KR850003455A - 유기질 박막의 제조방법 - Google Patents
유기질 박막의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR850003455A KR850003455A KR1019840006324A KR840006324A KR850003455A KR 850003455 A KR850003455 A KR 850003455A KR 1019840006324 A KR1019840006324 A KR 1019840006324A KR 840006324 A KR840006324 A KR 840006324A KR 850003455 A KR850003455 A KR 850003455A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- process according
- organic compound
- vacuum
- substrate
- laser beam
- Prior art date
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 11
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/60—Deposition of organic layers from vapour phase
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명을 수행하기 위한 레이저 증착장치 실시를 위한 도식도이다.
제2도(a)와 (b)는 각각 본 발명의 실시에 따라 만들어진 타켓(target)으로서의 폴리아세탈(polyaceta)막과, 원래의 물질인 폴리아세탈의 적외선흡수 스펙트럼선도이다.
제3도는 본 발명의 실시에 따른 폴리메틸메타크리레이트(polymethylmethacrylate-PPM)의 적외선 흡수 스펙트럼 선도이다.
Claims (11)
- 진공속에서 유기화합물의 화학결합의 에너지에 상응하는 에너지를 가지는 레이저빔을 증기원인 유기화합물에 노출시켜서, 진공속에서 유기화합물의 증기를 서브스트레이트 표면에 스퍼터시켜, 본질적으로 서브스트레이트 위의 유기화합물로 구성된 막을 형성하는 진공증착으로 서브스트레이트 위에 유기질 박막을 만드는 공정.
- 특허청구의 범위 제1항에 따른 공정에 있어서, 레이저빔의 파장이 190∼400nm인 것.
- 특허청구의 범위 제1항에 따른 공정에 있어서, 10-8∼10-2토르의 진공속에서 스퍼터링이 행하여지는 것.
- 특허청구의 범위 제1항에 따른 공정에 있어서, 레이저빔의 출력밀도가 0.5∼30J/cm2인 것.
- 특허청구의 범위 제1항에 따른 공정에 있어서, 서브스트레이트를 가열하는 것.
- 진공속에서 유기화합물의 화학결합 에너지에 상응하는 에너지를 가지는 레이저빔을 빛 또는 방사선에 민감한 증기원인 유기 화합물에 노출시켜서, 진공속에서 유기화합물의 증기를 서브 스트레이트 표면에 스퍼터시켜, 본질적으로 서브스트레이트 위의 유기화합물로 구성된 저항막을 형성하는 진공증착에 의하여 서브스트레이트 위에 빛 또는 방사선에 민감한 저항막을 만드는 공정.
- 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 레이저빔의 파장이 190∼400nm인 것.
- 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 10-8∼10-2토르의 진공속에서 스퍼터링이 행하여지는 것.
- 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 레이저빔의 출력밀도가 0.5∼30J/cm2인 것.
- 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 증기원인 유기화합물이 폴리메타크리레이트나 케톤중합체중의 적어도 하나인 것.
- 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 서브스트레이트를 가열하는 것.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19089883A JPS6086266A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 有機薄膜形成方法 |
JP83-190898 | 1983-10-14 | ||
JP58-190898 | 1983-10-14 | ||
JP58-224184 | 1983-11-30 | ||
JP22418483A JPS60117246A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | レジスト膜形成方法 |
JP83-224184 | 1983-11-30 | ||
JP59-75067 | 1984-04-16 | ||
JP7506784A JPS60219743A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 光および放射線感応性レジスト膜形成方法 |
JP84-75067 | 1984-04-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR850003455A true KR850003455A (ko) | 1985-06-17 |
KR860001860B1 KR860001860B1 (ko) | 1986-10-24 |
Family
ID=27301695
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019840006324A KR860001860B1 (ko) | 1983-10-14 | 1984-10-12 | 유기질 박막의 제조방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4604294A (ko) |
EP (1) | EP0140240B1 (ko) |
KR (1) | KR860001860B1 (ko) |
DE (1) | DE3472574D1 (ko) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2576147B1 (fr) * | 1985-01-17 | 1987-11-27 | Flicstein Jean | Procede de depot et de cristallisation d'une couche mince de materiau organique au moyen d'un faisceau d'energie |
JPH0652732B2 (ja) * | 1985-08-14 | 1994-07-06 | 三菱電機株式会社 | パツシベ−シヨン膜の形成方法 |
US4948629A (en) * | 1989-02-10 | 1990-08-14 | International Business Machines Corporation | Deposition of diamond films |
JPH0347959A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-28 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 有機超伝導薄膜 |
JPH0361366A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザースパッタリング装置 |
JPH0446082A (ja) * | 1990-06-13 | 1992-02-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 高品質酸化物超電導薄膜の作製方法 |
US5146481A (en) * | 1991-06-25 | 1992-09-08 | Diwakar Garg | Diamond membranes for X-ray lithography |
JPH05255842A (ja) * | 1992-03-11 | 1993-10-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ・スパッタリング装置 |
US5192580A (en) * | 1992-04-16 | 1993-03-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making thin polymer film by pulsed laser evaporation |
JP3268443B2 (ja) * | 1998-09-11 | 2002-03-25 | 科学技術振興事業団 | レーザ加熱装置 |
