KR20240063867A - 감광성 수지 조성물, 경화물, 격벽, 유기 전계 발광 소자, 및 화상 표시 장치 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 159
- 238000005192 partition Methods 0.000 title claims description 92
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 183
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 99
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 99
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 99
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 94
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 63
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 42
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 40
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims abstract description 19
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 54
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 48
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 26
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 19
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 53
- -1 alkylphenone group Chemical group 0.000 description 125
- 238000011161 development Methods 0.000 description 93
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 76
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 73
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 67
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 63
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 59
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 54
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 54
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 50
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 50
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 44
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 42
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 40
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 37
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 34
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 31
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 27
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 27
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 27
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 25
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 24
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 24
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 21
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 19
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 19
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 18
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 18
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 18
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 18
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 17
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 16
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 16
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 15
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 14
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 14
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 14
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 14
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 14
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 13
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 13
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 13
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 13
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 13
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 13
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 13
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 12
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 12
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 12
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 12
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 12
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 12
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 11
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 9
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 9
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 9
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 9
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 9
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 9
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 9
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 8
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 8
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical class [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 102100040409 Ameloblastin Human genes 0.000 description 7
- 102100026735 Coagulation factor VIII Human genes 0.000 description 7
- 101000891247 Homo sapiens Ameloblastin Proteins 0.000 description 7
- 101000911390 Homo sapiens Coagulation factor VIII Proteins 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 7
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 7
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 7
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 7
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 7
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 7
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 6
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 6
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 6
- LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N cyclodecane Chemical group C1CCCCCCCCC1 LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N cyclododecane Chemical group C1CCCCCCCCCCC1 DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 6
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical group C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 6
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 6
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 6
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 6
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 6
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 6
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical class C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 5
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 125000003435 aroyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 5
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 4
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AWELXMXBBYAGPS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 AWELXMXBBYAGPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 4
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 125000005578 chrysene group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001851 cinnamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 4
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 4
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 4
- BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N methyl isobutyrate Chemical compound COC(=O)C(C)C BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 4
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 4
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 4
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 4
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 4
- 125000005579 tetracene group Chemical group 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzothiazole Chemical group C1=CC=C2C=NSC2=C1 CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical group C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-quinazolin-2-one Chemical group C1=CC=CC2=NC(O)=NC=C21 AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N DEAEMA Natural products CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- TXVHTIQJNYSSKO-UHFFFAOYSA-N benzo[e]pyrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC4=CC=C1C2=C34 TXVHTIQJNYSSKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical group N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZTYYDUBWJTUMHW-UHFFFAOYSA-N furo[3,2-b]furan Chemical group O1C=CC2=C1C=CO2 ZTYYDUBWJTUMHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N methacrylic anhydride Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(=O)C(C)=C DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 3
- 125000005327 perimidinyl group Chemical group N1C(=NC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 3
- RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N phenanthridine Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=NC2=C1 RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- MHOZZUICEDXVGD-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[2,3-d]imidazole Chemical group C1=NC2=CC=NC2=N1 MHOZZUICEDXVGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical group C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical group N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ONCNIMLKGZSAJT-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]furan Chemical group S1C=CC2=C1C=CO2 ONCNIMLKGZSAJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]thiophene Chemical group S1C=CC2=C1C=CS2 VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 3
- IJURQEZAWYGJDB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(1,1,2,2-tetrafluorobutoxy)butane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)CC IJURQEZAWYGJDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQLOWXRDVDYRGA-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydroxyfluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=C(O)C(O)=CC=C3C2=C1 ZQLOWXRDVDYRGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAEWNKLGPBBWNM-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris[2-(3-sulfanylbutoxy)ethyl]-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(S)CCOCCN1C(=O)N(CCOCCC(C)S)C(=O)N(CCOCCC(C)S)C1=O PAEWNKLGPBBWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRMMVQKUKLVVFR-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyhexan-3-one Chemical compound CCCC(=O)CCOC LRMMVQKUKLVVFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexene Chemical compound CC1=CCCCC1 CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-dodecoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPKQPPJQTZJZDB-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCOC(=O)C=C VPKQPPJQTZJZDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutan-2-one Chemical compound CC(C)C(C)=O SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEOLMLQASRRCPA-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]octyl propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(CCOC(=O)CC)CCCCC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O PEOLMLQASRRCPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-hexanone Chemical compound CC(C)CCC(C)=O FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical group NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKXVZTWMMZZVRA-UHFFFAOYSA-N CC1(C=CC=C1)[Ti]C1(C=CC=C1)C Chemical compound CC1(C=CC=C1)[Ti]C1(C=CC=C1)C YKXVZTWMMZZVRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IUYQPWADMNJHAJ-UHFFFAOYSA-N CCCCC(CCOC(CC)=O)C(C=C1N2N=C(C=CC=C3)C3=N2)=CC(C(C)(C)C)=C1O Chemical compound CCCCC(CCOC(CC)=O)C(C=C1N2N=C(C=CC=C3)C3=N2)=CC(C(C)(C)C)=C1O IUYQPWADMNJHAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHOFDRWUHKGNRM-UHFFFAOYSA-N CCCCCCC(CCOC(CC)=O)C(C=C1N2N=C(C=CC=C3)C3=N2)=CC(C(C)(C)C)=C1O Chemical compound CCCCCCC(CCOC(CC)=O)C(C=C1N2N=C(C=CC=C3)C3=N2)=CC(C(C)(C)C)=C1O CHOFDRWUHKGNRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCCLJFJGIDIZKK-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2-(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS OCCLJFJGIDIZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 229940088516 cipro Drugs 0.000 description 2
- MYSWGUAQZAJSOK-UHFFFAOYSA-N ciprofloxacin Chemical compound C12=CC(N3CCNCC3)=C(F)C=C2C(=O)C(C(=O)O)=CN1C1CC1 MYSWGUAQZAJSOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfide Chemical group CCSCC LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical group C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 description 2
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- RGFNRWTWDWVHDD-UHFFFAOYSA-N isobutyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OCC(C)C RGFNRWTWDWVHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C(C)C WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006217 methyl sulfide group Chemical group [H]C([H])([H])S* 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- OENHRRVNRZBNNS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,8-diol Chemical compound C1=CC(O)=C2C(O)=CC=CC2=C1 OENHRRVNRZBNNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- NWAHZAIDMVNENC-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoinden-5-yl methacrylate Chemical compound C12CCCC2C2CC(OC(=O)C(=C)C)C1C2 NWAHZAIDMVNENC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- MAOBFOXLCJIFLV-UHFFFAOYSA-N (2-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 MAOBFOXLCJIFLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVUWYXJTOLSMFV-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-4-octylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VVUWYXJTOLSMFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJTCHBVEUFDSIK-NWDGAFQWSA-N (2r,5s)-1-benzyl-2,5-dimethylpiperazine Chemical compound C[C@@H]1CN[C@@H](C)CN1CC1=CC=CC=C1 WJTCHBVEUFDSIK-NWDGAFQWSA-N 0.000 description 1
- RXCOGDYOZQGGMK-UHFFFAOYSA-N (3,4-diaminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RXCOGDYOZQGGMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYWGNBFHIFRNEP-UHFFFAOYSA-N (4-benzoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RYWGNBFHIFRNEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- HYWZIAVPBSTISZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-henicosafluorodecane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F HYWZIAVPBSTISZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QERNPKXJOBLNFM-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentane Chemical compound CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F QERNPKXJOBLNFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBYPJODCYCAUHA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,9,9,10,10-decafluorodecane Chemical compound FC(C(CCCCCC(C(C(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)F HBYPJODCYCAUHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASEOYCMPSWVAFP-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-1-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2,3,3-hexafluoropentoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]pentane Chemical compound FC(C(C(CC)(F)F)(F)F)(F)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(C(C(CC)(F)F)(F)F)(F)F ASEOYCMPSWVAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMMOLDZBACYVIN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-1-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2,3,3-hexafluoropentoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]pentane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC KMMOLDZBACYVIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluorodecane Chemical compound CCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)F FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNKAWHZNOFVLS-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(1,1,2,2-tetrafluoropropoxy)octane Chemical compound CCCCCCC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(C)(F)F MKNKAWHZNOFVLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIZMPBJZAHNFGY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-hexoxyoctane Chemical compound CCCCCCOC(F)(F)C(F)(F)CCCCCC RIZMPBJZAHNFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachloro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C=NOC2=C1 KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene Natural products C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSZHBVPYGJXEGF-UHFFFAOYSA-N 1-(2-sulfanylacetyl)oxybutyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OC(CCC)OC(=O)CS RSZHBVPYGJXEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMSKAQFWYOSTQX-UHFFFAOYSA-N 1-(3-sulfanylpropanoyloxy)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OC(CCC)OC(=O)CCS ZMSKAQFWYOSTQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-propoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CCCOCCOCCOCCC BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(C)=O FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloropentane Chemical compound CCCCCCl SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-methylpropane Chemical compound CCOCC(C)C RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APWZAIZNWQFZBK-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=CC=CC2=C1 APWZAIZNWQFZBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONDSSKDTLGWNOJ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyhexan-2-ol Chemical compound CCCCC(O)COC ONDSSKDTLGWNOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=CC2=C1 NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDONPJKEOAWFGI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-phenoxybenzene Chemical compound CC1=CC=CC(OC=2C=CC=CC=2)=C1 UDONPJKEOAWFGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 1-tert-Butoxy-2-propanol Chemical compound CC(O)COC(C)(C)C GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)COC(=O)C=C VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLISWDZSTWQFNX-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)C(F)(F)F CLISWDZSTWQFNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNJXRXXJPIFFAO-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F ZNJXRXXJPIFFAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSVZYSKAPMBSMY-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)C(F)F RSVZYSKAPMBSMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHJHZYSXJKREEE-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)C(F)(F)COC(=O)C=C VHJHZYSXJKREEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrooxadiazole Chemical compound N1NC=CO1 VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpent-1-ene Chemical group CC(=C)CC(C)(C)C FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004215 2,4-difluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(F)C([H])=C1F 0.000 description 1
- GFISDBXSWQMOND-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethoxyoxolane Chemical compound COC1CCC(OC)O1 GFISDBXSWQMOND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXAYEPUDXSKVHS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-bis(3-methoxyphenyl)-1h-imidazole Chemical class COC1=CC=CC(C2=C(NC(=N2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)C=2C=C(OC)C=CC=2)=C1 RXAYEPUDXSKVHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-fluorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class FC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCS)C(=O)C2=C1 UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAQZWTGSNCDKTK-UHFFFAOYSA-N 2-(3-sulfanylpropanoyloxy)ethyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCCOC(=O)CCS HAQZWTGSNCDKTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLNVSTLNDJGLTL-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OCC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 NLNVSTLNDJGLTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-(2-phenylpropan-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=C(C)C=C1 PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxirane Chemical compound C=COCC1CO1 JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOAUOEKXSLFJCQ-UHFFFAOYSA-N 2-(furan-2-yl)-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound O1C(C(Cl)(Cl)Cl)=NN=C1C1=CC=CO1 DOAUOEKXSLFJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1COCC1OC1 JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC(COCC2OC2)=C1 OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1COCC1OC1 ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZPIYCSDWSSKRZ-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(3-ethenylphenyl)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C=1C=CC(C=C)=CC=1C(C)OCC1CO1 WZPIYCSDWSSKRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQNGHNVAOQHBN-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(4-ethenylphenyl)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C=1C=C(C=C)C=CC=1C(C)OCC1CO1 GBQNGHNVAOQHBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVSCAPMJFRYMFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOCCOC(C)=O NVSCAPMJFRYMFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDHQGBWMLCBNSM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOCCOC(C)=O SDHQGBWMLCBNSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZEANNAZZVVPKU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)CO ZZEANNAZZVVPKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(octyloxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSTXGUHRZJYZKZ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-methyl-2-morpholin-4-ylpropanoyl)phenyl]sulfanylethyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(SCCOC(=O)C=C)C=CC=1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 PSTXGUHRZJYZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWONDYSHSJIGBM-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-3,5-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=C(COCC2OC2)C=C(COCC2OC2)C(C=C)=C1COCC1CO1 BWONDYSHSJIGBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZYCUUFNXNXWBU-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-3,6-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC(COCC2OC2)=C(COCC2OC2)C(C=C)=C1COCC1CO1 DZYCUUFNXNXWBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAHOABUATCSPEQ-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-3-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC=C(COCC2OC2)C(C=C)=C1COCC1CO1 NAHOABUATCSPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCEFSFLKLRMYOL-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-4,6-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=1C(COCC2OC2)=C(COCC2OC2)C(C=C)=CC=1COCC1CO1 NCEFSFLKLRMYOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOXIWIOCGARHCY-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-4-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=1C=C(COCC2OC2)C(C=C)=CC=1COCC1CO1 LOXIWIOCGARHCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPZQXXDQOBDBGO-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethenyl-6-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC=1C(C=C)=CC=CC=1COCC1CO1 RPZQXXDQOBDBGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHLMJWVEODHXFB-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-ethenyl-2,6-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC1=C(COCC2OC2)C(C=C)=CC=C1COCC1CO1 JHLMJWVEODHXFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBJKAXHCQPNZBZ-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-ethenyl-2,6-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)phenyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC=1C(COCC2OC2)=CC(C=C)=CC=1COCC1CO1 HBJKAXHCQPNZBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSXIZXFGQGKZQG-UHFFFAOYSA-N 2-cyano-3,3-diphenylprop-2-enoic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)O)C1=CC=CC=C1 VSXIZXFGQGKZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFMXKZGZSGFZES-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-sulfanylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS.OC(=O)CS.OC(=O)CS.CCC(CO)(CO)CO RFMXKZGZSGFZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWEVLIFGIMIQHY-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCC(CC)CCCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O AWEVLIFGIMIQHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical group OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNVAGBIANFAIIL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methylpropanal Chemical compound CC(C)(O)C=O HNVAGBIANFAIIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYWVCDJZBKSKHS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-4-methyl-3-phenylpent-2-enoic acid Chemical compound COC(C(O)=O)=C(C(C)C)C1=CC=CC=C1 QYWVCDJZBKSKHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAQVSPFHUUSNT-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methyl-3-phenylhept-2-enoic acid Chemical compound CC(C)CCC(=C(C(O)=O)OC)C1=CC=CC=C1 KUAQVSPFHUUSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZPRZAPTBDGMQV-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-[1-(2-methyl-2-morpholin-4-ylpropanoyl)-9-octylcarbazol-2-yl]-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound CC(C(=O)C1=C(C=2N(C3=CC=CC=C3C=2C=C1)CCCCCCCC)C(C(C)(C)N1CCOCC1)=O)(C)N1CCOCC1 RZPRZAPTBDGMQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical class CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYNRPOFACABVSI-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F TYNRPOFACABVSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYUPEJSTJSFVRR-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCOC(=O)C=C GYUPEJSTJSFVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 3-acetyloxybutyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)CCOC(C)=O MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropanoic acid Chemical compound CCOCCC(O)=O JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVRUIAMYISNHU-UHFFFAOYSA-N 3-ethylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1CCCC(C(O)=O)C1C(O)=O GLVRUIAMYISNHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTNUUDFQRYBJPH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropanehydrazide Chemical compound COCCC(=O)NN HTNUUDFQRYBJPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYIRRSOMGIRYKU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCCCOC HYIRRSOMGIRYKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXYTXCXWNITTLN-UHFFFAOYSA-N 3-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CCCC(C(O)=O)C1C(O)=O WXYTXCXWNITTLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 3-octanone Chemical compound CCCCCC(=O)CC RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class N1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADRCREMWPUFGDU-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 ADRCREMWPUFGDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYKGLCSXVAAXNC-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 HYKGLCSXVAAXNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYHNMZPERVYEKS-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzoxazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2O1 MYHNMZPERVYEKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLWWHMRHFRTAII-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzoxazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2O1 NLWWHMRHFRTAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOECQEGGMWDHEV-UHFFFAOYSA-N 4-(1h-benzimidazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 KOECQEGGMWDHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKBBGUJBGLTNEK-UHFFFAOYSA-N 4-(1h-benzimidazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 ZKBBGUJBGLTNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-phenyldiazenylnaphthalen-1-yl)diazenyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N=NC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=N1 FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGKCTTQKRNEUAL-UHFFFAOYSA-N 4-[5-[4-(diethylamino)phenyl]-1,3,4-thiadiazol-2-yl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)S1 LGKCTTQKRNEUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIERZIUSJOSEGK-UHFFFAOYSA-N 4-cyclopenta[c][1,2]benzoxazin-2-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC2=NOC3=CC=CC=C3C2=C1 VIERZIUSJOSEGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RODDOGQBSBJOCQ-UHFFFAOYSA-N 4-cyclopenta[c][2,1]benzoxazin-2-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC2=C3C=CC=CC3=NOC2=C1 RODDOGQBSBJOCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IODOHPXRYMDKQF-UHFFFAOYSA-N 4-ethylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 IODOHPXRYMDKQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical class OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical group C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRXGKQPTFWTTJW-UHFFFAOYSA-N 5-butoxy-2-[4-(4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(OCCCC)=CC=2)O)=NC(C=2C(=CC(OCCCC)=CC=2)OCCCC)=N1 DRXGKQPTFWTTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 5-methoxypentyl acetate Chemical compound COCCCCCOC(C)=O JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVLTVRFYVWMEQN-UHFFFAOYSA-N 5-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C=C1 SVLTVRFYVWMEQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAGYBFHMVLFZDN-UHFFFAOYSA-N 6-ethylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1CC=CC(C(O)=O)C1C(O)=O UAGYBFHMVLFZDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPYZZWFCOCCLQZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CC=CC(C(O)=O)C1C(O)=O GPYZZWFCOCCLQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCFMUWBCZZUMRX-UHFFFAOYSA-N 9,10-Dihydroxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(C=CC=C3)C3=C(O)C2=C1 PCFMUWBCZZUMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001074560 Arabidopsis thaliana Aquaporin PIP1-2 Proteins 0.000 description 1
- FMMWHPNWAFZXNH-UHFFFAOYSA-N Benz[a]pyrene Chemical compound C1=C2C3=CC=CC=C3C=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 FMMWHPNWAFZXNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl sulfide Chemical group CCCCSCCCC HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N Dipropyl sulfide Chemical group CCCSCCC ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M Glycolate Chemical compound OCC([O-])=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006001 Methyl nonyl ketone Substances 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XCIBSLBQRBITCY-UHFFFAOYSA-N OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O.C1=CC=CC2=CC=CC=C12 Chemical class OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O.C1=CC=CC2=CC=CC=C12 XCIBSLBQRBITCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N Padimate O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001273 Polyhydroxy acid Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMPQYAYAQWNLME-UHFFFAOYSA-N Undecanal Natural products CCCCCCCCCCC=O KMPQYAYAQWNLME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWINENYANGRAA-UHFFFAOYSA-N [1-oxo-1-(oxolan-2-ylmethoxy)propan-2-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)C(=O)OCC1CCCO1 YCWINENYANGRAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKDJMJKKDIIJNA-UHFFFAOYSA-N [3-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(OC(=O)C(C)=C)=C1 CKDJMJKKDIIJNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylbutanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCC(COC(=O)CC(C)S)(COC(=O)CC(C)S)COC(=O)CC(C)S VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 1
- IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxybutan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)OC IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methoxymethane Chemical compound COC.CC(O)=O TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical group C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(ethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NCC)C=C1 QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(methylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NC)C=C1 HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000010504 bond cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- ABBZJHFBQXYTLU-UHFFFAOYSA-N but-3-enamide Chemical group NC(=O)CC=C ABBZJHFBQXYTLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDJWQETUMXXWPD-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)OC JDJWQETUMXXWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000006309 butyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylcyclohexane Chemical group C1CCCCC1C1CCCCC1 WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- IPZJQDSFZGZEOY-UHFFFAOYSA-N dimethylmethylene Chemical group C[C]C IPZJQDSFZGZEOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N ethenyl(phenyl)diazene Chemical compound C=CN=NC1=CC=CC=C1 IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CO SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-nonylsulfanyl-4-oxo-1h-pyrimidine-6-carboxylate Chemical compound CCCCCCCCCSC1=NC(=O)C=C(C(=O)OCC)N1 TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCMVJZODRSETHG-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]naphthalene-1-carboxylate Chemical compound C12=CC=CC=C2C(C(=O)OCC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 GCMVJZODRSETHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004693 imidazolium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- JSLCOZYBKYHZNL-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C(C)C JSLCOZYBKYHZNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 150000002689 maleic acids Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-1-phenylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAQPQTKYCWAAMJ-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-4-pyridin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=CC=CC=N1 SAQPQTKYCWAAMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLNHFFKCCKXSAW-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-4-pyrimidin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC=CC=N1 MLNHFFKCCKXSAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBGSBRUWVUWCS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-pyridin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC=CC=N1 QTBGSBRUWVUWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJJJWZAJSLSBKC-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-pyrimidin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC=CC=N1 RJJJWZAJSLSBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLNWLOCDPWWNDS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-quinolin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC=C(C=CC=C2)C2=N1 KLNWLOCDPWWNDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3-diol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC(O)=C21 XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-diol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUVBIBLYOCVYJU-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,7-diol Chemical compound C1=CC=C(O)C2=CC(O)=CC=C21 ZUVBIBLYOCVYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-diol Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(O)=CC2=C1 JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC2=CC(O)=CC=C21 DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLZWNFNQMJAZGY-UHFFFAOYSA-N octaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO GLZWNFNQMJAZGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N octanoic acid ethyl ester Natural products CCCCCCCC(=O)OCC YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical group [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFDXODALSZRGIH-UHFFFAOYSA-N p-coumaric acid methyl ether Natural products COC1=CC=C(C=CC(O)=O)C=C1 AFDXODALSZRGIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 229940083254 peripheral vasodilators imidazoline derivative Drugs 0.000 description 1
- 150000005041 phenanthrolines Chemical class 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940110337 pigment blue 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940099800 pigment red 48 Drugs 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001325 propanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006410 propenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- WPPDXAHGCGPUPK-UHFFFAOYSA-N red 2 Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=2C=3C4=CC=C5C6=CC=C7C8=C(C=9C=CC=CC=9)C9=CC=CC=C9C(C=9C=CC=CC=9)=C8C8=CC=C(C6=C87)C(C=35)=CC=2)C4=C1C1=CC=CC=C1 WPPDXAHGCGPUPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- OUULRIDHGPHMNQ-UHFFFAOYSA-N stibane Chemical class [SbH3] OUULRIDHGPHMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M triethyl(methyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(CC)CC NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDSVZUAJOIQXRK-UHFFFAOYSA-N trimethyl(octadecyl)azanium Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C PDSVZUAJOIQXRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYVMSPIJIWUNA-UHFFFAOYSA-N triphenylstibine Chemical compound C1=CC=CC=C1[Sb](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 HVYVMSPIJIWUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYWIYKKSMDLRDC-UHFFFAOYSA-N undecan-2-one Chemical group CCCCCCCCCC(C)=O KYWIYKKSMDLRDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
충분한 발액성을 갖고, 잉크젯 도포성의 양립이 가능한 감광성 수지 조성물을 제공한다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은, (A) 공중합체, (B) 알칼리 가용성 수지 및 (C) 광중합성 화합물을 함유하고, 상기 (A) 공중합체가 구성 모노머로서 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 활성기를 갖는 모노머 (a1), 불소 원자를 갖는 모노머 (a2) 및 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기를 갖는 모노머 (a3) 을 함유한다.
