KR910006197B1 - 용매 현상 가능한 감광성 내식막용 수성 현상제 조성물 - Google Patents

용매 현상 가능한 감광성 내식막용 수성 현상제 조성물 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

용매 현상 가능한 감광성 내식막용 수성 현상제 조성물
본 발명은 감광성 내식물용 현상제 조성물에 관한 것으로, 특히, 통상 유기 용매만으로 현상할 수 있는 비노출된 광중합성 막을 현상하기 위한 수성 전개제 조성물에 관한 것이다.
프린트 회로판 제조에서 감광성 내식막으로 특히 유용한 감광성 조성물은 본 분야에 공지되어 있다. 일반적으로, 이들 감광성 내식막은 건성 또는 액체의 광학상이 가능한 땜납 마스크로서 언급되어 있다. 감광성 내식막과 같은 조작에서, 땜납 마스크는 노출 공정 전 또는 후에 활성 방사선에 노출하므로서 상이 만들어진다. 광-감응층의 비노출 부분은 중합물의 내식막 상을 형성하는 현상 단계에서 씻겨 없어진다.
이러한 기술에 대한 서술은 미국특허 : 제2,760,863호; 제3,469,982호; 제4,499,163호에 소개되어 있고, 다른 미국특허는 제3,642,644호; 제4,199,482호; 제4,256,611호; 제4,366,152호; 제4,362,638호; 제4,414,128호; 제4,438,009호와 제4,511,488호가 있다.
유기 용매로 현상할 수 있는 감광성 내식막은 ＂용매 현상성＂ 감광성 내식막을 뜻한다. 이와 같은 감광성 내식막에 대하여는, 피막을 현상하는 1, 1, 1-트리클로로에틸렌과 같은 유기 용매를 사용하는 것이 필요하다. 그러나 이러한 휘발성 용매는 작업장에서 위험을 나타낸다.
따라서, 유기 용매만으로 통상 현상할 수 있는 감광성 물질을 현상하거나 벗겨낼 수 있는 수성 현상제 조성물을 제공하는 것이 유익하다.
계면 활성제를 함유하는 테르펜-주재 수성 클리닝 또는 세탁 정제-얼룩 빼기 조성물은 본 분야에 공지되어 있다. 예를 들면, 미국특허 : 제4,336,152호; 제4,362,638호; 제4,414,128호; 제4,438,009호; 와 제4,511,488호가 있다. 그러나 이러한 조성물은 대량의 d-리모엔과 같은 테르펜과 소량의 물을 일정하게 포함하고, 탄화수소 용매 또는 극성 유기 용매, 용해제, 결합제와 기타 첨가제를 함유하여 방치할때 분리되지 않는 투명, 안정, 수성의 클리닝 용액을 제공한다.
그러므로, 본 발명의 다른 목적은 용매 현상할 수 있는 감광성 내식막을 현상하기 위하여 사용하는데 특히 효과적인 d-리모넨을 주재로 한 수성 현상제 조성물을 공급하는데 있다.
본 발명의 다른 목적과 특징은 다음에 요약하여 설명할 것이다.
본 발명은 용매 현상할 수 있는 감광성 내식물을 현상할 수 있고 일정 비율의 계면 활성제, 테르펜과 물로 이루어진 수성 현상제 조성물을 제공한다. 본 발명의 적합한 형태로는 조성물이 약 0.5-10중량%의 계면 활성제, 약 0.2-10중량%의 테르펜, 잔량의 물을 함유하는 것이다. 가장 바람직하기로는, 조성물이 약 3-6중량%의 계면 활성제 약 4-8중량%의 테르펜, 잔량의 물로 이루어지는 것이다. 바람직하기로는, 계면활성제가 비이온성 계면 활성제 또는 이의 혼합물이고, 테르펜은 d-리모넨이 바람직하다.
또한 수성 현상제 조성물을 통상 농축물의 약 5-10배의 양으로 물로 희석할 수 있는 농축 조성물로 공급한다.
본 발명에 따라서, 현상제 조성물의 계면 활성제 성분으로 이온성, 비이온성의 양쪽성 계면 활성제가 있다. 비이온성 계면 활성제가 바람직하다. 따라서, 본 발명에서는 특히 비이온성 계면 활성제의 용도에 관하여 후술 할 것이다.
