KR910005905A - 배기 증기로 부터 금속을 제거하는 방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

배기 증기로 부터 금속을 제거하는 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명의 바람직한 태양에서 유용한 장치의 부분 개요도이다.

Claims (53)

1. (a) 금속-함유종을 흡수하기 위해, 접촉전에 흡수될 금속종을 최소한 일부 포함하며 pH가 6이하인 산성매질(여기서, 매질을 침전물이 거의 존재하지 않도록 유지시킨다)과 증기를 접촉시키고, (b) 산성매질을 접촉단계를 통해 임의로 재순환시키고, (c) 재순환된 산성 매질을 임의로 처리하여 금속, 금속 산화물 또는 유기금속 화합물과 같은 집적 금속을 회수하는 단계를 특징으로 하여, 증기로부터 금속-함유종을 분리하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 산성 매질이 수성인 방법.
3. 제1항에 있어서, pH가 약 3미만인 방법.
4. 제1항에 있어서, 배기 개스를 처음부터 방출시킨 매질을 제조 공정내로 재순환시키는 방법.
5. 제1항에 있어서, 매질을, 유리를 피복시키는데 사용되는 주석 화합물의 제조공정으로 재순환시키는 방법.
6. 제2항에 있어서, 출발 수성매질이 고체의 실제적인 침전을 방지하기 위해 산화제를 포함하는 물인 방법.
7. 제1항에 있어서, 금속이 주석인 방법.
8. 제7항에 있어서, 이산화 주석을 유리 또는 다른 기질상에 피복시킴으로써 쉽게 방출되는 배기개스로부터 주석을 분리하는 방법.
9. 제1항에 있어서, 배기 개스를 SCM당 약5mg이하의 금속농도로 제거하는 방법.
10. 제7항에 있어서, pH값을 약2.5이하로 유지시키면서 주석 약5중량%이상을 함유하는 접촉액을 사용하는 방법.
11. 제10항에 있어서, 약10중량%이상농도의 주석을 사용함을 특징으로 하는 방법.
12. 제10항에 있어서, 약20중량%이상농도의 주석을 사용함을 특징으로 하는 방법.
13. 제1항에 있어서, 증기를 저 에너지 스크류버중에서 액체매질과 접촉시킴을 특징으로 하는 방법.
14. 제7항에 있어서, 증기를 주석 함유종으로 포화시키거나 연기 형성을 방지하는 조건하에서 저 에너지 스크류버 또는 스프레이 탑에서 액체매질과 접촉시킴을 특징으로하는 방법.
15. 제14항에 있어서, 증기를 줄곧 주석종의 포화점 이상의 온도에서 유지함을 특징으로 하는 방법.
16. 제15항에 있어서, 주석 함유종을 갖는 증기의 국소분리를 방지하기 위해 추가의 열을 적용시킴을 특징으로 하는 방법.
17. 제15항에 있어서, 스팀을 배기사수스에 가해 스크루버중의 세척액을 국소냉각을 방지시킴을 특징으로 하는 방법.
18. 제17항에 있어서, 증기를 주석종의 포화점이상의 온도에서 유지함을 특징으로 하는 방법.
19. 제7항에 있어서, 주석화합물이 사염화주석임을 특징으로 하는 방법.
20. 제7항에 있어서, 주석화합물이 알킬주석 할라이드임을 특징으로 하는 방법.
21. 제7항에 있어서, 주석화합물이 MBTC임을 특징으로 하는 방법.
22. 실질적으로 침전물이 유리된, 5중량%이상의 금속을 함유하는 매직을 보유하면서, 증기를 pH 약2이하의 수성매질과 접촉시켜 금속-함유종을 흡수함을 특징으로하여, 금속종을 함유하는 증기를 사용하는 방법으로부터 처리된 배기 스팀.
23. 제22항에 있어서, 10중량%이상의 금속성분을 지니는 배기 스트림.
24. 제22항에 있어서, 20중량%이상의 금속성분을 지니는 배기 스트림.
25. 제22항에 있어서, 금속성분에 티타늄이 함유된 배기 스트림.
26. 제22항에 있어서, 금속성분에 주석이 함유된 배기 스트림.
27. 제22항에 있어서, 금속성분에 주석이 할라이드가 함유된 배기 스트림.
28. 제22항에 있어서, 공정이 글라스-피복 공정인 방법.