Description
본 발명은, 감광성 수지 조성물, 감광성 수지 조성물을 경화시킨 경화물, 경화물로 이루어지는 격벽, 격벽을 구비하는 유기 전계 발광 소자, 및 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
본원은, 2021년 10월 1일에 일본 출원된 일본 특허출원 2021-162453호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
종래부터, 유기 전계 디스플레이 등에 포함되는 유기 전계 발광 소자는, 기판 상에, 격벽 (뱅크) 을 형성한 후, 격벽에 둘러싸인 영역 내에, 다양한 기능층을 적층하여 제조되고 있다. 이와 같은 격벽을 용이하게 형성하는 방법으로서, 감광성 수지 조성물을 사용하는 포토리소그래피법에 의해 형성하는 방법이 알려져 있다.
또, 격벽에 둘러싸인 영역 내에 다양한 기능층을 적층하는 방법으로는, 먼저 기능층을 구성하는 재료를 포함하는 잉크를 조제하고, 이어서, 조제한 잉크를 격벽에 둘러싸인 영역 내에 주입하는 방법이 알려져 있다. 이 방법 중에서도, 소정량의 잉크를 소정의 지점에 정확하게 주입하기 쉬운 점에서, 잉크젯 (이하 IJ 로 기재하는 경우가 있다) 법이 채용되는 경우가 많다.
또한, 잉크를 사용하여 기능층을 형성하는 경우, 격벽에 대한 잉크 부착의 예방이나, 인접하는 영역 간에 주입되는 잉크끼리가 혼합되는 것을 방지할 목적 등으로, 격벽에 발잉크성 (발액성) 을 부여하는 것이 요구되는 경우가 있다.
잉크젯법으로 유기 발광층을 형성하는 경우, 격벽으로 둘러싸인 영역 (이하, 개구부라고도 한다) 은, 유기 발광 소자의 백화를 방지하거나, 평탄한 유기 발광층을 적층하거나 하기 위해, 잉크가 젖으며 확산되기 쉬운 성질을 가질 필요가 있다.
특허문헌 1 에서는, 보호 필름의 코트재를 위한 자외선 경화형 하드 코트재 용도에, 방오성에 효과가 있는, 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르 사슬) 및 광중합 개시능을 갖는 함불소 경화성 수지 및 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 2 에서는 다고리형 포화 탄화수소 골격 및 에틸렌성 이중 결합을 갖는 아크릴 수지를 포함하는 감광성 조성물을 사용함으로써, UV 세정 처리 후에도 발잉크성이 양호한 것이 기재되어 있다.
본 발명자들이 검토한 결과, 특허문헌 1, 2 에서 기재되는 조성물을 사용하여 격벽을 형성하고, 격벽에 둘러싸인 영역에 잉크젯법으로 잉크를 도포한 경우, 잉크가 젖으며 확산되기 어려워, 잉크젯 도포성이 떨어지는 것을 알 수 있었다.
그래서 본 발명에서는, 충분한 발액성을 갖고, 잉크젯 도포성의 양립이 가능한 감광성 수지 조성물, 특히 격벽 형성용 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또 본 발명은, 감광성 수지 조성물을 경화시킨 경화물, 경화물로 이루어지는 격벽, 격벽을 구비하는 유기 전계 발광 소자, 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다.
본 발명자들이 예의 검토한 결과, 특정한 공중합체, 알칼리 가용성 수지 및 광중합성 화합물을 조합하여 사용함으로써 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉 본 발명의 요지는 이하와 같다.
[1] (A) 공중합체, (B) 알칼리 가용성 수지 및 (C) 광중합성 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물로서,
상기 (A) 공중합체가 구성 모노머로서 하기 모노머 (a1), 하기 모노머 (a2) 및 하기 모노머 (a3) 을 함유하는 감광성 수지 조성물.
모노머 (a1) : 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 활성기를 갖는 모노머.
모노머 (a2) : 불소 원자를 갖는 모노머.
모노머 (a3) : 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기를 갖는 모노머.
[2] 상기 모노머 (a2) 가, 플루오로알킬기를 갖는 [1] 에 기재된 감광성 수지 조성물.
[3] 상기 모노머 (a2) 가, 하기 식 (1) 로 나타내는 기를 갖는 [2] 에 기재된 감광성 수지 조성물.
-CFXRf … 식 (1)
(식 (1) 중, X 는 수소 원자, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기이고, Rf 는 에테르성의 산소 원자를 갖고 있어도 되는, 탄소수가 1 이상 20 이하인 플루오로알킬기, 또는 불소 원자이다.)
[4] 상기 모노머 (a1) 에 있어서의 활성기가, 벤조페논기, 알킬페논기, α-하이드록시케톤기, α-아미노케톤기, α-디케톤기 및 α-디케톤디알킬케탈기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상인 [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.
[5] 상기 모노머 (a3) 에 있어서의 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기가, 에폭시기인 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.
[6] 상기 (A) 공중합체가, 구성 모노머로서 추가로 하기 모노머 (a4) 를 함유하는 [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.
모노머 (a4) : 수산기를 갖는 모노머.
[7] 상기 (A) 공중합체 중의 불소 원자 함유량이 5 ∼ 60 질량% 인 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.
[8] 추가로 (D) 광중합 개시제를 함유하는 [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.
[9] 추가로 (E) 착색제를 함유하는 [1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.
[10] 격벽 형성용 감광성 수지 조성물인 [1] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.
[11] [1] ∼ [10] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물을 경화시킨 경화물.
[12] [11] 에 기재된 경화물로 이루어지는 격벽.
[13] [12] 에 기재된 격벽을 구비하는 유기 전계 발광 소자.
[14] [13] 에 기재된 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치.
본 발명에 의해, 충분한 발액성을 갖고, 잉크젯 도포성의 양립이 가능한 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.
도 1 은, 잉크젯 도포성의 평가 기준을 나타내는 모식도이다.
도 2 는, 본 발명의 격벽을 구비하는, 컬러 필터의 일례의 모식 단면도이다.
도 2 는, 본 발명의 격벽을 구비하는, 컬러 필터의 일례의 모식 단면도이다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. 이하의 기재는 본 발명의 실시형태의 일례이며, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한, 이것들에 특정되지 않는다.
본 발명에 있어서,「(메트)아크릴」이란,「아크릴 및/또는 메타크릴」을 의미한다.
본 발명에 있어서,「전체 고형분」이란, 감광성 수지 조성물에 있어서의 용제 이외의 전체 성분을 의미하며, 용제 이외의 성분이 상온에서 액체여도, 그 성분은 용제에는 포함시키지 않고, 전체 고형분에 포함시킨다.
본 발명에 있어서,「∼」를 사용하여 나타내는 수치 범위는,「∼」의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.
본 발명에 있어서,「A 및/또는 B」란, A 및 B 중 일방 또는 양방을 의미하며, 구체적으로는, A, B, 또는 A 및 B 를 의미한다.
본 발명에 있어서,「(공)중합체」란, 단일 중합체 (호모폴리머) 와 공중합체 (코폴리머) 의 쌍방을 포함하는 것을 의미하며, 또,「다염기산 (무수물)」이란,「다염기산 및/또는 다염기산 무수물」을 의미한다.
본 발명에 있어서, 중량 평균 분자량이란, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 의미한다.
본 발명에 있어서, 산가란, 유효 고형분 환산의 산가를 나타내고, 중화 적정에 의해 산출된다.
본 발명에 있어서, 격벽재란 뱅크재, 벽재, 월재를 가리키며, 동일하게, 격벽이란 뱅크, 벽, 월을 가리킨다.
본 발명에 있어서, 발광부 (화소부) 란 전기 에너지를 부여한 경우에 광을 방출하는 부분을 가리킨다.
[1] 감광성 수지 조성물
본 발명의 감광성 수지 조성물은, (A) 공중합체, (B) 알칼리 가용성 수지, 및 (C) 광중합성 화합물을 함유하고, (A) 공중합체가 구성 모노머로서, 후술하는 특정 모노머 (a1), 특정 모노머 (a2) 및 특정 모노머 (a3) 을 포함한다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은, 필요에 따라 추가로 그 밖의 성분을 포함하고 있어도 되며, 예를 들어 (D) 광중합 개시제, (E) 착색제, (F) 연쇄 이동제를 포함하고 있어도 된다.
본 발명에 있어서 격벽이란, 예를 들어, 액티브 구동형 유기 전계 발광 소자에 있어서의 기능층 (유기층, 발광부) 을 구획하기 위한 것이며, 예를 들어, 구획된 영역 (화소 영역) 에 기능층을 구성하기 위한 재료인 잉크를 토출, 건조시킴으로써, 기능층 및 격벽을 포함하는 화소를 형성하기 위해 사용되는 것이다.
[1-1] 감광성 수지 조성물의 성분 및 조성
본 발명의 감광성 수지 조성물을 구성하는 성분 및 그 조성에 대해 설명한다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 (A) 공중합체, (B) 알칼리 가용성 수지 및 (C) 광중합성 화합물을 함유한다.
[1-1-1] (A) 공중합체
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, (A) 공중합체는, 구성 모노머로서, 모노머 (a1), 모노머 (a2), 및 모노머 (a3) 을 함유한다. 즉, (A) 공중합체는 그 구성 단위로서, 모노머 (a1) 에 기초한 단위, 모노머 (a2) 에 기초한 단위, 및 모노머 (a3) 에 기초한 단위를 갖는다.
모노머 (a1) : 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 활성기를 갖는 모노머.
모노머 (a2) : 불소 원자를 갖는 모노머.
모노머 (a3) : 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기를 갖는 모노머.
본 발명의 감광성 수지 조성물을 사용하여 격벽을 형성하는 경우, 감광성 수지 조성물을 도포한 도막에 활성 에너지선을 조사하면, (A) 공중합체의 활성기로부터 라디칼이 발생하고, 발생한 라디칼을 기점으로 하여, (C) 광중합성 화합물과 중합 반응이 진행되기 때문에, 도막의 표면 근방에 (A) 공중합체가 고정화되기 쉬운 것으로 생각된다. 그 결과, 노광 후의 도막을 현상하는 공정을 거쳐도, 격벽 상면의 발액성을 유지할 수 있다. 나아가서는, 포스트베이크시에, (A) 공중합체의 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기의 반응에 의해 (A) 공중합체가 고정화되어, (A) 공중합체 혹은 그 열 분해 생성물의 화소부로의 이행을 억제할 수 있다. 이 때문에, 잉크젯법을 사용하여, 격벽으로 둘러싸인 영역, 예를 들어, 화소부에 잉크를 도포할 때에, 인접하는 화소부 간에 있어서의 혼색의 발생을 억제하는 것과 화소부의 양호한 잉크젯 도포성을 양립시킬 수 있는 것으로 생각된다.
이하, (A) 공중합체의 구성 모노머에 대해 설명한다.
[모노머 (a1)]
모노머 (a1) 은 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 활성기를 갖는 모노머이다.
모노머 (a1) 로는 활성기와 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있다.
모노머 (a1) 의 활성기로는, 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 구조 (광중합 개시성을 갖는 구조) 를 갖는 것이면 된다. 광중합 개시성을 갖는 구조로는, 공지된 다양한 구조를 채용할 수 있으며, 예를 들어 수소 인발형, 전자 이동형, 분자 내 개열형을 들 수 있다.
활성기의 구체예로는, 벤조페논기, 알킬페논기, 벤조인기, 벤조인에테르기, α-하이드록시케톤기 (예를 들어, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로파논의「2-하이드록시에톡시 중의 수산기」로부터 수소 원자를 1 개 제거한 기), α-아미노케톤기, α-디케톤기, α-디케톤디알킬아세탈기, α-디케톤디알킬케탈기, 안트라퀴논기, 티오크산톤기, 케토쿠마린기, 알킬페닐글리옥살레이트기, 포스핀옥사이드기, 옥심에스테르기를 들 수 있다.
이것들 중에서도, 라디칼 발생 효율이 높은 점에 있어서, 벤조페논기, 알킬페논기, α-하이드록시케톤기, α-아미노케톤기, α-디케톤기, α-디케톤디알킬케탈기가 바람직하고, 벤조페논기, 알킬페논기, α-하이드록시케톤기가 보다 바람직하고, α-하이드록시케톤기가 특히 바람직하다.
모노머 (a1) 의 라디칼 중합성기로는, 라디칼 중합성 불포화 결합 (탄소-탄소 이중 결합 등) 을 포함하는 관능기를 들 수 있고, 구체예로는 (메트)아크릴로일기, 비닐기를 들 수 있다.
모노머 (a1) 로는, (A) 공중합체의 합성 용이성, 활성기의 도입량의 조정 용이성의 관점에서, 활성기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르가 바람직하다.
모노머 (a1) 로는, 예를 들어, 2-[4-(2-하이드록시-2-메틸-1-옥소프로필)페녹시]에틸메타크릴레이트, 4-메타크릴로일옥시벤조페논, 4-[(4-메타크릴아미드)티오페닐]벤조페논, 1-[(2-아크릴로일옥시)에톡시카르보닐]티오크산톤, 1-[4-(2-아크릴로일옥시에틸티오)페닐]-2-메틸-2-모르폴리노프로판-1-온을 들 수 있다. 그 중에서도, 발액성, 잉크젯 도포성의 관점에서, 2-[4-(2-하이드록시-2-메틸-1-옥소프로필)페녹시]에틸메타크릴레이트가 보다 바람직하다.
이들 활성기를 갖는 모노머는 단독으로 사용해도 2 종 이상을 병용해도 상관없다.
[모노머 (a2)]
모노머 (a2) 는 불소 원자를 갖는 모노머이다.
모노머 (a2) 로는, 예를 들어, 불소 원자와 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 라디칼 중합성기는 상기와 동일하다.
모노머 (a2) 에 기초한 단위는, 경화물에 발수성 및 발유성 중 적어도 일방을 부여하여, 경화물의 발액성에 기여한다.
또, (A) 공중합체가 이 단위를 갖고 있으면, 감광성 수지 조성물의 도막을 형성하였을 때에, (A) 공중합체가 도막의 표면측에 편석되기 쉬워진다.
(A) 공중합체가 도막의 표면측에 편석되면, 도막 표면측의 모노머 (a2) 에 기초한 단위의 농도가 높아져, 경화물의 표면에 효율적으로 발액성을 부여할 수 있다.
또, (A) 공중합체가 도막의 표면측에 편석됨으로써, 도막 표면측의 활성기의 농도가 높아져, 활성 에너지선을 조사하였을 때에, (A) 공중합체의 활성기로부터 라디칼이 발생하고, 발생한 라디칼을 기점으로 하여, (C) 광중합성 화합물과 중합 반응이 진행되기 때문에, 도막의 표면 근방에 (A) 공중합체가 고정화되기 쉬운 것으로 생각된다. 그 결과, 노광 후의 도막을 현상하는 공정을 거쳐도, 격벽 상면의 발액성을 유지할 수 있고, 이 때문에, 잉크젯법을 사용하여, 격벽으로 둘러싸인 영역, 예를 들어, 화소부에 잉크를 도포할 때에, 인접하는 화소부 간에 있어서의 혼색의 발생을 억제할 수 있는 것으로 생각된다.
도막의 경화도는, 감광성 수지 조성물 중의 라디칼 중합성기의 양 및 활성기의 양, 즉, (A) 공중합체 및 (D) 광중합 개시제의 양이나 제판시의 노광량 등에 의해 조정할 수 있다.
모노머 (a2) 로는, 플루오로알킬기를 갖는 모노머인 것이 바람직하고, 플루오로알킬기와 라디칼 중합성기를 갖는 모노머인 것이 보다 바람직하다.
모노머 (a2) 에 있어서의 플루오로알킬기로는, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 구조를 갖는 것이 바람직하다.
-CFXRf … 식 (1)
(식 (1) 중, X 는 수소 원자, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기이고, Rf 는 에테르성의 산소 원자를 갖고 있어도 되는, 탄소수가 1 이상 20 이하인 플루오로알킬기, 또는 불소 원자이다.)
식 (1) 에 있어서의 Rf 의 탄소수는, 1 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 이상이고, 더욱 바람직하게는 3 이상이고, 특히 바람직하게는 5 이상이며, 또, 20 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 이하이고, 더욱 바람직하게는 6 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 이 더욱 바람직하고, 5 ∼ 6 이 특히 바람직하다. 하한값 이상으로 함으로써 발액성이 발현되는 경향이 있다. 또 상한값 이하로 함으로써 감광성 수지 조성물을 구성하는 다른 성분과의 상용성이 개선되는 경향이 있다.
플루오로알킬기와 라디칼 중합성기를 갖는 화합물로는, 플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르가 바람직하다.
플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르로는, 퍼플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르가 보다 바람직하다.
플루오로알킬기를 함유하는 (메트)아크릴산에스테르로는, 예를 들어, 2,2,2-트리플루오로에틸아크릴레이트 (오사카 유기 화학 공업 주식회사 제조의 비스코트 3F), 2,2,3,3-테트라플루오로프로필아크릴레이트 (오사카 유기 화학 공업 주식회사 제조의 비스코트 4F), 2,2,3,3-테트라플루오로프로필메타크릴레이트 (다이킨 공업 주식회사 제조의 DK-4F, 유니마텍 주식회사 제조의 CHEMINOX FAMAC-6), 2,2,3,3, 3-펜타플루오로프로필메타크릴레이트 (다이킨 공업 주식회사 제조의 DK-5F), 메타크릴산 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트리데카플루오로옥틸 (다이킨 공업 주식회사 제조의 C6SFMA 모노머), 1H,1H,5H-옥타플루오로펜틸아크릴레이트 (오사카 유기 화학 공업 주식회사 제조의 비스코트 8F), 1H,1H,5H-옥타플루오로펜틸메타크릴레이트 (오사카 유기 화학 공업 주식회사 제조의 비스코트 8FM), 1H,1H,2H,2H-트리데카플루오로옥틸아크릴레이트 (오사카 유기 화학 공업 주식회사 제조의 비스코트 13F, 유니마텍 주식회사 제조의 CHEMINOX FAAC-6), 1H,1H,2H,2H-노나플루오로헥실아크릴레이트 (유니마텍 주식회사 제조의 CHEMINOX FAAC-4), 1H,1H,2H,2H-노나플루오로헥실메타아크릴레이트 (유니마텍 주식회사 제조의 CHEMINOX FAMAC-4), 1H,1H,2H,2H-트리데카플루오로옥틸메타크릴레이트 (유니마텍 주식회사 제조의 CHEMINOX FAMAC-6) 를 들 수 있다.
모노머 (a2) 는, 플루오로알킬렌기와 라디칼 중합성기를 갖는 화합물이어도 되고, 플루오로알킬렌기로는 특별히 한정되지 않지만, 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬을 갖는 것이 바람직하다. 구체예로는, -CF2-O-, -(CF2)2-O-, -(CF2)3-O-, -CF2-C(CF3)O-, -C(CF3)-CF2-O- 및 이것들의 반복 단위를 갖는 2 가의 기를 들 수 있다.
플루오로알킬렌기와 라디칼 중합성기를 갖는 화합물로는, 예를 들어, 이하의 모노머를 들 수 있다.
[화학식 1]
상기 식 중, PFPE 는 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬을 나타낸다.
이것들 중, 발액성, 잉크젯 도포성의 관점에서, 플루오로알킬기를 갖는 모노머가 바람직하고, 퍼플루오로알킬기를 갖는 모노머가 보다 바람직하고, 메타크릴산 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트리데카플루오로옥틸기를 갖는 모노머가 더욱 바람직하다.
이들 불소 원자를 갖는 모노머는 단독으로 사용해도 2 종 이상을 병용해도 상관없다.
[모노머 (a3)]
모노머 (a3) 은 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기를 갖는 모노머이다. 고리형 에테르기로는, 예를 들어, 에폭시기, 옥세타닐기, 또는 테트라하이드로푸릴기를 들 수 있다.
모노머 (a3) 으로는, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기와 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기로는 에폭시기가 바람직하다. 라디칼 중합성기는 상기와 동일하다.
에폭시기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2-메틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 2-에틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸(메트)아크릴레이트, 6,7-에폭시헵틸(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산, 2-비닐벤질글리시딜에테르, 3-비닐벤질글리시딜에테르, 4-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-2-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-3-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-4-비닐벤질글리시딜에테르, 2,3-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,5-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,6-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,4-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 3,4,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌을 들 수 있다.
옥세타닐기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 3-메틸-3-(메트)아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(메트)아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-(메트)아크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-(메트)아크릴로일옥시에틸옥세탄을 들 수 있다.
테트라하이드로푸릴기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 2-메타크릴로일옥시-프로피온산테트라하이드로푸르푸릴에스테르, (메트)아크릴산테트라하이드로푸란-3-일에스테르를 들 수 있다.
이것들 중, 모노머 (a3) 으로는, (A) 공중합체의 합성 용이성, 고리형 에테르기의 도입량의 조정 용이성의 관점에서, 글리시딜(메트)아크릴레이트가 바람직하다. 이들 고리형 에테르기를 갖는 모노머는 단독으로 사용해도 2 종 이상을 병용해도 상관없다.
[모노머 (a4)]
(A) 공중합체는, (A) 공중합체와 (B) 알칼리 가용성 수지 및 (C) 광중합성 화합물의 상용성을 향상시키는 관점에서, 구성 모노머로서, 수산기를 갖는 모노머 (a4) (이하, 모노머 (a4) 라고도 한다) 를 추가로 함유해도 된다.
모노머 (a4) 로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 10-하이드록시데실(메트)아크릴레이트, 12-하이드록시라우릴(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세롤(메트)아크릴레이트, 또는 시클로헥산디메탄올모노(메트)아크릴레이트 등의 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트류 ; 에틸-α-(하이드록시메틸)아크릴레이트, p-하이드록시페닐에틸(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 이것들은, 단독으로 사용해도, 2 종류 이상을 병용해도 상관없다. (A) 공중합체의 합성 용이성, 수산기의 도입량의 조정 용이성의 관점에서, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트가 바람직하다.
[모노머 (a5)]
(A) 공중합체는, 필요에 따라, 구성 모노머로서, 수소 공여성 관능기를 갖는 모노머 (a5) (이하, 모노머 (a5) 라고도 한다) 를 추가로 함유하고 있어도 된다.
특히, 모노머 (a1) 이 수소 인발형의 활성기를 갖는 경우에는, 모노머 (a5) 에 기초한 단위를 포함하는 것이 바람직하다. (A) 공중합체가 모노머 (a5) 에 기초한 단위를 갖고 있으면, 감광성 수지 조성물의 도막 표면으로부터의 산소에 의한 중합 저해를 억제할 수 있어, 도막의 경화를 효과적으로 실시하고, 발액성의 발현을 하기 쉽게 할 수 있는 경향이 있다.
수소 공여성 관능기로는, 예를 들어, 알킬아미노기, 메르캅토기, 아미드기, 알킬에테르기를 들 수 있다. 이것들 중에서도, 특히 효율적으로 경화 반응을 진행시킬 수 있고, 산소 라디칼과의 반응성이 높다는 관점에서, 메르캅토기, 알킬아미노기, 아미드기가 바람직하다.
모노머 (a5) 로는, 수소 공여성 관능기와 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있고, 화합물의 합성 용이성과 수소 공여성 관능기의 도입량의 조정 용이성의 관점에서, 수소 공여성 관능기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르나 (메트)아크릴아미드류가 바람직하다.
모노머 (a5) 로는, 예를 들어, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-비닐카프로락탐, N-비닐피롤리돈, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-[(부틸아미노)카르보닐]옥시]에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸아미노프로필(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노프로필(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸아미노에틸(메트)아크릴아미드, (메트)아크릴로일모르폴린, 비닐아세트아미드 등의 아미노기 또는 아미드기 함유 모노머를 들 수 있다. 이것들 중에서도, 활성기와의 병용에 있어서 경화 촉진 효과가 우수한 점에서, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 산소에 의한 중합 저해를 억제할 수 있어, 경화를 효과적으로 실시하고, 발액성의 발현을 하기 쉽게 할 수 있다는 관점에서, N,N-디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다.
이들 화합물은 1 종을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다.
[모노머 (a6)]
(A) 공중합체는, (A) 공중합체를 보다 효과적으로 도막의 표면에 편석시키는 관점에서, 구성 모노머로서, 탄소수 4 이상의 알킬기를 갖는 모노머 (a6) (이하, 모노머 (a6) 이고도 한다) 에 기초한 단위의 1 종 이상을 추가로 함유해도 된다.
모노머 (a6) 에 있어서의 탄소수 4 이상의 알킬기는, 직사슬형, 분기형, 고리형 중 어느 것이어도 된다. 고리형의 알킬기는, 단고리형이어도 되고 다고리형이어도 된다. (A) 공중합체를 보다 효과적으로 도막의 표면에 편석시키는 관점에서, 알킬기는 직사슬형인 것이 바람직하다.
탄소수 4 이상의 알킬기의 탄소수는, (A) 공중합체를 보다 효과적으로 도막의 표면에 편석시키는 관점에서, 바람직하게는 4 ∼ 30, 보다 바람직하게는 6 ∼ 20, 더욱 바람직하게는 12 ∼ 18 이다.
모노머 (a6) 으로는, 탄소수 4 이상의 알킬기와 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있고, 화합물의 합성 용이성과 탄소수 4 이상의 알킬기의 도입량의 조정 용이성의 관점에서, 탄소수 4 이상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르가 바람직하다.
모노머 (a6) 으로는, 예를 들어, 부틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 데실(메트)아크릴레이트, 노닐(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, 데실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, 도데실(메트)아크릴레이트, 미리스틸(메트)아크릴레이트, 세틸(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 이소스테아릴(메트)아크릴레이트, 트리데실(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시 에틸(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 아다만틸(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
이것들 중에서도, 직사슬형의 탄소수 4 이상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르가 바람직하다. 직사슬형의 탄소수 4 이상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르로는, 알킬기의 탄소수가 상기 서술한 바람직한 범위에 있는 것이 바람직하고, 제조의 용이성 등도 고려하면, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트, 도데실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하고, 스테아릴(메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다.
이들 (메트)아크릴산에스테르는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
모노머 (a1) ∼ (a6) 의 구분에 대해 기재한다.
활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 활성기를 갖는 모노머이면, 다른 모노머 (a2) ∼ (a6) 의 특징인 불소 원자나 관능기를 갖고 있어도, 모노머 (a1) 로 간주한다.
불소 원자를 갖는 모노머이면, 다른 모노머 (a3) ∼ (a6) 의 특징인 관능기를 갖고 있어도, 모노머 (a2) 로 간주한다.
탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기를 갖는 모노머이면, 다른 모노머 (a4) ∼ (a6) 의 특징인 관능기를 갖고 있어도, 모노머 (a3) 으로 간주한다.
수산기를 갖는 모노머이면, 다른 모노머 (a5) ∼ (a6) 의 특징인 관능기를 갖고 있어도, 모노머 (a4) 로 간주한다.
수소 공여성 관능기를 갖는 모노머이면, 모노머 (a6) 의 특징인 탄소수 4 이상의 알킬기를 갖고 있어도, 모노머 (a5) 로 간주한다.
(A) 공중합체는, 필요에 따라, 상기 이외의 다른 모노머에 기초한 단위를 추가로 갖고 있어도 된다. 다른 모노머로는, 예를 들어, 라디칼 중합성기를 갖고, 활성기, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기, 탄소수 4 이상의 알킬기, 불소 원자 및 수소 공여성 관능기를 갖지 않는 화합물을 들 수 있다.
다른 모노머로는, 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 푸마르산, 말레산, 시트라콘산 등의 카르복실기 함유 모노머 및 그것들의 염 ; 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴레이트 ; (메트)아크릴로니트릴 등의 질소 함유 모노머 ; 스티렌, α-메틸스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔 등의 스티렌계 화합물, 프로피온산비닐, 아세트산비닐 등의 비닐에스테르 ; 인 함유 비닐계 모노머 ; 염화비닐, 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐 ; 부타디엔 등의 공액 디엔을 들 수 있다.
활성기는, (A) 공중합체의 주사슬의 말단에 존재해도 되고, (A) 공중합체를 구성하는 모노머에 기초한 단위 중에 존재해도 된다.
(A) 공중합체는, 분자 중에 복수 개의 활성기를 갖는 것이 바람직하다. 이로써, 도막 표면 부근의 활성기의 농도를 높게 할 수 있는 경향이 있다.
(A) 공중합체의 1 g 당의 활성기의 함유량은, 바람직하게는 0.1 mmol/g 이상, 보다 바람직하게는 0.5 mmol/g 이상, 더욱 바람직하게는 0.8 mmol/g 이상이고, 또 바람직하게는 2.5 mmol/g 이하, 보다 바람직하게는 2.0 mmol/g 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 0.1 ∼ 2.5 mmol/g, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 2.5 mmol/g, 더욱 바람직하게는 0.8 ∼ 2.0 mmol/g 이다. 활성기의 함유량이 상기 범위의 하한값 이상이면 경화성이 보다 우수하고 높은 발액성을 발현할 수 있는 경향이 있다. 또, 상한값 이하이면 감광성 수지 조성물의 저장 안정성이 보다 우수한 경향이 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서의 (A) 공중합체에 있어서, (A) 공중합체를 구성하는 전체 단위의 합계 질량 (100 질량%) 에 대한, 모노머 (a1) 에 기초한 단위의 비율은, 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 특히 바람직하게는 30 질량% 이상이고, 또 바람직하게는 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 80 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 70 질량% 이하, 특히 바람직하게는 60 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 1 ∼ 90 질량%, 보다 바람직하게는 10 ∼ 80 질량%, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 70 질량%, 특히 바람직하게는 30 ∼ 60 질량% 이다. 모노머 (a1) 에 기초한 단위의 비율이 상기 범위의 하한값 이상이면 경화성이 보다 우수하고 높은 발액성을 발현할 수 있는 경향이 있다. 상한값 이하이면 감광성 수지 조성물의 저장 안정성이 보다 우수한 경향이 있다.
(A) 공중합체를 구성하는 전체 단위의 합계 질량 (100 질량%) 에 대한, 모노머 (a2) 에 기초한 단위의 비율은, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 25 질량% 이상이고, 보다 더 바람직하게는 35 질량% 이상이고, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 특히 더 바람직하게는 45 질량% 이상이다. 또, 바람직하게는 70 질량% 이하, 보다 바람직하게는 65 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 질량% 이하이고, 보다 더 바람직하게는 55 질량% 이하이고, 특히 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 5 ∼ 70 질량%, 보다 바람직하게는 15 ∼ 70 질량%, 더욱 바람직하게는 25 ∼ 65 질량%, 보다 더 바람직하게는 35 ∼ 60 질량%, 특히 바람직하게는 40 ∼ 55 질량%, 특히 더 바람직하게는 45 ∼ 50 질량% 이다. 모노머 (a2) 에 기초한 단위의 비율이 상기 범위의 하한값 이상이면 보다 효과적으로 발액성이 높아지는 경향이 있다. 상한값 이하이면 잉크젯 도포성이 우수한 경향이 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서의 (A) 공중합체에 있어서, (A) 공중합체를 구성하는 전체 단위의 합계 질량 (100 질량%) 에 대한, 모노머 (a3) 에 기초한 단위의 비율은, 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 2 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량% 이상이다. 또, 바람직하게는 50 질량% 이하, 보다 바람직하게는 40 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하, 특히 바람직하게는 20 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 40 질량%, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 30 질량%, 특히 바람직하게는 3 ∼ 20 질량% 이다. 모노머 (a3) 에 기초한 단위의 비율이 상기 범위 내이면, 보다 효과적으로 발액성을 발현할 수 있는 경향이 있다.
(A) 공중합체가, 구성 모노머로서 모노머 (a4) 를 함유하는 경우, (A) 공중합체를 구성하는 전체 단위의 합계 질량 (100 질량%) 에 대한, 모노머 (a4) 에 기초한 단위의 비율은, 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 5 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 8 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 질량% 이하, 특히 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 1 ∼ 80 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 70 질량%, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 60 질량%, 특히 바람직하게는 8 ∼ 50 질량% 이다. 모노머 (a4) 에 기초한 단위의 비율이 상기 범위 내이면, 보다 효과적으로 발액성을 발현할 수 있는 경향이 있다.
(A) 공중합체가, 구성 모노머로서 모노머 (a5) 를 함유하는 경우, (A) 공중합체를 구성하는 전체 단위의 합계 질량 (100 질량%) 에 대한, 모노머 (a5) 에 기초한 단위의 비율은, 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 3 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 5 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 바람직하게는 30 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 1 ∼ 60 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 30 질량%, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 30 질량%, 특히 바람직하게는 1 ∼ 10 질량% 이다. 모노머 (a5) 에 기초한 단위의 비율이 상기 범위 내이면, 보다 효과적으로 발액성을 발현할 수 있는 경향이 있다.
(A) 공중합체가, 구성 모노머로서 모노머 (a6) 을 함유하는 경우, (A) 공중합체를 구성하는 전체 단위의 합계 질량 (100 질량%) 에 대한, 모노머 (a6) 에 기초한 단위의 비율은, 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 5 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 바람직하게는 30 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 1 ∼ 60 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 30 질량%, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 10 질량% 이다. 모노머 (a6) 에 기초한 단위의 비율이 상기 범위 내이면, 보다 효과적으로 발액성을 발현할 수 있는 경향이 있다.
(A) 공중합체가, 구성 모노머로서 모노머 (a1) ∼ 모노머 (a6) 이외의 모노머를 함유하는 경우, (A) 공중합체를 구성하는 전체 단위의 합계 질량 (100 질량%) 에 대한, 그 밖의 모노머의 단위의 비율은, 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 5 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 20 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 ∼ 40 질량% 가 바람직하고, 1 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하다.
(A) 공중합체 중의 불소 원자 함유량은, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 15 질량% 이상이고, 보다 더 바람직하게는 20 질량% 이상이고, 특히 바람직하게는 24 질량% 이상이다. 또, 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 바람직하게는 50 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 40 질량% 이하이고, 보다 더 바람직하게는 30 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 5 ∼ 60 질량%, 보다 바람직하게는 10 ∼ 60 질량%, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 50 질량%, 보다 더 바람직하게는 20 ∼ 40 질량%, 특히 바람직하게는 24 ∼ 30 질량% 이다. (A) 공중합체 중의 불소 원자 함유량이 상기 범위의 하한값 이상이면 격벽의 상면의 발액성이 높아지는 경향이 있다. 또, 상기 범위의 상한값 이하이면, 다른 재료와의 상용성이 양호해지는 경향이 있다.
(A) 공중합체의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 바람직하게는 10000 이상, 보다 바람직하게는 30000 이상, 더욱 바람직하게는 50000 이상이고, 보다 더 바람직하게는 70000 이상이고, 특히 바람직하게는 80000 이상이다. 또, 바람직하게는 500000 이하, 보다 바람직하게는 300000 이하, 더욱 바람직하게는 200000 이하이고, 보다 더 바람직하게는 150000 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 바람직하게는 10000 ∼ 500000, 보다 바람직하게는 30000 ∼ 500000, 더욱 바람직하게는 50000 ∼ 300000, 보다 더 바람직하게는 70000 ∼ 200000, 특히 바람직하게는 80000 ∼ 150000 이다. Mw 가 상기 범위의 하한값 이상이면, 잉크젯 도포성이 양호해지는 경향이 있다. 또, 상한값 이하이면, 발액성이 양호해지고, 또, 알칼리 가용성 수지와의 상용성이 양호해지기 때문에 도포성이 양호해지는 경향이 있다.
(A) 공중합체의 Mw 는, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 에 의해 측정되는 표준 폴리스티렌 환산의 값이다. 상세한 측정 조건은 후술하는 실시예에 기재된 바와 같다.
(A) 공중합체는, 필요한 모노머를 포함하는 모노머 성분을 중합시킴으로써 얻어진다. 예를 들어, 모노머 (a1), 모노머 (a2), 모노머 (a3) 을 포함하는 모노머 성분을 중합시킴으로써 얻어진다. 모노머 성분은, 필요에 따라, 모노머 (a4), 모노머 (a5), 모노머 (a6) 및 다른 모노머 중 어느 1 이상을 추가로 포함하고 있어도 된다.
(A) 공중합체의 중합은, 전형적으로는, 중합 개시제의 존재하에서 실시한다. 중합시, 필요에 따라, 연쇄 이동제를 병용해도 된다.
중합 방법으로는, 용액 중합, 현탁 중합, 괴상 중합, 유화 중합 등의 공지된 방법을 들 수 있고, 그 중에서도 조작이 간편하고 생산성이 높은 점에서, 용액 중합이 바람직하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서의 (A) 공중합체의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 0.01 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.07 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 50 질량% 이하, 보다 바람직하게는 30 질량% 이하, 더욱 바람직하고 20 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 10 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.01 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 0.05 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 0.07 ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.1 ∼ 10 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 발잉크성이 향상되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 다른 성분과의 상용성이 향상되는 경향이 있다.
[1-1-2] (B) 알칼리 가용성 수지
본 발명의 감광성 수지 조성물은, (B) 알칼리 가용성 수지를 함유한다. 알칼리 가용성 수지로는 알칼리 현상액으로 현상 가능한 수지이면 특별히 한정되지 않는다. 본 발명에 있어서 (B) 알칼리 가용성 수지는 (A) 공중합체와는 다른 성분이고, (A) 공중합체에 해당하는 알칼리 가용성 수지가 존재하는 경우에는, (A) 공중합체로서 취급한다. (B) 알칼리 가용성 수지로는, 카르복시기 및/또는 수산기를 함유하는 각종 수지를 들 수 있다. 그 중에서도, 적당한 테이퍼각의 격벽이 얻어지고, 현상 후의 잔류물을 억제할 수 있는 등의 관점에서, 카르복시기를 갖는 수지가 바람직하다.
[에틸렌성 이중 결합을 갖는 알칼리 가용성 수지 (b)]
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, (B) 알칼리 가용성 수지는, 에틸렌성 이중 결합을 갖는 알칼리 가용성 수지 (b) (이하,「알칼리 가용성 수지 (b)」로 약기하는 경우가 있다) 를 포함하는 것이 바람직하다. 에틸렌성 이중 결합을 갖는 알칼리 가용성 수지 (b) 를 포함함으로써, 경화성이 높아지고, 현상시의 (A) 공중합체 및/또는 발액제 유출을 억제함으로써 얻어지는 격벽의 발잉크성이 높아지는 경향이 있다.
에틸렌성 이중 결합을 갖는 알칼리 가용성 수지 (b) 의 구체적 구조는 특별히 한정되지 않지만, 현상 용해성의 관점에서, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1), 아크릴 공중합 수지 (b2) 가 바람직하고, 아웃 가스 저감의 관점에서는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 이 보다 바람직하다.
이하에, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 에 대해 상세히 서술한다.
[에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1)]
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 은, 에폭시 수지에 에틸렌성 불포화 결합 (에틸렌성 이중 결합) 을 갖는 산 또는 에스테르 화합물을 부가하고, 추가로 다염기산 또는 그 무수물을 부가시킨 수지이다. 예를 들어, 에폭시 수지의 에폭시기에, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산의 카르복시기가 개환 부가됨으로써, 에폭시 수지에 에스테르 결합 (-COO-) 을 개재하여 에틸렌성 불포화 결합이 부가됨과 함께, 그 때 생성된 수산기에, 다염기산 무수물의 일방의 카르복시기가 부가된 것을 들 수 있다. 또 다염기산 무수물을 부가할 때에, 다가 알코올을 동시에 첨가하여 부가된 것도 들 수 있다. 또한, 상기 반응으로 얻어진 수지의 카르복시기에, 추가로 반응할 수 있는 관능기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수지도, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 에 포함된다.
이와 같이, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는 화학 구조상, 실질적으로 에폭시기를 갖지 않고, 또한「(메트)아크릴레이트」에 한정되는 것은 아니지만, 에폭시 화합물 (에폭시 수지) 이 원료이고, 또한「(메트)아크릴레이트」가 대표예이므로 관용에 따라서 이와 같이 명명되어 있다.
또, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 로는, 격벽 하부의 형상이 양화되고, 현상 밀착성이 양호해지는 관점에서, 주사슬에 방향족 고리를 갖는 것을 보다 바람직하게 사용할 수 있다.
여기서 에폭시 수지란, 열경화에 의해 수지를 형성하기 이전의 원료 화합물도 포함하여 말하는 것으로 하며, 그 에폭시 수지로는, 공지된 에폭시 수지 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 에폭시 수지는, 페놀성 화합물과 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 화합물을 사용할 수 있다. 페놀성 화합물로는, 2 가 혹은 2 가 이상의 페놀성 수산기를 갖는 화합물이 바람직하며, 단량체여도 되고 중합체여도 된다.
구체적으로는, 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 비페닐 노볼락 에폭시 수지, 트리스페놀에폭시 수지, 페놀과 디시클로펜타디엔의 중합체의 에폭시화물, 디하이드로옥실플루오렌형 에폭시 수지, 디하이드로옥실알킬렌옥실플루오렌형 에폭시 수지, 9,9-비스(4'-하이드록시페닐)플루오렌의 디글리시딜에테르화물, 1,1-비스(4'-하이드록시페닐)아다만탄의 디글리시딜에테르화물을 들 수 있고, 주사슬에 방향족 고리를 갖는 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
그 중에서도, 경화막 강도의 관점에서, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 페놀과 디시클로펜타디엔의 중합체의 에폭시화물, 9,9-비스(4'-하이드록시페닐)플루오렌의 에폭시화물이 바람직하고, 비스페놀 A 형 에폭시 수지가 더욱 바람직하다.
에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산으로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 무수 숙신산 부가물, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트테트라하이드로 무수 프탈산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 무수 숙신산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 무수 프탈산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트테트라하이드로 무수 프탈산 부가물, (메트)아크릴산과 ε-카프로락톤의 반응 생성물을 들 수 있다. 그 중에서도, 감도의 관점에서, (메트)아크릴산이 바람직하다.
다염기산 (무수물) 으로는, 예를 들어, 숙신산, 말레산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 3-메틸테트라하이드로프탈산, 4-메틸테트라하이드로프탈산, 3-에틸테트라하이드로프탈산, 4-에틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 3-메틸헥사하이드로프탈산, 4-메틸헥사하이드로프탈산, 3-에틸헥사하이드로프탈산, 4-에틸헥사하이드로프탈산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 비페닐테트라카르복실산, 및 그것들의 무수물을 들 수 있다. 이것들은 1 종을 단독으로도 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 이것들 중에서도, 현상 후의 화소부의 잔류물 저감의 관점에서, 숙신산 무수물, 말레산 무수물, 이타콘산 무수물이 바람직하고, 숙신산 무수물이 보다 바람직하다.
다가 알코올을 사용함으로써, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 의 분자량을 증대시키고, 분자 중에 분기를 도입할 수 있고, 분자량과 점도의 밸런스를 잡을 수 있는 경향이 있다. 또, 분자 중으로의 산기의 도입률을 증가시킬 수 있고, 감도나 밀착성 등의 밸런스가 잡히기 쉬운 경향이 있다.
다가 알코올로는, 예를 들어, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리메틸올에탄, 1,2,3-프로판트리올을 들 수 있다. 이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 20 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 40 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 60 mgKOH/g 이상이 보다 더 바람직하며, 또, 200 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 180 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 150 mgKOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 120 mgKOH/g 이하가 보다 더 바람직하고, 100 mgKOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 10 ∼ 200 mgKOH/g 이 바람직하고, 10 ∼ 180 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 20 ∼ 150 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 40 ∼ 120 mgKOH/g 이 보다 더 바람직하고, 60 ∼ 100 mgKOH/g 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 후의 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상시에 막이 알칼리로 용해되기 어려워져, 막 강도가 향상되는 경향이 있다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 1000 이상, 보다 바람직하게는 2000 이상, 더욱 바람직하게는 3000 이상, 보다 더 바람직하게는 4000 이상, 특히 바람직하게는 5000 이상, 특히 바람직하게는 6000 이상, 가장 바람직하게는 7000 이상이며, 또, 바람직하게는 30000 이하, 보다 바람직하게는 20000 이하, 더욱 바람직하게는 15000 이하, 특히 바람직하게는 10000 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있고 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 2000 ∼ 30000 이 보다 바람직하고, 3000 ∼ 20000 이 더욱 바람직하고, 4000 ∼ 20000 이 보다 더 바람직하고, 5000 ∼ 15000 이 특히 바람직하고, 6000 ∼ 15000 이 특히 바람직하고, 7000 ∼ 10000 이 가장 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상시에 막이 알칼리로 용해되기 어려워져, 막 강도가 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 후의 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 은, 종래 공지된 방법에 의해 합성할 수 있다. 구체적으로는, 상기 에폭시 수지를 유기 용제에 용해시키고, 촉매와 열중합 금지제의 공존하, 상기 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산 또는 에스테르 화합물을 첨가하여 부가 반응시키고, 추가로 다염기산 또는 그 무수물을 첨가하여 반응을 계속하는 방법을 사용할 수 있다.
유기 용제로는, 예를 들어, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 디에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 들 수 있다. 촉매로는, 예를 들어, 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리벤질아민 등의 제 3 급 아민류 ; 테트라메틸암모늄클로라이드, 메틸트리에틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라부틸암모늄클로라이드, 트리메틸벤질암모늄클로라이드 등의 제 4 급 암모늄염류 ; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물 ; 트리페닐스티빈 등의 스티빈류 ; 를 들 수 있다. 열중합 금지제로는, 예를 들어, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논을 들 수 있다.
이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산 또는 에스테르 화합물은, 에폭시 수지의 에폭시기의 1 화학 당량에 대하여, 바람직하게는 0.7 ∼ 1.3 화학 당량, 보다 바람직하게는 0.9 ∼ 1.1 화학 당량이 되는 양을 사용할 수 있다. 부가 반응시의 온도는, 바람직하게는 60 ∼ 150 ℃, 보다 바람직하게는 80 ∼ 120 ℃ 이다. 다염기산 (무수물) 은, 부가 반응으로 생성된 수산기의 1 화학 당량에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 1.2 화학 당량, 보다 바람직하게는 0.2 ∼ 1.1 화학 당량이 되는 양을 사용할 수 있다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 은, 아웃 가스가 저감되고, 수직의 테이퍼 형상을 얻기 쉬운 관점에서, 하기 일반식 (i) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-1) (이하,「에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-1)」이라고 칭하는 경우가 있다), 하기 일반식 (ii) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-2) (이하,「에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-2)」라고 칭하는 경우가 있다), 및 하기 일반식 (iii) 으로 나타내는 부분 구조를 포함하는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-3) (이하,「에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-3)」이라고 칭하는 경우가 있다) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것이 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 은, 이것들 중에서도 아웃 가스가 저감되고, 격벽 하부의 형상이 양화되는 관점에서, 하기 일반식 (i) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-1) 을 포함하는 것이 바람직하고, 하기 일반식 (i) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-1) 인 것이 보다 바람직하다. 이유 중 하나로는, 강직한 주골격을 가짐으로써, 열에 대하여 분해되기 어렵고, 또 현상시에 노광부에 대한 현상액의 침투가 저감되는 것 등이 추측된다.
[화학식 2]
식 (i) 중, Ra 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Rb 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다. 식 (i) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. * 는 결합손을 나타낸다.
(Rb)
상기 식 (i) 에 있어서, Rb 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다. 2 가의 탄화수소기로는, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.
2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기사슬형, 고리형의 것을 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 것이 바람직하고, 한편으로 노광부에 대한 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 것이 바람직하다. 그 탄소수는 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 6 이상이 더욱 바람직하며, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
2 가의 직사슬형 지방족기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 잔류물 저감의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.
2 가의 분기사슬형 지방족기로는, 예를 들어, 전술한 2 가의 직사슬형 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 갖는 구조를 들 수 있다.
2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔막률이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 2 가의 고리형의 지방족기로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 디시클로펜탄 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.
