WO2022209771A1 - 着色感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ及び画像表示装置 - Google Patents

着色感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ及び画像表示装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2022209771A1
WO2022209771A1 PCT/JP2022/010979 JP2022010979W WO2022209771A1 WO 2022209771 A1 WO2022209771 A1 WO 2022209771A1 JP 2022010979 W JP2022010979 W JP 2022010979W WO 2022209771 A1 WO2022209771 A1 WO 2022209771A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
mass
less
ring
resin composition
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/010979
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
朋子 山川
恵理子 利光
Original Assignee
三菱ケミカル株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三菱ケミカル株式会社 filed Critical 三菱ケミカル株式会社
Priority to KR1020237032529A priority Critical patent/KR20230164671A/ko
Priority to CN202280024223.4A priority patent/CN117099047A/zh
Priority to JP2023510839A priority patent/JPWO2022209771A1/ja
Publication of WO2022209771A1 publication Critical patent/WO2022209771A1/ja

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0755Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/22Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing

Definitions

  • the present invention relates to a colored photosensitive resin composition, and further includes a cured product obtained by curing the colored photosensitive resin composition, a partition wall composed of the cured product, an organic electroluminescent device provided with a partition wall, and luminescent nanocrystalline particles. It relates to a color filter and an image display device.
  • pixels or color filters containing luminescent nanocrystalline particles are manufactured by an inkjet method
  • pixels are formed by ejecting ink containing luminescent nanocrystalline particles onto regions (pixel portions) surrounded by prefabricated partition walls.
  • BACKGROUND ART Organic electroluminescence elements used in organic electric field displays and the like are manufactured by forming partitions (banks) on a substrate and laminating various functional layers in regions surrounded by the partitions.
  • An inkjet method is known as a method for laminating a functional layer in the partition walls.
  • Partition walls for color filters containing luminescent nanocrystalline particles and partition walls for organic electroluminescent elements must prevent mixing of ink between adjacent pixel portions when ink is ejected by inkjet. Ink repellency is required.
  • Patent Document 2 discloses a colored photosensitive resin composition having high ink repellency and good linearity by using two types of specific alkali-soluble resins together. It is stated that a product is obtained.
  • Patent Document 3 describes a method of suppressing density unevenness over time by using titanium oxide particles or the like as a white film for an optical sensor together with a resin containing fluorine or siloxane.
  • Patent Document 4 describes a display device using liquid-repellent partition walls for quantum dots containing a white pigment.
  • the composition described in Patent Document 3 has a problem that the content of metal oxide particles is high and the adhesiveness to the substrate is low.
  • the liquid-repellent barrier rib for quantum dots described in Patent Document 4 does not describe a specific content of the composition, and it is unknown whether a pattern of the barrier rib can be formed.
  • an object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition capable of ensuring sufficient ink repellency even at a low exposure dose.
  • the present invention provides a cured product obtained by curing a colored photosensitive resin composition, a partition wall composed of the cured product, an organic electroluminescence device comprising the partition wall, a color filter containing luminescent nanocrystalline particles, and an image display device. intended to provide
  • the present inventors have found that the above problems can be solved by using a specific alkali-soluble resin in a colored photosensitive resin composition containing a liquid repellent agent, and have completed the present invention. That is, the gist of the present invention is as follows.
  • a colored photosensitive resin composition containing (a) a coloring agent, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) a photopolymerizable compound and (e) a liquid repellent agent,
  • the (a) colorant contains (a1) a white pigment, The content of the (a) colorant is 30% by mass or less with respect to the total solid content of the colored photosensitive resin composition, The double bond equivalent of the (b) alkali-soluble resin is 400 g/mol or less,
  • An organic electroluminescence device comprising the partition of [11].
  • a color filter comprising luminescent nanocrystalline particles, comprising the barrier ribs of [11].
  • An image display device comprising the partition of [11].
  • total solid content means the total amount of components other than the solvent in the colored photosensitive resin composition. Even if a component other than the solvent is liquid at room temperature, that component is not included in the solvent but is included in the total solid content.
  • a numerical range represented by "-" means a range including the numerical values described before and after "-" as lower and upper limits.
  • (co)polymer means including both a single polymer (homopolymer) and a copolymer (copolymer), and includes “(acid) anhydride", “(anhydrous) ... "Acid” is meant to include both acids and their anhydrides.
  • a partition wall material means a bank material, a wall material, and a wall material, and similarly, a partition wall means a bank, a wall, and a wall.
  • the weight average molecular weight means the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene by GPC (gel permeation chromatography).
  • the acid value means an acid value in terms of effective solid content, unless otherwise specified, and is calculated by neutralization titration.
  • the partition wall can be used, for example, to partition a functional layer such as a color filter or a light emitting device containing quantum dot nanoparticles, and the partitioned region (pixel region) constitutes the functional layer.
  • a functional layer such as a color filter or a light emitting device containing quantum dot nanoparticles
  • the partitioned region constitutes the functional layer.
  • the colored photosensitive resin composition of the present invention includes (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) a photopolymerizable compound and ( e) contains a liquid-repellent agent as an essential component, and if necessary, may contain other components, for example, (f) a dispersant, a solvent, and a chain transfer agent.
  • the colored photosensitive resin composition of the present invention contains (a) a colorant, and (a) the colorant contains (a1) a white pigment.
  • the colorant contains the (a1) white pigment, the reflectance of the partition walls formed from the colored photosensitive resin composition tends to be increased, and the brightness of the image display device can be improved.
  • the white pigment may be particulate or non-particulate. A particle shape is preferable from the viewpoint of dispersion stability and reflection performance.
  • White pigments include metal oxides, preferably titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, and hafnium oxide.
  • the white pigment preferably contains at least one of titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide and hafnium oxide.
  • titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, and hafnium oxide, titanium oxide and zirconium oxide are preferred from the viewpoint of particle stability, and titanium oxide is more preferred from the viewpoint of increasing reflectance.
  • the crystal system of titanium oxide includes, for example, an anatase type and a rutile type, and is not particularly limited, but the rutile type, which has low catalytic activity, is preferable from the viewpoint of stability.
  • metal oxides may be used in combination with titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, and hafnium oxide.
  • Composite oxides composed of two or more metal elements can also be used.
  • the average particle size of the primary particles of the white pigment (a1) is not particularly limited, but is preferably 1000 nm or less, more preferably 500 nm or less, even more preferably 400 nm or less, and 300 nm or less. Especially preferred. Moreover, it is preferably 10 nm or more, more preferably 50 nm or more, still more preferably 100 nm or more, even more preferably 150 nm or more, and particularly preferably 180 nm or more.
  • the average particle size of the primary particles is equal to or less than the upper limit, the dispersion stability tends to be high. If it is more than the said lower limit, the reflectance of a partition will tend to become high.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • it is preferably 10 to 1000 nm, more preferably 50 to 1000 nm, even more preferably 100 to 500 nm, even more preferably 150 to 400 nm, and particularly preferably 180 to 300 nm.
  • the average particle size of the primary particles of the white pigment is obtained by directly measuring the size of the primary particles from the electron micrograph using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM). Measure in Specifically, the primary particle diameter of each particle is calculated as the equivalent circle diameter. Measurements are performed on all particles within the imaging area of 100-500 nm square. Imaging different areas several times, measuring the particle size of a total of 200 to 1000 primary particles, and taking the number average, the average particle size is obtained.
  • the primary particle size can be measured, for example, on a white pigment alone, a dispersion thereof, and a cured film of a colored photosensitive resin composition. When preparing a measurement sample, the (a1) white pigment should be uniformly present in the sample.
  • a dispersion liquid the dispersion liquid immediately after dispersion is used, and the measurement is performed after the solvent is volatilized.
  • a cured film a cured film is prepared using a colored photosensitive resin composition in which particles are uniformly dispersed, cut in the thickness direction of the film, and the cross section is observed to carry out the measurement. .
  • the average particle size of the dispersed particles of the white pigment is determined by a dynamic light scattering method, a laser diffraction method, or a method of measuring the particle size with an SEM after forming a coating film of the dispersion and drying it. can be measured.
  • it is preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, still more preferably 150 nm or more, and particularly preferably 180 nm or more.
  • it is preferably 1000 nm or less, more preferably 500 nm or less, still more preferably 400 nm or less, and particularly preferably 300 nm or less.
  • the dispersion stability tends to be high. If it is more than the said lower limit, the reflectance of a partition will tend to become high.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 50 to 1000 nm is preferred, 100 to 500 nm is more preferred, 150 to 400 nm is even more preferred, and 180 to 300 nm is particularly preferred.
  • the white pigment is in the form of particles, it is, for example, spherical, hollow, porous, rod-like, plate-like, fibrous, or amorphous, preferably spherical.
  • the (a) colorant used in the present invention may be a colorant other than the (a1) white pigment.
  • the type is not particularly limited, and pigments other than white pigments may be used, and dyes may be used.
  • the pigment contained in (a) the coloring agent other than the (a1) white pigment may be one or two or more.
  • the type of pigment other than the (a1) white pigment that can be used as a colorant is not particularly limited, and examples thereof include organic pigments and inorganic pigments. Among these, it is preferable to use an organic pigment from the viewpoint of controlling the transmission wavelength of the colored photosensitive resin composition for efficient curing.
  • Organic pigments include organic coloring pigments and organic black pigments.
  • the organic coloring pigment means an organic pigment exhibiting a color other than black, and examples thereof include red pigment, orange pigment, blue pigment, purple pigment, green pigment, and yellow pigment.
  • organic pigments it is preferable to use an organic coloring pigment from the viewpoint of ultraviolet absorption, and it is preferable to use an organic black pigment from the viewpoint of light shielding properties and insulating properties.
  • An organic coloring pigment may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • organic pigments are not particularly limited, but examples include azo-based, phthalocyanine-based, quinacridone-based, benzimidazolone-based, isoindolinone-based, dioxazine-based, indanthrene-based, and perylene-based pigments. Specific examples of pigments that can be used are shown below by pigment numbers. In the following, terms such as "C.I. Pigment Red 2" refer to the Color Index (C.I.).
  • C.I. I. Pigment Red 48 1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, more preferably C.I. I. Pigment Red 177, 209, 224, 254 may be mentioned.
  • C.I. I. Pigment Red 177, 254, and 272 are preferably used, and when the colored photosensitive resin composition is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use a red pigment having a low ultraviolet absorption rate. . I. Pigment Red 254, 272 is more preferably used.
  • C.I. I. Pigment Orange 1 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79 can be mentioned.
  • C.I. I. Pigment Orange 13, 43, 64, 72 is preferably used, and when the colored photosensitive resin composition is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use an orange pigment having a low ultraviolet absorption rate. is C.I. I. More preferably, Pigment Orange 64, 72 is used.
  • C.I. I. Pigment Blue 1 1:2, 9, 14, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56:1, 60, 61, 61:1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 can be mentioned.
  • C.I. I. Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 60 more preferably C.I. I. Pigment Blue 15:6 may be mentioned.
  • Pigment Blue 15:6, 16, 60 is preferably used, and when the colored photosensitive resin composition is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use a blue pigment having a low ultraviolet absorption rate. is C.I. I. Pigment Blue 60 is more preferably used.
  • C.I. I. Pigment Violet 1 As a purple pigment, C.I. I. Pigment Violet 1, 1:1, 2, 2:2, 3, 3:1, 3:3, 5, 5:1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 can be mentioned. From the viewpoint of light-shielding properties, C.I. I. Pigment Violet 19, 23, more preferably C.I. I. Pigment Violet 23 may be mentioned. C.I. I. Pigment Violet 23, 29 is preferably used, and when the colored photosensitive resin composition is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use a purple pigment having a low ultraviolet absorption rate. I. Pigment Violet 29 is more preferably used.
  • C.I. I. Pigment Yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, more preferably C.I. I. Pigment Yellow 83, 138, 139, 150, 180 can be mentioned.
  • Red pigment C.I. I. Pigment Red 177, 254, 272
  • Orange pigment C.I. I. Pigment Orange 43, 64, 72
  • Blue pigment C.I. I. pigment blue 15:6,60 Purple pigment: C.I. I. Pigment Violet 23, 29
  • the combination of the organic coloring pigments is not particularly limited. and at least one selected from the group consisting of blue pigments and violet pigments.
  • the combination of colors is not particularly limited, but from the viewpoint of light blocking properties, for example, a combination of a red pigment and a blue pigment, a combination of a blue pigment and an orange pigment, and a combination of a blue pigment, an orange pigment and a violet pigment can be mentioned.
  • organic black pigments examples include perylene black, aniline black, fast black HB, and lactam compounds. From the viewpoint of plate-making properties, lactam compounds are preferred, and compounds represented by the following general formula (A) (hereinafter also referred to as "compound (A)”), geometric isomers of compound (A), compound (A ) and at least one selected from the group consisting of salts of geometric isomers of compound (A) (hereinafter sometimes referred to as “organic black pigment represented by formula (A)”) There is.) is more preferably used.
  • organic black pigment is Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF (manufactured by BASF).
  • This organic black pigment is preferably used by dispersing it with a dispersant, solvent, and method, which will be described later. If a sulfonic acid derivative of compound (A) is present during dispersion, the dispersibility and storage stability may be improved, so the organic black pigment preferably contains these sulfonic acid derivatives.
  • inorganic pigments include inorganic black pigments such as carbon black, acetylene black, lamp black, bone black, graphite, iron black, and titanium black.
  • the content of (a) the coloring agent is 30% by mass or less, preferably 25% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, relative to the total solid content of the colored photosensitive resin composition. is 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less, and particularly preferably 10% by mass or less. Moreover, it is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 4% by mass or more, and particularly preferably 5% by mass or more.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • the content of titanium oxide in the colored photosensitive resin composition of the present invention is 30% by mass or less with respect to the total solid content of the colored photosensitive resin composition. , is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, even more preferably 15% by mass or less, and even more preferably 10% by mass or less. Moreover, it is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, still more preferably 3% by mass or more, particularly preferably 4% by mass or more, and particularly preferably 5% by mass or more.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • 1 to 30% by mass is preferable, 2 to 25% by mass is more preferable, 3 to 20% by mass is more preferable, 4 to 15% by mass is even more preferable, and 5 to 10% by mass is particularly preferable.
  • the thickness is equal to or higher than the lower limit, the reflectance of the partition tends to increase.
  • the content is equal to or less than the above upper limit, there is a tendency for the dispersion stability to be enhanced.
  • the content of (a1) white pigment in (a) colorant is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and even more preferably 70% by mass or more, relative to the total mass of (a) colorant. , more preferably 80% by mass or more, particularly preferably 90% by mass or more, and 100% by mass or less.
  • the content of titanium oxide in the coloring agent is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, still more preferably 70% by mass or more, and 80% by mass with respect to the total mass of the coloring agent (a). % or more is more preferable, 90% by mass or more is particularly preferable, and 100% by mass or less.
  • the reflectance of the partition tends to increase.
  • the colored photosensitive resin composition of the present invention contains (b) an alkali-soluble resin.
  • the alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it can be developed with an alkali developer.
  • the alkali-soluble resin include various resins having a carboxy group or a hydroxyl group, and those having a carboxy group are preferable from the viewpoint of excellent developability.
  • the (b) alkali-soluble resin of the colored photosensitive resin composition of the present invention has a double bond equivalent of 400 g/mol or less.
  • the (b) alkali-soluble resin is an acrylic copolymer resin (b1) having a partial structure represented by the following general formula (I) (hereinafter sometimes abbreviated as "acrylic copolymer resin (b1)"). It is preferable to contain
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. * represents a bond.
  • the acrylic copolymer resin (b1) has a partial structure containing a side chain having an ethylenically unsaturated group, as shown by formula (I).
  • formula (I) By having an ethylenically unsaturated group, it is believed that photocuring by exposure occurs to form a stronger film, the liquid repellent agent is less likely to flow out during development, and ink repellency is likely to be exhibited.
  • the partial structure represented by the formula (I) the flexibility of the film is maintained, and radicals tend to diffuse easily.
  • partial structures represented by formula (I) are preferable from the viewpoint of sensitivity and alkali developability.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • R X represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue.
  • the polybasic acid residue in formula (I′) means a monovalent group obtained by removing one OH group from a polybasic acid or its anhydride.
  • polybasic acids include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, and endomethylene.
  • One or more selected from tetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid can be used.
  • maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are preferred, and tetrahydrophthalic acid is more preferred.
  • phthalic acid and biphenyltetracarboxylic acid are preferred.
  • the content ratio of the partial structure represented by the formula (I) contained in the acrylic copolymer resin (b1) is not particularly limited, but it is 10 mol% or more based on the total number of moles of the structural units of the acrylic copolymer resin (b1). is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, even more preferably 60 mol% or more, even more preferably 70 mol% or more, particularly preferably 80 mol% or more, and 99 mol% The following is preferable, 95 mol% or less is more preferable, and 90 mol% or less is even more preferable. The above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • 10 to 99 mol% preferably 30 to 95 mol%, more preferably 50 to 95 mol%, still more preferably 60 to 95 mol%, even more preferably 70 to 95 mol%, particularly preferably 80 to 90 in mol %.
  • the ink repellency tends to be improved by making it equal to or higher than the lower limit.
  • the content is equal to or less than the above upper limit, there is a tendency that high-definition partition walls with a narrow line width can be formed.
  • the content ratio is not particularly limited, but 10 mol% or more is preferable, 30 mol% or more is more preferable, 50 mol% or more is more preferable, 60 mol% or more is even more preferable, 70 mol% or more is particularly preferable, 80 mol% or more is particularly preferable, and 99 mol % or less is preferable, 95 mol % or less is more preferable, and 90 mol % or less is even more preferable.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • 10 to 99 mol% preferably 30 to 95 mol%, more preferably 50 to 95 mol%, still more preferably 60 to 95 mol%, even more preferably 70 to 95 mol%, particularly preferably 80 to 90 in mol %.
  • the ink repellency tends to be improved by making it equal to or higher than the lower limit.
  • the content is equal to or less than the above upper limit, there is a tendency that high-definition partition walls with a narrow line width can be formed.
  • the partial structure possessed by the acrylic copolymer resin (b1) is not particularly limited. It may have a partial structure.
  • R3 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R4 represents an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aromatic ring group, or a substituent. represents an alkenyl group which may be present.
  • alkyl groups include methyl, ethyl, cyclohexyl, dicyclopentanyl, and dodecanyl groups. From the viewpoint of developability, a dicyclopentanyl group and a dodecanyl group are preferred, and a dicyclopentanyl group is more preferred.
  • Substituents that the alkyl group may have include, for example, methoxy group, ethoxy group, chloro group, bromo group, fluoro group, hydroxy group, amino group, epoxy group, oligoethylene glycol group, phenyl group and carboxy group. , an acryloyl group, and a methacryloyl group, and from the viewpoint of developability, a hydroxy group and an oligoethylene glycol group are preferred.
  • the aromatic hydrocarbon ring in the aromatic hydrocarbon ring group may be a single ring or a condensed ring.
  • Examples include benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, acenaphthene ring, fluoranthene ring, and fluorene ring.
  • the aromatic heterocyclic ring in the aromatic heterocyclic group may be a single ring or a condensed ring, such as furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring and imidazole ring.
  • oxadiazole ring indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, shinoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, benzimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring.
  • a benzene ring and a naphthalene ring are preferred, and a benzene ring is more preferred.
  • Substituents which the aromatic ring group may have include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, methoxy group, ethoxy group, chloro group, bromo group, fluoro group, hydroxy group, amino group and epoxy group. , an oligoethylene glycol group, a phenyl group, and a carboxy group, and from the viewpoint of developability, a hydroxy group and an oligoethylene glycol group are preferred.
