては他の溶媒の使用が必要であろう、例えば、ヘキサ
ン、キシレンおよび石油エーテルまたはその混合物のご
とき炭化水素溶媒。未反応アミンからのチオール−アミ
ドの分離を容易にするために水−非混和性溶媒の使用が
一般的に好適である。
【００５３】カルボキシラートおよびアミン間の反応は
容易に起こり、低級アルキルアミンを用いた場合、室温
に近い反応温度で十分である。より特定的には反応温度
は一般的に５０℃を越えず、好適には４０℃より高くな
く特定的には２５から３０℃である。
容易に起こり、低級アルキルアミンを用いた場合、室温
に近い反応温度で十分である。より特定的には反応温度
は一般的に５０℃を越えず、好適には４０℃より高くな
く特定的には２５から３０℃である。
【００５４】カルボキシラートは都合良くアミンの溶液
（例えば水溶液）へ添加される。アミンの濃度は重量で
１０％から重量でほとんど１００％（そのような高濃度
は低沸点を持ち、そのため室温およびそれ以下でも容易
に揮発する低級アルキルアミンには望ましくない）の範
囲にあるであろう。都合がよいのは重量で２０％から６
０％のアミン濃度である、例えば重量で４０％。
（例えば水溶液）へ添加される。アミンの濃度は重量で
１０％から重量でほとんど１００％（そのような高濃度
は低沸点を持ち、そのため室温およびそれ以下でも容易
に揮発する低級アルキルアミンには望ましくない）の範
囲にあるであろう。都合がよいのは重量で２０％から６
０％のアミン濃度である、例えば重量で４０％。
【００５５】アミンは好適にはカルボキシラートに比較
してモルで過剰に使用される。典型的には、カルボキシ
ラートの各々のモル数に対して少くとも２倍モルのアミ
ンから２０倍までのモル数のアミンを使用してよいが、
非常に高い比率のアミンの使用では何の利点も得られな
いと信じられている。カルボキシラートの各々のモル数
に対して１０倍モルのメチルアミンの使用が満足すべき
結果を与えた。
してモルで過剰に使用される。典型的には、カルボキシ
ラートの各々のモル数に対して少くとも２倍モルのアミ
ンから２０倍までのモル数のアミンを使用してよいが、
非常に高い比率のアミンの使用では何の利点も得られな
いと信じられている。カルボキシラートの各々のモル数
に対して１０倍モルのメチルアミンの使用が満足すべき
結果を与えた。
【００５６】反応の進行は、例えば液相クロマトグラフ
ィーなどの適当な分析技術によりモニターされるであろ
う。ここに示した条件下では、典型的には反応は約６時
間で完了した
ィーなどの適当な分析技術によりモニターされるであろ
う。ここに示した条件下では、典型的には反応は約６時
間で完了した
【００５７】反応生成物はアミドであり、反応が水中で
行われる場合には沈殿を形成する。過剰の、未反応のア
ミンは減圧下（水銀柱で５０ｍｍまたはそれ以下の圧力
で、水道ポンプを用いて達成できる）蒸留により反応混
合物から除去できる。
行われる場合には沈殿を形成する。過剰の、未反応のア
ミンは減圧下（水銀柱で５０ｍｍまたはそれ以下の圧力
で、水道ポンプを用いて達成できる）蒸留により反応混
合物から除去できる。
【００５８】固体チオール−アミドは濾過のごとき適当
な手段により反応混合物から回収でき、固形物は必要に
応じ洗浄および乾燥される。
な手段により反応混合物から回収でき、固形物は必要に
応じ洗浄および乾燥される。
【００５９】上のごとくして製造されたチオール−アミ
ドは容易に精製されるであろう。アミンがアンモニアま
たはメチルアミンである場合過剰のアミンは単に水で洗
浄するだけで除去できる。アミンがより水に溶け難い場
合、過剰のアミンは希水性酸で洗浄することにより除去
されるであろう。もしくは、チオール−アミドをアルカ
リ水溶液に溶解し、過剰のアミンを適当な溶媒中へ抽出
する。チオール−アミドは中和および濾過により回収さ
れるであろう。
ドは容易に精製されるであろう。アミンがアンモニアま
たはメチルアミンである場合過剰のアミンは単に水で洗
浄するだけで除去できる。アミンがより水に溶け難い場
合、過剰のアミンは希水性酸で洗浄することにより除去
されるであろう。もしくは、チオール−アミドをアルカ
リ水溶液に溶解し、過剰のアミンを適当な溶媒中へ抽出
する。チオール−アミドは中和および濾過により回収さ
れるであろう。
【００６０】前に説明したごとくチオール−アミドは一
般式〔化１〕のジスルフィドの製造に使用されるであろ
うし、またはＧＢ２１７６１８７に記載されているごと
く環化工程を用いたポリメチレン−４−イソチアゾリン
−３−オンの製造に使用されるであろう。
般式〔化１〕のジスルフィドの製造に使用されるであろ
うし、またはＧＢ２１７６１８７に記載されているごと
く環化工程を用いたポリメチレン−４−イソチアゾリン
−３−オンの製造に使用されるであろう。
【００６１】種々の型の応用において、一般式〔化１〕
のビス（２−アミノカルボニルシクロアルカ−１−エニ
ル）ジスルフィドを適当な液体媒質に（特に水またはア
ルコールのごとき極性有機溶媒）処方するのがしばしば
必要または都合が良い。
のビス（２−アミノカルボニルシクロアルカ−１−エニ
ル）ジスルフィドを適当な液体媒質に（特に水またはア
ルコールのごとき極性有機溶媒）処方するのがしばしば
必要または都合が良い。
【００６２】本発明のジスルフィド化合物は殺菌性を持
っており、産業用生物致死性薬剤としての使用に適して
いる。それらは良好な湿った状態での殺菌性を示し、切
断液体防腐剤、冷却水および製紙工場溶液中の微生物増
殖の阻害に使用されるであろう。本化合物はまた染料お
よび印刷インキのごとき彩色のために使用される産業的
に重要な処方（特に水性基剤処方）および流動可能な除
草剤および殺虫剤のごとき農業化学処方の保存にも使用
されるであろう。
っており、産業用生物致死性薬剤としての使用に適して
いる。それらは良好な湿った状態での殺菌性を示し、切
断液体防腐剤、冷却水および製紙工場溶液中の微生物増
殖の阻害に使用されるであろう。本化合物はまた染料お
よび印刷インキのごとき彩色のために使用される産業的
に重要な処方（特に水性基剤処方）および流動可能な除
草剤および殺虫剤のごとき農業化学処方の保存にも使用
されるであろう。
【００６３】本発明の化合物のさらに別の重要な応用に
は微生物損傷を抑制するためのジーゼル燃料、接着剤お
よび化粧品のごとき炭化水素液での使用および木材およ
び皮革の防腐のための使用が含まれる。
は微生物損傷を抑制するためのジーゼル燃料、接着剤お
よび化粧品のごとき炭化水素液での使用および木材およ
び皮革の防腐のための使用が含まれる。
【００６４】本発明の化合物はペンキの防腐（特に水性
基剤ラテックス）に特に有用である。
基剤ラテックス）に特に有用である。
【００６５】好適なラテックスはポリビニル アクリラ
ートおよび特にアクリル性ラテックス、特に７以上のｐ
Ｈを持ち、より特別にはアンモニアまたはアミンを含む
ものである。
ートおよび特にアクリル性ラテックス、特に７以上のｐ
Ｈを持ち、より特別にはアンモニアまたはアミンを含む
ものである。
【００６６】本発明の組成物は単独でまたは適当な担体
とともに使用されるであろう。
とともに使用されるであろう。
【００６７】それ故、本発明の更なる態様として、担体
および有効量の本発明に従った一般式Ｉの化合物を特徴
とする生物致死性薬剤組成物が提供される。
および有効量の本発明に従った一般式Ｉの化合物を特徴
とする生物致死性薬剤組成物が提供される。
【００６８】担体は典型的には殺菌活性をほとんど示さ
ず（たとえあるとしても）、細菌のごとき微生物の増殖
が可能な物質である（または物質を含んでいる）、担体
は好適には液体媒質であり、生物致死性薬剤組成物は好
適には液体担体中に加えた一般式Ｉの化合物の溶液、懸
濁液または乳濁液である。担体は水または酢酸、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコール、エチ
レンジアミン、ジメチルスルホキシドまたはＮ−メチル
−２−ピロリドンまたはそのような液状物の混合物のご
とき親水性溶媒であろう。もし組成物が懸濁剤または乳
化剤の形であるならば、相分離を防ぐために表面活性剤
が含まれているであろう。生物致死性薬剤組成物に使用
されることが知られている任意の表面活性剤がそのよう
な系で使用されるであろう、例えば脂肪アルコール、ア
ルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物およびナ
フトール スルホナートとホルムアルデヒドとの反応で
得られるようなアニオン性表面活性剤。
ず（たとえあるとしても）、細菌のごとき微生物の増殖
が可能な物質である（または物質を含んでいる）、担体
は好適には液体媒質であり、生物致死性薬剤組成物は好
適には液体担体中に加えた一般式Ｉの化合物の溶液、懸
濁液または乳濁液である。担体は水または酢酸、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコール、エチ
レンジアミン、ジメチルスルホキシドまたはＮ−メチル
−２−ピロリドンまたはそのような液状物の混合物のご
とき親水性溶媒であろう。もし組成物が懸濁剤または乳
化剤の形であるならば、相分離を防ぐために表面活性剤
が含まれているであろう。生物致死性薬剤組成物に使用
されることが知られている任意の表面活性剤がそのよう
な系で使用されるであろう、例えば脂肪アルコール、ア
ルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物およびナ
フトール スルホナートとホルムアルデヒドとの反応で
得られるようなアニオン性表面活性剤。
【００６９】生物致死性薬剤組成物中に存在する化合物
または一般式Ｉの化合物の量は殺菌効果を持つのにちょ
うど十分であるかまたはこの量より実質的に過剰に存在
しているかである。生物致死性薬剤組成物は大量輸送の
ため濃縮溶液として提供され、続いて抗菌保護に使用す
るために希釈されることが理解されるであろう。それ
故、生物致死性薬剤組成物に存在する一般式Ｉの化合物
の量は典型的には重量で生物致死性薬剤組成物の０．０
００１％から３０％までの範囲である。
または一般式Ｉの化合物の量は殺菌効果を持つのにちょ
うど十分であるかまたはこの量より実質的に過剰に存在
しているかである。生物致死性薬剤組成物は大量輸送の
ため濃縮溶液として提供され、続いて抗菌保護に使用す
るために希釈されることが理解されるであろう。それ
故、生物致死性薬剤組成物に存在する一般式Ｉの化合物
の量は典型的には重量で生物致死性薬剤組成物の０．０
００１％から３０％までの範囲である。
【００７０】本発明の組成物は抗細菌活性を提供するの
に特に有用である。それ故、組成物は微生物の増殖を阻
害するための種々の媒質の処理に使用できる。
に特に有用である。それ故、組成物は微生物の増殖を阻
害するための種々の媒質の処理に使用できる。
【００７１】本発明のさらなる態様として、一般式Ｉの
化合物または前に定義したごとき一般式Ｉの化合物を含
