KR880004015A - 감광제 및 중합성 조성물 - Google Patents

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KR880004015A
KR880004015A KR870010354A KR870010354A KR880004015A KR 880004015 A KR880004015 A KR 880004015A KR 870010354 A KR870010354 A KR 870010354A KR 870010354 A KR870010354 A KR 870010354A KR 880004015 A KR880004015 A KR 880004015A
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도날드 밀러 셀
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Abstract

내용 없음

Description

감광제 및 중합성 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (16)

  1. 하기구조식(Ⅰ) 또는 (Ⅱ)를 가지는 유닛의 감광적 유효량을 함유하는 중합체 감광제.
    상기식중,
    a는 0 또는 1이고, x는 1 또는 2이고, b는 0또는 1이고, R1,R2및 R3은 각각 H, 알킬, 알릴알카릴 및 알알킬기로 이루어진 군에서 선택되고, R4및 R6은 알릴, 알카릴 및 알알킬기로 이루어진 군에서 선택되고, R4및 R6은 R5로부터의 원자 및 헤테로 시클릭기 또는 비스-헤테로 시클릭기로 이루어진 군에서 선택된 R5에 결합된 질소원자와 함께 2가 유기기를 형성할 수 있고, R5는 2가 유기기 또는 화학결합이고, R7및 R9는 각각 알킬렌, 아릴렌, 알카릴렌 및 헤테로 알릴렌 기로 이루어진 군에서 선택되거나, 질소상의 치환체가 H, 알킬 아릴, 알카릴 또는 알알칼인 단일치환질소원자이고, R8는 화학결합 및 알킬렌, 아릴렌, 알카릴렌 및 헤테로 아릴렌 기로 이루어진 군에서 선택된다.
  2. 제1항에 있어서 구조식(Ⅰ)의 R1, R2및 R3각각 H 및 탄소수 1-20의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 감광제.
  3. 제1항에 있어서, 구조식(Ⅱ)의 R1, R2및 R3가 각각 H 및 탄소수 1-20의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 감광제.
  4. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 구조식(Ⅰ)의 R1, R2및 R3가 각각 H, 탄소수 1-20의 알킬기, 페닐기, 비페닐기 및, 아릴기가 페닐, 나프틸, 안트릴 및 페난트릴기로 이루어진 군에서 선택됨과 동시에 알킬기에 1-20의 탄소원자를 가지는 알알킬로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 감광제.
  5. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 구조식(Ⅱ)의 R1, R2및 R3가 각각 H, 탄소수 1-20의 알킬기, 페닐기, 비페닐기 및 알릴기가 페닐, 나프틸, 안트릴 및 페난트릴기로 이루어진 군에서 선택됨과 동시에 알킬기에 1-20의 탄소원자를 가지는 알알킬로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 감광제.
  6. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 구조식(Ⅱ)의 R4및 R6이 각각 탄소수 1-20의 알킬, 1-3의 고리가 연결된 아릴, 및 아릴기가 페닐, 나프틸, 안트릴 및 페난트틸기로 이루어진 군에서 선택됨과 동시에 알킬기에 1-20의 탄소원자를 가지는 알알킬에서 선택되거나, R4및 R6은 R5로부터의 원자 및 R5에 결합된 질소원자와 함께 피페리진, 비스-피페리딘 및 비스-피롤리딘에서 선택된 5-또는 6-원의, 헤테로시클릭기를 형성하는 것을 특징으로 하는 감광제.
  7. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, R4및 R6이 각각 탄소수 1-20의 알킬, 1-3의 고리가 연결된 아릴, 및 아릴기가 페닐, 나프틸, 안트릴 및 페난트틸기로 이루어진 군에서 선택됨과 동시에 알킬기에 1-20의 탄소원자를 가지는 알알킬에서 선택되거나, R4및 R6은 R5로부터의 원자 및 R5에 결합된 질소원자와 함께 피페리진, 비스-피페리딘 및 비스-피롤리딘에서 선택된 5-또는 6-원의, 헤테로시클릭기를 형성하는 것을 특징으로 하는 감광제.
  8. 제4항에 있어서, R4및 R6이 각각 탄소수 1-20의 알킬, 1-3의 고리가 연결된 아릴, 및 아릴기가 페닐, 나프틸, 안트릴 및 페난트틸기로 이루어진 군에서 선택됨과 동시에 알킬기에 1-20의 탄소원자를 가지는 알알킬에서 선택되거나, R4및 R6은 R5로부터의 원자 및 R5에 결합된 질소원자와 함께 피페리진, 비스-피페리딘 및 비스-피롤리딘에서 선택된 5-또는, 6-원의, 헤테로시클릭기를 형성하는 것을 특징으로 하는 감광제.
