KR900003421A - 양극산화처리용 알루미늄 도금재 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

양극산화처리용 알루미늄 도금재
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 양극산화용 알루미늄 도금재의 개략단면도,
제2도 및 제3도는 각각 본 발명인 알루미늄 도금재의 양극산화처리후의 개략단면도.

Claims (30)

  1. 기체와, 상기 기체상에 있고 최외층을 형성하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로된 알루미늄층과, 상기 기체와 알루미늄층간에 개재되고 상기 알루미늄층의 재료보다도 전기화학적으로 고상하고 또한 화학적으로 안정된 적어도 1개의 금속층을 구비하고 있는 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  2. 제1항에 있어서, 상기 금속층은
    (1) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분을 갖는 금속.
    (2) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 적어도 2개의 성분을 갖는 합금.
    (3) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분과 Zn,Fe,P,Mn,Cu로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분을 갖는 합금으로된 군에서 선택되는 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  3. 제1항에 있어서, 상기 금속층은 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분을 갖는 적어도 1개의 층이고, 상기 알루미늄층은 두께 0.1㎛-30㎛인 양극산화 처리용 알루미늄 도금재.
  4. 제1항에 있어서, 상기 금속층은 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 2개의 성분을 갖는 적어도 1개의 층이고, 상기 알루미늄층은 두께 0.1㎛-30㎛인 양극산화 처리용 알루미늄 도금재.
  5. 제1항에 있어서, 상기 금속층은 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분과 Zn,Fe,P,Mn,Cu로 된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분을 가진 합금으로된 적어도 1개의 층이고, 상기 알루미늄층은 두께 0.1㎛-30㎛인 양극산화 처리용 알루미늄 도금재.
  6. 제1항에 있어서, 상기 기체는 알루미늄과 알루미늄 합금을 제외한 금속, 세라믹스, 플라스틱에서 선택된 1개의 재료로 형성되어 있는 양극산화 처리용 알루미늄 도금재.
  7. 제6항에 있어서, 상기 기체는 냉연강판 및 스테인레스 강판의 1개 재료로 형성되는 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  8. 제6항에 있어서, 상기 기체는 비도전성의 재료인 양극산과 처리용 알루미늄 도금재.
  9. 기체를 준비하는 공정과, 상기 기체상에 알루미늄 또는 알루미늄 합금보다 전기화학적으로 고상하고 또한 화학적으로 안정된 적어도 1개의 금속층을 형성하는 공정과, 상기 기체상에 최외층을 형성하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로된 알루미늄층을 형성하여 양극산화처리용 알루미늄 도금재를 얻는 공정과, 이와같이 하여 제조된 알루미늄 도금재를 양극산화처리하는 공정을 구비하고 있는 알루미늄 도금재의 양극산화 처리방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 금속층은 두께 0.01㎛-2㎛이고, 상기 알루미늄층은 두께 0.1㎛-30㎛인 알루미늄 도금재의 양극산화 처리방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 금속층은
    (1) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분을 가진 금속.
    (2) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 적어도 2개의 성분을 가진 합금.
    (3) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분과 Zn,Fe,P,Mn,Cu로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분을 갖는 합금으로된 군에서 선택되는 알루미늄 도금재의 양극산화 처리방법.
  12. 제9항에 있어서, 상기 기체를 준비하는 공정과, 상기 기체 표면에 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분을 가진 적어도 1개의 금속층을 형성하는 공정과, 상기 금속층상에 두께 0.1㎛-30㎛인 최외층을 형성하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로된 알루미늄층을 형성하여 양극산화처리용 알루미늄 도금재를 얻는 공정과, 이와같이하여 제조된 알루미늄 도금재를 양극산화처리하는 공정을 구비하고 있는 알루미늄 도금재의 양극산화 처리방법.
  13. 제9항에 있어서, 상기 기체를 준비하는 공정과, 상기 기체 표면에 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 2개의 성분을 가진 적어도 1개의 금속층을 형성하는 공정과, 상기 금속층상에 두께 0.1㎛-30㎛인 최외층을 형성하는 알루미늄 도금재를 얻는 공정과, 이와같이 하여 제조된 알루미늄 도금재를 양극산화처리하는 공정을 구비하고 있는 알루미늄 도금재를 얻는 공정과, 이와같이 하여 제조된 알루미늄 도금재를 양극산화처리하는 공정을 구리용 알루미늄 도금재를 얻는 공정과, 이와같이 하여 제조된 알루미늄 도금재를 양극산화처리하는 공정을 구비하고 있는 알루미늄 도금재의 양극산화 처리방법.
  14. 제9항에 있어서, 상기 기체를 준비하는 공정과, 상기 기체 표면에 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분과 Zn,Fe,P,Mn,Cu로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분을 가진 합금으로된 적어도 1개의 금속층을 형성하는 공정과, 상기 금속층상에 두께 0.1㎛-30㎛인 최외층을 형성하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로된 알루미늄층을 형성하여 양극산화처리용 알루미늄 도금재를 얻는 공정과, 이와같이 하여 제조된 알루미늄 도금재를 양극산화처리하는 공정을 구비하고 있는 알루미늄 도금재의 양극산화 처리방법.