む組成物で媒質を処理することを特徴とする媒質上（ま
たは中）の微生物の増殖を阻害する方法が提供される。
化合物または前に定義したごとき一般式Ｉの化合物を含
む組成物で媒質を処理することを特徴とする媒質上（ま
たは中）の微生物の増殖を阻害する方法が提供される。
【００７２】組成物は微生物が増殖し問題を起こす系に
使用できる。これらの系には液体（特に水性）系、例え
ば冷却水液、製紙工場液、金属作用性液体、地質調査ド
リル用潤滑液、ポリマー乳化剤およびペンキ、ワニスお
よびラッカーのごとき表面被覆組成物、および木材およ
び皮革のごとき固体系が含まれる。本発明の組成物は抗
菌効果を提供するためにそのような系に含ませることが
できる。組成物の量はそれが添加される系に関して重量
で典型的には０．０００１から１０％まで、好適には
０．００１から５％まで、および特に０．００２から
０．１％までである。多くの場合、重量で０．０００５
％から０．０１％までの組成物で微生物阻害が達成され
ている。
使用できる。これらの系には液体（特に水性）系、例え
ば冷却水液、製紙工場液、金属作用性液体、地質調査ド
リル用潤滑液、ポリマー乳化剤およびペンキ、ワニスお
よびラッカーのごとき表面被覆組成物、および木材およ
び皮革のごとき固体系が含まれる。本発明の組成物は抗
菌効果を提供するためにそのような系に含ませることが
できる。組成物の量はそれが添加される系に関して重量
で典型的には０．０００１から１０％まで、好適には
０．００１から５％まで、および特に０．００２から
０．１％までである。多くの場合、重量で０．０００５
％から０．０１％までの組成物で微生物阻害が達成され
ている。
【００７３】一般式Ｉの化合物は本発明の組成物の唯一
の生物活性化合物であろうし、唯一の抗菌化合物であろ
うが、本組成物はさらに抗菌特性を持つ化合物を含んで
もよい。本組成物は１つ以上の一般式Ｉの化合物を含ん
でいてもよい。もしくは、本発明に使った化合物Ｉの組
成物は１つまたはそれ以上の抗菌化合物と一緒に使用し
てもよい。抗菌化合物の混合物の使用はより広い抗菌ス
ペクトルを持つ組成物を提供でき、それ故それらの個々
の成分より一般的により効果的である。別の抗菌化合物
は抗細菌、抗真菌、抗藻菌または別の抗菌特性を持って
いるものであろう。本発明の化合物Ｉと別の抗菌化合物
の混合物は典型的には化合物Ｉの重量で１から９９％、
および特に重量で４０から６０％（全抗菌活性化合物の
重量に相関して）を含んでいる。
の生物活性化合物であろうし、唯一の抗菌化合物であろ
うが、本組成物はさらに抗菌特性を持つ化合物を含んで
もよい。本組成物は１つ以上の一般式Ｉの化合物を含ん
でいてもよい。もしくは、本発明に使った化合物Ｉの組
成物は１つまたはそれ以上の抗菌化合物と一緒に使用し
てもよい。抗菌化合物の混合物の使用はより広い抗菌ス
ペクトルを持つ組成物を提供でき、それ故それらの個々
の成分より一般的により効果的である。別の抗菌化合物
は抗細菌、抗真菌、抗藻菌または別の抗菌特性を持って
いるものであろう。本発明の化合物Ｉと別の抗菌化合物
の混合物は典型的には化合物Ｉの重量で１から９９％、
および特に重量で４０から６０％（全抗菌活性化合物の
重量に相関して）を含んでいる。
【００７４】化合物Ｉと一緒に使用される既知の抗菌化
合物の例としては、ジエチルドデシルベンジル アンモ
ニウム クロリド；ジメチルオクタデシル−（ジメチル
ベンジル）−アンモニウム クロリド；ジメチルジデシ
ルアンモニウム クロリド；ジメチルジドデシルアンモ
ニウム クロリド；トリメチル−テトラデシルアンモニ
ウム クロリド；ベンジルジメチル（Ｃ12−Ｃ13アルキ
ル）アンモニウム クロリド；ジクロロベンジルジメチ
ルドデシルアンモニウム クロリド；ヘキサデシルピリ
ジニウム クロリド；ヘキサデシルピリジニウム ブロ
ミド；ヘキサデシルトリメチルアンモニウム ブロミ
ド；ドデシルピリジニウム クロリド；ドデシルピリジ
ニウム ビスルフェート；ベンジルドデシル−ビス（ベ
ーターヒドロキシエチル）アンモニウム クロリド；ド
デシルベンジルトリメチルアンモニウム クロリド；ベ
ンジルジメチル（Ｃ12−Ｃ18アルキル）アンモニウム
クロリド；ドデシルジメチルエチルアンモニウム エチ
ルスルフェート；ドデシルジメチル−（１−ナフチルメ
チル）アンモニウム クロリド；ヘキサデシルジメチル
ベンジル アンモニウム クロリド；ドデシルジメチル
ベンジル アンモニウム クロリドおよび１−（３−ク
ロロアリル）−３，５，７−トリアゾ−１−アゾニア−
アダマンタンクロリドのごとき４級アンモニウム化合
物；１，３−ビス（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメ
チルヒダントイン；ビス（ヒドロキシメチル）尿素；テ
トラキス（ヒドロキシメチル）アセチレン＝尿素；１−
（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメチルヒダントイン
およびイミダゾリジニル尿素のごとき尿素誘導体；１，
３−ビス（２−エチル−ヘキシル）−５−メチル−５−
アミノヘキサヒドロピリミジン、ヘキサメチレン テト
ラミン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパ
ン、および２−〔（ヒドロキシメチル）−アミノ〕エタ
ノールのごときアミノ化合物；１−〔２−（２，４−ジ
クロロフェニル）−２−（２−プロペニルオキシ）エチ
ル〕−１Ｈ−イミダゾール；２−（メトキシカルボニル
アミノ）−ベンゾイミダゾールのごときイミダゾール誘
導体；２−ブロモ−２−ブロモメチルグルタロニトリ
ル、２−クロロ−２−クロロメチルグルタロニトリル、
および２，４，５，６−テトラ−クロロシソナフタロジ
ニトリルのごときニトリル化合物；メチレンビスチオシ
アナートのごときチオシアナート誘導体；トリブチルス
ズ−オキシド，クロリド，ナフトアート，ベンゾアート
または２−ヒドロキシベンゾアートのごときスズ化合物
または複合体；４，５−トリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン，２−メチル−４，５−トリメチレン−
４−イソチアゾリン−３−オン，２−メチル−イソチア
ゾリン−３−オン，５−クロロ−２−メチル−イソチア
ゾリン−３−オン，ベンゾイソチアゾリン−３−オンお
よび２−メチル−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのご
ときイソチアゾリン−３−オン；２−チオシアノメチル
チオ）−ベンゾチアゾール，メルカプトベンゾチアゾー
ルのごときチアゾール誘導体；トリス（ヒドロキシメチ
ル）ニトロメタン，５−ブロモ−５−ニトロ−１，３−
ジオキセタンおよび２−ブロモ−２−ニトロプロパン−
１，３−ジオールのごときニトロ化合物；ヨードプロピ
ニル ブチル カーバメートおよびトリ−ヨードアリル
アルコールのごときヨウ素化合物；グルタルアルデヒド
（ペンタンジアール），ｐ−クロロフェニル−３−ヨー
ドプロパルギル ホルムアルデヒドおよびグリオキサー
ルのごときアルデヒドおよび誘導体；クロロアセトアミ
ド，Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）クロロアセトア
ミド，Ｎ−ヒドロキシメチル−クロロアセトアミドおよ
びジチオ−２，２−ビス（ベンズメチルアミド）のごと
きアミド；ポリヘキサメチレン ビグアニドおよび１，
６−ヘキサメチレン−ビス〔５−（４−クロロフェニ
ル）ビグアニド〕のごときグアニジン誘導体；３，５−
ジメチルテトラヒドロ−１，３，５−２Ｈ−チオジアジ
ン−２−チオンのごときチオン；ヘキサヒドロトリアジ
ンおよび１，３，５−トリ−（ヒドロキシエチル）−
１，３，５−ヘキサヒドロトリアジンのごときトリアジ
ン誘導体；オキサゾリジンおよびビス−オキサゾリジン
のごときその誘導体；フランおよび２，５−ジヒドロ−
２，５−ジアルコキシ−２，５−ジアルキルフランのご
ときその誘導体；ソルビン酸およびその塩および４−ヒ
ドロキシ安息香酸およびその塩およびエステルのごとき
カルボン酸およびその塩およびエステル；フェノールお
よび５−クロロ−２−（２，４−ジクロロフェノキシ）
フェノール、チオ−ビス（４−クロロフェノール）およ
び２−フェニルフェノールのごとき誘導体；ジヨードメ
チル−パラトルイルスルホン、２，３，５，６−テトラ
クロロ−４−（メチルスルホニル）ピリジンおよびヘキ
サクロロジメチル スルホンのごときスルホン誘導体が
挙げられる。
合物の例としては、ジエチルドデシルベンジル アンモ
ニウム クロリド；ジメチルオクタデシル−（ジメチル
ベンジル）−アンモニウム クロリド；ジメチルジデシ
ルアンモニウム クロリド；ジメチルジドデシルアンモ
ニウム クロリド；トリメチル−テトラデシルアンモニ
ウム クロリド；ベンジルジメチル（Ｃ12−Ｃ13アルキ
ル）アンモニウム クロリド；ジクロロベンジルジメチ
ルドデシルアンモニウム クロリド；ヘキサデシルピリ
ジニウム クロリド；ヘキサデシルピリジニウム ブロ
ミド；ヘキサデシルトリメチルアンモニウム ブロミ
ド；ドデシルピリジニウム クロリド；ドデシルピリジ
ニウム ビスルフェート；ベンジルドデシル−ビス（ベ
ーターヒドロキシエチル）アンモニウム クロリド；ド
デシルベンジルトリメチルアンモニウム クロリド；ベ
ンジルジメチル（Ｃ12−Ｃ18アルキル）アンモニウム
クロリド；ドデシルジメチルエチルアンモニウム エチ
ルスルフェート；ドデシルジメチル−（１−ナフチルメ
チル）アンモニウム クロリド；ヘキサデシルジメチル
ベンジル アンモニウム クロリド；ドデシルジメチル
ベンジル アンモニウム クロリドおよび１−（３−ク
ロロアリル）−３，５，７−トリアゾ−１−アゾニア−
アダマンタンクロリドのごとき４級アンモニウム化合
物；１，３−ビス（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメ
チルヒダントイン；ビス（ヒドロキシメチル）尿素；テ
トラキス（ヒドロキシメチル）アセチレン＝尿素；１−
（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメチルヒダントイン
およびイミダゾリジニル尿素のごとき尿素誘導体；１，
３−ビス（２−エチル−ヘキシル）−５−メチル−５−
アミノヘキサヒドロピリミジン、ヘキサメチレン テト
ラミン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパ
ン、および２−〔（ヒドロキシメチル）−アミノ〕エタ
ノールのごときアミノ化合物；１−〔２−（２，４−ジ
クロロフェニル）−２−（２−プロペニルオキシ）エチ
ル〕−１Ｈ−イミダゾール；２−（メトキシカルボニル
アミノ）−ベンゾイミダゾールのごときイミダゾール誘
導体；２−ブロモ−２−ブロモメチルグルタロニトリ
