KR890014514A - 아라키돈산의 리폭시게나제-유도된 대사산물의 생합성을 억제하는 화합물 - Google Patents

아라키돈산의 리폭시게나제-유도된 대사산물의 생합성을 억제하는 화합물 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

아라키돈산의 리폭시게나제-유도된 대사산물의 생합성을 억제하는 화합물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 일반식(1)의 화합물, 이의 또 다른 약제학적으로 허용되는 에스테르 또는 프로-드러그, 및 일반식(1) 화합물의 염 또는 산부가염.
    상기식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 측쇄 또는 직쇄 알킬, 알릴, 알콕시(예, 메톡시), 또는 할로겐이고, R5는 수소, 알킬 또는 -CO2R8(여기에서, R3은 수소 또는 C1-C3-알킬이다)이며, G는 a) OHb) 그룹 R3CO2-〔여기에서, R3는 (i) HO2C-X(여기서, X는 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않는 임의 치환된 탄화수소 쇄이다), 또는 (ii) 그룹(여기서, R10및 R11은 수소 또는 알킬이고, R12는 수소, 알킬 또는 헤테로원자를 함유할 수 있는 아릴이거나 R11및 R12가 함께는 환을 형성한다)이다] 또는 c) 그룹 HCO2-이며, 단, R5는 -CO2R8(여기에서, R8은 수소 또는 C1-C3-알킬이다)이고, Ar은 임의로 치환된 헤테로방향족 또는 방향족 환이며, 단, Ar은[여기에서,은 단일 또는 이중결합이고, X1및 Y는 (i) N, (ii) NR4(여기에서, R4는 수소, 저급알킬,(여기서, R1′R2′은 동일하거나 상이할 수 있고 H 또는 저급알킬이다), C(O)R4′(여기서, R4′는 수소 및 저급알킬이다), 3 내지 8개의 환 탄소를 갖는 3 내지 12개의 탄소수의 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬이다), (iii) O, 또는 (iv) S이다]가 아니고 추가로 Ar은 R1및 R2모두가 메틸일 때이 아니다.
  2. 제1항에 있어서, Ar이 2- 또는 3-티에닐인 화합물.
  3. 제1항에 있어서, Ar이 2-티에닐인 화합물.
  4. 제1항에 있어서, Ar이 1-나프틸 또는 2-나프틸인 화합물.
  5. 제1항에 있어서, Ar이 3-티아나프테닐인 화합물.
  6. 제1항에 있어서, Ar이 할로겐, 알킬, 알콕시, 또는 트리플루오로메틸에 의해 임의로 일- 또는 다-치환된 페닐인 화합물.
  7. 제1항에 있어서,
    인 화합물.
  8. 제1항에 있어서, 하기 일반식으로 나타나는 화합물, 이의 또다른 에스테르, 및 이의 모든 염.
    상기식에서, R1, R2및 Ar은 제1항에서 정의한 바와 같고, R3은 HO2C-X(여기에서, X는 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않는 임의로 치환된 탄화수소 쇄이다)이며, R5는 수소 또는 C1-C5알킬, 또는 CO28(여기에서, R8은 수소 또는 C1-C3알킬이다)이다.
  9. 제1항에 있어서, 하기 일반식으로 나타나는 화합물, 및 이의 염.
    상기식에서, R1, R2및 Ar은 제1항에서 정의한 바와 같고,[여기에서, R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬이며, R12는 수소, 알킬 또는 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않는 아릴이거나 R11및 R12가 함께는 환을 형성하고, n은 1 내지 5의 정수이다]이며, R5는 수소이다.
  10. 제1항에 있어서, 하기 일반식으로 나타나는 화합물, 이의 또 다른 에스테르, 및 이의 염.
    상기식에서, R1, R2및 Ar은 제1항에서 정의한 바와 같고, R3은 HO2C-X[여기에서, X는 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않는 임의로 치환된 탄화수소 쇄이다] 수소 또는[여기에서, R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬이며, R12는 수소, 알킬 또는 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않는 아릴이거나 R11및 R12가 함께는 환을 형성하고, n은 1 내지 5의 정수이다]이며, R5는 CO2R8[여기에서, R8는 수소 또는 알킬이다]이다.
  11. 제1항 내지 제10항중 어느 한 항에 있어서, 효소 5-리폭시게나제를 억제시켜 온혈 동물의 질병을 치료하는데 사용하기 위한 화합물.
