JPH0285861A - ソルダマスク被膜現像用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はフォトレジスト材料用現像液組成物、さらに
詳細には、通常は有機溶媒でのみ現像可能な未露光の光
重合性被膜を現像するための水性現像液組成物に関する
。

プリント回路板を製造する際にフォトレジストとして特
に有用な感光性組成物がこの技術分野においてよく知ら
れている。一般にこれらのフォトレジストは乾式又は、
湿式光画像形成性ソルダマスク（ｓｏｌｄｅｒ　ｍａｓ
ｋｓ）と呼ばれている。フォトレジスト層として使用す
る場合、その露光前又は露光後にソルダマスクを活性光
線により画像露光させる。次に感光層の未露光部分を現
像工程で洗い流し、重合体物質のレジスト像を形成する
。

この技術の現状は米国特許第２７６０８６３号、第３４
６９９８２号、第４７１６０９３号、及び第４４９９１
６３号に記載され、関連技術が他の米国特許第３６４２
６４４号、第４１９９４８２号、第４２５６６１１号、
第４３３６１５２号、第４３６２６３８号、第４４１４
１２８号、第４４３８００９号、及び第４５１１４８８
号に記載されている。

有機溶媒で現像できるフォトレジストは溶媒現像性フォ
トレジストと呼ばれている。かかるフォトレジストは、
その被膜を現像するのに１，１゜１−トリクロロエチレ
ンのような有機溶媒を使用することが必要である。しか
し、このような揮発性溶媒は作業場において危険性があ
る。

したがって、通常は有機溶媒でのみ現像が可能な感光性
物質の現像が可能であり及び／又は剥離が可能である水
性現像液組成物を提供することは有益である。

界面活性剤を含む、テルペンをベースとした水性クリー
ニング用又は洗濯用プレスポッチング組成物がこの技術
分野において知られている。例えば、米国特許第４３３
６１５２号、第４３６２６３８号、第４４１４１２８号
、第４４３８００９号及び第４５１１４８８号を参照さ
れたい。しかし、かかる組成物は多量のｄ−リモネンの
ようなテルペンと少量の水を必須成分として含有し、さ
らに、放置しても分離しない透明で安定な水性クリーニ
ング溶液を与えるために、炭化水素溶媒及び／又は極性
の有機溶媒、可溶化剤、カップリング試薬及びその他の
添加剤を含んでいる。

従って、本発明のもう一つの目的は、溶媒現像可能なフ
ォトレジストを現像するために商業的に使用するのに特
に効果的なｄｌｌｌｌノネンースとした水性現像液組成
物を提供することである。

本発明のこれら及びその他の目的並びに特徴は以下の記
述により明らかになろう。

本発明は、溶媒現像可能な感光性物質を現像することが
できる、界面活性剤、テルペン及び水から構成される水
性現像液組成物を提供するものである。本発明の好まし
い実施態様で本発明の組成物は界面活性剤約０．５−１
０重量％、テルペン約０．２−１０重量％、残りが水か
らなる。最も好ましくは、本発明の組成物は、界面活性
剤約３−６重量％、テルペン約４−８重量％、残りが水
からなる。この界面活性剤は非イオン界面活性剤又はそ
の混合物、テルペンはｄｌＪモネンが好ましい。

本発明によれば、濃縮配合物も提供される。この濃縮物
を通常約５−１０倍量の水で希釈することにより本発明
の水性現像液組成物を調製することができる。

本発明において、現像液組成物の界面活性剤成分は、イ
オン性、非イオン性あるいは両性界面活性剤のいずれで
もよいが非イオン性界面活性剤が好ましい。したがって
、本発明を、特に非イオン界面活性剤を使用したばあい
について以下に説明する。

代表的な非イオン界面活性剤には次のものがある。

群 （Ａ） 非イオン界面活性剤　　　　　　会社名Ｔ−２０ 化学名　変性ポリエトキモル化直鎖アルコールレクソニ
ック　１０１２−６　　　ハート　ケミカル（Ｒｅｘｏ
ｎｉｃ）　　　　　　　　　　　（Ｈａｒｔ　ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ）化学名　エトキシル化直鎮アルコール 化学名　エトキシル化直鎮第一アルコール化学名　変性
オキシエチル化直鎖アルコール（Ｂ） 化学名　オクチルフェノキシポリエトキシエタノール イゲパル　　　　［：Ａ−６２０ＧＡＦ（Ｉｇｅｐａｌ
） Ａ−６３０ ［：Ａ−７２０ Ｄ−６１０ ｏ−６２０ ［［１−６６０ 化学名　オクチルフェノキシポリ　（エチレンオキシ）
エタノール ０Ｍ−７１０ 化学名　ジアルキルフェノキシポリ　（エチレンオキシ
）エタノール 化学名 −１２Ｏ ノニルフェノキシポリエトキシエタノ ール 化学名　ノニルフェノキシポリエトキシエタノール 本発明の組成物において任意の成分として、バブルプレ
イカー３０５６　Ａ（Ｂｕｂｂｌｅ　Ｂｒｅａｋｅｒ　
３０５６Ａ、Ｗｉｔｃｏ）　；う：／：］ＶＰ３３０　
　（Ｌａｎｃｏ　ＶＰ３３０゜Ｇ、　！４．　Ｌａｎｇ
ｅｒ）　；　７才アマスターＭ　Ｓ　−１（Ｆｏａｍａ
ｓｔｅｒ。