ル、２−クロロ−２−クロロメチルグルタロニトリル、
および２，４，５，６−テトラ−クロロシソナフタロジ
ニトリルのごときニトリル化合物；メチレンビスチオシ
アナートのごときチオシアナート誘導体；トリブチルス
ズ−オキシド，クロリド，ナフトアート，ベンゾアート
または２−ヒドロキシベンゾアートのごときスズ化合物
または複合体；４，５−トリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン，２−メチル−４，５−トリメチレン−
４−イソチアゾリン−３−オン，２−メチル−イソチア
ゾリン−３−オン，５−クロロ−２−メチル−イソチア
ゾリン−３−オン，ベンゾイソチアゾリン−３−オンお
よび２−メチル−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのご
ときイソチアゾリン−３−オン；２−チオシアノメチル
チオ）−ベンゾチアゾール，メルカプトベンゾチアゾー
ルのごときチアゾール誘導体；トリス（ヒドロキシメチ
ル）ニトロメタン，５−ブロモ−５−ニトロ−１，３−
ジオキセタンおよび２−ブロモ−２−ニトロプロパン−
１，３−ジオールのごときニトロ化合物；ヨードプロピ
ニル ブチル カーバメートおよびトリ−ヨードアリル
アルコールのごときヨウ素化合物；グルタルアルデヒド
（ペンタンジアール），ｐ−クロロフェニル−３−ヨー
ドプロパルギル ホルムアルデヒドおよびグリオキサー
ルのごときアルデヒドおよび誘導体；クロロアセトアミ
ド，Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）クロロアセトア
ミド，Ｎ−ヒドロキシメチル−クロロアセトアミドおよ
びジチオ−２，２−ビス（ベンズメチルアミド）のごと
きアミド；ポリヘキサメチレン ビグアニドおよび１，
６−ヘキサメチレン−ビス〔５−（４−クロロフェニ
ル）ビグアニド〕のごときグアニジン誘導体；３，５−
ジメチルテトラヒドロ−１，３，５−２Ｈ−チオジアジ
ン−２−チオンのごときチオン；ヘキサヒドロトリアジ
ンおよび１，３，５−トリ−（ヒドロキシエチル）−
１，３，５−ヘキサヒドロトリアジンのごときトリアジ
ン誘導体；オキサゾリジンおよびビス−オキサゾリジン
のごときその誘導体；フランおよび２，５−ジヒドロ−
２，５−ジアルコキシ−２，５−ジアルキルフランのご
ときその誘導体；ソルビン酸およびその塩および４−ヒ
ドロキシ安息香酸およびその塩およびエステルのごとき
カルボン酸およびその塩およびエステル；フェノールお
よび５−クロロ−２−（２，４−ジクロロフェノキシ）
フェノール、チオ−ビス（４−クロロフェノール）およ
び２−フェニルフェノールのごとき誘導体；ジヨードメ
チル−パラトルイルスルホン、２，３，５，６−テトラ
クロロ−４−（メチルスルホニル）ピリジンおよびヘキ
サクロロジメチル スルホンのごときスルホン誘導体が
挙げられる。
【００７５】本発明のさらなる態様は以下の例示的実施
例に記載されており、そこでは変更が述べられていない
限り、すべての量は重量による割合で与えられている。
例に記載されており、そこでは変更が述べられていない
限り、すべての量は重量による割合で与えられている。
【００７６】以下の実施例において本発明に従った化合
物は、以下に詳述するごとく無菌条件下抗菌性の評価が
なされた：微生物試験において、化合物の細菌、真菌お
よび酵母に対する抗菌活性が試験された。大腸菌、緑膿
菌、黄色ブドウ球菌および枯草菌の１つまたはそれ以上
の細菌が使用された。アスペルギルスニガ（Ａｓｐｅｒ
ｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）、カンジダ アルビカンス
（Ｃａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ）、オーレオバシ
ジウム プルランス（Ａｕｒｅｏｂａｓｉｄｉｕｍ ｐ
ｕｌｌｕｌａｎｓ）、グリオクラジウム ローゼウム
（Ｇｌｉｏｃｌａｄｉｕｍ ｒｏｓｅｕｍ）およびペニ
シリウム ピノフィルム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｐ
ｉｎｏｐｈｉｌｕｍ）の１つまたはそれ以上の真菌／酵
母が使用された。これらの試験微生物は以後各々ＥＣ、
ＰＡ、ＳＡ、ＢＳ、ＡＮ、ＣＡ、ＡＰ、ＧＲおよびＰＰ
のごとく表わされるであろう。
物は、以下に詳述するごとく無菌条件下抗菌性の評価が
なされた：微生物試験において、化合物の細菌、真菌お
よび酵母に対する抗菌活性が試験された。大腸菌、緑膿
菌、黄色ブドウ球菌および枯草菌の１つまたはそれ以上
の細菌が使用された。アスペルギルスニガ（Ａｓｐｅｒ
ｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）、カンジダ アルビカンス
（Ｃａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ）、オーレオバシ
ジウム プルランス（Ａｕｒｅｏｂａｓｉｄｉｕｍ ｐ
ｕｌｌｕｌａｎｓ）、グリオクラジウム ローゼウム
（Ｇｌｉｏｃｌａｄｉｕｍ ｒｏｓｅｕｍ）およびペニ
シリウム ピノフィルム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｐ
ｉｎｏｐｈｉｌｕｍ）の１つまたはそれ以上の真菌／酵
母が使用された。これらの試験微生物は以後各々ＥＣ、
ＰＡ、ＳＡ、ＢＳ、ＡＮ、ＣＡ、ＡＰ、ＧＲおよびＰＰ
のごとく表わされるであろう。
【００７７】微生物静力学評価 試験されるべき物質を適当な溶媒に溶解し、得られた溶
液は所望の生成物濃度を与えるためにさらに同一溶媒で
希釈された。
液は所望の生成物濃度を与えるためにさらに同一溶媒で
希釈された。
【００７８】適当な寒天培地に生成物の所望の濃度を与
えるように生成物溶液を加えた。生成物を含む寒天培地
をペトリ皿プレート内へ注ぎ放置して固めた。
えるように生成物溶液を加えた。生成物を含む寒天培地
をペトリ皿プレート内へ注ぎ放置して固めた。
【００７９】試験微生物は多点接種装置により試験プレ
ート上へ表面接種した。各々の試験プレートに細菌、真
菌および酵母が接種された。プレートは２５℃で４日間
インキュベートした。
ート上へ表面接種した。各々の試験プレートに細菌、真
菌および酵母が接種された。プレートは２５℃で４日間
インキュベートした。
【００８０】インキュベーション期間が終わったら、プ
レートは視覚的に微生物の増殖が評価された。特定の微
生物の増殖を阻害した生成物の濃度が記録された。これ
は最小阻害濃度（Ｍ．Ｉ．Ｃ．）である。
レートは視覚的に微生物の増殖が評価された。特定の微
生物の増殖を阻害した生成物の濃度が記録された。これ
は最小阻害濃度（Ｍ．Ｉ．Ｃ．）である。
【００８１】一般に化合物は細菌に対して２５および１
００ｐｐｍ濃度で、真菌および酵母に対しては５，２５
および１００ｐｐｍ濃度で評価される。
００ｐｐｍ濃度で、真菌および酵母に対しては５，２５
および１００ｐｐｍ濃度で評価される。
【００８２】
【実施例１】 ビス（２−アミノカルボニルシクロペンタ−１−エニ
ル）ジスルフィドの製造 ２−アミノカルボニルシクロペンタノン（２８．２５
部）をメタノール（８８部）に加えアミドがほとんど完
全に溶解するまで攪拌した。外部冷却により温度を３５
℃以下に維持するようにして、硫酸（９８％，１１０
部）を徐々に加える。反応液は次に２０−２５℃に冷却
し、硫化水素ガス洗浄装置を備えた容器に移した。
ル）ジスルフィドの製造 ２−アミノカルボニルシクロペンタノン（２８．２５
部）をメタノール（８８部）に加えアミドがほとんど完
全に溶解するまで攪拌した。外部冷却により温度を３５
℃以下に維持するようにして、硫酸（９８％，１１０
部）を徐々に加える。反応液は次に２０−２５℃に冷却
し、硫化水素ガス洗浄装置を備えた容器に移した。
【００８３】かき混ぜながら、および外部冷却により温
度を２０−２５℃に維持し、約５時間以上かけて硫化水
素（９．３５部）を反応液中へゆっくりぶくぶくと通気
した。
度を２０−２５℃に維持し、約５時間以上かけて硫化水
素（９．３５部）を反応液中へゆっくりぶくぶくと通気
した。
【００８４】反応液はさらに１．５時間攪拌し、次に激
しくかき混ぜながら蒸留水（３８３部）および砕いた氷
（１１０部）の中へ加えた。メチレンクロリド（２９２
部）を次に加え、攪拌を止める前に１０−１５分間かき
混ぜ、放置してメチレンクロリドを分離させ下相を形成
させる。メチレンクロリド層を分離し、水相はメチレン
クロリドで２度洗浄した（２×２９２部）。
しくかき混ぜながら蒸留水（３８３部）および砕いた氷
（１１０部）の中へ加えた。メチレンクロリド（２９２
部）を次に加え、攪拌を止める前に１０−１５分間かき
混ぜ、放置してメチレンクロリドを分離させ下相を形成
させる。メチレンクロリド層を分離し、水相はメチレン
クロリドで２度洗浄した（２×２９２部）。
【００８５】２−アミノカルボニルシクロペンタ−１−
エニル チオールを含むメチレンクロリド相は残存する
硫化水素を脱ガスするために加熱還流（４０℃）した。
反応物は次に２５℃に冷却して、攪拌し外部冷却により
温度を３０℃以下に維持しながら塩化スルフリル（１
４．６３部）を徐々に添加した。
エニル チオールを含むメチレンクロリド相は残存する
硫化水素を脱ガスするために加熱還流（４０℃）した。
反応物は次に２５℃に冷却して、攪拌し外部冷却により
温度を３０℃以下に維持しながら塩化スルフリル（１
４．６３部）を徐々に添加した。
【００８６】塩化スルフリル添加後、反応物はさらに１
５分間攪拌し、分離したジスルフィドを濾取し、メチレ
ンクロリドで洗浄して乾燥させると３０部の“ジスルフ
ィド二塩酸塩”を得る。これは水でスラリー状とし、水
酸化ナトリウム水溶液で中和し、濾過し、水で洗浄して
乾燥させるとビス（２−アミノカルボニルシクロペンタ
−１−エニル）ジスルフィド（２３．８部）を得る。
５分間攪拌し、分離したジスルフィドを濾取し、メチレ
ンクロリドで洗浄して乾燥させると３０部の“ジスルフ
ィド二塩酸塩”を得る。これは水でスラリー状とし、水
酸化ナトリウム水溶液で中和し、濾過し、水で洗浄して
乾燥させるとビス（２−アミノカルボニルシクロペンタ
−１−エニル）ジスルフィド（２３．８部）を得る。
【００８７】微生物静力学評価において、ビス（２−ア
ミノカルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィ
ドは前述のプロトコールに従った５，１０，２５，５０
および１００ｐｐｍで下に示した３つの細菌に対して評
価され、以下の値を与えた。
ミノカルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィ
ドは前述のプロトコールに従った５，１０，２５，５０
および１００ｐｐｍで下に示した３つの細菌に対して評
価され、以下の値を与えた。
【００８８】ＥＣ ２５ｐｐｍ ＰＡ ５０ｐｐｍ ＳＡ １０ｐｐｍ
