KR910004196B1 - 음이온 흡착용 복합체 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

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Description

음이온 흡착용 복합체 및 그 제조 방법
본 발명은 실리케이트 글라스 혹은 실리카겔 혹은 흑연재등의 기질에 고정화된 복합체를 지닌 음이온 물질, 예, 방사성 음이온재를 지니는 조성물에 관한 것이다.
수많은 방사성 동위원소가 핵발전소 및 연료 저장탱크의 냉각, 작동 및 폐수에 존재한다. 이것은 다중에 농도가 극히 낮지만 매우 유독하다. 이러한 폐수의 재사용 혹은 제거는 충분奎 양의 방사성 동위원소가 제거되었는지의 여부에 달려 있다.
방사능 오염물은 양이온 및 음이온 형태로서, 기공의 글라스 양이온 이온 교환기를 사용한 방사능 물질의 제거는 1979. 5. 16자 39, 595호의 연속출원인 1982. 4. 21자 370, 437호, 1978. 11. 9자 959, 222호등에 기재되어 있다.
용액내에 존재하는 음이온은 주로 8일의 간감기인로서 동물의 신진대사 과정에서 재축합되는 흡착성이 높은 유독물질이다. 3개월후, 대부분은 안정한 물질은 변한다. 그러나, 크로메이트, 세래이트 및 몰리베이트 등의 음이온 복합체를 형성하여 장시간 방사성을 띄게 된다.
방사성 동위원소는 핵연료 사이클의 여러 공정에서 배출된 공기에서 형성된다. 따라서, 이 증기를 세척할 필요가 있다.
유기 음이온 수지가 주로 사용되는데, 이것은 방사성에 의하여 분해되어서, 건조되고 시중에 있는 유리 양이온 교환기를 지닌 혼합 베드로 처리될 수 있다. 또한 이것은 장시간 화학적으로 안정화될 수 없어서 환경에 대하여 극히 위험한 물질이 된다.
미합중국 특허 4,333,847호는 음이온 교환기로 기공의 유리미디엄의 사용을 밝히고 있다. 이 유리 음이온 교환기는 상호연계된 기공을 지닌 실리카를 지닌 겔 혹은 기공성 실리카 유리이다. 지르코늄 혹은 납과 같은 비방사성 음이온 다가 금속이 기공의 내벽에서 이가 산소 결합을 통하여 유리 혹은 겔의 실리콘에 결합될 수 있다. 히드록실기와 같은 비방사성 음이온이 양이온 금속에 이온 결합되고 방사성 음이온으로 치환되어서 유리 혹은 겔의 기공내에서 결합된 방사성 음이온의 분포가 형성되게 된다.
삼프렛, 등, "합성 무기 이온 교환 재-II, 하이드러스 지르코늄 산화물" 유기핵화학지, 6권, p. 236-245(1958)에서, 하이드러스 지르코늄 산화물과 같은 하이드러스 산화물이 산 및 중성 용액에서 음이온 교환기로서 알카리 용액에서 양이온 교환기임을 밝히고 있다. 그러나, 위에서 금속 산화물이 어떻게 겔등의 실리콘 원자에 결합하며 방사성의 독성 음이온과 결합하는 것에 대한 기재가 없다.
영국 특허 제 1363491에는 기체 혹은 증기의 6탄소원자를 지니는 요오드 혹은 요오드 화합물의 제거용의 흡착물을 밝히고 있다.
흡착제는 질산은 등의 금속염에 포괄된 무정형 실릭산으로 구성된다. 이 특허는 요오드 제거에 대한 종전의 기법을 밝히는 것이다.
특허원 39, 595호에서, 물이 수은, 카드뮴, 탈륨, 납 및 다른 중금속으로 오염되는 것을 밝히고 있다. 폐수에서 양이온의 농도는 매우 낮아서 소량의 독성 양이온을 지니는 대량의 폐수를 처리하는 문제를 제거하고 있다. 이 폐수는 유리 혹은 겔에 독성 양이온을 통과시켜서 정제할 수 있다. 이 기공성 유리 혹은 겔은 최소한 75몰% 실리카를 지니며 상호연계된 기공을 지닌다. 비독성의 알카리 금속 양이온, I(b)족, 혹은 암모늄 양이온은 기공 내벽에서 이가 산소결합으로 겔등의 실리콘에 결합한다. 이 양이온은 중금속과 치환되어서 중금속 제거에 사용될 수 있는 것이다.
영국 특허 1389905호에서 방사성 클리브데늄 제조에 대한 하기의 공정을 기술하고 있다 : (1) 핵분열을 일으키는 우라늄 물질을 방사함 : (2) 방사되는 우라늄을 무기산 수용액에 용해시킴 : (3) 몰리브데늄 99을 이산과 알파-벤조이녹심과 접촉시켜서 침전시킴 : (4) 알칼리 수용액에서 몰리브데늄 침전을 회수 용해함 : (5) 불순물 제거를 위해서 (i)은 피복된 흑연, (2) 무기 이온 흡착제 (ii) 활성탄등의 흡착제와 몰리브데늄 99 용액과 접촉시킴. (6) 이후 몰리브데늄 99을 회수함. 이 특허는 또한 고순도의 특이 활성을 지닌 몰리브데늄 99을 제조하는 것을 밝히고 있다.
(1) 해분열이 되도록 우라늄 산화물을 방사시킴. 이 산화물은 스테인레스강의 용기내벽에 축적됨. (2) 우라늄 산화물을 황산 혹은 질산에 용해시킴. (3) 소디움 설피트의 안정제 및 루테늄염화물 혹은 요오드화 나트륨의 지지담체를 이 산 용액에 가함. (4) 이 용액과 알파-벤조이녹심을 접촉시켜서 몰리브데늄 99를 침전시킴. (5) 침전된 몰리브데늄을 수산화 나트륨 용액에 용해시켜서 회수함. (6)이 알칼리 용액과 은 피복된 흑연을 접촉시킴. (7)이 알카리 용액을 산성화 하고, 산화제를 가하여 (4) 및 (5)의 공정을 반복함. (8) 수산화 나트륨 용액과 은 피복된 흑연 및 지르코늄 산화물과 접촉시킴. (9) 수산화 나트륨 용액과 활성탄을 접촉시킴. (10) 회수 이 공정에서, 흡착제는 요오드와 루테늄등을 제거하기 위한 것으로 사용되었다. 그러나 이것을 폐수로부터 어떻게 제거하는 지는 전혀 밝히지 않고 있다.
본 발명은 복합체가 기질에 접촉하여서 고정화 되는 조성물에 관한 것으로서, 이 복합체란 분자, 기온등으로서, 고체 표면에 흡착 혹은 결합되어서, 용해된 이온의 경향에 따라서 표면에 흡착되거나 결합 혹은 포괄되는 것이다. 이러한 것이 이루어지는 메카니즘은 착화합물, 불용성 화합물 혹은 비치화되는 이온 혹은 공유결합등의 형성이다.
본 발명의 복합체는 수은, 탈리움, 은, 백금, 납, 구리등의 중금속이다. 수은은 Hg+2 2혹은 Hg+2의 상태로 될 수 있다. 탈티움은 주로 3가 상태이다.
본 발명에서 담체는 주성분으로 SiO2를 지나는 실리카 유리기공 혹은 겔기공이다. 이것은 표면적이 크고 표면에서 다량의 실리콘 결합된 히드록실기를 지닌다.
SiO2농도는 최소한 약 70몰%이다. 특히 본 담체는 닛트 껍질등의 건류로 제조된 목탄등이다. 이 담체는 복합체와 결합되며 표면에 방사성 음이온이 결합된다.
본 발명은 종전의 음이온 교환수지를 개선한 것이다. 현재의 유기 음이온 교환기와 달리, 본 발명은 유기재보다 기공유리 혹은 목탄재를 사용하는데에 있다. 유리 혹은 목탄 음이온 교환기는 방사능동에 감작되지 아니하며 건조하여 사용후 방사능 동위원소의 확산을 감소시키게 된다.
또한 본원은 폐수가 붕산염으로 부하된 경우에 몇명 유기 음이온 교환기에 대한 개선을 제공한다. 붕산염은 음이온에 의해 손쉽게 용해되며, 따라서 그 용도가 나쁘게 된다. 반면에 본 발명은 요오드가 붕산염을 지닌 과량의 음이온의 존재하에서 특히 잘 흡착되는 음이온 교환기를 제공하는데 있다.