  • Alkenyl groups for R 4 include linear, branched and cyclic alkenyl groups.
  • the number of carbon atoms is 2 or more, preferably 22 or less, more preferably 20 or less, more preferably 18 or less, even more preferably 16 or less, and particularly preferably 14 or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 2-22, preferably 2-20, more preferably 2-18, even more preferably 2-16, even more preferably 2-14.
  • the content is equal to or higher than the above lower limit, there is a tendency that development adhesion is improved. A residue tends to be reduced by making it below the said upper limit.
  • alkenyl group may have include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxy group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group and a carboxy group. , and from the viewpoint of developability, a hydroxy group and an oligoethylene glycol group are preferred.
  • R 4 is preferably an alkyl group or an alkenyl group, more preferably an alkyl group, from the viewpoint of developability and film strength.
  • the content ratio is not particularly limited, but 1 mol with respect to the total number of moles of the structural units of the acrylic copolymer resin (b1) % or more, more preferably 2 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, even more preferably 10 mol% or more, particularly preferably 20 mol% or more, and preferably 70 mol% or less, 60 mol%
  • the following is more preferable, 50 mol % or less is more preferable, and 40 mol % or less is even more preferable.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • 1 to 70 mol% preferably 2 to 70 mol%, more preferably 5 to 60 mol%, still more preferably 10 to 50 mol%, particularly preferably 20 to 40 mol%.
  • content is equal to or higher than the above lower limit, there is a tendency that development adhesion is improved. A residue tends to be reduced by making it below the said upper limit.
  • the acrylic copolymer resin (b1) has a partial structure represented by the following general formula (III) from the viewpoint of heat resistance and film strength.
  • Alkyl groups for R 6 include linear, branched and cyclic alkyl groups.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, further preferably 5 or more, preferably 20 or less, more preferably 18 or less, further preferably 16 or less, even more preferably 14 or less, and 12 or less. is particularly preferred.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 1 to 20, preferably 1 to 18, more preferably 3 to 16, even more preferably 5 to 14. When the content is equal to or higher than the above lower limit, there is a tendency that development adhesion is improved. A residue tends to be reduced by making it below the said upper limit.
  • Alkenyl groups for R 6 include linear, branched and cyclic alkenyl groups.
  • the number of carbon atoms is 2 or more, preferably 22 or less, more preferably 20 or less, still more preferably 18 or less, even more preferably 16 or less, and particularly preferably 14 or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 2-22, preferably 2-20, more preferably 2-18, even more preferably 2-16, even more preferably 2-14.
  • the content is equal to or higher than the above lower limit, there is a tendency that development adhesion is improved. A residue tends to be reduced by making it below the said upper limit.
  • alkenyl group may have include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxy group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group and a carboxy group. , and from the viewpoint of developability, a hydroxy group and an oligoethylene glycol group are preferred.
  • Substituents that the alkynyl group may have include, for example, methoxy group, ethoxy group, chloro group, bromo group, fluoro group, hydroxy group, amino group, epoxy group, oligoethylene glycol group, phenyl group and carboxy group. , and from the viewpoint of developability, a hydroxy group and an oligoethylene glycol group are preferred.
  • Alkoxy groups for R 6 include linear, branched and cyclic alkoxy groups.
  • the number of carbon atoms is 1 or more, preferably 20 or less, more preferably 18 or less, even more preferably 16 or less, even more preferably 14 or less, and particularly preferably 12 or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 1-20, preferably 1-18, more preferably 1-16, even more preferably 1-14, even more preferably 1-12.
  • the content is equal to or higher than the above lower limit, there is a tendency that development adhesion is improved. A residue tends to be reduced by making it below the said upper limit.
  • Substituents that the alkoxy group may have include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxy group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group, and a carboxy group.
  • an acryloyl group, and a methacryloyl group and from the viewpoint of developability, a hydroxy group and an oligoethylene glycol group are preferable.
  • substituents that the alkyl group in the alkylsulfide group may have include methoxy, ethoxy, chloro, bromo, fluoro, hydroxy, amino, epoxy, oligoethylene glycol, phenyl group, carboxyl group, acryloyl group, and methacryloyl group, and from the viewpoint of developability, hydroxy group and oligoethylene glycol group are preferred.
  • R 6 is preferably a hydroxy group or a carboxy group, more preferably a carboxy group, from the viewpoint of developability.
  • t represents an integer of 0 to 5, but t is preferably 0 from the viewpoint of ease of production.
  • the content ratio is not particularly limited, but it is 0.00 to the total number of moles of the structural units of the acrylic copolymer resin (b1). 5 mol % or more is preferable, 1 mol % or more is more preferable, 2 mol % or more is still more preferable, and 4 mol % or more is particularly preferable. Also, it is preferably 50 mol % or less, more preferably 30 mol % or less, even more preferably 20 mol % or less, even more preferably 10 mol % or less, and particularly preferably 6 mol % or less. The above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • it is 0.5 to 50 mol %, preferably 1 to 30 mol %, more preferably 1 to 20 mol %, even more preferably 2 to 10 mol %, still more preferably 4 to 6 mol %.
  • content is equal to or higher than the lower limit, there is a tendency that the uniformity of the film is improved. A residue tends to be reduced by making it below the said upper limit.
  • R7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • the content ratio is not particularly limited, but 5 mol relative to the total number of moles of the structural units of the acrylic copolymer resin (b1) % or more, more preferably 10 mol % or more, still more preferably 20 mol % or more, preferably 80 mol % or less, more preferably 70 mol % or less, and even more preferably 60 mol % or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 5 to 80 mol %, preferably 10 to 70 mol %, more preferably 20 to 60 mol %. Residue tends to be reduced by making it equal to or higher than the lower limit. The ink repellency tends to be improved by making it equal to or less than the above upper limit.
  • the double bond equivalent of the acrylic copolymer resin (b1) can be calculated from the following formula.
  • Double bond equivalent of acrylic copolymer resin (b1)) (weight average molecular weight of acrylic copolymer resin (b1))/(number of ethylenically unsaturated double bonds per molecule of acrylic copolymer resin (b1))
  • the acid value of the acrylic copolymer resin (b1) is not particularly limited, but is preferably 10 mgKOH/g or more, more preferably 15 mgKOH/g or more, still more preferably 20 mgKOH/g or more, still more preferably 25 mgKOH/g or more, and 30 mgKOH/g. g or more is particularly preferable, 150 mgKOH/g or less is preferable, 120 mgKOH/g or less is more preferable, 100 mgKOH/g or less is still more preferable, and 80 mgKOH/g or less is even more preferable.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • X represents a linking group represented by general formula (i-13-1) or (i-13-2) below. However, it contains one or more adamantane structures in its molecular structure.
  • c represents 2 or 3;
  • p and q each independently represent an integer of 0 to 4
  • R 141 and R 142 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom
  • R 143 and R 144 each independently represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms
  • x and y each independently represent an integer of 0 or more.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy (meth)acrylate resin (b2) is not particularly limited, but is preferably 1000 or more, more preferably 2000 or more, still more preferably 3000 or more, even more preferably 4000 or more, and particularly 5000 or more. It is preferably 30,000 or less, more preferably 20,000 or less, even more preferably 15,000 or less, even more preferably 10,000 or less, and particularly preferably 8,000 or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 1,000 to 30,000 is preferred, 2,000 to 20,000 is more preferred, 3,000 to 15,000 is even more preferred, 4,000 to 10,000 is even more preferred, and 5,000 to 8,000 is particularly preferred.
  • the content is equal to or higher than the lower limit, there is a tendency that the film strength is improved. A residue tends to be reduced by making it below the said upper limit.
  • R a represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R b represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent.
  • the benzene ring in formula (i) may be further substituted with any substituent. * represents a bond.
  • R b represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent.
  • the divalent hydrocarbon group for example, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic ring group, and one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups linked groups.
  • the divalent aliphatic group includes linear, branched and cyclic aliphatic groups. Among these, straight-chain aliphatic groups are preferable from the viewpoint of development solubility, while cyclic aliphatic groups are preferable from the viewpoint of reducing permeation of the developer into the exposed area.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, still more preferably 6 or more, and preferably 20 or less, more preferably 15 or less, and still more preferably 10 or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 1-20, preferably 3-15, more preferably 6-10. When the content is equal to or higher than the lower limit, there is a tendency that the film strength is improved. The ink repellency tends to be improved by making it equal to or less than the above upper limit.
  • divalent linear aliphatic groups examples include methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-hexylene group and n-heptylene group. Among these, a methylene group is preferable from the viewpoint of ink repellency and manufacturing cost.
  • divalent branched aliphatic groups include, for example, the above divalent straight-chain aliphatic groups, and side chains of methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group and n-butyl group. , an iso-butyl group, a sec-butyl group, and a structure having a tert-butyl group.
  • the aromatic hydrocarbon ring in the divalent aromatic hydrocarbon ring group may be a monocyclic ring or a condensed ring.
  • the divalent aromatic hydrocarbon ring group includes, for example, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, which have two free valences, triphenylene ring, acenaphthene ring, fluoranthene ring, and fluorene ring.
  • the aromatic heterocyclic ring in the aromatic heterocyclic group may be a monocyclic ring or a condensed ring.
  • divalent aromatic heterocyclic groups include furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, and indole ring having two free valences.
  • R a and R b have the same definitions as in formula (i) above.
  • RY represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue. * represents a bond.
  • the benzene ring in formula (i-1) may be further substituted with any substituent.
  • the polybasic acid residue in formula (i-1) means a monovalent group obtained by removing one OH group from a polybasic acid or its anhydride.
  • polybasic acids include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, and endomethylene.
  • tetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid can be mentioned.
  • maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are preferred, and tetrahydrophthalic acid is more preferred.
  • phthalic acid and biphenyltetracarboxylic acid are preferred.
  • the number of partial structures represented by the formula (i-1) contained in one molecule of the epoxy (meth)acrylate resin (b2-1) is not particularly limited, but is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and 3. Above is more preferable, 10 or less is preferable, and 8 or less is more preferable.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 1-10, preferably 2-10, more preferably 3-8. Developability tends to be improved by setting the content to be at least the above lower limit. When the content is equal to or less than the above upper limit, there is a tendency that the film strength is improved.
  • the number of carbon atoms in the aliphatic ring group is preferably 4 or more, more preferably 6 or more, still more preferably 8 or more, preferably 40 or less, more preferably 30 or less, still more preferably 20 or less, and particularly preferably 15 or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 4-40, preferably 4-30, more preferably 6-20, and even more preferably 8-15.
  • the number of rings possessed by the divalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, it is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and preferably 10 or less, more preferably 5 or less, and still more preferably 3 or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 1-10, preferably 1-5, more preferably 2-3.
  • the content is equal to or higher than the lower limit, there is a tendency that the film strength is improved.
  • the developability tends to be improved by adjusting the content to be equal to or less than the above upper limit.
  • Examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclodecane ring, cyclododecane ring, norbornane ring, isobornane ring, adamantane ring, and cyclododecane ring.
  • An adamantane ring is preferable from the viewpoint of compatibility between film strength and developability.
  • aromatic ring in the aromatic ring group examples include benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, and fluorene ring.
  • a fluorene ring is preferable from the viewpoint of achieving both film strength and developability.
  • R c has the same meaning as in formula (ii).
  • R ⁇ represents a divalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent. * represents a bond.
  • the benzene ring in formula (ii-2) may be further substituted with any substituent.
  • aromatic ring in the aromatic ring group examples include benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, and fluorene ring.
  • a fluorene ring is preferred from the viewpoint of film strength and developability.
  • Substituents that the cyclic hydrocarbon group may have include, for example, a hydroxy group, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
  • alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group; nitro group; cyano group; and carboxy group. Unsubstituted is preferred from the viewpoint of ease of synthesis.
  • the benzene ring in formula (ii-2) may be further substituted with any substituent.
  • Acceptable substituents on the benzene ring in formula (ii-2) include, for example, hydroxy group, methyl group, methoxy group, ethyl group, ethoxy group, propyl group and propoxy group.
  • the number of substituents is also not particularly limited, and may be one or two or more. From the viewpoint of curability, it is preferably unsubstituted.
  • maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are preferred, and tetrahydrophthalic acid is more preferred.
  • phthalic acid and biphenyltetracarboxylic acid are preferred.
  • an acid value means the weighted average value according to the content rate.
  • the colored photosensitive resin composition of the present invention contains (c) a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that polymerizes the (d) photopolymerizable compound by actinic rays.
  • the metallocene compounds include, for example, dicyclopentadienyl titanium dichloride, dicyclopentadienyl titanium bisphenyl, dicyclopentadienyl titanium bis(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl ), dicyclopentadienyl titanium bis(2,3,5,6-tetrafluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium bis(2,4,6-trifluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium di( 2,6-difluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium di(2,4-difluorophenyl), di(methylcyclopentadienyl) titanium bis(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl), di(methylcyclopentadienyl) titanium bis(2,6-difluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium [2,6-di-fluoro-3-(pyrrol-1
  • R 21a represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, or an optionally substituted aromatic ring group.
  • R 21b represents any substituent containing an aromatic ring.
  • R 22a represents an optionally substituted alkanoyl group or an optionally substituted aryloyl group.
  • n represents an integer of 0 or 1;
  • Examples of the aromatic ring group include a phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, and a furyl group. Among these, from the viewpoint of developability, a phenyl group and a naphthyl group are preferable, and a phenyl group is more preferable.
  • Examples of the substituent that the aromatic ring group may have include a hydroxyl group, a carboxy group, a halogen atom, an amino group, an amide group, an alkyl group, an alkoxy group, and groups in which these substituents are linked.
  • R 21a is preferably an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aromatic ring group.
  • the number of carbon atoms in the alkanoyl group in R 22a is not particularly limited, but from the viewpoint of solubility in solvents and sensitivity, it is preferably 2 or more, preferably 20 or less, more preferably 15 or less, further preferably 10 or less, and 5 The following are particularly preferred.
  • Alkanoyl groups include, for example, an acetyl group, an ethyloyl group, a propanoyl group, and a butanoyl group. Examples of substituents that the alkanoyl group may have include an aromatic ring group, a hydroxyl group, a carboxy group, a halogen atom, an amino group, and an amide group. is preferred.
  • the number of carbon atoms in the aryloyl group in R 22a is not particularly limited, it is preferably 7 or more, preferably 20 or less, more preferably 15 or less, and even more preferably 10 or less, from the viewpoint of solubility in solvents and sensitivity.
  • the aryloyl group includes, for example, a benzoyl group and a naphthoyl group. Examples of substituents that the aryloyl group may have include a hydroxyl group, a carboxy group, a halogen atom, an amino group, an amide group, and an alkyl group. preferable.
  • R 22a is preferably an optionally substituted alkanoyl group, more preferably an unsubstituted alkanoyl group, and even more preferably an acetyl group.
  • Photopolymerization initiators may be used singly or in combination of two or more.
  • the content ratio of the chain transfer agent to the (c) photopolymerization initiator in the colored photosensitive resin composition is as follows: (c) photopolymerization initiator With respect to 100 parts by mass, preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, further preferably 15 parts by mass or more, particularly preferably 20 parts by mass or more, and preferably 500 parts by mass or less, 300 parts by mass
  • (c) photopolymerization initiator With respect to 100 parts by mass, preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, further preferably 15 parts by mass or more, particularly preferably 20 parts by mass or more, and preferably 500 parts by mass or less, 300 parts by mass
  • the following is more preferable, 200 parts by mass or less is more preferable, and 100 parts by mass or less is particularly preferable.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • the ink repellency tends to be improved by making it equal to or higher than the lower limit.
  • the content is equal to or less than the above upper limit, there is a tendency that high-definition partition walls with a narrow line width can be formed.
  • a compound having two or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule is preferable from the viewpoint of being able to expand the difference in developer solubility between the exposed area and the non-exposed area due to polymerizability, crosslinkability, and the like.
  • the unsaturated bond is more preferably derived from a (meth)acryloyloxy group, that is, a (meth)acrylate compound.
  • polyfunctional ethylenic monomers having two or more ethylenically unsaturated bonds in one molecule.
  • the number of ethylenically unsaturated groups possessed by the polyfunctional ethylenic monomer is not particularly limited, but is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, still more preferably 5 or more, and preferably 15. Below, more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, particularly preferably 7 or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 2 to 15 are preferred, 2 to 10 are more preferred, 3 to 8 are even more preferred, and 5 to 7 are particularly preferred.
  • Ethylenically unsaturated compounds include, for example, esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; esters of aromatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; aliphatic polyhydroxy compounds, aromatic polyhydroxy compounds, etc. and esters obtained by an esterification reaction of polyhydric hydroxy compounds with unsaturated carboxylic acids and polybasic carboxylic acids.
  • esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylol ethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, and pentaerythritol triacrylate.
  • pentaerythritol tetraacrylate dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate
  • acrylic acid esters of aliphatic polyhydroxy compounds such as glycerol acrylate, methacrylic acid obtained by replacing the acrylate of these exemplary compounds with methacrylate Esters, likewise itaconate instead of itaconate, crotonate instead of clonate or maleate instead of maleate.
  • condensates of acrylic acid, phthalic acid, and ethylene glycol condensates of acrylic acid, maleic acid, and diethylene glycol
  • condensates of methacrylic acid, terephthalic acid, and pentaerythritol, acrylic acid, and adipine condensates of acids, butanediol and glycerin may be mentioned.
  • the molecular weight of the photopolymerizable compound (d) is not particularly limited. It is preferably 200 or more, more preferably 300 or more, particularly preferably 400 or more, most preferably 500 or more, preferably 1000 or less, more preferably 700 or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily. For example, 100 to 1000 is preferred, 150 to 1000 is more preferred, 200 to 1000 is even more preferred, 300 to 700 is even more preferred, 400 to 700 is even more preferred, and 500 to 700 is particularly preferred.
  • the content of (d) the photopolymerizable compound relative to 100 parts by mass of the alkali-soluble resin (b) is not particularly limited, but is preferably 1 part by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more, and still more preferably 10 parts by mass or more. More preferably 15 parts by mass or more, particularly preferably 20 parts by mass or more, particularly preferably 25 parts by mass or more, most preferably 30 parts by mass or more, and preferably 150 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass Below, more preferably 70 parts by mass or less, still more preferably 50 parts by mass or less, and particularly preferably 40 parts by mass or less.
  • the above upper and lower limits can be combined arbitrarily.
  • 1 to 150 parts by mass is preferable, 5 to 150 parts by mass is more preferable, 10 to 100 parts by mass is more preferable, 15 to 100 parts by mass is even more preferable, 20 to 70 parts by mass is particularly preferable, and 25 to 50 parts by weight is particularly preferred, and 30 to 40 parts by weight is most preferred.
  • the ink repellency tends to be improved by making it equal to or higher than the lower limit. When the content is equal to or less than the above upper limit, there is a tendency that high-definition partition walls with a narrow line width can be formed.
  • compound (e1) When compound (e1) has a fluorine atom, compound (e1) preferably has either or both of a perfluoroalkyl group and a perfluoroalkylene ether chain. Having one or both of a perfluoroalkyl group and a perfluoroalkylene ether chain makes it easier for the compound (e1) to be oriented on the surface of the partition wall, exhibits higher ink repellency, and prevents ink bleeding and color mixing. It tends to prevent more.
  • the compound (e1) having a cross-linking group and a fluorine atom includes, for example, an acrylic copolymer resin having an epoxy group and a perfluoroalkyl group, an acrylic copolymer resin having an epoxy group and a perfluoroalkylene ether chain, and an ethylenically unsaturated group.
