CN109775994B - 一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，包括以下步骤：将含放射性碘的敷银硅胶颗粒与玻璃陶瓷粉混合，加入去离子水后进行研磨，得到潮湿的混合物，其中，玻璃陶瓷由B₂O₃，Bi₂O₃，ZnO及SiO₂组成；对潮湿的混合物进行干燥处理，得到干燥的混合物；将干燥的混合物放入烧结装置中进行烧结，烧结完成后进行冷却，得到玻璃陶瓷烧结体。本发明所得的玻璃陶瓷烧结体具有固化温度较低，碘浸出率低，热释率低等优点，能够较好地处理放射性碘在环境中的扩散。本发明的方法具有工艺过程简单、节能环保、安全可靠等特点，具有良好的工业应用前景。

Description

一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法

技术领域

本发明涉及放射性废物处理领域，具体涉及一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法。

背景技术

在乏燃料的后处理过程中均会产生含碘-129的废气。由于碘-129具有较长的半衰期，且化学性质较为活泼，因此碘-129容易在生物体内聚集并对其造成长期损伤。目前，对废气中的碘单质及有机碘主要采用敷银硅胶进行吸附，敷银硅胶是将硅胶颗粒放置于AgNO₃溶液中所获得的颗粒，通过对含放射性碘的敷银硅胶进行固化处理以达到长期贮存的目的。放射性碘在吸附后主要转化为碘化银，但这种硅胶颗粒本身易受压力、温度、湿度等外界环境因素的影响，导致固化体的形变影响其稳定性，不能满足长期处置放射性碘的需求。

发明内容

本发明针对上述问题，提出了一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法。

本发明采取的技术方案如下：

一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，包括以下步骤：

将含放射性碘的敷银硅胶颗粒与玻璃陶瓷粉混合，加入去离子水后进行研磨，得到潮湿的混合物，其中，玻璃陶瓷由B₂O₃，Bi₂O₃，ZnO及SiO₂组成；

对潮湿的混合物进行干燥处理，得到干燥的混合物；

将干燥的混合物放入烧结装置中进行烧结，烧结完成后进行冷却，得到玻璃陶瓷烧结体。

实际运用时，含放射性碘的敷银硅胶颗粒与玻璃陶瓷粉可以在胶体磨中研磨。

本发明所得的玻璃陶瓷烧结体具有固化温度较低，碘浸出率低，热释率低等优点，能够较好地处理放射性碘在环境中的扩散。本发明的方法具有工艺过程简单、节能环保、安全可靠等特点，具有良好的工业应用前景。

于本发明其中一实施例中，所述干燥的混合物中，按质量百分数计，所述含放射性碘的敷银硅胶颗粒为20％～70％，所述玻璃陶瓷粉为30％～80％。进一步的，所述含放射性碘的敷银硅胶为40％～60％，所述玻璃陶瓷粉为50％～70％。

于本发明其中一实施例中，所述含放射性碘的敷银硅胶颗粒为硅胶和AgI的混合物，放射性碘在敷银硅胶的负载量范围为120mg/g至300mg/g。进一步的，放射性碘在敷银硅胶的负载量范围为150mg/g至250mg/g。

于本发明其中一实施例中，所述玻璃陶瓷粉中，B₂O₃质量分数为3％～65％，Bi₂O₃质量分数为17％～52％，ZnO质量分数为5％～42％，SiO₂质量分数为3％～28％。

于本发明其中一实施例中，玻璃陶瓷粉的平均粒径小于等于500μm，玻璃陶瓷粉的制备步骤为：将B₂O₃，Bi₂O₃，ZnO及SiO₂混合后在600℃～1500℃下烧结得到玻璃陶瓷，对玻璃陶瓷进行研磨得到玻璃陶瓷粉。进一步的，B₂O₃，Bi₂O₃，ZnO及SiO₂的烧结温度具体可为900℃～1200℃，实际运用时，可以通过玛瑙研钵对玻璃陶瓷进行人工研磨，研磨时间为1～2h，研磨所得玻璃陶瓷粉的平均粒径(直径)，优选的，小于等于200μm。

