KR890008808Y1

KR890008808Y1 - 저욕비 (低欲比) 염색 장치

Info

Publication number: KR890008808Y1
Application number: KR2019860022218U
Authority: KR
Inventors: 기요시 나카야마
Original assignee: 요시다 고오교오 가부시키가이샤; 요시다 다다오
Priority date: 1985-12-30
Filing date: 1986-12-29
Publication date: 1989-12-05
Also published as: AU6670086A; JPS62114089U; EP0230630A1; AU573997B2; ES2020507B3; HK59193A; DE3677949D1; US4754620A; CA1260282A; MY100245A; BR8606604A; SG41393G; EP0230630B1; KR880012260U; JPH0114709Y2

Abstract

내용 없음.

Description

저욕비(低欲比)염색 장치

제1도는 이 고안에 의 한 염색장치의 부분 측단면도.

제2도는 제1도의 A-A 선 단면도.

제3도는 제1도의 B-B 선 단면도.

제4도는 산액실의 사시도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

S : 피처리물 1 : 처리조

2 : 비임 4 : 회전축

7 : 구동 아암 8 : 돌출부

9 : 액체 흐름 순환 장치 11 : 가열기

12 : 복귀 관 13 : 펌프

14 : 주 공급관 15 : 유량 조절 밸브

16 : 액체 공급 바이패스 관 17 : 산액실

18 : 구멍 23 : 약액 주입관

24 : 액체 배출관 25 : 더미(dummy)실린더

26 : 균압관

이 고안은 천공된 원통형 비임에 감긴 기다란 섬유 제품을 고온 고압하에서 염색하는 장치에 관한 것으로서, 더 구체적으로는,저욕비(低欲比)에서의 염색 처리에 적합한 장치에 관한 것이다.

실, 테잎, 직물과 같은 기다란 섬유 제품이 통상적으로 "비임"이라 불리는 회전하는 천공된 원통형 관에 감겨있는 상태에서 고온 고압하에 염액을 강제로 그 섬유 제품에 통과시켜 염색하는 여러가지 장치가 공지되어 있다.

그 비임은 원통형 처리조 내에 동심으로 지지된다. 염액은 섬유 제품이 감겨 있는 비임의 내측으로부터 반경 방향 외측으로 고온 고압하에서 섬유 제품 층을 강제로 통과하게 된다.

종래의 많은 장치에 있어서는 섬유 제품의 모든 부분에서 염색처리의 균일성을 유지하기가 어려워 섬유 제품의 감김층의 반경 방향 및 축 방향으로 염색반이 생길 수가 있었다.

이러한 결점을 해소하기 위하여 개량된 장치가 일본국 특허 공보 소 58-5301호 및 60-39786호와 일본국 실용신안 공보 소 59-9034호에 개시되어 있다.

종래의 장치에 있어서, 섬유 제품 감김층의 하부가 잠기는 염액 표면은, 비임의 원주 구멍들을 통하여 섬유 제품 감김 층을 지나는 불균일한 양의 염액에 기인한 염색반의 발생이 방지될 수 있도록 유지된다.

그러나, 비임에 감긴 섬유 제품의 양이 감소되는 경우, 즉, 섬유 제품 감김 층의 직경이 감소되는 경우에는, 염액의 양을 증가시켜야 하여 저욕비가 현저하게 변한다.

결과적으로, 예를들어 염색조건, 염액의 조성을 조정해야 하는데, 이것은 아주 세심하게 해야한다. 그러나, 이처럼 세심한 조정으로도 저욕비를 회복할 수 없다.

또한, 처리조 내 염액 수준이 낮아지는 겨우, 비임에 감겨있는 섬유 제품 감김 층의 대부분이 처리조 내 공기에 필연적으로 노출된다. 부분적으로는 섬유 제품의 많은 부분이 공기에 노출되기 때문에, 그리고 또 부분적으로는, 내측으로부터 섬유 제품을 통과하는 염액의 양이 균일하지 않기 때문에, 섬유 제품은 국부적으로 불충분하게 적셔질 수 있다. 섬유 제품이 비임의 하부에서 적시어진다 하더라도 불균일한 염색은 피할 수 없다.

