JPH04254591A - マグネシウム合金のメッキ膜構造 - Google Patents

マグネシウム合金のメッキ膜構造

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JPH04254591A
JPH04254591A JP1635491A JP1635491A JPH04254591A JP H04254591 A JPH04254591 A JP H04254591A JP 1635491 A JP1635491 A JP 1635491A JP 1635491 A JP1635491 A JP 1635491A JP H04254591 A JPH04254591 A JP H04254591A
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plating layer
magnesium alloy
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film
electroless
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Izumi Ono
泉 小野
Haruyuki Matsunaga
治幸 松永
Yasushi Yui
靖 油井
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マグネシウム合金の表
面処理において、表面導電性および熱伝導性を有すると
ともに耐食性を高めることのできるマグネシウム合金の
メッキ膜構造に関するものである。
【0002】航空宇宙機器、情報処理機器、あるいは精
密機器等に使用される金属材料として、機器の軽量化を
図るためにマグネシウム合金が使用されている。
【0003】しかしながら、マグネシウム合金は活性な
金属で、腐食し易いため、耐食性を高める表面処理が必
要とされている。
【0004】
【従来の技術】従来、マグネシウム合金の表面処理とし
て、陽極酸化処理あるいは塗装による非金属処理が行わ
れているが、表面導電性が必要な部位において使用され
る場合には、図2に示すように、マグネシウム合金の基
材1の表面に亜鉛置換層21とストライクメッキ層22
とよりなる下処理層2を介し電解メッキ層3を形成し、
その表面に無電解メッキ層4を形成してなるメッキ膜構
造が使用されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
メッキ膜構造では、表面の無電解メッキ層4に多数のピ
ンホールが発生するため、中間の電解メッキ層3上に積
層することによりピンホールによる腐食を防止するよう
にしている。しかし、電解メッキ層3は、膜厚管理が難
しいため、基材1に均一な膜厚で電解メッキ層3を形成
することが困難である。従って、高い精度を要求される
タップや小孔を有するマグネシウム合金部品には充分な
厚さでメッキ膜を形成できず、ピンホールによる腐食が
発生し易いという欠点を有するものであった。
【0006】本発明は、以上の欠点を解消すべくなされ
たものであって、表面導電性に優れるメッキ膜の形成に
おいて膜厚管理を容易にするとともに、耐食性を高める
ことができるマグネシウム合金のメッキ膜構造を提供す
ることを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明を実施例に対応す
る図1に基づいて説明すると、マグネシウム合金の基材
1の表面に下処理層2を介して電解メッキ層3を形成し
、さらに電解メッキ層3上に無電解メッキ層4を積層し
てなる第一皮膜部5を形成する。そして、第一皮膜部5
上には、第一皮膜部5と同様に電解メッキ層3と無電解
メッキ層4とを一組以上積層してなる第二皮膜部6を積
層して構成する。
【0008】
【作用】上記構成に基づき、本発明においては、マグネ
シウム合金の基材1に電解メッキ層3と無電解メッキ層
4とをそれぞれ積層してなる第一皮膜部5と第二皮膜部
6とを形成して電解メッキ層3と無電解メッキ層4をさ
らに多層化している。したがって、それぞれの第一およ
び第二皮膜部5、6に多少のピンホールが発生していて
も積層された皮膜部によってそのピンホールが互いに塞
がれて基材1へ貫通することがなく、耐食性を高めるこ
とができる。
【0009】さらに、それぞれの第一および第二皮膜部
5、6においては電解メッキ層3を膜厚管理が可能な膜
厚に薄くすることができるため、高い精度を要求される
加工部品の表面にも耐食性の高いメッキ膜を形成するこ
とが可能となる。
【0010】
【実施例】図1は、本発明の実施例を示す説明図であり
、マグネシウム合金の基材1の表面に第一皮膜部5と第
二皮膜部6が積層されている。
【0011】第一皮膜部5はマグネシウム合金基材1の
表面に形成される下処理層2を介して電解メッキ層3を
形成し、さらにその上層に無電解メッキ層4を積層して
形成するもので、下処理層2は基材1の表面を置換して
形成される亜鉛置換層21と銅のストライクメッキ層2
2とよりなり、電解メッキ層3の密着性を高めている。 電解メッキ層3は例えば銅が用いられ、無電解メッキ層
4としてはニッケル等を用いる。そして、無電解メッキ
層4により膜厚を管理して均一な膜厚で第一皮膜部5を
形成することができる。
【0012】さらに、第一皮膜部5の表面、すなわちニ
ッケルの無電解メッキ層4の表面には、異種金属メッキ
層23を形成する。異種金属メッキ層23はニッケル無
電解メッキ層4と密着性の良好なクロムメッキ等が好ま
しく、その表面にストライクメッキ層22を形成して第
二皮膜部6の下処理層2を形成している。
【0013】そして、第二皮膜部6の下処理層2の上に
さらに第一皮膜部5と同様の電解メッキ層3および無電
解メッキ層4を積層して第二皮膜部6を構成する。
【0014】また、第二皮膜部6の最上層の無電解メッ
キ層4がニッケルメッキ層の場合は、クロム酸処理を行
うことにより耐食性をより高めることができる。
【0015】なお、上記実施例では、第二皮膜部6に一
組の電解メッキ層3と無電解メッキ層4を有するもので
説明したが、さらに多層に電解メッキ層3および無電解
メッキ層4の積層を繰り返すことにより、より耐食性を
高めることができる。
【0016】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によるマグネシウム合金のメッキ膜構造によれば、表面
導電性や熱伝導性を損なうことなく、耐食性を高めるこ
とができ、しかも膜厚管理を容易にして、マグネシウム
合金の加工部品を高精度に形成することができる。
【0017】そして、本発明によれば10μm以上のメ
ッキ膜厚を形成することにより、マグネシウム合金は塩
水噴霧試験48時間をクリアすることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す説明図である。
【図2】従来例を示す説明図である。
【符号の説明】
1  基材 2  下処理層 3  電解メッキ層 4  無電解メッキ層 5  第一皮膜部 6  第二皮膜部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】マグネシウム合金の基材(1)の表面に下
    処理層(2)を介して電解メッキ層(3)を形成し、前
    記電解メッキ層(3)上に無電解メッキ層(4)を積層
    してなる第一皮膜部(5)と、少なくとも一組以上の前
    記電解メッキ層(3)と無電解メッキ層(4)とを有し
    て前記第一皮膜部(5)上に積層される第二皮膜部(6
    )とよりなることを特徴とするマグネシウム合金のメッ
    キ膜構造。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005256170A (ja) * 2004-02-12 2005-09-22 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 無電解ニッケルめっき方法及びそのめっき製品
JP2007068017A (ja) * 2005-09-01 2007-03-15 Pioneer Electronic Corp スピーカー装置用構成部材及びスピーカー装置
CN100430520C (zh) * 2005-12-30 2008-11-05 东北大学 一种镁及镁合金表面化学镀铜的方法
US10161413B2 (en) 2012-04-12 2018-12-25 Nuovo Pignone Srl Method for preventing corrosion and component obtained by means of such

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US10161413B2 (en) 2012-04-12 2018-12-25 Nuovo Pignone Srl Method for preventing corrosion and component obtained by means of such

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