KR920001677A - 격리막 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1a~e도는 종래의 격리막 제조공정도.
제2a~f도는 본 발명에 따른 격리막 제조 공정도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 실리콘기판 2 : 산화막
2a : 함몰산화막 3 : 에피텍셜층
4 : 격리막 5 : 단결정결함
Claims (1)
- IC내 소자간의 격리를 위해 사용되는 격리막 형성부위에 함몰산화막을 형성한후 단결정막인 에피텍셜층을 성장시킴으로서 의도적인 결정결함을 형성하여 불순물을 선택적으로 확산시켜 격리막을 제조하는 것을 특징으로 하는 격리막 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019900008547A KR930005478B1 (ko) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 격리막 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019900008547A KR930005478B1 (ko) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 격리막 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR920001677A true KR920001677A (ko) | 1992-01-30 |
| KR930005478B1 KR930005478B1 (ko) | 1993-06-22 |
Family
ID=19299971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019900008547A KR930005478B1 (ko) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 격리막 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR930005478B1 (ko) |
-
1990
- 1990-06-11 KR KR1019900008547A patent/KR930005478B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930005478B1 (ko) | 1993-06-22 |
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