KR100397875B1 (ko) * | 2000-05-18 | 2003-09-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 |
KR100377302B1 (ko) * | 2000-10-25 | 2003-03-26 | 김광범 | 루테늄 옥사이드 수화물 박막 전극 제조 방법 및 장치 |
JP2002146516A (ja) * | 2000-11-07 | 2002-05-22 | Sony Corp | 有機薄膜の蒸着方法 |
US6468595B1 (en) * | 2001-02-13 | 2002-10-22 | Sigma Technologies International, Inc. | Vaccum deposition of cationic polymer systems |
JPWO2005007564A1 (ja) * | 2003-07-18 | 2007-09-20 | 日本電気株式会社 | 金属粒子の固定方法ならびにこれを用いた金属粒子含有基板の製造方法、カーボンナノチューブ含有基板の製造方法、および半導体結晶性ロッド含有基板の製造方法 |
JP4583868B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2010-11-17 | 株式会社昭和真空 | スパッタ装置 |
WO2011007933A1 (ko) * | 2009-07-16 | 2011-01-20 | (주)새티스 | 고주파를 이용한 열융착테이프 |
CN103895288A (zh) * | 2012-12-29 | 2014-07-02 | 深圳富泰宏精密工业有限公司 | 镀膜件及其制作方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1298453A (en) * | 1969-01-02 | 1972-12-06 | Nat Res Dev | Production of polymer films by evaporation |
US3987215A (en) * | 1974-04-22 | 1976-10-19 | International Business Machines Corporation | Resist mask formation process |
CA1105093A (en) * | 1977-12-21 | 1981-07-14 | Roland F. Drew | Laser deposition of metal upon transparent materials |
DE3024918A1 (de) * | 1979-07-02 | 1981-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetisches aufzeichnungsmaterial und verfahren zu dessen herstellung |
BR7908672A (pt) * | 1979-11-30 | 1981-06-30 | Brasilia Telecom | Processo de posicao de filmes a partir da fase vapor |
US4281030A (en) * | 1980-05-12 | 1981-07-28 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Implantation of vaporized material on melted substrates |
-
1984
- 1984-10-11 DE DE8484112203T patent/DE3472574D1/de not_active Expired
- 1984-10-11 EP EP84112203A patent/EP0140240B1/en not_active Expired
- 1984-10-12 KR KR1019840006324A patent/KR860001860B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1984-10-12 US US06/660,230 patent/US4604294A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4604294A (en) | 1986-08-05 |
EP0140240A1 (en) | 1985-05-08 |
EP0140240B1 (en) | 1988-07-06 |
KR860001860B1 (ko) | 1986-10-24 |
DE3472574D1 (en) | 1988-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR850003455A (ko) | 유기질 박막의 제조방법 | |
JPS56501218A (ko) | ||
DE3579137D1 (de) | Siliciumnitridfilme fuer integrierte schaltungen. | |
AU538380B2 (en) | Optical recording disk | |
DE3875299D1 (de) | Verkapselung von einem photovoltaischen element. | |
DK0664927T3 (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af tynde film ved pulserende excimer-laserfordampning. | |
EP0194109A3 (en) | Method for producing a semiconductor device using a chemical vapour deposition step | |
Němec et al. | Structure, thermally and optically induced effects in amorphous As2Se3 films prepared by pulsed laser deposition | |
JPS5587595A (en) | Laser recording film | |
Codling et al. | Transmittance of tin films in the far ultraviolet | |
Firth et al. | An optical reflectivity study of Ag photo-dissolution into As S films | |
Chomat et al. | Relief holograms in thin films of amorphous As2Se3 under high laser exposures | |
Jelinek et al. | Optical Constants of Vacuum Evaporated Films of Cd and Tl in the Vacuum Ultraviolet | |
Yoshida et al. | Photochromism of a vacuum-deposited 1′, 3′, 3′-trimethyl-6-hydroxyspiro [2 H-1-benzopyran-2, 2′-indoline] film | |
US4076371A (en) | Holographic recording material for infrared radiation | |
Mackin | Holographic recording on electron beam colored sodium chloride crystals | |
Husk et al. | Absolute photoluminescent efficiency and photon damage of sodium salicylate in the soft-x-ray regime | |
JPS5535328A (en) | Non-linear optical device | |
JPS588694A (ja) | 光学的情報記録媒体の製造方法 | |
JPS57208041A (en) | Photoconductive target and its manufacture | |
JPS6454769A (en) | Manufacture of amorphous silicon solar cell | |
TW327210B (en) | Process for recording information and material used therein | |
JPS61213376A (ja) | 光化学成膜装置 | |
JPS62274063A (ja) | 光照射有機薄膜作成法 | |
JPS57111020A (en) | Manufacture of semiconductor device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 19900831 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |