KR870006033A - 피리디닐 피리미딘 유도체의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

피리디닐 피리미딘 유도체의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (4)

  1. 일반식(Ⅲ)의 피콜린 아이딘 유도체 또는 이의 염의 염기의 존재하에 일반식(IV)의 β-옥소아세탈유도체와 반응시켜 일반식(Ⅱ)의 피리디닐 피리미딘 유도체를 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 C1-C7알킬 그룹이고; R2및 R3는 동일하거나 상이하며, 수소원자 또는 저급알킬 그룹이거나, R1및 R2는 함께 일반식 -(CH2)n-의 포리메틸렌그룹 (여기서, n은 3,4 또는 5이다)이며; R4는 C1-C7알킬 그룹, C3-C7사이클로알킬 그룹, 저급알콕시저급알킬 그룹 또는 저급알킬 티오저급알킬 그룹이고; R5는 수소원자, 할로겐원자, 저급알킬 그룹 또는 저급알카노일 그룹이거나, R4및 R5는 함께 일반식 -(CH2)m-의 폴리메틸렌 그룹(여기서, m은 3,4 또는 5이다)이며; R6′는 수소원자이고; R8은 저급알킬 그룹이다.
  2. 일반식(V)의 할로 피리미딘 유도체를 염기의 존재하에 일반식(Ⅸ의 말로네이트 유도체와 반응시킨 다음, 가수분해하고 탈탄화하여 일반식(Ⅷ)의 피리디닐 피리미딘 유도체를 제조하는 방법.
    상기식 에서, R1은 C1-C7알킬 그룹이고; R2및 R3는 동일하거나 상이하며, 수소원자 또는 저급알킬 그룹이거나, R1및 R2는 함께 일반식 -(CH2)n-의 폴리메틸렌 그룹 (여기서, n은 3,4 또는 5이다)이며; R4는 C1-C7알킬 그룹, C3-C7사이클로알킬그룹, 저급알콕시알킬 그룹 또는 저급알킬티오 저급알킬 그룹이고; R5는 수소원자, 할로겐원자, 저급알킬그룹 또는 저급알카노일 그룹이거나, R4및 R5는 함께 일반식 -(CH2)m-의 폴리메틸렌 그룹(여기서, m은 3,4 또는 5이다)이며; R7은 수소원자, 저급알킬그룹 또는 알케닐 그룹이고; X는 할로겐원자이며; R9는 저급알킬 그룹이다.
  3. 일반식(V)의 할로피리미딘 유도체를 일반식(Ⅶ)의 알칼리 금속 화합물과 반응시켜 일반식(Ⅵ)의 피리디닐 피리미딘 유도체 제조하는 방법.
    R6″Y (Ⅶ)
    상기 식에서, R은 C1-C7알킬 그룹이고; R2및 R3는 동일하거나 상이하며, 수소원자 또는 저급알킬 그룹이거나, R1및 R2는 함께 일반식 -(CH2)n-의 폴리메틸렌그룹 (여기서, n은 3,4 또는 5이다)이며; R4는 C1-C7알킬그룹, C3-C7사이클로알킬그룹, 저급알콕시알킬 그룹 또는 저급알킬티오 저급알킬그룹이고; R5는 수소원자, 할로겐원자, 저급알킬 그룹 또는 저급알카노일 그룹이거나, R4및 R5는 함께 일반식 -(CH2)m-의 폴리메틸렌 그룹 (여기서, m은 3,4 또는 5이다)이며; R5″는 저급알콕시 그룹, 저급 알케닐옥시 그룹, 저급 알키닐옥시 그룹, 할로저급알킬옥시 그룹, 저급알콕시저급알콕시 그룹 또는 저급알킬티오 그룹이고; X는 할로겐원자이며; Y는 알칼리 금속원자이다.
  4. 일반식(V)의 할로피리미딘 유도체를 환원시켜 일반식(Ⅱ)의 피리디닐 피리미딘 유도체를 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 C1-C7알킬그룹이고; R2및 R3는 동일하거나 상이하며, 수소원자 또는 저급알킬 그룹이거나, R1및 R2는 함께 일반식 -(CH2)n-의 폴리메틸렌그룹 (여기서, n은 3,4 또는 5이다)이며; R4는 C1-C7알킬그룹, C3-C7사이클로알킬그룹, 저급알콕시알킬 그룹 또는 저급알킬티오 저급알킬그룹이고; R5는 수소원자, 할로겐원자, 저급알킬, 그룹 또는 저급알카노일 그룹이거나, R4및 R5가 함께 일반식 -(CH2)m-의 폴리메틸렌 그룹 (여기서, m은 3,4 또는 5이다)이며; R6′는 수소원자이고; X는 할로겐원자이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860010316A 1985-12-03 1986-12-03 피리디닐피리미딘 유도체의 제조방법 KR930005173B1 (ko)

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