KR900701157A - 개선된 제초제와 그 이용 - Google Patents

개선된 제초제와 그 이용

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Abstract

내용 없음

Description

개선된 제초제와 그 이용
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (53)

  1. 제초유효량의 제초제, 보습제 및 실리콘 표면활성제로 구성된 것을 특징으로 하는 제초제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 제초제는 아시플루오르펜(5-(2-클로로-ααα-트리플루오로-p-토일옥시)-2-니트로벤조산과 이들의 농업적으로 유용한 염; 옥시플루오르펜(2-클로로-1-(3-에톡시-4-니트로페녹실)-4-(트리플루오로메틸)벤젠; 락토펜, (1'- (카르보에톡시)에틸 5-2-클로로-4-(트리플루오로메틸)페녹시-2-니트로벤조에이트이마자퀸(2-4,5-디하이드로-4-메틸-4- (1-메틸에틸)-5-옥소-1H-이미다졸-2-일-3-퀴놀린카르복실산과 이들의 농업적으로 유용한 염, N-포스포노메틸글리신 및/또는 이들의 농업적으로 유용한 염과 이들의 혼합물로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 제초제는 N-포스포노메틸글리신 또는 이들의 농업적으로 유용한 염인것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제3항에 있어서, N-포스포노메틸글리신의 농업적으로 유용한 염은 이소프로필아민염인 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제3항에 있어서, 조성물은 N-포스포노메틸 글리신의 이소프로필아민염, Silwet L-77과 보습제로 구성된 것임을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 실리콘 표면활성제는 다음과 같은 구조식을 갖는 폴리알킬렌옥사이드 변성 디메틸 폴리실록산 궁중합체로 구성된 것임을 특징으로 하는 조성물.
    여기에서 a는 3 내지 24, b는 0는 15, x는 0 내지 3, y는 1 내지 5의 범위에 속하는 정수이며 z는 수소 또는 탄소수 1-3인 저급알킬라디칼 또는 탄소수 2-4인 아실기일 수 있다.
  7. 제 8항에 있어서, a는 4 내지 7, b는 0 내지 3, x=0, y=1 임을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 실리콘 표면활성제는 다음 구조식을 갖는 것임을 특징으로 하는 조성물.
    여기에서 R은 탄소수 1 내지 6인 알킬라디칼; A는 탄소수 7 내지 30인 직쇄 또는 분지쇄 알킬라디칼; G는 글리콜모이에티로서 -R'(OCH CH)mOZ의 구조(여기에서 R'는 탄소수 1 내지 6인 2가 알킬렌기이며 Z는 수소 탄소수 1 내지 3인 알킬라디칼 및 탄소수 2 내지 4인 아실기이고 m은 약 100이다)를 갖는 것으로 부터 선택되며, 0는 상기 라디칼 A, 상기 글리콜 모이에티 G 및 상기 알킬라디칼 R로부터 선택된 것이고 x는 0 내지 100, y는 0.1 내지 25, z는 7.1 내지 50인 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 실리콘 표면활성제는 다음과 같은 구조식을 갖는 것으로, Me는 메틸기임을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 제초제는 N-포스포노메틸글리신이나 이들의 농업적으로 유용한 염이고 실리콘 표면활성제는 다음과 같은 구조식을 갖는 화합물로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 조성물.
    여기에서 Me는 메틸라디칼이고, a은 4 내지 7, b은 0 내지 3의 정수이며, Z는 수소, 탄소수 1 내지 3인 알킬라디칼 또는 탄소수 2 내지 4인 아실기 및 다음 구조식을 갖는 화합물로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 조성물.
    여기에서 R은 탄소수 1 내지 6인 알킬 라디칼로 부터 각각 선택되며, A는 탄소수 7 내지 30인 직쇄 또는 분지쇄 알킬 라디칼, G는 글리콜 모이에티로 구조식 -R'(OCH CH)mOZ를 갖는 것으로 여기에서 R'는 탄소수 1 내지 6인 2가 알킬렌기이고 Z는 수소 탄소수 1 내지 3인 알킬라디칼 및 탄소수 2 내지 4인 아실기이며 m은 8 내지 100인 정수인 것으로 부터 각각 선택되며; Q는 상기 라디칼 A, 상기 글리콜 모이에티 G 및 상기 알킬 라디칼 R로 구성된 군으로 부터 선택되며; x는 0 내지 100, y는 7.1 내지 25, z는 7.1 내지 50인 정수임을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 실리콘 표면활성제는 다음과 같은 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
    여기에서 Me는 메틸라디칼, a는 4 내지 7, b는 0 내지 3이고 Z는 수소, 탄소수 1 내지 3인 알킬라디칼이나 탄소수 2 내지 14인 아실기이다
  12. 제10항에 있어서, N-포스포노메틸글리신의 농업적으로 유용한 염은 아민, 트리메틸설포늄 또는 이미노 우레아염인 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제10항에 있어서, N-포스포노메틸글리신의 농업적으로 유용한 염은 이소프로필아민염인것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제7항에 있어서, 보습제는 소르비롤, 글리세톨, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 글리세린, 소듐 스테아레이트, 미세결정질 셀룰로스, 에틸렌 옥사이드의 균질한 선형 중합체, 락트산 및 이들의 염과 사탕수수 당밀등으로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제7항에 있어서, 활성성분의 농도는 2 내지 70wt%임을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제12항에 있어서, 활성성분의 농도는 4 내지 40wt% 임을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제13항에 있어서, 수용액중 활성성분의 농도는 0.05 내지 20wt% 임을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제14항에 있어서, 잎에 사용을 전제로 하는 수용액중의 활성성분의 농도는 0.15 내지 5wt% 임을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제14항에 있어서, 활성성분과 실리콘 표면활성제의 비를 1 : 1로 함을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제16항에 있어서. 황성성분과 실리콘 표면활성제의 비를 1 . 30 내지 50 : 1로 함을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제17항에 있어서, 활성성분과 실리콘 표면활성제인 중량비를 1 : 15 내지 10 : 1로 함을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제16항에 있어서, 실리콘 표면활성제와 보습제의 비를 동일하게 함을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제19항에 있어서, 실리콘 표면활성제와 보습제와의 중량비를 1 : 1 내지 1 : 200으로 함을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제20항에 있어서, 실리콘 표면활성제와 보습제와의 중량비를 1:5 내지 1:50으로 함을 특징으로 하는 조성물.
  25. 제19항에 있어서, 활성성분과 보조제와의 중량비를 1:5 내지 10:1로 함을 특징으로 하는 조성물.
  26. 제22항에 있어서, 활성성분과 보조제와의 중량비를 1:2 내지 4:1로 함을 특징으로 하는 조성물,
  27. 제1항에 있어서, 불활성보조제로 물을 사용함을 특징으로 하는 조성물.
  28. 제 1항에 있어서, 조성물온 건조물인 것운 특징으로 하는 조성물.
  29. 유효량의 특허청구의 범위 제1항의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  30. 유효량의 특허청구의 범위 제2항의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  31. 유효량의 특허청구의 범위 제3항의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  32. 유효량의 특허청구의 범위 제4항의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  33. 유효량의 특허청구의 범위 제5항의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  34. 유효량의 특허청구의 범위 제6항의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  35. 유효량의 특허청구의 범위 제7항의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  36. 유효량의 특허청구의 범위 제8의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  37. 유효량의 특허청구의 범위 제5의 조성물을 식물에 직용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  38. 유효량의 특허청구의 범위 제10의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  39. 유효량의 특허청구의 범위 제11의 조성물을 식물에 적응하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  40. 유효량의 특허청구의 범위 제12의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  41. 유효량의 특허청구의 범위 제13의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  42. 유효량의 특허청구의 범위 제14의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  43. 유효량의 특허청구의 범위 제15의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  44. 유효량의 특허청구의 범위 제16의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  45. 유효량의 특허청구의 범위 제17의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  46. 유효량의 특허청구의 범위 제18의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  47. 유효량의 특허청구의 범위 제19의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  48. 유효량의 특허청구의 범위 제20의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  49. 유효량의 특허청구의 범위 제21의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  50. 유효량의 특허청구의 범위 제22의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  51. 유효량의 특허청구의 범위 제23의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  52. 유효량의 특허청구의 범위 제24의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
  53. 유효량의 특허청구의 범위 제25의 조성물을 식물에 적용하여 잡초를 제거하거나 성장을 억제시키는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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