【実施例２】 ビス（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−１−
エニル）ジスルフィドの製造 ２−メチル−４，５−トリエチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オン（１部）を蒸留水中（２５部）２０−２５
℃で攪拌した。３０分以上かけてハイドロサルファイト
ナトリウム（２×０．２部）を２つに分けて添加した。
ＨＰＬＣ分析は２つの生成物の生成を示した。
エニル）ジスルフィドの製造 ２−メチル−４，５−トリエチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オン（１部）を蒸留水中（２５部）２０−２５
℃で攪拌した。３０分以上かけてハイドロサルファイト
ナトリウム（２×０．２部）を２つに分けて添加した。
ＨＰＬＣ分析は２つの生成物の生成を示した。
【００８９】最初に生成された白色固形物を濾取し、エ
タノール／水から再結晶すると１４７−１５１℃で融解
するジスルフィド（０．４３部）を得た。
タノール／水から再結晶すると１４７−１５１℃で融解
するジスルフィド（０．４３部）を得た。
【００９０】元素分析は以下の結果を与えた： Ｃ14Ｈ20Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ５２．３％Ｃ， ６．５％Ｈ， ８．７％
Ｎ， １９．９％Ｓ 実測値 ５２．３％Ｃ， ６．７％Ｈ， ８．４％
Ｎ， １９．３％Ｓ 重クロロホルム中のプロトンＮＭＲ分析は以下の結果を
与えた： プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：２．０（２Ｈ，−ＣＨ
2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．６８（２Ｈ，−Ｃ−ＣＨ
2 −Ｃ−Ｃ−）；２．９０（２Ｈ，−Ｃ−ＣＨ2 −Ｃ−
Ｓ−）；２．９０（３Ｈ，−Ｎ−ＣＨ3 ）；５．６（１
Ｈ，−ＮＨ−） 微生物静力学評価は以下のＭＩＣ値を与えた： ＥＣ ２５ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ １００ｐｐｍ ＣＡ １００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ １００ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ２５ｐｐｍ ＰＰ １００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
Ｎ， １９．９％Ｓ 実測値 ５２．３％Ｃ， ６．７％Ｈ， ８．４％
Ｎ， １９．３％Ｓ 重クロロホルム中のプロトンＮＭＲ分析は以下の結果を
与えた： プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：２．０（２Ｈ，−ＣＨ
2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．６８（２Ｈ，−Ｃ−ＣＨ
2 −Ｃ−Ｃ−）；２．９０（２Ｈ，−Ｃ−ＣＨ2 −Ｃ−
Ｓ−）；２．９０（３Ｈ，−Ｎ−ＣＨ3 ）；５．６（１
Ｈ，−ＮＨ−） 微生物静力学評価は以下のＭＩＣ値を与えた： ＥＣ ２５ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ １００ｐｐｍ ＣＡ １００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ １００ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ２５ｐｐｍ ＰＰ １００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
【００９１】
【実施例３】混合接種物は以下の微生物を栄養寒天上３
０℃で２４時間培養することにより調製された。
０℃で２４時間培養することにより調製された。
【００９２】フェロモナス ヒドロフィラ（Ａｅｒｏｍ
ｏｎａｓ ｈｙｄｒｏｐｈｉｌａ）（Ｐ．Ｒ．Ａ．８）プロテウス レトゲリ（Ｐｒｏｔｅｕｓ ｒｅｔｔｇｅ
ｒｉ）（ＮＣＩＢ １０８４２）シュードモナス アエルギノサ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａ
ｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）
（ＢＳＩ ｅｘ Ｐ．Ｒ．Ａ．）セラチア マルセスセンス（Ｓｅｒｒａｔｉａ ｍａｒ
ｃｅｓｃｅｎｓ）（ＮＣＩＢ ９５２３）アルカリゲネス ｓｐ ．（Ａｌｃａｌｉｇｅｎｅｓ ｓ
ｐ．）（実験室単離物ＡＣ４）シュードモナス セパセア（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ
ｃｅｐａｃｅａ）（実験室単離物ＡＣ５）シュードモナス プチダ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｐ
ｕｔｉｄａ）（実験室単離物ＡＣ７）
ｏｎａｓ ｈｙｄｒｏｐｈｉｌａ）（Ｐ．Ｒ．Ａ．８）プロテウス レトゲリ（Ｐｒｏｔｅｕｓ ｒｅｔｔｇｅ
ｒｉ）（ＮＣＩＢ １０８４２）シュードモナス アエルギノサ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａ
ｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）
（ＢＳＩ ｅｘ Ｐ．Ｒ．Ａ．）セラチア マルセスセンス（Ｓｅｒｒａｔｉａ ｍａｒ
ｃｅｓｃｅｎｓ）（ＮＣＩＢ ９５２３）アルカリゲネス ｓｐ ．（Ａｌｃａｌｉｇｅｎｅｓ ｓ
ｐ．）（実験室単離物ＡＣ４）シュードモナス セパセア（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ
ｃｅｐａｃｅａ）（実験室単離物ＡＣ５）シュードモナス プチダ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｐ
ｕｔｉｄａ）（実験室単離物ＡＣ７）
【００９３】各々の微生物の懸濁液は約１×１０8 細胞
／ｍｌ（トーマ計算板）の濃度に容積で４分の１の強度
のリンガー液で調製された。混合接種物は等量の各々の
細胞懸濁液を合わせることにより調製された。
／ｍｌ（トーマ計算板）の濃度に容積で４分の１の強度
のリンガー液で調製された。混合接種物は等量の各々の
細胞懸濁液を合わせることにより調製された。
【００９４】実施例１に記載されたごとくして製造され
たビス−（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−
１−エニル）ジスルフィドを重量で０．２％の酵素抽出
物を含む標準アクリル乳化ペンキの一部５０ｇｍに以下
の表に示した重量による濃度で取り込ませた。これらの
試料は３つの別々の場合にわけられ（一週間の間隔
で）、容量で１部の混合接種物と３０℃でインキュベー
トされた。
たビス−（２−メチルアミノカルボニルシクロペンタ−
１−エニル）ジスルフィドを重量で０．２％の酵素抽出
物を含む標準アクリル乳化ペンキの一部５０ｇｍに以下
の表に示した重量による濃度で取り込ませた。これらの
試料は３つの別々の場合にわけられ（一週間の間隔
で）、容量で１部の混合接種物と３０℃でインキュベー
トされた。
【００９５】１，３および７日の接触時間後、各々の試
料の一部を少量とり、栄養寒天プレートの表面を横ぎっ
てすじをつけて接種し、３０℃で２日間インキュベート
した。細菌増殖の存在または不在は視覚的に決定され
た。
料の一部を少量とり、栄養寒天プレートの表面を横ぎっ
てすじをつけて接種し、３０℃で２日間インキュベート
した。細菌増殖の存在または不在は視覚的に決定され
た。
【００９６】結果は下記の表１に示されており、殺菌剤
としてジスルフィドを含まない対照実験が含まれてい
る。
としてジスルフィドを含まない対照実験が含まれてい
る。
【表１】 表１の注 ａ） ０ 増殖なしを意味する（コロニーが見られな
い） １ 痕跡程度の増殖が見られることを意味する ２ 軽微な増殖を意味する（２，３のコロニーが見ら
れる） ３ 中程度の増殖を意味する（分離したコロニーが見
られる、おそらくいくつかが合体して） ４ 密な／コンフルエント増殖を意味する（全体に合
体したコロニーが見られる）
い） １ 痕跡程度の増殖が見られることを意味する ２ 軽微な増殖を意味する（２，３のコロニーが見ら
れる） ３ 中程度の増殖を意味する（分離したコロニーが見
られる、おそらくいくつかが合体して） ４ 密な／コンフルエント増殖を意味する（全体に合
体したコロニーが見られる）
【００９７】
【実施例４】 ４，５−トリメチレン−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、および２−メチル−４，５−トリメチレン−４−イ
ソチアゾリン−３−オンの製造 実施例１に記載されたごとく調製されたビス（２−アミ
ノカルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド
二塩酸塩（１６．１部）を２５−３０℃で攪拌しながら
ギ酸（１０７部）およびメチレンクロリド（１０７部）
に溶解させた。
ン、および２−メチル−４，５−トリメチレン−４−イ
ソチアゾリン−３−オンの製造 実施例１に記載されたごとく調製されたビス（２−アミ
ノカルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド
二塩酸塩（１６．１部）を２５−３０℃で攪拌しながら
ギ酸（１０７部）およびメチレンクロリド（１０７部）
に溶解させた。
【００９８】続いて攪拌しながら、および温度を４０℃
以下に保つように外部から冷却しながら塩化スルフリル
（６．６８部）をすみやかに加えた。反応物は次に２５
−３０℃に冷却し、さらに３０分間攪拌した。
以下に保つように外部から冷却しながら塩化スルフリル
（６．６８部）をすみやかに加えた。反応物は次に２５
−３０℃に冷却し、さらに３０分間攪拌した。
【００９９】メチレンクロリドを３５℃以下で真空蒸留
により除去した。真空度をさらに高め（２０−２５Ｔｏ
ｒｒ）ギ酸（５２ｍｍＨｇ圧で３０℃および８２ｍｍＨ
ｇ圧で４０℃にて沸とうする）の一部を除去する。約
７．２部のギ酸が除去されるまで蒸留を続けた。
により除去した。真空度をさらに高め（２０−２５Ｔｏ
ｒｒ）ギ酸（５２ｍｍＨｇ圧で３０℃および８２ｍｍＨ
ｇ圧で４０℃にて沸とうする）の一部を除去する。約
７．２部のギ酸が除去されるまで蒸留を続けた。
【０１００】反応物を激しく攪拌しながら蒸留水（２０
０部）中へ注いだ。この段階で中和およびメチレンクロ
リドへの抽出により４，５−トリメチレン−４−イソチ
アゾリン−３−オンが回収できた。しかしながらこの場
