KR960037720A - 가교결합된 중합체 - Google Patents
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Abstract
알칼리성 현상제 수용액에 불용성이고, 산과의 반응에 의해 수득된 분해 생성물이 알칼리성 현상제 수용액에 용해될 정도의 양으로 하기 일반식(Ⅰ)의 구조 단위를 포함하는 중합체는 높은 가공 안정성, 높은 콘트라스트 및 우수한 분해능을 가진 DUV 감광성 내식막용 결합제로서 적합하다.
상기 식에서, R2는 수소, C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹은, 필요에 따라, 하나 이상의 하이드록실 그룹 또는 니트로 그룹에 의해 또는 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환될 수 있다)이고, R3은 C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아크알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹은 R2에 대하여 정의한 바와 같다)이며, X는 k+1가의 유리 라디칼이고, k는 1 내지 5의 수이며, 1은 0 내지 4의 수이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (23)
- 알칼리성 현상제 수용액에 불용성이며, 산과의 반응에 의해 수득된 분해 생성물이 알칼리성 현상제 수용액에 용해될 정도의 양으로 하기 일반식(Ⅰ)의 구조 단위를 포함하는 중합체.상기 식에서, R2는 수소, C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹은, 필요에 따라, 하나 이상의 하이드록실 그룹 또는 니트로 그룹에 의해 또는 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환될 수 있다)이고, R3은 C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아크알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹은 R2에 대하여 정의한 바와 같다)이며, X는 k+1가의 유리 라디칼이고, k는 1 내지 5의 수이며, 1은 0 내지 4의 수이다.
- 제1항에 있어서, R2가 메틸 또는 에틸이고 R3이 수소인 중합체.
- 제1항에 있어서, X가 에틸렌, 이소프로필리덴 또는 사이클로헥실렌이거나, 2개 이상의 OH 그룹이 제거된 일반식(Ⅱa) 내지 (Ⅱj)의 폴리하이드록시 화합물의 2가 또는 다가 라디칼인 중합체.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 구조 단위들이 산 분해 가능한 보호 그룹으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 COOH 그룹 또는 페놀성 하이드록실 그룹을 측쇄에 포함하는 다수의 중합체 주쇄들 사이의 브리지 멤버들인 중합체.
- 제4항에 있어서, 산 분해 가능한 보호 그룹으로서 하기 일반식(Ⅱ)의 그룹을 포함하는 중합체.상기 식에서, R2및 R3은 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)에 대하여 정의한 바와 같고, R1은 C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹들은, 필요에 따라, 하나 이상의 하이드록실 그룹 또는 니트로 그룹에 의해 또는 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환될 수 있다)이다.
- 제4항에 있어서, 보호 그룹 함량〔S=m/(m+n)〕가 0.05 내지 0.95이고 가교결합도〔V=o/(m+n+o)〕가 0.001 내지 0.5(여기서, m은 산 분해 가능한 보호 그룹의 수이고, n은 COOH 그룹의 수와 페놀성 하이드록실 그룹의 수의 합이며, o는 일반식(Ⅰ)의 브라지 멤버의 수이다)인 중합체.
- 제6항에 있어서, 보호 그룹 함량(S)가 0.07 내지 0.65인 중합체.
- 제6항에 있어서, 가교결합도(V)가 0.002 내지 0.2인 중합체.
- 제4항에 있어서, 하기 일반식 (Ⅲ), (Ⅳ) 및 (Ⅴ)의 반복 구조 단위를 포함하는 중합체.상기 식에서, R2, R3, k 및 X는 제1항에서 정의한 바와 같고, R1은 제5항에 따르는 일반식(Ⅱ)에서 정의한 바와 같으며, R4는 수소, 메틸 또는 할로겐이고, R5는 수소, C1-C6알킬, C1-C6알콕시 또는 할로겐이다.
- 제4항에 있어서, 하기 일반식 (Ⅲa), (Ⅳa) 및 (Ⅴa)의 반복 구조 단위를 포함하는 중합체.상기 식에서, R2, R3, k 및 X는 제1항에서 정의한 바와 같고, R1은 제5항에 따르는 일반식(Ⅱ)에서 정의한 바와 같으며, R4는 수소, 메틸 또는 할로겐이고, R5는 수소, C1-C6알킬, C1-C6알콕시 또는 할로겐이다.
- 제5항에 있어서, R1이 메틸, 에틸 n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, 3급-부틸 또는 사이클로헥실인 일반식(Ⅱ)의 보호 그룹을 포함하는 중합체.
- 제5항에 있어서, R3가 메틸 또는 에틸이고 R3이 수소인 일반식(Ⅱ)의 보호 그룹 및 일반식(Ⅰ)의 브리지 멤버를 포함하는 중합체.
- 제9항에 있어서, R4및 R5가 수소인 일반식(Ⅲ), Ⅳ 및 (Ⅴ) 의 반복 구조 단위를 포함하는 중합체.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 구조 단위가 중합체 주쇄의 성분인 중합체.
- COOH 그룹 또는 페놀성 하이드록실 그룹을 측쇄에 포함하는 중합체를 하기 일반식(Ⅵ)의 비닐 에테르 및 하기 일반식(Ⅶ)의 폴리하이드록시 화합물과 반응시켜 제4항에 따르는 중합체를 제조하는 방법.상기 식에서, R1및 R3은 제5항에 따르는 일반식(Ⅱ)에 대하여 정의한 바와 같고, R6은 수소, C1-C17알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬이며, X 및 k는 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)에 대하여 정의한 바와 같다.
- 하기 일반식(Ⅶ)의 하나 이상의 폴리하이드록시 화합물을 하기 일반식(Ⅵ)의 비닐 에테르와 반응시켜 제14항에 따르는 중합체를 제조하는 방법.상기 식에서, X 및 k는 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)에 대하여 정의한 바와 같고, R1및 R3은제5항에 따르는 일반식(Ⅱ)에 대하여 정의한 바와 같으며, R6은 수소, C1-C17알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬이다.
- 성분(A)와 성분(B)의 전체적인 양을 기준으로 하여, 제1항에 따르는 중합체(A) 70.0 내지 99.9중량%와 화학 방사선에 노출시 산열 형성하는 물질(B) 0.1 내지 30.0중량%를 포함하는 방사선 민감성 조성물.
- 제17항에 있어서, 성분(B)로서, 오늄염, 디설폰 화합물 또는 니트로벤질 설포네이트를 포함하는 방사선 민감성 조성물.
- 제17항에 있어서, 성분(A) 및 성분(B) 뿐만 아니라 성분(C)로서 유기 용매를 포함하는 방사선 민감성 조성물.
- 제17항에 있어서, 성분(A) 및 성분(B) 뿐만 아니라 성분(D)로서 N-함유 헤테로사이클릭 화합물 또는 방향족 아민을 포함하는 방사선 민감성 조성물.
- (Ⅰ) 기질을 제17항에 따르는 방사선 민감성 조성물로 피복시키고, (Ⅱ) 피복된 기질을 소정의 패턴으로 화학 방사선에 노출시키며, (Ⅲ) 노출된 기질을 포지티브 작용성 내식막용 현상제로 현상함으로써 포지티브상을 형성시키는 방법.
- 인쇄판, 인쇄 회로 또는 직접 회로 제조용 포지티브 내식막으로서의 제17항에 따르는 방사선 민감성 조성물의 용도.
- 제17항에 따르는 방사선 민감성 조성물을 사용하여 제조된 인쇄판, 인쇄 회로 또는 집적 회로.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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