KR870001754A - 가요성 회로 적층판 및 그의 제조방법 - Google Patents

가요성 회로 적층판 및 그의 제조방법 Download PDF

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KR870001754A
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reinforced
fluoropolymer film
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가짓 사무엘
에이 플레이셔 캐시
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리챠드 씨 베리
로저스 코오퍼레이션
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Abstract

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Description

가요성 회로 적층판 및 그의 제조방법
제4도는 본 발명에 따르는 구리/유리 보강 플루오로 탄소/플리이미드 적층판의 단면입면도.
제5도는 본 발명에 따르는 회로적층물질의 또다른 구체예의 단면 입면도,
제9도는 본 발명에 따르는 구리/유리 보강 플루오로 탄소/폴리이미드 적층판 제조방법의 흐름도.

Claims (34)

  1. 제1의 플리이미드필름층, 상기 제1의 플리이미드필층상에 제1유리 보강 플루오로중합체 필름, 상기 유리보강 플루오로중합체 필름의 적어도 일부에 배치된 제1 전도성 시이트수단으로 이루어지는 것을 특징으로한 적층회로 시이트물질.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1전도성 시이트수단은 구리인것을 특징으로 하는 회로 시이트 물질.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1의 유리보강된 플루오로중합체 필름층은 테트라 프루오로에틸레(TFE), 헥사플루오로 프로필렌(HFP) 및 피를루오로비릴에테르(PVE)의 삼중합체 또는 TFE와 헥사플로오로 프로필렌(HFP)의 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택된 플루오로중합체 필름인것을 특징으로 하는 회로 시이트물질.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1의 유리보강 프루오로중합체 필름층은 약 4내지 약 30중량퍼센트 유리를 갖는것을 특징으로 하는 회로 시티트물질.
  5. 제4항에 있어서, 상기 유리는 마이크로 유리인것을 특정으로하는 회로 시이트물질.
  6. 제3항에 있어서, 상기 제, 의 유리보강된 플루오로 중합체층은 약 4 내지 약 30중량퍼센트 유리를 갖는것을 특징으로 하는 회로 시이트물질.
  7. 제6항에 있어서, 상기 유리는 마이크로 유리인것을 특징으로 하는 회로 시이트 물질.
  8. 제1항에 있어서, 상기 제1의 유리보강된 플루오로중합체 필름층은 두께가 약 25 내지 약 50㎛사이인것을 특징으로 하는 회로 시이트물질.
  9. 제1항에 있어서, 상기 제1의 폴리이미드 필름층의 적어도 한 부분상에 배치된 제2의 유리보강된 플루오로중합체 필름층, 상기 제2의 유리보강된 플루오로중합체 필름층상에 배치된 제2의 전도성물질 시이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로 시이트물질.
  10. 제9항에 있어서, 상기 전도성물질은 구리인것을 특징으로 하는 회로 시이트물질.
  11. 제1항에 있어서, 상기 제1전도성 시이트수단에 볼때 상기 제1의 유리보강된 플루오로 중합체층의 반대편에 배치된 제3의 유리보강된 플루오로중합체 릴름층, 상기 제3의 유리보강된 플루오로중합체 필름층에 배치된 제2의 폴리이미드 필름층을 포함하는 것을 특징으로 하는 회로 시이트물질.
  12. 제9항에 있어서, 상기 제1전도성 시이트수단에서 볼때 상기 제1의 유리보강괸 플루오로중합체 층의 반대편에 배치된 제3의 유리보간된 플루오로 중합체층, 상기 제3의 유리보강된 플루오토중합체 필름층에 배치된 제2의 폴리이미드 필름층을 포함하는 것을 특징으로 하는 회로 시이트 물질.
  13. 제11항에 있어서, 상기 제2의 폴리이미드 필름층의 적어도 한 부분에 배치된 제4의 유리보강된 플루오로중합체 필름층, 상기 제4의 유리보강된 플루오로중합체 필름층에 배치된 제3전도성 물질시이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로 시이트물질.
  14. 제13항에 있어서, 상기 전도성물질은 구리인것을 특징으로 하는 회로 시이트물질.
  15. 제12항에 있어서, 상기 제2의 폴리이미드 필름층의 적어도 한 부분에 배치된 제4의 유리보강된 플루오로중합체, 상기 제4의 폴리이미드 필름층의 적어도 한 부분에 배치된 제3의전도성물질 시이트를 포함하는것을 특징으로 하는 회로 시이트물질.
