KR850008361A - 마그네트론 스퍼터기 제어용 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

마그네트론 스퍼터기 제어용 장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일실시예에 따라 제어기와 결합한 한쌍의 타깃소자를 포함하는 스퍼터링장치의 개요도.
제2도는 제1도에 도시된 타깃조립체를 제3도의 라인 2-2을 따라 절취한 단면도.
제5도는 제1도에 도시한 제어기의 상세도.
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명.
11:마그네트론스퍼터링장치 12:진공실 13:침전실 14:작업편 15:캐소드조립체 16:하우징 18:DC전원 19:불활성기체원 20:진공펌프 22,23:타깃소자 24:원자방출면 26,32:베이스 29,30:코일 33:중심스터드 34,35:링 36:플랜지 37,38:DC전원 39:제어기.

Claims (24)

  1. 재료가 스퍼터되는 2개의 이간된 타깃에 걸쳐 작업편에 재료를 균일하게 공급하며, 각 타깃이 각각의 자장에 의해 관련 타깃으로 한정되는 각각의 플라즈마 방전을 형성하도록 캐소드스퍼터마그네트론 디바이스를 제어하는 장치에 있어서, 제어장치가 타깃부식상태를 나타내는 제1신호를 유출시키는 수단과, 각각의 플라즈마방전의 대응전력을 제어하여 부식상태의 함수로서 대응전력이 변하도록 제1신호에 응답하는 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용 장치 및 방법.
  2. 제1항에 따른 장치에 있어서, 상기 장치에 각각의 방전임피던스를 제어하기 위한 수단을 더 구비된 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터장치.
  3. 제2항에 따른 장치에 있어서, 임피던스 제어수단이 각각의 분리된 자장은 변화시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  4. 제3항에 의한 장치에 있어서, 각 자장은 전자석에 의해 유출되며, 임피던스 제어수단은 방전의 제1임피던스와 세트값은 비교하여 오차신호를 발생하는 수단과 오차신호에 응답하여 제1방전용 전자석에 인가된 전류를 제어하고, 제2방전용 전자석에 인가된 전류를 제어하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  5. 제4항에 의한 장치에 있어서, 전류제어수단이 제2방전용 전자석에 인가된 전류를 제어하여, 상기 전류가 제1방전용 전자석에 인가된 전류의 일정한 인수가 되도록 하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  6. 제1항에 의한 장치에 있어서, 제1타깃이 처음에, 제2타깃보다 작업편의 중심에 더 가까이 접근하며, 사용동안 타깃이 부식될 때 제1타깃의 타깃중심으로의 거리에 비해 제2타깃의 타깃중심으로의 거리가 증가하며, 상기 제어수단이 타깃부식이 발생될 때 제1타깃에 공급된 전력량에 대해 제2타깃에 공급된 전력량이 증가되도록 제1, 제2타깃용 방전전력을 조정하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  7. 재료가 스퍼터되는 두 개의 이간된 타깃 전체에 걸쳐 재료가 작업편상에 균일하게 공급되도록 하기 위한 캐소드 스퍼터기에 있어서, 상기 스퍼터기가 각각의 타깃을 각각의 타깃을 각각의 플라즈마방전시키는 수단으로 이루어지며, 상기 수단이 각 플라즈마방전용 자장원과, 타깃부식상태를 나타내는 제1신호를 유출시키기 위한 수단과, 제1신호에 응답하여 관련전력이 부식상태의 함수로서 변하도록 각각의 플라즈마 방전의 대응전력을 제어하는 수단등을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터장치.
  8. 제7항에 의한 장치에 있어서, 상기 장치가 각각의 방전임피던스를 제어하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터장치.
  9. 제8항에 의한 장치에 있어서, 임피던스 제어수단이 각각의 자장을 변화시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터장치.
  10. 제9항에 의한 장치에 있어서, 각각의 자장이 전자석에 의해 유출되며, 임피던스 제어수단이 제1방전 임피던스와 세트값을 비교하여 오차신호를 유출시키기 위한 수단과, 오차신호에 응답하여 제1방전용 전자석에 인가된 전류를 이에대한 세트값으로 제어하고 제2방전용 전자석에 인가된 전류를 제어하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  11. 제10항에 의한 장치에 있어서, 전류제어수단이 제2방전용 전자석에 인가된 전류를 제어하여, 상기 전류가 제1방전용 전자석에 인가된 전류의 일정한 인수가 되도록 하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  12. 