29. 약2.5미만의 pH값을 지닌 산성 수성 매질과 주석 성분을 함유하는 증기를 접촉시켜, 주석 성분 대부분을 흡착시키고, 이때 배지는 침전물이 거의 없는 상태로 유지시키면서, 수성 산성 배지가 최소량의 흡착된 주석 성분을 이미 함유함을 특징으로 하여, 증기로 부터 주석-함유 부분을 제거하여 제조된 주석-함유 생성물.
30. 제29항에 있어서, 처리된 증기는 대기로 이후에 배출시키고 주석 함량은 5mg/SCM미만임을 특징으로 하는 생성물.
31. 제29항에 있어서, 주석성분을 함유하는 증기가 대량의 MBTC함량을 갖는 생성물.
32. 주입공정라인 및 배출공정라인, 양쪽 라인에 연결된 송풍기, 송풍기의 배출라인에서 기체-유동 지시계, 순환 액체의 온도를 유지시키기 위해 스팀-주입 라인 및 제1의 밸브를 통해 하나 이상의 가스세정기의 순환 파이프로 공급되는 스팀 공급원, 하나 이상의 특유-매스 조절기, 적어도 일부 액체가 배수 라인을 통해 저장 탱크로 통과하도록 제2의 밸브와 병렬시킨 하단 밸브를 조절하는 레벨 조절기 및 가스세정기 베드를 통해 공정 스트림을 재순환 시키기 위한 수단이 조합되어 이루어진, 공정스트림으로 부터 금속성분을 제거하기 위한 장치.
33. 제32항에 있어서, 공정 스트림이 글라스-피복 설비로부터의 용출문을 도함하는 장치.
34. 제32항에 있어서, 공정 스트림이 주석을 함유하는 장치.
35. 제32항에 있어서, 공정 스트림이 MBTC를 함유하는 장치.
36. 제32항에 있어서, 비중 조절기가 스크러버 베드내 pH에 반응성인 장치.
37. 제32항에 있어서, 비중 조절기가 스크러버 베드 내 주석 함량에 반응성인 장치.
38. 제32항에 있어서, 공정 스트림의 적어도 일부가 처리후에 공정으로 재순환되는 장치.
39. 제32항에 있어서, 스크러버 베드가 패킹된 장치.
40. 제32항에 있어서, 스크러버 베드가 글라스 헬릭스로 패킹된 장치.
41. 제32항에 있어서, 스크러버 베드가 자기 새들로 패킹된 장치.
42. 배기 가스를 약2.5미만의 pH를 가지며 사실상 침전물을 함유하지 않는 수성 매질과 접촉시킴을 특징으로하여, 뜨거운 유리 제품을 유기주석 할로겐화물로 피복할 때 발생하는 배기 가스로부터 주석 화합물을 제거하는 방법.
43. 제42항에 있어서, 산성 매질이 접촉 과정 전에 흡수될 주석 화합물의 적어도 일부를 함유하는 방법.
44. 제43항에 있어서, 수성 매질이 주석 화합물 약5중량%를 함유하는 방법.
45. 배기 가스를 액체가 주석 약5중량% 이상을 함유할 때 까지 수성 산성액과 접촉시킴을 특징으로 하여, 뜨거운 유리병이 주석 할로겐화물과 접촉할 때 발생하는 배기 가스로부터 주석 화합물을 제거하는 연속 방법.
46. 제45항에 있어서, 주석 할로겐화물이 유기주석 할로겐화물인 방법.
47. 제45항에 있어서, 주석 할로겐화물이 MBTC인 방법.
48. 제45항에 있어서, 주석-함유액을 공정에서 제거하여 저장하는 방법.
49. 제45항에 있어서, 주석-함유액을 제거하여 유리 피복 작업에 적어도 부분적을 사용하는 방법.
50. 제45항에 있어서, 액이 주석 약10중량%이상을 함유하는 방법.
51. 제45항에 있어서, 약5%이상의 주석을 함유하는 일부의 액체가 반응으로 부터 주기적으로 제거되고, 물에 의해 대체되는 방법.
52. 약2.5이하의 pH를 갖는 수성 매질과 배기 가스를 접촉시키고, 수성 매질이 약10중량%이상의 주석을 함유할 때까지 실질적으로 침전이 존재 하지 않으며, 상기 수성 매질의 일부를 주기적으로 제거 및 저장시키고, 상기 수성 매질의 부피를 물을 사용하여 주기적으로 재 충전시킴을 특징으로하는, 유기 주석 할라이드와 뜨거운 유리 병을 접촉하는 경우 발생하는 배기 가스로 부터 주석 화합물을 제거시키는 연속 방법.
53. 제52항에 있어서, 유기 주석 할라이드가 MBTC인 방법.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.