KR910012342A - 내식성에 뛰어난 구리-니켈-크롬광택전기 도금방법 및 그에 따라 얻은 도금피막 - Google Patents

내식성에 뛰어난 구리-니켈-크롬광택전기 도금방법 및 그에 따라 얻은 도금피막 Download PDF

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모찌즈끼 히로오
간또오 가세이 고오교오 가부시기가이샤
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals

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Abstract

내용 없음

Description

내식성에 뛰어난 구리-니켈-크롬광택전기 도금방법 및 그에 따라 얻은 도금피막
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 피막에 있어서의 부식기구를 나타낸 설명도.

Claims (2)

  1. 구리-니켈-크롬 전기도금방법 그렇지 않으면 니켈-크롬 전기도금방법에 있어서 니켈도금한 다음 와특욕형의 니켈도금배드에 입자 크기 0.1-10m인 칼슘염 0.5-20g/1과 입자크기 0.1-4m인 산화티타늄 0.5-10g/1을 참가한 배드를 사용하여 0.2-2m의 공석도금을 한 다음, 크롬도금을 0.01-0.25m도금함에 따라 크롬도금표면에 20000-500000 구멍/㎠ 의 미소구멍을 형성하는 것을 특징으로 하는 내식성에 뛰어난 구리-니켈-크롬광택전기 도금방법.
  2. 구리-니켈-크롬전기도금 혹은 니켈-크롬도금에 있어서, 기초재료 위에 형성된 구리 및 니켈도금층 그렇지 않으면 기초재료 위 직접형성된 니켈도금층과 와트배드형의 니켈도금배드에 칼슘염과 산화티타늄을 첨가하여 전술한 니켈도금층위에 공석된 0.2-2m 두께의 미세입자층과 나아가서 그 위에 0.01-0.25m 두께의 크롬도금을 지니고 크롬도금표면에 20000-500000 구멍/㎠ 의 미소구멍을 지닌 것을 특징으로 하는 내식성에 뛰어난 구리-니켈 크롬광택전기도금피막.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890018063A 1989-12-07 1989-12-07 내식성이 우수한 구리-니켈-크롬 광택 전기 도금 방법 및 이 방법으로 얻은 도금 피막 KR920002417B1 (ko)

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KR100407732B1 (ko) * 1994-01-21 2004-03-25 올린 코포레이션 결절상구리/니켈합금피막을포함하는복합호일,이를포함하는인쇄회로기판및결절상구리/니켈합금피막의전착방법

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