또한 본원은 폐수가 방사성 요오드의 존재하에서 다량의 비방사성 염화물을 지니는 경우에 종전의 음이온 교환기보다 더욱 개선된 것이다. 특히, 본 발명은 염화물보다 더욱 효율적으로 요오드를 접착시키는 장치를 제공하는데에 있다.
본 발명은 종래의 것보다 그 성능이 우수하다. 납이나 지르코늄보다 수은을 결합시키는 능력이 10-12배 정도 미합중국 특허 제 4,333,847호보다 우수하다. 특히 수은은 암모니아의 존재하에서 요오드에 대한 효과적인 흡착제이다.
본 발명은 또한 이온 교환능력이 I131과 같은 짧은 반감기를 지는 것에 대하여 매우 효과가 있다. 따라서 음이온 교환기의 능력은 교환기의 용해성에 의해서만 제한되어 진다. 이것은 종전의 이온 교환기의 성능이 이온의 흡착에 알맞는 기공의 수에 의하여 제한되는 것과는 현저히 다른 것이다.
본 발명의 조성물은 기질에 흡착되어 고정되므로서 안정한 복합체를 형성하는 것에 의하여 음이온을 흡착하는 것에 특징이 있다.
Hg+2이온은 가장 양호한 복합체이다. 수은 이온은 이가 양이온으로서 매우 안정된 요오드 복합체를 형성한다(log k1=13.4 지, 실렌, 안정화 상수). 이 수은 이온은 산화 및 환원 미디엄에서 비복합된 형으로 높은 안정성을 나타낸다. 또한 Hg+2와 탈이온보다 비싸지 않다.
본 발명에서 기질은 기공 실리케이트 유리 혹은 실리카겔이다. 주성분인 이산화 실리콘을 지니는 알맞는 유리 조성물은 표면적이 크고 표면에 다량의 히드록실기를 지니는 것이다. 기공 유리 혹은 겔의 SiO2농도는 최소한 약 70몰% 특히 약 82몰%로서 약 89몰%가 가장 양호하다. 이 유리는 미합중국 특허 제2,106,744 : 2,215,936 : 2,221, 709 : 2,272,342 : 2,326,059 : 2,336,227 : 2,340,013 : 4,110,093 : 4,110,096호에 기술되어 있다.
기공 실리케이트 유리는 미합중국 특허 제 3, 147, 225호에서 그 제조방법을 기술하고 있다.
일반적으로 기공된 실리케이트 유리는 알카리금속 보로 실리케이트 유리를 용해하고 두 상호연계된 유리상으로 상분리하고 이중 하나를 분리하여서, 즉, 산화 붕소 및 알카리 금속 산화물을 분리하여서 주로 잔존하는 실리케이트 유리상으로 구성된 기공 구조를 남겨서 제조할 수 있다. 기공 유리의 주 특성은 형성시 실리콘 결합된 히드록실기로 피복된 큰 내벽을 지닌 것이다. 이것은 단위 부피당 높은 표면적을 지니고 작은 기공에서 높은 실리콜 결합된 히드록실기 및 추출공정이 표면에 잔존하는 히드록실화된 실리카기의 잔기가 남기 때문에 특히 우수하다. 기공 실리케이트 유리는 원형의 기하 구조가 될 수 있으며 특히 분말, 비드, 구형등이 될 수 있으며, 칼럼, 나일론 백, 판형막등의 형태에 포괄되어서 히드록실기의 양자가 알카리 금속(Ib)족 혹은 암모늄 양이온으로 치환된다.
실리카겔은 이. 아이, 듀퐁사의 루독스 실리카겔로서 0.08-0.6 무게% Na2O를 지닌다.
본 발명에 쓰이는 다른 재료는 졸-겔 기법으로 제조된 중합체로서 단일 성분(실라카)으로 혹은 다성분(Na2O-B2O3-SiO2, SiO2-TiO2)로 제조된 것이다. 다스, 비정질재, 38, 81(1980), 물케르지, 우주중량감소 처리재, 엘스비어, 1982.
제올라이트와 같은 이온 교환 공정을 지니는 양이온 함유 알루미노실리케이트는 본 발명에 사용될 수 있다. 제올라이트는 알루미노-실리케이트 테트라헤드랄 구조. 이온 교환성 양이온, 및 역탈수가 되는 흡착수 분자로 특징지어진 합성 및 무기 제올라이트에 속하는 것으로 정의한다. 구조는 X1+2+ yAl3+ xSi4+ 1-xO2·nH2O로서 X는 양이온, 특히 알카리 혹은 알카리토 이온이다(맥그로우힐 과학기술 백과, 뉴욕, 뉴욕, 1977, 14권 p.696). 기질의 실리콜 결합된 히드록실기의 양자는 알카리 금속, (Ib)족 혹은 암모늄 양이온으로서 수산화물을 지닌 용액이다. 예, 수산화 나트륨, 수산화 루비듐, 수산화 큐프 수산화 암모늄 혹은 치환될 수 있는 이들의 염, 예, 질산 염, 황산염, 초산염, 브롬화물, 인산염, 염화물 및 질산은, 질산금 등을 지닌 그 유사물이다. 상술한 것에서 실리콘 결합된 히드록실기의 양자와 교환되는 비방사성 금속 양이온은 나트륨, 칼륨, 세슘, 루비듐, 리튬, 구리, 은, 금 및 암모늄이다.
실리콘 결합된 히드록실기를 지닌 기공 기질과 비방사성 알카리 금속, 혹은 암모늄 양이온을 높은 pH에서 반응시켜서 금속 혹은 암모늄 양이온의 염과 실리콘 결합된 히드록실기의 양자와 교환되도록 하는데, 다기질이 너무 다량 용해하지 않도록 하여서 하는 것이 알맞다. 높은 pH에서 기공 기질이 용해로 인한 표면적 감소와 실리콘 결합된 비방사성 금속 혹은 실리콘 결합된 히드록실기의 감소등이 있을 수 있다. 실리콘 결합된 히드록실기의 양자를 치환하는 방법은 알카리 금속염과의 처리 혹은 Ib족 금속을 수산화 암모늄과 완충화 하거나 약 11-13pH에서 완충화 하는 것이다. 이 방법에서 히드록실기의 양자에 대한 상기의 비방사성 금속의 일차이온 교환의 수산화 암모늄과 완충화 하는 것은 기질의 표면적 유실 방지에 필요하다.
무수기질은 약 0.1몰%-약 15몰%, 특히 0.5몰%의 비방사성 금속 혹은 암모늄 양이온, 즉 알카리 금속, Ib족 혹은 암모늄 양이온 옥소기를 지닐 수 있다. 상기 기질에 대한 표면과 무게비는 최소한 약 0.1㎡/g-수천 ㎡/g 예, 10, 000㎡/g이다. 알맞는 비는 5-500㎡/g이다.
기질은 처리하여서 복합체가 형성되도록 한다. 기공 중간체 양이온 교환기질은 pH 약 5-7.5의 미디엄에서 수은 혹은 탈리움 금속과 접촉시킨다. 이때에, 중금속은 산소이가를 통하여 기질의 실리콘 원자에 결합한다.
이온 교환에 의하여 수은 이온이 치환되는 기공 유리는 다음 복합체로 특정지울 수 있다.
≡Si-O-Hg+
Figure kpo00001
수은의 일부가 수은 형태로 산입되는 경우에, ≡Si-O-Hg-Hg+의 유시 구조가 출현된다. 암모니아가 존재할 경우, 다음 형태가 된다 :
≡Si-O-Hg+(NH3)x
Figure kpo00002
수은가의 일부 혹은 전부는 옥시가를 통하여 실리카 유리의 보론에 결합한다. 음이온과 결합후, 음이온은 상술한 복합체를 통하여 유리의 보론위치에 결합한다. 많은 수소 혹은 탈리움은 실리카겔의 기공내에 축적되고 실리콘에 옥시기로 결합하여서 수은등을 결합시킨다. 그러나, 최소한 일부의 수은등이 상술한 경구와 같이 옥시결합에 의하여 실리콘에 결합된다고 믿는다.
음이온 상호간 선택성과 수은 위치의 효율은 정확한 위치의 특징에 따라 다르지만, 이것은 차례대로 흡착재의 특성이 기능, 이것을 수은 형태로 변화시키는 기술 및 화학적분위기에 따른다. 예를들어, 제조 및 흡착시 암모니아의 존재로 다양한 음이온을 지닌 용액에서 요오드를 선택제거하는 효율을 확장시킨다.