  • Cationic surfactants include, for example, quaternary ammonium salts, imidazoline derivatives, and alkylamine salts.
  • amphoteric surfactants include betaine-type compounds, imidazolium salts, imidazolines, and amino acids. Among these, quaternary ammonium salts are preferred, and stearyltrimethylammonium salts are more preferred.
  • Examples of commercially available products include alkylamine salts such as "Acetamine (registered trademark) 24" manufactured by Kao Corporation, and quaternary ammonium salts such as "Cortamine (registered trademark) 24P” manufactured by Kao Corporation. ”, and “Cortamine 86W”.
  • a silicone-based surfactant and a fluorine-based surfactant for example, "DFX-18” manufactured by Neos, "BYK-300” or “BYK-330” manufactured by BYK-Chemie and "S-” manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd. 393”; Combination of Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. “KP340” and DIC “F-554” or “F-559”; Toray Dow Corning Co., Ltd. “SH7PA” and Daikin Co., Ltd. “DS-401” Combination with: A combination of "L-77” manufactured by NUC and "FC4430" manufactured by 3M Japan.
  • a polymerization inhibitor may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the produced alkali-soluble resin may contain a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor may be used as it is contained in the alkali-soluble resin, or in addition to the polymerization inhibitor contained in the resin, the same or a different polymerization inhibitor may be added during the production of the colored photosensitive resin composition. Further may be added.
  • Thermal polymerization initiator The colored photosensitive resin composition of the invention may contain a thermal polymerization initiator. Inclusion of a thermal polymerization initiator tends to increase the degree of cross-linking of the film. Specific examples of such thermal polymerization initiators include azo compounds, organic peroxides, and hydrogen peroxide. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • amino compounds include amino compounds having a methylol group as a functional group and at least two alkoxymethyl groups obtained by subjecting the methylol group to condensation-denaturation with an alcohol having 1 to 8 carbon atoms.
  • melamine resin obtained by polycondensation of melamine and formaldehyde
  • benzoguanamine resin obtained by polycondensation of benzoguanamine and formaldehyde
  • glycoluril resin obtained by polycondensation of glycoluril and formaldehyde
  • Polycondensed urea resins resins obtained by co-polycondensing two or more of melamine, benzoguanamine, glycoluril, or urea with formaldehyde
  • modified resins obtained by modifying the methylol groups of the above resins by alcohol condensation. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • Adhesion Improver The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain an adhesion improver for the purpose of imparting adhesion to a substrate.
  • adhesion improvers include phosphoric acid-based ethylenic monomers.
  • phosphoric acid-based ethylenic monomer (meth)acryloyloxy group-containing phosphates are preferable, and those represented by the following general formulas (g1), (g2) and (g3) are preferable.
  • a solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the content of the solvent in the colored photosensitive resin composition solution is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, still more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 25% by mass or more.
  • it is preferably used in an amount of 90% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, still more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 35% by mass or less.
  • it is preferably used in an amount of 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 50% by mass, even more preferably 20 to 40% by mass, and particularly preferably 25 to 35% by mass.
  • the temperature is preferably from 0°C to 100°C, more preferably from room temperature to 80°C.
  • the appropriate dispersion time varies depending on the composition of the liquid, the size of the dispersion treatment apparatus, etc., and is therefore adjusted as appropriate.
  • the index of dispersion is to control the gloss of the ink so that the 20 degree specular gloss (JIS Z8741) of the colored photosensitive resin composition is in the range of 50-300.
  • the thickness of the partition wall of the present invention is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 1 ⁇ m or more, still more preferably 5 ⁇ m or more, particularly preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 1 mm or less, more preferably 100 ⁇ m or less, and still more preferably. is 50 ⁇ m or less, more preferably 30 ⁇ m or less, particularly preferably 20 ⁇ m or less.
  • the film thickness of the partition wall is measured by a level difference/surface roughness/fine shape measuring device, a scanning white light interference microscope, an ellipsometer, a reflection spectroscopic film thickness meter, and an electron microscope.
  • partition walls are formed on a glass substrate laminated with transparent electrodes, and a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a metal electrode layer are laminated in an opening surrounded by the partition walls.
  • barrier ribs are formed on a glass substrate laminated with a metal electrode layer, and an electron transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, and a transparent electrode layer are stacked in an opening surrounded by the barrier ribs. manufactured by
  • the color filter containing the luminescent nanocrystalline particles of the present invention is not particularly limited as long as it comprises the partition walls of the present invention, and pixels are formed in regions partitioned by the partition walls. The following are listed.
  • the photomask used was a photomask having linear openings of various widths with an opening width of 5 to 50 ⁇ m (5 to 20 ⁇ m: every 1 ⁇ m, 25 to 50 ⁇ m: every 5 ⁇ m) and an opening length of 2 mm.
  • the substrate was cured by heating in an oven at 150° C. for 30 minutes to prepare a linear pattern substrate assuming partition walls.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

低い露光量でも十分な撥インク性を確保可能な着色感光性樹脂組成物を提供する。本発明の着色感光性樹脂組成物は、(a)着色剤、(b)アルカリ可溶性樹脂、(c)光重合開始剤、(d)光重合性化合物及び(e)撥液剤を含有し、前記(a)着色剤が(a1)白色顔料を含有し、前記(a)着色剤の含有割合が、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して30質量%以下であり、前記(b)アルカリ可溶性樹脂の二重結合当量が400g/mol以下であり、前記(e)撥液剤が、架橋基を有し、且つフッ素原子及び/又はシロキサン鎖を有する化合物(e1)を含有することを特徴とする。

Description

着色感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ及び画像表示装置
 本発明は、着色感光性樹脂組成物に関し、さらに着色感光性樹脂組成物を硬化させた硬化物、硬化物から構成される隔壁、並びに隔壁を備える有機電界発光素子、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ及び画像表示装置に関する。
 本願は、2021年3月31日に日本に出願された特願2021-061055号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
 近年、ディスプレイの低消費電力化や広色域化のため、量子ドット等の発光性ナノ結晶粒子を用いた画素やカラーフィルタの形成が検討されている。画素やカラーフィルタの製造方法には、フォトリソグラフィー法とインクジェット法があり、後者の方がインク材料のロスを低減できることが知られている(例えば、特許文献1参照)。
 インクジェット法により発光性ナノ結晶粒子を含む画素やカラーフィルタを製造する場合、予め作製した隔壁に囲まれた領域(画素部)に発光性ナノ結晶粒子を含むインクを吐出して画素を形成する。
 有機電界ディスプレイなどに用いられる有機電界発光素子は、基板上に隔壁(バンク)を形成し、隔壁に囲まれた領域内に、種々の機能層を積層して製造されている。隔壁内に機能層を積層する方法には、インクジェット法が知られている。
 発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ用の隔壁も、有機電界発光素子用の隔壁も、インクジェットによりインクを吐出する際に、隣接する画素部間におけるインク同士の混合等を防ぐ必要があり、高い撥インク性が求められる。
 撥インク性を有する隔壁をフォトリソグラフィー法により形成する材料として、特許文献2には特定のアルカリ可溶性樹脂を2種類併用することで、撥インク性が高く、直線性が良好な着色感光性樹脂組成物が得られることが記載されている。
 特許文献3には光学センサ用の白色膜として酸化チタン粒子等をフッ素やシロキサンを含有する樹脂と共に用いて経時での濃度ムラを抑制する方法が記載されている。
 特許文献4には、ホワイト顔料を含有する量子ドット用の撥液性隔壁を用いた表示装置について記載されている。
日本国特開2019-086745号公報 国際公開第2019/146685号 日本国特許06688875号公報 韓国公開10-2019―0094797号公報
 本発明者らが検討したところ、特許文献2に記載の感光性樹脂組成物では、露光量が低い場合に十分な撥インク性を確保することが困難であることが見出された。
 特許文献3に記載の組成物は、金属酸化物粒子の含有率が高く、基板との密着性が低いという問題があった。
 特許文献4に記載の量子ドット用撥液性隔壁は、具体的な組成の内容が記載されておらず、隔壁のパターンが形成出来るのか否か不明である。
 そこで本発明は、低い露光量でも十分な撥インク性を確保可能な着色感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
 また、本発明は、着色感光性樹脂組成物を硬化させた硬化物、硬化物から構成される隔壁、並びに隔壁を備える有機電界発光素子、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ及び画像表示装置を提供することを目的とする。
 本発明者らが鋭意検討した結果、撥液剤を含有する着色感光性樹脂組成物において、特定のアルカリ可溶性樹脂を用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
 即ち本発明の要旨は以下の通りである。
[1](a)着色剤、(b)アルカリ可溶性樹脂、(c)光重合開始剤、(d)光重合性化合物及び(e)撥液剤を含有する着色感光性樹脂組成物であって、
 前記(a)着色剤が(a1)白色顔料を含有し、
 前記(a)着色剤の含有割合が、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して30質量%以下であり、
 前記(b)アルカリ可溶性樹脂の二重結合当量が400g/mol以下であり、
 前記(e)撥液剤が、架橋基を有し、且つフッ素原子及び/又はシロキサン鎖を有する化合物(e1)を含有することを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
[2]前記(b)アルカリ可溶性樹脂が、下記一般式(I)で示される部分構造を有するアクリル共重合樹脂(b1)を含有する、[1]の着色感光性樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(式(I)中、R1及びR2は各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。*は結合手を表す。)
[3]前記(b)アルカリ可溶性樹脂における前記アクリル共重合樹脂(b1)の含有割合が40質量%以上である[2]の着色感光性樹脂組成物。
[4]前記(a)着色剤における前記(a1)白色顔料の含有割合が50質量%以上である[1]~[3]のいずれかの着色感光性樹脂組成物。
[5]前記(a1)白色顔料の一次粒子の平均粒子径が100nm以上である[1]~[4]のいずれかの着色感光性樹脂組成物。
[6]前記(a1)白色顔料が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム及び酸化ハフニウムのうち少なくとも1種を含む、[1]~[5]のいずれかの着色感光性樹脂組成物。
[7]前記(a1)白色顔料が、少なくとも酸化チタンを含む、[6]の着色感光性樹脂組成物。
[8]前記(c)光重合開始剤の含有割合が、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して3質量%以下である[1]~[7]のいずれかの着色感光性樹脂組成物。
[9]溶剤を含有する[1]~[8]のいずれかの着色感光性樹脂組成物。
[10][1]~[9]のいずれかの着色感光性樹脂組成物を硬化させた硬化物。
[11][10]の硬化物から構成される隔壁。
[12][11]の隔壁を備える有機電界発光素子。
[13][11]の隔壁を備える、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ。
[14][11]の隔壁を備える画像表示装置。
 本発明によれば、低い露光量でも十分な撥インク性を確保可能な着色感光性樹脂組成物を提供できる。
本発明の隔壁を備える、カラーフィルタの一例の模式断面図である。 ライン状パターン基板の一例の模式図である。
 以下、本発明を詳細に説明する。なお、以下の記載は本発明の実施形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらに特定されない。
 本発明において、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル及びメタクリルのいずれか一方又は両方」を意味する。
 「全固形分量」とは、着色感光性樹脂組成物における溶剤以外の全成分量を意味する。溶剤以外の成分が常温で液体であっても、その成分は溶剤には含めず、全固形分量に含める。
 本発明において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
 本発明において、「(共)重合体」とは、単一重合体(ホモポリマー)と共重合体(コポリマー)の双方を含むことを意味し、「(酸)無水物」、「(無水)…酸」とは、酸とその無水物の双方を含むことを意味する。
 本発明において、隔壁材とはバンク材、壁材、ウォール材をさし、同様に、隔壁とはバンク、壁、ウォールをさす。
 本発明において、重量平均分子量とは、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)によるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)を意味する。
 本発明において、酸価とは、特に断りのない限り有効固形分換算の酸価を意味し、中和滴定により算出される。
 本発明において隔壁とは、例えば、量子ドットナノ粒子を含むカラーフィルタや発光素子等の機能層を区画するためのものとして使用することができ、区画された領域(画素領域)に機能層を構成するための材料であるインクを吐出し、必要に応じて乾燥、硬化させることで、機能層及び隔壁を含む画素等を形成させていくために使用することができる。
[1]着色感光性樹脂組成物
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、(a)着色剤、(b)アルカリ可溶性樹脂、(c)光重合開始剤、(d)光重合性化合物及び(e)撥液剤を必須成分として含有し、さらに必要に応じてその他の成分を含んでいてもよく、例えば(f)分散剤、溶剤、連鎖移動剤を含んでいてもよい。
[1-1]着色感光性樹脂組成物の成分および組成
 本発明の着色感光性樹脂組成物を構成する成分およびその組成について順に説明する。
[1-1-1](a)着色剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、(a)着色剤を含有し、(a)着色剤は(a1)白色顔料を含有する。(a)着色剤が(a1)白色顔料を含有することで、着色感光性樹脂組成物から形成される隔壁の反射率を高め、画像表示装置の輝度を向上できる傾向がある。
 (a1)白色顔料は、粒子形状であっても、非粒子形状であってもよい。分散安定性や反射性能の観点から、粒子形状が好ましい。
 (a1)白色顔料としては金属酸化物が挙げられ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化ハフニウムが好ましい。(a1)白色顔料が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム及び酸化ハフニウムのうち少なくとも1種を含むことが好ましい。酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化ハフニウムの中でも、粒子の安定性の観点から酸化チタン、酸化ジルコニウムが好ましく、反射率を高める観点から酸化チタンがより好ましい。酸化チタンの結晶系は、例えば、アナターゼ型、ルチル型があり、特に限定されないが、安定性の観点から触媒活性の低いルチル型が好ましい。
 (a1)白色顔料として、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム以外にも、他の金属酸化物を併用してもよい。
 具体的には、例えば、酸化鉄、酸化銅、酸化亜鉛、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化ゲルマニウム、チタン酸バリウムが挙げられる。また2種以上の金属元素から構成される複合酸化物なども使用することができる。
 (a1)白色顔料が粒子形状の場合、(a1)白色顔料の一次粒子の平均粒子径は、特に限定されないが、1000nm以下が好ましく、500nm以下がより好ましく、400nm以下がさらに好ましく、300nm以下が特に好ましい。また、10nm以上が好ましく、50nm以上がより好ましく、100nm以上がさらに好ましく、150nm以上がよりさらに好ましく、180nm以上が特に好ましい。一次粒子の平均粒子径が前記上限値以下であると、分散安定性が高くなる傾向がある。前記下限値以上であれば、隔壁の反射率が高くなる傾向がある。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、10~1000nmが好ましく、50~1000nmがより好ましく、100~500nmがさらに好ましく、150~400nmがよりさらに好ましく、180~300nmが特に好ましい。
 (a1)白色顔料の一次粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)、又は走査型電子顕微鏡(SEM)を使用して、その電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で測定する。具体的には、個々の粒子の一次粒子径を、円相当径として算出する。測定は、100~500nm四方の範囲をイメージングし、範囲内にある全粒子に対して実施する。何度か異なる範囲をイメージングし、合計200~1000個の一次粒子の粒子径を測定し、その数平均をとることで、平均粒子径を求める。一次粒子径の測定は、例えば、白色顔料単体、その分散液、着色感光性樹脂組成物の硬化膜に対して実施することができる。測定サンプルを作製する際は、サンプル中に(a1)白色顔料が均一に存在するようにしなければならない。分散液の場合は、分散直後の分散液を用いて、溶剤を揮発させてから測定を実施する。また、硬化膜の場合は、粒子が均一に分散された着色感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を作製し、膜の厚さ方向に切断し、その断面を観察することで測定を実施する。
 (a1)白色顔料の分散粒子の平均粒子径は、動的光散乱法やレーザー回折法、さらには分散液の塗膜を作り乾燥した上で、SEMで粒径を計測する方法を使用して測定できる。特に限定されないが、好ましくは50nm以上、より好ましくは100nm以上、さらに好ましくは150nm以上、特に好ましくは180nm以上である。また、好ましくは1000nm以下、より好ましくは500nm以下、さらに好ましくは400nm以下、特に好ましくは300nm以下である。一次粒子の平均粒子径が前記上限値以下であると、分散安定性が高くなる傾向がある。前記下限値以上であれば、隔壁の反射率が高くなる傾向がある。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、50~1000nmが好ましく、100~500nmがより好ましく、150~400nmがさらに好ましく、180~300nmが特に好ましい。
 (a1)白色顔料が粒子形状である場合、例えば、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、又は不定形状であり、好ましくは球状である。
 本発明で用いる(a)着色剤は、(a1)白色顔料以外の着色剤を用いてもよい。種類は特に限定されず、白色顔料以外の顔料を用いてもよいし、染料を用いてもよい。(a1)白色顔料以外の着色剤を用いる場合、耐久性の観点から、白色顔料以外の顔料を用いることが好ましい。
 (a1)白色顔料以外の(a)着色剤に含まれる顔料は、1種でも2種以上でもよい。
 (a)着色剤として用いることができる(a1)白色顔料以外の顔料の種類は特に限定されないが、例えば、有機顔料や無機顔料が挙げられる。これらの中でも、着色感光性樹脂組成物の透過波長をコントロールして効率的に硬化させるとの観点からは、有機顔料を用いることが好ましい。
 有機顔料としては、有機着色顔料や有機黒色顔料が挙げられる。ここで、有機着色顔料とは、黒色以外の色を呈する有機顔料のことを意味し、例えば、赤色顔料、橙色顔料、青色顔料、紫色顔料、緑色顔料、黄色顔料が挙げられる。
 有機顔料の中でも、紫外線吸収性の観点から有機着色顔料を用いることが好ましく、遮光性、絶縁性の観点から有機黒色顔料を用いることが好ましい。
 有機着色顔料は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。特に、遮光性の用途に用いる場合には、色の異なる有機着色顔料を組み合わせて用いることがより好ましく、黒に近い色を呈する有機着色顔料の組み合わせを用いることがさらに好ましい。
 これらの有機顔料の化学構造は特に限定されないが、例えば、アゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、インダンスレン系、ペリレン系が挙げられる。以下、使用できる顔料の具体例をピグメントナンバーで示す。以下に挙げる「C.I.ピグメントレッド2」等の用語は、カラーインデックス(C.I.)を意味する。
 赤色顔料としては、C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、7、8、9、12、14、15、16、17、21、22、23、31、32、37、38、41、47、48、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、50:1、52:1、52:2、53、53:1、53:2、53:3、57、57:1、57:2、58:4、60、63、63:1、63:2、64、64:1、68、69、81、81:1、81:2、81:3、81:4、83、88、90:1、101、101:1、104、108、108:1、109、112、113、114、122、123、144、146、147、149、151、166、168、169、170、172、173、174、175、176、177、178、179、181、184、185、187、188、190、193、194、200、202、206、207、208、209、210、214、216、220、221、224、230、231、232、233、235、236、237、238、239、242、243、245、247、249、250、251、253、254、255、256、257、258、259、260、262、263、264、265、266、267、268、269、270、271、272、273、274、275、276を挙げることができる。