实际运用时，在烧结得到玻璃陶瓷前，还包括对玻璃陶瓷原料基材(B₂O₃，Bi₂O₃，ZnO及SiO₂)的细化处理，通过研磨，使玻璃陶瓷原料基材的平均粒径小于等于100μm，具体可为小于等于50μm，研磨时间为6h～48h，具体可为12～30h。

实际运用时，优选的，含放射性碘的敷银硅胶颗粒与玻璃陶瓷粉混合研磨后，混合物的平均粒径小于等于100μm，具体可为小于等于50μm。研磨时间为6h～48h，具体可为12～30h。

于本发明其中一实施例中，对潮湿的混合物进行干燥处理具体方式为：在常温到100℃之间的温度下通风干燥1h～8h。更具体的，可以在90℃的温度下通风干燥6h。

于本发明其中一实施例中，在将干燥的混合物放入烧结装置之前，还包括预压处理步骤：在1MPa～30MPa下，对干燥的混合物进行预压成型处理，得到块状的干燥的混合物。更具体的，可以在5MPa～20MPa下预压成型。

于本发明其中一实施例中，干燥的混合物在烧结装置中的烧结温度为300℃～700℃，烧结的时间为1h～14h。具体可为400℃～600℃，更具体的为450℃或550℃，烧结的时间更具体为2h～8h。

于本发明其中一实施例中，烧结完成后进行冷却的方式为：以1～5℃/min的降温速率降温至100～300℃后，自然冷却至室温。更具体的，可以以2℃/min的降温速率降温至100℃后，然后自然冷却至室温。实际运用时，还可以直接在烧结完成后，自然冷却至室温。

于本发明其中一实施例中，上述的方法通过固化设备进行实施，所述固化设备包括：

第一胶体磨，用于研磨B₂O₃，Bi₂O₃，ZnO及SiO₂；

第一干燥装置，用于接收来自第一胶体磨的原料，并将原料干燥；

第一烧结装置，用于对第一干燥装置干燥后的原料进行烧结操作，得到玻璃陶瓷；

玻璃陶瓷研磨装置，用于将玻璃陶瓷研磨成玻璃陶瓷粉；

敷银硅胶颗粒过滤机构；

第二胶体磨，用于混合并研磨敷银硅胶颗粒与玻璃陶瓷粉；

第二干燥装置，用于接收来自第二胶体磨的潮湿的混合物，并对混合物干燥，得到干燥的混合物；

第二烧结装置，用于对干燥的混合物进行烧结操作。

第一烧结装置和第二烧结装置可以为高温马弗炉或微波烧结炉等设备。

于本发明其中一实施例中，所述玻璃陶瓷研磨装置包括：

机架；

支撑座，转动安装在机架上，支撑座具有多个贯穿的定位孔；

第一电机，用于驱动所述支撑座转动；

研钵，下端具有多根定位柱，定位柱与对应的定位孔配合，研钵通过定位柱插设在支撑座上，与支撑座贴靠；

研磨电机，设置在所述研钵的上方，研磨电机的输出轴上固定有安装盘；

研磨棒，偏心的安装在所述安装盘上，研磨棒用于与研钵配合，进行研磨操作；以及

第一升降机构，设置在研磨电机的上方，用于驱动研磨电机上下移动；

所述敷银硅胶颗粒过滤机构包括：

称重计；

第一漏斗，设置在所述称重计的正上方；

过滤网，安装在第一漏斗中；

第一振动电机，安装在第一漏斗或过滤网上；以及

收集箱，安放在所述称重计上，且位于第一漏斗的正下方；

所述第一干燥装置和第二干燥装置均包括：

过水网，位于对应胶体磨出料口的正下方，用于滤水，所述过水网上设置有两块相对设置的竖直板；

活动板，设置在两块竖直板之间，且下侧两端分别与竖直板转动配合，所述活动板具有第一工作位和第二工作位，在第一工作位时，所述活动板竖直设置，在第二工作位时，所述活动板水平向外打开；

