KR870009615A - 페놀수지의 양면인쇄 회로기판과 이의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (4)
- 페놀수지를 주재로 한 인쇄회로 기판에 있어서,천공된 관통공과 기판면이 평면처리된 무동박 페놀기판을 금속염과 알카리의 혼합용액으로 침지처리하여 네가티브레지스트 기법에 의한 양면인쇄회로의 패턴을 형성하고, 웨팅에이전트가 첨가된 파라듐의 염화물로 촉매처리한 후 활성화시켜 인함유 무전해 니켈도금, 무전해 동도금 처리를 차례로 처리시켜서 자연적인 에디티브 기법으로 제조됨을 특징으로 하는 페놀수지의 양면인쇄 회로기판.
- 제 1항에 있어서,웨팅에이전트가 첨가된 파라듐의 염화물을 PbCI₂+SnCI₂+HCI+Wetingagent(Cation Surfcatant)로 하여서된 촉매제.
- 제 1항에 있어서, 인함유 무전해 니켈욕에 의한 니켈도금 처리시 그 두께는 0.15μ로 정도로 하여서 된 페놀수지의 양면인쇄회로기관.
- 관통공이 천공되고 평면처리된 무동박 페놀기관을 금속염과 알카리의 혼합용액으로 침지처리하고,염화제 1석 등에 의한 중화처리후, 네가티브레지스트 기법에 의한 양면인쇄회로패턴을 형성하며, 다시 염화제 1석 등에 의한 예비촉매 처리후 웨팅에이전트가 첨가된 파라듐을 주제로 한 염화물로 촉매처리하고, 중크롬산칼륨, 중아유산소다등에 의한 1,2차 촉매 활성화 처리후 인을 함유한 무전해 니켈 도금과 무전해 동처리를 차례로 진행시켜서 됨을 특징으로 하는 페놀수지의 양면인쇄 회로기판 제조 방법.※ 참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019860001733A KR890001415B1 (ko) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | 페놀수지의 양면인쇄 회로 기판과 이의 제조방법 |
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KR1019860001733A KR890001415B1 (ko) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | 페놀수지의 양면인쇄 회로 기판과 이의 제조방법 |
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KR890001415B1 KR890001415B1 (ko) | 1989-05-02 |
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KR1019860001733A KR890001415B1 (ko) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | 페놀수지의 양면인쇄 회로 기판과 이의 제조방법 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100934106B1 (ko) * | 2008-02-12 | 2009-12-29 | 대덕전자 주식회사 | 미세 피치의 인쇄회로기판 제조를 위한 완전 부가 공법 |
Families Citing this family (1)
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CN104540322A (zh) * | 2014-12-22 | 2015-04-22 | 泰州市博泰电子有限公司 | 一种半塞孔化银模块基板前处理方法 |
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1986
- 1986-03-11 KR KR1019860001733A patent/KR890001415B1/ko active IP Right Grant
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100934106B1 (ko) * | 2008-02-12 | 2009-12-29 | 대덕전자 주식회사 | 미세 피치의 인쇄회로기판 제조를 위한 완전 부가 공법 |
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KR890001415B1 (ko) | 1989-05-02 |
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