合、それはそのまま単離されないでＮ−メチル類似体へ
変換された。
０部）中へ注いだ。この段階で中和およびメチレンクロ
リドへの抽出により４，５−トリメチレン−４−イソチ
アゾリン−３−オンが回収できた。しかしながらこの場
合、それはそのまま単離されないでＮ−メチル類似体へ
変換された。
【０１０１】残存するギ酸およびジスルフィド二塩酸塩
出発物質からの塩酸を中和する為、注ぎ入れられた液体
を攪拌しながら水酸化ナトリウム水溶液（１４６部、重
量で３１％）を徐々に添加した。外部冷却により温度は
３０℃以下に維持された。液体のｐＨを約９に合わせる
ためさらに苛性液を加えた後攪拌しながら１から１１／
２時間以上かけてジメチル硫酸（１０．８部）を徐々に
加え、その間更に苛性ソーダ溶液を加えることによりｐ
Ｈを９．０±１．０に維持し、外部冷却により温度を３
０℃以下に維持していた。
出発物質からの塩酸を中和する為、注ぎ入れられた液体
を攪拌しながら水酸化ナトリウム水溶液（１４６部、重
量で３１％）を徐々に添加した。外部冷却により温度は
３０℃以下に維持された。液体のｐＨを約９に合わせる
ためさらに苛性液を加えた後攪拌しながら１から１１／
２時間以上かけてジメチル硫酸（１０．８部）を徐々に
加え、その間更に苛性ソーダ溶液を加えることによりｐ
Ｈを９．０±１．０に維持し、外部冷却により温度を３
０℃以下に維持していた。
【０１０２】ジメチル硫酸添加後、メチレンクロリド
（１００部）を添加し、反応物はさらに３０分間攪拌し
た。かき混ぜを止め、メチレンクロリドは放置して分離
される前に下相を形成させた。水相はさらに追加のメチ
レンクロリド（１００部）で抽出された。
（１００部）を添加し、反応物はさらに３０分間攪拌し
た。かき混ぜを止め、メチレンクロリドは放置して分離
される前に下相を形成させた。水相はさらに追加のメチ
レンクロリド（１００部）で抽出された。
【０１０３】メチレンクロリド液を合併し、蒸発により
溶媒を除去すると２−メチル−４，５−メチレン−４−
イソチアゾリン−３−オンを白色固形物として得た（１
０部）。
溶媒を除去すると２−メチル−４，５−メチレン−４−
イソチアゾリン−３−オンを白色固形物として得た（１
０部）。
【０１０４】
【実施例５】 ビス（２−ブチルアミノカルボニルシクロペンタ−１−
エニル）ジスルフィドの製造 ２−ブチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オン（０．６４部）を蒸留水（２０部）に溶解
し、攪拌しながら２０−２５℃で３０分離して２つに分
けたハイドロサルファイト ナトリウム（２×０．２
部）を添加した。
エニル）ジスルフィドの製造 ２−ブチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾリ
ン−３−オン（０．６４部）を蒸留水（２０部）に溶解
し、攪拌しながら２０−２５℃で３０分離して２つに分
けたハイドロサルファイト ナトリウム（２×０．２
部）を添加した。
【０１０５】直後に白色沈殿が生じるがその後タール状
になっていく。反応生成物は一夜攪拌し、続いてメタノ
ール（２０部）を添加することにより溶解させ、蒸発さ
せてシリカ支持体上に残す。
になっていく。反応生成物は一夜攪拌し、続いてメタノ
ール（２０部）を添加することにより溶解させ、蒸発さ
せてシリカ支持体上に残す。
【０１０６】反応生成物は「フラッシュクロマトグラフ
ィー」により分離した。カラムにつめたシリカ支持体を
最初は石油エーテル（沸点４０から６０℃の間）で溶出
し、続いてメチレンクロリドの含量を増加させた、メチ
レンクロリドは１０％（容量で）づつ増加させ１００％
メチレンクロリドまで増やした。カラムは次にメチレン
クロリドおよびメタノールで溶出し、メタノールは１％
（容量）づつ増加させた。
ィー」により分離した。カラムにつめたシリカ支持体を
最初は石油エーテル（沸点４０から６０℃の間）で溶出
し、続いてメチレンクロリドの含量を増加させた、メチ
レンクロリドは１０％（容量で）づつ増加させ１００％
メチレンクロリドまで増やした。カラムは次にメチレン
クロリドおよびメタノールで溶出し、メタノールは１％
（容量）づつ増加させた。
【０１０７】各々の工程での溶出系の変化は溶出液が容
量で１００部後に実施された。
量で１００部後に実施された。
【０１０８】ジスルフィドは容量で３％メタノールを含
むメチレンクロリドの分画中に溶出された。溶媒を蒸発
させるとジスルフィドを粘着性固形物として得た（０．
２６部）。
むメチレンクロリドの分画中に溶出された。溶媒を蒸発
させるとジスルフィドを粘着性固形物として得た（０．
２６部）。
【０１０９】ジスルフィドの元素分析は以下の結果を得
た： Ｃ20Ｈ32Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ：０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ５９．２％Ｃ， ８．１％Ｈ， ６．９％Ｎ，
１５．８％Ｓ 実測値 ６１．９％Ｃ， ８．５％Ｈ， ５．４％Ｎ，
１３．４％Ｓ
た： Ｃ20Ｈ32Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ：０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ５９．２％Ｃ， ８．１％Ｈ， ６．９％Ｎ，
１５．８％Ｓ 実測値 ６１．９％Ｃ， ８．５％Ｈ， ５．４％Ｎ，
１３．４％Ｓ
【０１１０】重ジメチルフィホキシド中のプロトンＮＭ
Ｒは以下の結果を得た： プロトンＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：０．８５（３Ｈ，ＣＨ3
−Ｃ−）；１．２５（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ3 ）：１．
４０（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；１．９０
（２Ｈ，ｒｉｎｇ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．
６５（４Ｈ，−ＣＨ2 −Ｃ−）；３．１６（２Ｈ，−Ｎ
−ＣＨ2 −Ｃ−）；７．５５（１Ｈ，−ＮＨ−）．
Ｒは以下の結果を得た： プロトンＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：０．８５（３Ｈ，ＣＨ3
−Ｃ−）；１．２５（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ3 ）：１．
４０（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；１．９０
（２Ｈ，ｒｉｎｇ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．
６５（４Ｈ，−ＣＨ2 −Ｃ−）；３．１６（２Ｈ，−Ｎ
−ＣＨ2 −Ｃ−）；７．５５（１Ｈ，−ＮＨ−）．
【０１１１】重ジメチルスルホキシド中の13Ｃ ＮＭＲ
は以下の結果を与えた：−13 Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：１３．６（ＣＨ3 −）；１
９．５（−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２１．６（−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３１．２（−Ｎ−ＣＨ2
−）；３３．２（−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３
７．０（−ＣＨ2−ＣＨ2 −Ｃ−Ｃ−）；３８．２（−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；１３３．６（−ＣＨ2 −
Ｃ−Ｃ−）；１５０．０（−ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；１６
４．５（Ｃ＝Ｏ）
は以下の結果を与えた：−13 Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：１３．６（ＣＨ3 −）；１
９．５（−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２１．６（−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３１．２（−Ｎ−ＣＨ2
−）；３３．２（−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３
７．０（−ＣＨ2−ＣＨ2 −Ｃ−Ｃ−）；３８．２（−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；１３３．６（−ＣＨ2 −
Ｃ−Ｃ−）；１５０．０（−ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；１６
４．５（Ｃ＝Ｏ）
【０１１２】ジスルフィドに対する微生物静力学評価は
以下のＭＩＣ値を与えた。 ＥＣ １００ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＰ ＧＴ１００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
以下のＭＩＣ値を与えた。 ＥＣ １００ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＰ ＧＴ１００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
【０１１３】
【実施例６】 ビス（２−ヘキシルアミノカルボニルシクロペンタ−１
−エニル）ジスルフィドの製造 実施例５の過程をくり返す、ただ２−ブチルイソチアゾ
リン−３−オンの代わりに２−ヘキシル−４，５−トリ
メチレン−４−イソチアゾリン−３−オン（１．５５
部）が使用された。
−エニル）ジスルフィドの製造 実施例５の過程をくり返す、ただ２−ブチルイソチアゾ
リン−３−オンの代わりに２−ヘキシル−４，５−トリ
メチレン−４−イソチアゾリン−３−オン（１．５５
部）が使用された。
【０１１４】反応生成物は再び“フラッシュ クロマト
グラフィー”により分離され、ジスルフィドを粘着性の
固形物として得た（０．４部）。
グラフィー”により分離され、ジスルフィドを粘着性の
固形物として得た（０．４部）。
【０１１５】ジスルフィドに対する元素分析は以下の結
果を与えた： Ｃ24Ｈ40Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 として 計算値：６３．７％Ｃ， ８．８％Ｈ， ６．２％Ｎ，