复位扭簧，与活动板配合，用于使活动板保持在第一工作位；

推板，竖直设置，推板的下端与过水网抵靠，推板和活动板分别位于过水网的两侧，两块竖直板、活动板和推板形成限位空间，所述限位空间用于接收来自胶体磨出料口的潮湿的混合物；

吹风管，一端设置在竖直板的侧壁，用于向过水网一侧吹风，另一端与加热风机连接；

第二振动电机，固定在过水网的下部；以及

推送气缸，活塞杆与推板固定，用于驱动推板向活动板一端移动，打开活动板将干燥后的混合物排出。

玻璃陶瓷研磨装置工作原理：第一升降机构能够使研磨棒靠近或远离研钵，研磨棒偏心的安装在安装盘上，使得研磨电机工作时，研磨棒能够可靠的进行研磨操作，通过定位孔和定位柱的配合，研磨能够可靠限定住，且取出也较为方便，第一电机能够驱动支撑座在30°角度内转动，从而可以保证较好的研磨效果。

敷银硅胶颗粒过滤机构工作原理：含碘的敷银硅胶颗粒倒入第一漏斗，第一振动电机工作，使满足要求的含碘的敷银硅胶颗粒通过过滤网后落入收集箱，称重计能够称得落入收集箱的含碘的敷银硅胶颗的质量。

第一干燥装置和第二干燥装置的工作原理：胶体磨出料口出来的物质是潮湿的，通过过水网能够过滤较多的水，通过两块竖直板、活动板和推板形成限位空间来接收潮湿的物质，通过与加热风机连接的吹风管能够进行热风干燥操作，通过设置第二振动电机能够提高干燥效率，活动板下侧两端分别与竖直板转动配合，推送气缸能够驱动推板向活动板一端移动，克服复位扭簧的弹性力，从而打开活动板将干燥后的物质排出。

第一升降机构可以为气缸、液压缸或电动推杆。优选的，为了方便拿取研钵，所述研钵的外侧壁上设有把手。设置把手方便拿取研钵。

作为优选，其中一块竖直板的上端转动安装有盖板，所述盖板用于盖住所述限位空间，干燥装置还包括用于驱动盖板转动的驱动元件，比如电机。

通过驱动元件和盖板的配合，在吹风管工作时，能够盖住驱动元件，防止物质飞溅到外部。

还包括按压成型装置，所述按压成型装置用于将干燥装置得到的混合物压成块状结构；所述按压成型装置包括：

中空座，设置在活动板的一侧，用于接收来自第二干燥装置干燥后的混合物；

支撑板，滑动密封设置在中空座的内部，且位于中空座的下方；

第二升降机构，设置在支撑板的下方，用于驱动支撑板上下移动；

按压板，位于中空座的正上方；

第三升降机构，设置在按压板的上方，用于驱动按压板向中空座的内部移动，挤压干燥的混合物。

按压成型装置工作原理：中空座内部空间用于接收干燥的混合物，接收完成后，第三升降机构工作，使按压板下压，进行预压成型操作，按压完成后，第三升降机构复位，第二升降机构工作，支撑板向上移动，被压缩成块状结构的混合物能够从中空座移出，从而可以取出，到第二烧结装置中进行烧结操作。

作为优选，所述第二升降机构和第三升降机构为液压油缸。

作为优选，所述活动板的左右两侧具有向推板一侧延伸的限位部，活动板为U形结构，限位部嵌入竖直板的内侧壁，推板向中空座移动时，推板会在两个限位部之间滑动。活动板为U形结构，在推板将干燥的混合物推送至中空座时，能够可靠的限定混合物。

本发明的有益效果是：本发明所得的玻璃陶瓷烧结体具有固化温度较低，碘浸出率低，热释率低等优点，能够较好地处理放射性碘在环境中的扩散。本发明的方法具有工艺过程简单、节能环保、安全可靠等特点，具有良好的工业应用前景。

