KR900012129A - 다작용성 α-디아조-β-케토 에스테르를 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 방사선-민감성 기록물질 - Google Patents

다작용성 α-디아조-β-케토 에스테르를 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 방사선-민감성 기록물질 Download PDF

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KR900012129A
KR900012129A KR1019900000270A KR900000270A KR900012129A KR 900012129 A KR900012129 A KR 900012129A KR 1019900000270 A KR1019900000270 A KR 1019900000270A KR 900000270 A KR900000270 A KR 900000270A KR 900012129 A KR900012129 A KR 900012129A
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KR1019900000270A
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Inventor
빌하름 페터
메렘 한스-요아힘
파블로프스키 게오르그
담멜 랄프
Original Assignee
메이어-둘호이어, 게르만
훽스트 아크티엔게젤샤프트
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances

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Abstract

내용 없음

Description

다작용성 α-디아조-β-케토 에스테르를 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 방사선-민감성 기록물질
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (32)

  1. 필수적으로 광활성 성분 및 물에는 불용성이나 알칼리 수용액에는 가용성 이거나 적어도 팽윤성인 결합제를 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물에 있어서, 광활성 성분으로서 하기 일반식(Ⅰ)의 다작용성 α-디아조-β-케토 에스테르가 사용되는 양상적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
    상기식에서 R1은 탄소수 4내지 20의 지방족, 지환족 또는 아르지방족 또는 방향족 라디칼이며, 여기에서 개개의 CH2그룹은 산소 또는 황원자에 의해 또는또는 NH 그룹에 의해 치환될 수 있고/있거나 케토그룹을 함유하며, X는 탄소수 2내지 22의 지방족, 지환족, 카보사이클릭, 헤토사이클릭 또는 아르지방족 라디칼이며, 여기에서 개개의 CH2그룹은 산소 또는 황원자에 의해 또는 그룹 -NR2-, -C(O)-O-, -C(O)-NR2-, -C(O)-, -NR1-C(O)- NR3-, -O-C(O)-NR2-, -O-C(O)-또는 -O-C(O)-O에 의해 치환(이때, R2및 R3는 서로 독립적으로 수소 또는 지방족, 카보사이클릭 또는 아르지방족 라디칼을 나타낸다) 될 수 있거나, 또는 CH 그룹은으로 치환될 수 있고, m은 2내지 10의 정수이며, n은 0내지 2의 정수이고, 단 m-n은 ≥2이다.
  2. 제1항에 있어서, R2및 R3가 수소, (C1-C3) 알킬, (C5-C|12) 아릴 또는 (C6-C11) 아르알킬, 특히 (C1-C3) 알킬 또는 수소를 나타내며, 이들은 특히 알킬 알콕시, 할로겐 또는 아미노에 의해 핵상에서 치환되는 아릴 또는 아르알킬 일 수 있는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  3. 제1 또는 2항에 있어서 R1및/또는 X가 (C1-C3) 알킬, (C1-C|3) 알콕시, 할로겐, 아미노 또는 니트로에 의해, 특히 (C1-C3) 알킬 또는 (C1-C3) 알콕시에 의해 치환되는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  4. 제1내지 3항중 어느 한 항에 있어서, R1이 치환된 지방족 라디칼인 경우, 특히 4내지 8개의 쇄구성 요소를 지니는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  5. 제4항에 있어서, CH2그룹이 특히 산소원자, -NH- 그룹 또는 케토 그룹에 의해 치환됨으로써 이를 라디칼이 에테르, 케토, 에스테르 아미도 및/또는 아미도 그룹을 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  6. 제1내지 3항중 어느 한 항에 있어서, R1이 비치환된 지방족 라디칼인 경우 20개 이하의 쇄구성 요소를 함유할 수 있으며, 3급-부틸 라디칼이 특히 바람직한 양성적으로 작용하는 바사선-민감성 혼합물.
  7. 제1내지 3항중 어느 한 항에 있어서 R1이 특히 비치환된 4, 5, 6 또는 12개, 특히 4, 5 또는 6개, 특히 바람직하게는 6개의 환구성 요소를 갖는 지환족 라디칼인 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼함물.
  8. 제1내지 3항중 어느 한 항에 있어서, R1이 라디칼의 지방족 부분에 2내지 11개, 특히 2내지 5개의 쇄구성 요소를 갖는 아르지방족 라디칼인 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물
  9. 제8항에 있어서, 라디칼R1의 지방족 부분은 이 부분이 순수한 탄소쇄를 함유하는 경우 1또는 2개의 쇄구성 요소를 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼함물.