대표적인 비이온성 계면 활성제는 다음과 같다.
Figure kpo00001
조성물에서 임의적 성분은 기포 방지제 3056A(윗코); 란코 VP 330(지.엠.랭거); 포아마스터 NS-1(헨켈); 또는 기포 방지제 L(지.엠.랭거)가 있다.
적합한 테르펜은 일- 및 이환식 모노테르펜이 있고, 특히 테르피넨, 테르피놀렌, 리모넨과 피넨에서 선택한 탄화수소류의 것이 있다. 디펜텔, 피넨, -피넨 등으로도 잘 사용할 수 있으나 바람직한 테르펜은 d-리모넨(PDM, Inc.)이다.
감광성 내식막을 형상하는데 적합한 수성 현상제 조성물을 제조하기 위한 농축 조성물은 다음과 같다.
[실시예 1]
PBW
(A) 트리톤 DF-16 45
(B) 이게팔 CA 630 8
(C) d-리모넨 42
(D) 란코 VP 330 5
[실시예 2]
PBW
(A) 트리톤 DF-12 40
(B) 트리톤 N-11 10
(C) d-리모넨 47
(D) 란코 VP 330 3
[실시예 3]
PBW
(A) 트리톤 DF-16 42
(B) 술포닉 N-120 8
(C) d-리모넨 45
(D) 포아마스터 NS-1 5
[실시예 4]
PBW
(A) 트리톤 DF-16 40
(B) 이게팔 CA 720 15
(C) d-리모넨 40
(D) 기포방지제 L 5
[실시예 5]
PBW
(A) 트리톤 DF-12 40
(B) 트리톤 X-100 7
(C) d-리모넨 50
(D) 기포방지제 3
[실시예 6]
PBW
(A) 트리톤 X-102 10
(B) DT-16 40
(C) d-리모넨 45
(D) 기포방지제 3056A 5
[실시예 7]
PBW
(A) 트리톤 DF-20 45
(B) 트리톤 N-101 10
(C) d-리모넨 40
(D) 란코 VP 330 5
[실시예 8]
PBW
(A) 렉소닉 1012-6 50
(B) 트리톤 X-114 5
(C) d-리모넨 40
(D) 기포방지네 L 5
[실시예 9]
PBW
(A) 네오돌 27-7 50
(B) 트리톤 X-102 5
(C) d-리모넨 40
(D) 포아마스터 NS-1 5
[실시예 10]
PBW
(A) 네오돌 27-9 30
(B) 이게팔 CA-620 10
(C) d-리모넨 55
(D) 란코 VP 330 5
[실시예 11]
PBW
(A) 네오돌 45-13 45
(B) 트리톤 N-111 10
(C) d-리모넨 40
(D) 기포방지제 L 5
[실시예 12]
PBW
(A) 플루로팍 B-25 40
(B) 이게팔 CO 610 7
(C) d-리모넨 50
(D) 포아마스터 NS-1 3
[실시예 13]
PBW
(A) 플루라팍 B-25-5 45
(B) 이게팔 DM 710 8
(C) d-리모넨 42
(D) 란코 VP-330 5
[실시예 14]
PBW
(A) 네오돌 45-7 40
(B) 트리톤 N-111 15
(C) d-리모넨 40
(D) 기포방지제 L 5
[실시예 15]
PBW
(A) 플루라팍 C-17 40
(B) 술포닉 N-95 10
(C) d-리모넨 7
(D) 기포방지제 3056A 3
[실시예 16]
PBW
(A) 트리톤 DF-12 32
(B) 술포닉 N-102 8
(C) d-리모넨 55
(D) 기포방지제 L 5
[실시예 17]
PBW
(A) 트리톤 DF-16 40
(B) 폴리-테르겐트 B-300 10
(C) d-리모넨 45
(D) 포아마스터 NS-1 5
[실시예 18]
PBW
(A) 네오돌 25-12 42
(B) 술포닉 N-100 8
(C) d-리모넨 45
(D) 란코 VP-330 5
[실시예 19]
PBW
(A) 네오돌 45-7 45
(B) 이게팔 CO-620 10
(C) d-리모넨 40
(D) 포아마스터 NS-1 5
[실시예 20]
PBW
(A) 트리톤 DF-20 40
(B) 트리톤 X-114 10
(C) d-리모넨 45
(D) 기포방지제 3056A 5
농축물은 땜납 마스크에 사용하기 전에, 약 5 내지 10배의 원하는 농도로 물로 희석할 수 있다. 따라서, 물로 희석한 적합한 사용 조성물은 약 0.5-10중량%의 계면 활성제와 약 0.2-10중량%의 테르펜, 잔량의 물을 갖는 것이 바람직하다. 바람직한 사용 조성물은 약 3-6중량%의 계면 활성제와 4-8중량%의 테르펜, 잔량의 물을 갖는다. 소포제는 약 0.1-1중량%의 조성물의 양으로, 바람직하기로는 약 0.3-0.5중량%의 양으로 사용 조성물에 포함된다.