  15. 제9항에 있어서, 상기 기체는 알루미늄과 합금을 제외한 금속 세라믹스, 플라스틱에서 선택된 1개의 재료로 형성되어 있는 알루미늄 도금재의 양극산화 처리방법.
  16. 제9항에 있어서, 알루미늄층을 양극산화처리하여 양극산화피막을 형성한 후에 다시 양극산화피막을 착색하는 공정을 구비하고 있는 알루미늄 도금재의 양극산화 처리방법.
  17. 기체와, 상기 기체상에 형성되어 알루미늄 또는 알루미늄 합금보다도 전기화학적으로 고상하고 또한 화학적으로 안정된 적어도 1개의 금속층과, 상기 금속층상에 형성되어, 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로된 알루미늄층과, 상기 알루미늄층의 표면을 피복하는 양극산화 피막층을 구비하고 있는 양극산화처리된 알루미늄 도금재.
  18. 제17항에 있어서, 상기 금속층은 두께 0.01㎛-2㎛이고, 상기 알루미늄층과 양극산화 피막층의 합계두께가 0.1㎛-30㎛인 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  19. 제17항에 있어서, 상기 금속층은
    (1) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분을 가진 금속.
    (2) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 적어도 2개의 성분을 가진 합금.
    (3) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분과 Zn,Fe,P,Mn,Cu로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분을 갖는 합금으로된 군에서 선택되는 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  20. 제17항에 있어서, 상기금속은 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분을 가진 적어도 1개의 층이고, 상기 알루미늄층과 양극산화 피막층의 합계 두께가 0.1㎛-30㎛인 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  21. 제17항에 있어서, 상기금속층은 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 2개의 성분을 가진 적어도 1개의 층이고, 상기 알루미늄층과 양극산화 피막층의 합계 두께가 0.1㎛-30㎛인 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  22. 제17항에 있어서, 상기금속층은 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분과 Zn,Fe,P,Mn,Cu로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분을 가진 합금으로된 적어도 1개의 층이고, 상기 알루미늄층과 양극산화 피막층의 합계 두께가 0.1-30㎛인 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  23. 제17항에 있어서, 상기 기체는 알루미늄과 알루미늄 합금을 제외한 금속 세라믹스, 플라스틱에서 선택된 1개 재료로 형성되어 있는 양극산화 처리용 알루미늄 도금재.
  24. 기체와, 상기 기체상에 형성되어 알루미늄 또는 알루미늄합금보다도 전기화학적으로 고상하고 또한 화학적으로 안정된 적어도 1개의 금속층과, 상기 금속층상에 형성된 양극산화 피막층을 구비하고 있는 양극산화처리된 알루미늄 도금재.
  25. 제24항에 있어서, 상기 금속층은 두께 0.01㎛-2㎛이고, 상기 양극산화피막층의 두께는 0.1㎛-30㎛인 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  26. 제24항에 있어서, 상기 금속층은
    (1) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분을 가진 금속.
    (2) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 적어도 2개의 성분을 가진 합금.
    (3) Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분과 Zn,Fe,P,Mn,Cu로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분을 갖는 합금으로된 군에서 선택되는 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  27. 제24항에 있어서, 상기금속은 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분을 가진 적어도 1개의 층이고, 상기 양극산화 피막층은 두께0.1㎛-30㎛인 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  28. 제24항에 있어서, 상기금속은 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 2개의 성분을 가진 적어도 1개의 층이고, 상기 알루미늄층과 양극산화 피막층의 합계 두께가 0.1㎛-30㎛인 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  29. 제24항에 있어서, 상기금속은 두께 0.01㎛-2㎛의 Ti,Ni,Nb,Ta 및 W로된 군에서 선택된 1개의 성분과 Zn,Fe,P,Mn,Cu로된 군에서 선택된 적어도 1개의 성분을 가진 합금으로된 적어도 1개의 층이고, 상기 알루미늄층과 양극산화 피막층은 두께 0.1-30㎛인 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
  30. 제24항에 있어서, 상기 기체는 알루미늄과 알루미늄 합금을 제외한 금속 세라믹스, 플라스틱에서 선택된 1개 재료로 형성되어 있는 양극산화처리용 알루미늄 도금재.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890011842A 1988-08-23 1989-08-19 양극산화처리용 알루미늄 도금재 및 양극 산화처리방법 KR920000534B1 (ko)

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