2 가의 지방족기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 5 이상이 보다 바람직하고, 6 이상이 더욱 바람직하며, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 20 이 바람직하고, 5 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
2 가의 방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다.
2 가의 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 광경화성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리, 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리가 보다 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기, 글리시딜에테르기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 경화성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.
2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 예를 들어, 하기 식 (i-A) ∼ (i-F) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 골격의 강직성과 막의 소수화의 관점에서, 하기 식 (i-A) 로 나타내는 기가 바람직하다. 화학식 중의 * 는 결합손을 나타낸다.
[화학식 3]
상기와 같이, 식 (i) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 식 (i) 중의 벤젠 고리의 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 화학적으로 허용되는 한에 있어서, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다.
경화성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
상기 식 (i) 로 나타내는 부분 구조는, 현상 용해성의 관점에서, 하기 식 (i-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 4]
식 (i-1) 중, Ra 및 Rb 는, 상기 식 (i) 의 것과 동일한 의미이다. R1 은 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 4 의 2 가의 탄화수소기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다. 식 (i-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.
(R1)
상기 일반식 (i-1) 에 있어서, R1 은 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 4 의 2 가의 탄화수소기를 나타낸다. 2 가의 탄화수소기로는, 알킬렌기, 알케닐렌기를 들 수 있다.
알킬렌기는 직사슬이어도 되고, 분기사슬이어도 되지만, 현상 용해성의 관점에서 직사슬인 것이 바람직하다. 그 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 4 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 4 가 바람직하고, 1 ∼ 3 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔막률이 높아지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 아웃 가스 발생량이 적어지는 경향이 있다.
알킬렌기의 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기를 들 수 있고, 아웃 가스 저감의 관점에서, 메틸렌기, 에틸렌기가 바람직하고, 에틸렌기가 보다 바람직하다.
알케닐렌기는 직사슬이어도 되고, 분기사슬이어도 되지만, 현상 용해성의 관점에서 직사슬인 것이 바람직하다. 그 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 2 이상이 바람직하며, 또 4 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 2 ∼ 4 가 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔막률이 높아지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 아웃 가스 발생량이 적어지는 경향이 있다.
알케닐렌기의 구체예로는, 에테닐렌기, 프로페닐렌기, 부틸레닐렌기를 들 수 있고, 아웃 가스의 관점에서, 에테닐렌기가 바람직하다.
탄소수 1 ∼ 4 의 2 가의 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 할로겐 원자, 알콕시기, 벤조일기, 수산기를 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는 무치환이 바람직하다.
이것들 중에서도 아웃 가스 저감의 관점에서, R1 이 탄소수 1 ∼ 4 의 2 가의 알킬렌기인 것이 바람직하고, 메틸렌기, 에틸렌기가 보다 바람직하고, 에틸렌기가 더욱 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-1) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (i-1) 로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 된다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-1) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (i) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 8 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 10 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 8 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-1) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (i-1) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 8 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 10 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 8 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
이하에 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-1) 의 구체예를 든다.
[화학식 5]
[화학식 6]
[화학식 7]
[화학식 8]
[화학식 9]
[화학식 10]
[화학식 11]
다른 양태로서, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 은, 현상 밀착성의 관점에서, 하기 식 (ii) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-2) 인 것이 바람직하다.
[화학식 12]
식 (ii) 중, Rc 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. Rd 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
(Rd)
상기 식 (ii) 에 있어서, Rd 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.
고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.
지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
지방족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 4 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.
방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 4 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 4 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다.
방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 방향족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하고, 10 이상이 보다 더 바람직하고, 12 이상이 특히 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 40 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 20 이 보다 더 바람직하고, 12 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다.
방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.
고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기에 있어서의, 2 가의 탄화수소기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.
2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기사슬형, 고리형의 지방족기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 지방족기가 바람직하고, 한편으로 노광부에 대한 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 지방족기가 바람직하다. 그 탄소수는 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 6 이상이 더욱 바람직하며, 또, 25 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 25 가 바람직하고, 3 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
2 가의 직사슬형 지방족기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 잔류물의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.
2 가의 분기사슬형 지방족기로는, 예를 들어, 전술한 2 가의 직사슬형 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 갖는 구조를 들 수 있다.
2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
2 가의 고리형의 지방족기로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.
2 가의 지방족기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 5 이상이 보다 바람직하고, 6 이상이 더욱 바람직하며, 또, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
2 가의 방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다.
2 가의 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 광경화성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리, 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리가 보다 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 경화성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.
2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 예를 들어, 상기 식 (i-A) ∼ (i-F) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 잔류물 저감의 관점에서, 상기 식 (i-C) 로 나타내는 기가 바람직하다.
이들 2 가의 탄화수소기에 대하여, 측사슬인 고리형 탄화수소기의 결합 양태는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 지방족기나 방향족 고리기의 수소 원자 1 개를 측사슬로 치환시킨 양태나, 지방족기의 탄소 원자의 1 개를 포함하여 측사슬인 고리형 탄화수소기를 구성한 양태를 들 수 있다.
상기 식 (ii) 로 나타내는 부분 구조는, 현상 밀착성의 관점에서, 하기 식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 13]
식 (ii-1) 중, Rc 는 상기 식 (ii) 와 동일한 의미이다. Rα 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. n 은 1 이상의 정수이다. 식 (ii-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. * 는 결합손을 나타낸다.
(Rα)
상기 식 (ii-1) 에 있어서, Rα 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.
고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.
지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 6 이하가 바람직하고, 4 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 1 ∼ 4 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
또, 지방족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 4 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.
방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 10 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 5 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 5 이상이 보다 바람직하고, 6 이상이 더욱 바람직하며, 또, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.
고리형 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, 이소아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
n 은 1 이상의 정수를 나타내는데, 2 이상이 바람직하며, 또, 3 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 3 이 바람직하고, 1 ∼ 2 가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
이것들 중에서도, 강고한 막 경화도와 전기 특성의 관점에서, Rα 가 1 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 아다만틸기인 것이 보다 바람직하다.
상기와 같이, 식 (ii-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. 경화성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
이하에 상기 식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.
[화학식 14]
[화학식 15]
[화학식 16]
[화학식 17]
[화학식 18]
상기 식 (ii) 로 나타내는 부분 구조는, 현상 밀착성의 관점에서, 하기 식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 19]
식 (ii-2) 중, Rc 는 상기 식 (ii) 와 동일한 의미이다. Rβ 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. 식 (ii-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. * 는 결합손을 나타낸다.
(Rβ)
상기 식 (ii-2) 에 있어서, Rβ 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.
고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.
지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
또, 지방족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 35 이하가 보다 바람직하고, 30 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 35 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.
방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 10 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 5 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하고, 10 이상이 특히 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.
고리형 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, 이소아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 합성 간이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
이것들 중에서도, 경화성의 관점에서, Rβ 가 2 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 아다만탄 고리기인 것이 보다 바람직하다.
다른 양태로서, 현상 밀착성의 관점에서, Rβ 가 2 가의 방향족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 플루오렌 고리기인 것이 보다 바람직하다.
상기와 같이, 식 (ii-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 식 (ii-2) 중의 벤젠 고리의 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. 경화성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
이하에 상기 식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.
[화학식 20]
[화학식 21]
[화학식 22]
[화학식 23]
상기 식 (ii) 로 나타내는 부분 구조는, 경화성의 관점에서, 하기 식 (ii-3) 으로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 24]
식 (ii-3) 중, Rc 및 Rd 는 상기 식 (ii) 와 동일한 의미이다. R1 은 상기 식 (i-1) 과 동일한 의미이다. * 는 결합손을 나타낸다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-2) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (ii-3) 으로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 된다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-2) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (ii) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하며, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
또 다른 양태로서, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 은, 아웃 가스가 저감되기 쉬운 관점에서, 하기 일반식 (iii) 으로 나타내는 부분 구조를 포함하는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-3) 인 것이 바람직하다.
[화학식 25]
식 (iii) 중, Re 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, γ 는 단결합, -CO-, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. 식 (iii) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. * 는 결합손을 나타낸다.
(γ)
상기 식 (iii) 에 있어서, γ 는 단결합, -CO-, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.
알킬렌기는 직사슬형이어도 되고, 분기사슬형이어도 되지만, 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형인 것이 바람직하고, 현상 밀착성의 관점에서는 분기사슬형인 것이 바람직하다. 그 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 6 이하가 바람직하고, 4 이하가 보다 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 2 ∼ 4 가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 헥실렌기, 헵틸렌기를 들 수 있고, 현상 밀착성과 현상 용해성의 양립의 관점에서, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기가 바람직하고, 디메틸메틸렌기 (2,2-프로필렌기) 가 보다 바람직하다.
알킬렌기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있고, 현상 밀착성과 현상 용해성의 양립의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
2 가의 고리형 탄화수소기로는, 2 가의 지방족 고리기 또는 2 가의 방향족 고리기를 들 수 있다.
지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
또, 지방족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 35 이하가 보다 바람직하고, 30 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 35 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.
방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하며, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 10 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 5 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 방향족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하고, 10 이상이 특히 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.
고리형 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, 이소아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있고, 합성 간이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
이것들 중에서도, 잔류물 저감의 관점에서, γ 가 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기인 것이 바람직하고, 디메틸메틸렌인 것이 보다 바람직하다.
상기와 같이, 식 (iii) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 식 (iii) 중의 벤젠 고리의 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. 경화성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
상기 식 (iii) 으로 나타내는 부분 구조는, 현상 용해성의 관점에서, 하기 식 (iii-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 26]
식 (iii-1) 중, Re 및 γ 는 상기 식 (iii) 과 동일한 의미이다. R1 은 상기 식 (i-1) 의 것과 동일한 의미이다. * 는 결합손을 나타낸다. 식 (iii-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-3) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (iii) 으로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 5 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 더욱 바람직하며, 또, 18 이하가 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 18 이 바람직하고, 5 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 10 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-3) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (iii-1) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 5 이상이 더욱 바람직하며, 또, 18 이하가 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 18 이 바람직하고, 3 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 5 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
이하에 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1-3) 의 구체예를 든다.
[화학식 27]
[화학식 28]
[화학식 29]
[아크릴 공중합 수지 (b2)]
아크릴 공중합 수지 (b2) 는, 경화성의 관점에서, 측사슬에 에틸렌성 이중 결합을 갖는 것인 것이 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (b2) 중에서도, 현상 용해성, 발액성의 관점에서, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 바람직하다.
[화학식 30]
식 (I) 중, RA 및 RB 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
상기 식 (I) 로 나타내는 부분 구조는, 현상성의 관점에서, 하기 일반식 (I-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 31]
식 (I-1) 중, RA 및 RB 는, 상기 식 (I) 의 것과 동일한 의미이다. R1 은 상기 식 (i-1) 의 것과 동일한 의미이다.
상기 식 (I) 로 나타내는 부분 구조는, 감도의 관점에서, 하기 식 (I-2) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 32]
식 (I-2) 중, RA 및 RB 는, 상기 식 (I) 의 것과 동일한 의미이다.
아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 상기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 아크릴 공중합 수지 (b2-1) 에 포함되는 상기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 5 몰% 이상이 바람직하고, 20 몰% 이상이 보다 바람직하고, 30 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 50 몰% 이상이 보다 더 바람직하고, 70 몰% 이상이 특히 바람직하고, 80 몰% 이상이 가장 바람직하며, 또, 99 몰% 이하가 바람직하고, 97 몰% 이하가 보다 바람직하고, 95 몰% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 5 ∼ 99 몰% 가 바람직하고, 20 ∼ 99 몰% 가 보다 바람직하고, 30 ∼ 97 몰% 가 더욱 바람직하고, 50 ∼ 97 몰% 가 보다 더 바람직하고, 70 ∼ 95 몰% 가 특히 바람직하고, 80 ∼ 95 몰% 가 가장 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다.
아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 상기 일반식 (I-1) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 아크릴 공중합 수지 (b2-1) 에 포함되는 상기 일반식 (I-1) 로 나타내는 부분 구조의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 1 몰% 이상이 바람직하고, 5 몰% 이상이 보다 바람직하고, 8 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 10 몰% 이상이 보다 더 바람직하며, 또, 99 몰% 이하가 바람직하고, 60 몰% 이하가 보다 바람직하고, 40 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 30 몰% 이하가 보다 더 바람직하고, 20 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 99 몰% 가 바람직하고, 1 ∼ 60 몰% 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 40 몰% 가 더욱 바람직하고, 8 ∼ 30 몰% 가 보다 더 바람직하고, 10 ∼ 20 몰% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 감도가 높아지고, 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다.
아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 상기 일반식 (I-2) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 아크릴 공중합 수지 (b2-1) 에 포함되는 상기 일반식 (I-2) 로 나타내는 부분 구조의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 10 몰% 이상이 바람직하고, 20 몰% 이상이 보다 바람직하고, 30 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 40 몰% 이상이 보다 더 바람직하고, 50 몰% 이상이 특히 바람직하고, 70 몰% 이상이 가장 바람직하며, 또, 99 몰% 이하가 바람직하고, 95 몰% 이하가 보다 바람직하고, 90 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 85 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 10 ∼ 99 몰% 가 바람직하고, 20 ∼ 99 몰% 가 보다 바람직하고, 30 ∼ 95 몰% 가 더욱 바람직하고, 40 ∼ 95 몰% 가 보다 더 바람직하고, 50 ∼ 90 몰% 가 특히 바람직하고, 70 ∼ 85 몰% 가 가장 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 감도가 높아지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다.
아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 상기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 밖에 포함하고 있어도 되는 부분 구조는 특별히 한정되지 않지만, 현상 밀착성의 관점에서, 예를 들어, 하기 일반식 (I') 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 것이 바람직하다.
[화학식 33]
상기 식 (I') 중, RD 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, RE 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기 (방향족 고리기), 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기를 나타낸다.
(RE)
상기 식 (I') 에 있어서, RE 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기 (방향족 고리기), 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기를 나타낸다.
RE 에 있어서의 알킬기로는 직사슬형, 분기사슬형 또는 고리형의 알킬기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 5 이상이 더욱 바람직하며, 또, 20 이하가 바람직하고, 18 이하가 보다 바람직하고, 16 이하가 더욱 바람직하고, 14 이하가 보다 더 바람직하고, 12 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 3 ∼ 14 가 보다 더 바람직하고, 5 ∼ 12 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막 강도가 높아지고, 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 막 강도의 관점에서, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기가 바람직하고, 디시클로펜타닐기가 보다 바람직하다.
알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기를 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
RE 에 있어서의 아릴기 (방향족 고리기) 로는, 1 가의 방향족 탄화수소 고리기, 1 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 6 이상이 바람직하며, 또, 24 이하가 바람직하고, 22 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 18 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 6 ∼ 24 가 바람직하고, 6 ∼ 22 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 6 ∼ 18 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 되며, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다.
방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리기로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 되며, 예를 들어, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 경화성의 관점에서, 벤젠 고리기, 나프탈렌 고리기가 바람직하고, 벤젠 고리기가 보다 바람직하다.
아릴기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기를 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
RE 에 있어서의 알케닐기로는, 직사슬형, 분기사슬형 또는 고리형의 알케닐기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 2 이상이 바람직하며, 또, 22 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 18 이하가 더욱 바람직하고, 16 이하가 보다 더 바람직하고, 14 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 2 ∼ 22 가 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 18 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 16 이 보다 더 바람직하고, 2 ∼ 14 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
알케닐기로는, 예를 들어, 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 시클로헥세닐기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 경화성의 관점에서, 에테닐기, 프로페닐기가 바람직하고, 에테닐기가 보다 바람직하다.
알케닐기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기를 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
이것들 중에서도 현상성의 관점에서, RE 로는, 알킬기, 알케닐기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하고, 디시클로펜타닐기가 더욱 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 상기 일반식 (I') 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 아크릴 공중합 수지 (b2-1) 에 포함되는 상기 일반식 (I') 로 나타내는 부분 구조의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 0.5 몰% 이상이 바람직하고, 1 몰% 이상이 보다 바람직하고, 1.5 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 2 몰% 이상이 특히 바람직하며, 또, 90 몰% 이하가 바람직하고, 70 몰% 이하가 보다 바람직하고, 50 % 몰 이하가 더욱 바람직하고, 30 몰% 이하가 보다 더 바람직하고, 10 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 0.5 ∼ 90 몰% 가 바람직하고, 0.5 ∼ 70 몰% 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 50 % 몰이 더욱 바람직하고, 1.5 ∼ 30 몰% 가 보다 더 바람직하고, 2 ∼ 10 몰% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 상기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 내열성, 막 강도의 관점에서, 하기 일반식 (I'') 로 나타내는 부분 구조를 추가로 포함하는 것이 바람직하다.
[화학식 34]
상기 식 (I'') 중, RF 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, RG 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기, 하이드록실기, 카르복시기, 할로겐 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 티올기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬술파이드기를 나타낸다. t 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.
(RG)
상기 식 (I'') 에 있어서 RG 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기, 하이드록실기, 카르복시기, 할로겐 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 티올기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬술파이드기를 나타낸다.
RG 에 있어서의 알킬기로는, 직사슬형, 분기사슬형 또는 고리형의 알킬기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 5 이상이 더욱 바람직하며, 또, 20 이하가 바람직하고, 18 이하가 보다 바람직하고, 16 이하가 더욱 바람직하고, 14 이하가 보다 더 바람직하고, 12 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 3 ∼ 14 가 보다 더 바람직하고, 5 ∼ 12 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상 밀착성의 관점에서, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기가 바람직하고, 디시클로펜타닐기가 보다 바람직하다.
알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기를 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
RG 에 있어서의 알케닐기로는, 직사슬형, 분기사슬형 또는 고리형의 알케닐기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 2 이상이 바람직하며, 또, 22 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 18 이하가 더욱 바람직하고, 16 이하가 보다 더 바람직하고, 14 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 2 ∼ 22 가 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 18 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 16 이 보다 더 바람직하고, 2 ∼ 14 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
알케닐기로는, 예를 들어, 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 시클로헥세닐기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 경화성의 관점에서, 에테닐기, 프로페닐기가 바람직하고, 에테닐기가 보다 바람직하다.
알케닐기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기를 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
RG 에 있어서의 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 를 들 수 있고, 이것들 중에서도 발잉크성의 관점에서는 불소 원자가 바람직하다.
RG 에 있어서의 알콕시기로는, 직사슬형, 분기사슬형 또는 고리형의 알콕시기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상이 바람직하며, 또, 20 이하가 바람직하고, 18 이하가 보다 바람직하고, 16 이하가 더욱 바람직하고, 14 이하가 보다 더 바람직하고, 12 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 1 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 1 ∼ 14 가 보다 더 바람직하고, 1 ∼ 12 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
알콕시기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기를 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
RG 에 있어서의 알킬술파이드기로는, 직사슬형, 분기사슬형 또는 고리형의 알킬술파이드기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상인 것이 바람직하며, 또, 20 이하인 것이 바람직하고, 18 이하인 것이 보다 바람직하고, 16 이하인 것이 더욱 바람직하고, 14 이하인 것이 보다 더 바람직하고, 12 이하인 것이 특히 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 1 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 1 ∼ 14 가 보다 더 바람직하고, 1 ∼ 12 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
알킬술파이드기로는, 예를 들어, 메틸술파이드기, 에틸술파이드기, 프로필술파이드기, 부틸술파이드기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 현상성의 관점에서, 메틸술파이드기, 에틸술파이드기가 바람직하다.
알킬술파이드기에 있어서의 알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기를 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
이것들 중에서도 현상성의 관점에서, RG 로는, 하이드록시기, 카르복시기가 바람직하고, 카르복시기가 보다 바람직하다.
(t)
상기 식 (I'') 에 있어서 t 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다. 현상성의 관점에서, 0 ∼ 2 가 바람직하고, 0 ∼ 1 이 보다 바람직하고, 0 이 더욱 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 상기 일반식 (I'') 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 아크릴 공중합 수지 (b2-1) 에 포함되는 상기 일반식 (I'') 로 나타내는 부분 구조의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 1 몰% 이상이 바람직하고, 2 몰% 이상이 보다 바람직하고, 3 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 4 몰% 이상이 특히 바람직하며, 또, 90 몰% 이하가 바람직하고, 70 몰% 이하가 보다 바람직하고, 50 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 30 몰% 이하가 보다 더 바람직하고, 20 몰% 이하가 특히 바람직하고, 10 몰% 이하가 가장 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1 ∼ 90 몰% 가 바람직하고, 1 ∼ 70 몰% 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 50 몰% 가 더욱 바람직하고, 2 ∼ 30 몰% 가 보다 더 바람직하고, 3 ∼ 20 몰% 가 특히 바람직하고, 4 ∼ 10 몰% 가 가장 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 상기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 현상성의 관점에서 하기 일반식 (I''') 로 나타내는 부분 구조를 추가로 포함하는 것이 바람직하다.
[화학식 35]
상기 식 (I''') 중, RH 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.
아크릴 공중합 수지 (b2-1) 이 상기 일반식 (I''') 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 아크릴 공중합 수지 (b2-1) 에 포함되는 상기 일반식 (I''') 로 나타내는 부분 구조의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 5 몰% 이상이 바람직하고, 10 몰% 이상이 보다 바람직하고, 30 몰% 이상이 더욱 바람직하며, 또, 90 몰% 이하가 바람직하고, 80 몰% 이하가 보다 바람직하고, 70 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 50 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 5 ∼ 90 몰% 가 바람직하고, 5 ∼ 80 몰% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 70 몰% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 50 몰% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다.
아크릴 공중합 수지 (b2) 의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 5 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 10 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 20 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 25 mgKOH/g 이상이 보다 더 바람직하며, 또, 100 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 80 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 60 mgKOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 40 mgKOH/g 이하가 보다 더 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 5 ∼ 100 mgKOH/g 이 바람직하고, 10 ∼ 80 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 20 ∼ 60 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 25 ∼ 40 mgKOH/g 이 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다.
아크릴 공중합 수지 (b2) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 1000 이상, 보다 바람직하게는 2000 이상, 더욱 바람직하게는 3000 이상, 보다 더 바람직하게는 4000 이상, 특히 바람직하게는 5000 이상이며, 또, 바람직하게는 30000 이하, 보다 바람직하게는 20000 이하, 더욱 바람직하게는 15000 이하, 보다 더 바람직하게는 10000 이하이다. 특히 바람직하게는 8000 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 2000 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 3000 ∼ 15000 이 더욱 바람직하고, 4000 ∼ 10000 이 보다 더 바람직하고, 5000 ∼ 8000 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
(B) 알칼리 가용성 수지 중에는, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 및 아크릴 공중합 수지 (b2) 중 어느 것이 단독으로 포함되어 있어도 되고, 양자가 포함되어 있어도 된다. 또한, (B) 알칼리 가용성 수지 중에는 알칼리 가용성 수지 (b) 이외의 알칼리 가용성 수지가 포함되어 있어도 된다.
예를 들어, 국제공개 2016/194619호 공보, 국제공개 2017/154439호 공보에 기재된 수지를 들 수 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서의 (B) 알칼리 가용성 수지의 함유량은, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 30 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상, 또, 바람직하게는 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 80 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 70 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 5 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 90 질량% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 70 질량% 가 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 높은 발액성을 확보하기 쉬운 경향이 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 을 포함하는 경우, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 중 (100 질량%) 에, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 15 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 20 질량% 이상, 특히 바람직하게는 25 질량% 이상, 또, 바람직하게는 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 질량% 이하, 특히 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 5 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 90 질량% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 70 질량% 가 더욱 바람직하고, 15 ∼ 60 질량% 가 보다 더 바람직하고, 20 ∼ 50 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되고, 격벽 하부의 형상이 양화되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 발액성이 양호해지는 경향이 있다.