바람직한 농축물은 30-50중량%의 에톡실화 직쇄 알코올, 5-15중량%의 알킬 펜옥시 폴리에톡시 에탄올, 45-55중량%의 d-리모넨과 0.3-0.5중량%의 소포제를 가지며, 이때 물론 10배 희석하여 사용 조성물을 공급한다.
통상, 농축물은 점성 투명 액체이고 현상제 조성물은 우유색의 유탁액이다. 본 발명에서 투명 용액은 필요없으며 그러므로, 결합체 등은 농축물 또는 희석 조성물에 포함될 필요가 없다.
[땜납 마스크 피막의 현상]
통상 유기 용매만으로 현상할 수 있는 대표적인 아크릴산 우레탄 땜납 마스크는 다음과 같은 조성을 갖는다.
Figure kpo00002
동-클래드 에폭시 섬유 유리의 프린트 회로판을 세정하여 부식물과 이물질을 제거하고 약 3밀리 두께로 상기 조성을 갖는 광-상이 가능한 땜납 마스크로 스크린 프린트하여 피복한다. 다음, 실시예 2의 미국특허 제4,506,004호에 서술된 방법에 따라 광기구로 다른 3밀리 두께의 피막을 더 만든다. 두 피막을 결합시켜서 6밀리 두께의 복합 피막을 형성시키고, 약간의 충격을 가하고, 30초동안 cm2당 0.5주울로 노출시킨다. 실시예 1-20의 이온성 현상제 농축물을 10배의 물로 희석시켜 제조한 조성물을 사용하여 판상의 비노출 부분을 컨베이어 유니트에서 수성 현상시킨다. 현상제의 온도는 90-100℉이고 분무 압력은 15psi이다. 컨베이어 속도는 1밀리/분의 현상 속도에 고정시킨다. 수성 현상이 종료된 후, 박막, 땜납 마스크 표면, 금속 패드 또는 현미경 검사로 관찰된 판상의 소공 상에 잔유물이 없었다. 또한 피막상에 현상제 부식은 없었다. 금속 표면의 청결도는 담금 주석 시험에 의하여 측정한다. 모든 패드는 담금 시험에서 30＂아래로 침적된 주석을 갖는다.

Claims (8)

  1. a) 0.5-10중량%의 계면 활성제, b) 0.2-10중량%의 테르펜, c) 잔량의 물로 이루어짐을 특징으로 하는 땜납 마스크 피막 현상용 현상제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, a) 3-6중량%의 계면 활성제, b) 4-8중량%의 테르펜, c) 잔량의 물로 이루어짐을 특징으로 하는 땜납 마스크용 현상제 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 유탁액의 형태임을 특징으로 하는 땜납 마스크용 현상제 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 테르펜이 d-리모넨임을 특징으로 하는 땜납 마스크용 현상제 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 소포제를 더 함유함을 특징을 하는 땜납 마스크용 현상제 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 계면 활성제가 비이온성 계면 활성제 또는 이의 혼합물임을 특징으로 하는 땜납 마스크용 현상제 조성물.
  7. a) 35-65중량부의 계면 활성제, b) 40-55중량부의 테르펜으로 이루어짐을 특징으로 하는 땜납 마스크용 현상제 농축 조성물.
  8. 제1항의 현상제 조성물로 피막을 형성시킴을 특징으로 하는 유기 용매만으로 현상할 수 있는 비노출 땜납 마스크를 현상하는 방법.
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