  10. 제8항에 있어서, 라디칼R1의 지방족 부분은 이 부분의 CH2그룹이 헤테로 원자에 의해 지환될 경우 3내지 5개의 쇄구성요소를 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  11. 제1 내지 10항중 어느 한 항에 있어서, 라디칼 X중의 5개 이하, 특히 3개 이하의 CH2그룹이 헤테로원자 또는 언급된 그룹에 의해 치환되는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  12. 제1내지 10항중 어느 한 항에 있어서, 라디칼X가 비치환된 지방족 라디칼이며 6개 이하의 탄소 원자를 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  13. 제12항에 있어서, 라디칼X가 하나 이상의 C-C 다중 결합을 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  14. 제11항에 있어서, 헤테로 원자에 의해 치환된 CH2그룹이 하나의 형태인 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  15. 제11항에 있어서, CH 그룹이에 의해 치환될 경우 라디칼X중에 다른 치환이 존재하지 않는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  16. 제11항에 있어서, X가 지환족 부분이 비치환 되고 지방족 부분의 CH2그룹에 인접하여, 헤테로 원자에 의해 또는 제1항에 청구된 그룹에 의해 치환되는 지환족 라디칼인 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  17. 제16항에 있어서, 지환족 부분이 특히 그룹또는의 질소 원자에 직접 인접하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  18. 제 16항에 있어서, 지환족 부분이 에틸렌 그룹을 통해라디칼의 산소 원자에 결합되는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  19. 제11항에 있어서, X는 방향족 부분이 특히 헤테로 원자를 통해 라디칼 X의 지방족 부분에 결합되는 페닐 또는 페닐렌 라디칼을 나타내는 아르지방족 라디칼인 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  20. 제1내지 19항중 어느 한항에 있어서, m은 2내지 8의 정수이고, n은 0내지 2의 정수인 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  21. 제20항에 있어서, m은 2내지 6의 정수이고, n은 0인 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  22. 제1내지 21항중 어느 한 항에 있어서, 수개, 특히 2개의 일반식(Ⅰ)의 α-디아조-β-케토 에스테르의 혼합물을 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  23. 제1내지 22항중 어느 한 항에 있어서, 방사선-민감성 혼합물 중의 광활성 성분의 농도가 4내지 40중량%, 특히 6내지 30중량 %인 양성적으로 작용하는 방사선/민감성 혼합물.
  24. 제1내지 23항중 어느 한 항에 있어서, 결합제가 190 내지 300nm의 파장 범위에서 낮은 고유 흡수도를 갖는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  25. 제1 내지 24항중 어느 한 항에 있어서, 결합제가 30중량 % 이하, 특히 20중량% 이하의 노볼락 축합 수지를 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  26. 제1 내지 25항중 어느 한 항에 있어서, 결합제가 페놀성 하이드록실 그룹을 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물.
  27. 제1 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 결합제가 60 내지 96중량 %, 특히 70 내지 94중량 %의 농도로 방사선-민감성 혼합물.
  28. 담체 및 제1 내지 27항중 어느 한 항에서 청구된 혼합물에 상응하는 양성적으로 작용하는 혼합물을 함유하는 양성적으로 작용하는 기록 물질.
  29. 경우에 따라서 접착 촉진제로 예비 처리된 담체를 분무, 로울링(rolling) 나이프-피복(knife-coating),주입(pouring), 유동-피복, 회전도포기(whirler)-피복 또는 침지-피복에 의하거나, 또는 슬롯 다이(slot-die)에 의해 방사선-민감성 혼합물로 피복시키고, 용매를 증발시켜 제거하여 0.1 내지 100um, 특히 0.3내지 10um의 총 두께가 형성되도록 함을 특징으로 하여, 제28항에 청구된 양성적으로 작용하는 기록 물질을 제조하는 방법.
  30. 제29항에 있어서, 기록 물질을 190 내지 300nm 파장의 빛에 이미지와이즈(imagewise)하게 노출시키고, 형성된 상을 전개 수용액에 의해 노출시키는 방법.
  31. 제29항 또는 30항에 있어서, 형성된 구조물을 가열에 의하고/의하거나 전체 영역에 대해 노출시키고, 후경화시키는 방법.
  32. 제29항에 있어서, 방사선-민감성 혼합물을 중단 담체에 적용시키고, 제1담체로부터 최종 담체까지를 적층시키는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900000270A 1989-01-12 1990-01-11 다작용성 α-디아조-β-케토 에스테르를 함유하는 양성적으로 작용하는 방사선-민감성 혼합물, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 방사선-민감성 기록물질 KR900012129A (ko)

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DE3900736A DE3900736A1 (de) 1989-01-12 1989-01-12 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch enthaltend einen mehrfunktionellen (alpha)-diazo-(beta)-ketoester, verfahren zu dessen herstellung und strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial enthaltend dieses gemisch
DEP3900736.7 1989-01-12

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