  9. 제7항에 있어서, R5는 1-20의 탄소원자 및 40까지의 주원자로 구성되는 폴리알킬렌옥사이드로 이루어지는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 감광제.
  10. 제8항에 있어서, R7및 R9는 각각 탄소수 1-20의 알킬렌, 3개까지의 고리가 연결된 알릴렌 또는 주원자가 C,N,S,0 및 Se원자인 5-또는 6-원의 3개까지의 고리가 연결된 헤테로알릴렌으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 감광제.
  11. 에틸렌성 불포화 중합성물질, 광개시제, 및 상기 광개시제의 감광제로 구성되는 광중합성 조성물에 있어서, 상기 조성물은 상기 감광제가 제1항의 감광제로 구성되는 것을 특징으로 하는 광중합성 조성물.
  12. 에틸렌성 불포화 중합성물질, 광개시제, 및 상기 광개시제의 감광제로 구성되는 광중합성 조성물에 있어서, 상기 조성물은 상기 감광제가 제4항의 감광제로 구성되는 것을 특징으로 하는 광중합성 조성물.
  13. 에틸렌성 불포화 중합성물질, 광개시제, 및 상기 광개시제의 감광제로 구성되는 광중합성 조성물에 있어서, 상기 조성물은 상기 감광제가 제7항의 감광제로 구성되는 것을 특징으로 하는 광중합성 조성물.
  14. 제12항에 있어서, 상기 광개시제는 감광성 디아릴요오도늄 자유라디칼개시제로 구성되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제14항의 조성물이 기판상에 피복된 것을 특징으로 하는 제품.
  16. 제15항에 있어서, 산소 베리어피복층을 가지는 것을 특징으로 하는 제품.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1308852C (en) * 1987-01-22 1992-10-13 Masami Kawabata Photopolymerizable composition
US4791045A (en) * 1988-01-25 1988-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitizers and polymerizable compositions with mannich bases and iodonium salts
US4921827A (en) * 1988-11-23 1990-05-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sensitized photoinitiator system for addition polymerization
JP2604453B2 (ja) * 1988-12-14 1997-04-30 積水化学工業株式会社 アクリル系粘着テープ
JP6998769B2 (ja) * 2015-10-01 2022-01-18 東洋合成工業株式会社 ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3458311A (en) * 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
US4072527A (en) * 1972-09-27 1978-02-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Oxygen barrier layers for photopolymerizable elements
US4072528A (en) * 1972-09-27 1978-02-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Oxygen barrier layers for photopolymerizable elements
JPS5928327B2 (ja) * 1977-08-29 1984-07-12 大日精化工業株式会社 光重合開始剤
DE2831263A1 (de) * 1978-07-15 1980-01-31 Basf Ag Benzoinderivate mit quartaerer ammoniumgruppe
FR2442257A1 (fr) * 1978-11-21 1980-06-20 Ugine Kuhlmann Composes structurellement colores reticulables, leur preparation et leur utilisation dans des compositions pour revetements
GB2092164B (en) * 1980-12-17 1984-12-05 Hitachi Ltd Loght or radiation-sensitive polymer composition
EP0119719B1 (en) * 1983-03-03 1987-05-06 Toray Industries, Inc. Radiation sensitive polymer composition

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