 遮光性、分散性の観点から好ましくはC.I.ピグメントレッド48:1、122、149、168、177、179、194、202、206、207、209、224、242、254、さらに好ましくはC.I.ピグメントレッド177、209、224、254を挙げることができる。
 分散性や遮光性の点で、C.I.ピグメントレッド177、254、272を用いることが好ましく、着色感光性樹脂組成物を紫外線で硬化させる場合には、赤色顔料としては紫外線吸収率の低いものを使用することが好ましく、係る観点からはC.I.ピグメントレッド254、272を用いることがより好ましい。
 橙色(オレンジ)顔料としては、C.I.ピグメントオレンジ1、2、5、13、16、17、19、20、21、22、23、24、34、36、38、39、43、46、48、49、61、62、64、65、67、68、69、70、71、72、73、74、75、77、78、79を挙げることができる。
 分散性や遮光性の観点から、C.I.ピグメントオレンジ13、43、64、72を用いることが好ましく、着色感光性樹脂組成物を紫外線で硬化させる場合には、オレンジ顔料としては紫外線吸収率の低いものを使用することが好ましく、係る観点からはC.I.ピグメントオレンジ64、72を用いることがより好ましい。
 青色顔料としては、C.I.ピグメントブルー1、1:2、9、14、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、17、19、25、27、28、29、33、35、36、56、56:1、60、61、61:1、62、63、66、67、68、71、72、73、74、75、76、78、79を挙げることができる。
 遮光性の観点から、好ましくはC.I.ピグメントブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、60、さらに好ましくはC.I.ピグメントブルー15:6を挙げることができる。
 分散性や遮光性の点で、C.I.ピグメントブルー15:6、16、60を用いることが好ましく、着色感光性樹脂組成物を紫外線で硬化させる場合には、青色顔料としては紫外線吸収率の低いものを使用することが好ましく、かかる観点からはC.I.ピグメントブルー60を用いることがより好ましい。
 紫色顔料としては、C.I.ピグメントバイオレット1、1:1、2、2:2、3、3:1、3:3、5、5:1、14、15、16、19、23、25、27、29、31、32、37、39、42、44、47、49、50を挙げることができる。
 遮光性の観点から、好ましくはC.I.ピグメントバイオレット19、23、さらに好ましくはC.I.ピグメントバイオレット23を挙げることができる。
 分散性や遮光性の点で、C.I.ピグメントバイオレット23、29を用いることが好ましく、着色感光性樹脂組成物を紫外線で硬化させる場合には、紫色顔料としては紫外線吸収率の低いものを使用することが好ましく、係る観点からはC.I.ピグメントバイオレット29を用いることがより好ましい。
 緑色顔料としては、C.I.ピグメントグリーン1、2、4、7、8、10、13、14、15、17、18、19、26、36、45、48、50、51、54、55を挙げることができる。
 好ましくはC.I.ピグメントグリーン7、36を挙げることができる。
 黄色顔料としては、C.I.ピグメントイエロー1、1:1、2、3、4、5、6、9、10、12、13、14、16、17、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、41、42、43、48、53、55、61、62、62:1、63、65、73、74、75、81、83、87、93、94、95、97、100、101、104、105、108、109、110、111、116、117、119、120、126、127、127:1、128、129、133、134、136、138、139、142、147、148、150、151、153、154、155、157、158、159、160、161、162、163、164、165、166、167、168、169、170、172、173、174、175、176、180、181、182、183、184、185、188、189、190、191、191:1、192、193、194、195、196、197、198、199、200、202、203、204、205、206、207、208を挙げることができる。
 好ましくはC.I.ピグメントイエロー83、117、129、138、139、150、154、155、180、185、さらに好ましくはC.I.ピグメントイエロー83、138、139、150、180を挙げることができる。
 遮光性や、撥インク性の観点から、赤色顔料、橙色顔料、青色顔料及び紫色顔料からなる群から選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましい。
 遮光性や、撥インク性の観点からは、以下の顔料のうち少なくとも1種以上を含有することが好ましい。
 赤色顔料:C.I.ピグメントレッド177、254、272
 橙色顔料:C.I.ピグメントオレンジ43、64、72
 青色顔料:C.I.ピグメントブルー15:6、60
 紫色顔料:C.I.ピグメントバイオレット23、29
 ある態様として、有機着色顔料を2種以上併用する場合、有機着色顔料の組み合わせについては特に限定されないが、遮光性の観点から、(a)着色剤として、赤色顔料及び橙色顔料からなる群から選ばれる少なくとも1種と、青色顔料及び紫色顔料からなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有することが好ましい。
 色の組み合わせについては特に限定されないが、遮光性の観点からは、例えば、赤色顔料と青色顔料の組み合わせ、青色顔料と橙色顔料の組み合わせ、青色顔料と橙色顔料と紫色顔料の組み合わせが挙げられる。
 有機黒色顔料としては、例えば、ペリレンブラック、アニリンブラック、ファーストブラックHB、ラクタム系化合物を挙げることができる。
 製版性の観点からは、ラクタム系化合物が好ましく、下記一般式(A)で表される化合物(以下、「化合物(A)」ともいう。)、化合物(A)の幾何異性体、化合物(A)の塩、及び化合物(A)の幾何異性体の塩からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む有機黒色顔料(以下、「一般式(A)で表される有機黒色顔料」と称する場合がある。)を用いることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 このような有機黒色顔料の具体例としては、商品名で、Irgaphor(登録商標) Black S 0100 CF(BASF社製)が挙げられる。
 この有機黒色顔料は、好ましくは後述される分散剤、溶剤、方法によって分散して使用される。分散の際に化合物(A)のスルホン酸誘導体が存在すると、分散性や保存性が向上する場合があるため、有機黒色顔料がこれらのスルホン酸誘導体を含むことが好ましい。
 無機顔料としては、例えば、カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、チタンブラック等の無機黒色顔料を挙げることができる。
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、(a)着色剤の含有割合が、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して30質量%以下であり、好ましくは25質量%以下、より好ましくは20質量%以下、さらに好ましくは15質量%以下、特に好ましくは10質量以下である。また、1質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、4質量%以上がさらに好ましく、5質量%以上が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~30質量%が好ましく、3~25質量%がより好ましく、4~20質量%がさらに好ましく、5~15質量%がよりさらに好ましく、5~10質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで隔壁の反射率が高くなる傾向がある。前記上限値以下とすることで基板との密着性が高くなる傾向がある。
 (a1)白色顔料が酸化チタンを含有する場合、本発明の着色感光性樹脂組成物は、酸化チタンの含有割合が、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して30質量%以下であり、25質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、15質量%以下がさらに好ましく、10質量%以下がよりさらに好ましい。また、1質量%以上が好ましく、2質量%以上がより好ましく、3質量%以上がさらに好ましく、4質量%以上が特に好ましく、5質量%以上がことさら好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~30質量%が好ましく、2~25質量%がより好ましく、3~20質量%がさらに好ましく、4~15質量%がよりさらに好ましく、5~10質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで隔壁の反射率が高くなる傾向がある。前記上限値以下とすることで分散安定性が高くなる傾向がある。
 (a)着色剤中の(a1)白色顔料の含有割合は、(a)着色剤の全質量に対して50質量%以上が好ましく、60質量%以上がより好ましく、70質量%以上がさらに好ましく、80質量%以上がよりさらに好ましく、90質量%以上が特に好ましく、また、100質量%以下である。前記下限値以上とすることで隔壁の反射率が高くなる傾向がある。
 (a)着色剤中の酸化チタンの含有割合は、(a)着色剤の全質量に対して50質量%以上が好ましく、60質量%以上がより好ましく、70質量%以上がさらに好ましく、80質量%以上がよりさらに好ましく、90質量%以上が特に好ましく、また、100質量%以下である。前記下限値以上とすることで隔壁の反射率が高くなる傾向がある。
[1-1-2](b)アルカリ可溶性樹脂
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、(b)アルカリ可溶性樹脂を含有する。本発明において、(b)アルカリ可溶性樹脂としてはアルカリ現像液で現像可能なものであれば特に限定されない。
 アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシ基又は水酸基を有する各種樹脂が挙げられるが、現像性に優れるとの観点からはカルボキシ基を有するものが好ましい。
 本発明の着色感光性樹脂組成物の(b)アルカリ可溶性樹脂は、二重結合当量が400g/mol以下である。また、(b)アルカリ可溶性樹脂は、下記一般式(I)で示される部分構造を有するアクリル共重合樹脂(b1)(以下、「アクリル共重合樹脂(b1)」と略記する場合がある。)を含有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 式(I)中、R1及びR2は各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。*は結合手を表す。
[アクリル共重合樹脂(b1)]
 アクリル共重合樹脂(b1)は、式(I)で示す通り、エチレン性不飽和基を有する側鎖を含む部分構造を有する。エチレン性不飽和基を有することで、露光による光硬化が起こってより強固な膜となり、現像時にも撥液剤が流出しにくくなり、撥インク性が発現しやすくなると考えられる。また、式(I)で示される部分構造を有することにより、膜の柔軟性が維持され、ラジカルが発散しやすい傾向にある。
 また、式(I)で表される部分構造の中でも、感度やアルカリ現像性の観点から、下記一般式(I’)で表される部分構造が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 式(I’)中、R1及びR2は各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。RXは水素原子又は多塩基酸残基を表す。
 式(I’)における多塩基酸残基とは、多塩基酸又はその無水物からOH基を1つ除した1価の基を意味する。多塩基酸としては、例えば、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸から選ばれた1種又は2種以上が挙げられる。
 パターニング特性の観点から、好ましくは、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸であり、より好ましくは、テトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸である。
 アクリル共重合樹脂(b1)に含まれる式(I)で表される部分構造の含有割合は特に限定されないが、アクリル共重合樹脂(b1)の構成単位の総モル数に対して10モル%以上が好ましく、30モル%以上がより好ましく、50モル%以上がさらに好ましく、60モル%以上がよりさらに好ましく、70モル%以上がことさらに好ましく、80モル%以上が特に好ましく、また、99モル%以下が好ましく、95モル%以下がより好ましく、90モル%以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、10~99モル%、好ましくは30~95モル%、より好ましくは50~95モル%、さらに好ましくは60~95モル%、よりさらに好ましくは70~95モル%、特に好ましくは80~90モル%である。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで線幅の細い高精細な隔壁を形成できる傾向がある。
 アクリル共重合樹脂(b1)が式(I’)で表される部分構造を有する場合、その含有割合は特に限定されないが、アクリル共重合樹脂(b1)の構成単位の総モル数に対して10モル%以上が好ましく、30モル%以上がより好ましく、50モル%以上がさらに好ましく、60モル%以上がよりさらに好ましく、70モル%以上がことさらに好ましく、80モル%以上が特に好ましく、また、99モル%以下が好ましく、95モル%以下がより好ましく、90モル%以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、10~99モル%、好ましくは30~95モル%、より好ましくは50~95モル%、さらに好ましくは60~95モル%、よりさらに好ましくは70~95モル%、特に好ましくは80~90モル%である。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで線幅の細い高精細な隔壁を形成できる傾向がある。
(一般式(II)で表される部分構造)
 式(I)で表される部分構造の他に、アクリル共重合樹脂(b1)が有する部分構造は特に限定されないが、現像密着性の観点から、例えば、下記一般式(II)で表される部分構造を有してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 式(II)中、R3は水素原子又はメチル基を表し、R4は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族環基、又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。
(R4
 前記式(II)において、R4は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族環基、又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。
 R4におけるアルキル基としては直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は、1以上が好ましく、3以上がより好ましく、5以上がさらに好ましく、8以上が特に好ましく、また、20以下が好ましく、18以下がより好ましく、16以下がさらに好ましく、14以下がよりさらに好ましく、12以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~20が好ましく、1~18がより好ましく、3~16がさらに好ましく、5~14がよりさらに好ましく、8~12が特に好ましい。前記下限値以上とすることで膜強度が高くなり、現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ジシクロペンタニル基、ドデカニル基が挙げられる。現像性の観点から、ジシクロペンタニル基、ドデカニル基が好ましく、ジシクロペンタニル基がより好ましい。
 アルキル基が有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
 R4における芳香族環基としては、1価の芳香族炭化水素環基及び1価の芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は6以上が好ましく、また、24以下が好ましく、22以下がより好ましく、20以下がさらに好ましく、18以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、6~24、好ましくは6~22、より好ましくは6~20、さらに好ましくは6~18である。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環が挙げられる。
 芳香族複素環基における芳香族複素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環が挙げられる。現像性の観点から、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。
 芳香族環基が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシ基が挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
 R4におけるアルケニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニル基が挙げられる。その炭素数は、2以上であり、また、22以下が好ましく、20以下より好ましく、18以下さらに好ましく、16以下よりさらに好ましく、14以下特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、2~22、好ましくは2~20、より好ましくは2~18、さらに好ましくは2~16、よりさらに好ましくは2~14である。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 アルケニル基が有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシ基が挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
 R4としては、現像性と膜強度の観点から、アルキル基、アルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
 アクリル共重合樹脂(b1)が式(II)で表される部分構造を有する場合、その含有割合は特に限定されないが、アクリル共重合樹脂(b1)の構成単位の総モル数に対して1モル%以上が好ましく、2モル%以上がより好ましく、5モル%以上がさらに好ましく、10モル%以上がよりさらに好ましく、20モル%以上が特に好ましく、また、70モル%以下が好ましく、60モル%以下がより好ましく、50モル%以下がさらに好ましく、40モル%以下がよりさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~70モル%、好ましくは2~70モル%、より好ましくは5~60モル%、さらに好ましくは10~50モル%、特に好ましくは20~40モル%である。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
(一般式(III)で表される部分構造)
 式(I)で表される部分構造の他に、アクリル共重合樹脂(b1)が有する部分構造として、耐熱性、膜強度の観点から下記一般式(III)で表される部分構造を有してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 式(III)中、R5は水素原子又はメチル基を表し、R6は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルコキシ基、チオール基、又は置換基を有していてもよいアルキルスルフィド基を表す。tは0~5の整数を表す。
(R6
 R6におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は、1以上が好ましく、3以上がより好ましく、5以上がさらに好ましく、また、20以下が好ましく、18以下がより好ましく、16以下がさらに好ましく、14以下がよりさらに好ましく、12以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~20、好ましくは1~18、より好ましくは3~16、さらに好ましくは5~14である。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ジシクロペンタニル基、ドデカニル基が挙げられる。現像性と膜強度の観点から、ジシクロペンタニル基又はドデカニル基が好ましく、ジシクロペンタニル基がより好ましい。
 アルキル基が有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
 R6におけるアルケニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニル基が挙げられる。その炭素数は、2以上であり、また、22以下が好ましく、20以下がより好ましく、18以下がさらに好ましく、16以下がよりさらに好ましく、14以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、2~22、好ましくは2~20、より好ましくは2~18、さらに好ましくは2~16、よりさらに好ましくは2~14である。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 アルケニル基が有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシ基が挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
 R6におけるアルキニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキニル基が挙げられる。その炭素数は、2以上であり、また、22以下が好ましく、20以下がより好ましく、18以下がさらに好ましく、16以下がよりさらに好ましく、14以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、2~22、好ましくは2~20、より好ましくは2~18、さらに好ましくは2~16、よりさらに好ましくは2~14である。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 アルキニル基が有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシ基が挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
 R6におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、撥インク性の観点からはフッ素原子が好ましい。
 R6におけるアルコキシ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルコキシ基が挙げられる。その炭素数は、1以上であり、また、20以下が好ましく、18以下がより好ましく、16以下がさらに好ましく、14以下がよりさらに好ましく、12以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~20、好ましくは1~18、より好ましくは1~16、さらに好ましくは1~14、よりさらに好ましくは1~12である。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 アルコキシ基が有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
 R6におけるアルキルスルフィド基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキルスルフィド基が挙げられる。その炭素数は、1以上が好ましく、また、20以下が好ましく、18以下がより好ましく、16以下がさらに好ましく、14以下がよりさらに好ましく、12以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~20、好ましくは1~18、より好ましくは1~16、さらに好ましくは1~14、よりさらに好ましくは1~12である。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 アルキルスルフィド基におけるアルキル基が有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
 R6としては、現像性の観点から、ヒドロキシ基、カルボキシ基が好ましく、カルボキシ基がより好ましい。
 式(III)においてtは0~5の整数を表すが、製造容易性の観点からはtが0であることが好ましい。
 アクリル共重合樹脂(b1)が式(III)で表される部分構造を有する場合、その含有割合は特に限定されないが、アクリル共重合樹脂(b1)の構成単位の総モル数に対して0.5モル%以上が好ましく、1モル%以上がより好ましく、2モル%以上がさらに好ましく、4モル%以上が特に好ましい。また、50モル%以下が好ましく、30モル%以下がより好ましく、20モル%以下がさらに好ましく、10モル%以下がよりさらに好ましく、6モル%以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.5~50モル%、好ましくは1~30モル%、より好ましくは1~20モル%、さらに好ましくは2~10モル%、よりさらに好ましくは4~6モル%である。前記下限値以上とすることで膜の均一性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
(一般式(IV)で表される部分構造)
 式(I)で表される部分構造の他に、アクリル共重合樹脂(b1)が有する部分構造として、現像性の観点から下記一般式(IV)で表される部分構造を有してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 式(IV)中、R7は水素原子又はメチル基を表す。
 アクリル共重合樹脂(b1)が式(IV)で表される部分構造を有する場合、その含有割合は特に限定されないが、アクリル共重合樹脂(b1)の構成単位の総モル数に対して5モル%以上が好ましく、10モル%以上がより好ましく、20モル%以上がさらに好ましく、また、80モル%以下が好ましく、70モル%以下がより好ましく、60モル%以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、5~80モル%、好ましくは10~70モル%、より好ましくは20~60モル%である。前記下限値以上とすることで残渣が低減する傾向がある。前記上限値以下とすることで撥インク性が向上する傾向がある。
 アクリル共重合樹脂(b1)の二重結合当量は、400g/mol以下であり、350g/mol以下が好ましく、300g/mol以下がより好ましく、270g/mol以下がさらに好ましい。また、80g/mol以上が好ましく、100g/mol以上がより好ましく、150g/mol以上がさらに好ましく、200g/mol以上が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、80~400g/molが好ましく、100~350g/molがより好ましく、150~300g/molがさらに好ましく、200~270g/molが特に好ましい。前記上限値以下とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。
 アクリル共重合樹脂(b1)の二重結合当量は、下記式から算出することができる。
(アクリル共重合樹脂(b1)の二重結合当量)
=(アクリル共重合樹脂(b1)の重量平均分子量)/(アクリル共重合樹脂(b1)1分子当たりのエチレン性不飽和二重結合の数)
 アクリル共重合樹脂(b1)の酸価は特に限定されないが、10mgKOH/g以上が好ましく、15mgKOH/g以上がより好ましく、20mgKOH/g以上がさらに好ましく、25mgKOH/g以上がよりさらに好ましく、30mgKOH/g以上が特に好ましく、また、150mgKOH/g以下が好ましく、120mgKOH/g以下がより好ましく、100mgKOH/g以下がさらに好ましく、80mgKOH/g以下がよりさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、10~150mgKOH/gが好ましく、15~120mgKOH/gがより好ましく、20~100mgKOH/gがさらに好ましく、25~80mgKOH/gがよりさらに好ましく、30~80mgKOH/gが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像密着性が向上する傾向がある。
 アクリル共重合樹脂(b1)の重量平均分子量(Mw)は特に限定されないが、1000以上が好ましく、2000以上がより好ましく、4000以上がさらに好ましく、6000以上がよりさらに好ましく、7000以上が特に好ましく、また、30000以下が好ましく、20000以下がより好ましく、15000以下がさらに好ましく、10000以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1000~30000が好ましく、2000~20000がより好ましく、4000~20000がさらに好ましく、6000~15000がよりさらに好ましく、7000~15000がことさらに好ましく、7000~10000が特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 (b)アルカリ可溶性樹脂に含まれるアクリル共重合樹脂(b1)の含有割合は特に限定されないが、(b)アルカリ可溶性樹脂の全質量に対して10質量%以上が好ましく、20質量%以上がより好ましく、30質量%以上がさらに好ましく、40質量%以上がよりさらに好ましく、50質量%以上が特に好ましく、また、100質量%以下が好ましく、95質量%以下がより好ましく、90質量%以下がさらに好ましく、85質量%以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、10~100質量%が好ましく、20~95質量%がより好ましく、30~90質量%がさらに好ましく、40~85質量%がよりさらに好ましく、50~85質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで線幅の細い高精細な隔壁を形成できる傾向がある。