옥시기를 통하여 기질의 실리콘에 결합되는 복합체의 비율은 몇명몇 기술에 의하여 조절될 수 있다. 물론, 기질에서 히드록실기의 비율은 최대의 복합체 결합양을 결정한다. 중금속과 기질을 좀더 장시간 접촉시키므로서 복합체의 결합율을 증가시킨다. 물론, 기질의 크기가 작을수록 결합되는 복합체의 비율은 커진다. 농도를 변화시키는 등의 기술은 실리콘에 결합되는 복합체의 비율 조절에 사용될 수 있다.
본 발명의 기질은 목탄이다. 알맞은 복합체는 수은 및 탈리움뿐 아니라 은, 백금, 팔라듐, 납 및 구리이다. 목탄은 무정형 탄소이며 나무등의 건류로 제조한다. 목탄이란 높은 표면적을 갖는 모든 물리화학적 생산물을 포괄한다. 특히 활성탄은 높은 특이면적을 지니며 기체 및 액체 상태에서 흡착에 쓰인다. 활성탄의 특이적비는 약 500-2000㎡/g으로서 특히 약 800-1500㎡/g이 알맞다. 활성 입자 및 분말탄은 탄화수소물에서 이질성분을 산화분리해 낸 기공 구조의 물질이다. 본 발명에 쓰인 목탄은 각종 나무등에서 생산되며 각종회사의 기존 제품을 사용한다.
목탄은 복합체를 형성, 고정하도록 처리한다. 기공 목탄 기질은 수용성 미디엄에 용해한 복합체와 접촉시킨다. 접촉시, 중금속은 수은, 탈리움, 은, 납, 구리, 백금, 구리, 납등을 결합유지 하도록 목탄기질에 결합 시킨다.
몇몇 경우에 복합체가 목탄기질에 결합되지만, 대부분은 단순히 기공내에 약간의 화학 결합으로 축적된다.
목탄기질에 결합된 복합체의 비율은 중금속과 기질의 접촉시간으로 조절될 수 있다. 시간이 길수록 결합이 증가하며 결합 비율이 클수록 이질의 입자 크기는 작아진다. 농도를 변화화 하는 알맞는 기법은 목탄기질에 결합되는 복합체의 비율을 조절하는데 사용될 수 있다.
기질에 고정화된 복합체의 양은 일반적으로 최소한 약 0.001% 특히 약 0.01%로서 약 0.1%가 가장 알맞다. 일반적으로 기질은 대부분 약 50 무게%, 약 10 무게%의 복합체가 알맞다. 이곳에 고정화된 복합체를 지니는 기질은 요오드등을 지니는 폐수와 접촉시킨다. 이 폐수는 미합중국 특허 제4,333,847호에 서술된 대로이다. 접촉은 음이온 교환 혹은 혼합 베드칼럼에서 발생한다. 밀리리터당 0.001마이크로 규리 방사성 이하를 지니는 용액을 본 발명에 따라서 처리할 수 있다.
음이온 교환수지 사용시, 알맞게 세분된 기공 실리케이트 유리를 사용하여 폐수와 실리케이트 겔의 입자와의 접촉을 극대화 하는 것이 양호하다. 폐수는 칼럼을 통과하며 용액내 음이온은 기공 유리 혹은 타 기질에서 복합체와 착화하여서 화학적으로 결합하게 되는 것이다.
I-는 다음 방법으로 수은과 결합하는 것으로 믿는다.
=Si-O-Hg+-Hg+I-
=Si-O-Hg+I-
상술한 대로 요오드는 보론에 부착된 수은과 착화한다. 특히 수은 처리된 기공 실리케이트 유리 혹은 겔의 층 및 목탄층의 조합으로 원자로 폐수에서 요오드를 제거하는 것이 특별히 좋은 결과를 얻을 수 있다. 특히, 매우 낮은 요오드(예, 약 5×10-12g/I131의 리터-5×10-8g/전체 요오드)일 경우 요오드 이외의 타 화학물질의 존재로 인하여 그 처리가 매우 어렵다. 이론상 제한이 없는한, 수은 처리된 기공 실리케이트 유리 혹은 겔에서 불탁된 수은과 목탄의 활성화 때문에 좋은 결과를 얻을 수 있다.
따라서, 본 발명은 요오드 물질이 최대 흡착제거를 위하여 수은 처리된 기공 실리케이트 유리 혹은 겔의 조성물을 사용하는 것은 본 발명에 속한다. 또한, 목탄 베드의 연속 활성화에 대한 수은등의 기의 연속 방출을 이루는 수은처리된 기공 실리케이트 유리 혹은 겔 혹은 타 재료의 사용도 포괄한다. 또한 분리지역, 다중 수은 처리된 기공 실리케이트 유리 혹은 겔 및 목탄의 혼합 베드와 같은 유리/목탄의 다양한 구조가 사용되는 것은 본 발명에 속한다.
일단위 부피의 유리 혹은 겔 혹은 목탄 혹은 기질은 계수 수천단위부피에 포괄된 방사성 음이온을 농축할 수 있다. 칼럼부피(CV)란 이곳에서만 사용되며 유리 혹은 겔 혹은 목탄 혹은 타 기질일 부피당 일부피의 액체를 뜻한다.
[실시예 1]
요오드 흡착성 실험
4% Na2O, 4몰%, K2O 35몰% B2O3및 57몰% SiO2을 지닌 호 실리케이트의 봉상(길이 12인치, 직경 0.3인치)을 550℃에서 110분간 빅코르소 시험관에서 가열하였다. 봉을 갈고 체쳐서 -45 +25 메쉬로 분리하였다. 일부피의 세분 유리를 3N 염산으로 1일간 용출하고 탈이온화된 물로 세척하여 염산을 제거하였다. 상술한 공정에 유리 분말을 유리 U로 모양짓는다. 이것은 건량으로 0.070% Na를 지닌다.
U의 100ml를 2일간 3.7M 암모니아와 3.2M 질산 나트륨을 지닌 400ml 수용액, 1일간 3.2M 질산 나트륨 400ml로 이후 탈이온수 6회, 3.2M 질산 나트륨으로 교반하였다. 43% 물을 지닌 유리는 3.68% Na와 0.014% NH3를 지니고 있다. 이 분말을 유리 C로 명명하였다.
5.84ml 유리 C로 부타된 칼럼을 25ml 탈이온수로 세척하였다. 다음의 처리를 하였다 :
1) 약 50ppm Na(NaOH로 산입)과 500ppm의 B(H3BO3형태)의 1800ml 용액을 pH 9.8에서 6.6으로 낮춤.
2) 약 50ppm Na, 500ppm B 및 250ppm Hg의 800ml 용액으로 처리하여서 수은을 부하시킴.
3) 73ppm Na(NaOH 및 NaNO3형태)과 500ppm B 900ml 용액으로 세척.
4) 약 75ppm Na, 500ppm B 및 10ppm I-300 용액으로 실험함.
칼럼내 유속은 13.4ml/분 잔존시간 26이다.
0.035mMole/ml에 대응하는 40칼럼부피 수은을 2)단계에서 흡착시키고 30칼럼부피 혹은 0.026mMole/ml를 3)과 4)단계에서 탈착하여서, 최종 수은 농도가 0.009mMole/ml가 되도록 함.
435칼럼부피 혹은 0.9040mMole/ml 요오드를칼럼에 흡착시켰다. 180칼럼부피의 단계 4)에서의 탈오염지수(즉, 주입액과 배출액 사이의 농도비)는 최소한 180이다. 탈오염지수는 375칼럼부피이후 2에 근접하였다. Na와 B의 농도는 특별한 노화없이 전체를 통하여 조정하였다.
[실시예 2]
유리의 처리와 실험시 사용된 용액이 NH4 +를 지닌 경우 요오드 흡착이 더 좋음을 보여주는 실험.
100ml의 유리 U를 400ml의 3.7M 암모니아와 접촉시켰다. 이것은 44% 물을 지녔고 분석시 0.57% NH30.049% Na를 지녔다. 이것은 유리 A로 명명하였다.