또, 본 발명의 감광성 수지 조성물이 아크릴 공중합 수지 (b2) 를 포함하는 경우, 아크릴 공중합 수지 (b2) 의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 30 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상, 또, 바람직하게는 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 80 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 70 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 5 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 90 질량% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 70 질량% 가 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되고, 발액성이 양화되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 격벽 하부의 형상이 양화되는 경향이 있다.
(B) 알칼리 가용성 수지가 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 을 포함하는 경우, (B) 알칼리 가용성 수지 (100 질량%) 에 대한 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (b1) 의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 10 질량% 이상이 바람직하고, 20 질량% 이상이 보다 바람직하고, 30 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 35 질량% 이상이 보다 더 바람직하다. 또, 90 질량% 이하가 바람직하고, 70 질량% 이하가 보다 바람직하고, 50 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 10 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 90 질량% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 70 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 50 질량% 가 보다 더 바람직하고, 30 ∼ 50 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 격벽 하부의 형상이 양화되는 경향이 있다. 또, 상한값 이하로 함으로써, 발액성이 양호해지는 경향이 있다.
(B) 알칼리 가용성 수지가 아크릴 공중합 수지 (b2) 를 포함하는 경우, (B) 알칼리 가용성 수지 (100 질량%) 에 대한 아크릴 공중합 수지 (b2) 의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 20 질량% 이상이 바람직하고, 40 질량% 이상이 보다 바람직하고, 50 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 60 질량% 이상이 보다 더 바람직하다. 또, 90 질량% 이하가 바람직하고, 80 질량% 이하가 보다 바람직하고, 70 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 20 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 40 ∼ 90 질량% 가 보다 바람직하고, 40 ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하고, 50 ∼ 80 질량% 가 보다 더 바람직하고, 50 ∼ 70 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 발액성이 양호해지는 경향이 있다. 또, 상한값 이하로 함으로써, 격벽 하부의 형상이 양화되는 경향이 있다.
또, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에 있어서의 (B) 알칼리 가용성 수지 및 (C) 광중합성 화합물의 함유량의 합계는, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 50 질량% 이상, 특히 바람직하게는 70 질량% 이상, 특히 더 바람직하게는 80 질량% 이상이고, 가장 바람직하게는 90 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 99 질량% 이하, 보다 바람직하게는 97 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 95 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 5 ∼ 99 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 99 질량% 가 보다 바람직하고, 30 ∼ 99 질량% 가 더욱 바람직하고, 50 ∼ 97 질량% 가 보다 더 바람직하고, 70 ∼ 97 질량% 가 특히 바람직하고, 80 ∼ 95 질량% 가 특히 바람직하고, 90 ∼ 95 질량% 가 가장 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 경화성, 발액성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 착색제량을 증가시킬 수 있음으로써 차광성이 양호해지는 경향이 있다.
감광성 수지 조성물에 있어서의 (C) 광중합성 화합물에 대한 (B) 알칼리 가용성 수지의 배합비로는, (C) 광중합성 화합물 100 질량부에 대하여, 50 질량부 이상이 바람직하고, 60 질량부 이상이 보다 바람직하고, 70 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 80 질량부 이상이 특히 바람직하며, 또, 500 질량부 이하가 바람직하고, 400 질량부 이하가 보다 바람직하고, 300 질량부 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 50 ∼ 400 질량부가 바람직하고, 60 ∼ 300 질량부가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 테이퍼 형상이 높아지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 경화성, 발액성이 향상되는 경향이 있다.
[1-1-3] (C) 광중합성 화합물
본 발명의 감광성 수지 조성물은 (C) 광중합성 화합물을 함유한다. (C) 광중합성 화합물을 포함함으로써, 고감도가 되는 것으로 생각된다.
본 발명에 있어서 (C) 광중합성 화합물은 (A) 공중합체와는 다른 성분이고, (A) 공중합체에 해당하는 광중합성 화합물이 존재하는 경우에는, (A) 공중합체로서 취급한다.
여기서 사용되는 (C) 광중합성 화합물로는, 에틸렌성 불포화 결합 (에틸렌성 이중 결합) 을 분자 내에 1 개 이상 갖는 화합물을 의미하는데, 중합성, 가교성, 및 그것에 수반되는 노광부와 비노광부의 현상액 용해성의 차이를 확대시킬 수 있거나 하는 점에서, 에틸렌성 불포화 결합을 분자 내에 2 개 이상 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 또, 그 불포화 결합은 (메트)아크릴로일옥시기에서 유래하는 것, 요컨대, (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서는, 특히, 1 분자 중에 에틸렌성 불포화 결합을 2 개 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 다관능 에틸렌성 단량체가 갖는 에틸렌성 불포화기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 2 개 이상, 보다 바람직하게는 3 개 이상, 더욱 바람직하게는 4 개 이상, 특히 바람직하게는 5 개 이상이며, 또, 바람직하게는 15 개 이하, 보다 바람직하게는 10 개 이하, 더욱 바람직하게는 8 개 이하, 특히 바람직하게는 7 개 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 2 ∼ 15 개가 바람직하고, 3 ∼ 10 개가 보다 바람직하고, 4 ∼ 8 개가 더욱 바람직하고, 5 ∼ 7 개가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 중합성이 향상되어 고감도가 되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 보다 양호해지는 경향이 있다.
(C) 광중합성 화합물로는, 예를 들어, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르 ; 를 들 수 있다.
지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트 등의 지방족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 ; 이들 화합물의 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 대신한 메타크릴산에스테르 ; 이들 화합물의 아크릴레이트를 이타코네이트로 대신한 이타콘산에스테르 ; 이들 화합물의 아크릴레이트를 크로네이트로 대신한 크로톤산에스테르 ; 이들 화합물의 아크릴레이트를 말레에이트로 대신한 말레산에스테르 ; 를 들 수 있다.
방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 예를 들어, 하이드로퀴논디아크릴레이트, 하이드로퀴논디메타크릴레이트, 레조르신디아크릴레이트, 레조르신디메타크릴레이트, 피로갈롤트리아크릴레이트 등의 방향족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르를 들 수 있다.
지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르로는, 반드시 단일물은 아니지만, 예를 들어, 아크릴산, 프탈산, 및 에틸렌글리콜의 축합물 ; 아크릴산, 말레산, 및 디에틸렌글리콜의 축합물 ; 메타크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물 ; 아크릴산, 아디프산, 부탄디올 및 글리세린의 축합물 ; 을 들 수 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 사용되는 (C) 광중합성 화합물의 상기 이외의 예로는, 예를 들어, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트류 ; 다가 에폭시 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 (메트)아크릴산의 부가 반응물과 같은 에폭시아크릴레이트류 ; 에틸렌비스아크릴아미드 등의 아크릴아미드류 ; 프탈산디알릴 등의 알릴에스테르류 ; 디비닐프탈레이트 등의 비닐기 함유 화합물이 유용하다.
우레탄(메트)아크릴레이트류로는, 예를 들어, DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (일본 화약사 제조), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (신나카무라 화학 공업사 제조), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (쿄에이샤 화학사 제조), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (일본 합성 화학 공업사 제조) 를 들 수 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, (C) 광중합성 화합물의 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 감도, 발잉크성, 테이퍼각의 관점에서, 바람직하게는 100 이상, 보다 바람직하게는 150 이상이고, 더욱 바람직하게는 200 이상, 보다 더 바람직하게는 300 이상, 특히 바람직하게는 400 이상, 가장 바람직하게는 500 이상이며, 또, 바람직하게는 1000 이하, 보다 바람직하게는 700 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 100 ∼ 1000 이 바람직하고, 150 ∼ 1000 이 보다 바람직하고, 200 ∼ 1000 이 더욱 바람직하고, 300 ∼ 700 이 보다 더 바람직하고, 400 ∼ 700 이 특히 바람직하고, 500 ∼ 700 이 가장 바람직하다.
(C) 광중합성 화합물의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 감도, 발잉크성, 테이퍼각의 관점에서, 바람직하게는 7 이상, 보다 바람직하게는 10 이상, 더욱 바람직하게는 15 이상, 보다 더 바람직하게는 20 이상, 특히 바람직하게는 25 이상이며, 또, 바람직하게는 50 이하, 보다 바람직하게는 40 이하, 더욱 바람직하게는 35 이하, 특히 바람직하게는 30 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 7 ∼ 50 이 바람직하고, 10 ∼ 50 이 보다 바람직하고, 15 ∼ 40 이 더욱 바람직하고, 20 ∼ 35 가 보다 더 바람직하고, 25 ∼ 30 이 특히 바람직하다.
감도, 발잉크성, 테이퍼각의 관점에서, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르류, 에폭시(메트)아크릴레이트류, 및 우레탄(메트)아크릴레이트류가 바람직하고, 그 중에서도, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 등 3 관능 이상의 에스테르(메트)아크릴레이트류, 2,2,2-트리스(메트)아크릴로일옥시메틸에틸프탈산, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트의 이염기산 무수물 부가물 등의 3 관능 이상의 에스테르(메트)아크릴레이트류에 대한 산 무수물의 부가물이 더욱 바람직하다.
이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서의 (C) 광중합성 화합물의 함유량은, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 30 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상, 또, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 55 질량% 이하, 특히 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 5 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 55 질량% 이가 보다 더 바람직하고, 40 ∼ 50 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 적절한 내부 경화성이 되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다.
[1-1-4] (D) 광중합 개시제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, (A) 공중합체와는 별도로, 추가로 (D) 광중합 개시제를 함유해도 된다. (D) 광중합 개시제는, 활성 광선에 의해 (C) 광중합성 화합물을 중합시키는, 예를 들어, (C) 광중합성 화합물이 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 중합시키는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은, (D) 광중합 개시제로서, 이 분야에서 통상적으로 사용되고 있는 광중합 개시제를 사용할 수 있다. 이와 같은 광중합 개시제로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 소59-152396호, 일본 공개특허공보 소61-151197호에 기재된 티타노센 화합물을 포함하는 메탈로센 화합물 ; 일본 공개특허공보 2000-56118호에 기재된 헥사아릴 비이미다졸 유도체류 ; 일본 공개특허공보 평10-39503호에 기재된 할로메틸화옥사디아졸 유도체류, 할로메틸-s-트리아진 유도체류, N-페닐글리신 등의 N-아릴-α-아미노산류, N-아릴-α-아미노산염류, N-아릴-α-아미노산에스테르류 등의 라디칼 활성제, α-아미노알킬페논 유도체류 ; 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공개특허공보 2006-36750호 등에 기재되어 있는 옥심에스테르계 화합물을 들 수 있다.
구체적으로는, 예를 들어, 메탈로센 화합물로는, 디시클로펜타디에닐티타늄디클로라이드, 디시클로펜타디에닐티타늄비스페닐, 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,5,6-테트라플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,4,6-트리플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,4-디플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄〔2,6-디플루오로-3-(피로-1-일)-페닐〕을 들 수 있다.
비이미다졸 유도체류로는, 예를 들어, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-비스(3'-메톡시페닐)이미다졸 2 량체, 2-(2'-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, (4'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체를 들 수 있다.
할로메틸화옥사디아졸 유도체류로는, 예를 들어, 2-트리클로로메틸-5-(2'-벤조푸릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-벤조푸릴)비닐〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-(6''-벤조푸릴)비닐)〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-푸릴-1,3,4-옥사디아졸을 들 수 있다.
할로메틸-s-트리아진 유도체류로는, 예를 들어, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시카르보닐나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진을 들 수 있다.
α-아미노알킬페논 유도체류로는, 예를 들어, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 3,6-비스(2-메틸-2-모르폴리노프로피오닐)-9-옥틸카르바졸을 들 수 있다.
(D) 광중합 개시제로는, 특히, 감도나 제판성의 점에서 옥심에스테르계 화합물이 유효하며, 예를 들어 페놀성 수산기를 포함하는 알칼리 가용성 수지를 사용하는 경우에는, 감도의 점에서 불리해지기 때문에, 특히 이와 같은 감도가 우수한 옥심에스테르계 화합물이 유용하다. 옥심에스테르계 화합물은, 광 반응의 양자 수율이 높고, 생성되는 라디칼의 활성이 높기 때문에, 감도가 높고, 또한 열 반응에 대하여 안정적이며, 소량으로 고감도의 감광성 수지 조성물을 얻는 것이 가능하다.
옥심에스테르계 화합물로는, 예를 들어, 하기 일반식 (IV) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 36]
식 (IV) 중, R21a 는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.
R21b 는 방향 고리를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.
R22a 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 알카노일기, 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 아로일기를 나타낸다.
n 은 0 또는 1 의 정수를 나타낸다.
R21a 에 있어서의 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성, 감도, 잉크젯 도포성의 관점에서, 바람직하게는 1 이상, 보다 바람직하게는 2 이상, 또, 바람직하게는 20 이하, 보다 바람직하게는 15 이하, 더욱 바람직하게는 10 이하이다. 알킬기의 구체예로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸, 헥실기, 시클로펜틸메틸기, 시클로펜틸에틸기, 시클로헥실메틸기, 시클로헥실에틸기를 들 수 있다.
알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 방향족 고리기, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 4-(2-메톡시-1-메틸)에톡시-2-메틸페닐기, N-아세틸-N-아세톡시아미노기를 들 수 있다. 알킬기로는, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.
R21a 에 있어서의 방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기 및 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 방향족 고리기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물에 대한 용해성의 관점에서 5 이상인 것이 바람직하다. 또, 현상성의 관점에서 30 이하인 것이 바람직하고, 20 이하인 것이 보다 바람직하고, 12 이하인 것이 더욱 바람직하다. 예를 들어, 5 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 5 ∼ 12 가 더욱 바람직하다.
방향족 고리기의 구체예로는, 예를 들어, 페닐기, 나프틸기, 피리딜기, 푸릴기를 들 수 있고, 이것들 중에서도 현상성의 관점에서, 페닐기 또는 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.
방향족 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기, 알콕시기, 이들 치환기가 연결된 기를 들 수 있고, 현상성의 관점에서 알킬기, 알콕시기, 이것들을 연결한 기가 바람직하고, 연결한 알콕시기가 보다 바람직하다.
이것들 중에서도, 잉크젯 도포성의 관점에서, R21a 가 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기인 것이 바람직하다.
R21b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바졸릴기, 치환되어 있어도 되는 티오크산토닐기, 치환되어 있어도 되는 디페닐술파이드기, 치환되어 있어도 되는 플루오레닐기 또는 치환되어 있어도 되는 인돌릴기를 들 수 있다. 이것들 중에서도, 잉크젯 도포성의 관점에서, 치환되어 있어도 되는 디페닐술파이드기가 바람직하다.
R22a 에 있어서의 알카노일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 바람직하게는 2 이상, 또, 바람직하게는 20 이하, 보다 바람직하게는 15 이하, 더욱 바람직하게는 10 이하, 보다 더 바람직하게는 5 이하이다. 알카노일기의 구체예로는, 예를 들어, 아세틸기, 에티로일기, 프로파노일기, 부타노일기를 들 수 있다.
알카노일기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 방향족 고리기, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기를 들 수 있다. 알카노일기로는, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.
R22a 에 있어서의 아로일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 바람직하게는 7 이상, 또, 바람직하게는 20 이하, 보다 바람직하게는 15 이하, 더욱 바람직하게는 10 이하이다. 아로일기의 구체예로는, 예를 들어, 벤조일기, 나프토일기를 들 수 있다.
아로일기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기를 들 수 있다. 아로일기로는, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.
이것들 중에서도, 감도의 관점에서, R22a 가 치환기를 갖고 있어도 되는 알카노일기인 것이 바람직하고, 무치환의 알카노일기인 것이 보다 바람직하고, 아세틸기인 것이 더욱 바람직하다.
예를 들어, 일본 특허공보 4454067호, 국제공개 제2002/100903호, 국제공개 제2012/45736호, 국제공개 제2015/36910호, 국제공개 제2006/18973호, 국제공개 제2008/78678호, 일본 특허공보 4818458호, 국제공개 제2005/80338호, 국제공개 제2008/75564호, 국제공개 제2009/131189호, 국제공개 제2010/133077호, 국제공개 제2010/102502호, 국제공개 제2012/68879호에 기재되어 있는 광중합 개시제 등을 사용할 수 있다.
(D) 광중합 개시제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다. (D) 광중합 개시제에는, 필요에 따라, 감도를 높일 목적으로, 화상 노광 광원의 파장에 따른 증감 색소, 중합 촉진제를 배합시킬 수 있다.
증감 색소로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평4-221958호, 일본 공개특허공보 평4-219756호에 기재된 크산텐 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 복소 고리를 갖는 쿠마린 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 3-케토쿠마린 화합물, 일본 공개특허공보 평6-19240호에 기재된 피로메텐 색소, 일본 공개특허공보 소47-2528호, 일본 공개특허공보 소54-155292호, 일본 특허공보 소45-37377호, 일본 공개특허공보 소48-84183호, 일본 공개특허공보 소52-112681호, 일본 공개특허공보 소58-15503호, 일본 공개특허공보 소60-88005호, 일본 공개특허공보 소59-56403호, 일본 공개특허공보 평2-69호, 일본 공개특허공보 소57-168088호, 일본 공개특허공보 평5-107761호, 일본 공개특허공보 평5-210240호, 일본 공개특허공보 평4-288818호에 기재된 디알킬아미노벤젠 골격을 갖는 색소를 들 수 있다.
이들 증감 색소 중, 아미노기 함유 증감 색소가 바람직하고, 아미노기 및 페닐기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 예를 들어, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 2-아미노벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 화합물 ; 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[4,5]벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[6,7]벤조옥사졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-티아디아졸, (p-디메틸아미노페닐)피리딘, (p-디에틸아미노페닐)피리딘, (p-디메틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디에틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디메틸아미노페닐)피리미딘, (p-디에틸아미노페닐)피리미딘 등의 p-디알킬아미노페닐기 함유 화합물이 더욱 바람직하다. 이것들 중에서도, 4,4'-디알킬아미노벤조페논이 특히 바람직하다.
증감 색소는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
중합 촉진제로는, 예를 들어, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 4-디메틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논 등의 방향족 아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민, 벤조산 2-디메틸아미노에틸 등의 지방족 아민을 사용할 수 있다. 중합 촉진제는, 1 종을 단독으로 사용해도, 2 종 이상을 병용해도 된다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 (D) 광중합 개시제를 함유하는 경우, (D) 광중합 개시제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 0.01 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 2 질량% 이상, 특히 바람직하게는 3 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 25 질량% 이하, 보다 바람직하게는 20 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 15 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 10 질량% 이하, 특히 바람직하게는 7 질량% 이하, 가장 바람직하게는 5 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.01 ∼ 25 질량% 가 바람직하고, 0.01 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 15 질량% 가 더욱 바람직하고, 1 ∼ 10 질량% 가 보다 더 바람직하고, 2 ∼ 7 질량% 가 특히 바람직하고, 3 ∼ 5 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 발잉크성이 향상되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 (D) 광중합 개시제를 함유하는 경우, 감광성 수지 조성물 중의 (C) 광중합성 화합물에 대한 (D) 광중합 개시제의 배합비로는, (C) 광중합성 화합물 100 질량부에 대하여, 1 질량부 이상이 바람직하고, 5 질량부 이상이 보다 바람직하고, 10 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 15 질량부 이상이 보다 더 바람직하고, 20 질량부 이상이 특히 바람직하며, 또, 200 질량부 이하가 바람직하고, 100 질량부 이하가 보다 바람직하고, 50 질량부 이하가 더욱 바람직하고, 30 질량부 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 ∼ 200 질량부가 바람직하고, 5 ∼ 200 질량부가 보다 바람직하고, 10 ∼ 100 질량부가 더욱 바람직하고, 15 ∼ 50 질량부가 보다 더 바람직하고, 20 ∼ 30 질량부가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 발잉크성이 향상되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.
[1-1-5] (E) 착색제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 격벽을 착색시킬 목적으로 (E) 착색제를 함유해도 된다. (E) 착색제로는, 안료, 염료 등 공지된 착색제를 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용하는 (E) 착색제의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 안료를 사용해도 되고, 염료를 사용해도 된다. 이것들 중에서도, 내구성의 관점에서, 안료를 사용하는 것이 바람직하다.
(E) 착색제에 포함되는 안료는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 된다. 특히, 가시 영역에 있어서 균일하게 차광한다는 관점에서는, 2 종 이상인 것이 바람직하다.
(E) 착색제로서 사용할 수 있는 안료의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 유기 안료나 무기 안료를 들 수 있다. 이것들 중에서도, 감광성 수지 조성물의 투과 파장을 컨트롤하여 효율적으로 경화시킨다는 관점에서는, 유기 안료를 사용하는 것이 바람직하다.
유기 안료로는, 유기 착색 안료나 유기 흑색 안료를 들 수 있다. 여기서, 유기 착색 안료란, 흑색 이외의 색을 나타내는 유기 안료를 의미하며, 적색 안료, 등색 안료, 청색 안료, 자색 안료, 녹색 안료, 황색 안료 등을 들 수 있다.
유기 안료 중에서도, 자외선 흡수성의 관점에서 유기 착색 안료를 사용하는 것이 바람직하다.
유기 착색 안료는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 특히, 차광성의 용도에 사용하는 경우에는, 색이 상이한 유기 착색 안료를 조합하여 사용하는 것이 보다 바람직하고, 흑색에 가까운 색을 나타내는 유기 착색 안료의 조합을 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
이들 유기 안료의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 인단트렌계, 페릴렌계를 들 수 있다. 이하, 사용할 수 있는 안료의 구체예를 피그먼트 넘버로 나타낸다. 이하에 예시하는「C.I. 피그먼트 레드 2」등의 용어는, 컬러 인덱스 (C.I.) 를 의미한다.
적색 안료로는, C.I. 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48 : 1, 48 : 2, 48 : 3, 48 : 4, 49, 49 : 1, 49 : 2, 50 : 1, 52 : 1, 52 : 2, 53, 53 : 1, 53 : 2, 53 : 3, 57, 57 : 1, 57 : 2, 58 : 4, 60, 63, 63 : 1, 63 : 2, 64, 64 : 1, 68, 69, 81, 81 : 1, 81 : 2, 81 : 3, 81 : 4, 83, 88, 90 : 1, 101, 101 : 1, 104, 108, 108 : 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276 을 들 수 있다.
이 중에서도, 차광성, 분산성의 관점에서 바람직하게는 C.I. 피그먼트 레드 48 : 1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 레드 177, 209, 224, 254 를 들 수 있다.
또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 레드 177, 254, 272 를 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 적색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 레드 254, 272 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
등색 (오렌지) 안료로는, C.I. 피그먼트 오렌지 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79 를 들 수 있다.
이 중에서도 분산성이나 차광성의 관점에서, C.I. 피그먼트 오렌지 13, 43, 64, 72 를 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 오렌지 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 오렌지 64, 72 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
청색 안료로는, C.I. 피그먼트 블루 1, 1 : 2, 9, 14, 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56 : 1, 60, 61, 61 : 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 를 들 수 있다.
이 중에서도, 차광성의 관점에서, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 블루 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 60, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 블루 15 : 6 을 들 수 있다.
또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 블루 15 : 6, 16, 60 을 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 청색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 블루 60 을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
자색 안료로는, C.I. 피그먼트 바이올렛 1, 1 : 1, 2, 2 : 2, 3, 3 : 1, 3 : 3, 5, 5 : 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 을 들 수 있다.
이 중에서도, 차광성의 관점에서, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 바이올렛 23 을 들 수 있다.
또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 를 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 자색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 바이올렛 29 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
적색 안료, 등색 안료, 청색 안료, 자색 안료 외에 사용할 수 있는 유기 착색 안료로는 예를 들어, 녹색 안료, 황색 안료를 들 수 있다.
녹색 안료로는, C.I. 피그먼트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55 를 들 수 있다.
이 중에서도, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 그린 7, 36 을 들 수 있다.
황색 안료로는, C.I. 피그먼트 옐로 1, 1 : 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35 : 1, 36, 36 : 1, 37, 37 : 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62 : 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127 : 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191 : 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208 을 들 수 있다.