  12. 제1항 내지 제11항중 어느 한 항에 따른 화합물 및 약제학적으로 허용되는 담체 또는 부형제를 함유함을 특징으로하는 약제 조성물.
  13. a) R5가 수소이고 G가 -OH인 일반식(1)의 화합물을 제조하기 위하여, 일반식(7)의 화합물을 아릴 또는 헤테로아릴 아세트산(8)과 반응시켜 일반식(1″)의 화합물을 수득하고, b) R5가 CO2R8이고 G가 -OH인 일반식(1)의 화합물을 제조하기 위하여, 일반식(7)의 화합물을 일반식(9)의 아릴 또는 헤테로아릴 아세트산 에스테르와 반응시켜 일반식(10)의 화합물을 수득하며, c) R8이 수소인 일반식(1)의 화합물을 제조하기 위하여, 일반식(10′)의에스테르를 가수분해시켜 일반식(11)의 유리산을 수득하고, d) R5가 수소인 일반식(1)의 화합물을 제조하기 위하여, 일반식(11)의 산을 탈카복실화시켜 일반식(1″)의 화합물을 수득하며, e) R5가 C1-C5-알킬인 일반식(1)의 화합물을 수득하기 위하여, 일반식(12)의 화합물을 탈보호시키고, f) 일반식(13)의 화합물을 수득하기 위하여, G가 OH인 일반식(1)의 화합물을 일반식(14)의 화합물과 반응시키며, g) G가 일반식 (15)의 일반식(1)의 화합물을 제조하기 위하여, G가 OH이고 R5가 알킬인 일반식(1)의 화합물, 또는 일반식 (10′)의 화합물을 일반식(16)의 화합물과 반응시킨후, 보호그룹이 존재할 경우 R10′ 및/또는 R11′의 그룹을 제거하고, 필요할 경우 그룹 R을 제거시킨후, 필요할 경우 방법 a) 내지 g)의 생성물을 I) 에스테르그룹 R8을 제거시켜 유리산을 수득하고, ii) 유리산을 에스테르화하여, 에스테를 그룹이 생체내에서 분리되어 유리산을 형성할 수 있는 약제학적으로 허용되는 에스테르를 수득하며, iii) 유리산과의 약제학적으로 허용되는 염, 예를 들면 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속(예, 나트륨, 칼륨 또는 칼슘)과의 염을 형성하고, 또는 iv) 일반식(1)의 화합물, 특히 R3가 그룹인 상기 화합물과 산부가염을 형성하는 마무리 공정을 하나 이상 원하는 어떠한 순서로 처리시킴을 특징으로하여, 제1항 내지 제11항중 어느 한 항에 따른 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 측쇄 또는 직쇄 알킬, 알릴, 알콕시(예, 메톡시), 또는 할로겐이고, Ar은 임의로 치환된 헤테로방향족 또는 방향족 환이며, 단, Ar은[여기에서,은 단일 또는 이중결합이고, X1및 Y는 (i) N, (ii) NR4(여기에서,4는 수소, 저급알킬,(여기서, R1′R2′은 동일하거나 상이할 수 있고 H 또는 저급알킬이다), C(O)R4′(여기서, R4′는 수소 및 저급알킬이다), 3 내지 8개의 환 탄소를 갖는 3 내지 12개의 탄소수 사이클로알킬, 아릴 또는 아르알킬이다), (iii) O, 또는 (iv) S이다]가 아니고 추가로 Ar은 R1및 R2모두가 메틸일 때이 아니며, R8은 C1-C3-알킬이고, R은 R8이 C1-C3-알킬일 때 R8로 존재할 수 있으며, 공지된 방법으로 제거되어질수 있는 에스테르 형성 그룹이고, 일반식(12) 및 (13)에서 R5는 C1-C5-알킬이며, Pg는 하이드록시 보호그룹이고, X는 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않는 임의로 치환된 탄화수소 쇄이며, R10및 R11은 수소 또는 알킬이고, R12는 수소, 알킬 또는 헤테로원자를 적어도 하나 함유할 수 있는 아릴기이거나, R11및 R12가 함께는 환을 형성하며, R10′ 및 R11′는 수소 또는 알킬이고, 단, 이중 하나가 수소이면 다른 하나는 알킬 또는 제거될 수 있는 보호그룹이며, R11′ 및 R12′가 함께 환을 형성할 수 있으며, n은 1 내지 5의 정수이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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