제7항에 의한 장치에 있어서, 제1타깃이 처음에 제2타깃보다 작업편의 중심에 더 가까이 접근하며, 사용동안 타깃이 부식될때 제1타깃의 타깃중심으로의 거리에 비해 제2타깃의 타깃중심으로의 거리가 증가하며, 상가 제어수단이 타깃부식이 발생될때 제1타깃에 공급된 전력량에 대해 제2타깃에 공급된 전력량이 증가되도록 제1, 제2타깃용 방전전력을 조정하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  13. 제12항에 의한 장치에 있어서, 상기 장치가 제2타깃이 제1타깃의 외측에 존재하며, 작업편의 중심을 통해 연장된 축과 동심인 타깃장착용 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  14. 제13항에 의한 장치에 있어서, 작업편이 축에 직각으로 타깃으로부터 스퍼터된 재료에 응답하는 평면형의 표면을 가지며, 상기 타깃이 평면형입자 방출면을 갖는 제1타깃과, 요면형 방출면을 갖는 제2타깃으로 이루어지며, 상기 장착수단이 평면형 방출면보다 작업편평면형면에 더 가까운 평면내에 요면형방출면의 가장 낮은 부분을 장착시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  15. 재료가 스퍼터되는 2개의 이강된 타깃에 걸쳐 작업편에 재료를 균일하게 공급하며, 각 타깃이 각각의 자장에 의해 관련타깃으로 한정되는 각각의 플라즈마 방전을 형성하도록 캐소드스퍼터 마그네트론디바이스를 제어하는 방법에 있어서, 각 타깃이 각각의 자장에 의한 관련타깃으로 한정되는 각각의 플라즈마방전으로 되도록 하는 단계와, 관련전력이 타깃부식조건의 함수로 변하도록 각각의 플라즈마 방전의 관련 전력을 제어하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용방법.
  16. 제15항에 의한 방법에 있어서, 각각의 방전임피던스를 제어하는 단계를 더 구비한 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  17. 제16항에 의한 방법에 있어서, 임피던스가 각각의 자장을 변화시키므로써 제어되는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  18. 제17항에 의한 방법에 있어서, 각각의 자장이 전자석에 의해 유출되며, 제1방전임피던스와 세트값과 비교하고, 상기 비교치에 응답하여 제1방전용 전자석에 인가된 전류를 제어하고, 제2방전용 전자석에 인가된 전류를 제어함에 따라 임피던스가 제어되는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  19. 제18항에 의한 방법에 있어서, 제2방전용 전자석의 전류가 제1방전용 전자석에 인가된 전류의 일정인수가 되도록 제어되는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  20. 제1타깃이 처음에 제2타깃보다 작업편의 중심에 더 가까이 접근하며, 사용동안 타깃이 부식될 때 제1타깃의 타깃중심으로의 거리에 비해 제2타깃의 타깃중심으로의 거리가 증가하도록 하는 제15항에 의한 방법에 있어서, 타깃부식이 발생될 때 제1타깃에 공급된 전력량에 대해 제2타깃에 공급된 전력량이 증가되도록 제1, 제2타깃용 방전전력을 조정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  21. 재료가 스퍼터되는 두 개의 이간된 타깃 전체에 걸쳐 재료가 작업편상에 균일하게 공급되도록 하기 위한 캐소드스퍼터기 제어용장치에 있어서, 각 타깃이 각각의 자장에 의한 관련타깃으로 한정되는 각각의 플라즈마 방전이 되도록 하며, 제어용장치가 제1방전임피던스를 나타내는 제1신호를 유출시키기 위한 수단과, 제1신호에 응답하여 제1방전용 임피던스를 세트값으로 제어하고 세트값으로부터 제1신호의 편차에 응답하여 제2방전 임피던스를 제어하기 위한 수단을 포함한 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  22. 제21항에 의한 장치에 있어서, 임피던스 제어수단이 각각의 자장을 변화시키기 위한 수단을 포함한 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  23. 제22항에 의한 장치에 있어서, 각 자장이 전자석에 의해 유출되며, 임피던스 제어수단이 제1방전용 전자석에 세트값으로 인가된 전류와 제2방전용 전자석에 인가된 전류를 제어하기 위한 편차지시에 응답하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
  24. 제23항에 의한 장치에 있어서, 전류제어수단이 제2방전용 전자석에 인가된 전류를 제어하여 전류값이 제1방전용 전자석에 인가된 전류의 일정인수가 되도록 하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터기 제어용장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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