KR850003455A - 유기질 박막의 제조방법 - Google Patents

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KR850003455A
KR850003455A KR1019840006324A KR840006324A KR850003455A KR 850003455 A KR850003455 A KR 850003455A KR 1019840006324 A KR1019840006324 A KR 1019840006324A KR 840006324 A KR840006324 A KR 840006324A KR 850003455 A KR850003455 A KR 850003455A
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마사히로 다나가 (외 3)
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미쓰다 가쓰시게
가부시기 가이샤 히다찌 세이사꾸쇼
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    • B05D3/06Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation

Abstract

내용 없음

Description

유기질 박막의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명을 수행하기 위한 레이저 증착장치 실시를 위한 도식도이다.
제2도(a)와 (b)는 각각 본 발명의 실시에 따라 만들어진 타켓(target)으로서의 폴리아세탈(polyaceta)막과, 원래의 물질인 폴리아세탈의 적외선흡수 스펙트럼선도이다.
제3도는 본 발명의 실시에 따른 폴리메틸메타크리레이트(polymethylmethacrylate-PPM)의 적외선 흡수 스펙트럼 선도이다.

Claims (11)

  1. 진공속에서 유기화합물의 화학결합의 에너지에 상응하는 에너지를 가지는 레이저빔을 증기원인 유기화합물에 노출시켜서, 진공속에서 유기화합물의 증기를 서브스트레이트 표면에 스퍼터시켜, 본질적으로 서브스트레이트 위의 유기화합물로 구성된 막을 형성하는 진공증착으로 서브스트레이트 위에 유기질 박막을 만드는 공정.
  2. 특허청구의 범위 제1항에 따른 공정에 있어서, 레이저빔의 파장이 190∼400nm인 것.
  3. 특허청구의 범위 제1항에 따른 공정에 있어서, 10-8∼10-2토르의 진공속에서 스퍼터링이 행하여지는 것.
  4. 특허청구의 범위 제1항에 따른 공정에 있어서, 레이저빔의 출력밀도가 0.5∼30J/cm2인 것.
  5. 특허청구의 범위 제1항에 따른 공정에 있어서, 서브스트레이트를 가열하는 것.
  6. 진공속에서 유기화합물의 화학결합 에너지에 상응하는 에너지를 가지는 레이저빔을 빛 또는 방사선에 민감한 증기원인 유기 화합물에 노출시켜서, 진공속에서 유기화합물의 증기를 서브 스트레이트 표면에 스퍼터시켜, 본질적으로 서브스트레이트 위의 유기화합물로 구성된 저항막을 형성하는 진공증착에 의하여 서브스트레이트 위에 빛 또는 방사선에 민감한 저항막을 만드는 공정.
  7. 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 레이저빔의 파장이 190∼400nm인 것.
  8. 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 10-8∼10-2토르의 진공속에서 스퍼터링이 행하여지는 것.
  9. 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 레이저빔의 출력밀도가 0.5∼30J/cm2인 것.
  10. 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 증기원인 유기화합물이 폴리메타크리레이트나 케톤중합체중의 적어도 하나인 것.
  11. 특허청구의 범위 제6항에 따른 공정에 있어서, 서브스트레이트를 가열하는 것.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019840006324A 1983-10-14 1984-10-12 유기질 박막의 제조방법 KR860001860B1 (ko)

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