또한, 부분적으로는 소량의 염액이 비임의 양측 테두리의 내측 표면을 따라서 분출되어 그 표면에 충돌하여 비산되기 때문에, 그리고 또 부분적으로는 첨가제와 같은 표면 활성제에 의하여 염액 표면에 거품이 생성되기 때문에, 염액이 공기에 노출된 처리조의 벽 표면에 부착되어서, 염액에 포함된 염료와 보조제가 응집되고, 또한, 합성 수지와 합성섬유를 포함하는 섬유 제품으로부터 용출된 저 분자량 물질이 처리조의 벽 표면에 부착 응집되어, 그 벽 표면을 오염시킨다. 또한 이들 응집된 물질들은 섬유 제품상에 쉽게 떨어져서 부착되기 때문에 섬유 제품의 염색 질을 떨어뜨린다.

이 고안은 상기한 바와 같은 문제점을 감안하여 된 것으로서, 이 고안의 목적은, 고온에서의 처리시 어떠한 문제도 야기함이 없이 효과적으로 양호하게 섬유 제품을 염색할 수 있는 저욕비 염색 장치를 제공하는 것이다. 이 고안의 다른 목적은, 요구되는 저욕비에서 여러가지 양의 섬유 제품을 어려움없이 염색할 수 있는 저욕비 염색장치를 제공하는 것이다. 따라서, 이 장치는 각기 소량의 여러가지 종류의 섬유 제품들을 염색하는데 특히 적합하다.

이 고안에 따른 저욕비 염색장치는, 염액을 수용하기 위한 수평의 처리조와, 그 처리조내에 회전 가능하게 지지되며 염색될 피처리물을 둘레에 지지하는 천공된 원통형 비임과, 처리조에 연결되어서 염액을 비임의 반경 방향 외측으로 피처리물을 강제로 통과하게 하는 액체 흐름 순환 장치와, 처리조의 천정에 장착되며 비임 상부, 처리조 처정, 그리고 처리조 내측벽에 염액을 분출 산액시키기 위한 많은 구멍들이 있는 산액실(散液室)과, 액체 흐름 순환 장치의 액체 공급측에서 분기되어 나온 액체 공급 바이패스 관으로 구성된다.

첨부된 도면들을 참조하여 이 고안의 실시예에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

제1도는 섬유 제품, 즉, 피처리물(S)을 염색하는 저욕비 염색 장치를 도시한다. 이 장치는 단면이 대략 원형이며(제2도 및 제3도)수평 축선을 따라서 뻗는 원통형 처리조(1)를 포함한다. 이 처리조(1)의 전방 단부는 개폐가능한 전방 뚜껑판(20)으로 견고하게 덮히며, 후방 단부는 환형의 후방 뚜껑판(10)으로 덮힌다. 그 후방 뚜껑판(10)에는 열 고환기식 가열기(11)가 부착되어 있다.

단면이 대체로 원형인(제2도 및 제3도)천공된 원통형 비임(2)이 처리조(1)와 동심으로 그 처리조(1)내에 지지된다.

그 비임(2)은 염색될 피처리물(S)를 원주에 감아 지지하기에 적합하게 되어 있다. 비임(2)의 원주에는 다수의 구멍들이 균일하게 분포되어 형성되어서 염액이 비임(2)에 감긴 피처리물(S)의 층을 통과하여 흐를 수 있게 한다.

제2도에 보인 바와같이, 비임(2)의 각 단부는 처리조(1)에 고정된 채 그 처리조(1)의 길이방향으로 뻗는 한쌍의 나란하게 떨어진 레일(32),(32)상에서 그 레일을 따라 움직일 수 있는 대차(坮車)(31)에 의해 지지되며, 그 대차(31)에는 한쌍의 지지 로울러(30), (30)가 있다. 비임(2)은 2쌍의 지지 로울러(30,30)(30,30)상에 얹혀, 비임(2)의 축선방향으로 뻗는 회전축(4)을 중심으로 하여 회전 할 수 있다. 비임(2)이 시계 방향으로, 즉, 모우터(5)에 의해 감속기(6)를 통하여 화살표 방향으로 회전됨에 따라서 지지 로울러(30), (30)는 비임(2)의 원주상에서 구르고, 그동안 각각의 지지 로울러(30)는 반시계 방향으로 회전된다.