유리 A로 제조된 칼럼을 75ppm NH3와 500ppm B를 지닌 1300ml 용액으로 1) 단계에서 처리하였다.
pH 6.7로 낮춤, 칼럼을 24ppm NH3, 500ppm B 및 250ppm Hg를 지닌 600ml 용액에 통과시켜서 2)단계에서 수은을 부하시킴. 24ppm NH3와 500ppm B를 지닌 용액으로 3)단계에서 세척하였다. 최종적으로 요오드 흡착율을 24ppm NH3, 500ppm B, 10ppm I-및 1.8ppm Na를 지닌 10400ml 용액을 사용하여 4)단계에서 측정하였다. 유속 11ml/분 잔존시간 32초이었다.
이 경우 요오드 흡착능은 칼럼에 흡착된 0.140mMole/ml 요오드에 대응하여 1650칼럼부피었다. 단계 2)에서 흡착된 수은양은 58칼럼부피 혹은 0.075mMole/ml는 실시예 1의 나트륨 처리된 유리보다 별로 크지 않지만 단계 3)과 4)에서 훨씬 소유모로 탈착되었다(10% 대 70-80%). 따라서 0.066mMole/ml의 수은이 흡착되었다. 또한 Na+를 지닌 용액이 단계 4)의 칼럼을 통과할 경우, 나트륨 흡착은 30%칼럼부피이었지만 흡착율은 0.0008mMole/ml이었다.
이 실험에서 요오드에 대한 탈오염 지수는 단계 4)의 1060칼럼부피시 760 이상이었고 전체 1300칼럼부피에서 310 이상이였다.
[실시예 3]
보론산염 농도의 요오드 흡착에 대한 실험
유리 C와 3.70% 무게 Na 및 0.059% 무게 NH3를 지닌 칼럼을 동일부피와 실시예 1)의 단계 1), 2), 3) 대로 처리하였다. 4)단계에서 실험 용액은 약 50ppm Na과 10ppm 요오드를 지녔지만 실시예 1과 2에서 500ppm B에 대하여 단지 50ppm B만 지녔다. 이 용액 2800ml를 단계 4)에서 사용하였다. 유속은 9ml/분 잔존시간 39초이었다.
요오드 흡착능은 480칼럼부피이었다. 탈오염지수는 단계 4)의 첫번째 240칼럼부피에서 최소한 1150이었으며 파쇄는 실시예 1에 나타난 부피와 동일하였다.
[실시예 4]
수은 부하에 의한 요오드 흡착능 실험
유리 A를 지닌 칼럼(실시예 2)을 동일부피(1800ml)와 동일 용액(약 50ppm Na 및 500ppm B)로 처리하고, pH는 6.8로 낮추었다. 실시예 1에 사용된 용액과 동일한 용액 600ml로 실험하였다. 유속 9ml/분, 잔존시간 39초이었다. 제거능력은 5칼럼부피, 즉 0.0004mMole/ml이었다. 또한 초기암모늄 부하된 유리의 초기 처리(단계 1))시 칼럼에 0.121mMole/ml의 Na가 흡착되었다.
[실시예 5]
요오드 분자의 수은 처리 기공 유리에 대한 흡착 실험
0.942㎠의 크로스 섹션을 지닌 보로실리케이트 유리 뷰렛을 유리 C의 3.30ml로 부하하였다(실시예 1). 순수한 질소를 칼럼건조가 되지 않도록 물을 지닌 트랩에 통과시켜서 수증기로 포화시켰다. 질소를 48℃로 가열된 2g의 요오드 결정을 지닌 트랩에 통과시켰다. 질소를 유리칼럼 혹은 옆 시험관에 통과시켰다. 양쪽의 질소를 1g의 4, 4', 4"-메틸리덴 트리스-(N,N'-디메틸아닐린)수용액에 통과시키고, 12ml 진한 HClO4, 20ml 포화 HgCl2를 가하고 1000ml로 희석하였다. 요오드가 가해지면 청녹색이 된다. 색의 강도(628nm)는 요오드 농도에 비례한다. 유속은 133ml/분이고 잔존시간은 1.5초이었다.
칼럼에 질소를 지닌 요오드를 통과시키면, 칼럼은 흑적색의 장미빛이 된다. 배출액의 요오드 농도는 처음에는 매우 낮지만, 전체 요오드 농도가 점차 축적되어짐에 따라서 진해졌다. 칼럼이 완전히 포화됨에 따라서 배출액의 요오드 농도가 일치하게 되어서 기체액에서 1.10ppm의 농도가 되고, 농도는 옆시험관으로 측정하였다. 후자의 농도는 1.12ppm이었다.
요오드 흡착에 대한 유리성능은 2700칼럼부피, 즉, 0.012mMole/ml이었다. 요오드 원자(I)로서 0.024mMole/ml로서 종전의 실시예에서 얻은것과 동일하였다. 이는 큰 비율의 요오드가 유리칼럼에 흡착됨을 지칭한다.
탈오염지수는 초기 1210칼럼부피에서 최소한 124이었고 1820칼럼부피에서 최소한 57이었다.
[실시예 6]
수은 처리된 나트륨 치환된 기공유리 이온교화기에 대한 염화물 흡착.
유리 C로 제조한 칼럼(실시예 1)을 실시예 1과 같이 부하하였다. 다음 4단계를 행하여 염화물 흡착제거가 되도록함.
1) 약 500ppm Na와 500ppm의 B 용액 900ml를 가하고 초기 pH 9.0에서 7.1로 함.
2) 약 28ppm Na, 500ppm B 및 250ppm Hg 용액 600ml를 가함.
3) 28ppm Na 및 500ppm B의 용액 200ml로 세척하여 과량 수은의 제거.
4) 약 35ppm Na, 500ppm B 및 10ppm Cl-의 용액 2000ml로 실험함.
유속은 9ml/분이고 잔존시간 39초이었다.
염화물 흡착능은 80칼럼부피이었다(실시예 1과 3에서 약 400칼럼부피), 즉 0.022mMole/ml이었다.
즉, 할로겐화 물에 대한 유리의 전체농혁은 단지 주은 부하에만 관여하고, 반면에 염화물이 경우에 좀 완만한 파쇄 커브(탈오염 지수가 20부피 칼럼이 지난후 10 이하로 떨어짐)가 요오드화물에서 보다 염화물의 경우에 좀더 약한 수은 할로겐화물 결합을 보여준다.
[실시예 7]
본 실험은 기공유지의 이온교환기가 방사능 2염된 물을 정제하는데 사용될 수 있으며 칼럼에 통과되는 방사능 이온에 필요한 시간이 반감기와 비교하여 긴 경우에 이온 교환기는 파괴 되지 않음을 보여준다. 탈오염지수는 불변이고 매우 다수의 폐수가 칼럼을 통과할때도 계속 개선되었다.
일렬로된 두 기공유리 이온 교환기 칼럼으로 구성된 시스템을 장치한다. 이것은 두 PYREX 유리 칼럼으로 구성되며, 각기 0.28㎠의 크로스 섹션을 지니고, PVC와 스테인레스강을 사용한 흡입과 배출관사이에 일렬로 연결되어 있다. 양성 치환 스테인레스강을 사용하여 칼럼에 용액을 통과시켰다. 흐름의 방향은 위에서 아래로 향한다.
두가지 유리를 제조함 : 유리와 동일한 Na-치환 유리(실시예 1)과 실시예 1),2) 및 3)의 공정대로된 Hg 교환유리, 단 본 경우에 단계 2)에서 최대의 수은 부하가 되도록 더 높은 수은 농도가 사용되었다. 즉, 1)단계에서 사용된 용액은 150ppm Na와 300ppm B를 지녔고 단계 2)에서의 용액은 7500ppm Hg, 60ppm Na 및 600ppm B를 지녔고, 단계 3)의 용액은 150ppm Na와 350ppm B를 지녔다. 두 유리분말 각각을 탈이온수의 용기에 가하고 두 칼럼을 0.6ml의 Na 교환 유리와, 상측에 0.4ml의 Hg 교환 유리를 부하하였다. 따라서, 전체 부피는 1.0ml이다. 유리분말은 탄성 스테인레스강으로 지지된 디스크사이에 장치한다.