附图说明：

图1是固化设备的示意图；

图2是敷银硅胶颗粒过滤机构的示意图；

图3是玻璃陶瓷研磨装置的示意图；

图4是玻璃陶瓷研磨装置另一角度的示意图；

图5是胶体磨、干燥装置以及按压成型装置的示意图。

图中各附图标记为：

1、第一烧结装置；2、玻璃陶瓷研磨装置；3、敷银硅胶颗粒过滤机构；4、第二胶体磨；5、第二干燥装置；6、第二烧结装置；7、按压成型装置；8、称重计；9、收集箱；10、第一漏斗；11、过滤网；12、第一振动电机；13、支撑座；14、定位孔；15、研钵；16、定位柱；17、研磨棒；18、安装盘；19、研磨电机；20、第一升降机构；21、把手；22、第一电机；23、出料口；24、过水网；25、竖直板；26、活动板；27、限位部；28、推板；29、限位空间；30、盖板；31、推送气缸；32、第二振动电机；33、吹风管；34、加热风机；35、中空座；36、第二升降机构；37、按压板；38、第三升降机构；39、第一胶体磨；40、第一干燥装置。

具体实施方式：

下面结合各附图，对本发明做详细描述。

下述的实验方法，如无特殊说明，均为常规方法。

下述实施例中所用的材料、试剂等，如无特殊说明，均可从商业途径得到。

下述实施例中，所用高温马弗炉为KSS-1700型高温马弗炉。

下述实施例中，所用型号为JM-L50，购买自温州龙湾永兴华威机械厂。

下述实施例中，所用玛瑙研钵规格为120mm，购买自常州普天仪器制造有限公司。

所用硅胶颗粒购买自山东青岛鑫昶来股份有限公司。

所用AgI、氧化硼(B₂O₃)、氧化铋(Bi₂O₃)以及氧化锌(ZnO)购买自上海阿拉丁生化科技股份有限公司。

所用SiO2购买自成都科龙化工试剂厂。

实施例1

本实施例中，用常见的碘-127模拟放射性核素碘-129。一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，包括以下步骤：

(1)将0.916gSiO₂，2.272gB₂O₃，1.694gBi₂O₃，1.118gZnO加入去离子水置于胶体磨中充分研磨24h后在100℃下蒸发干燥6h得到玻璃陶瓷烧结基材，将玻璃陶瓷烧结基材放入高温马弗炉中，在900℃～1200℃下烧结得到玻璃陶瓷，将玻璃陶瓷放入玛瑙研钵进行研磨，得到玻璃陶瓷粉；

(2)将得到的玻璃陶瓷粉与2.518g硅胶及1.482gAgI加入去离子水后置于胶体磨中充分研磨24h后在100℃下蒸发干燥6h得到干燥的混合物；

(3)干燥的混合物在10MPa下预压成型，得到块状的干燥的混合物；

(4)将块状的干燥的混合物放入高温马弗炉中，由室温升温至450℃，在450℃保温6h后，以2℃/min的降温速率降温至200℃后，自然冷却至室温，得到含碘敷银硅胶的硼酸盐玻璃陶瓷烧结体。

取出样品后进行测试，制得的含碘敷银硅胶的硼酸盐玻璃陶瓷烧结体的体积密度为2.158g/cm³，烧结完毕后碘的热释率为1.02％，PCT标准下放射性核素I的归一化浸出率在42天后低于2.78×10^-4g·m^-2·d^-1。

实施例2

本实施例中，用常见的碘-127模拟放射性核素碘-129。一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，包括以下步骤：

(1)将1.782gSiO₂，0.448gB₂O₃，2.272gBi₂O₃，1.498gZnO加入去离子水置于胶体磨中充分研磨24h后在100℃下蒸发干燥6h得到玻璃陶瓷烧结基材，将玻璃陶瓷烧结基材放入高温马弗炉中，在900℃～1200℃下烧结得到玻璃陶瓷，将玻璃陶瓷放入玛瑙研钵进行研磨，得到玻璃陶瓷粉；