  16. 반대표면들을 갖는 제1의 폴리이미드 필름층을 형성시키는 단계, 상기 제1폴리이미드 필름의 제1표면을 에칭시키는 단계, 상기폴리이미드필름의 상기 에칭된 표면에 유리보강된 플루오로중합체 필름을 놓는단계, 상기 유리보강된 플루오로중합체 필름의 적어도 한부분에 전도성 시이트수단을 놓는단계,그리고 상기 폴리이미드시이트/유리보강된 플루오로중합체필름/전도성 시이트수단을 적층시켜 적층된 회로 시이트물질을 형성시키는 단계로 이루어 지는 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 에칭된 표면을 헹구는 단계, 그리고 상기 유리보강된 플루오로중합체 필름을 상기 에칭된 표면상에 놓기에 앞서 상기 에칭된 표면을 건조시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  18. 제16항에 있어서, 상기 에칭은 알칼리 에칭인것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  19. 제16항에 있어서, 상기 에칭은 마이크로에칭인 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  20. 제18항에 있어서, 상기 알칼리에칭은 에탄올/물중의 KOH 또는 에틸렌디아민/물 중의 KOH로 이루어지는 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  21. 제16항에 있어서, 상기 제1전도성 시이트수단은 구리인것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  22. 제16항에 있어서, 상기 제1의 유리보강된 플루오로중합체 필름층은 데트라플루오로에틸렌(TFE), 핵사플루오로프로필렌(HFP) 및 퍼프루오로비닐에테르(PVE)의 삼중합체 또는 TFE와 핵사플루오로 프로필렌(HFP)의 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택된 플루오로 중합체 필름인것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  23. 제16항에 있어서, 상기 제1의 유리보강된 플루오로중합체 필름은 약 4 내지 30중량 피센트 사이의 유리를 갖는것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  24. 제23항에 있어서, 상기 유리는 마이크로유리인 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  25. 제22항에 있어서, 상기 제1의 유리보강된 플루오로중합체 필름은 약 4 내지 30중량 퍼센트 사이의 유리를 갖는 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  26. 제25항에 있어서, 상기 유리는 마이크로유리인 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  27. 제16항에 있어서, 상기 제1의 유리보강된 플루오로중합체 필름은 두께가 약 25 내지 약50㎛사이인 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  28. 제28항에 있어서, 상기 제1의 폴리이미드필름의 제2의 반대표면을 에칭시키는 단계, 제2의 유리보강된 플로오로중합체 필름층을 상기 제1의 폴리이미드 필름의 상기 제2의 반대된 에칭된 표면상에 놓는 단계, 그리고 제2의 전도성 물질 시이트를 상기 제2의 유리보강된 플루오로중합체 필름층상에 놓는단게를 포함하는 것을 특징을 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  29. 제28항에 있어서, 상기 전도성물질은 구리인 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  30. 제16항에 있어서, 반대표면들을 갖는 제2의 플리이미드필름층을 형성시키는 단계, 상기 제2의 폴리이미드필름의 제1표면을 에칭시키는 단계, 제3의 유리보강된 플루오로중합체 필름층을 상기 제1의 전도성 시이트수단에서 볼때 상기 제1의 유리보강된 프루올중합체 필름층 반대편에 놓는 단계, 그리고 상기 제2의 에칭된 폴리이미드 필름을 상기 제3의 유리보강된 플루오로중합체 필름층에 놓는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  31. 제28항에 있어서, 반대표면들을 갖는 제2의 플리이미드필름층을 형성시키는 단계, 상기 제2의 폴리이미드필름의 제1표면을 에칭시키는 단계, 제3의 유리보강된 플루오로중합체 필름층을 상기 제1의 전도성 시이트수단에서 볼때 상기 제1의 유리보강된 프루올중합체 필름층 반대편에 놓는 단계, 그리고 상기 제2의 에칭된 폴리이미드 필름을 상기 제3의 유리보강된 플루오로중합체 필름층에 놓는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
  32. 제30항에 있어서, 상기 제2의 플리이미드 필름의 제2의 반대표면을 에칭시키는 단계, 제4의 유리보강된 플루오로 중합체 필름층을 상기 제2의 폴리이미드필름의 상기 제2의 반대된 에칭된 표면에 놓는 단계, 그리고 제3의 전도성물질 시이트를 상기 제4의 유리보강된 플루오로중합체 필름칭에 놓는단계를 포함하는 가요성 적층판의 제조방법.
  33. 제31항에 있어서, 상기 전도성물질은 구리인것을 특징으로 하는 가요성 적층판의제조방법.
  34. 제31항에 있어서, 상기 제2의 폴리이미드필름의 제2의 반대표면을 에칭시키는 단계, 제4의 유리보강된 플루오로중합체 필름층을 상기 제2의 폴리이미드필름의 상기 제2의 반대된 에칭된 표면에 놓는 단계, 그리고 제3의 전도성물질 시이트를 상기 제4의 유리보강된 플루오로중합체 필름층에 놓는것을 특징으로 하는 가요성 적층판의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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