Ｎ５−１．　Ｈｅｎｋｅｌ）又はアンチバブルＬ　（Ａ
ｎｔｉ−Ｂｕｂｂｌｅ　Ｌ。

Ｇ、　Ｍ、　ｌ、ａｎｇｅｒ）等の消泡剤カアル。

好適なテルペンは、単環式及び二環式モノテルペンであ
って、テルピネン、テルピノレン、リモネン、及びピネ
ンから選ばれる特に炭化水素クラスのものである。ジペ
ンテン、ピネン、α−ピネン等の他のテルペンも同様に
用いることができるが、好ましいテルペンはｄｌＪモネ
ン（ＰＤＭ、　Ｉ　ｎｃ、　）である。

フォトレジスト被膜を現像するための好ましい水性現像
液組成物調製用濃縮配合物の例を以下に示す。

実施例、１ （Ａ）　ト　リ　トンＤＦ−１６ （Ｂ）イゲバルＣＡ−６３０ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ＞　ランフＶＰ３３（］ 実施例、２ （Ａ）　ト　リ　トンＤＦ−１２ （Ｂ）　ト　リ　ト　ン　　Ｎ−１１ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）　ランフｖＰ３３０ 実施例、３ （Ａ）　ト　リ　トンＤＦ−１６ （Ｂ）スルホニツクＮ−１２０ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）フォアマスターＭＳ−１ 実施例、４ （Ａ）　ト　リ　トンＤＦ−１６ （Ｂ）イゲバルＣＡ７２０ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）アンチバブルＬ 重量％ 重量％ 重量％ 重量％ 実施例、５ （Ａ）トリトンＤＦ−１２ （Ｂ）　ト　リ　トンＸ−１００ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）バブルプレイカー 実施例、６ （Ａ）　ト　リ　トンＸ−１０２ （Ｂ）ＤＴ−１６ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）バブルプレイカ−３０５６Ａ 実施例、７ （Ａ）　ト　リ　トンＤＦ−２０ （Ｂ）　ト　リ　トンＮ−１０１ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）ラン：ＶＰ３３０ 実施例、８ （Ａ）レフソニック１０１２−６ （Ｂ）　ト　リ　トンＸ−１１４ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）アンチバブルＬ 重量％ 重量％ 重量％ 重量％ 実施例、９ （Ａ）ネオドール２７−７ （Ｂ）　ト　リ　トンＸ−１０２ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）フォアマスターＭＳ−１ 実施例、１０ （Ａ）ネオドール２７−９ （Ｂ）イゲバルＣＡ−６２０ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）ラン：ＶＰ３３０ 実施例、１１ （Ａ）ネオドール４５−１３ （Ｂ）　ト　リ　トンＮ−１１１ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）アンチバブルＬ 実施例、１２ （Ａ）プルラフアクＢ−２５ （Ｂ）イゲパルＣ０−６１０ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）フォアマスターＮ５−１ 重量％ 重量％ 重量％ 重量％ 実施例、１３ （Ａ）プルラフアクＢ−２５−５ （Ｂ）イゲバルＤＭ−７１０ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）ラン：ＶＰ３３０ 実施例、１４ （Ａ）ネオドール４５−７ （Ｂ）トリトンＮ−１１１ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）アンチバブルＬ 実施例、１５ （Ａ）プルラフアクＣ−１７ （Ｂ）スルホニツクＮ−９５ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）バブルプレイカ−３０５６Ａ 実施例、１６ （Ａ）　ト　リ　トンＤＦ−１２ （Ｂ）スルホニツクＮ−１０２ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）アンチバブルＬ 重量％ 重量％ 重量％ 重量％ 実施例、１７ （Ａ）　ト　リ　トンＤＦ−１６ （Ｂ）ポリクージエントＢ−３００ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）フォアマスターＮ５−１ 実施例、１８ （Ａ）ネオドール２５−１２ （Ｂ）スルホニツクＮ−１００ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）ラン：ＶＰ３３０ 実施例、１９ （Ａ）ネオドール４５−７ （Ｂ）イゲバルＣｏ−６２０ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）フォアマスターＮ５−１ 実施例、２０ （Ａ）　ト　リ　トンＤＦ−２０ （Ｂ）　ト　リ　トンＸ−１１４ （Ｃ）ｄ−リモネン （Ｄ）バブルプレイカ−３０５６Ａ 重量％ 重量％ 重量％ 重量％ 濃縮物は、水で好ましくは約５〜１０倍の望ましい濃度
に希釈してから、ソルダマスクに適用することができる
。したがって、水を含む好適に塗布できる配合物は約０
．５〜１０重量％の界面活性剤、約０．２〜１０重量％
のテルペン、残りを水とするものである。さらに好まし
い塗布配合物は約３〜６重量％の界面活性剤、約４〜８
重量％のテルペン、残りを水とするものである。この配
合物には、配合物に対して好適には約０．１〜１重量％
、さらに好ましくは０．３〜０．５重量％の消泡剤を含
有させることができる。