이 중에서도, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로 83, 138, 139, 150, 180 을 들 수 있다.
이것들 중에서도, 차광성이나, 발잉크성의 관점에서, 적색 안료, 등색 안료, 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 사용하는 것이 바람직하다.
이것들 중에서도, 경화성이나, 발잉크성의 관점에서는, 이하의 안료 중 적어도 1 종 이상을 함유하는 것으로 하는 것이 바람직하다.
적색 안료 : C.I. 피그먼트 레드 177, 254, 272
등색 안료 : C.I. 피그먼트 오렌지 43, 64, 72
청색 안료 : C.I. 피그먼트 블루 15 : 6, 60
자색 안료 : C.I. 피그먼트 바이올렛 23, 29
또, 차광성의 관점에서, (E) 착색제로서 유기 흑색 안료를 사용하는 것이 바람직하다.
유기 흑색 안료로는, 아닐린 블랙, 페릴렌 블랙이나 하기 일반식 (2) 로 나타내는 유기 흑색 안료를 들 수 있다. 이 중, 차광성, 분산성의 관점에서, 하기 일반식 (2) 로 나타내는 유기 흑색 안료가 보다 바람직하다.
[화학식 37]
또 무기 안료를 사용할 수도 있다. 무기 흑색 안료로는, 카본 블랙, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 시아닌 블랙, 티탄 블랙 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 차광성, 분산성의 관점에서 카본 블랙을 바람직하게 사용할 수 있다.
또 백색 안료를 사용할 수도 있다. 백색 안료로는, 예를 들어, 산화티탄, 티탄산스트론튬, 티탄산바륨, 산화아연, 산화마그네슘, 산화지르코늄, 산화알루미늄, 황산바륨, 실리카, 탤크, 마이카, 수산화알루미늄, 규산칼슘, 규산알루미늄을 들 수 있다. 이것들 중에서도 산란성의 관점에서, 산화티탄이 바람직하다.
안료를 사용할 때에, 그 안료가 응집되지 않고 안정적으로 감광성 수지 조성물 중에 존재할 수 있도록, 공지된 분산제나 분산 보조제가 병용되어도 된다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 (E) 착색제를 함유하는 경우, (E) 착색제의 함유량으로는, 제판성과 색 특성의 관점에서, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 바람직하게는 40 질량% 이하이다. 하한은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.01 질량% 이상이다. 예를 들어, 0.01 ∼ 60 질량% 가 바람직하고, 0.01 ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하다.
다른 양태로서, 감광성 수지 조성물에 (E) 착색제가 포함되면, 격벽의 경화성이 저하되어 격벽의 발액성이 저하되고, 아웃 가스도 발생하기 쉬운 경향이 있다. 그 때문에, 감광성 수지 조성물에 있어서의 (E) 착색제의 함유량이 낮은 것이 바람직하며, 예를 들어, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여 20 질량% 이하가 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어 0.01 ∼ 20 질량% 가 바람직하고, 0.01 ∼ 10 질량% 가 보다 바람직하다.
[1-1-7] (F) 연쇄 이동제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, (F) 연쇄 이동제를 함유해도 된다. (F) 연쇄 이동제를 포함함으로써, 표면 근방에 있어서의 산소 저해 등에 의한 라디칼 실활이 개선되어 표면 경화성을 높일 수 있고, 테이퍼각이 높아지는 경향이 있다. 또, 표면 경화성을 높임으로써 (A) 공중합체 및/또는 발액제의 유출을 억제할 수 있고, (A) 공중합체 및/또는 발액제를 격벽의 표면 근방에 고정시키기 쉬워 접촉각이 높아지는 경향이 있다.
(F) 연쇄 이동제로는, 예를 들어, 메르캅토기 함유 화합물이나, 사염화탄소 를 들 수 있고, 연쇄 이동 효과가 높은 경향이 있는 점에서 메르캅토기 함유 화합물이 보다 바람직하다. 메르캅토기 함유 화합물은, S-H 결합 에너지가 작음으로써 결합 개열이 일어나기 쉽고, 연쇄 이동 반응을 일으키기 쉽기 때문에, 표면 경화성을 높일 수 있는 경향이 있다.
연쇄 이동제 중에서도, 테이퍼각, 표면 경화성의 관점에서, 방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물, 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물이 바람직하다.
지방족계의 메르캅토기 함유 화합물로는, 예를 들어, 부탄디올비스(3-메르캅토프로피오네이트), 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 부탄디올비스(3-메르캅토부틸레이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토부틸레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부틸레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온을 들 수 있다.
이것들 중, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부틸레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온이 바람직하고, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트) 가 보다 바람직하다.
이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
이것들 중에서도, 발잉크성을 높이는 관점에서, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 및 2-메르캅토벤조옥사졸로 이루어지는 군에서 선택된 1 이상과, 광중합 개시제를 조합하여, 광중합 개시제계로서 사용하는 것이 바람직하고, 비이미다졸 유도체류와 조합하는 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 2-메르캅토벤조티아졸을 사용해도 되고, 2-메르캅토벤조이미다졸을 사용해도 되고, 2-메르캅토벤조티아졸과 2-메르캅토벤조이미다졸을 병용해도 된다.
다른 양태로서, 표면 경화성의 관점에서, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트) 가 바람직하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 (F) 연쇄 이동제를 포함하는 경우, 그 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 0.01 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.025 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 질량% 이상, 특히 바람직하게는 1 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 5 질량% 이하, 보다 바람직하게는 4 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 3 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 0.01 ∼ 5 질량% 가 바람직하고, 0.025 ∼ 5 질량% 가 보다 바람직하고, 0.05 ∼ 4 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.1 ∼ 4 질량% 가 보다 더 바람직하고, 1 ∼ 3 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 표면 경화성이 높아지고, 발액성이 높아지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 원하는 패턴을 형성하기 쉬워지는 경향이 있다.
(F) 연쇄 이동제로서, 방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물과 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물을 병용할 때의 그 함유량으로는, 방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물 100 질량부에 대하여, 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물을 바람직하게는 10 질량부 이상, 보다 바람직하게는 50 질량부 이상, 더욱 바람직하게는 80 질량부 이상이며, 또, 바람직하게는 400 질량부 이하, 보다 바람직하게는 300 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 200 질량부 이하, 특히 바람직하게는 150 질량부 이하이다. 상기 상한과 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 10 ∼ 400 질량부가 바람직하고, 10 ∼ 300 질량부가 보다 바람직하고, 50 ∼ 200 질량부가 더욱 바람직하고, 80 ∼ 150 질량부가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 발잉크성이 높아지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도가 높아지는 경향이 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 (F) 연쇄 이동제 및 (D) 광중합 개시제를 포함하는 경우, 감광성 수지 조성물에 있어서의 (D) 광중합 개시제에 대한, (F) 연쇄 이동제의 배합비로는, (D) 광중합 개시제 100 질량부에 대하여, 1 질량부 이상이 바람직하고, 5 질량부 이상이 보다 바람직하고, 10 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 20 질량부 이상이 특히 바람직하며, 또, 500 질량부 이하가 바람직하고, 400 질량부 이하가 보다 바람직하고, 300 질량부 이하가 더욱 바람직하고, 200 질량부 이하가 보다 더 바람직하고, 150 질량부 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 10 ∼ 500 질량부가 바람직하고, 10 ∼ 400 질량부가 보다 바람직하고, 20 ∼ 300 질량부가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 200 질량부가 보다 더 바람직하고, 20 ∼ 150 질량부가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 표면 경화성이 높아지고, 발액성이 높아지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 원하는 패턴을 형성하기 쉬워지는 경향이 있다.
[1-1-7] (G) 발액제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, (A) 공중합체와는 별도로, 추가로 (G) 발액제를 함유해도 된다. (G) 발액제로는, 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지가 바람직하다. 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지를 함유함으로써, 얻어지는 격벽의 표면에 발잉크성을 부여할 수 있는 점에서, 얻어지는 격벽을 화소마다의 혼색을 방지하는 것으로 할 수 있는 것으로 생각된다.
가교기로는, 예를 들어, 에폭시기 또는 에틸렌성 불포화기를 들 수 있고, 발액제의 현상액으로의 유출 억제의 관점에서, 에틸렌성 불포화기가 바람직하다.
가교기를 갖는 발액제를 사용함으로써, 형성한 도포막을 노광할 때에 그 표면에서의 가교 반응을 가속시킬 수 있고, 발액제가 현상 처리로 유출되기 어려워지고, 그 결과, 얻어지는 격벽을 높은 발잉크성을 나타내는 것으로 할 수 있는 것으로 생각된다.
또, 불소 원자 함유 수지인 (G) 발액제가 격벽의 표면에 배향되어, 잉크의 번짐이나 혼색을 방지하는 기능을 하는 경향이 있다. 더욱 상세하게는, 불소 원자를 갖는 기가, 잉크를 튕겨, 잉크가 격벽을 넘어 인접하는 영역에 진입하는 것에 의한 잉크의 번짐이나 혼색을 방지하는 기능을 하는 경향이 있다.
가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지는, 퍼플루오로알킬기 및 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬 중 어느 일방 또는 양방을 갖는 것이 바람직하다. 퍼플루오로알킬기 및 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬 중 어느 일방 또는 양방을 가짐으로써, 불소 원자 함유 수지가 더욱 격벽의 표면에 배향되기 쉬워져, 보다 높은 발잉크성을 나타내고, 잉크의 번짐이나 혼색을 더욱 방지하는 경향이 있다.
퍼플루오로알킬기로는, 예를 들어, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로헥실기, 퍼플루오로옥틸기를 들 수 있다. 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬로는, 예를 들어, -CF2-O-, -(CF2)2-O-, -(CF2)3-O-, -CF2-C(CF3)O-, -C(CF3)-CF2-O- 및 이것들의 반복 단위를 갖는 2 가의 기를 들 수 있다.
가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지의 구체예로는, 예를 들어, 에폭시기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 아크릴 공중합 수지, 에폭시기 및 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬을 갖는 아크릴 공중합 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 아크릴 공중합 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬을 갖는 아크릴 공중합 수지, 에폭시기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지, 에폭시기 및 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬을 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬을 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 들 수 있다. 이것들 중에서도, 발잉크성의 관점에서, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 아크릴 공중합 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬을 갖는 아크릴 공중합 수지가 바람직하고, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬렌에테르 사슬을 갖는 아크릴 공중합 수지가 더욱 바람직하다.
이들 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지의 시판품으로는, DIC 사 제조의「메가팍 (등록 상표, 이하 동일) F116」,「메가팍 F120」,「메가팍 F142D」,「메가팍 F144D」,「메가팍 F150」,「메가팍 F160」,「메가팍 F171」,「메가팍 F172」,「메가팍 F173」,「메가팍 F177」,「메가팍 F178A」,「메가팍 F178K」,「메가팍 F179」,「메가팍 F183」,「메가팍 F184」,「메가팍 F191」,「메가팍 F812」,「메가팍 F815」,「메가팍 F824」,「메가팍 F833」,「메가팍 RS101」,「메가팍 RS102」「메가팍 RS105」,「메가팍 RS201」,「메가팍 RS202」,「메가팍 RS301」,「메가팍 RS303」,「메가팍 RS304」,「메가팍 RS401」,「메가팍 RS402」,「메가팍 RS501」,「메가팍 RS502」,「메가팍 RS-72-K」,「메가팍 RS-78」,「메가팍 RS-90」,「DEFENSA (등록 상표, 이하 동일) MCF300」,「DEFENSA MCF310」,「DEFENSA MCF312」,「DEFENSA MCF323」, 3M 재팬사 제조의「플루오라드 FC430」,「플루오라드 FC431」,「FC-4430」,「FC4432」, AGC 사 제조의「아사히가드 (등록 상표) AG710」,「서플론 (등록 상표, 이하 동일) S-382」,「서플론 SC-101」,「서플론 SC-102」,「서플론 SC-103」,「서플론 SC-104」,「서플론 SC-105」,「서플론 SC-106」등의 상품명으로 시판되고 있는 함불소 유기 화합물을 사용할 수 있다.
이것들 중에서도, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬렌기를 갖는 아크릴 공중합 수지로서,「메가팍 RS-72-K」,「메가팍 RS-78」,「메가팍 RS-90」을 바람직하게 사용할 수 있다.
가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지 중의 불소 원자 함유 비율은 특별히 제한되지 않지만, 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지 (100 질량%) 중 5 질량% 이상이 바람직하고, 10 질량% 이상이 보다 바람직하고, 20 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 25 질량% 이상이 보다 더 바람직하다. 또, 50 질량% 이하가 바람직하고, 35 질량% 이하가 보다 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 5 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 35 질량% 가 더욱 바람직하고, 25 ∼ 35 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 화소부로의 유출을 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 높은 접촉각을 나타내는 경향이 있다.
가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지의 분자량은 특별히 제한되지 않으며, 저분자량의 화합물이어도 되고, 고분자량체여도 된다. 고분자량체의 쪽이, 포스트베이크에 의한 유동성이 억제되고, 격벽으로부터의 유출을 억제할 수 있기 때문에 바람직하다. 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지 고분자량체인 경우, 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지의 수평균 분자량은, 100 이상이 바람직하고, 500 이상이 보다 바람직하며, 또, 100000 이하가 바람직하고, 10000 이하가 보다 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 100 ∼ 100000 이 바람직하고, 500 ∼ 10000 이 보다 바람직하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 (G) 발액제를 함유하는 경우, 본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서의 (G) 발액제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에 바람직하게는 0.01 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.5 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 5 질량% 이하, 보다 바람직하게는 3 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 2 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.01 ∼ 5 질량% 가 바람직하고, 0.1 ∼ 3 질량% 가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 2 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 발잉크성이 향상되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 격벽 형성 후에 잉크를 화소부에 도포할 때에 균일한 도막이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 (A) 공중합체와는 별도로, 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지를 함유하는 경우, 본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서의 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에 바람직하게는 0.01 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.5 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 5 질량% 이하, 보다 바람직하게는 3 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 2 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.01 ∼ 5 질량% 가 바람직하고, 0.1 ∼ 3 질량% 가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 2 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 발잉크성이 향상되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 격벽 형성 후에 잉크를 화소부에 도포할 때에 균일한 도막이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있다.
[1-1-8] 도포성 향상제, 현상 개량제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 도포성이나 현상 용해성을 향상시키기 위해 도포성 향상제나 현상 개량제를 함유해도 된다.
도포성 향상제 혹은 현상 개량제로는, 예를 들어, 공지된 계면 활성제를 사용할 수 있다.
계면 활성제는, 감광성 수지 조성물의 도포액으로서의 도포성, 및 도포막의 현상성의 향상 등을 목적으로 하여 사용할 수 있고, 그 중에서도 불소계 계면 활성제 또는 실리콘계 계면 활성제가 바람직하다.
특히, 현상시, 미노광부로부터 감광성 수지 조성물의 잔류물을 제거하는 작용이 있고, 또, 젖음성을 발현하는 기능을 갖는 점에서, 실리콘계 계면 활성제가 바람직하고, 폴리에테르 변성 실리콘계 계면 활성제가 더욱 바람직하다.
불소계 계면 활성제로는, 말단, 주사슬 및 측사슬 중 적어도 어느 부위에 플루오로알킬 또는 플루오로알킬렌기를 갖는 화합물이 바람직하다. 구체적으로는, 1,1,2,2-테트라플루오로옥틸(1,1,2,2-테트라플루오로프로필)에테르, 1,1,2,2-테트라플루오로옥틸헥실에테르, 옥타에틸렌글리콜디(1,1,2,2-테트라플루오로부틸)에테르, 헥사에틸렌글리콜디(1,1,2,2,3,3-헥사플루오로펜틸)에테르, 옥타프로필렌글리콜디(1,1,2,2-테트라플루오로부틸)에테르, 헥사프로필렌글리콜디(1,1,2,2,3,3-헥사플루오로펜틸)에테르, 퍼플루오로도데실술폰산나트륨, 1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-데카플루오로도데칸, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로데칸 등을 들 수 있다. 이것들의 시판품으로는, 예를 들어, BM Chemie 사 제조의「BM-1000」,「BM-1100」, DIC 사 제조의「메가팍 F470」,「메가팍 F475」,「메가팍 F554」,「메가팍 F559」, 3M 재팬사 제조의「FC430」, 네오스사 제조의「DFX-18」을 들 수 있다.
실리콘계 계면 활성제로는, 예를 들어, 도레이·다우코닝사 제조의「DC3PA」,「SH7PA」,「DC11PA」,「SH21PA」,「SH28PA」,「SH29PA」,「8032Additive」,「SH8400」, 빅 케미사 제조의「BYK (등록 상표, 이하 동일) 323」,「BYK330」을 들 수 있다.
계면 활성제로서, 불소계 계면 활성제 및 실리콘계 계면 활성제 이외의 그 밖의 계면 활성제를 포함하고 있어도 되고, 그 밖의 계면 활성제로는, 예를 들어, 논이온성, 아니온성, 카티온성, 양쪽성 계면 활성제를 들 수 있다.
논이온성 계면 활성제로는, 예를 들어, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르류, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르류, 글리세린 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌글리세린 지방산 에스테르류, 펜타에리트리트 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌펜타에리트리트 지방산 에스테르류, 소르비탄 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산 에스테르류, 소르비트 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌소르비트 지방산 에스테르류를 들 수 있다. 이것들의 시판품으로는, 예를 들어, 카오사 제조의「에멀겐 (등록 상표. 이하 동일.) 104P」,「에멀겐 A60」등의 폴리옥시에틸렌계 계면 활성제 등을 들 수 있다.
아니온성 계면 활성제로는, 예를 들어, 알킬술폰산염류, 알킬벤젠술폰산염류, 알킬나프탈렌술폰산염류, 폴리옥시에틸렌알킬에테르술폰산염류, 알킬황산염류, 알킬황산에스테르염류, 고급 알코올황산에스테르염류, 지방족 알코올황산에스테르염류, 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산염류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르황산염류, 알킬인산에스테르염류, 폴리옥시에틸렌알킬에테르인산염류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르인산염류, 특수 고분자계 계면 활성제를 들 수 있다. 그 중에서도, 특수 고분자계 계면 활성제가 바람직하고, 특수 폴리카르복실산형 고분자계 계면 활성제가 더욱 바람직하다. 아니온성 계면 활성제로는, 예를 들어, 알킬황산에스테르염류에서는, 카오사 제조의「에말 (등록 상표) 10」등, 알킬나프탈렌술폰산염류에서는 카오사 제조의「펠렉스 (등록 상표) NB-L」등, 특수 고분자계 계면 활성제에서는 카오사 제조의「호모게놀 (등록 상표, 이하 동일) L-18」,「호모게놀 L-100」등을 들 수 있다.
카티온성 계면 활성제로는, 예를 들어, 제 4 급 암모늄염류, 이미다졸린 유도체류, 알킬아민염류를 들 수 있다. 양쪽성 계면 활성제로는, 예를 들어, 베타인형 화합물류, 이미다졸륨염류, 이미다졸린류, 아미노산류를 들 수 있다. 이것들 중, 제 4 급 암모늄염류가 바람직하고, 스테아릴트리메틸암모늄염류가 더욱 바람직하다. 카티온성 계면 활성제 또는 양쪽성 계면 활성제로는, 예를 들어, 알킬아민염류로는, 카오사 제조의「아세타민 (등록 상표) 24」를 들 수 있고, 제 4 급 암모늄염류로는, 카오사 제조의「쿼타민 (등록 상표, 이하 동일) 24P」,「쿼타민 86W」를 들 수 있다.
계면 활성제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 예를 들어, 실리콘계 계면 활성제/불소계 계면 활성제의 조합, 실리콘계 계면 활성제/특수 고분자계 계면 활성제의 조합, 불소계 계면 활성제/특수 고분자계 계면 활성제의 조합을 들 수 있다. 그 중에서도, 실리콘계 계면 활성제/불소계 계면 활성제의 조합이 바람직하다. 이 실리콘계 계면 활성제/불소계 계면 활성제의 조합에서는, 예를 들어, 빅 케미사 제조의「BYK-300」또는「BYK-330」/네오스사 제조의「DFX-18」의 조합, 빅 케미사 제조의「BYK-300」또는「BYK-330」/AGC 세이미 케미컬사 제조의「S-393」의 조합, 빅 케미사 제조의「BYK-300」또는「BYK-330」/DIC 사 제조의「F-554」또는「F-559」의 조합, 신에츠 실리콘사 제조의「KP340」/DIC 사 제조의「F-478」또는「F-475」의 조합, 도레이·다우코닝사 제조의「SH7PA」/다이킨사 제조의「DS-401」의 조합, NUC 사 제조의「L-77」/3M 재팬사 제조의「FC4430」의 조합을 들 수 있다.
현상 개량제로서, 예를 들어, 유기 카르복실산 또는 그 무수물을 포함하는 공지된 현상 개량제를 사용할 수도 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 도포성 향상제나 현상 개량제를 포함하는 경우, 도포성 향상제나 현상 개량제의 함유량은, 감도의 관점에서, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 각각 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 각각 10 질량% 이하이다.
[1-1-9] 자외선 흡수제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 자외선 흡수제를 함유해도 된다. 자외선 흡수제는, 노광에 사용되는 광원의 특정한 파장을 자외선 흡수제에 의해 흡수시킴으로써, 광경화 분포를 제어할 목적으로 첨가되는 것이다. 자외선 흡수제를 포함함으로써, 현상 후의 테이퍼각 형상을 개선하거나, 현상 후에 비노광부에 남는 잔류물을 저감시키거나 하는 등의 효과가 얻어지는 경향이 있다. 자외선 흡수제로는, 광중합 개시제에 의한 광 흡수를 저해한다는 관점에서, 예를 들어, 파장 250 ㎚ 에서 400 ㎚ 의 사이에 흡수 극대를 갖는 화합물을 사용할 수 있다.
자외선 흡수제로는, 예를 들어, 벤조트리아졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 벤조페논 화합물, 벤조에이트 화합물, 신남산 유도체, 나프탈렌 유도체, 안트라센 및 그 유도체, 디나프탈렌 화합물, 페난트롤린 화합물, 염료를 들 수 있다.
이들 자외선 흡수제는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
벤조트리아졸계 화합물로는, 예를 들어, 2-(5 메틸-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-5-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 옥틸-3[3-tert-부틸-4-하이드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트와 2-에틸헥실-3-[3-tert-부틸-4-하이드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트의 혼합물, 2-[2-하이드록시-3,5-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-(3-t 부틸-5-메틸-2-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3,5-디-t-아밀-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산헵틸, 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산옥틸, 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산노닐, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 테이퍼각과 노광 감도의 관점에서, 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산헵틸, 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산옥틸, 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산노닐, 이것들의 혼합물이 바람직하다.
시판되고 있는 벤조트리아졸계 화합물로는, 예를 들어, 스미소브 (등록 상표, 이하 동일) 200, 스미소브 250, 스미소브 300, 스미소브 340, 스미소브 350 (스미토모 화학사 제조), JF77, JF78, JF79, JF80, JF83 (죠호쿠 화학 공업사 제조), TINUVIN (등록 상표, 이하 동일) PS, TINUVIN99-2, TINUVIN109, TINUVIN384-2, TINUVIN326, TINUVIN900, TINUVIN928, TINUVIN1130 (BASF 사 제조), EVERSORB70, EVERSORB71, EVERSORB72, EVERSORB73, EVERSORB74, EVERSORB75, EVERSORB76, EVERSORB234, EVERSORB77, EVERSORB78, EVERSORB80, EVERSORB81 (대만 영광 화학 공업사 제조), 토미소브 (등록 상표, 이하 동일) 100, 토미소브 600 (API 코포레이션사 제조), SEESORB (등록 상표, 이하 동일) 701, SEESORB702, SEESORB703, SEESORB704, SEESORB706, SEESORB707, SEESORB709 (시프로 화성사 제조), RUVA-93 (오오츠카 화학사 제조) 을 들 수 있다.