칼럼을 500ml 탈이온수로 세척하였다. 다음에, 실험 용액을 통과시켰다. 첫번째 용액은 버지니아 전기 발전사의 폐수 3000ml이다. 이 물의 분석 성분은 34mg/l Na, 300mg/l B 및 6.5mg/l Ca이고 pH 8이다. 방사능 물질의 전체농도는 6.375×10-3μCi/ml로서 5.40×10-3μCi/ml의 H3와 9.75×10-4μCi/ml의 다른 방사능 동위원소로 구성되었다. 가장 중요한 것은 I131(5.745×10-4μCi/ml)와 Cs137(3.522×10-4μCi/ml)이다. 다른것은 Co60(5.129×10-4μCi/ml), Cs134(2.328×10-4μCi/ml), Co58(1.718×10-4μCi/ml 및 Mn54(1.753×10-4μCi/ml)이다. 비방사성 요오드의 농도는 I131보다 4배이다(그외의 상세한 데이타는 없음). 이 3000ml의 폐수이외에 인공합성한 1300mg/l Na, 300mg/l B, 14mg/l Ca 60mg/l Cl-및 5.6×10-4μCi/ml I131을 지닌 3000ml 용액을 제조하였다. 이 용액을 칼럼을 통과한 후 pH 9.3이었다. 유속은 210×90ml/일이었다.
방사성물을 정제하는 첫번칼럼이 행동을 측정하기 위하여, 컬럼상의 방사능을 15분간 4시간마다 계산하였다. 15분이후, 두번째칼럼의 방사능을 15분간 측정하였다. I131(284Kev)와 Cs137에(662Kev)에 대한 피크범위를 결정하였다. 첫째칼럼의 탈오염 지수는 첫째칼럼상이 수 증가와 둘째칼럼사이의 증가사이의 비율을 결정하여서 측정하였다. 실험말기에 칼럼을 건조하고, 최종시간을 계산하고(액흐름시 칼럼에 대한 최종판독과 일치하는 판독을 준다) 제거한다. 전체 3000칼럼부피에 대한 주합으로 얻은 I131에 대한 탈오염지수 약 7이었다. 그러나, 전실험에서 어떤 노화도 보이지 않았다. 첫번째 1500칼럼부피에 대한 탈오염지수가 약 6인 반면, 다음 1500칼럼부피에 대한 지수가 약 8이었다. 합성용액이 폐수 슬러리로 치환될때, 탈오염지수는 최소한 1500칼럼부피 이상에서 40 이상으로 증가하였다(이는 pH 상승에 의한 뜻함). 방사능 소멸시 I131에 대한 수정안된 리텐션 능력인 첫째칼럼의 효율은 최소한 3.5μCi이고 실험말기까지 어떠한 소진의 기미도 없었다. 한편, 긴반감기(30.2년)의 Cs137의 리텐션이 흡착이후 뒤따라왔으며, 높은 탈오염지수로 시작하여서(첫째 1700칼럼부피의 통과시 400 이상) 3000칼럼부피가 통과할때에 3에 도달하는 감소하는 탈오염지수로 그 특정이 나타난다.
이 결과 I131에 대하여 칼럼효율은 이 방사능이 칼럼통과 시간보다 짧아서 대단히 큼을 보여준다. 즉 짧은 반감기의 I131은 칼럼효율은 이온의 흡착에 쓰이는 비점유 위치수에 위하여 제한되는 장기간의 반감기를 갖는 이온교환기와 달리 크게 제한되지 않음을 보여준다. 크로마토그라피 칼럼에 사용된 지연과 동일한 형태인 이러한 지연으로 I131유출에 대하여 더욱 효과적인 유출방지제가 되는데, 이 지연으로 인하여 칼럼내에 잔존하는 동안 방사능 분해로 I131의 큰 분해의 소멸이 되는 충분한 시간이 얻어진다. 궁극적인 효율은 칼럼의 용해에 의하여서만 제한된다. 당 실험에서, 6000칼럼부피가 통과할때쯤 첫째칼럼은 3.6㎝에서 2.1㎝로 감축되었다. 용해는 첫째칼럼의 저부(Na+교환유리)에 국한되며, 상측과 둘째칼럼은 그대로 잔존하였다.
이 샘플은 짧은 방사능 동위원소의 이온에 대하여 이 칼럼의 효율은 장기의 반감기를 가진 것보다 더욱크다. 이 원리는24Na(15시간) 혹은140Ba(130일)과 같은 짧은 반감기의 이온에까지 확장될 수 있다.
다음 공정은 짧은 반감기를 지닌 방사능 동위원소에 대한 흡착 미디엄의 능력을 확장시키는 공정을 확립하는데 사용될 수 있다.
(1) 비방사성실험 혹은 실시예 9등의 방법과 같은 미디엄의 능력 nv를 확립함.
(2) 흡입물과 배출물에서 탈오염지수(DF)를 결정함.
(3) 필요한 지속시간(Th)은 상기 DF와 반감기 τ에서 얻음 ;
Th=τ×logDF/log2
(4) 시간당 칼럼부피단위로 유속(FR)을 측정
FR=cV/Th=FR
(5) 칼럼의 부피(Vc)는 일당 처리에 필요한 물의 부피를 사용하여 결정할 수 있다 :
VC=VW/FR
설명상, I131τ=8일, nv=4000cV(실시예 7의 능력) 필요한
DF=세척된 4부피의 용액=60㎥/일
지속시간 Th=
Figure kpo00003
유속=4000cV/16일=250cV/일
칼럼부피=60㎥/250=0.24㎥
이 조건에서 요오드 이온이 일일이 칼럼에 들어가면, 많은자리에 흡착되고, 용량이후 분해되지 아니하면, 칼럼을 16일후 폐기함(4000cV/250cV/일). 그러나 16일에 I131의 3/4은 크세논131은 된다. 탈오염지수는 4이다. 탈오염지수가 칼럼에서 지속시간에 의존하기 때문에, 칼럼은 용량 이상 작동할 수 있다. 사실, 사용한 도는 응집, 용매 혹은 노화등에 의하여 좌우된다.
[실시예 8]
상기 실시예는 I131을 지닌 액에 대한 탈오염지수가 장시간 다수의 칼럼부피가 통과하면서 얻을 수 있음을 보여준다. 일렬로 작동한 두 기공유리 칼럼에서 측정된 방사성의 축적율사이의 비교를 이로서 알 수 있다. 본 실시예는 첫째칼럼에 들어가는 흡입물과 둘째칼럼에서 배출되는 배출물사이의 비교로서 구체화하자는 것으로서 오염물이 제대로 제거되는지의 여부를 확인하는 것이다.
일렬로된 두 기공 유리 이온교환 칼럼으로 구성된 시스템을 실시예 7에 상술한대로 장치함. 칼럼크기와 이온교환기의 조성물(각 칼럼밑에 0.6ml의 Na-교환 유리 상축에 0.4ml의 Hg 교환유리)을 실시예 7에 서술된대로 하였다. 본 실시예의 뚜렷한 예는 둘째칼럼이 배출물이 전술한 실시예에서 방출되는 대신 계속 수집되도록 밸브를 둘째칼럼에 장치한다.
500ml 탈이온수로 세척함. 실험용액을 통과시킴 실험용액은 80mg/l Na, 230mg/B, 7mg/l Ca, 60mgCl-, 5.6×104μCi/ml I131, 3.5×10-4μCi/ml 및 0.6×10-4μCi/mlCo60이고 pH는 7.75±0.25이다. 유속은 250±40ml/일이다.
첫번째, 첫째칼럼에 따른 방사능 증가율과 둘째칼럼에 따른 증가율사이를 비교하여 실시예 7에서 서술된대로 한다. 둘째는 첫째칼럼에 주입된 것과 둘째칼럼에서 나온 배출액사이의 직접 비교로 구성된다. 동일한 방법을 두 용액에 행한다. 카운팅의 기술 등은 실시예 7에 따른다.
실험에서 주입물과 배출물의 방사능 카운팅 결과는 표 1과 같다.
