KR890004458A - 방진 필름 - Google Patents

방진 필름 Download PDF

Info

Publication number
KR890004458A
KR890004458A KR1019880010089A KR880010089A KR890004458A KR 890004458 A KR890004458 A KR 890004458A KR 1019880010089 A KR1019880010089 A KR 1019880010089A KR 880010089 A KR880010089 A KR 880010089A KR 890004458 A KR890004458 A KR 890004458A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
paint
frame
boiling point
dustproof
Prior art date
Application number
KR1019880010089A
Other languages
English (en)
Other versions
KR910008707B1 (ko
Inventor
히로아끼 나까가와
요이찌 다께하나
Original Assignee
원본미기재
미쓰이 세끼유 가가꾸 고오교오 가부시끼가이샤
히다찌 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 원본미기재, 미쓰이 세끼유 가가꾸 고오교오 가부시끼가이샤, 히다찌 가부시끼가이샤 filed Critical 원본미기재
Publication of KR890004458A publication Critical patent/KR890004458A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR910008707B1 publication Critical patent/KR910008707B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/48—Protective coatings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10—Methods of surface bonding and/or assembly therefor
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/16—Two dimensionally sectional layer
    • Y10T428/161—Two dimensionally sectional layer with frame, casing, or perimeter structure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Moving Of Heads (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

방진 필름
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일실시예에 의한 피막의 단면도.
제2도는 알루메타이즈 알루미늄 프레임의 표면의 현미경 사진.
제3도는 양면접착테이프의 구역을 나타내는 현미경 사진

Claims (21)

  1. 피막프레임의 한쪽측면상에 피막필름을 펼쳐서 피막을 구성한 다음 그 피막을 외부물질이 패턴에 접착되지 않도록 포토마스크, 초접판등에 부착하되, 피막프레임의 내부측면상에 페인트를 코팅하여 코팅층을 형성함으로서 그에 의해 피막프레임의 표면으로부터 먼지의 발생이 방지되는 것이 특징인 방진필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 페인트는 240∼450mm의 파장을 갖는 광에 의해 분해 또는 열화되지 않는 것이 특징인 방진필름.
  3. 제1항에 있어서, 상기 페인트는 전기도전물질로 구성되는 것이 특징인 방진필름.
  4. 제1항에 있어서, 상기 페인트는 접착부여제인 것이 특징인 방진필름.
  5. 제1항에 있어서, 상기 페인트의 유동온도는 50℃이하의 비등점을 갖는 저비등점 물질의 양은 0.0001몰 이하인 것이 특징인 방진필름.
  6. 제1항에 있어서, 상기 페인트에 내포되는 150℃이하의 비등점을 갖는 저비등점 물질의 양은 0.0001몰 이하인 것이 특징인 방진필름.
  7. 피막프레임의 한쪽 측면에 피막필름을 부착시켜 피막을 구성하고, 패턴에 외부물질의 접착이 방지되도록 다공성 기판의 양면상에 접착증을 구성하여 된 양면접착테이프에 의해 상기 피막을 포토마스크, 초접판등에 부착하되, 상기 양면접착테이프의 내부구역 중 적어도 다공성기판 구역을 페인트로 코팅하여 구성된 것이 특징인 방진필름.
  8. 제7항에 있어서, 피막프레임의 전면은 상기 페인트로 코팅되는 것이 특징인 방진필름.
  9. 제7항에 있어서, 상기 페인트는 250∼450㎜dml 파장을 갖는 광에 의해 분해 또는 열화되지 않는 것이 특징인 방진필름.
  10. 제7항에 있어서, 상기 페인트는 전기도전물질로 조성되는 것이 특징인 방진필름.
  11. 제7항에 있어서, 상기 페인트는 접착부여제인 것이 특징인 방진필름.
  12. 제7항에 있어서, 상기 페인트의 유동온도는 50℃이상인 것이 특징인 방진필름.
  13. 제7항에 있어서, 상기 페인트에 내포되는 150℃이하의 비등점을 갖는 저비등점 물질의 양은 0.0001몰 이하인 것이 특징인 방진필름.
  14. 프레임의 일측면상에 피막필름을 펼쳐서 피막을 구성하고, 패턴에 외부물질이 접착되지 않도록 포토마스크, 초점판등에 상기 피막을 부착하되, 비공성기판의 양면에 접착층을 구성하여된 양면접착테이프에 의해 상기 피막을 마스크에 부착시켜 되는 것이 특징인 방진필름.
  15. 제14항에 있어서, 피막프레임의 전체 내부면상에 페인트가 코팅되는 것이 특징인 방진필름.
  16. 제14항에 있어서, 비공성기판은 포리에티렌 쉬트인 것이 특징인 방진필름.
  17. 피막프레임의 한쪽 면상에 피막필름을 펼쳐 피막을 구성하고, 패턴에 외부물질이 접착되지 않도록 포토마스크, 초접판등에 상기 피막을 부착하되, 비공성기판의 양면에 접착층을 구성하여된 양면접착테이프에 의해 상기 피막을 마스크에 부착시켜 되는 것이 특징인 방진필름.
  18. 제17항에 있어서, 페인트 피막프레임의 전체 내부면상에 코팅되는 것이 특징인 방진필름.
  19. 제17항에 있어서, 결합면에 코팅되는 점착부여제는 JISA형 고무경도계로 측정하여 3-70℃의 경도를 갖는 것이 특징인 방진필름.
  20. 제17항에 있어서, 결하면상에 코팅된 접착부여제의 층두께는 0.1-3㎜인 것이 특징인 방진필름.
  21. 제17항에 있어서, 150℃이사의 비등점을 갖는 저비등점 물질의 양은 0.0001몰 이하인 것이 특징인 방진필름.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880010089A 1987-08-18 1988-08-08 방진필름 KR910008707B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62-205533 1987-08-08
JP205,533 1987-08-18
JP20553387A JP2642637B2 (ja) 1987-08-18 1987-08-18 防塵膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR890004458A true KR890004458A (ko) 1989-04-22
KR910008707B1 KR910008707B1 (ko) 1991-10-19

