KR910012819A - 감광성 수지 조성물 및 그의 사용방법 - Google Patents

감광성 수지 조성물 및 그의 사용방법 Download PDF

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KR910012819A
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acrylate
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가쯔에 니시까와
히슈앙 짜이
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원본미기재
더블유, 알. 그레이스 앤드 컴패니-콘
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Abstract

내용 없음.

Description

감광성 수지 조성물 및 그의 사용방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (15)

  1. (a)1개 이상의 카르복시기를 갖는 1이상의 화합물, (b)2개 이상의 에틸렌성 불포화 관능기를 갖는 1이상의 화합물, (c)2개 이상의 에폭시기를 갖는 1 이상의 화합물, (d)잠재적 에폭시 경화제, 및 (e)광중합성 개시제를 포함하는 단일 성분 감광성 수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 화합물(a) 또는 화합물(b)가 1개 이상의 카르복시기 및 2개 이상의 에틸렌성 불포화 관능기를 갖는 화합물인 수지 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 1개 이상의 카르복시기 및 2개 이상의 에틸렌성 불포화 관능기를 갖는 화합물이 포화 또는 불포화 다가산 및 방향족 고리 함유 에폭시 화합물과 카르복시산과의 반응으로 수득된 생성물과의 반응 생성물인 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서, (a)가 아크릴산 및 메타크릴산 및 메타크릴레이트의 공중합체이고; (b)가 노볼락 및 비스페놀 A 에폭시 아크릴레이트의 혼합물이며; 또 (c)가 테트라글리시딜 디아미노디페닐 메탄인 수지 조성물.
  5. 제2항에 있어서. (a) 또는 (b)다 카르복시화 에폭시 아크릴레이트 및 무수 프달산과 2-히드록시에틸 아크릴레이트의 부가 생성물의 혼합물이고 또 (c)가 비스페놀A 에폭시인 수지 조성물.
  6. 제2항에 있어서, (a) 또는 (b)가 카르복시화 에폭시 아클릴레이트의 혼합물 및 무수 프탈산과 히드록시에틸 메타크릴레이트의 부가 생성물이고; 또 (c)가 페놀 노볼락 에폭시인 수지 조성물.
  7. 제1항에 있어서, (a)가 카르복시화 페녹시 수지이고; (b)가 카르복시화 비스페놀 A에폭시 아크릴레이트와 카르복시화 페놀 노볼락 에폭시 아크릴레이트의 혼합물이며; 또 (c)가 페놀 노볼락 에폭시인 수지 조성물.
  8. (i) (a) 1개 이상의 카르복시기를 갖는 1 이상의 화합물, (b) 2개 이상의 에틸렌성 불포화 관능기를 갖는 1이상의 화합물, (c)2개 이상의 에폭시기를 갖는 1 이상의 화합물, (d)잠재적 에폭시 경화제, 및 (e)광중합성 개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물을 회로판 기판에 도포하고 (ii) (i)에서 피복된 기판을 상을 형성하는 방향으로 화학선에 노출시키고, (iii) (ii)에서 비노출 피복 영역을 수성 용액으로 현상시켜 피복이 내식막 패턴을 형성하게 하고, 또 (iv) 경우에 따라 가열하거나 또는 화학선에 노출시켜, (ii)에서의 내식막 패턴을 경화시키는 것을 포함하는 회로판을 제조하기에 적합한 내식막 패턴을 제조하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 화합물 (a) 또는 (b)가 1개 이상의 카르복시기 및 2개 이상의 에틸렌성 불포화 기를 갖는 화합물인 방법.
  10. 제9항에 있어서, 1개 이상의 카르복시기 및 2개 이상의 에틸렌성 불포화 관능기를 갖는 화합물이 포화 또는 불포화 다가산 및 방향족 고리 함유 에폭시 화합물과 불포화 카르복시산과의 반응으로 수득된 생성물과의 반응 생성물인 방법.
  11. 제8항에 있어서, (a)가 아크릴산 및 메타크릴산 및 메타크릴레이트의 공중합체이고; (b)가 노볼락 및 비스페놀 A에폭시 아크릴레이트의 혼합물이며; 또 (c)가 테트라글리시딜 디아미노디페닐 메탄인 방법.
  12. 제9항에 있어서, (a) 또는 (b) 가 카르복시화 에폭시 아크레이트 및 무수 프탈산과 2-히드록시에틸 아크릴레이트의 부가 생성물의 혼합물이고 또 (c)가 비스페놀 A에폭시인 방법.
  13. 제9항에 있어서, (a) 또는 (b)가 카르복시화 에폭시 아크릴레이트의 혼합물 및 무수프탈산과 히드록시에틸 메타크릴레이트의 부가 생성물이고; 또 (c)가 페놀 노볼락 에폭시인 방법.
  14. 제8항에 있어서, (a)가 카르복시화 페녹시 수지이고: (b)가 카르복시화 비스페놀 A에폭시 아크릴레이트와 카르복시화 페놀 노볼락 에폭시 아크릴레이트의 혼합물이며; 또 (c)가 페놀 노볼락 에폭시인 방법.
  15. 제8항에 있어서 내식막이 땜납 마스크로서 적용되는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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