[표 1]
탈오염지수
Figure kpo00004
주입물과 배출물사이의 큰 비율차이는 기대한대로서 탈오염 효율을 반영하는 것이다. 실시예 7과 8에서 혼합베드 미디엄이 사용되는데 칼럼부피는 두 Hg와 Na 유리에 의한 것이다. 따라서, Hg-교환 유리에 따르면, I131데이타는 상술한 숫자보다 더큰 1.0/0.4=2.5의 지수로 수 칼럼부피에 가하며, Hg 교환 유리에 따르면, 모든 I131데이타는 1.0/0.6=1.7의 지수로 더 높은 칼럼부피에 가한다. 실시예 8에서 칼럼용량은 실시예 7에서보다 다소 낮다. 이것은 유사한 두 경우에 사용된 기공유리 이온 교환물질 사이의 차이에 의한 것이다. 그러나, 좀더 유사한 원인은 주입물에 의한 것이다. 실시예 8의 주입물은 낮은 Na, 높은 Ca를 지니고 낮은 pH를 지니고 있다. 어떤 경우에 실시예 8의 데이타는 연속 설치된 둘째칼럼과 비교하여서 단일 탈오염 칼럼으로 얻은 결과가 통상이 주입/배출물사이의 비교에 의한 것에 의하여 구체화하며, 두 데이타는 Hg 교환 기공유리가 방사능 요오드의 제거에 매우 높은 효율을 지녔고, 반면에 Na-교환기공 유리는 방사능 세슘제거에 매우 효과적이다.
[실시예 9]
요오드 제거에 쓰이는 다른 이온 교환물질과 비교하여 수은처리된 기공유리가 더욱 효과적임을 보여주는 실험.
Hg 교환된 기공유리에 덧붙여서 실시예 7에 제조된 Ag-교환 기공유리를 동일공정으로 제조하는데, 암모니아 교환 유리의 처리단계 2)에서 부하용액의 Hg 농도는 동일농도의 Ag로 치환하였다.
실시예 7의 단계 1), 2) 및 3)의 교환 및 본 실험의 Ag-교환물을 두개의 서로다른 실시예 2의 처음에 서술된 공정에 따라서 암모니아로 처리한 제올라이트(유니온 카바이드사제품 IONISIV IE-95)로 처리하였다.
두 Hg-교환 및 Ag-교환물을 전처리안된 IONISIV IE-95의 두 샘플에 행하였다. 다른 IONISIV IE-95 샘플을 전처리없이 원형대로 실험한다. DC 플라즈마 스팩트로스코피산 용해로 도판트농도에서 모든 고체를 분석하였다.
모든 경우에 사용된 실험공정은 0.5ml 보습분말과 1.720gH3BO30.0914gNaOH3, 0.042g Ca(NO3)2, 4H2O 및 0.033gNaCl을 1ℓ의 탈이온수에 용해후 잘 혼합후 5μCi 혹은 I131을 가하여 제조한 50ml 용액을 지닌 125ml 폴리에틸렌용기에 가하는 것도 포괄한다. pH는 07.75±0.25이다. 용기를 45rpm으로 16.3시간 계속 굴리고, 10회 이것을 지속하는데, 굴림없이 5분씩 혼합하였다. 25ml의 액체를 실시예 7에서 서술된 신틸레이숀 카운터를 사용한 10분간 방사능 카운팅으로 제거하였다. 불랭크 판독은 동일시간 분말의 존재없이 50ml의 원 실험용액을 지닌 동일용기에서 얻은 25ml 액체에 대하여 행한다. 칼럼부피로 표현된 용액에서 I131을 제거한 흡착시 nv는 다음식으로 표시하였다.
Figure kpo00005
C8는 카운팅 기간에 대한 블랭크에서 얻은 카운수.
CS는 고체샘플로 교반된 동부피에 대한 동일기간에 측정된 카운수.
VS는 고체분말수.
VL는 혼합된 전체액체부피임.
실험결과는 다음과 같다.
[표 2]
Figure kpo00006
이 결과, Hg 교환 기공유리는 I131흡착제거 능력이 좋으며 최소한 18 이상의 지수로서 Hg 대신 Ag가 부하된 기공유리보다 그 능력이 양호하다. 제올라이트의 경우에, 충분한 수은이 존재할 경우 흡착미디엄에 존재하는 중금속원자당 계산되는 요오드 흡착점력은 10배 이상크다.
가) 요오드는 수은의 존재로 제공된 위치에 흡착한다.
나) 흡착공정은 다른 할로겐화물이 존재하지 않는한 평형조건으로보다는 위치의 숫자로 조절된다.
다) 흡착공정은 매우 선택적이며 요오드보다 붕산염이 50배 존재하여도 영향받지않음.
라) 각 수은 위치는 약 두배의 요오드를 다른 할로겐화물이 없는한 흡착함.
마) 최대수은양은 전처리와 부하가 암모늄 용액으로 처리시 유리에 부하될 수 있음 : 나트륨 존재시 수은에 대한 초기능력은 크게 작지아니하지만 수은의 대부분이 세척된다. 그러나, 수은에 대한 요오드 흡착은 수은을 안정화하고 칼럼에서의 용출을 막는다.
바) 급속한 기체유액에서 분자요오드는 수은 부하된 유리 칼럼에 잘 흡착될 수 있다.
사) 요오드 이외에 여러가지 방사능 오염물을 지닌 폐수를 제거할 수 있다.
아) I131과 같은 짧은 반감기의 방사능 동위원소의 이온에 대한 칼럼의 용량은 긴반감기를 지닌 이온과 비교하여 그 용량이 크다. 따라서 칼럼은 방사능 이온이 통과하는 시간을 길게하게 됨.
자) 암모늄 존재시 제올라이트에서 Hg의 효율은 과량의 염화물 존재로 요오드 흡착에 대한 원자당 Ag의 효율보다 높다.
차) 요오드 흡착에 대한 높은 효율은 미디엄이 암모니아와 수은으로 처리될때 얻어진다.
실시예 1-4 및 6의 유속실험시 용해된 수은은 요오드의 화학분석과 함께 저해되었으며 효율은 실시예 7-9의 방사능 실험에는 없다.
[실시예 10]
아민과 전처리가 있건없건 선택된 금속복합체와 함께 목탄기질의 사용을 나타냄.
[목탄의 형태]
두가지의 목탄이 사용된다. 첫째는 피셔사의 "F"로서 카타로그 번호 05-690A이다. 둘째는 반비-체니의 UU-형으로서 1100㎡/g 이상의 표면적을 지닌 것이다.
[전처리]
목탄 샘플을 200g/l의 트리에틸렌디아민의 탈이온수 용액으로 전처리하였다. 10g의 목탄을 100ml 용액에서 1rpm으로 24시간 회전하였다. 용액을 분리하고 샘플을 200ml 탈이온수로 세척하였다.
[금속 복합체처리]
2.86g의 H3BO3를 900ml 탈이온수에 용해하고, 0.25g의 복합체를 이곳에 용해시키고, 물을 1ℓ가 되게붓고, pH를 NaOH로 맞추어서 용액을 제조한다. 10ml의 목탄을 용액에서 1rpm 48시간 회전시키고 50ml 물로 삼회세척하였다(매번).
[실험]
이온교환/흡착미디엄을 스테인레스강사이의 유리칼럼에 넣는다. 다우케미칼사의 다우핵등급 SBR 음이온 교환기를 콘트롤용으로 사용하였다. 칼럼통과 용액을 다음과 같이 제조함 :
1.69g/lH3BO3
0.042g/lNa2B4O7·10H2O
0.037g/lCaCl2·2H2O
0.032g/1NaCl
및 600nCi/L의 I131을 탈이온수에 용해하였다. 샘플크기를 1ml로 함. 유속 220ml/시간, 잔존시간 16로 포함 용액은 가압 발전소의 폐수와 동일함. 하기표는 주어진 칼럼부피(CV)에 예한 탈오염지수(DF)를 나타낸다.
무처리목탄(실험 1)과 금속 복합체가 없는 전처리 목탄(실험 2)이 콘트롤보다 요오드제거에 효과적이었다. 가장 좋은 실험결과는 수은으로 얻어졌다(실험 3-5). 실험 4와 5를 비교하면, 무처리된 목탄이 전처리된 것보다 약간 양호하다. 실험 3과 6을 비교하면, Hg과 같이 좋지아니한 Ag가 콘트롤보다 양호함을 보여준다.
실험 7과 8은 높은 초기 DF를 지나지만 제한된 용량을 가진 금속(Pb 및 Cu)를 나타낸다. 이는 금속이 목탄기질을 실험공정대로 세척해버리기 때문이다.
금속이 씻겨나가는 것을 막기위하여, 실험 9를 행한다. 실시예 3에서 수은 유리를 무처리 목탄이 상층(F)에 가하였다. 이 결과의 DF는 실시예 7 혹은 실험 1보다 훨씬크며 콘트롤보다 훨씬높다. 따라서, 금속의 목탄에 대한 느린 이동은 칼럼수명을 연장시킨다.