 (b)アルカリ可溶性樹脂がアクリル共重合樹脂(b1)と後述するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)の両方を含有する場合、アクリル共重合樹脂(b1)の含有割合は、アクリル共重合樹脂(b1)とエポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)との含有割合の合計に対して、10質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましく、60質量%以上がよりさらに好ましく、70質量%以上が特に好ましく、また99質量%以下が好ましく、95質量%以下がより好ましく、90質量%以下がさらに好ましく、85質量%以下が特に好ましい。例えば、10~99質量%が好ましく、30~95質量%がより好ましく、50~90質量%がさらに好ましく、70~85質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで隔壁断面の垂直性が向上する傾向がある。
 アクリル共重合樹脂(b1)の具体例としては、例えば、日本国特開平8-297366号公報や日本国特開2001-89533号公報に記載の樹脂が挙げられる。
 本発明の着色感光性樹脂組成物の(b)アルカリ可溶性樹脂は、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)を含有していてもよい。
[エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)]
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)は、エポキシ樹脂にエチレン性不飽和モノカルボン酸又はエステル化合物を付加し、任意でイソシアネート基含有化合物を反応させた後、さらに多塩基酸又はその無水物を反応させた樹脂である。例えば、エポキシ樹脂のエポキシ基に、不飽和モノカルボン酸のカルボキシ基が開環付加されることにより、エポキシ化合物にエステル結合(-COO-)を介してエチレン性不飽和結合が付加されると共に、その際生じた水酸基に、多塩基酸無水物の一方のカルボキシ基が付加されたものが挙げられる。また多塩基酸無水物を付加するときに、多価アルコールを同時に添加して付加されたものも挙げられる。
 また上記反応で得られた樹脂のカルボキシ基に、さらに反応し得る官能基を有する化合物を反応させて得られる樹脂も、上記エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)に含まれる。
 このように、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂は化学構造上、実質的にエポキシ基を有さず、かつ「(メタ)アクリレート」に限定されるものではないが、エポキシ化合物(エポキシ樹脂)が原料であり、かつ、「(メタ)アクリレート」が代表例であるので慣用に従いこのように命名されている。(b2)エポキシ(メタ)アクリレート樹脂としては、パターンの直線性の観点から、主鎖に芳香族環を有するものをより好適に用いることができる。
 ここで、エポキシ樹脂とは、熱硬化により樹脂を形成する以前の原料化合物をも含めて言うこととし、そのエポキシ樹脂としては、公知のエポキシ樹脂の中から適宜選択して用いることができる。また、エポキシ樹脂は、フェノール性化合物とエピハロヒドリンとを反応させて得られる化合物を用いることができる。フェノール性化合物としては、2価もしくは2価以上のフェノール性水酸基を有する化合物が好ましく、単量体でも重合体でもよい。
 具体的には、例えば、ビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂、ビスフェノールSエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビフェニルノボラックエポキシ樹脂、トリスフェノールエポキシ樹脂、フェノールとジシクロペンタジエンとの重合エポキシ樹脂、ジハイドロオキシルフルオレン型エポキシ樹脂、ジハイドロオキシルアルキレンオキシルフルオレン型エポキシ樹脂、9,9-ビス(4’-ヒドロキシフェニル)フルオレンのジグリシジルエーテル化物、1,1-ビス(4’-ヒドロキシフェニル)アダマンタンのジグリシジルエーテル化物が挙げられ、このように主鎖に芳香族環を有するものを好適に用いることができる。
 高い硬化膜強度の観点から、ビスフェノールAエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、フェノールとジシクロペンタジエンとの重合エポキシ樹脂、9,9-ビス(4’-ヒドロキシフェニル)フルオレンのジグリシジルエーテル化物が好ましく、ビスフェノールAエポキシ樹脂が特に好ましい。
 エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(例えば、三菱ケミカル社製の「jER(登録商標、以下同じ。)828」、「jER1001」、「jER1002」、「jER1004」、日本化薬社製の「NER-1302」(エポキシ当量323,軟化点76℃)等)、ビスフェノールF型樹脂(例えば、三菱ケミカル社製の「jER807」、「jER4004P」、「jER4005P」、「jER4007P」、日本化薬社製の「NER-7406」(エポキシ当量350,軟化点66℃)等)、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニルグリシジルエーテル(例えば、三菱ケミカル社製の「jERYX-4000」)、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(例えば、日本化薬社製の「EPPN(登録商標、以下同じ。)-201」、三菱ケミカル社製の「jER152」、「jER154」、ダウケミカル社製の「DEN-438」)、(o,m,p-)クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(例えば、日本化薬社製の「EOCN(登録商標、以下同じ。)-102S」、「EOCN-1020」、「EOCN-104S」)、トリグリシジルイソシアヌレート(例えば、日産化学社製の「TEPIC(登録商標)」)、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂(例えば、日本化薬社製の「EPPN-501」、「EPPN-502」、「EPPN-503」)、脂環式エポキシ樹脂(ダイセル社製の「セロキサイド(登録商標、以下同じ。)2021P」、「セロキサイドEHPE」)、ジシクロペンタジエンとフェノールの反応によるフェノール樹脂をグリシジル化したエポキシ樹脂(例えば、DIC社製の「EXA-7200」、日本化薬社製の「NC-7300」)、下記一般式(i-11)~(i-14)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。具体的には、例えば、下記一般式(i-11)で表されるエポキシ樹脂として日本化薬社製の「XD-1000」、下記一般式(i-12)で表されるエポキシ樹脂として日本化薬社製の「NC-3000」、下記一般式(i-14)で表されるエポキシ樹脂として新日鉄住金化学社製の「ESF-300」が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 式(i-11)において、nは平均値であり、0~10の数を表す。R111は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~10のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はビフェニル基を表す。なお、1分子中に存在する複数のR111は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 式(i-12)において、nは平均値であり、0~10の数を表す。R121は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~10のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はビフェニル基を表す。なお、1分子中に存在する複数のR121は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 式(i-13)において、Xは下記一般式(i-13-1)又は(i-13-2)で表される連結基を表す。但し、分子構造中に1つ以上のアダマンタン構造を含む。cは2又は3を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 式(i-13-1)及び(i-13-2)において、R131~R134及びR135~R137は、各々独立に、置換基を有していてもよいアダマンチル基、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~12のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。*は結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 式(i-14)において、p及びqは各々独立に0~4の整数を表し、R141及びR142は各々独立に炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子を表す。R143及びR144は各々独立に炭素数1~4のアルキレン基を表す。x及びyは各々独立に0以上の整数を表す。
 式(i-11)~(i-14)のいずれかで表されるエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
 エチレン性不飽和モノカルボン酸としては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等、及び、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート無水コハク酸付加物、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートテトラヒドロ無水フタル酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート無水コハク酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート無水フタル酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートテトラヒドロ無水フタル酸付加物、(メタ)アクリル酸とε-カプロラクトンとの反応生成物が挙げられる。感度の観点から、(メタ)アクリル酸が好ましい。
 多塩基酸(無水物)としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、3-メチルテトラヒドロフタル酸、4-メチルテトラヒドロフタル酸、3-エチルテトラヒドロフタル酸、4-エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、3-メチルヘキサヒドロフタル酸、4-メチルヘキサヒドロフタル酸、3-エチルヘキサヒドロフタル酸、4-エチルヘキサヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、及びそれらの無水物が挙げられる。アウトガスの観点から、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物が好ましく、コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物がより好ましい。
 多価アルコールを用いることで、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)の分子量を増大させ、分子中に分岐を導入することができ、分子量と粘度のバランスをとることができる傾向がある。また、分子中への酸基の導入率を増やすことができ、感度や密着性等のバランスがとれやすい傾向がある。
 多価アルコールとしては、例えば、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、1,2,3-プロパントリオールの中から選ばれる1種又は2種以上の多価アルコールであることが好ましい。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)としては、前述のもの以外に、例えば、韓国公開特許第10-2013-0022955号公報に記載のものが挙げられる。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)の酸価は特に限定されないが、10mgKOH/g以上が好ましく、30mgKOH/g以上がより好ましく、50mgKOH/g以上がさらに好ましく、70mgKOH/g以上がよりさらに好ましく、80mgKOH/g以上が特に好ましく、また、200mgKOH/g以下が好ましく、180mgKOH/g以下がより好ましく、150mgKOH/g以下がさらに好ましく、120mgKOH/g以下がよりさらに好ましく、110mgKOH/g以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、10~200mgKOH/gが好ましく、30~180mgKOH/gがより好ましく、50~150mgKOH/gがさらに好ましく、70~120mgKOH/gがよりさらに好ましく、80~110mgKOH/gが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで膜強度が向上する傾向がある。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)の重量平均分子量(Mw)は特に限定されないが、1000以上が好ましく、2000以上がより好ましく、3000以上がさらに好ましく、4000以上がよりさらに好ましく、5000以上が特に好ましく、また、30000以下が好ましく、20000以下がより好ましく、15000以下がさらに好ましく、10000以下がよりさらに好ましく、8000以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1000~30000が好ましく、2000~20000がより好ましく、3000~15000がさらに好ましく、4000~10000がよりさらに好ましく、5000~8000が特に好ましい。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)の二重結合当量は特に限定されないが、600g/mol以下が好ましく、500g/mol以下がより好ましく、450g/mol以下がさらに好ましく、400g/mol以下が特に好ましく、また、100g/mol以上が好ましく、200g/mol以上がより好ましく、250g/mol以上がさらに好ましく、300g/mol以上が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、100~600g/molが好ましく、200~500g/molがより好ましく、250~450g/molがさらに好ましく、300~400g/molが特に好ましい。前記上限値以下とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)の二重結合当量は、アクリル共重合樹脂(b1)の二重結合当量と同様の方法で算出することができる。
 (b)アルカリ可溶性樹脂がエポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)を含有する場合、その含有割合は特に限定されないが、(b)アルカリ可溶性樹脂の全質量に対して10質量%以上が好ましく、20質量%以上がより好ましく、30質量%以上がさらに好ましく、35質量%以上がよりさらに好ましく、40質量%以上が特に好ましく、50質量%以上が最も好ましく、また、90質量%以下が好ましく、70質量%以下がより好ましく、60質量%以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、10~90質量%が好ましく、20~90質量%がより好ましく、30~70質量%がさらに好ましく、35~70質量%がよりさらに好ましく、40~60質量%がことさらに好ましく、50~60質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで直線性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで線幅の細い高精細な隔壁を形成できる傾向がある。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)は、従来公知の方法により合成することができる。具体的には、前記エポキシ樹脂を有機溶剤に溶解させ、触媒と熱重合禁止剤の共存下、前記エチレン性不飽和結合を有する酸又はエステル化合物を加えて付加反応させ、さらに多塩基酸又はその無水物を加えて反応を続ける方法を用いることができる。例えば、日本国特許第3938375号公報、日本国特許第5169422号公報に記載されている方法が挙げられる。
 反応に用いる有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの有機溶剤の1種または2種以上が挙げられる。
 上記触媒としては、例えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリベンジルアミン等の第3級アミン類、テトラメチルアンモニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第4級アンモニウム塩類、トリフェニルホスフィンなどの燐化合物、トリフェニルスチビンなどのスチビン類の1種または2種以上が挙げられる。
 熱重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチルハイドロキノンの1種または2種以上が挙げられる。
 エチレン性不飽和結合を有する酸又はエステル化合物の使用量としては、エポキシ樹脂のエポキシ基の1化学当量に対して、0.7~1.3化学当量が好ましく、0.9~1.1化学当量がより好ましい。
 付加反応時の温度としては、60~150℃が好ましく、80~120℃がより好ましい。
 多塩基酸(無水物)の使用量としては、付加反応で生じた水酸基の1化学当量に対して、0.1~1.2化学当量が好ましく、0.2~1.1化学当量がより好ましい。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)は、膜強度や直線性の観点から、下記一般式(i)で表される部分構造を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂、及び下記一般式(ii)で表される部分構造を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 式(i)中、Raは水素原子又はメチル基を表し、Rbは置換基を有していてもよい2価の炭化水素基を表す。式(i)中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。*は結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 式(ii)中、Rcは各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。Rdは、環状炭化水素基を側鎖として有する2価の炭化水素基を表す。*は結合手を表す。 
 下記一般式(i)で表される部分構造を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂(以下、「エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-1)」と称する場合がある。)について詳述する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 式(i)中、Raは水素原子又はメチル基を表し、Rbは置換基を有していてもよい2価の炭化水素基を表す。式(i)中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。*は結合手を表す。
(Rb
 前記式(i)において、Rbは置換基を有していてもよい2価の炭化水素基を表す。
 2価の炭化水素基としては、例えば、2価の脂肪族基、2価の芳香族環基、1以上の2価の脂肪族基と1以上の2価の芳香族環基とを連結した基が挙げられる。
 2価の脂肪族基は、直鎖状、分岐鎖状、環状の脂肪族基が挙げられる。これらの中でも現像溶解性の観点からは直鎖状の脂肪族基が好ましく、一方で露光部への現像液の浸透低減の観点からは環状の脂肪族基が好ましい。その炭素数は1以上が好ましく、3以上がより好ましく、6以上がさらに好ましく、また、20以下が好ましく、15以下がより好ましく、10以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~20、好ましくは3~15、より好ましくは6~10である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで撥インク性が向上する傾向がある。
 2価の直鎖状脂肪族基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、n-ブチレン基、n-ヘキシレン基、n-ヘプチレン基が挙げられる。これらの中でも撥インク性や製造コストの観点から、メチレン基が好ましい。
 2価の分岐鎖状脂肪族基としては、例えば、前述の2価の直鎖状脂肪族基に、側鎖としてメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基を有する構造が挙げられる。
 2価の環状の脂肪族基が有する環の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは2~5である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 2価の環状の脂肪族基としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環、シクロドデカン環等の環から水素原子を2つ除した基が挙げられる。これらの中でも膜強度と現像性の観点から、アダマンタン環から水素原子を2つ除した基が好ましい。
 2価の脂肪族基が有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1~5のアルコキシ基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基が挙げられる。これらの中でも合成容易性の観点から、無置換であることが好ましい。
 また、2価の芳香族環基としては、2価の芳香族炭化水素環基及び2価の芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は4以上が好ましく、5以上がより好ましく、6以上がさらに好ましく、また、20以下が好ましく、15以下がより好ましく、10以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、4~20、好ましくは5~15、より好ましくは6~10である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 2価の芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよい。2価の芳香族炭化水素環基としては、例えば、2個の遊離原子価を有する、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環が挙げられる。
 芳香族複素環基における芳香族複素環としては、単環であっても縮合環であってもよい。2価の芳香族複素環基としては、例えば、2個の遊離原子価を有する、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環が挙げられる。これらの中でも製造コストの観点から、2個の遊離原子価を有するベンゼン環、ナフタレン環が好ましく、2個の遊離原子価を有するベンゼン環がより好ましい。
 2価の芳香族環基が有していてもよい置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基が挙げられる。これらの中でも硬化性の観点から、無置換が好ましい。
 1以上の2価の脂肪族基と1以上の2価の芳香族環基とを連結した基としては、前述の2価の脂肪族基を1以上と、前述の2価の芳香族環基を1以上とを連結した基が挙げられる。
 2価の脂肪族基の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましく、3以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは1~5、より好ましくは2~3である。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで膜強度が向上する傾向がある。
 2価の芳香族環基の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましく、3以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは1~5、より好ましくは2~3である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 1以上の2価の脂肪族基と1以上の2価の芳香族環基とを連結した基としては、例えば、下記式(i-A)~(i-F)で表される基が挙げられる。骨格の剛直性と膜の疎水化の観点から、下記式(i-A)で表される基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 式(i)中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。式(i)中のベンゼン環に許容される置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基が挙げられる。置換基の数も特に限定されず、1つでもよいし、2つ以上でもよい。
 これらの中でも硬化性の観点から、無置換であることが好ましい。
 式(i)で表される部分構造は、現像溶解性の観点から、下記一般式(i-1)で表される部分構造であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 式(i-1)中、Ra及びRbは、前記式(i)のものと同義である。RYは水素原子又は多塩基酸残基を表す。*は結合手を表す。式(i-1)中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。
 式(i-1)における多塩基酸残基とは、多塩基酸又はその無水物からOH基を1つ除した1価の基を意味する。多塩基酸としては、例えば、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸から選ばれた1種又は2種以上が挙げられる。
 パターニング特性の観点から、好ましくは、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸であり、より好ましくは、テトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸である。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-1)1分子中に含まれる、前記式(i-1)で表される繰り返し単位構造は、1種でも2種以上でもよい。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-1)1分子中に含まれる、前記式(i)で表される部分構造の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、3以上がさらに好ましく、また、10以下が好ましく、8以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは2~10、より好ましくは3~8である。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで膜強度が向上する傾向がある。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-1)1分子中に含まれる、式(i-1)で表される部分構造の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、3以上がさらに好ましく、また、10以下が好ましく、8以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは2~10、より好ましくは3~8である。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで膜強度が向上する傾向がある。
 以下にエポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-1)の具体例を挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 下記一般式(ii)で表される部分構造を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂(以下、「エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-2)」と称する場合がある。)について詳述する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 式(ii)中、Rcは各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。Rdは、環状炭化水素基を側鎖として有する2価の炭化水素基を表す。*は結合手を表す。
(Rd
 前記式(ii)において、Rdは、環状炭化水素基を側鎖として有する2価の炭化水素基を表す。
 環状炭化水素基としては、脂肪族環基、芳香族環基が挙げられる。