(2)将得到的玻璃陶瓷粉与2.518g硅胶及1.482gAgI加入去离子水后置于胶体磨中充分研磨30h后在100℃下蒸发干燥6h得到干燥的混合物；

(3)干燥的混合物在10MPa下预压成型，得到块状的干燥的混合物；

(4)将块状的干燥的混合物放入高温马弗炉中，由室温升温至500℃，在500℃保温6h后，以2℃/min的降温速率降温至200℃后，自然冷却至室温，得到含碘敷银硅胶的硼酸盐玻璃陶瓷烧结体。

取出样品后进行测试，制得的含碘敷银硅胶的硼酸盐玻璃陶瓷烧结体的体积密度为3.211g/cm³，烧结完毕后碘的热释率为1.74％，PCT标准下放射性核素I的归一化浸出率在42天后低于3.57×10^-4g·m^-2·d^-1。

对比例1

(1)将2.376gSiO₂，0.597gB₂O₃，3.029gBi₂O₃，1.998gZnO加入去离子水置于胶体磨中充分研磨24h后在100℃下蒸发干燥6h得到玻璃陶瓷烧结基材，将玻璃陶瓷烧结基材放入高温马弗炉中，在900℃～1200℃下烧结得到玻璃陶瓷，将玻璃陶瓷放入玛瑙研钵进行研磨，得到玻璃陶瓷粉；

(2)将得到的玻璃陶瓷粉与0.518g硅胶及1.482gAgI加入去离子水后置于胶体磨中充分研磨30h后在100℃下蒸发干燥6h得到干燥的混合物。

(3)干燥的混合物在10MPa下预压成型，得到块状的干燥的混合物；

(4)将块状的干燥的混合物放入高温马弗炉中，由室温升温至500℃，在500℃保温6h后，以2℃/min的降温速率降温至200℃后，自然冷却至室温，得到含碘敷银硅胶的硼酸盐玻璃陶瓷烧结体。

取出样品后进行测试，制得的含碘敷银硅胶的硼酸盐玻璃陶瓷烧结体的体积密度为3.466g/cm³，烧结完毕后碘的热释率为4.75％，PCT标准下放射性核素I的归一化浸出率在42天后低于8.61×10^-3g·m^-2·d^-1。

相对于实施例1，实施例2中的稳定性评价数据，在提高碘的负载量后，含碘敷银硅胶的硼酸盐玻璃陶瓷烧结体中I-在42天后累计浸出分数及热释率均出现一定程度的提高，这将不利于含碘敷银硅胶的硼酸盐玻璃陶瓷烧结体的长期稳定性评价。