제1도에 보인 바와같이, 누름 원판(21)이 전방 뚜껑판(20)의 중앙에 회전할 수 있게 장착되고, 공기 실린더(22)에 의해 비임(2)에 가까이 혹은 멀리 축선방향으로 움직일 수 있어, 비임(2)의 전방 개구부를 개폐시키다. 전방 뚜껑판(20)의 원주 가장자리는, 환형 걸쇠(3)에 의해 처리조(1)의 전방 원주 가장자리에 액체가 새지 못하게 체결된다.

이 장치는 또한, 펌프(13), 그 펌프(13)와 통하고 가열기(11)에 연결된 주 공급관(14), 및 처리조(1)의 바닥 부분에 연결되고 펌프(13)와 통하는 한쌍의 복귀관(12),(12)으로 이루어진 액체 흐름 순환 장치(9)를 포함한다.

가장 중요한 점은 액체 공급 바이패스관(16)이 주 공급관(14)에서 분기되어, 처리조(1)의 천정에 장착되고 처리조(1)의 길이방향으로 뻗는 산액실(散液室)(17)에 연결되어 있다는 점이다.

그 산액실(17)로 흘러들어가는 액체의 양을 조절하기 위하여 유량 조절 밸브(15)가 액체 공급 바이패스관(16)내에 설치되어 있다. 필요에 따라서, 열교환기식 가열기가 액체 공급 바이패스관(16)에 연결될 수도 있다.

제3도 및 제4도에 화살표로 나타낸 바와같이 비임(2)의 상부, 처리조(1)의 천정, 및 처리조(1)의 전후방 뚜껑판(20),(10)에 염액을 분출 산액시키기 위한 방식으로 분포된 다수의 구멍(18)이 산액실(17)에 형성되어 있다.

제1도 및 제2도에 보인 바와같이, 구동 아암(7)이 회전축(4)의 전방 말단부에 장착되어 반경방향 외측으로 뻗으며 비임(2)의 내측표면에 못미쳐 끝난다. 비임(2)의 내측 표면에는 구동 아암(7)의 자유 단부에 걸리는 돌출부(8)가 있다. 그리하여 회전축(4)의 회전이 비임(2)에 전달된다.

처리조(1)내 용적을 줄이기 위하여 처리조(1)내에 동심으로 지지된 기다란 더미(dummy)실린더(25)는 균압관(26)을 통하여 처리조(1)의 상부에서 대기와 통한다. 안전 밸브 연결관(27), 압력계 연결관(28), 및 탈기 밸브 연결관(29)각각이 처리조(1)의 상부에 연결되어 있다.

액체 흐름 순환 장치(9)의 펌프(13)는 액체 유동량을 조절할 수 있도록 주파수 변환기와 같은 적당한 감속기(도시되지 않음)를 통하여 모우터(도시되지 않음)에 자동적으로 연결되어 있다. 복귀관(12),(12)에는 물 흡입 및 약액 주입관(23)과 액체 배출관(24)이 연결되어 있다. 가열기(11)는 처리조(1)의 입구측 대신 복귀관(12),(12)에 연결될 수도 있다.

작동에 있어서, 제2도 및 제3도에 보인 바와같이, 피처리물(S)의 감김층의 제한된 일부분만이 염액내에 잠기는 수준(L₁)이나, 혹은 피처리물(S)의 감김층의 대부분이 염액 표면에서 떨어져 있어 결과적으로 염액내에 잠기어 있지 않는 수준(L₂)에 염액 표면이 유지된 상태에서, 염액이 피처리물(S)의 감김층을 통과하여 반경방향 외측으로 강제로 흐르고, 한편으로, 처리조(1)내 공기에 노출된 피처리물(S)의 외측표면은 산액실(17)에서 뿌려진 염액의 얇은 층으로 덮혀진다.