 脂肪族環基が有する環の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましく、3以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは1~5、より好ましくは2~3である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 脂肪族環基の炭素数は4以上が好ましく、6以上がより好ましく、8以上がさらに好ましく、また、40以下が好ましく、30以下がより好ましく、20以下がさらに好ましく、15以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、4~40、好ましくは4~30、より好ましくは6~20、さらに好ましくは8~15である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 脂肪族環基における脂肪族環としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環、シクロドデカン環が挙げられる。これらの中でも膜強度と現像性の観点から、アダマンタン環が好ましい。
 芳香族環基が有する環の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、3以上がさらに好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましく、4以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは2~5、より好ましくは3~4である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 芳香族環基としては、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基が挙げられる。また、芳香族環基の炭素数は4以上が好ましく、6以上がより好ましく、8以上がさらに好ましく、10以上がよりさらに好ましく、12以上が特に好ましく、また、40以下が好ましく、30以下がより好ましく、20以下がさらに好ましく、15以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、4~40、好ましくは6~40、より好ましくは8~30、さらに好ましくは10~20、よりさらに好ましくは12~15である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 芳香族環基における芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環が挙げられる。これらの中でもパターニング特性の観点から、フルオレン環が好ましい。
 環状炭化水素基を側鎖として有する2価の炭化水素基における、2価の炭化水素基は特に限定されないが、例えば、2価の脂肪族基、2価の芳香族環基、1以上の2価の脂肪族基と1以上の2価の芳香族環基とを連結した基が挙げられる。
 2価の脂肪族基は、直鎖状、分岐鎖状、環状の脂肪族基が挙げられる。現像性の向上の観点からは直鎖状の脂肪族基が好ましく、一方で膜強度の観点からは環状の脂肪族基が好ましい。その炭素数は1以上が好ましく、3以上がより好ましく、6以上がさらに好ましく、また、25以下が好ましく、20以下がより好ましく、15以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~25、好ましくは3~20、より好ましくは6~15である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 2価の直鎖状脂肪族基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、n-ブチレン基、n-ヘキシレン基、n-ヘプチレン基が挙げられる。撥インク性の観点から、メチレン基が好ましい。
 2価の分岐鎖状脂肪族基としては、例えば、前述の2価の直鎖状脂肪族基に、側鎖としてメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基を有する構造が挙げられる。
 2価の環状の脂肪族基が有する環の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましく、3以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは1~5、より好ましくは2~3である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 2価の環状の脂肪族基としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環、シクロドデカン環の環から水素原子を2つ除した基が挙げられる。膜強度の観点から、アダマンタン環から水素原子を2つ除した基が好ましい。
 2価の脂肪族基が有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1~5のアルコキシ基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基が挙げられる。合成容易性の観点から、無置換であることが好ましい。
 2価の芳香族環基としては、2価の芳香族炭化水素環基及び2価の芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は4以上が好ましく、5以上がより好ましく、6以上がさらに好ましく、また、30以下が好ましく、20以下がより好ましく、15以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、4~30、好ましくは5~20、より好ましくは6~15である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 2価の芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよい。2価の芳香族炭化水素環基としては、例えば、2個の遊離原子価を有する、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環が挙げられる。
 2価の芳香族複素環基における芳香族複素環としては、単環であっても縮合環であってもよい。2価の芳香族複素環基としては、例えば、2個の遊離原子価を有する、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環が挙げられる。
 製造コストの観点から、2個の遊離原子価を有するベンゼン環、ナフタレン環が好ましく、2個の遊離原子価を有するベンゼン環がより好ましい。
 2価の芳香族環基が有していてもよい置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基が挙げられる。硬化性の観点から、無置換が好ましい。
 1以上の2価の脂肪族基と1以上の2価の芳香族環基とを連結した基としては、前述の2価の脂肪族基を1以上と、前述の2価の芳香族環基を1以上とを連結した基が挙げられる。
 2価の脂肪族基の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましく、3以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは1~5、より好ましくは2~3である。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで膜強度が向上する傾向がある。
 2価の芳香族環基の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上が好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましく、3以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは1~5、より好ましくは2~3である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 1以上の2価の脂肪族基と1以上の2価の芳香族環基とを連結した基の具体例としては、例えば、前述した式(i-A)~(i-F)で表される基が挙げられる。これらの中でも膜強度と撥インク性の両立の観点から、式(i-C)で表される基が好ましい。
 2価の炭化水素基に対して、側鎖である環状炭化水素基の結合態様は特に限定されないが、例えば、脂肪族基や芳香族環基の水素原子1つを側鎖である環状炭化水素基で置換した態様や、脂肪族基の炭素原子の1つを含めて側鎖である環状炭化水素基を構成した態様が挙げられる。
 式(ii)で表される部分構造は、撥インク性の観点から、下記式(ii-1)で表される部分構造であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 式(ii-1)中、Rcは前記式(ii)と同義である。Rαは、置換基を有していてもよい1価の環状炭化水素基を表す。nは1以上の整数である。*は結合手を表す。式(ii-1)中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。
(Rα
 前記式(ii-1)において、Rαは、置換基を有していてもよい1価の環状炭化水素基を表す。
 環状炭化水素基としては、脂肪族環基、芳香族環基が挙げられる。
 脂肪族環基が有する環の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また、6以下が好ましく、4以下がより好ましく、3以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~6、好ましくは1~4、より好ましくは2~3である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 脂肪族環基の炭素数は4以上が好ましく、6以上がより好ましく、8以上がさらに好ましく、また、40以下が好ましく、30以下がより好ましく、20以下がさらに好ましく、15以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、4~40、好ましくは4~30、より好ましくは6~20、さらに好ましくは8~15である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 脂肪族環基における脂肪族環としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環、シクロドデカン環が挙げられる。膜強度と現像性の両立の観点から、アダマンタン環が好ましい。
 芳香族環基が有する環の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、3以上がさらに好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは2~10、より好ましくは3~5である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 芳香族環基としては、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基が挙げられる。芳香族環基の炭素数は4以上が好ましく、5以上がより好ましく、6以上がさらに好ましく、また、30以下が好ましく、20以下がより好ましく、15以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、4~30、好ましくは5~20、より好ましくは6~15である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 芳香族環基における芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環が挙げられる。膜強度と現像性の両立の観点から、フルオレン環が好ましい。
 環状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、アミル基、iso-アミル基等の炭素数1~5のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1~5のアルコキシ基;ニトロ基;シアノ基;カルボキシ基が挙げられる。合成の容易性の観点から、無置換が好ましい。
 nは1以上の整数を表すが、2以上が好ましく、また、3以下が好ましい。例えば、1~3、好ましくは2~3である。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで膜強度が向上する傾向がある。
 膜強度と現像性の両立の観点から、Rαが1価の脂肪族環基であることが好ましく、アダマンチル基であることがより好ましい。
 式(ii-1)中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。式(ii-1)中のベンゼン環に許容される置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基が挙げられる。置換基の数も特に限定されず、1つでもよいし、2つ以上でもよい。これらの中でも硬化性の観点から、無置換であることが好ましい。
 以下に式(ii-1)で表される部分構造の具体例を挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 式(ii)で表される部分構造は、現像密着性の観点から、下記一般式(ii-2)で表される部分構造であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 式(ii-2)中、Rcは式(ii)と同義である。Rβは、置換基を有していてもよい2価の環状炭化水素基を表す。*は結合手を表す。式(ii-2)中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。
(Rβ
 式(ii-2)において、Rβは、置換基を有していてもよい2価の環状炭化水素基を表す。
 環状炭化水素基としては、脂肪族環基又は芳香族環基が挙げられる。
 脂肪族環基が有する環の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは2~5である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 脂肪族環基の炭素数は4以上が好ましく、6以上がより好ましく、8以上がさらに好ましく、また、40以下が好ましく、35以下がより好ましく、30以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、4~40、好ましくは6~35、より好ましくは8~30である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 脂肪族環基における脂肪族環としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環、シクロドデカン環が挙げられる。これらの中でも膜強度と現像性の両立の観点から、アダマンタン環が好ましい。
 芳香族環基が有する環の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、3以上がさらに好ましく、また、10以下が好ましく、5以下がより好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~10、好ましくは2~10、より好ましくは3~5である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 芳香族環基としては、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基が挙げられる。また、芳香族環基の炭素数は4以上が好ましく、6以上がより好ましく、8以上がさらに好ましく、10以上が特に好ましく、また、40以下が好ましく、30以下がより好ましく、20以下がさらに好ましく、15以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、4~40、好ましくは6~30、より好ましくは8~20、さらに好ましくは10~15である。前記下限値以上とすることで膜強度が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 芳香族環基における芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環が挙げられる。膜強度と現像性の観点から、フルオレン環が好ましい。
 環状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、アミル基、iso-アミル基等の炭素数1~5のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1~5のアルコキシ基;ニトロ基;シアノ基;カルボキシ基が挙げられる。合成の簡易性の観点から、無置換が好ましい。
 膜強度と現像性の両立の観点から、Rβが2価の脂肪族環基であることが好ましく、2価のアダマンタン環基であることがより好ましい。
 膜強度と現像性の両立の観点から、Rβが2価の芳香族環基であることが好ましく、2価のフルオレン環基であることがより好ましい。
 式(ii-2)中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。式(ii-2)中のベンゼン環に許容される置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基が挙げられる。置換基の数も特に限定されず、1つでもよいし、2つ以上でもよい。硬化性の観点から、無置換であることが好ましい。
 以下に式(ii-2)で表される部分構造の具体例を挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 式(ii)で表される部分構造は、現像性の観点から、下記一般式(ii-3)で表される部分構造であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 式(ii-3)中、Rc及びRdは式(ii)と同義である。RZは水素原子又は多塩基酸残基を表す。
 式(ii-3)における多塩基酸残基とは、多塩基酸又はその無水物からOH基を1つ除した1価の基を意味する。多塩基酸としては、例えば、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸から選ばれた1種又は2種以上が挙げられる。
 パターニング特性の観点から、好ましくは、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸であり、より好ましくは、テトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸である。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-2)1分子中に含まれる、式(ii-3)で表される部分構造は、1種でも2種以上でもよい。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-2)1分子中に含まれる、式(ii)で表される部分構造の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、3以上がより好ましく、また、20以下が好ましく、15以下がより好ましく、10以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~20、好ましくは1~15、より好ましくは3~10である。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-2)1分子中に含まれる、式(ii-1)で表される部分構造の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、3以上がより好ましく、また、20以下が好ましく、15以下がより好ましく、10以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~20、好ましくは1~15、より好ましくは3~10である。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-2)1分子中に含まれる、式(ii-2)で表される部分構造の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、3以上がより好ましく、また、20以下が好ましく、15以下がより好ましく、10以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~20、好ましくは1~15、より好ましくは3~10である。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2-2)1分子中に含まれる、式(ii-3)で表される部分構造の数は特に限定されないが、1以上が好ましく、3以上がより好ましく、また、20以下が好ましく、15以下がより好ましく、10以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~20、好ましくは1~15、より好ましくは3~10である。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性が向上する傾向がある。
 本発明における(b)アルカリ可溶性樹脂は、アクリル共重合樹脂(b1)、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(b2)以外に、その他のアルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよい。
 (b)アルカリ可溶性樹脂の酸価は特に限定されないが、10mgKOH/g以上が好ましく、20mgKOH/g以上がより好ましく、25mgKOH/g以上がさらに好ましく、また、200mgKOH/g以下が好ましく、150mgKOH/g以下がより好ましく、100mgKOH/g以下がさらに好ましく、80mgKOH/g以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、10~200mgKOH/g、好ましくは20~150mgKOH/g、より好ましくは25~100mgKOH/g、特に好ましくは25~80mgKOH/gである。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで現像密着性が向上する傾向がある。なお、(b)アルカリ可溶性樹脂が2種以上の混合物の場合、酸価は、その含有割合に応じた加重平均値を意味する。
 (b)アルカリ可溶性樹脂の二重結合当量は、400g/mol以下であり、390g/mol以下が好ましく、370g/mol以下がより好ましく、350g/mol以下がさらに好ましく、330g/mol以下がよりさらに好ましく、300g/mol以下が特に好ましい。また、100g/mol以上が好ましく、150g/mol以上がより好ましく、200g/mol以上がさらに好ましく、250g/mol以上が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、100~400g/molが好ましく、150~370g/molがより好ましく、200~330g/molがさらに好ましく、250~300g/molが特に好ましい。前記上限値以下とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向がある。
 (b)アルカリ可溶性樹脂の二重結合当量はアクリル共重合樹脂(b1)と同様の方法で算出することができ、(b)アルカリ可溶性樹脂が2種以上の混合物の場合、二重結合当量は、その含有割合に応じた加重平均値を意味する。
 本発明の着色感光性樹脂組成物における(b)アルカリ可溶性樹脂の含有割合は特に限定されないが、全固形分量に対して、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、20質量%以上がさらに好ましく、30質量%以上がよりさらに好ましく、40質量%以上がことさらに好ましく、50質量%以上よりことさらに好ましく、60質量%以上が特に好ましく、また、90質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましく、70質量%以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、5~90質量%、好ましくは10~90質量%、より好ましくは20~90質量%、さらに好ましくは30~80質量%、よりさらに好ましくは40~80質量%、特に好ましくは50~70質量%、最も好ましくは60~70質量%である。前記下限値以上とすることで残渣が低減する傾向がある。前記上限値以下とすることで撥インク性が向上する傾向がある。
 着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対する、(d)光重合性化合物の含有割合及び(b)アルカリ可溶性樹脂の含有割合の総和は、特に限定されないが、10質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、60質量%以上がさらに好ましく、80質量%以上が特に好ましく、また、98質量%以下が好ましく、95質量%以下がより好ましく、92質量%以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、10~98質量%、好ましくは30~95質量%、より好ましくは60~92質量%、さらに好ましくは80~92質量%である。前記下限値以上とすることで隔壁の基材への密着性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで遮光性や撥インク性が向上する傾向がある。
[1-1-3](c)光重合開始剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、(c)光重合開始剤を含有する。(c)光重合開始剤は、活性光線により(d)光重合性化合物を重合させる化合物であれば特に限定されない。
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、(c)光重合開始剤として、本発明の技術分野で通常用いられているものを使用することができる。例えば、日本国特開昭59-152396号公報、日本国特開昭61-151197号公報に記載のチタノセン化合物を含むメタロセン化合物;日本国特開2000-56118号公報に記載のヘキサアリールビイミダゾール誘導体類;日本国特開平10-39503号公報記載のハロメチル化オキサジアゾール誘導体類、ハロメチル-s-トリアジン誘導体類、N-フェニルグリシン等のN-アリール-α-アミノ酸類、N-アリール-α-アミノ酸塩類、N-アリール-α-アミノ酸エステル類等のラジカル活性剤、α-アミノアルキルフェノン誘導体類が挙げられる。
 具体的には、メタロセン化合物としては、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロリド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビスフェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,3,5,6-テトラフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,4,6-トリフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムジ(2,6-ジフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムジ(2,4-ジフルオロフェニル)、ジ(メチルシクロペンタジエニル)チタニウムビス(2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニル)、ジ(メチルシクロペンタジエニル)チタニウムビス(2,6-ジフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニウム〔2,6-ジ-フルオロ-3-(ピロール-1-イル)フェニル〕が挙げられる。
 ビイミダゾール誘導体類としては、例えば、2-(2’-クロロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2-(2’-クロロフェニル)-4,5-ビス(3’-メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2-(2’-フルオロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2-(2’-メトキシフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、(4’-メトキシフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体が挙げられる。
 ハロメチル化オキサジアゾール誘導体類としては、例えば、2-トリクロロメチル-5-(2’-ベンゾフリル)-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-〔β-(2’-ベンゾフリル)ビニル〕-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-〔β-(2’-(6’’-ベンゾフリル)ビニル)〕-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-フリル-1,3,4-オキサジアゾールが挙げられる。
 ハロメチル-s-トリアジン誘導体類としては、例えば、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシナフチル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-エトキシナフチル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-エトキシカルボニルナフチル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジンが挙げられる。
 α-アミノアルキルフェノン誘導体類としては、例えば、2-メチル-1〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)ブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルフォリノフェニル)ブタン-1-オン、3,6-ビス(2-メチル-2-モルフォリノプロピオニル)-9-オクチルカルバゾールが挙げられる。
 (c)光重合開始剤としては、特に、感度や製版性の点でオキシムエステル系化合物が有効である。フェノール性水酸基を含むアルカリ可溶性樹脂を用いる場合などは、感度の点で不利になるため、感度に優れたオキシムエステル系化合物が特に有用である。
 オキシムエステル系化合物は、その構造の中に紫外線を吸収する構造と光エネルギーを伝達する構造とラジカルを発生する構造を併せ持っているために、少量で感度が高く、かつ、熱反応に対して安定であり、少量で高感度な着色感光性樹脂組成物を得ることが可能である。
 以下、オキシムエステル系化合物の光重合開始剤を「オキシムエステル系光重合開始剤(c1)」と記載する場合がある。
 オキシムエステル系化合物としては、例えば、下記一般式(IV)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 式(IV)中、R21aは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよい芳香族環基を示す。