实施例3

如图1所示，本实施例公开了一种固化设备，用于实施本申请的方法，固化设备包括：

第一胶体磨39，用于研磨B2O3，Bi2O3，ZnO及SiO2；

第一干燥装置40，用于接收来自第一胶体磨39的原料，并将原料干燥；

第一烧结装置1，用于对第一干燥装置40干燥后的原料进行烧结操作，得到玻璃陶瓷；

玻璃陶瓷研磨装置2，用于将玻璃陶瓷研磨成玻璃陶瓷粉；

敷银硅胶颗粒过滤机构3；

第二胶体磨4，用于混合并研磨敷银硅胶颗粒与玻璃陶瓷粉；

第二干燥装置5，用于接收来自第二胶体磨4的潮湿的混合物，并对混合物干燥，得到干燥的混合物；

第二烧结装置6，用于对干燥的混合物进行烧结操作。

第一烧结装置1和第二烧结装置6可以为高温马弗炉或微波烧结炉等设备。

如图1、3和4所示，玻璃陶瓷研磨装置2包括：

机架；

支撑座13，转动安装在机架上，支撑座13具有多个贯穿的定位孔14；

第一电机22，用于驱动支撑座13转动；

研钵15，下端具有多根定位柱16，定位柱16与对应的定位孔14配合，研钵15通过定位柱16插设在支撑座13上，与支撑座13贴靠；

研磨电机19，设置在研钵15的上方，研磨电机19的输出轴上固定有安装盘18；

研磨棒17，偏心的安装在安装盘18上，研磨棒17用于与研钵15配合，进行研磨操作；以及

第一升降机构20，设置在研磨电机19的上方，用于驱动研磨电机19上下移动；

如图2所示，敷银硅胶颗粒过滤机构3包括：

称重计8；

第一漏斗10，设置在称重计8的正上方；

过滤网11，安装在第一漏斗10中；

第一振动电机12，安装在第一漏斗10或过滤网11上；以及

收集箱9，安放在称重计8上，且位于第一漏斗10的正下方；

如图5所示，第一干燥装置40和第二干燥装置5均包括：

过水网24，位于对应胶体磨出料口23的正下方，用于滤水，过水网24上设置有两块相对设置的竖直板25；

活动板26，设置在两块竖直板25之间，且下侧两端分别与竖直板25转动配合，活动板26具有第一工作位和第二工作位，在第一工作位时，活动板26竖直设置，在第二工作位时，活动板26水平向外打开；

复位扭簧(图中未画出)，与活动板26配合，用于使活动板26保持在第一工作位；

推板28，竖直设置，推板28的下端与过水网24抵靠，推板28和活动板26分别位于过水网24的两侧，两块竖直板25、活动板26和推板28形成限位空间29，限位空间29用于接收来自胶体磨出料口23的潮湿的混合物；

吹风管33，一端设置在竖直板25的侧壁，用于向过水网24一侧吹风，另一端与加热风机34连接；

第二振动电机32，固定在过水网24的下部；以及

推送气缸31，活塞杆与推板28固定，用于驱动推板28向活动板26一端移动，打开活动板26将干燥后的混合物排出。

玻璃陶瓷研磨装置2工作原理：第一升降机构20能够使研磨棒17靠近或远离研钵15，研磨棒17偏心的安装在安装盘18上，使得研磨电机19工作时，研磨棒17能够可靠的进行研磨操作，通过定位孔14和定位柱16的配合，研磨能够可靠限定住，且取出也较为方便，第一电机22能够驱动支撑座13在30°角度内转动，从而可以保证较好的研磨效果。

敷银硅胶颗粒过滤机构3工作原理：含碘的敷银硅胶颗粒倒入第一漏斗10，第一振动电机12工作，使满足要求的含碘的敷银硅胶颗粒通过过滤网11后落入收集箱9，称重计8能够称得落入收集箱9的含碘的敷银硅胶颗的质量。

第一干燥装置40和第二干燥装置5的工作原理：胶体磨出料口23出来的物质是潮湿的，通过过水网24能够过滤较多的水，通过两块竖直板25、活动板26和推板28形成限位空间29来接收潮湿的物质，通过与加热风机34连接的吹风管33能够进行热风干燥操作，通过设置第二振动电机32能够提高干燥效率，活动板26下侧两端分别与竖直板25转动配合，推送气缸31能够驱动推板28向活动板26一端移动，克服复位扭簧的弹性力，从而打开活动板26将干燥后的物质排出。

第一升降机构20可以为气缸、液压缸或电动推杆。优选的，为了方便拿取研钵15，研钵15的外侧壁上设有把手21。设置把手21方便拿取研钵15。

作为优选，其中一块竖直板25的上端转动安装有盖板30，盖板30用于盖住限位空间29，干燥装置还包括用于驱动盖板30转动的驱动元件(图中未画出)，比如电机。

通过驱动元件和盖板30的配合，在吹风管33工作时，能够盖住驱动元件，防止物质飞溅到外部。

如图5所示，还包括按压成型装置7，按压成型装置7用于将干燥装置得到的混合物压成块状结构；按压成型装置7包括：

中空座35，设置在活动板26的一侧，用于接收来自第二干燥装置5干燥后的混合物；

支撑板(图中未画出)，滑动密封设置在中空座35的内部，且位于中空座35的下方；

第二升降机构36，设置在支撑板的下方，用于驱动支撑板上下移动；

按压板37，位于中空座35的正上方；

第三升降机构38，设置在按压板37的上方，用于驱动按压板37向中空座35的内部移动，挤压干燥的混合物。

按压成型装置7工作原理：中空座35内部空间用于接收干燥的混合物，接收完成后，第三升降机构38工作，使按压板37下压，进行预压成型操作，按压完成后，第三升降机构38复位，第二升降机构36工作，支撑板向上移动，被压缩成块状结构的混合物能够从中空座35移出，从而可以取出，到第二烧结装置6中进行烧结操作。