트리아진계 화합물로는, 예를 들어, 2-[4,6-디(2,4-자일릴)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-옥틸옥시페놀, 2-[4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-[3-(도데실옥시)-2-하이드록시프로폭시]페놀, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진과 (2-에틸헥실)글리시드산에스테르의 반응 생성물, 2,4-비스[2-하이드록시-4-부톡시페닐]-6-(2,4-디부톡시페닐)-1,3,5-트리아진을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 테이퍼각과 노광 감도의 관점에서, 하이드록시페닐트리아진 화합물이 바람직하다.
시판되고 있는 트리아진계 화합물로는 예를 들어, TINUVIN400, TINUVIN405, TINUVIN460, TINUVIN477, TINUVIN479 (BASF 사 제조) 등을 들 수 있다.
그 밖의 자외선 흡수제로는, 예를 들어, 스미소브 130 (스미토모 화학사 제조), EVERSORB10, EVERSORB11, EVERSORB12 (대만 영광 화학 공업사 제조), 토미소브 800 (API 코포레이션사 제조), SEESORB100, SEESORB101, SEESORB101S, SEESORB102, SEESORB103, SEESORB105, SEESORB106, SEESORB107, SEESORB151 (시프로 화성사 제조) 등의 벤조페논 화합물 ; 스미소브 400 (스미토모 화학사 제조), 살리실산페닐 등의 벤조에이트 화합물 ; 신남산 2-에틸헥실, 파라메톡시신남산 2-에틸헥실, 메톡시신남산이소프로필, 메톡시신남산이소아밀 등의 신남산 유도체 ; α-나프톨, β-나프톨, α-나프톨메틸에테르, α-나프톨에틸에테르, 1,2-디하이드록시나프탈렌, 1,3-디하이드록시나프탈렌, 1,4-디하이드록시나프탈렌, 1,5-디하이드록시나프탈렌, 1,6-디하이드록시나프탈렌, 1,7-디하이드록시나프탈렌, 1,8-디하이드록시나프탈렌, 2,3-디하이드록시나프탈렌, 2,6-디하이드록시나프탈렌, 2,7-디하이드록시나프탈렌 등의 나프탈렌 유도체 ; 안트라센, 9,10-디하이드록시안트라센 등의 안트라센 및 그 유도체 ; 아조계 염료, 벤조페논계 염료, 아미노케톤계 염료, 퀴놀린계 염료, 안트라퀴논계 염료, 디페닐시아노아크릴레이트계 염료, 트리아진계 염료, p-아미노벤조산계 염료 등의 염료 ; 를 들 수 있다. 이것들 중에서도, 노광 감도의 관점에서, 신남산 유도체, 나프탈렌 유도체를 사용하는 것이 바람직하고, 신남산 유도체를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 자외선 흡수제를 포함하는 경우, 감광성 수지 조성물에 있어서의 자외선 흡수제의 함유량은, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 0.01 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 0.5 질량% 이상, 특히 바람직하게는 1 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 15 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 5 질량% 이하, 특히 바람직하게는 3 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 0.01 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 0.05 ∼ 15 질량% 가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.5 ∼ 5 질량% 가 보다 더 바람직하고, 1 ∼ 3 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 테이퍼각이 커지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 고감도가 되는 경향이 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 (D) 광중합 개시제 및 자외선 흡수제를 포함하는 경우, (D) 광중합 개시제에 대한 자외선 흡수제의 배합비로는, (D) 광중합 개시제 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 질량부 이상, 보다 바람직하게는 10 질량부 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량부 이상, 보다 더 바람직하게는 50 질량부 이상, 특히 바람직하게는 80 질량부 이상이며, 또, 바람직하게는 500 질량부 이하, 보다 바람직하게는 300 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 200 질량부 이하, 특히 바람직하게는 150 질량부 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 10 ∼ 500 질량부가 바람직하고, 30 ∼ 300 질량부가 보다 바람직하고, 50 ∼ 200 질량부가 더욱 바람직하고, 80 ∼ 150 질량부가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 테이퍼각이 커지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 고감도가 되는 경향이 있다.
[1-1-10] 중합 금지제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 중합 금지제를 함유해도 된다. 중합 금지제를 함유함으로써 라디칼 중합이 저해되는 점에서, 얻어지는 격벽의 테이퍼각을 크게 할 수 있는 것으로 생각된다.
중합 금지제로는, 예를 들어, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논, 메톡시페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸 (BHT) 을 들 수 있다. 이것들 중에서도 중합 금지 능력의 관점에서, 메틸하이드로퀴논, 메톡시페놀이 바람직하고, 메틸하이드로퀴논이 보다 바람직하다.
중합 금지제는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 통상적으로, (B) 알칼리 가용성 수지를 제조할 때에, 수지 중에 중합 금지제가 포함되는 경우가 있으며, 그것을 본 발명의 감광성 수지 조성물에 포함되는 중합 금지제로서 사용해도 되고, 수지 중에 포함되는 중합 금지제 외에, 그것과 동일하거나, 또는 상이한 중합 금지제를 감광성 수지 조성물의 제조시에 첨가해도 된다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 중합 금지제를 포함하는 경우, 감광성 수지 조성물에 있어서의 중합 금지제의 함유량은, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 0.0005 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.001 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.01 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 0.3 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.2 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.1 질량% 이하이다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 0.0005 ∼ 0.3 질량% 가 바람직하고, 0.001 ∼ 0.2 질량% 가 보다 바람직하고, 0.01 ∼ 0.1 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 테이퍼각을 높게 할 수 있는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 고감도를 유지할 수 있는 경향이 있다.
[1-1-11] 실란 커플링제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해, 실란 커플링제를 함유해도 된다. 실란 커플링제로는, 예를 들어, 에폭시계, 메타크릴 계, 아미노계, 이미다졸계의 실란 커플링제를 사용할 수 있다. 밀착성 향상의 관점에서, 특히 에폭시계, 이미다졸계의 실란 커플링제가 바람직하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 실란 커플링제를 포함하는 경우, 실란 커플링제의 함유량은, 밀착성의 관점에서, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에, 바람직하게는 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 15 질량% 이하이다.
[1-1-12] 인산계 밀착 향상제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해, 인산계 밀착 향상제를 함유해도 된다. 인산계 밀착 향상제로는, (메트)아크릴로일옥시기 함유 포스페이트류가 바람직하고, 그 중에서도 하기 일반식 (Va), (Vb), (Vc) 로 나타내는 것이 바람직하다.
[화학식 38]
상기 일반식 (Va), (Vb), (Vc) 에 있어서, R8 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, r 및 r' 는 1 ∼ 10 의 정수, s 는 1, 2 또는 3 이다.
본 발명의 감광성 수지 조성물이 인산계 밀착 향상제를 함유하는 경우, 그 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 (100 질량%) 중에 0.1 질량% 이상이 바람직하고, 0.2 질량% 이상이 보다 바람직하고, 0.3 질량% 이상이 더욱 바람직하며, 또, 5 질량% 이하가 바람직하고, 3 질량% 이하가 보다 바람직하고, 1 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 0.1 ∼ 5 질량% 가 바람직하고, 0.2 ∼ 3 질량% 가 보다 바람직하고, 0.3 ∼ 1 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 기판과의 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 표면 경화성이 향상되는 경향이 있다.
[1-1-13] 용제
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 통상적으로 용제를 함유하고, 전술한 각 성분을 용제에 용해 또는 분산시킨 상태에서 사용된다. 용제로는, 특별히 제한은 없지만, 예를 들어, 이하에 기재하는 유기 용제를 들 수 있다.
에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 메톡시메틸펜탄올, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르 등의 글리콜모노알킬에테르류 ; 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 글리콜디알킬에테르류 ; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시-1-부틸아세테이트 등의 글리콜알킬에테르아세테이트류 ; 에틸렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류 ; 시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류 ; 아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르 등의 에테르류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논 등의 케톤류 ; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올 등의 1 가 또는 다가 알코올류 ; n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸 등의 지방족 탄화수소류 ; 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실 등의 지환식 탄화수소류 ; 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘 등의 방향족 탄화수소류 ; 아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산아밀, 메틸이소부틸레이트, 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 부틸스테아레이트, 에틸벤조에이트, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤 등의 사슬형 또는 고리형 에스테르류 ; 3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산 등의 알콕시카르복실산류 ; 부틸클로라이드, 아밀클로라이드 등의 할로겐화탄화수소류 ; 메톡시메틸펜타논 등의 에테르케톤류 ; 아세토니트릴, 벤조니트릴 등의 니트릴류 : 테트라하이드로푸란, 디메틸테트라하이드로푸란, 디메톡시테트라하이드로푸란 등의 테트라하이드로푸란류 등이다.
상기에 해당하는 시판되는 용제로는, 예를 들어, 미네랄 스피릿, 바르솔 #2, 아프코 #18 솔벤트, 아프코 시너, 소칼 솔벤트 No.1 및 No.2, 솔벳소 #150, 셸 TS28 솔벤트, 카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 디글라임 (모두 상품명) 을 들 수 있다.
용제는, 감광성 수지 조성물 중의 각 성분을 용해 또는 분산시킬 수 있고, 본 발명의 감광성 수지 조성물의 사용 방법에 따라 선택되지만, 도포성의 관점에서, 대기압하 (1013.25 hPa) 에 있어서의 비점이 60 ∼ 280 ℃ 인 것이 바람직하고, 70 ∼ 260 ℃ 인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시-1-부탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시-1-부틸아세테이트가 바람직하다.
용제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
용제는, 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분이, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 18 질량% 이상, 또, 바람직하게는 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 50 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 40 질량% 이하, 특히 바람직하게는 30 질량% 이하가 되도록 사용되는 것이 바람직하다. 상기 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있으며, 예를 들어, 10 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 40 질량% 가 더욱 바람직하고, 18 ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 높은 막두께에 대해서도 도막이 얻어지는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 적당한 도포 균일성이 얻어지는 경향이 있다.
[1-2] 감광성 수지 조성물의 조제 방법
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 상기 각 성분을 교반기로 혼합함으로써 조제된다. 또한, 조제된 감광성 수지 조성물이 균일한 것이 되도록, 예를 들어, 멤브레인 필터를 사용하여 여과해도 된다.
[2] 경화물, 격벽 및 그 형성 방법
본 발명의 감광성 수지 조성물은 격벽, 특히 유기 전계 발광 소자의 유기층 (발광부) 을 구획하기 위한 격벽을 형성하기 위해 바람직하게 사용할 수 있다. 본 발명의 격벽은, 본 발명의 감광성 수지 조성물을 경화시킨 경화물, 혹은, 본 발명의 감광성 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물로 이루어진다.
본 발명의 감광성 수지 조성물을 사용하여 격벽을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 격벽의 형성 방법으로는, 예를 들어, 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포하여, 감광성 수지 조성물층을 형성하는 도포 공정과, 감광성 수지 조성물층을 노광하는 노광 공정을 포함하는 방법을 들 수 있다. 이와 같은 격벽의 형성 방법의 구체예로는, 포토리소그래피법을 들 수 있다.
포토리소그래피법에서는, 감광성 수지 조성물을, 기판의 격벽이 형성되는 영역 전체면에 도포하여 감광성 수지 조성물층을 형성한다. 형성된 감광성 수지 조성물층을, 소정의 격벽의 패턴에 따라 노광한 후, 노광된 감광성 수지 조성물층을 현상하여, 기판 상에 격벽을 형성한다.
격벽의 형성에 사용하는 기판은 특별히 한정되지 않고, 격벽이 형성된 기판을 사용하여 제조되는 유기 전계 발광 소자의 종류에 맞춰 적절히 선택된다. 바람직한 기판의 재료로는, 유리나, 각종 수지 재료를 들 수 있다. 수지 재료의 구체예로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 ; 폴리에틸렌, 및 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 ; 폴리카보네이트 ; 폴리(메트)메타아크릴 수지 ; 폴리술폰 ; 폴리이미드를 들 수 있다.
이들 기판의 재료 중에서는, 내열성이 우수한 점에서 유리, 및 폴리이미드가 바람직하다. 또, 제조되는 유기 전계 발광 소자의 종류에 따라, 격벽이 형성되는 기판의 표면에는, 미리 ITO 나 ZnO 등의 투명 전극층을 형성해 둬도 된다.
포토리소그래피법에 있어서의, 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포하는 도포 공정에서는, 격벽이 형성되어야 할 기판 상에, 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나, 스피너 (회전식 도포 장치), 커튼 플로 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 사용하여 감광성 수지 조성물을 도포하고, 필요에 따라, 건조에 의해 용매를 제거하여, 감광성 수지 조성물층을 형성한다.
도포량은 용도에 따라 상이한데, 예를 들어 격벽의 경우에는, 건조 막두께로서, 바람직하게는 0.5 ㎛ ∼ 30 ㎛, 보다 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 15 ㎛, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 5 ㎛ 가 되도록 도포된다. 건조 막두께 혹은 최종적으로 형성된 격벽의 높이가, 기판 전역에 걸쳐서 균일한 것이 중요하다. 편차가 작으면, 표시 장치에 발생하는 불균일 결함을 억제할 수 있다.
기판 상에 감광성 수지 조성물을 공급한 후의 건조는, 핫 플레이트, IR 오븐, 컨벡션 오븐을 사용한 건조 방법에 의한 것이 바람직하다. 온도를 높이지 않고, 감압 챔버 내에서 건조를 실시하는, 감압 건조법을 조합해도 된다.
건조의 조건은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 건조 시간은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라, 바람직하게는 40 ℃ ∼ 130 ℃ 의 온도에서 15 초 ∼ 5 분간의 범위에서 선택되고, 보다 바람직하게는 50 ℃ ∼ 110 ℃ 의 온도에서 30 초 ∼ 3 분간의 범위에서 선택된다.
이어서, 노광 공정에서는, 네거티브형의 마스크를 이용하여, 감광성 수지 조성물에 자외선, 엑시머 레이저광 등의 활성 에너지선을 조사하여, 감광성 수지 조성물층을 격벽의 패턴에 따라 부분적으로 노광한다. 노광에는, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 카본 아크등 등의 자외선을 발하는 광원을 사용할 수 있다. 노광량은 감광성 수지 조성물의 조성에 따라서도 상이한데, 예를 들어 10 ∼ 400 mJ/㎠ 정도가 바람직하다.
이어서, 현상 공정에서는, 격벽의 패턴에 따라 노광된 감광성 수지 조성물층을 현상액으로 현상함으로써 격벽 패턴을 형성한다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않고, 침지법, 스프레이법 등을 사용할 수 있다. 현상액의 구체예로는, 디메틸벤질아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기계의 것이나, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4 급 암모늄염 등의 수용액을 들 수 있다. 또, 현상액에는, 소포제나 계면 활성제를 첨가할 수도 있다.
그 후, 현상 후의 격벽 패턴에 포스트베이크 (열경화 처리) 를 실시하여 가열 경화시킴으로써 격벽이 얻어진다. 포스트베이크는, 100 ∼ 250 ℃, 15 ∼ 60 분간으로 실시되는 것이 바람직하다.
격벽 형성 후에 미노광부의 세정을 목적으로 한 세정 처리를 실시해도 된다. 세정 방법은, 특별히 한정되지 않고, 플라즈마 조사, 엑시머광 조사, UV 조사를 들 수 있다. 엑시머광 조사나 UV 조사에서는, 광 조사에 의해 활성 산소가 화소부에 부착된 유기물을 분해하여 제거할 수 있다.
[3] 유기 전계 발광 소자
본 발명의 유기 전계 발광 소자는, 본 발명의 격벽을 구비한다.
이상 설명한 방법에 의해 제조된 격벽 패턴을 구비하는 기판을 사용하여, 다양한 유기 전계 발광 소자가 제조된다. 유기 전계 발광 소자를 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는, 상기 방법에 의해 기판 상에 격벽의 패턴을 형성한 후, 기판 상의 격벽에 의해 둘러싸인 영역 내에 잉크를 주입하여 화소 등의 유기층을 형성함으로써, 유기 전계 발광 소자가 제조된다.
유기 전계 발광 소자의 타입으로는, 보텀 이미션형이나 톱 이미션형을 들 수 있다.
보텀 이미션형에서는, 예를 들어, 투명 전극을 적층한 유리 기판 상에 격벽을 형성하고, 격벽으로 둘러싸인 개구부에 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 금속 전극층을 적층하여 제조된다. 톱 이미션형에서는, 예를 들어, 금속 전극층을 적층한 유리 기판 상에 격벽을 형성하고, 격벽으로 둘러싸인 개구부에 전자 수송층, 발광층, 정공 수송층, 투명 전극층을 적층하여 제조된다.
격벽이 완만한 경사부 형상인 경우, 유기층 형성용의 잉크가 격벽의 아래쪽 부분에서 튕겨지기 때문에, 격벽에 의해 둘러싸인 영역 내가 유기층 형성용의 잉크에 의해 충분히 피복되지 않는 경우가 있다. 그에 대하여, 완만한 경사부가 없는 양호한 형상으로 함으로써, 격벽에 의해 둘러싸인 영역 내를 유기층 형성용의 잉크에 의해 충분히 피복할 수 있다. 이로써, 예를 들어, 유기 EL 표시 소자에 있어서의 헐레이션의 문제를 해소할 수 있다.
유기층 형성용의 잉크를 형성할 때에 사용되는 용매로는, 물, 유기 용제, 및 이것들의 혼합 용제를 사용할 수 있다. 유기 용제는, 잉크의 주입 후에 형성된 피막으로부터 제거 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 유기 용제로는, 예를 들어, 톨루엔, 자일렌, 아니솔, 메시틸렌, 테트랄린, 시클로헥실벤젠, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 3-페녹시톨루엔을 들 수 있다. 또, 잉크에는, 계면 활성제, 산화 방지제, 점도 조정제, 자외선 흡수제 등을 첨가할 수 있다.
격벽에 의해 둘러싸인 영역 내에 잉크를 주입하는 방법으로는, 소량의 잉크를 소정의 지점에 용이하게 주입 가능한 점에서, 잉크젯법이 바람직하다. 유기층의 형성에 사용되는 잉크는, 제조되는 유기 전계 발광 소자의 종류에 따라 적절히 선택된다. 잉크를 잉크젯법에 의해 주입하는 경우, 잉크의 점도는 잉크를 잉크젯 헤드로부터 양호하게 토출할 수 있는 한 특별히 한정되지 않지만, 4 ∼ 20 mPa·s 가 바람직하고, 5 ∼ 10 mPa·s 가 보다 바람직하다. 잉크의 점도는, 잉크 중의 고형분 함유량의 조정, 용매의 변경, 점도 조정제의 첨가 등에 의해 조정할 수 있다.
또한, 발광층으로는, 일본 공개특허공보 2009-146691호나 일본 특허공보 제5734681호에 기재되어 있는 바와 같은 유기 전계 발광층을 들 수 있다. 또, 일본 특허공보 제5653387호나 일본 특허공보 제5653101호에 기재되어 있는 바와 같은 양자 도트를 사용해도 된다.
[4] 발광성 나노 결정 입자를 포함하는 컬러 필터
본 발명에 관련된 발광성 나노 결정 입자를 포함하는 컬러 필터는, 본 발명의 격벽을 구비하고 있으면 특별히 한정되지 않고, 격벽으로 구획된 영역에 화소를 형성한 것을 들 수 있다.
도 2 는, 본 발명의 격벽을 구비하는 컬러 필터의 일례의 모식 단면도이다. 도 2 에 나타내는 바와 같이, 컬러 필터 (100) 는, 기판 (10) 과, 기판 상에 형성된 격벽 (20), 적색 화소 (30), 녹색 화소 (40), 및 청색 화소 (50) 를 구비하고 있다. 적색 화소 (30), 녹색 화소 (40), 및 청색 화소 (50) 는, 이 순서로 반복되도록 격자상으로 배열되어 있다. 격벽 (20) 은, 이들 이웃하는 화소의 사이에 형성되어 있다. 바꿔 말하면, 이들 이웃하는 화소끼리는, 격벽 (20) 에 의해 구획되어 있다.
적색 화소 (30) 에는 적색 발광성의 나노 결정 입자 (12) 가 포함되고, 그리고 녹색 화소 (40) 에는 녹색 발광성의 나노 결정 입자 (11) 가 포함된다. 청색 화소 (50) 는, 광원으로부터의 청색광을 투과시키는 화소이다.
이들 나노 결정 입자는, 여기광을 흡수하여 형광 또는 인광을 발광하는 나노 사이즈의 결정체이며, 예를 들어, 투과형 전자 현미경 또는 주사형 전자 현미경에 의해 측정되는 최대 입자경이 100 ㎚ 이하인 결정체이다.
발광성 나노 결정 입자는, 소정 파장의 광을 흡수함으로써, 흡수한 파장과는 상이한 파장의 광 (형광 또는 인광) 을 발할 수 있는 것이며, 예를 들어, 적색 발광성의 나노 결정 입자 (12) 는, 605 ∼ 665 ㎚ 의 범위에 발광 피크 파장을 갖는 광 (적색광) 을 발하는 것이고, 녹색 발광성의 나노 결정 입자 (11) 는, 500 ∼ 560 ㎚ 의 범위에 발광 피크 파장을 갖는 광 (녹색광) 을 발하는 것이다.
발광성 나노 결정 입자가 발하는 광의 파장 (발광색) 은, 우물형 포텐셜 모델의 슈뢰딩거 파동 방정식의 해에 따르면, 발광성 나노 결정 입자의 사이즈 (예를 들어 입자경) 에 의존하지만, 발광성 나노 결정 입자가 갖는 에너지 갭에도 의존한다. 그 때문에, 사용하는 발광성 나노 결정 입자의 구성 재료 및 사이즈를 변경함으로써, 발광색을 선택할 수 있다. 발광성 나노 결정 입자로는, 양자 도트 등을 들 수 있다.
발광성 나노 결정 입자를 포함하는 컬러 필터의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 경화물로 구성되는 격벽을 구비한 기판을 준비하고, 격벽으로 구획된 영역에 발광성 나노 결정 입자를 포함하는 층을 형성하는 방법을 들 수 있다. 발광성 나노 결정 입자를 포함하는 층을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 발광성 나노 결정 입자를 포함하는 잉크 조성물을, 잉크젯 방식에 의해 선택적으로 부착시키고, 활성 에너지선의 조사 또는 가열에 의해 잉크 조성물을 경화시키는 방법에 의해 제조할 수 있다.
[5] 화상 표시 장치
본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 격벽을 구비한다.
본 발명의 화상 표시 장치로서, 예를 들어, 본 발명의 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 유기 전계 발광 소자를 포함하는 것이면, 화상 표시 장치의 형식이나 구조에 대해서는 특별히 제한은 없으며, 예를 들어 액티브 구동형 유기 전계 발광 소자를 사용하여 통상적인 방법에 따라 조립할 수 있다. 예를 들어,「유기 EL 디스플레이」(오움사, 2004년 8월 20일 발행, 토키토 시즈오, 아다치 치하야, 무라타 히데유키 저) 에 기재되어 있는 바와 같은 방법으로, 본 발명의 화상 표시 장치를 형성할 수 있다. 예를 들어, 백색광을 발광하는 유기 전계 발광 소자와 컬러 필터를 조합하여 화상 표시시켜도 되고, RGB 등의 발광색이 상이한 유기 전계 발광 소자를 조합하여 화상 표시시켜도 된다.
또, 본 발명의 화상 표시 장치로서, 예를 들어, 본 발명에 관련된 발광성 나노 결정 입자를 포함하는 컬러 필터를 구비하는 화상 표시 장치를 들 수 있다.
화상 표시 장치의 종류로는, 액정 표시 장치나, 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치 등을 들 수 있다. 액정 표시 장치의 경우, 청색 LED 를 구비한 광원과, 광원으로부터 발하여진 청색광을 화소부마다 제어하는 전극을 구비한 액정층을 포함하는 것을 들 수 있다.