 R21bは芳香環を含む任意の置換基を示す。
 R22aは、置換基を有していてもよいアルカノイル基、又は、置換基を有していてもよいアリーロイル基を示す。
 nは0または1の整数を示す。
 R21aにおけるアルキル基の炭素数は特に限定されないが、溶媒への溶解性や感度の観点から、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また、20以下が好ましく、15以下がより好ましく、10以下がさらに好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロペンチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。
 アルキル基が有していてもよい置換基としては、例えば、芳香族環基、水酸基、カルボキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、4-(2-メトキシ-1-メチル)エトキシ-2-メチルフェニル基、N-アセチル-N-アセトキシアミノ基が挙げられ、合成容易性の観点からは、無置換であることが好ましい。
 R21aにおける芳香族環基としては、芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。芳香族環基の炭素数は特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物への溶解性の観点から5以上であることが好ましい。また、現像性の観点から30以下であることが好ましく、20以下であることがより好ましく、12以下であることがさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、5~30が好ましく、5~20がより好ましく、5~12がさらに好ましい。
 芳香族環基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基が挙げられ、これらの中でも現像性の観点から、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
 芳香族環基が有していてもよい置換基としては、例えば、水酸基、カルボキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、アルキル基、アルコキシ基、これらの置換基が連結した基が挙げられ、現像性の観点からアルキル基、アルコキシ基、これらを連結した基が好ましく、連結したアルコキシ基がより好ましい。
 感度の観点から、R21aが置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族環基であることが好ましい。
 R21bとしては、好ましくは置換されていてもよいカルバゾリル基、置換されていてもよいチオキサントニル基、置換されていてもよいジフェニルスルフィド基、置換されていてもよいフルオレニル基又は置換されていてもよいインドリル基が挙げられる。感度の観点から、置換されていてもよいカルバゾリル基が好ましい。
 R22aにおけるアルカノイル基の炭素数は特に限定されないが、溶媒への溶解性や感度の観点から、2以上が好ましく、また、20以下が好ましく、15以下がより好ましく、10以下がさらに好ましく、5以下が特に好ましい。
 アルカノイル基としては、例えば、アセチル基、エチロイル基、プロパノイル基、ブタノイル基が挙げられる。
 アルカノイル基が有していてもよい置換基としては、例えば、芳香族環基、水酸基、カルボキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基が挙げられ、合成容易性の観点からは、無置換であることが好ましい。
 R22aにおけるアリーロイル基の炭素数は特に限定されないが、溶媒への溶解性や感度の観点から、7以上が好ましく、また、20以下が好ましく、15以下がより好ましく、10以下がさらに好ましい。
 アリーロイル基としては、例えば、ベンゾイル基、ナフトイル基が挙げられる。
 アリーロイル基が有していてもよい置換基としては、例えば、水酸基、カルボキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、アルキル基が挙げられ、合成容易性の観点からは、無置換であることが好ましい。
 感度の観点から、R22aが置換基を有していてもよいアルカノイル基であることが好ましく、無置換のアルカノイル基であることがより好ましく、アセチル基であることがさらに好ましい。
 例えば、日本国特許4454067号公報、国際公開第2002/100903号、国際公開第2012/45736号、国際公開第2015/36910号、国際公開第2006/18973号、日本国特許4818458号公報、国際公開第2005/80338号、国際公開第2008/75564号、国際公開第2009/131189号、国際公開第2010/133077号、国際公開第2010/102502号、国際公開第2012/68879号に記載されている光重合開始剤などが使用できる。
 (c)光重合開始剤は、1種類を単独で用いても、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
 (c)光重合開始剤には、必要に応じて、感度を高める目的で、画像露光光源の波長に応じた増感色素、重合促進剤を配合させることができる。増感色素としては、例えば、日本国特開平4-221958号公報、日本国特開平4-219756号公報に記載のキサンテン色素、日本国特開平3-239703号公報、日本国特開平5-289335号公報に記載の複素環を有するクマリン色素、日本国特開平3-239703号公報、日本国特開平5-289335号公報に記載の3-ケトクマリン化合物、日本国特開平6-19240号公報に記載のピロメテン色素、日本国特開昭47-2528号公報、日本国特開昭54-155292号公報、日本国特公昭45-37377号公報、日本国特開昭48-84183号公報、日本国特開昭52-112681号公報、日本国特開昭58-15503号公報、日本国特開昭60-88005号公報、日本国特開昭59-56403号公報、日本国特開平2-69号公報、日本国特開昭57-168088号公報、日本国特開平5-107761号公報、日本国特開平5-210240号公報、日本国特開平4-288818号公報に記載のジアルキルアミノベンゼン骨格を有する色素を挙げることができる。
 増感色素としては、アミノ基含有増感色素が好ましく、アミノ基及びフェニル基を同一分子内に有する化合物がより好ましい。例えば、4,4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン、2-アミノベンゾフェノン、4-アミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、3,3’-ジアミノベンゾフェノン、3,4-ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;2-(p-ジメチルアミノフェニル)ベンゾオキサゾール、2-(p-ジエチルアミノフェニル)ベンゾオキサゾール、2-(p-ジメチルアミノフェニル)ベンゾ[4,5]ベンゾオキサゾール、2-(p-ジメチルアミノフェニル)ベンゾ[6,7]ベンゾオキサゾール、2,5-ビス(p-ジエチルアミノフェニル)-1,3,4-オキサゾール、2-(p-ジメチルアミノフェニル)ベンゾチアゾール、2-(p-ジエチルアミノフェニル)ベンゾチアゾール、2-(p-ジメチルアミノフェニル)ベンズイミダゾール、2-(p-ジエチルアミノフェニル)ベンズイミダゾール、2,5-ビス(p-ジエチルアミノフェニル)-1,3,4-チアジアゾール、(p-ジメチルアミノフェニル)ピリジン、(p-ジエチルアミノフェニル)ピリジン、(p-ジメチルアミノフェニル)キノリン、(p-ジエチルアミノフェニル)キノリン、(p-ジメチルアミノフェニル)ピリミジン、(p-ジエチルアミノフェニル)ピリミジン等のp-ジアルキルアミノフェニル基含有化合物がさらに好ましい。これらの中でも、4,4’-ジアルキルアミノベンゾフェノンが特に好ましい。
 増感色素は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 重合促進剤としては、例えば、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルへキシル、4-ジメチルアミノアセトフェノン、4-ジメチルアミノプロピオフェノン等の芳香族アミン、n-ブチルアミン、N-メチルジエタノールアミン、安息香酸2-ジメチルアミノエチル等の脂肪族アミンを用いることができる。
 重合促進剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
 本発明の着色感光性樹脂組成物における(c)光重合開始剤の含有割合は特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは1質量%以上であり、また、好ましくは25質量%以下、より好ましくは20質量%以下、さらに好ましくは15質量%以下、よりさらに好ましくは10質量%以下、ことさらに好ましくは7質量%以下、よりことさらに好ましくは5質量%以下、特に好ましくは3質量%以下、最も好ましくは2質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.01~25質量%が好ましく、0.01~20質量%がより好ましく、0.1~15質量%がさらに好ましく、1~10質量%がよりさらに好ましく、1~7質量%がことさらに好ましく、1~5質量%がよりことさらに好ましく、1~3質量%が特に好ましく、1~2質量%が最も好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることでライン直線性、残渣が低減する傾向がある。
 本発明の着色感光性樹脂組成物がオキシムエステル系光重合開始剤(c1)を含有する場合、オキシムエステル系光重合開始剤(c1)の含有割合は特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは1質量%以上であり、また、好ましくは25質量%以下、より好ましくは20質量%以下、さらに好ましくは15質量%以下、よりさらに好ましくは10質量%以下、ことさらに好ましくは7質量%以下、よりことさらに好ましくは5質量%以下、特に好ましくは3質量%以下、最も好ましくは2質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.01~25質量%が好ましく、0.01~20質量%がより好ましく、0.1~15質量%がさらに好ましく、1~10質量%がよりさらに好ましく、1~7質量%がことさらに好ましく、1~5質量%がよりことさらに好ましく、1~3質量%が特に好ましく、1~2質量%が最も好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることでライン直線性、残渣が低減する傾向がある。
 本発明の着色感光性樹脂組成物がオキシムエステル系光重合開始剤(c1)を含有する場合、(c)光重合開始剤中のオキシムエステル系光重合開始剤(c1)の含有割合は特に限定されないが、(c)光重合開始剤の全質量に対して30質量%以上が好ましく、50質量%以上がより好ましく、70質量%以上がさらに好ましく、90質量%以上が特に好ましい。また100質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、30~100質量%が好ましく、50~100質量%がより好ましく、70~100質量%がさらに好ましく、90~100質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで、十分な撥インク性が生じる傾向がある。前記上限値以下とすることでテーパ形状が良好となる傾向がある。
 着色感光性樹脂組成物中の(d)光重合性化合物に対する(c)光重合開始剤の配合比としては、(d)光重合性化合物100質量部に対して、0.1質量部以上が好ましく、1質量部以上がより好ましく、2質量部以上がさらに好ましく、3質量部以上がよりさらに好ましく、また、200質量部以下が好ましく、100質量部以下がより好ましく、50質量部以下がさらに好ましく、30質量部以下がよりさらに好ましく、10質量部以下がことさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.1~200質量部が好ましく、1~100質量部がより好ましく、2~50質量部がさらに好ましく、3~30質量部がよりさらに好ましく、3~10質量部が特に好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 本発明の着色感光性樹脂組成物がオキシムエステル系光重合開始剤(c1)を含有する場合、着色感光性樹脂組成物中の(d)光重合性化合物に対する、オキシムエステル光重合開始剤(c1)の配合比としては、(d)光重合性化合物100質量部に対して、0.1質量部以上が好ましく、1質量部以上がより好ましく、2質量部以上がさらに好ましく、3質量部以上がよりさらに好ましく、また、200質量部以下が好ましく、100質量部以下がより好ましく、50質量部以下がさらに好ましく、30質量部以下がよりさらに好ましく、10質量部以下がことさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.1~200質量部が好ましく、1~100質量部がより好ましく、2~50質量部がさらに好ましく、3~30質量部がよりさらに好ましく、3~10質量部が特に好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
 (c)光重合開始剤と併用して、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、例えば、メルカプト基含有化合物、四塩化炭素が挙げられる。これらの中でも、連鎖移動効果が高い傾向があることからメルカプト基含有化合物がより好ましい。S-H結合エネルギーが小さいことによって結合開裂が起こりやすく、水素引きぬき反応や連鎖移動反応を起こしやすいためであると考えられる。連鎖移動剤の使用は、感度向上や表面硬化性に有効である。
 メルカプト基含有化合物としては、分子内にメルカプト基を複数有していてもよく、例えば、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、2-メルカプト-4(3H)-キナゾリン、β-メルカプトナフタレン、1,4-ジメチルメルカプトベンゼン等の芳香族環を有するメルカプト基含有化合物;
へキサンジチオール、デカンジチオール、ブタンジオールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールトリス(3-メルカプトプロピオネート)、ブタンジオールビス(3-メルカプトブチレート)、エチレングリコールビス(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールトリス(3-メルカプトブチレート)、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン等の脂肪族系のメルカプト基含有化合物が挙げられる。
 芳香族環を有するメルカプト基含有化合物の中では2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾールが好ましく、脂肪族系のメルカプト基含有化合物の中では、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールトリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールトリス(3-メルカプトブチレート)、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオンが好ましい。
 感度の面からは、脂肪族系のメルカプト基含有化合物が好ましく、具体的には、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールトリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールトリス(3-メルカプトブチレート)、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオンが好ましく、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)がより好ましい。
 これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 これらの中でも、テーパ角を高める観点から、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、及び2-メルカプトベンゾオキサゾールよりなる群から選択された1又は2以上と、光重合開始剤とを組み合わせて、光重合開始剤系として使用することが好適である。例えば、2-メルカプトベンゾチアゾールを用いてもよく、2-メルカプトベンゾイミダゾールを用いてもよく、2-メルカプトベンゾチアゾールと2-メルカプトベンゾイミダゾールとを併用して用いてもよい。
 感度の観点からは、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)よりなる群から選択された1又は2以上を用いることが好ましい。さらに、感度の観点から、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、及び2-メルカプトベンゾオキサゾールよりなる群から選択された1又は2以上と、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)よりなる群から選択された1又は2以上と、光重合開始剤とを組み合わせて用いることが好ましい。
 本発明の着色感光性樹脂組成物が連鎖移動剤を含有する場合、連鎖移動剤の含有割合は特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは0.5質量%以上、よりさらに好ましくは0.8質量%以上であり、また、好ましくは5質量%以下、より好ましくは4質量%以下、さらに好ましくは3質量%以下、よりさらに好ましくは2質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.01~5質量%が好ましく、0.1~4質量%がより好ましく、0.5~3質量%がさらに好ましく、0.8~2質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで線幅の細い高精細な隔壁を形成できる傾向がある。
 本発明の着色感光性樹脂組成物が連鎖移動剤を含有する場合、着色感光性樹脂組成物中の(c)光重合開始剤に対する連鎖移動剤の含有割合としては、(c)光重合開始剤100質量部に対して、5質量部以上が好ましく、10質量部以上がより好ましく、15質量部以上がさらに好ましく、20質量部以上が特に好ましく、また、500質量部以下が好ましく、300質量部以下がより好ましく、200質量部以下がさらに好ましく、100質量部以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、5~500質量部が好ましく、10~300質量部がより好ましく、15~200質量部がさらに好ましく、20~100質量部が特に好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで線幅の細い高精細な隔壁を形成できる傾向がある。
[1-1-4](d)光重合性化合物
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、(d)光重合性化合物を含有する。(d)光重合性化合物を含むことで、塗膜の硬化性が高くなり、また撥インク性が向上すると考えられる。
 ここで使用される(d)光重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を分子内に1個以上有する化合物(以下、エチレン性不飽和化合物とも称する。)が挙げられる。重合性、架橋性、およびそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物であることが好ましく、また、その不飽和結合は(メタ)アクリロイルオキシ基に由来するもの、つまり、(メタ)アクリレート化合物であることがさらに好ましい。
 本発明においては、特に、1分子中にエチレン性不飽和結合を2個以上有する多官能エチレン性単量体を使用することが望ましい。多官能エチレン性単量体が有するエチレン性不飽和基の数は特に限定されないが、好ましくは2個以上、より好ましくは3個以上、さらに好ましくは5個以上であり、また、好ましくは15個以下、より好ましくは10個以下、さらに好ましくは8個以下、特に好ましくは7個以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、2~15個が好ましく、2~10個がより好ましく、3~8個がさらに好ましく、5~7個が特に好ましい。前記下限値以上とすることで重合性が向上して撥インク性が高くなる傾向がある。前記上限値以下とすることで現像性がより良好となる傾向がある。
 エチレン性不飽和化合物としては、例えば、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と、不飽和カルボン酸及び多塩基性カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステルが挙げられる。
 脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステルが挙げられる。
 芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、例えば、ハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の芳香族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルが挙げられる。
 脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と、不飽和カルボン酸及び多塩基性カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも単一物ではないが、代表的な具体例を挙げれば、例えば、アクリル酸、フタル酸、及びエチレングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸、及びジエチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物が挙げられる。
 その他、本発明に用いられる多官能エチレン性単量体の例としては、ポリイソシアネート化合物と水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル又はポリイソシアネート化合物とポリオール及び水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルを反応させて得られるようなウレタン(メタ)アクリレート類;多価エポキシ化合物とヒドロキシ(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリル酸との付加反応物のようなエポキシアクリレート類;エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物が有用である。
 上記ウレタン(メタ)アクリレート類としては、例えば、DPHA-40H、UX-5000、UX-5002D-P20、UX-5003D、UX-5005(日本化薬社製)、U-2PPA、U-6LPA、U-10PA、U-33H、UA-53H、UA-32P、UA-1100H(新中村化学工業社製)、UA-306H、UA-510H、UF-8001G(協栄社化学社製)、UV-1700B、UV-7600B、UV-7605B、UV-7630B、UV7640B(三菱ケミカル社製)が挙げられる。
 これらの中でも、隔壁の基板に対する密着性と撥インク性の観点から(d)光重合性化合物として、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル又はウレタン(メタ)アクリレート類を用いることが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、2,2,2-トリス(メタ)アクリロイロキシメチルエチルフタル酸、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートの二塩基酸無水物付加物、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートの二塩基酸無水物付加物を用いることがより好ましい。
 これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 本発明において、(d)光重合性化合物の分子量は特に限定されないが、撥インク性、線幅の細い高精細な隔壁を形成する観点から、好ましくは100以上、より好ましくは150以上で、さらに好ましくは200以上、よりさらに好ましくは300以上、特に好ましくは400以上、最も好ましくは500以上であり、好ましくは1000以下、より好ましくは700以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、100~1000が好ましく、150~1000がより好ましく、200~1000がさらに好ましく、300~700がよりさらに好ましく、400~700がことさら好ましく、500~700が特に好ましい。
 (d)光重合性化合物の炭素数は特に限定されないが、撥インク性、残渣抑制の観点から、好ましくは7以上、より好ましくは10以上、さらに好ましくは15以上、よりさらに好ましくは20以上、特に好ましくは25以上であり、好ましくは50以下、より好ましくは40以下、さらに好ましくは35以下、特に好ましくは30以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、7~50が好ましく、10~50がより好ましく、15~40がさらに好ましく、20~35がよりさらに好ましく、25~30が特に好ましい。
 撥インク性、線幅の細い高精細な隔壁を形成する観点から、エステル(メタ)アクリレート類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類が好ましく、中でも、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等3官能以上のエステル(メタ)アクリレート類、2,2,2-トリス(メタ)アクリロイロキシメチルエチルフタル酸、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートの二塩基酸無水物付加物等の3官能以上のエステル(メタ)アクリレート類への酸無水物の付加物が、撥インク性、線幅の細い高精細な隔壁を形成する面でさらに好ましい。
 本発明の着色感光性樹脂組成物中の(d)光重合性化合物の含有割合は、特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、さらに好ましくは10質量%以上、よりさらに好ましくは15質量%以上、特に好ましくは20質量%以上であり、また、好ましくは80質量%以下、より好ましくは60質量%以下、さらに好ましくは40質量%以下、よりさらに好ましくは30質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~80質量%が好ましく、5~80質量%がより好ましく、10~60質量%がさらに好ましく、15~40質量%がよりさらに好ましく、20~30質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで線幅の細い高精細な隔壁を形成できる傾向がある。
 (b)アルカリ可溶性樹脂100質量部に対する(d)光重合性化合物の含有割合は特に限定されないが、好ましくは1質量部以上、より好ましくは5質量部以上、さらに好ましくは10質量部以上、よりさらに好ましくは15質量部以上、ことさらに好ましくは20質量部以上、特に好ましくは25質量部以上、最も好ましくは30質量部以上であり、また、好ましくは150質量部以下、より好ましくは100質量部以下、さらに好ましくは70質量部以下、よりさらに好ましくは50質量部以下、特に好ましくは40質量部以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~150質量部が好ましく、5~150質量部がより好ましく、10~100質量部がさらに好ましく、15~100質量部がよりさらに好ましく、20~70質量部がことさらに好ましく、25~50質量部が特に好ましく、30~40質量部が最も好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで線幅の細い高精細な隔壁を形成できる傾向がある。
[1-1-5](e)撥液剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、(e)撥液剤を含有し、(e)撥液剤が、架橋基を有し、且つフッ素原子及び/又はシロキサン鎖を有する化合物(e1)を含有する。
 フッ素原子及び/又はシロキサン鎖を有する化合物(e1)を含有することによって、得られる隔壁の表面に撥インク性を付与できることから、得られる隔壁を画素ごとの混色を防ぐものとすることができる。
 <化合物(e1)>
 化合物(e1)は架橋基、並びにフッ素原子及び/又はシロキサン鎖を有する。
 化合物(e1)の架橋基としては、例えば、エポキシ基、エチレン性不飽和基、又は活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基が挙げられ、撥液剤の現像液への流出抑制の観点から、エチレン性不飽和基が好ましい。
 架橋基を有する化合物(e1)を用いることで、形成した塗膜を露光する際にその表面での架橋反応を加速することができ、化合物(e1)が現像処理で流出しにくくなり、その結果、得られる隔壁を高い撥インク性を示すものとすることができると考えられる。
 化合物(e1)がフッ素原子を有することで、化合物(e1)が隔壁の表面に配向して、インキのにじみや混色を防止する働きをする傾向がある。さらに詳しくは、フッ素原子を有する基が、インキをはじき、インキが隔壁を越えて隣接する領域に進入することによるインキのにじみや混色を防ぐ働きをする傾向がある。
 化合物(e1)がフッ素原子を有する場合、化合物(e1)はパーフルオロアルキル基及びパーフルオロアルキレンエーテル鎖のいずれか一方又は両方を有することが好ましい。パーフルオロアルキル基及びパーフルオロアルキレンエーテル鎖のいずれか一方又は両方を有することで、化合物(e1)がさらに隔壁の表面に配向しやすくなり、より高い撥インク性を示し、インキのにじみや混色をさらに防ぐ傾向がある。
 パーフルオロアルキル基としては、例えば、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基が挙げられる。パーフルオロアルキレンエーテル鎖としては、例えば、-CF2-O-、-(CF22-O-、-(CF23-O-、-CF2-C(CF32-O-、-C(CF32-CF2-O-およびこれらの繰り返し単位をもつ2価の基が挙げられる。