作为优选，第二升降机构36和第三升降机构38为液压油缸。

作为优选，活动板26的左右两侧具有向推板28一侧延伸的限位部27，活动板26为U形结构，限位部27嵌入竖直板25的内侧壁，推板28向中空座35移动时，推板28会在两个限位部27之间滑动。活动板26为U形结构，在推板28将干燥的混合物推送至中空座35时，能够可靠的限定混合物。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此即限制本发明的专利保护范围，凡是运用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的保护范围内。

Claims (7)

1.一种敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，其特征在于，包括以下步骤：

将含放射性碘的敷银硅胶颗粒与玻璃陶瓷粉混合，加入去离子水后进行研磨，得到潮湿的混合物，其中，玻璃陶瓷由B₂O₃，Bi₂O₃，ZnO及SiO₂组成；

对潮湿的混合物进行干燥处理，得到干燥的混合物；

将干燥的混合物放入烧结装置中进行烧结，烧结完成后进行冷却，得到玻璃陶瓷烧结体；

所述干燥的混合物中，按质量百分数计，所述含放射性碘的敷银硅胶颗粒为20％～70％，所述玻璃陶瓷粉为30％～80％；

所述含放射性碘的敷银硅胶颗粒为硅胶和AgI的混合物，放射性碘在敷银硅胶的负载量范围为120mg/g至300mg/g；

所述玻璃陶瓷粉中，B₂O₃质量分数为3％～65％，Bi₂O₃质量分数为17％～52％，ZnO质量分数为5％～42％，SiO₂质量分数为3％～28％。

2.如权利要求1所述的敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，其特征在于，玻璃陶瓷粉的平均粒径小于等于500μm，玻璃陶瓷粉的制备步骤为：将B₂O₃，Bi₂O₃，ZnO及SiO₂混合后在600℃～1500℃下烧结得到玻璃陶瓷，对玻璃陶瓷进行研磨得到玻璃陶瓷粉。

3.如权利要求1所述的敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，其特征在于，对潮湿的混合物进行干燥处理具体方式为：在常温到100℃之间的温度下通风干燥1h～8h。

4.如权利要求1所述的敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，其特征在于，在将干燥的混合物放入烧结装置之前，还包括预压处理步骤：在1MPa～30MPa下，对干燥的混合物进行预压成型处理，得到块状的干燥的混合物。

5.如权利要求1所述的敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，其特征在于，干燥的混合物在烧结装置中的烧结温度为300℃～700℃，烧结的时间为1h～14h。

6.如权利要求1所述的敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，其特征在于，烧结完成后进行冷却的方式为：以1～5℃/min的降温速率降温至100～300℃后，自然冷却至室温。

7.如权利要求1～6任意一项所述的敷银硅胶的玻璃陶瓷低温固化方法，其特征在于，通过固化设备进行实施，所述固化设备包括：

第一胶体磨，用于研磨B₂O₃，Bi₂O₃，ZnO及SiO₂；

第一干燥装置，用于接收来自第一胶体磨的原料，并将原料干燥；

第一烧结装置，用于对第一干燥装置干燥后的原料进行烧结操作，得到玻璃陶瓷；

玻璃陶瓷研磨装置，用于将玻璃陶瓷研磨成玻璃陶瓷粉；

敷银硅胶颗粒过滤机构；

第二胶体磨，用于混合并研磨敷银硅胶颗粒与玻璃陶瓷粉；

第二干燥装置，用于接收来自第二胶体磨的潮湿的混合物，并对混合物干燥，得到干燥的混合物；

第二烧结装置，用于对干燥的混合物进行烧结操作。

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