KR910011870A - 헤테로사이클릭 유기금속 화합물 - Google Patents

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KR910011870A
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carbon atoms
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KR1019900020323A
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Inventor
폴 루드비히
호스탈렉 마르틴
로카이 마티아스
Original Assignee
호이만. 슈틀러
메르크 파텐트 게젤샤프트 미트 베쉬랭크터 하프퉁
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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/301—AIII BV compounds, where A is Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
    • C07F5/06—Aluminium compounds
    • C07F5/061—Aluminium compounds with C-aluminium linkage
    • C07F5/066—Aluminium compounds with C-aluminium linkage compounds with Al linked to an element other than Al, C, H or halogen (this includes Al-cyanide linkage)

Abstract

내용 없음

Description

헤테로사이클릭 유기금속 화합물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (7)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 헤테로사이클릭 유기금속 화합물 :
    상기식에서, M은 알루니늄, 갈륨 또는 인듐이고, Y 및 Y'는 각각 질소, 인 또는 비소이고, n은 각 경우에 2,3 또는 4이며, m은 0 또는 1이고, o은 0 또는 1이며, m+o는 1이고, 1은 1또는 2이고, A는 1이 1인 경우에는 Y'와 M간의 공유결합이거나, 또는 1이 2인 경우에는 Y'와 M 사이에 공여체-수용체 상호작용이며, k는 0,1 또는 2이나, 단, 1이 1이고 o가 1인 경우에 k는 0이고, 1이 2이고 o가 1인 경우에 k는 1이며, 1이 1이고, o가 0인 경우에 k는 1이고, 1이 2이고, o가 0인 경우에 k는 2이고, X는 R3, -(CHR5)p-Z (여기에서, p는 1,2,3,4 또는 5이고, Z가 F 또는 퍼플루오로알킬, O-(CH2)5-C6H4-(CH2)5-Z, 1,2-(CH2)-C6H10-(CH2)s-Z, 1,2-(CH2)5-C6H8-(CH2)s-Z, 1,2-(CH2)5-C6H6-(CH2)s-Z, 1,2-(CH2)5-C5H8-(CH2)s-Z, 1,2-(CH2)5-C5H6-(CH2)s-Z, 1,2-(CH2)5-C5H4-(CH2)s-Z 또는 1,2-(CH2)5-C4H6-(CH2)s-Z인 경우에는 p가 또한 0일 수 있다)이며, Z는 -NR1R2, -PR1R2-AsR1R2, -F 또는 7개이하의 탄소원자를 갖는 퍼플루오로알킬이고, r 및 s는 서로 독립적으로 각각 0,1,2 또는 3이고, R1,R2,R3및 R4는 서로 독립적으로 각각 H, 8개 이하의 탄소원자를 갖는 알킬 또는 알케닐 그룹(이들 그룹은 부분적으로 또는 완전히 플루오로화 될 수 있다), 3 내지 8개의 탄소원자를 갖는 사이클로알킬 또는 사이클로알케닐 그룹 또는 아릴 그룹이며, R5는 각 경우에 H 또는 4개이하의 탄소원자를 가지며, 또한 부분적으로 또는 완전히 플루오로화될 수 있난 알킬 그룹이며, 단, M이 알루미늄이고, 1이 1이며, X가 R3인 경우에는 R3은 메틸, 3 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알킬 또는 알케닐 그룹(이들 그룹은 부분적으로 또는 완전히 플루오르화될 수 있다), 3 내지 8개의 탄소원자를 갖는 사클로알킬 또는 사이클로알케닐 그룹 또는 아릴 그룹이다.
  2. 기재상의 층을 기체상 증착시키기 위한 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)의 화합물의 용도.
  3. 여피택셜 층의 증착을 위한 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)의 화합물의 용도.
  4. 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)의 화합물에 유기 금속 화합물로서 사용함을 특징을 하는, 유기금속 화합물로 기체상 증착에 의해 기재상에 얇은 필름을 제조하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 증착 공정시 전기, 유전, 전자, 광학 및 광전 시스템의 제조를 위해, 사용되는 반응 조건하에서 기체인 비소, 안티몬 또는 인 화합물 하나 이상을 공급함을 특징으로 하는 방법.
  6. 제4항에 있어서, 증착 공정시에, 일반식(Ⅰ)의 유기금속 화합물외에 도판트를 첨가함을 특징으로 하는 방법.
  7. 제4항에 있어서, 다른 유기금속 화합물의 증착공정시에 도판트로서 제1항에 따른는 일반식(Ⅰ)의 화합물을 첨가함을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900020323A 1989-12-12 1990-12-11 헤테로사이클릭 유기금속 화합물 KR910011870A (ko)

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DEP3941005.6 1989-12-12
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DE4009394A1 (de) 1991-06-13
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