그리하여 피처리물(S)은 염액 표면의 수준에 관계없이 그 피처리물의 전체 감김 층에 걸쳐 적당히 적셔 질수 있다. 이와 동시에, 처리조(1)의 천정과 처리조(1)의 내측벽들도 산액실(17)에서 뿌려진 염액의 층으로 덮혀,피처리물과 부품의 온도 하강이 방지된다. 그동안, 분사된 염액으로 인하여 이물질(異物秩)이 피처리물과 부품에 부착 응집하는 것이 방지된다. 따라서, 이 장치에 의해 효율적이고 양호한 저욕비 염색이 수행될 수 있다.

수행된 실험의 결과는 다음과 같다.

종래의 염색 장치에 있어서, 비임상의 슬라이드 파스너 체인(폴리에스터 섬유로 된 테이프와 폴리에스터나 나일론으로 된 파스너 엘레멘트로 구성됨)40kg을 850리터의 염액으로 염색하기 위하여, 순환되는 염액의 양은 30리터/초 이어야 하고, 펌프의 회전 속도는 3500r.p.m이어야 한다.

한편, 이 고안의 장치에 있어서는 동일한 양의 슬라이드 파스너 체인이 400리터의 염액으로 염색되었으며, 순환되는 염액의 양은 18리터/초 이었고, 펌프의 회전속도는 200r.p.m으로 감소되었는데, 18리터/초의 양중 2리터/초(약1/10)의 염액이 산액실에서 분사되었으며, 처리조내 염액 표면의 수준은 제1도 및 제2도의 수준(L₂)로 유지 되었고, 그리고 비임의 회전 속도는 3-4r.p.m 이었다. 그결과, 염료 및 보조제의 양, 증기의 양, 및 작동 동력의 양이 각각 약 20%, 50%, 50% 씩 절감되었다. 그리고 양호한 염색이 달성되었다.

두번째, 동일한 이 고안의 장치에 있어서, 25kg의 파스너 체인이 300리터의 염액으로 염색되었는데, 이때 펌프의 회전속도는 1500r.p.m으로 감소되었으며, 순환되는 염액의 양은 10리터/초 이었고, 10리터/초의 양중 1.7리터/초의 염액이 산액실로부터 분출되었으며, 염액 표면의 수준은 제1도 및 제2도의 수준(L₁)으로 유지되었다.

그 결과, 첫번째 실험에서와 같이 양호한 염색이 달성되었다.

Claims

섬유 제품과 같은 피처리물(S)을 염액으로 염색하기 위한 저욕비 염색 장치로서, (a)수평으로 뻗으며 염액을 수용하는 원통형 처리조(1), (b) 상기 처리조(1)내에 회전 가능하게 동심으로 지지되고 피처리물(S)을 둘레에 감아서 지지하는 천공된 원통형 비임(2), (c)염액을 상기 비임(2)의 내부 안으로 강제로 보내서 피처리물(S)에 반경방향 외측으로 통과시키는 액체 흐름 순환장치(9), (d) 상기 비임(2)의 상부, 상기 처리조(1)의 천정, 및 상기 처리조(1)의 양쪽 내측벽에 염액을 분출 산액 시키기 위하여 다수의 구멍(18)이 있으며 상기처리조(1)의 천정에 장착된 산액실(17), 및 (c) 상기 액체 흐름 순환 장치(9)의 액체 공급측에서 분기되고 상기 산액실(17)에 연결된 액체 공급 바이패스 관(16)으로 구성된 저욕비 염색장치.
제1항에 있어서, 상기 산액실(17)이 상기 비임(2)의 유효 길이를 따라서 길이방향으로 뻗는 저욕비 염색장치.
제1항에 있어서, 상기 산액실(17)에 공급된 염액의 양을 조절하기 위한 밸브(15)가 상기 액체 공급 바이패스 관(16)에 장착된 저욕비 염색장치.