KR960037720A - 가교결합된 중합체 - Google Patents

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Abstract

알칼리성 현상제 수용액에 불용성이고, 산과의 반응에 의해 수득된 분해 생성물이 알칼리성 현상제 수용액에 용해될 정도의 양으로 하기 일반식(Ⅰ)의 구조 단위를 포함하는 중합체는 높은 가공 안정성, 높은 콘트라스트 및 우수한 분해능을 가진 DUV 감광성 내식막용 결합제로서 적합하다.
상기 식에서, R2는 수소, C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹은, 필요에 따라, 하나 이상의 하이드록실 그룹 또는 니트로 그룹에 의해 또는 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환될 수 있다)이고, R3은 C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아크알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹은 R2에 대하여 정의한 바와 같다)이며, X는 k+1가의 유리 라디칼이고, k는 1 내지 5의 수이며, 1은 0 내지 4의 수이다.

Description

가교결합된 중합체
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (23)

  1. 알칼리성 현상제 수용액에 불용성이며, 산과의 반응에 의해 수득된 분해 생성물이 알칼리성 현상제 수용액에 용해될 정도의 양으로 하기 일반식(Ⅰ)의 구조 단위를 포함하는 중합체.
    상기 식에서, R2는 수소, C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹은, 필요에 따라, 하나 이상의 하이드록실 그룹 또는 니트로 그룹에 의해 또는 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환될 수 있다)이고, R3은 C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아크알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹은 R2에 대하여 정의한 바와 같다)이며, X는 k+1가의 유리 라디칼이고, k는 1 내지 5의 수이며, 1은 0 내지 4의 수이다.
  2. 제1항에 있어서, R2가 메틸 또는 에틸이고 R3이 수소인 중합체.
  3. 제1항에 있어서, X가 에틸렌, 이소프로필리덴 또는 사이클로헥실렌이거나, 2개 이상의 OH 그룹이 제거된 일반식(Ⅱa) 내지 (Ⅱj)의 폴리하이드록시 화합물의 2가 또는 다가 라디칼인 중합체.
  4. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 구조 단위들이 산 분해 가능한 보호 그룹으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 COOH 그룹 또는 페놀성 하이드록실 그룹을 측쇄에 포함하는 다수의 중합체 주쇄들 사이의 브리지 멤버들인 중합체.
  5. 제4항에 있어서, 산 분해 가능한 보호 그룹으로서 하기 일반식(Ⅱ)의 그룹을 포함하는 중합체.
    상기 식에서, R2및 R3은 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)에 대하여 정의한 바와 같고, R1은 C1-C18알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬(여기서, 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬 그룹들은, 필요에 따라, 하나 이상의 하이드록실 그룹 또는 니트로 그룹에 의해 또는 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환될 수 있다)이다.
  6. 제4항에 있어서, 보호 그룹 함량〔S=m/(m+n)〕가 0.05 내지 0.95이고 가교결합도〔V=o/(m+n+o)〕가 0.001 내지 0.5(여기서, m은 산 분해 가능한 보호 그룹의 수이고, n은 COOH 그룹의 수와 페놀성 하이드록실 그룹의 수의 합이며, o는 일반식(Ⅰ)의 브라지 멤버의 수이다)인 중합체.
  7. 제6항에 있어서, 보호 그룹 함량(S)가 0.07 내지 0.65인 중합체.