[표 3]
Figure kpo00007
Figure kpo00008
전술한 본 발명의 기술은 특허법에 따라서 그 목적 배경을 상세히 설명한 것이다. 따라서 본 발명은 기술적으로 수많은 변형이 가능하다. 그러나 이는 모두 본 발명에 속하며 다음 청구범위는 모든 이러한 변형을 포괄하는 것이다.

Claims (41)

  1. 할로겐 음이온과 복합체를 구성하도록 충분한 수은 및 탈리움으로 구성된 중금속 양이온을 내벽에 함유한 내부면계된 기공기질로 구성된 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서 상기 중금속이 수은 양이온인 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서 상기 기공기질이 실리케이트 유리인 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서 실리케이트 유리로 구성된 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서 보호 실리케이트로 구성된 조성물.
  6. 제 1 항에 있어서 제올라이트로 구성된 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서 내벽에 암모늄 양이온을 지니는 조성물.
  8. 제 7 항에 있어서 중금속이 수은 양이온인 조성물.
  9. 제 1 항에 있어서 중금속이 최소한 약 0.01 무게%를 지는 조성물.
  10. 제 1 항에 있어서 중금속이 최소한 약 0.1 무게%인 조성물.
  11. 제 1 항에 있어서 중금속이 약 0.01-10 무게%인 조성물.
  12. 제 1 항에 있어서 상기 기공기준이 목탄인 조성물.
  13. 제 12 항에 있어서 상기 목탄의 특이면적이 500-2000㎡/g인 조성물.
  14. 제 12 항에 있어서 상기 목탄이 나무건류로 제조하는 조성물.
  15. 제 1 항에 있어서 상기 할로겐이 요오드인 조성물.
  16. 제 15 항에 있어서 할로겐이 방사능 요오드인 조성물.
  17. 할로겐을 지닌 액을 본 조성물에 통과시키고 조성물과 할로겐 사이에 중금속 양이온 복합체를 형성시켜서 할로겐을 제거하는 방법.
  18. 제 17 항에 있어서 액체가 기체인 방법.
  19. 제 18 항에 있어서 할로겐이 방사능 요오드인 방법.
  20. 제 17 항에 있어서 상기 액이 수용액인 방법.
  21. 제 17 항에 있어서 할로겐이 방사능이 요오드인 방법.
  22. 제 21 항에 있어서 조성물이 염화이온에 대한 용량이 실제로 소멸된후 방사능 요오드를 계속 제거하는 방법.
  23. 제 17 항에 있어서 상기액이 상기 조성물의 조성물 하류로 지나고 조성물이 액에 존재하는 중금속 양이온을 제거하는 방법.
  24. 제 21 항에 있어서 수용액이 염화이온을 지니고 중금속과 염화이온사이에 복합체를 형성하는 것으로 구성된 방법.
  25. 수은과 탈리움으로 구성된 것에서 선택된 중금속인 음이온기로서 중금속이 이가 산소결합으로 기공 실리케이트 유리 혹은 실리카겔의 말단 히드록실기가 알카리 금속 혹은 암모늄 옥시기로 전이티며 중금속이온을 흡착하는 것으로서 상호연계된 유리를 지닌 기공실리케이트 유리 혹은 실리카겔의 산소에 음이온 교환기가 결합하여 구성되는 방사능 할로겐화물 제거방법.
  26. 폐수를 상호연계된 기공을 지닌 기공기질을 지닌 조성물의 음이온 교환 칼럼에 통과시키는 것으로서 내벽은 상기 방사능물질과 안정한 복합체를 형성할 수 있으며 방사능물질이 이 칼럼을 통과하는데 필요한 시간이 반감기만큼의 시간 통과하는데에 특징이 있는 폐수 처리방법.
  27. 제 26 항에 있어서 방사능 물질이 I131인 방법.
  28. 상호연계된 기공을 지닌 기공목탄을 지닌 조성물에 액체를 통과시키는 것으로서 내벽에 요오드와 안정한 복합체를 구성하는 수은 탈리움, 은, 백금, 팔라듐, 납 혹은 구리에서 선택된 중금속 복합체를 지니는 데에 특징이 있는 중금속 양이온이 요오드와 충분히 복합체를 형성하며 중금속과 요오드사이에서 복합체를 형성하는 폐수에서 요오드를 제거하는 방법.
  29. 제 28 항에 있어서, 중금속이 수은인 방법.
  30. 제 28 항에 있어서 중금속이 은인 방법.
  31. 제 28 항에 있어서 목탄의 특이면적이 500-2000㎡/g인 방법
  32. 제 28 항에 있어서 목탄이 건류로 제조하는 방법.
  33. 제 28 항에 있어서 중금속이 최소한 약 0.01 무게%인 방법.
  34. 제 29 항에 있어서 중금속이 약 0.1 무게%인 방법.
  35. 제 28 항에 있어서 중금속이 약 0.01-10 무게%인 방법.
  36. 제 28 항에 있어서 조성물이 염화이온의 용량이 완전 소멸된 후에도 계속 방사능 요오드를 제거하는 방법.
  37. 제 36 항에 있어서 조성물이 염화이온의 용량이 완전 소멸된 후에도 계속 방사능 요오드를 제거하는 방법.
  38. 제 28 항에 있어서 액이 염화이온을 지니고 중금속과 염화이온사이에 복합체를 형성하는 방법.
  39. 제 28 항에 있어서 액이 상기 기공목탄의 상류를 지나고 조성물이 느리게 중금속 양이온 복합체를 방출하는 방법.
  40. 제 39 항에 있어서 액이 기공목탄의 조성물 하류를 지나고 조성물이 액에 존재하는 중금속 양이온이 제거되는 방법.
  41. 폐수를 상호연계된 기공을 지닌 기공목탄으로 구성된 조성물에 통과시키는 것으로서, 내벽에 요오드가 안정한 복합체를 형성할 수 있는 중금속 복합체를 지니며 양이온이 요오드와 복합체를 형성할 수 있으며 폐수가 조성물이 상기 중금속 양이온 복합체를 서서히 방출하는 기공목탄의 상류조성물에 통과시켜서 폐수의 요오드를 제거하는 방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101502492B1 (ko) * 2013-05-14 2015-03-16 한국원자력연구원 요오드 생광물화 촉진 벤토나이트 완충재

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5198128A (en) * 1987-07-03 1993-03-30 Siemens Aktiengesellschaft Waste disposal site, in particular for the ultimate disposal of radioactive substances
DE3804643A1 (de) * 1988-02-15 1989-08-24 Hochtemperatur Reaktorbau Gmbh Hochtemperaturreaktor mit einem kern aus vorzugsweise kugelfoermigen brennelementen
DE3808742A1 (de) * 1988-03-16 1989-09-28 Kernforschungsz Karlsruhe Verfahren zur entfernung von iod und iodverbindungen aus gasen und daempfen mit silberhaltigem zeolith x
US5183540A (en) * 1990-09-18 1993-02-02 Rubin Isadore E Method for recovering solvents through the use of an extender
US5628943A (en) * 1991-03-27 1997-05-13 Woog; Manfred J. Method of making resin kernels and foam-like material containing reactive media
WO1994003905A1 (en) * 1992-08-04 1994-02-17 Telander, William, L. Method for transmutation of select isotopes of individual elements from compositions containing such
US5345479A (en) * 1993-03-17 1994-09-06 Westinghouse Electric Corporation Sensitivity enhancement for airborne radioactivity monitoring system to detect reactor coolant leaks
US5411928A (en) * 1993-05-24 1995-05-02 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Composition for absorbing hydrogen
US6423881B1 (en) * 1998-10-22 2002-07-23 The Regents Of The University Of Michigan Selective adsorption of alkenes using supported metal compounds
US8385937B2 (en) * 2004-07-07 2013-02-26 Toshiba America Research Inc. Load equalizing antennas
CA2577761A1 (en) * 2004-08-20 2006-03-02 Resintech, Inc Modified anion exchange materials with metal inside the materials, method of making same and method of removing and recovering metals from solutions
RU2290993C1 (ru) * 2005-08-05 2007-01-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Электростальское научно-производственное объединение "Неорганика" (ФГУП "ЭНПО "Неорганика") Способ получения химического поглотителя
US20080045409A1 (en) * 2006-08-16 2008-02-21 Buarque De Macedo Pedro M Ceramic catalysts
US20100247415A1 (en) * 2009-03-26 2010-09-30 Michael C Gottlieb Method of Removing and Recovering Silica Using Modified Ion Exchange Materials
JP5766589B2 (ja) 2011-11-16 2015-08-19 株式会社東芝 ヨウ素吸着剤、及びヨウ素吸着剤を利用した水処理カラム
KR20170121049A (ko) * 2016-04-22 2017-11-01 한국원자력연구원 금 입자를 이용한 요오드의 제거 방법 및 장치
FR3114979B1 (fr) * 2018-12-10 2022-10-28 Commissariat Energie Atomique Matériau poreux à base d’un verre borosilicate, utile pour l’absorption et la capture d’iode gazeux, son procédé de préparation et ses utilisations
CN109775994B (zh) * 2019-03-26 2021-08-31 西南科技大学 一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法
CN109920574B (zh) * 2019-03-26 2020-11-24 西南科技大学 敷银硅胶的低温固化方法
CN109748509B (zh) * 2019-03-26 2021-08-31 西南科技大学 敷银硅胶的硼酸盐玻璃陶瓷低温固化方法
CN115569634A (zh) * 2022-10-27 2023-01-06 中盐常州化工股份有限公司 一种离子膜烧碱制备用除碘碳吸附材料及其制备方法

Family Cites Families (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2106744A (en) * 1934-03-19 1938-02-01 Corning Glass Works Treated borosilicate glass
US2272342A (en) * 1934-08-27 1942-02-10 Corning Glass Works Method of making a transparent article of silica