好ましい濃縮物は、３０〜５０重量％のエトキシル化直
鎖アルコール、５〜１５重量％のアルキルフェノキシ　
ボリエトキシエタノーノペ４０〜５５重量％のｄ　−リ
モネン及び０．３〜０．５重量％の消泡剤を含有するも
のであり、これを水で１０倍に希釈することにより塗布
用の配合物が提供される。

一般に、濃縮物は粘性のある透明な液体であり、現像用
配合物はミルク状の乳濁液である。本発明においては透
明な溶液は必要でなく、そのためカップリング試薬等は
濃縮物又は希釈された配合物いずれにも含まれる必要は
ない。

ソルダマスク被膜の現像 有機溶媒のみで通常は現像可能な、典型的なウレタンア
クリレート　ソルダマスクは次の組成を有する。

成　　分 ＲＣＰ−７８５ （ダイアモンドジャムロック社） フォトマー　４０２８　（同上） フォトマー　４１４９（同上） フォトマー　４０６１　　（同上） ペンタエリスリトール　トリアクリ レート　（サートマー社） ペンタエリスリトール　３−（メル カプトブロブリオネート） （エバンス社） 重量部 ５０．０ ８．０ １０．０ １６．０ ５．０ 成　　分　　　　　　　　　　　　　　重竜部イルガキ
ュアル（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）　６５１　　　　５．０Ｃ
ＦＮ−８５２０，７５ （２０％緑色顔料のへキサジオール ジアクリレート分散液） モダ−ｙ　ロー（ｊｌｌｏｄａｆ　ｌｏｗ）　　　　　
　　　　０．９４（モンサンド社） カブ・オ・シル（Ｃａｂ−０−３ｉｌ）　　　　　　３
．９８（キャボット社） ハイドロキノン　　　　　　　　　　　　０．０８銅被
覆したエポキシファイバーグラスプリント回路基盤を洗
浄して腐蝕物や異物を除去した後、基盤上に約０．０７
６２ｍｍ　（３ミル）の厚さになるよう上記組成を有す
る光画像形成性ソルダマスクをスクリーン印刷により塗
布した。さらにミ他の０．０７６２ｍｍ　（３ミル）厚
の被膜を、米国特許第４５０６００４号実施例２の方法
で光学機材上に設けた。次に、この二種の被膜を合わせ
、０．１５２４ｍｍ（６ミル）厚の複合被膜を形成し、
ひっくり返し、０．５ジユール／　ｃ＋＋ｆで３０秒間
の主露光を行った。そして基盤上の未露光部分を実施例
１〜２０記載のイオン現像液濃縮物を水で１０倍に希釈
することより調製した組成物を用いてコンベアーユニッ
ト上で水性現像を行った。現像液の温度は９０−１００
　　’Ｆ　　（３２，２２〜３７．７８℃）とし、スプ
レー圧を１．０５　ｋｇ／ｅ［Ｉ！（１５ｐｓｉ）とし
た。コンベアー速度は０．０２５４＋ｎｍ　（１ミル）
７分の現像速度にセットした。水性現像が完了すると、
積層板、ソルダマスク表面、金属パッド上に残滓はなく
なり又は、顕微鏡観察により見られるようなプレーテッ
ドスルーホール（Ｐｌａｔｅｄ−ｔｈｒｏｕｇｈ　ｈｏ
ｌｅｓ）も認められなかった。被膜に対する現像液の攻
撃も認められなかった。金属表面の清浄度は錫の浸漬テ
ストにより決定された。すべてのパッドはこの浸漬テス
トにおいて３０秒以下で沈積する錫を有していた。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. １．次の組成を有するソルダマスク被膜現像用現像液組
   成物。 ａ）界面活性剤　約０．５−１０重量％ ｂ）テルペン　約０．２−１０重量％ ｃ）水　残部
2. ２．次の組成を有する請求項１記載の現像液組成物。 ａ）界面活性剤　約３−６重量％ ｂ）テルペン　約４−８重量％ ｃ）水　残部
3. ３．エマルジョン状態になっている請求項１記載の現像
   液組成物。
4. ４．前記テルペンがｄ−リモネンである請求項１記載の
   現像液組成物。
5. ５．さらに消泡剤を含む請求項１記載の現像液組成物。
6. ６．前記界面活性剤が非イオン界面活性剤又はその混合
   物で、ある請求項１記載の現像液組成物。
7. ７．次の組成を有するソルダマスク用現像液濃縮組成物
   。 ａ）界面活性剤　約３５−６５重量部 ｂ）テルペン　約４０−５５重量部
8. ８．通常は有機溶媒でのみ現像可能な未露光ソルダマス
   ク被膜を現像する方法において、前記被膜を請求項１記
   載の現像液組成物と接触させることを特徴とする方法。