  8. 제6항에 있어서, 가교결합도(V)가 0.002 내지 0.2인 중합체.
  9. 제4항에 있어서, 하기 일반식 (Ⅲ), (Ⅳ) 및 (Ⅴ)의 반복 구조 단위를 포함하는 중합체.
    상기 식에서, R2, R3, k 및 X는 제1항에서 정의한 바와 같고, R1은 제5항에 따르는 일반식(Ⅱ)에서 정의한 바와 같으며, R4는 수소, 메틸 또는 할로겐이고, R5는 수소, C1-C6알킬, C1-C6알콕시 또는 할로겐이다.
  10. 제4항에 있어서, 하기 일반식 (Ⅲa), (Ⅳa) 및 (Ⅴa)의 반복 구조 단위를 포함하는 중합체.
    상기 식에서, R2, R3, k 및 X는 제1항에서 정의한 바와 같고, R1은 제5항에 따르는 일반식(Ⅱ)에서 정의한 바와 같으며, R4는 수소, 메틸 또는 할로겐이고, R5는 수소, C1-C6알킬, C1-C6알콕시 또는 할로겐이다.
  11. 제5항에 있어서, R1이 메틸, 에틸 n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, 3급-부틸 또는 사이클로헥실인 일반식(Ⅱ)의 보호 그룹을 포함하는 중합체.
  12. 제5항에 있어서, R3가 메틸 또는 에틸이고 R3이 수소인 일반식(Ⅱ)의 보호 그룹 및 일반식(Ⅰ)의 브리지 멤버를 포함하는 중합체.
  13. 제9항에 있어서, R4및 R5가 수소인 일반식(Ⅲ), Ⅳ 및 (Ⅴ) 의 반복 구조 단위를 포함하는 중합체.
  14. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 구조 단위가 중합체 주쇄의 성분인 중합체.
  15. COOH 그룹 또는 페놀성 하이드록실 그룹을 측쇄에 포함하는 중합체를 하기 일반식(Ⅵ)의 비닐 에테르 및 하기 일반식(Ⅶ)의 폴리하이드록시 화합물과 반응시켜 제4항에 따르는 중합체를 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1및 R3은 제5항에 따르는 일반식(Ⅱ)에 대하여 정의한 바와 같고, R6은 수소, C1-C17알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬이며, X 및 k는 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)에 대하여 정의한 바와 같다.
  16. 하기 일반식(Ⅶ)의 하나 이상의 폴리하이드록시 화합물을 하기 일반식(Ⅵ)의 비닐 에테르와 반응시켜 제14항에 따르는 중합체를 제조하는 방법.
    상기 식에서, X 및 k는 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)에 대하여 정의한 바와 같고, R1및 R3은제5항에 따르는 일반식(Ⅱ)에 대하여 정의한 바와 같으며, R6은 수소, C1-C17알킬, C5-C10사이클로알킬, C5-C14아릴 또는 C6-C30아르알킬이다.
  17. 성분(A)와 성분(B)의 전체적인 양을 기준으로 하여, 제1항에 따르는 중합체(A) 70.0 내지 99.9중량%와 화학 방사선에 노출시 산열 형성하는 물질(B) 0.1 내지 30.0중량%를 포함하는 방사선 민감성 조성물.
  18. 제17항에 있어서, 성분(B)로서, 오늄염, 디설폰 화합물 또는 니트로벤질 설포네이트를 포함하는 방사선 민감성 조성물.
  19. 제17항에 있어서, 성분(A) 및 성분(B) 뿐만 아니라 성분(C)로서 유기 용매를 포함하는 방사선 민감성 조성물.
  20. 제17항에 있어서, 성분(A) 및 성분(B) 뿐만 아니라 성분(D)로서 N-함유 헤테로사이클릭 화합물 또는 방향족 아민을 포함하는 방사선 민감성 조성물.
  21. (Ⅰ) 기질을 제17항에 따르는 방사선 민감성 조성물로 피복시키고, (Ⅱ) 피복된 기질을 소정의 패턴으로 화학 방사선에 노출시키며, (Ⅲ) 노출된 기질을 포지티브 작용성 내식막용 현상제로 현상함으로써 포지티브상을 형성시키는 방법.
  22. 인쇄판, 인쇄 회로 또는 직접 회로 제조용 포지티브 내식막으로서의 제17항에 따르는 방사선 민감성 조성물의 용도.
  23. 제17항에 따르는 방사선 민감성 조성물을 사용하여 제조된 인쇄판, 인쇄 회로 또는 집적 회로.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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