한편으로, 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치에서는, 상기 컬러 필터의 각 화소부에 대응하는 위치에 청색 발광의 유기 전계 발광 소자를 배치한 것을 들 수 있다. 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2019-87746호에 기재된 방식을 들 수 있다.
실시예
이하, 본 발명의 감광성 수지 조성물에 대해, 구체적인 실시예를 들어 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 감광성 수지 조성물의 구성 성분은 다음과 같다.
<알칼리 가용성 수지-1>
디시클로펜타닐메타크릴레이트/스티렌/글리시딜메타크릴레이트 (몰비 : 0.30/0.10/0.60) 를 구성 모노머로 하는 공중합 수지에, 아크릴산을 상기 글리시딜메타크릴레이트에 대하여 등량 부가 반응시키고, 추가로 무수 테트라하이드로프탈산을 상기 공중합 수지 1 몰에 대하여 0.39 몰이 되도록 부가 반응시킨, 알칼리 가용성의 아크릴 공중합 수지. GPC 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 9000, 산가는 80 mgKOH/g, 이중 결합 당량은 470 g/mol 이었다.
<알칼리 가용성 수지-2>
디시클로펜타닐메타크릴레이트/스티렌/글리시딜메타크릴레이트 (몰비 : 0.02/0.05/0.93) 를 구성 모노머로 하는 공중합 수지에, 아크릴산을 상기 글리시딜메타크릴레이트와 등량 부가 반응시키고, 추가로 무수 테트라하이드로프탈산을 상기 공중합 수지 1 몰에 대하여 0.10 몰이 되도록 부가시킨, 알칼리 가용성의 아크릴 공중합 수지. GPC 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 7700, 산가는 28.5 mgKOH/g, 이중 결합 당량은 260 g/mol 이었다.
<알칼리 가용성 수지-3>
일본 화약사 제조의「ZCR-1642H」(중량 평균 분자량 Mw = 6500, 산가 = 98 mgKOH/g). 하기 식 (C2) 로 나타내는 부분 구조를 갖는다.
[화학식 39]
식 (C2) 중, * 는 결합손을 나타낸다.
<분산제-1>
빅 케미사 제조의 BYK-LPN21116
<용제-1>
PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트
<용제-2>
MB : 3-메톡시-1-부탄올
<광중합성 화합물-1>
DPHA : 일본 화약사 제조의 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트
<광중합성 화합물-2>
TMP-A : 교에이샤 제조의 트리메틸올프로판트리아크릴레이트
<광중합 개시제-1>
이하의 화학 구조를 갖는 화합물을 사용하였다.
[화학식 40]
<광중합 개시제-2>
이하의 화학 구조를 갖는 화합물을 사용하였다.
[화학식 41]
<공중합체-1 ∼ 7>
(1) 중량 평균 분자량 (Mw)
하기 조건의 GPC 로 공중합체의 중량 평균 분자량을 측정하였다.
기기 : 토소사 제조의 HLC-8320GPC,
칼럼 : 토소 주식회사 제조의「TSKgel SuperHZM-M + HZM-M + HZ2000」,
검출기 : 시차 굴절률 검출기 (RI 검출기/내장),
용매 : 테트라하이드로푸란,
온도 : 40 ℃,
유속 : 0.5 mL/분,
주입량 : 10 μL,
농도 : 0.2 질량%,
교정 시료 : 단분산 폴리스티렌,
교정법 : 폴리스티렌 환산.
(2) 구성 모노머, 중합 개시제, 용제
HHMPMA : 2-[4-(2-하이드록시-2-메틸-1-옥소프로필)페녹시]에틸메타크릴레이트
FMA : 메타크릴산 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트리데카플루오로옥틸 (다이킨 공업 주식회사 제조의 C6SFMA 모노머)
GMA : 글리시딜메타크릴레이트
HEMA : 2-하이드록시에틸메타크릴레이트
MIBK : 메틸이소부틸케톤
AMBN : 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴)
(합성예 1 : 2-[4-(2-하이드록시-2-메틸-1-옥소프로필)페녹시]에틸메타크릴레이트 (HHMPMA) 의 합성)
메타크릴산 무수물 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 을 감압 증류하고, 순도 99.8 % 이상이 되는 유분을 회수하여 메타크릴산 무수물의 증류물을 얻었다. 감압 증류는, 압력 30 pa 로 실온에서 90 ℃까지 서서히 승온시키는 방법으로 실시하였다.
이것과는 별도로, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-메틸프로파논 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 22.4 g (0.1 mol), 및 트리에틸아민 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 30.4 g (0.3 mol) 을, 염화메틸렌 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 500 mL 에 용해시켰다. 여기에 상기 메타크릴산 무수물의 증류물 23.1 g (0.15 mol) 을 실온에서 적하하고, 12 시간 교반하였다.
얻어진 반응액을 이온 교환수 500 mL 로 3 회 세정한 후, 유기상을 농축시키고, 용매를 증류 제거하였다. 잔류물을 칼럼 크로마토그래피 (아세트산에틸/헥산 = 10/90 (체적비)) 로 정제하여, 목적으로 하는 화합물 21.6 g 을 얻었다 (수율 74 %).
1H-NMR 분석에 의해, 얻어진 화합물이 HHMPMA 인 것을 확인하였다.
(제조예 1-1 : 공중합체-1 의 제조)
교반기, 적하 깔때기, 냉각관 및 온도계를 구비한 플라스크 중에, PGMEA 28.55 질량부, HHMPMA 5.70 질량부, FMA 6.75 질량부, HEMA 1.50 질량부, GMA 1.05 질량부를 넣고, 교반하면서 내온이 90 ℃ 가 될 때까지 승온시켰다. 계속해서, 적하 깔때기로부터 PGMEA 를 44.53 질량부, HHMPMA 13.30 질량부, FMA 15.75 질량부, HEMA 3.50 질량부, GMA 2.45 질량부, 중합 개시제로서 AMBN 0.20 질량부의 혼합 용액을 4 시간에 걸쳐서 적하하였다. 적하 종료 후, 30 분마다 AMBN 0.18 질량부를 3 회 투입하고, 또한 30 분 후에 내온을 110 ℃ 까지 승온시켜 1.5 시간 유지하였다. 그 후, 반응액을 40 ℃ 로 냉각시키고, PGMEA 45.27 질량부를 첨가하여, 정제 전의 공중합체-1 의 PGMEA 용액을 얻었다.
정제 전의 공중합체-1 의 PGMEA 용액의 고형분 (불휘발분) 은 30 질량% 였다.
(제조예 1-2 : 공중합체-1 의 정제)
교반기, 적하 깔때기, 냉각관 및 온도계를 구비한 플라스크 중에 헥산 300 질량부를 투입하고, 교반을 하면서 내온 25 ℃ 가 되도록 조정하였다. 계속해서, 적하 깔때기에, 제조예 1 에서 제조한 공중합체-1 의 PGMEA 용액 30 질량부, MIBK 30 질량부를 투입하고, 균일해질 때까지 교반을 실시하고, 30 분간에 걸쳐서 적하하였다. 적하 종료 후, 추가로 교반을 2 시간 실시한 후에 정지하였다. 교반 정지 후, 비커의 바닥면에 공중합체-1 의 침전물의 존재를 확인하였다. 여과지를 사용하여 공중합체-1 의 침전물을 회수하고, 40 ℃ 에서 6 시간 감압 건조시킨 후, PGMEA 로 고형분 (불휘발분) 을 15 질량% 로 조제하여, 중량 평균 분자량 102600 의, 정제 후의 공중합체-1 의 PGMEA 용액을 얻었다. 공중합체-1 의 1 g 당의 활성기의 함유량은 1.28 (mmol/g) 이었다.
(공중합체-2 ∼ 5 의 제조, 정제)
공중합체-1 과 동일한 조작을 실시하고, 표 1 에 기재된 구성 모노머 질량비가 되도록, 제조, 정제를 실시하여, 공중합체-2 ∼ 5 의 PGMEA 용액을 얻었다.
(비교 제조예 1-1 : 공중합체-6 의 제조)
교반기, 적하 깔때기, 냉각관 및 온도계를 구비한 플라스크 중에, PGMEA 28.45 질량부, HHMPMA 6.53 질량부, FMA 6.75 질량부, HEMA 1.73 질량부를 넣고, 교반하면서 내온이 90 ℃ 가 될 때까지 승온시켰다. 계속해서, 적하 깔때기로부터 PGMEA 를 44.63 질량부, HHMPMA 15.23 질량부, FMA 15.75 질량부, HEMA 4.03 질량부, 중합 개시제로서 AMBN 0.20 질량부의 혼합 용액을 4 시간에 걸쳐서 적하하였다. 적하 종료 후, 30 분마다 AMBN 0.18 질량부를 3 회 투입하고, 또한 30 분 후에 내온을 110 ℃ 까지 승온시켜 1.5 시간 유지하였다. 그 후, 반응액을 40 ℃ 로 냉각시키고, PGMEA 45.27 질량부를 첨가하여, 정제 전의 공중합체-6 의 PGMEA 용액을 얻었다.
정제 전의 공중합체-6 의 PGMEA 용액의 고형분 (불휘발분) 은 30 질량% 였다.
(비교 제조예 1-2 : 공중합체-6 의 정제)
사용한 중합 용액을 공중합체-6 의 PGMEA 용액으로 한 것 이외에는 제조예 1-2 와 동일하게 하여, 중량 평균 분자량 94800 의 정제 후의 공중합체-6 의 PGMEA 용액을 얻었다. 공중합체-6 의 1 g 당의 활성기의 함유량은 1.47 (mmol/g) 이었다.
(비교 제조예 2-1 : 공중합체-7 의 제조)
교반기, 적하 깔때기, 냉각관 및 온도계를 구비한 플라스크 중에, PGMEA 29.24 질량부, FMA 6.75 질량부, HEMA 4.86 질량부, GMA 3.39 질량부를 넣고, 교반하면서 내온이 90 ℃ 가 될 때까지 승온시켰다. 계속해서, 적하 깔때기로부터 PGMEA 를 43.85 질량부, FMA 15.75 질량부, HEMA 11.34 질량부, GMA 7.91 질량부, 중합 개시제로서 AMBN 0.20 질량부의 혼합 용액을 4 시간에 걸쳐서 적하하였다. 적하 종료 후, 30 분마다 AMBN 0.18 질량부를 3 회 투입하고, 또한 30 분 후에 내온을 110 ℃ 까지 승온시켜 1.5 시간 유지하였다. 그 후, 반응액을 40 ℃ 로 냉각시키고, PGMEA 45.27 질량부를 첨가하여, 정제 전의 공중합체-7 의 PGMEA 용액을 얻었다.
공중합체-7 의 PGMEA 용액의 고형분 (불휘발분) 은 30 질량% 였다.
(제조예 2-2 : 공중합체-7 의 정제)
사용한 중합 용액을 정제 전의 공중합체-7 의 PGMEA 용액으로 한 것 이외에는 제조예 1-2 와 동일하게 하여, 중량 평균 분자량 103900 의 정제 후 공중합체-7 의 PGMEA 용액을 얻었다. 공중합체-7 의 1 g 당의 활성기의 함유량은 0 (mmol/g) 이었다.
<첨가제-1>
쇼와 전공사 제조의 카렌즈 MT PE1 (펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트))
<첨가제-2>
도레이·다우코닝사 제조의 SH6040 (3-글리시독시프로필트리메톡시실란)
<첨가제-3>
일본 화약사 제조의 KAYAMER PM-21 (메타크릴로일기 함유 포스페이트)
<안료 분산액-1 의 조제>
안료, 분산제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 2 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하였다. 이 용액을 페인트 쉐이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 온도 범위에서 3 시간 분산 처리하였다. 비드는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비드를 사용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가하였다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비드와 분산액을 분리하여, 안료 분산액-1 을 조제하였다.
[실시예 1 ∼ 7 및 비교예 1 ∼ 2]
표 3 에 기재된 배합 비율로 안료 분산액-1 이외의 각 성분을 혼합, 교반하여 충분히 용해시킨 후, 안료 분산액-1 을 첨가하여 혼합하고 나서 10 분간 초음파 세정기를 사용해서 교반하여 감광성 수지 조성물을 조제하였다. 얻어진 각 감광성 수지 조성물을 사용하여, 후술하는 방법으로 평가를 실시하였다.
또한, 표 3 중의 안료 분산액, 알칼리 가용성 수지, 공중합체의 배합 비율은 고형분 환산값이다.
이하에 성능 평가의 방법을 설명한다.
<PGMEA 접촉각의 측정>
유리 기판 상에 스피너를 사용하여, 포스트베이크 후에 10 ㎛ 의 두께가 되도록 상기 감광성 수지 조성물을 도포하였다. 이 도포 기판을 1 분간 진공 건조시키고, 추가로 100 ℃ 에서, 120 초간 핫 플레이트 상에서 가열 건조시켰다. 얻어진 도막에, 캐논사 제조의 미러 프로젝션형의 노광기 (MPA-600FA) 를 사용하여 노광량 80 mJ/㎠ 로 전체면 노광하였다. 이 때의 파장 365 ㎚ 에 있어서의 광 강도는 500 ㎽/㎠ 였다. 다음으로 이 기판을, 0.04 질량% 의 KOH 및 0.07 질량% 의 에멀겐 A-60 (카오사 제조의 계면 활성제) 을 용해시킨 수용액을 현상액으로 하여, 24 ℃ 에서 70 초간 스프레이 현상한 후, 순수로 10 초간 세정하였다. 마지막에 이 기판을 오븐 중 230 ℃ 에서 30 분간 포스트베이크를 실시하여, 접촉각 측정용 기판을 얻었다.
쿄와 계면 과학사 제조의 Drop Master 500 (접촉각 측정 장치) 을 사용하여, 23 ℃, 습도 50 % RH 의 조건하에서 PGMEA 0.7 μL 를 적하한 1 초 후의 상기 접촉각 측정용 기판의 접촉각을 측정하고, 이하의 기준으로 발잉크성을 평가하였다. 그 결과를 표 3 에 나타냈다. 접촉각이 큰 쪽이, 발잉크성이 높은 것을 나타낸다.
<잉크젯 (IJ) 도포성의 평가>
유리 기판 상에 스피너를 사용하여, 포스트베이크 후에 10 ㎛ 의 두께가 되도록 상기 감광성 수지 조성물을 도포하였다. 이 도포 기판을 1 분간 진공 건조시키고, 추가로 100 ℃ 에서, 120 초간 핫 플레이트 상에서 가열 건조시켰다. 다음으로, 얻어진 도막 기판을, 포토마스크를 사용하여 MPA 노광기로 노광량 80 mJ/㎠ 로 노광하였다. 이 때의 파장 365 ㎚ 에 있어서의 광 강도는 500 ㎽/㎠ 였다. 포토마스크는 폭 15 ㎛ 의 개구가 세로 100 ㎛ 간격, 가로 200 ㎛ 간격으로 격자상으로 실시된 포토마스크를 사용하였다. 이어서, 접촉각 측정용 기판의 제조시와 동일한 조건에서 현상 처리하고, 오븐 중 230 ℃ 에서 30 분간 포스트베이크를 실시하여, IJ 용 격벽 패턴을 갖는 IJ 용 기판을 제조하였다.
후지 필름사 제조의 잉크젯 장치 DMP-2831 에, 미츠비시 케미컬사 제조의 YED216D (1,6-헥산디올디글리시딜에테르) 를 토출용 잉크로서 충전한 10 pL 대응 노즐의 카트리지를 장착하고, 상기 IJ 용 기판의 픽셀부 (사방이 격벽으로 둘러싸인 개구 부분) 에 1 방울 (10 pL 상당) 을 토출하였다. 토출한 액적이 젖으며 확산된 사이즈에 의해 이하의 평가 기준으로 IJ 도포성을 평가하였다.
<IJ 도포성 평가 기준>
도 1 의 이미지에 따라서, 픽셀부 (2) (격벽부 (1) 내) 에 젖으며 확산된 잉크젯 적하부 (3) 의 면적을, 육안으로 평가하였다. 도 1 은 좌측에서부터 순서대로 IJ 도포성이 우수한 것을 나타내고 있으며, A 가 가장 양호하고, B, C, D 가 A 보다 젖으며 확산되어 있지 않지만 실용상 문제가 없고, E 가 거의 젖으며 확산되어 있지 않아, 실용상 문제가 있다.
실시예 1 ∼ 7 과 비교예 1 의 비교로부터 (A) 공중합체가 에폭시기를 가짐으로써 픽셀 내에 IJ 로 토출한 액적이 젖으며 확산되는 것이 양호해지는 것을 알 수 있다. 이것은 포스트베이크시에 에폭시기가 개환 반응하여 뱅크 중에 고정되는 효과로 생각되며, 에폭시기를 갖고 있지 않은 비교예 1 에서는 포스트베이크로 뱅크가 연화되었을 때에 (A) 공중합체가 픽셀 내에 스며나오기 때문에 젖으며 확산되는 것을 악화시키는 것으로 생각된다.
실시예 1 ∼ 7 과 비교예 2 의 비교로부터 (A) 공중합체가 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 활성기를 가짐으로써 픽셀 내에 IJ 로 토출한 액적이 젖으며 확산되는 것이 양호해지는 것을 알 수 있다. 이것은 노광시에 (A) 공중합체가 라디칼을 발생시켜 감광성 수지 조성물의 라디칼 중합에 기여하기 때문에 (A) 공중합체가 뱅크에 고정되어 현상시에 스며나오기 어려워지기 때문으로 생각된다. (A) 공중합체가 고정되지 않고 스며나온 경우에는 픽셀 내를 (A) 공중합체가 오염시켜 IJ 의 잉크가 젖으며 확산되는 것을 악화시킨다.
실시예 1 ∼ 3 의 비교로부터 본 발명의 (A) 공중합체의 분자량은 분자량이 커지면 약간 잉크젯 도포성이 양화되는 경향이 보인다. 이것은 분자량이 높은 쪽이 현상이나 포스트베이크시에 연화되기 어려워져, 스며나옴이 일어나기 어려워, 픽셀을 오염시키기 어려워지기 때문은 아닐까 생각된다.
실시예 1, 4 ∼ 7 의 비교로부터 본 발명의 (A) 공중합체의 불소 원자를 갖는 모노머 단위가 많은 쪽이, 발액성이 높아지는 경향이 있다. 또 그만큼 (A) 공중합체량을 증가시켜 불소량을 동일한 정도로 하더라도, 불소 원자를 갖는 모노머 단위가 많은 쪽이, 발액성이 높아지는 경향이다. 이 점에서 본 발명의 (A) 공중합체의 발액성의 발현에는 (A) 공중합체의 1 분자 중의 불소 원자를 포함하는 모노머 단위가 많은 쪽이 좋다고 할 수 있다.
1 : 격벽부
2 : 픽셀부 (비화상부)
3 : 잉크젯 적하부
10 : 기판
11 : 녹색 발광성의 나노 결정 입자
12 : 적색 발광성의 나노 결정 입자
20 : 격벽
30 : 적색 화소
40 : 녹색 화소
50 : 청색 화소
100 : 컬러 필터
2 : 픽셀부 (비화상부)
3 : 잉크젯 적하부
10 : 기판
11 : 녹색 발광성의 나노 결정 입자
12 : 적색 발광성의 나노 결정 입자
20 : 격벽
30 : 적색 화소
40 : 녹색 화소
50 : 청색 화소
100 : 컬러 필터
Claims (14)
- (A) 공중합체, (B) 알칼리 가용성 수지 및 (C) 광중합성 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물로서,
상기 (A) 공중합체가 구성 모노머로서 하기 모노머 (a1), 하기 모노머 (a2) 및 하기 모노머 (a3) 을 함유하는 감광성 수지 조성물.
모노머 (a1) : 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 활성기를 갖는 모노머.
모노머 (a2) : 불소 원자를 갖는 모노머.
모노머 (a3) : 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기를 갖는 모노머. - 제 1 항에 있어서,
상기 모노머 (a2) 가, 플루오로알킬기를 갖는 감광성 수지 조성물. - 제 2 항에 있어서,
상기 모노머 (a2) 가, 하기 식 (1) 로 나타내는 기를 갖는 감광성 수지 조성물.
-CFXRf … 식 (1)
(식 (1) 중, X 는 수소 원자, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기이고, Rf 는 에테르성의 산소 원자를 갖고 있어도 되는, 탄소수가 1 이상 20 이하인 플루오로알킬기, 또는 불소 원자이다.) - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 모노머 (a1) 에 있어서의 활성기가, 벤조페논기, 알킬페논기, α-하이드록시케톤기, α-아미노케톤기, α-디케톤기 및 α-디케톤디알킬케탈기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상인 감광성 수지 조성물. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 모노머 (a3) 에 있어서의 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르기가, 에폭시기인 감광성 수지 조성물. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (A) 공중합체가, 구성 모노머로서 추가로 하기 모노머 (a4) 를 함유하는 감광성 수지 조성물.
모노머 (a4) : 수산기를 갖는 모노머. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (A) 공중합체 중의 불소 원자 함유량이 5 ∼ 60 질량% 인 감광성 수지 조성물. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로 (D) 광중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로 (E) 착색제를 함유하는 감광성 수지 조성물. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
격벽 형성용 감광성 수지 조성물인 감광성 수지 조성물. - 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 감광성 수지 조성물을 경화시킨 경화물.
- 제 11 항에 기재된 경화물로 이루어지는 격벽.
- 제 12 항에 기재된 격벽을 구비하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 13 항에 기재된 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021162453 | 2021-10-01 | ||
JPJP-P-2021-162453 | 2021-10-01 | ||
PCT/JP2022/036476 WO2023054597A1 (ja) | 2021-10-01 | 2022-09-29 | 感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、及び画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20240063867A true KR20240063867A (ko) | 2024-05-10 |
Family
ID=85782912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020247005934A KR20240063867A (ko) | 2021-10-01 | 2022-09-29 | 감광성 수지 조성물, 경화물, 격벽, 유기 전계 발광 소자, 및 화상 표시 장치 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2023054597A1 (ko) |
KR (1) | KR20240063867A (ko) |
CN (1) | CN118020026A (ko) |
TW (1) | TW202323307A (ko) |
WO (1) | WO2023054597A1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024190597A1 (ja) * | 2023-03-10 | 2024-09-19 | セントラル硝子株式会社 | 硬化性樹脂材料、撥液剤組成物、感光性樹脂組成物及び隔壁材料 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2011089052A (ja) | 2009-10-23 | 2011-05-06 | Dic Corp | 含フッ素硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化型塗料組成物及びその硬化物 |
WO2019146680A1 (ja) | 2018-01-26 | 2019-08-01 | 三菱ケミカル株式会社 | 感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP5606868B2 (ja) * | 2010-10-22 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 光重合性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び、固体撮像素子 |
JP2017207532A (ja) * | 2016-05-16 | 2017-11-24 | 東洋合成工業株式会社 | レジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
-
2022
- 2022-09-29 TW TW111137059A patent/TW202323307A/zh unknown
- 2022-09-29 JP JP2023551856A patent/JPWO2023054597A1/ja active Pending
- 2022-09-29 CN CN202280065688.4A patent/CN118020026A/zh active Pending
- 2022-09-29 WO PCT/JP2022/036476 patent/WO2023054597A1/ja active Application Filing
- 2022-09-29 KR KR1020247005934A patent/KR20240063867A/ko unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011089052A (ja) | 2009-10-23 | 2011-05-06 | Dic Corp | 含フッ素硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化型塗料組成物及びその硬化物 |
WO2019146680A1 (ja) | 2018-01-26 | 2019-08-01 | 三菱ケミカル株式会社 | 感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2023054597A1 (ko) | 2023-04-06 |
TW202323307A (zh) | 2023-06-16 |
WO2023054597A1 (ja) | 2023-04-06 |
CN118020026A (zh) | 2024-05-10 |
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