KR910016073A - 반도체 재료의 건조방법 및 장치 - Google Patents

반도체 재료의 건조방법 및 장치 Download PDF

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KR910016073A
KR910016073A KR1019910002407A KR910002407A KR910016073A KR 910016073 A KR910016073 A KR 910016073A KR 1019910002407 A KR1019910002407 A KR 1019910002407A KR 910002407 A KR910002407 A KR 910002407A KR 910016073 A KR910016073 A KR 910016073A
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KR1019910002407A
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세이이찌로오 아이고오
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세이이찌로오 아이고오
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Abstract

내용 없음

Description

반도체 재료의 건조방법 및 장치.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명에 의한 건조장치의 1실시예를 나타내는 세로단면도. 제2도는 그 일부의 사시도.

Claims (6)

  1. 운반기구에 수용된 반도체 재료를 스핀드라이어본체(1)내의 회전자(11)에, 설치하여 회전시켜서 그 원심력에 의해 반도체 재료에 부착되어 있든 수분을 제거하고, 또한 회전자(11)의 회전에 의해 회전자(11)의 위쪽으로부터 흡인되어서 회전자(11)의 중심구역으로부터 반경방향 바깥쪽으로 흐르는 기류에 의해 반도체 재료를 건조시키는 건조방법에 있어서, 반도체 재료를 회전자(11)에 설치하는 때 및 회전자(11)을 기동시킬 때까지의 사이는 소량의 질소가스를 방출시켜서 회전자(11)의 주변을 질소가스 기류로 하고, 이어서 회전자(11)의 기동시 또는 그 직전으로부터 비교적 다량의 질소가스를 방출하고 또한 회전자(11)의 기동시 또는 그 직진으로 부터 미리 설정된 시간까지는 회전자(11)의 위쪽으로부터의 공기의 유입을 중지시키고, 전기한 설정시간이 경과한 때에는 공기를 유입시키는 것을 특징으로 하는 반도체 재료의 건조방법.
  2. 제1항에 있어서, 다량의 질소가스는 회전자(11)의 기동 또는 그 직진으로 부터 미리 정해진 시간까지 회전자(11)에 방출되는 것을 특징으로 하는 반도체 재료의 건조방법.
  3. 제2항에 있어서, 비교적 다량의 질소가스가 방출되는 전기한 미리 정해진 시간을 공기의 유입이 차단 되어 있는 전기한 설정시간과 동일하며, 또한 회전자(11)이 최고속도에 도달하기 직전까지의 시간인 것을 특징으로 하는 반도체 재료의 건조방법.
  4. 운반기구에 수용된 반도체 재료를 지지하고, 또한 회전구동되는 회전자(11) 및 회전자(11)의 주위 및 하부를 포위하는 케이스(12)로 돈 스핀 드라이어 본체(1)과 전기한 케이스(12)상에 설치되는 여과상자(2)로 이루어지고, 전기한 여과상자(2)는 고리형의 여과자재(21)과 전기한 여과자재(21)의 위에 설치된 천정판(22)와, 전기한 여과자재(21)의 주위에 떨어져서 마련된 주위벽(23a)와 전기한 여과자재(21)의 밑에 마련된 바닥판(23b)로 이루어진 케이스(23)을 포함하고, 회전자(11)의 회전에 의해 공기는 전기한 천정판(22)와 전기한 케이스(23)의 주위벽(23a)와의 사이 및 전기한 여과자재(21)을 통과해서 회전자(11)내에 흡인되도록 되어 있는 건조장치에 있어서, 다시 또 전기한 여과상자(2)는 전기한 천정판(22)및 전기한 케이스(23)의 위쪽에 설치된 뚜껑(25)와 전기한 뚜껑(25)를 상하로 이동시키는 작동장치(28)을 포함하고, 전기한 뚜껑(25)는 외부주위측(25a)는 통기되지 않도록 구성되고, 또한 내부측(25b)는 통기가 가능하게 구성되고, 다시또 전기한 케이스(23)의 주위벽(23a)와 전기한 뚜껑(25)의 외부주위측(25a)와의 사이에 설치된 가요성의 시이트형 밀봉부재(26)과 전기한 뚜껑(25)를 하강시킨 때에 전기한 뚜껑(25)의 외부주위측(25a)의 내부주위부와 전기한 천정판(22)와의 사이를 밀봉하는 밀봉부재(23)과 회전자(11)로 향해서 질소가스를 방출하는 질소가스공급관(29)를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 재료의 건조장치.
  5. 제4항에 있어서, 다시또 전기한 질소가스 및 회전자(11)의 주변을 가열하는 가열기(30)이 구비된 것을 특징으로 하는 반도체 재료의 건조장치.
  6. 제4항에 있어서, 질소가스 공급관(29)의 적절한 위치에는 그 속을 유통하는 질소가스를 가열하는 가열기(31)의 서치되어 있는 것을 특징으로하는 반도체 재료의 건조장치
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910002407A 1990-02-15 1991-02-13 반도체 재료의 건조방법 및 장치 KR910016073A (ko)

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JP2035635A JPH03238819A (ja) 1990-02-15 1990-02-15 半導体材料の乾燥方法および装置

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JPH03238819A (ja) 1991-10-24
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