KR900017241A - 전기 펌핑된 수직 캐비티 레이저 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

전기적으로 펌핑된 수직 캐비티 레이저
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 모든 장치에 포함된 대표적인 레이저 구조의 개략 측면도.
재2도는 횡축에 파장, 종축에 강도를 표시하여, 본 발명의 한 실시예의 장치에 있어서, 1개는 임계치 아래이고 3개는 임계치 위인 4개의 펌프 수준에 대하여 방사파장에 대한 세기의 관계를 도시한 그래프.
제3도는 레이저 캐비티의 활성 영역의 방사면과의 직접적인 섬유(fiber) 결합을 포함한 변경예를 제공하는 제1도의 구조의 단순화 측면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 활성층, 활성영역 2, 3 : 보호층
4 : 하부 DBR 5 : 고굴절율층
6 : 저굴절율층 7 : 기판
8 : 상부 DBR 11 : 브래그층
12 : 미러층, 금속 리플렉터 13 : 접촉층
15, 16 : 전극 17 : 광섬유
18 : 기판 구멍 31a : 레이저 퀀텀 웰
31b, 31c : 스페이서 34 : 하부 브래그 리플렉터

Claims (28)

  1. 한 DBR은 n-형 도체이고, 다른 DBR은 p형 도체안데, 높고 낮은 굴절을 재료의 연속적 쌍과, 두개의DBR내의 많은 수의 상기 쌍을 통하는 전류의 통로를 포함하는 전기 펌핑용 수단을 포함하는 2개의 DBR에 캐비테이션 성능면에서 의존하는 캐비티내의 능동 영역으로 주로 주성된 적어도 하나의 전기 펌핑되는 수직 캐비티 레이저를 포함하는 장치에 있어서, 상기 p-형 DBR은, 보다 적은 수의 상기 쌍을 가지지만 금속 리플렉터에 의해보완되고 페이스 매칭 DBR층으로 지칭되는 금속 리플렉터에 가장 가까운 DBR층은 레이저 캐비티 굴절율이각각의 캐비티 단부에서의 적어도 98%의 굴절율에 기인되는 “하이브리드” 리플렉터를 형성하기 위해 인접 재료내로의 방사 관통과 파괴적 간섭을 완화시킴에 의해 굴절율을 증가시키는 조정에 기인하여 효과적인 두께 변경을수용하기 위하여 대응 굴절율의 다음 DBR층의 두께에 관해서 두께 조정되는 것을 특징으로 하는 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 능동 영역의 두께는 레이징 방향으로 최대 1㎛인 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제2항에 있어서, 굴절율은 각각의 캐비티 단부에서 적어도 98%인 것을특징으로 하는 장치.
  4. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 능동 영역은 기본적으로 벌크 재료로 구성된 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 능동 영역은 상기 레이저의 작동 동안에 캐비테이티드(cavitated)정지파의 에너지 피크와 일치되는 위치에 있도록 스페이서 재료에 의해 위치된 능동 재료의 적어도 한 웰로 구성된 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 웰은 퀀텀 웰인 것을 특징으로하는 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 웰은 기본적으로 벌크 특성을 나타내도록 레이징 방향으로 충분한 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 능동 영역은 상기 레이저외 작동 동안에 캐비테이티드 정지파의 2개 이상의 에너지 피크에 웰을 위치시키도록 적어도 2개의 웰과 적어도 세개의 스페이서를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제1항에 있어서, 보호층은 인접 DBR층의 에너지 밴드갭 보다 큰 에너지 밴드갭을 갖는데, 상기 레이저는 자유로운 전기 캐리어를 상기 능동 영역내에 보호하는 것을 증진시킬 목적으로 상기 능동 영역의 적어도 한면에인접한 상기 보호층을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 보호층은 인접한 DBR과 동일한 도체 형태이며, 소수 전기 캐리어의 후방 주입을 약화시키기 위해 실질적인 에너지 배리어를 제공하는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 보호층은 캐비티의 n-형 축상에 있고, 상기 에너지 배리어는 능동 영역의 인접부와 현저히 다른 보호층 밴드 에지의 결과인 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 캐비티를 지지하는 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  13. 제12항에 있어서, 지지구조물의 적어도 초기부는 상기 기판상에 에피택셜 성장되는 것을 특징으로 하는장치.
  14. 제13항에 있어서, 에피택셜 성장은 MBE에 의해 달성되는 것을 특징으로 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 기판은 레이저 방사를 위해서 상당한 흡수를 하고, 구멍이 레이저 방사를 위해 기판내에 제공된 것을 특징으로 하는 장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 구멍을 통과하는 광섬유를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  17. 제12항에 있어서, 상기 기판에 가장 가까운 DBR은 n-형 도체인 것을 특징으로 하는 장치.
  18. 제17항에 있어서, 전기 펌프 경로는 상기 기판의 하면상에 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 전기 펌프 경로는 금속 리플렉터를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 금속 리플렉터와 하부의 DBR 사이에 저항 접속을 보장하는 접촉층이 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  21. 제12항에 있어서, 상기 다수의 전기 펌핑된 레이저를 포함하는 집적 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  22. 제21항에 있어서, 상기 집적 회로는 전자 소자를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  23. 제22항에 있어서, 전기 펌핑은 포함된 전자 소자의 기능을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  24. 제1항에 있어서, 상기 페이스 매칭 DBR층은 낮은 굴절율을 가지며, 상기 방출 방향으로의 상기 페이스 매칭 DBR층의 두께는 다음의 낮은 율 DBR층보다 작은 것을 특징으로 하는 장치.
  25. 제24항에 있어서, 상기 페이스 매칭 DBR층의 두께는 상기 다음의 낮은 율 DBR층보다 약 25% 작은 것을 특징으로 하는 장치.
  26. 제1항에 있어서, 상기 페이스 매칭 DBR층은 높은 굴절율을 가지며, 상기 방출 방향으로의 상기 페이스매칭 DBR층의 두께는 상기 다음 높은 율 DBR층 보다 증가된 것을 특징으로 장치.
  27. 제26항에 있어서, 상기 페이스 매칭 DBR층의 두께는 상기 다음의 높은 율 DBR층보다 약 50% 큰 것을 특징으로장치.
  28. 제1항에 있어서, 상기 DBR은 다른 스펙트럼 반사율을 제공하는 다른 화학적 구성 성분으로 되어 있고, 스펙트럼 반사율은 상기 금속 리플렉터를 제외한 구조물에 비해 캐비티 효율을 증가시키도록 상기 금속 리플렉터를 포함시킴으로써 평평하게 되는 것을 특징으로 하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900005802A 1989-04-26 1990-04-25 전기적으로 펌핑되는 수직 캐비티 레이저장치 KR940001793B1 (ko)

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