Family

ID=16508463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019880010089A KR910008707B1 (ko) 1987-08-18 1988-08-08 방진필름

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5085899A (ko)
EP (1) EP0304211B1 (ko)
JP (1) JP2642637B2 (ko)
KR (1) KR910008707B1 (ko)
AT (1) ATE105427T1 (ko)
CA (1) CA1319043C (ko)
DE (1) DE3889396T2 (ko)
HK (1) HK51695A (ko)
MY (1) MY103336A (ko)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2535971B2 (ja) * 1987-11-05 1996-09-18 三井石油化学工業株式会社 ペリクル
JP2714450B2 (ja) * 1989-08-10 1998-02-16 ダイセル化学工業株式会社 防塵膜
JP3037745B2 (ja) * 1990-11-29 2000-05-08 三井化学株式会社 ペリクル構造体
US5254375A (en) * 1991-08-26 1993-10-19 Yen Yung Tsai Apparatus for controllably separating framed working area from remainder of the membrane
US5344677A (en) * 1992-08-27 1994-09-06 Hong Gilbert H Photochemically stable deep ultraviolet pellicles for excimer lasers
JP3027073B2 (ja) * 1993-07-28 2000-03-27 信越化学工業株式会社 ペリクル
TW285721B (ko) * 1994-12-27 1996-09-11 Siemens Ag
JP3493090B2 (ja) * 1995-12-15 2004-02-03 信越化学工業株式会社 ペリクル
TW337002B (en) * 1996-11-19 1998-07-21 Mitsui Kagaku Kk Pellicle
DE19808461A1 (de) * 1998-03-02 1999-09-09 Zeiss Carl Fa Retikel mit Kristall-Trägermaterial
US20040032576A1 (en) * 1999-03-26 2004-02-19 Nikon Corporation Exposure method and apparatus
WO2005036604A2 (en) * 2003-10-09 2005-04-21 E.I. Dupont De Nemours And Company Apparatus and method for supporting a flexible substrate during processing
JP4889510B2 (ja) * 2007-01-16 2012-03-07 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム内面への粘着剤の塗布方法
JP5314631B2 (ja) 2010-04-20 2013-10-16 信越化学工業株式会社 ペリクルフレームの通気孔内壁に粘着剤を塗布する方法
JP2011253176A (ja) * 2010-05-07 2011-12-15 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル用粘着剤
EP2592123B1 (en) * 2010-07-09 2020-02-19 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle and mask adhesive agent for use in same
JP5767535B2 (ja) * 2010-09-01 2015-08-19 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ペリクル枠体、ペリクル及びペリクル枠体の製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2165539A (en) * 1937-05-26 1939-07-11 Teletype Corp Package
US2888368A (en) * 1954-12-27 1959-05-26 American Viscose Corp Nitrocellulose type coatings for cellulosic base films
US3082453A (en) * 1959-03-04 1963-03-26 David E Mutchler Adhesive coated cleaning article
US4537813A (en) * 1982-09-27 1985-08-27 At&T Technologies, Inc. Photomask encapsulation
US4482591A (en) * 1983-03-08 1984-11-13 J. T. Baker Chemical Company Polyvinyl butyrate pellicle compositions and pellicles thereof for projection printing
US4476172A (en) * 1983-04-18 1984-10-09 J. T. Baker Chemical Company Pellicle compositions and pellicles thereof for projection printing
US4470508A (en) * 1983-08-19 1984-09-11 Micro Lithography, Inc. Dustfree packaging container and method
WO1985001031A1 (en) * 1983-08-29 1985-03-14 Yen Yung Tsai Dustfree packaging container and method
JPS6057841A (ja) * 1983-09-09 1985-04-03 Hitachi Ltd 異物固定方法及び装置
JPS6075835A (ja) * 1983-10-03 1985-04-30 Hitachi Ltd ペリクル
JPS61209449A (ja) * 1985-03-14 1986-09-17 Asahi Chem Ind Co Ltd 非反射性ペリクル体
US4759990A (en) * 1985-11-27 1988-07-26 Yen Yung Tsai Composite optical element including anti-reflective coating
KR930001191Y1 (ko) * 1986-06-13 1993-03-18 나고야 유까 가부시기가이샤 마스킹재
EP0252574A2 (en) * 1986-07-07 1988-01-13 YEN, Yung-Tsai Method and apparatus for reducing particulates on photomasks
US4737387A (en) * 1986-07-07 1988-04-12 Yen Yung Tsai Removable pellicle and method