US2221709A (en) * 1938-01-29 1940-11-12 Corning Glass Works Borosilicate glass
BE438752A (ko) * 1939-04-22
US2336227A (en) * 1940-07-20 1943-12-07 Corning Glass Works Method of making sealing glasses
US3147225A (en) * 1958-01-30 1964-09-01 Minnesota Mining & Mfg Radioactive sources and method for making
US3522187A (en) * 1965-01-28 1970-07-28 Kurt A Kraus Hydrous oxide cation exchangers
US3332737A (en) * 1965-01-28 1967-07-25 Kurt A Kraus Process for separating inorganic anions with hydrous oxide anion exchangers
US3382034A (en) * 1965-01-28 1968-05-07 Kurt A. Kraus Process for separating inorganic cations from solution with hydrous oxide cation exchangers
US3658467A (en) * 1969-07-28 1972-04-25 Atomic Energy Commission System for total iodine retention
DE2109146C3 (de) * 1971-02-26 1980-03-20 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur Entfernung von Jod und Jodverbindungen aus Gasen und Dämpfen und silbernitratimprägnierte Sorptionsmittel zur Durchführung des Verfahrens
US3799883A (en) * 1971-06-30 1974-03-26 Union Carbide Corp Production of high purity fission product molybdenum-99
US3772189A (en) * 1972-01-27 1973-11-13 Culligan Inc Iodine treated activated carbon and process of treating contaminated water therewith
US3923688A (en) * 1972-03-02 1975-12-02 Ppg Industries Inc Thermally stable and crush resistant microporous glass catalyst supports and methods of making
US4110096A (en) * 1974-04-22 1978-08-29 Macedo Pedro B Method of precipitation of a dopant in a porous silicate glass
FR2236552B1 (ko) * 1973-07-13 1977-05-06 Rhone Progil
US3959172A (en) * 1973-09-26 1976-05-25 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Process for encapsulating radionuclides
US3911413A (en) * 1974-02-08 1975-10-07 Richard A Wallace Thermally activated warning system
US4110093A (en) * 1974-04-22 1978-08-29 Macedo Pedro B Method for producing an impregnated waveguide
US4156658A (en) * 1974-06-28 1979-05-29 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Fixation of radioactive ions in porous media with ion exchange gels
DE2508544A1 (de) * 1974-07-18 1976-01-29 American Air Filter Co Radioaktives jod und jodid adsorbierendes material, verfahren zu seiner herstellung sowie dessen verwendung zum entfernen von radioaktivem jod und radioaktiven jodiden aus einem abgasstrom
CA1064630A (en) * 1975-04-29 1979-10-16 John J. Doumas Process and apparatus for treating drinking water
US4072709A (en) * 1975-05-27 1978-02-07 Monsanto Company Production of lactic acid
US4204980A (en) * 1976-01-08 1980-05-27 American Air Filter Company, Inc. Method and composition for removing iodine from gases
DE2620254C2 (de) * 1976-05-07 1984-03-15 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur Herstellung von Hydroxybenzaldehyden
US4237306A (en) * 1976-08-26 1980-12-02 Emery Industries, Inc. Thallium(III) reagents supported on montmorillonite clay minerals and oxythallation processes for utilizing same
US4088737A (en) * 1976-11-02 1978-05-09 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Dry method for recycling iodine-loaded silver zeolite
DE2704147C2 (de) * 1977-02-02 1986-04-10 Deutsche Gesellschaft für Wiederaufarbeitung von Kernbrennstoffen mbH, 3000 Hannover Verfahren zur Herstellung eines endlagerfähigen, radioaktive Stoffe enthaltenden, stabilen Verfestigungsproduktes
JPS53106682A (en) * 1977-03-01 1978-09-16 Hitachi Ltd Supporting method for hydrated metal oxide on carrier
US4224177A (en) * 1978-03-09 1980-09-23 Pedro B. Macedo Fixation of radioactive materials in a glass matrix
JPS544890A (en) * 1977-06-15 1979-01-13 Hitachi Ltd Adsorbent
FR2395573A1 (fr) * 1977-06-24 1979-01-19 Pechiney Ugine Kuhlmann Uran Procede de conditionnement des produits de fission provenant du retraitement des combustibles irradies par voie seche
NL7710632A (nl) * 1977-09-29 1979-04-02 Akzo Nv Werkwijze voor de verwijdering van kwik uit kwikdamp bevattende gassen.
FR2418798A1 (fr) * 1978-03-03 1979-09-28 Science Union & Cie Nouvelles piperazines disubstituees, leurs procedes de preparation et les compositions pharmaceutiques les renfermant
US4362659A (en) * 1978-03-09 1982-12-07 Pedro B. Macedo Fixation of radioactive materials in a glass matrix
JPS598419B2 (ja) * 1978-08-14 1984-02-24 株式会社日立製作所 単体ヨウ素または有機ヨウ素化合物の吸着材
FR2440778B1 (fr) * 1978-11-09 1987-08-21 Macedo Pedro Fixation par echange d'ions de matieres toxiques dans une matrice de verre
US4312774A (en) * 1978-11-09 1982-01-26 Pedro B. Macedo Immobilization of radwastes in glass containers and products formed thereby
JPS5587100A (en) * 1978-12-26 1980-07-01 Tokyo Shibaura Electric Co Ceramic solid body of radioactive waste and producing same
US4333847A (en) * 1979-04-30 1982-06-08 P. B. Macedo Fixation by anion exchange of toxic materials in a glass matrix
US4338215A (en) * 1979-09-24 1982-07-06 Kennecott Corporation Conversion of radioactive wastes to stable form for disposal
JPS56108532A (en) * 1980-02-04 1981-08-28 Hitachi Ltd Iodine adsorbing material and preparation thereof
FR2479541A1 (fr) * 1980-03-27 1981-10-02 Gagneraud Pere Fils Entr Procede de blocage des elements alcalins et alcalino-terreux radio-actifs
US4376070A (en) * 1980-06-25 1983-03-08 Westinghouse Electric Corp. Containment of nuclear waste
US4377507A (en) * 1980-06-25 1983-03-22 Westinghouse Electric Corp. Containing nuclear waste via chemical polymerization
US4362660A (en) * 1980-07-14 1982-12-07 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Mercuric iodate precipitation from radioiodine-containing off-gas scrubber solution
CA1174472A (en) * 1980-09-17 1984-09-18 Shiro Kurosaki Process for the production of an optical glass article
US4454332A (en) * 1981-04-17 1984-06-12 Merck & Co., Inc. Hydroxy amino dicarboxylic acids and esters
US4394354A (en) * 1981-09-28 1983-07-19 Calgon Carbon Corporation Silver removal with halogen impregnated activated carbon

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101502492B1 (ko) * 2013-05-14 2015-03-16 한국원자력연구원 요오드 생광물화 촉진 벤토나이트 완충재

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