１４．１％Ｓ 実測値：６３．６％Ｃ， ８．８％Ｈ， ５．１％Ｎ，
１２．４％Ｓ
果を与えた： Ｃ24Ｈ40Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 として 計算値：６３．７％Ｃ， ８．８％Ｈ， ６．２％Ｎ，
１４．１％Ｓ 実測値：６３．６％Ｃ， ８．８％Ｈ， ５．１％Ｎ，
１２．４％Ｓ
【０１１６】ジスルフィドは重ジメチルスルホキシド中
での溶液として以下のＮＭＲスペクトルを与えた。プロ
トンＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：０．８（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ
−）；１．２（８Ｈ，マルチプレット−（ＣＨ2 ）4 −
ＣＨ3 ）；１．４（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ2−ＣＨ2 −
Ｃ）；１．９（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；
２．６（４Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３．１
（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ2 −Ｃ−）；７．６（１Ｈ，−ＮＨ
−）
での溶液として以下のＮＭＲスペクトルを与えた。プロ
トンＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：０．８（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ
−）；１．２（８Ｈ，マルチプレット−（ＣＨ2 ）4 −
ＣＨ3 ）；１．４（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ2−ＣＨ2 −
Ｃ）；１．９（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；
２．６（４Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；３．１
（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ2 −Ｃ−）；７．６（１Ｈ，−ＮＨ
−）
【０１１７】微生物静力学評価は以下のＭＩＣ値を与え
た： ＥＣ ＧＴ１００ｐｐｍ ＡＮ １００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ １００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ ２５ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ １００ｐｐｍ ＰＰ ２５ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
た： ＥＣ ＧＴ１００ｐｐｍ ＡＮ １００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ １００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ ２５ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ １００ｐｐｍ ＰＰ ２５ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
【０１１８】
【実施例７】 ビス（２−オクチルアミノカルボニルシクロペンタ−１
−エニル）ジスルフィドの製造 ２−オクチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン（１．０部）を蒸留水（２５部）中、ハ
イドロサルファイトナトリウム（０．２部）と２０−２
５℃にて一夜攪拌した。高速液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）による分析は、約３３％の出発物質の存在
を示していた。さらに新しいハイドロサルファイトナト
リウム（０．２部）を加え、反応物は２０−２５℃でさ
らに１時間攪拌した。ＨＰＬＣによる分析は反応はまだ
不完全であることを示したので、さらにハイドロサルフ
ァイト（０．２部）を添加し、反応物はさらに２時間攪
拌された。ＨＰＬＣによると反応は完了したように見え
た。
−エニル）ジスルフィドの製造 ２−オクチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾ
リン−３−オン（１．０部）を蒸留水（２５部）中、ハ
イドロサルファイトナトリウム（０．２部）と２０−２
５℃にて一夜攪拌した。高速液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）による分析は、約３３％の出発物質の存在
を示していた。さらに新しいハイドロサルファイトナト
リウム（０．２部）を加え、反応物は２０−２５℃でさ
らに１時間攪拌した。ＨＰＬＣによる分析は反応はまだ
不完全であることを示したので、さらにハイドロサルフ
ァイト（０．２部）を添加し、反応物はさらに２時間攪
拌された。ＨＰＬＣによると反応は完了したように見え
た。
【０１１９】濾過により分離されたジスルフィドを水で
洗浄し、乾燥すると１１６−１１８℃で融解する白色固
形物を与えた（０．４２部）。
洗浄し、乾燥すると１１６−１１８℃で融解する白色固
形物を与えた（０．４２部）。
【０１２０】ジスルフィドの元素分析は以下の結果を与
えた： Ｃ28Ｈ48Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ６５．０％Ｃ， ９．５％Ｈ， ５．４％
Ｎ， １２．４％Ｓ 実測値 ６５．３％Ｃ， ９．５％Ｈ， ５．２％
Ｎ， １２．５％Ｓ
えた： Ｃ28Ｈ48Ｎ2 Ｏ2 Ｓ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして 計算値 ６５．０％Ｃ， ９．５％Ｈ， ５．４％
Ｎ， １２．４％Ｓ 実測値 ６５．３％Ｃ， ９．５％Ｈ， ５．２％
Ｎ， １２．５％Ｓ
【０１２１】重クロロホルム溶液としてのプロトンＮＭ
Ｒは以下の結果を与えた：プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）：０．９（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ−）；１．３（１０
Ｈ，マルチプレット−Ｃ−（ＣＨ2 ）5 −ＣＨ3 ）；
１．５（２Ｈ，−ＮＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−）；２．０
（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．７（２
Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｃ）；２．９（２Ｈ，−Ｃ
Ｈ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；３．３（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ
2 −Ｃ−）；５．５（１Ｈ，ＮＨ−）
Ｒは以下の結果を与えた：プロトンＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）：０．９（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ−）；１．３（１０
Ｈ，マルチプレット−Ｃ−（ＣＨ2 ）5 −ＣＨ3 ）；
１．５（２Ｈ，−ＮＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−）；２．０
（２Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −）；２．７（２
Ｈ，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｃ）；２．９（２Ｈ，−Ｃ
Ｈ2 −ＣＨ2 −Ｃ−Ｓ−）；３．３（２Ｈ，−Ｎ−ＣＨ
2 −Ｃ−）；５．５（１Ｈ，ＮＨ−）
【０１２２】微生物静力学評価は以下のＭＩＣ値を与え
た： ＥＣ ＧＴ１００ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ ２５ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＰ ＧＴ１００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
た： ＥＣ ＧＴ１００ｐｐｍ ＡＮ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＣＡ ＧＴ１００ｐｐｍ ＳＡ ２５ｐｐｍ ＡＰ ２５ｐｐｍ ＢＳ ２５ｐｐｍ ＧＲ ＧＴ１００ｐｐｍ ＰＰ ＧＴ１００ｐｐｍ ＧＴ＝より大きい。
フロントページの続き (72)発明者 エヌ・テイルマン イギリス国エルエル33・０イーテイー，グ イネスド，ランフエアーフエチヤン，ヴア レイ・ロード，（番地なし）フロン・ウエ ン
Claims (13)
- 【請求項１】 一般式Ｉの化合物。 【化１】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって、およびＲ3 お
よびＲ4 は一緒になって、独立して３または４の炭素原
子を持つポリメチレン鎖または１から４の炭素原子を持
つ少くとも１つの低級アルキル基で置換された３または
４の炭素原子を持つポリメチレン鎖を表わし；およびＲ
5 からＲ8 は独立して水素、ヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビルであるか、またはＲ5 およびＲ6 は窒素
原子と一緒になって環を形成し、および／またはＲ7 お
よびＲ8 は窒素原子と一緒になって環を形成する〕 - 【請求項２】 一般式ＩＩを持つ、請求項１の化合物。 【化２】 〔式中、Ｒ5 からＲ8 は前に定義したとおりであり；お
よびｔおよびｖは独立して１または２である〕 - 【請求項３】 Ｒ5 およびＲ7 が同じであり、およびＲ
6 およびＲ8 が同じである、請求項１または請求項２の
化合物。 - 【請求項４】 Ｒ5 およびＲ7 が両方とも水素であり、
およびＲ6 およびＲ8 が両方とも１２までの炭素原子を
含むアルキルである、請求項１から３のいずれか１項に
記載された化合物。 - 【請求項５】 ビス（２−アミノカルボニルシクロペン
タ−１−エニル）ジスルフィド；ビス（２−メチルアミ
ノカルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィ
ド；ビス（２−ブチルアミノカルボニルシクロペンタ−
１−エニル）ジスルフィド；ビス（２−ヘキシルアミノ
カルボニルシクロペンタ−１−エニル）ジスルフィド，
およびビス（２−オクチルアミノカルボニルシクロペン
タ−１−エニル）ジスルフィドから選択される化合物。 - 【請求項６】 一般式ＩＩＩａおよび／またはＩＩＩｂ
のチオール−アミド 【化３】 【化４】 を反応させることにより請求項１から９のいずれか１項
に記載された化合物の製造方法。 - 【請求項７】 担体および一般式Ｉから成る組成物。 【化５】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって、およびＲ3 お
よびＲ4 は一緒になって、独立して３または４の炭素原
子を持つポリメチレン鎖または１から４の炭素原子を持
つ少くとも１つの低級アルキル基で置換された３または
４の炭素原子を持つポリメチレン鎖を表わし；およびＲ
5 からＲ8 は独立して水素、ヒドロカルビルまたは置換
ヒドロカルビルであるか、またはＲ5 およびＲ6 は窒素
原子と一緒になって環を形成し、および／またはＲ7 お
よびＲ8 は窒素原子と一緒になって環を形成する〕 - 【請求項８】 微生物の増殖を阻害するのに十分な量の
請求項１から５のいずれか１項に記載の化合物を含む、
微生物攻撃ができる培地。 - 【請求項９】 重量で培地の０．００１から３０％の化
合物を含む請求項８に記載の培地。 - 【請求項１０】 冷却水システム、製紙工場溶液、金属
作用性流体、地質調査ドリル用潤滑剤、ポリマー乳剤、
ラテックス、ペンキ、ラッカー、ワニス、炭化水素液、
接着剤、化粧品、染料またはインク処方、農業化学処
方、皮革または木材から選択される、請求項８または請
求項９に記載の培地。 - 【請求項１１】 請求項１から５のいずれか１項に記載
の化合物で培地を処理することを含む、培地上または培
地中での微生物の増殖を阻害する方法。 - 【請求項１２】 一般式Ｖの化合物 【化６】 を溶媒中で酸化剤と反応させることによる、一般式ＩＶ
の化合物の製造方法。 【化７】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって３または４の炭
素原子を持つポリメチレン鎖、または１から４の炭素原
子を持つ少くとも１つの低級アルキル基で置換された３
または４の炭素原子を持つポリメチレン鎖を表わし；お
よびＲ6 は水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル
ビルである〕 - 【請求項１３】 一般式ＩＶの化合物 【化８】 を溶媒中で還元剤と反応させることによる、一般式Ｖの
化合物の製造方法。 【化９】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって３または４の炭
素原子を持つポリメチレン鎖、または１から４の炭素原
子を持つ少くとも１つの低級アルキル基で置換された３
または４の炭素原子を持つポリメチレン鎖を表わし；お
よびＲ6 は水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル
ビルである〕
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9020933.9 | 1990-09-26 | ||
| GB909020933A GB9020933D0 (en) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | Compound,preparation and use |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05117229A true JPH05117229A (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=10682773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3318749A Pending JPH05117229A (ja) | 1990-09-26 | 1991-09-26 | 化合物、製造および使用 |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5224980A (ja) |
| EP (1) | EP0478194B1 (ja) |
| JP (1) | JPH05117229A (ja) |
| KR (1) | KR920006307A (ja) |
| AT (1) | ATE120455T1 (ja) |
| AU (1) | AU634662B2 (ja) |
| CA (1) | CA2052075A1 (ja) |
| DE (1) | DE69108499T2 (ja) |
| DK (1) | DK0478194T3 (ja) |
| FI (1) | FI914526A (ja) |
| GB (2) | GB9020933D0 (ja) |
| IE (1) | IE66124B1 (ja) |
| MX (1) | MX9101270A (ja) |
| NO (2) | NO175633C (ja) |
| PT (1) | PT99044B (ja) |
| ZA (1) | ZA917492B (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5302592A (en) * | 1990-08-17 | 1994-04-12 | Rohm And Haas Company | Use of substituted 3-thioacryloyl compounds as antimicrobial agents |
| GB9020924D0 (en) * | 1990-09-26 | 1990-11-07 | Ici Plc | Compound,use and preparation |
| GB9505377D0 (en) * | 1995-03-17 | 1995-05-03 | Zeneca Ltd | Process |
| CN1172666C (zh) | 2000-05-19 | 2004-10-27 | 爱尔康公司 | 用于治疗过敏性疾病的含有苯甲酰胺二硫化物衍生物的组合物 |
| BR0110845A (pt) | 2000-05-19 | 2003-02-11 | Alcon Inc | Derivados de dissulfeto de anilina para o tratamento de doenças alérgicas |
| ATE330938T1 (de) | 2000-05-19 | 2006-07-15 | Alcon Inc | Disulfid-derivate verwendbar zur behandlung von allergischen erkrankungen |
| US6921739B2 (en) * | 2000-12-18 | 2005-07-26 | Aquatic Treatment Systems, Inc. | Anti-microbial and oxidative co-polymer |
| US6576792B2 (en) | 2001-05-04 | 2003-06-10 | Eastman Kodak Company | 2-halo-1-cycloalkenecarboxamides and their preparation |
| US6849664B2 (en) | 2001-10-18 | 2005-02-01 | Chevron U.S.A. Inc. | Process for disposing biocide-containing cooling water |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE295486C (ja) * | ||||
| US2470945A (en) * | 1945-01-26 | 1949-05-24 | Us Rubber Co | Di (orthoacylaminoaryl) disulfide softeners for rubbers |
| US3012039A (en) * | 1958-03-14 | 1961-12-05 | Ici Ltd | 2-p-chlorobenzyl-1, 2-benzisothiazolone |
| CH395094A (de) * | 1960-03-24 | 1965-07-15 | Wander Ag Dr A | Verfahren zur Herstellung von 6-Chlor-benzisothiazolon |
| US3523121A (en) * | 1967-03-09 | 1970-08-04 | Rohm & Haas | Certain 2-carbamoyl-3-isothiazolenes |
| DE1768784A1 (de) * | 1968-06-29 | 1972-02-10 | Merck Anlagen Gmbh | Verfahren zur Herstellung von AEthenderivaten |
| US3914301A (en) * | 1971-05-06 | 1975-10-21 | Rohm & Haas | Acrylamide derivatives of 3-isothiazolones |
| GB1532984A (en) * | 1975-04-10 | 1978-11-22 | Ici Ltd | Method for the control of micro-organisms |
| US4190663A (en) * | 1976-01-24 | 1980-02-26 | Bayer Aktiengesellschaft | Anti-thrombotic 1,2-benzisothiazolin-3-ones |
| US4315031A (en) * | 1977-09-01 | 1982-02-09 | Science Union Et Cie | Thiosubstituted amino acids |
| US4165318A (en) * | 1977-09-06 | 1979-08-21 | Rohm And Haas Company | Formaldehyde stabilized coating compositions |
| DE2821639A1 (de) * | 1978-05-18 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Neue thioenolaether, verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung |
| DE2967337D1 (en) * | 1978-06-16 | 1985-02-07 | Kyowa Hakko Kogyo Kk | Antithrombotic pharmaceutical preparation containing 2,2'-dithiobis benzamide derivatives and new 2,2'-dithiobis benzamide derivatives |
| FR2492376A1 (fr) * | 1980-10-17 | 1982-04-23 | Cird | Polymethylene-4,5 isothiazoline-4 ones-3, leur procede de preparation et leurs utilisation comme agents bactericides et fongicides |
| JPS58198418A (ja) * | 1982-05-14 | 1983-11-18 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | 抗菌剤 |
| DE3411385A1 (de) * | 1984-03-28 | 1985-10-10 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von o,o'-dithiobenzamiden |
| DE3500577A1 (de) * | 1985-01-10 | 1986-07-10 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von 1,2-benzisothiazolonen |
| FR2583046B1 (fr) * | 1985-06-05 | 1987-07-17 | Cird | Alkyl ou aralkyl thio-2 cycloalkene-1 carboxamides-1 et leurs sulfoxydes, leurs procedes de preparation et leur application a la synthese de tri et tetramethylene-4,5 isothiazoline-4, ones-3 |
| GB8517478D0 (en) * | 1985-07-10 | 1985-08-14 | Ici Plc | Isothiazolone solutions |
| FR2631028B1 (fr) * | 1988-05-09 | 1990-07-13 | Cird | Adamantyl-2 isothiazoline-4 ones-3, leur procede de preparation et leur utilisation comme agents bactericides et fongicides |
| IL95157A (en) * | 1989-07-28 | 1996-05-14 | Rohm & Haas | S-Melted Beta-Thioacrylamides, their preparation and use as bactericides |
| GB9020924D0 (en) * | 1990-09-26 | 1990-11-07 | Ici Plc | Compound,use and preparation |
-
1990
- 1990-09-26 GB GB909020933A patent/GB9020933D0/en active Pending
-
1991
- 1991-09-13 DK DK91308403.4T patent/DK0478194T3/da active
- 1991-09-13 EP EP91308403A patent/EP0478194B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-13 DE DE69108499T patent/DE69108499T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-09-13 GB GB919119615A patent/GB9119615D0/en active Pending
- 1991-09-13 AT AT91308403T patent/ATE120455T1/de not_active IP Right Cessation
- 1991-09-18 IE IE328891A patent/IE66124B1/en not_active IP Right Cessation
- 1991-09-19 ZA ZA917492A patent/ZA917492B/xx unknown
- 1991-09-19 AU AU84607/91A patent/AU634662B2/en not_active Ceased
- 1991-09-20 US US07/763,276 patent/US5224980A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-09-23 CA CA002052075A patent/CA2052075A1/en not_active Abandoned
- 1991-09-25 PT PT99044A patent/PT99044B/pt not_active IP Right Cessation
- 1991-09-25 MX MX9101270A patent/MX9101270A/es not_active IP Right Cessation
- 1991-09-25 NO NO913769A patent/NO175633C/no unknown
- 1991-09-26 KR KR1019910016745A patent/KR920006307A/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-09-26 FI FI914526A patent/FI914526A/fi unknown
- 1991-09-26 JP JP3318749A patent/JPH05117229A/ja active Pending
-
1993
- 1993-03-15 US US08/031,712 patent/US5315009A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-01-25 NO NO940265A patent/NO940265D0/no unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK0478194T3 (da) | 1995-08-28 |
| EP0478194A1 (en) | 1992-04-01 |
| NO175633C (no) | 1994-11-09 |
| US5224980A (en) | 1993-07-06 |
| IE913288A1 (en) | 1992-04-08 |
| IE66124B1 (en) | 1995-12-13 |
| DE69108499T2 (de) | 1995-08-03 |
| FI914526A (fi) | 1992-03-27 |
| AU8460791A (en) | 1992-05-14 |
| FI914526A0 (fi) | 1991-09-26 |
| NO940265L (no) | 1992-03-27 |
| GB9119615D0 (en) | 1991-10-23 |
| NO913769D0 (no) | 1991-09-25 |
| PT99044B (pt) | 1999-02-26 |
| KR920006307A (ko) | 1992-04-27 |
| ZA917492B (en) | 1992-08-26 |
| US5315009A (en) | 1994-05-24 |
| PT99044A (pt) | 1992-08-31 |
| NO175633B (ja) | 1994-08-01 |
| DE69108499D1 (de) | 1995-05-04 |
| EP0478194B1 (en) | 1995-03-29 |
| NO913769L (no) | 1992-03-27 |
| GB9020933D0 (en) | 1990-11-07 |
| NO940265D0 (no) | 1994-01-25 |
| AU634662B2 (en) | 1993-02-25 |
| MX9101270A (es) | 1992-07-08 |
| CA2052075A1 (en) | 1992-03-27 |
| ATE120455T1 (de) | 1995-04-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5880188A (en) | Oxaboroles and salts thereof, and their use as biocides | |
| AU4830793A (en) | Oligomeric heterocyclic salts and their use as antimicrobial agents in swimming pools and spas | |
| JPH05117229A (ja) | 化合物、製造および使用 | |
| US5594018A (en) | 2-(B-branched alkyl)-benziosothiazolin-3-ones | |
| US5112871A (en) | Anti-microbial bromo-nitro compounds | |
| US5290810A (en) | Compound, use and preparation | |
| JPS5913516B2 (ja) | 新規２−アミノ−１，３−チアジン類の製造方法 | |
| US5506253A (en) | Composition, process and use | |
| EP0500352A1 (en) | Biocidal compositions containing oxy-phosphorous compounds to enhance solubility | |
| EP0765870B1 (en) | Broad-spectrum antimicrobially active compounds | |
| EP0570427A1 (en) | CARBAMIC ACID DERIVATIVES OF ALKYLTHIOETHANAMINE AND THEIR USE IN BIOCIDAL COMPOSITIONS. | |
| MXPA96006038A (en) | Oxaborols and salts of them, and their use as bioci |