Also Published As

Publication number Publication date
CA1319043C (en) 1993-06-15
US5085899A (en) 1992-02-04
EP0304211B1 (en) 1994-05-04
EP0304211A2 (en) 1989-02-22
EP0304211A3 (en) 1989-11-15
MY103336A (en) 1993-05-29
JPS6448062A (en) 1989-02-22
DE3889396T2 (de) 1994-10-06
KR910008707B1 (ko) 1991-10-19
ATE105427T1 (de) 1994-05-15
JP2642637B2 (ja) 1997-08-20
DE3889396D1 (de) 1994-06-09
HK51695A (en) 1995-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR890004458A (ko) 방진 필름
SE9801899D0 (sv) Sårförband
KR890005241A (ko) 양면, 감압성 접착 테이프 및 이의 제조방법
ATE328048T1 (de) Trocknungsmittel
CA2355817A1 (en) Absorbent article having fibrous layer on surface
ATE352832T1 (de) Etikettenbogen
DE69916025D1 (de) Artikel mit klebfähiger oberfläche
DE60328980D1 (de) Verbessertes klebeband zur abdeckung
DE60232656D1 (de) Beschichtete öl absorbierende wischtücher
ATE423393T1 (de) Stabilisierung eines substrats mittels trägerelement
KR840007121A (ko) 박리시이트 및 그 제조방법
KR900013321A (ko) 회귀반사성 첩착시트
ATE301382T1 (de) Akustisches element
ATE198903T1 (de) Doppelseitiges klebeband zur befestigung von klischees
ATE328745T1 (de) Bilddeckende laminatfolie und blatt für wandprojektion
ES2147403T3 (es) Bolsa flexible facil de abrir.
KR890003025A (ko) 칩고정 테이프
DK0567110T3 (da) Tosidigt klæbende klæbebånd
ATE344516T1 (de) Verbundmaterial
ATE264187T1 (de) Lithographische dünne filmstruktur und diese enthaltende druckplatte
ATE180626T1 (de) Blattförmige backunterlage
DE3376768D1 (en) Cover film for printing plate
FR2416499A1 (fr) Papier photographique a support auto-adhesif utilisable notamment dans les arts graphiques
DE59902340D1 (de) Sensor in dünnfilmbauweise
KR800000965Y1 (ko) 카세트 녹음테이프의 패드

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20071010

Year of fee payment: 17

EXPY Expiration of term