 架橋基及びフッ素原子を有する化合物(e1)としては、例えば、エポキシ基及びパーフルオロアルキル基を有するアクリル共重合樹脂、エポキシ基及びパーフルオロアルキレンエーテル鎖を有するアクリル共重合樹脂、エチレン性不飽和基及びパーフルオロアルキル基を有するアクリル共重合樹脂、エチレン性不飽和基及びパーフルオロアルキレンエーテル鎖を有するアクリル共重合樹脂、エポキシ基及びパーフルオロアルキル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂、エポキシ基及びパーフルオロアルキレンエーテル鎖を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂、エチレン性不飽和基及びパーフルオロアルキル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂、エチレン性不飽和基及びパーフルオロアルキレンエーテル鎖を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂が挙げられる。撥インク性の観点から、エチレン性不飽和基及びパーフルオロアルキル基を有するアクリル共重合樹脂、エチレン性不飽和基及びパーフルオロアルキレンエーテル鎖を有するアクリル共重合樹脂が好ましく、エチレン性不飽和基及びパーフルオロアルキレンエーテル鎖を有するアクリル共重合樹脂がさらに好ましい。
 架橋基及びフッ素原子を有する化合物(e1)の市販品としては、例えば、DIC社製「メガファック(登録商標、以下同じ。)F116」、「メガファックF120」、「メガファックF142D」、「メガファックF144D」、「メガファックF150」、「メガファックF160」、「メガファックF171」、「メガファックF172」、「メガファックF173」、「メガファックF177」、「メガファックF178A」、「メガファックF178K」、「メガファックF179」、「メガファックF183」、「メガファックF184」、「メガファックF191」、「メガファックF812」、「メガファックF815」、「メガファックF824」、「メガファックF833」、「メガファックRS101」、「メガファックRS102」「メガファックRS105」、「メガファックRS201」、「メガファックRS202」、「メガファックRS301」、「メガファックRS303」「メガファックRS304」、「メガファックRS401」、「メガファックRS402」、「メガファックRS501」、「メガファックRS502」、「メガファックRS-72-K」、「メガファックRS-78」、「メガファックRS-90」、「DEFENSA(登録商標、以下同じ。) MCF300」、「DEFENSA MCF310」、「DEFENSA MCF312」、「DEFENSA MCF323」、スリーエムジャパン社製「フロラードFC430」、「フロラードFC431」、「FC-4430」、「FC4432」、AGC社製「アサヒガード(登録商標。)AG710」、「サーフロン(登録商標、以下同じ。)S-382」、「サーフロンSC-101」、「サーフロンSC-102」、「サーフロンSC-103」、「サーフロンSC-104」、「サーフロンSC-105」、「サーフロンSC-106」の商品名で市販されている含フッ素有機化合物を使用することができる。
 エチレン性不飽和基及びパーフルオロアルキレン基を有するアクリル共重合樹脂として、「メガファックRS-72-K」、「メガファックRS-78」、「メガファックRS-90」を好適に使用することができる。
 化合物(e1)がフッ素原子を有する場合、化合物(e1)中のフッ素原子含有割合は特に制限されないが、化合物(e1)の全質量に対して5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上がさらに好ましく、20質量%以上がよりさらに好ましい。また、50質量%以下が好ましく、35質量%以下がより好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、5~50質量%が好ましく、10~50質量%がより好ましく、15~35質量%がさらに好ましく、20~35質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで隣接する画素部への流出を抑制できる傾向がある。前記上限値以下とすることで高い接触角を示す傾向がある。
 化合物(e1)の分子量は特に制限されず、低分子量の化合物でも、高分子量体であってもよい。高分子量体の方が、ポストベークによる流動性が抑えられ、隔壁からの流出を抑えることができるため好ましい。化合物(e1)が高分子量体である場合、化合物(e1)の数平均分子量は、100以上が好ましく、500以上がより好ましく、300000以下が好ましく、200000以下がより好ましく、100000以下がさらに好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、100~300000が好ましく、500~200000がより好ましく、500~100000がさらに好ましい。
 化合物(e1)の有するシロキサン鎖は、具体的には下記構造式(E)で表されるポリシロキサンが好ましい。
Si-O-(SiR-O)―SiR (E)
 ここでR、R、R、R、R、R、R、Rはそれぞれ独立して、1価の有機基又は水素原子を示す。
 1価の有機基として好ましくは、炭素数1~10の炭化水素基であり、その具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基などのアルケニル基;フェニル基、トリル基、キシリル基などのアリール基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基;クロロメチル基、3-クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、ノナフルオロブチルエチル基などの置換アルキル基が挙げられ、これらの有機基はエステル結合を有していてもよい。
 nは0以上の整数であり、好ましくは5以上、より好ましくは10以上であり、また、好ましくは2000以下、より好ましくは1500以下、さらに好ましくは1000以下、よりさらに好ましくは500以下、特に好ましくは300以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、好ましくは5~2000、より好ましくは5~1500、さらに好ましくは5~1000、よりさらに好ましくは10~500、特に好ましくは10~300である。前記下限値以上とすることで撥インク性が高くなる傾向がある。前記上限値以下とすることで塗膜の均一性が高くなる傾向がある。
 架橋基及びシロキサン鎖を含む化合物(e1)の市販品としては、例えば、ビックケミー社製「BYK-UV3500シリーズ」、大成ファインケミカル社製「8SS」シリーズ、信越化学工業株式会社製「KPシリーズ」の商品名で市販されている化合物が挙げられる。
 本発明の着色感光性樹脂組成物における(e)撥液剤の含有割合は特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上、さらに好ましくは0.1質量%以上であり、また、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下、さらに好ましくは2質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.01~5質量%が好ましく、0.05~3質量%がより好ましく、0.1~2質量%がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで隔壁形成後にインクを画素部に塗布する時に均一な塗膜が得られやすくなる傾向がある。
 化合物(e1)が架橋基及びフッ素原子を有する場合、本発明の着色感光性樹脂組成物における、化合物(e1)の含有割合は特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上、さらに好ましくは0.1質量%以上であり、また、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下、さらに好ましくは2質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.01~5質量%が好ましく、0.05~3質量%がより好ましく、0.1~2質量%がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで隔壁形成後にインクを画素部に塗布する時に均一な塗膜が得られやすくなる傾向がある。
 化合物(e1)が架橋基及びシロキサン鎖を有する場合、本発明の着色感光性樹脂組成物における化合物(e1)の含有割合は特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.2質量%以上、さらに好ましくは0.5質量%以上であり、また、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下、さらに好ましくは2質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.1~5質量%が好ましく、0.2~3質量%がより好ましく、0.5~2質量%がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで撥インク性が向上する傾向がある。前記上限値以下とすることで隔壁形成後にインクを画素部に塗布する時に均一な塗膜が得られやすくなる傾向がある。
 本発明の着色感光性樹脂組成物においては、(e)撥液剤と共に界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤は、例えば、着色感光性樹脂組成物の塗布液としての塗布性、および塗膜の現像性の向上を目的として用いることができ、中でもシリコーン系の界面活性剤や架橋基を有さないフッ素系の界面活性剤が好ましい。
 特に、現像の際、未露光部から着色感光性樹脂組成物の残渣を除去する作用があり、また、濡れ性を発現する機能を有することから、シリコーン系界面活性剤が好ましく、ポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤がさらに好ましい。
 架橋基を有さないフッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくとも何れかの部位にフルオロアルキル又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好適である。
 これらの市販品としては、例えば、BM Chemie社製「BM-1000」、「BM-1100」、DIC社製「メガファックF142D」、「メガファックF172」、「メガファックF173」、「メガファックF183」、「メガファックF470」、「メガファックF475」、「メガファックF554」、「メガファックF559」、スリーエムジャパン社製「FC430」、ネオス社製「DFX-18」を挙げることができる。
 シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング社製「DC3PA」、「SH7PA」、「DC11PA」、「SH21PA」、「SH28PA」、「SH29PA」、「8032Additive」、「SH8400」、ビックケミー社製「BYK(登録商標、以下同じ。)323」、「BYK330」の市販品を挙げることができる。
 界面活性剤として、フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤以外のものを含んでいてもよく、その他、界面活性剤としては、ノニオン性、アニオン性、カチオン性、両性界面活性剤が挙げられる。
 ノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル類、ペンタエリスリット脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンペンタエリスリット脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ソルビット脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル類が挙げられる。
 これらの市販品としては、例えば、花王社製の「エマルゲン(登録商標、以下同じ。)104P」、「エマルゲンA60」等のポリオキシエチレン系界面活性剤が挙げられる。
 アニオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルスルホン酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸塩類、特殊高分子系界面活性剤が挙げられる。中でも、特殊高分子系界面活性剤が好ましく、特殊ポリカルボン酸型高分子系界面活性剤がさらに好ましい。
 これらの市販品としては、アルキル硫酸エステル塩類では、例えば、花王社製「エマール(登録商標、以下同じ。)10」、アルキルナフタレンスルホン酸塩類では、例えば、花王社製「ペレックス(登録商標。)NB-L」、特殊高分子系界面活性剤では、例えば、花王社製「ホモゲノール(登録商標、以下同じ。)L-18」、「ホモゲノールL-100」が挙げられる。
 カチオン性界面活性剤としては、例えば、第4級アンモニウム塩類、イミダゾリン誘導体類、アルキルアミン塩類が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、ベタイン型化合物類、イミダゾリウム塩類、イミダゾリン類、アミノ酸類が挙げられる。
 これらのうち、第4級アンモニウム塩類が好ましく、ステアリルトリメチルアンモニウム塩類がさらに好ましい。
 これらの市販品としては、アルキルアミン塩類では、例えば、花王社製「アセタミン(登録商標。)24」、第4級アンモニウム塩類では、例えば、花王社製「コータミン(登録商標、以下同じ。)24P」、「コータミン86W」が挙げられる。
 界面活性剤は1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。例えば、シリコーン系界面活性剤とフッ素系界面活性剤との組み合わせ、シリコーン系界面活性剤と特殊高分子系界面活性剤との組み合わせ、フッ素系界面活性剤と特殊高分子系界面活性剤との組み合わせが挙げられる。中でも、シリコーン系界面活性剤とフッ素系界面活性剤との組み合わせが好ましい。
 シリコーン系界面活性剤とフッ素系界面活性剤との組み合わせでは、例えば、ネオス社製「DFX-18」、ビックケミー社製「BYK-300」または「BYK-330」とAGCセイミケミカル社製「S-393」との組み合わせ;信越シリコーン社製「KP340」とDIC社製「F-554」または「F-559」との組み合わせ;東レ・ダウコーニング社製「SH7PA」とダイキン社製「DS-401」との組み合わせ;NUC社製「L-77」とスリーエムジャパン社製「FC4430」との組み合わせが挙げられる。
[1-1-6](f)分散剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、(a)着色剤を微細に分散させ、かつその分散状態を安定化させるため、(f)分散剤を含むことが好ましい。
 (f)分散剤としては、官能基を有する高分子分散剤が好ましく、さらに、分散安定性の面からカルボキシ基;リン酸基;スルホン酸基;又はこれらの塩基;一級、二級又は三級アミノ基;四級アンモニウム塩基;ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環由来の基、等の官能基を有する高分子分散剤が好ましい。特に、一級、二級又は三級アミノ基;四級アンモニウム塩基;ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環由来の基、等の塩基性官能基を有する高分子分散剤が顔料を分散する際に少量の分散剤で分散することができるとの観点から特に好ましい。
 高分子分散剤としては、例えば、ウレタン系分散剤、アクリル系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリアリルアミン系分散剤、アミノ基を持つモノマーとマクロモノマーからなる分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレンジエステル系分散剤、ポリエーテルリン酸系分散剤、ポリエステルリン酸系分散剤、ソルビタン脂肪族エステル系分散剤、脂肪族変性ポリエステル系分散剤を挙げることができる。
 このような分散剤の具体例としては、例えば、商品名で、EFKA(登録商標。BASF社製。)、DISPERBYK(登録商標。ビックケミー社製。)、ディスパロン(登録商標。楠本化成社製。)、SOLSPERSE(登録商標。ルーブリゾール社製。)、KP(信越化学工業社製)、ポリフロー(共栄社化学社製)、アジスパー(登録商標。味の素社製。)を挙げることができる。
 高分子分散剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 高分子分散剤の重量平均分子量(Mw)は好ましくは700以上、より好ましくは1000以上であり、また好ましくは100000以下、より好ましくは50000以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、高分子分散剤の重量平均分子量(Mw)は700~100000が好ましく、1000~50000がより好ましい。
 着色剤の分散安定性の観点から、(f)分散剤は官能基を有するアクリル系高分子分散剤を含むことが好ましい。
 分散性、保存性の面から、塩基性官能基を有し、ポリエステル結合及びポリエーテル結合のいずれか一方又は両方を有する高分子分散剤が好ましい。
 アクリル系高分子分散剤としては、官能基(ここでいう官能基とは、高分子分散剤に含有される官能基として前述した官能基である。)を有する不飽和基含有単量体と、官能基を有さない不飽和基含有単量体とのランダム共重合体、グラフト共重合体、ブロック共重合体を使用することが好ましい。これらの共重合体は公知の方法で製造することができる。
 官能基を有する不飽和基含有単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸、2-(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2-(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2-(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、アクリル酸ダイマー等のカルボキシ基を有する不飽和単量体、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート及びこれらの4級化物等の3級アミノ基、4級アンモニウム塩基を有する不飽和単量体が挙げられる。
 これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 官能基を有さない不飽和基含有単量体としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシメチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカン(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N-ビニルピロリドン、スチレン及びその誘導体、α-メチルスチレン、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-ベンジルマレイミド等のN-置換マレイミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル及びポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー、ポリスチレンマクロモノマー、ポリ2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートマクロモノマー、ポリエチレングリコールマクロモノマー、ポリプロピレングリコールマクロモノマー、ポリカプロラクトンマクロモノマー等のマクロモノマーが挙げられる。
 これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 アクリル系高分子分散剤は、特に好ましくは、官能基を有するAブロックと官能基を有さないBブロックからなるA-B又はB-A-Bブロック共重合体であるが、この場合、Aブロック中には上記官能基を含む不飽和基含有単量体由来の部分構造の他に、上記官能基を含まない不飽和基含有単量体由来の部分構造が含まれていてもよく、これらがAブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい。
 官能基を含まない部分構造の、Aブロック中の含有量は、好ましくは80質量%以下であり、より好ましくは50質量%以下、さらに好ましくは30質量%以下である。
 Bブロックは、上記官能基を含まない不飽和基含有単量体由来の部分構造からなるものであるが、1つのBブロック中に2種以上の単量体由来の部分構造が含有されていてもよく、これらは、Bブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい。
 A-B又はB-A-Bブロック共重合体は、例えば、以下に示すリビング重合法にて調製される。
 リビング重合法には、アニオンリビング重合法、カチオンリビング重合法、ラジカルリビング重合法がある。
 このアクリル系高分子分散剤を合成するに際しては、例えば、日本国特開平9-62002号公報、P.Lutz, P.Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B.C.Anderson, G.D.Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601(1981), K.Hatada, K.Ute,et al, Polym. J. 17, 977(1985), 18, 1037(1986), 右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36, 366(1987),東村敏延、沢本光男、高分子論文集、46, 189(1989), M.Kuroki, T.Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、43, 300(1985), D.Y.Sogoh, W.R.Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473(1987)に記載の公知の方法を採用することができる。
 本発明で用いることができるアクリル系高分子分散剤はA-Bブロック共重合体であっても、B-A-Bブロック共重合体であってもよく、その共重合体を構成するAブロック/Bブロック比は1/99~80/20(質量比)が好ましく、特に5/95~60/40(質量比)がより好ましい。前記範囲内にすることで分散性と保存安定性のバランスの確保ができる傾向がある。
 本発明で用いることができるA-Bブロック共重合体、B-A-Bブロック共重合体1g中の4級アンモニウム塩基の量は、0.1~10mmolであることが好ましい。前記範囲内にすることで良好な分散性を確保できる傾向がある。
 このようなブロック共重合体中に、製造過程で生じたアミノ基が含有される場合、そのアミン価は1~100mgKOH/gが好ましく、分散性の観点から、好ましくは10mgKOH/g以上、より好ましくは30mgKOH/g以上、さらに好ましくは50mgKOH/g以上、また、好ましくは90mgKOH/g以下、より好ましくは80mgKOH/g以下、さらに好ましくは75mgKOH/g以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~100mgKOH/gが好ましく、10~90mgKOH/gがより好ましく、30~80mgKOH/gがさらに好ましく、50~75mgKOH/gが特に好ましい。
 ブロック共重合体等の分散剤のアミン価は、分散剤試料中の溶剤を除いた固形分1gあたりの塩基量と当量のKOHの質量で表し、次の方法により測定する。
 100mLのビーカーに分散剤試料の0.5~1.5gを精秤し、50mLの酢酸で溶解する。pH電極を備えた自動滴定装置を使って、この溶液を0.1mol/LのHClO4酢酸溶液にて中和滴定する。滴定pH曲線の変曲点を滴定終点とし次式によりアミン価を求める。
 アミン価[mgKOH/g]=(561×V)/(W×S)〔但し、W:分散剤試料秤取量[g]、V:滴定終点での滴定量[mL]、S:分散剤試料の固形分濃度[質量%]を表す。〕
 ブロック共重合体の酸価は、その酸価の元となる酸性基の有無及び種類にもよるが、低い方が好ましく、好ましくは10mgKOH/g以下である。
 ブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)は、1000~100000の範囲が好ましい。前記範囲内とすることで良好な分散性を確保できる傾向がある。
 本発明の着色感光性樹脂組成物が(f)分散剤を含有する場合、その含有割合は特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して、0.1質量%以上が好ましく、0.5質量%以上がより好ましく、また、8質量%以下が好ましく、5質量%以下がより好ましく、3質量%以下がさらに好ましく、2質量%以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.1~8質量%が好ましく、0.1~5質量%がより好ましく、0.5~3質量%がさらに好ましく、0.5~2質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで凝集物を抑制し、均一な塗膜を形成できる傾向がある。前記上限値以下とすることで撥インク性や現像性が向上する傾向がある。
 (f)分散剤の含有割合は、(a)着色剤100質量部に対し、1質量部以上が好ましく、3質量部以上がより好ましく、5質量部以上がさらに好ましくまた、25質量部以下が好ましく、20質量部以下がより好ましく、15質量部以下がさらに好ましく、12質量部以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~25質量部が好ましく、3~20質量部がより好ましく、5~15質量部がさらに好ましく、5~12質量部が特に好ましい。前記下限値以上とすることで凝集物を抑制し、均一な塗膜を形成できる傾向がある。前記上限値以下とすることで撥インク性や現像性が向上する傾向がある。
 (f)分散剤の含有割合は、(a1)白色顔料100質量部に対し、1質量部以上が好ましく、3質量部以上がより好ましく、5質量部以上がさらに好ましく、また、25質量部以下が好ましく、20質量部以下がより好ましく、15質量部以下がさらに好ましく、12質量部以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、1~25質量部が好ましく、3~20質量部がより好ましく、5~15質量部がさらに好ましく、5~12質量部が特に好ましい。前記下限値以上とすることで凝集物による残渣発生を抑制できる傾向がある。前記上限値以下とすることで撥インク性や現像性が向上する傾向がある。
[1-1-7]紫外線吸収剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は、露光に用いられる光源の特定の波長を紫外線吸収剤によって吸収させることにより、光硬化分布を制御する目的で添加されるものである。
[1-1-8]重合禁止剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤を含有することでそれがラジカル重合を阻害することから、得られる隔壁のテーパ角を大きくすることができる傾向がある。
 重合禁止剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 (b)アルカリ可溶性樹脂の製造方法によっては製造されたアルカリ可溶性樹脂に重合禁止剤が含まれることがある。その場合、アルカリ可溶性樹脂に重合禁止剤が含まれたまま用いてもよいし、樹脂中に含まれる重合禁止剤の他に、それと同一、又は異なる重合禁止剤を着色感光性樹脂組成物製造時にさらに添加してもよい。
 本発明の着色感光性樹脂組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有割合は特に限定されないが、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して、好ましくは0.0005質量%以上、より好ましくは0.001質量%以上、さらに好ましくは0.01質量%以上であり、また、好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.08質量%以下、さらに好ましくは0.05質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.0005~0.1質量%が好ましく、0.001~0.08質量がより好ましく、0.01~0.05質量がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで塗布液の保存安定性を高くすることができる傾向がある。前記上限値以下とすることで撥インク性が高くなる傾向がある。
[1-1-9]熱重合開始剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、熱重合開始剤を含有してもよい。熱重合開始剤を含有することで、膜の架橋度を高くできる傾向がある。このような熱重合開始剤の具体例としては、例えば、アゾ系化合物、有機過酸化物、過酸化水素が挙げられる。
 これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 光重合開始剤に撥インク性の向上や膜の架橋密度の増大を期待して熱重合開始剤を併用する場合、これらの含有割合の合計が、前述の着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対する光重合開始剤の含有割合となるようにすることが好ましく、また、光重合開始剤と熱重合開始剤との併用割合としては、撥インク性の観点から、光重合開始剤100質量部に対して熱重合開始剤を5~300質量部とすることが好ましい。
[1-1-10]アミノ化合物
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、熱硬化を促進するため、アミノ化合物を含有してもよい。本発明の着色感光性樹脂組成物にアミノ化合物が含まれる場合、アミノ化合物の含有割合としては、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下であり、また、好ましくは0.5質量%以上、より好ましくは1質量%以上である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.5~40質量%が好ましく、1~30質量%がより好ましい。前記下限値以上とすることで十分な熱硬化性を確保できる傾向がある。前記上限値以下とすることで保存安定性が高くなる傾向がある。
 アミノ化合物としては、例えば、官能基としてメチロール基、それを炭素数1~8のアルコール縮合変性したアルコキシメチル基を少なくとも2個有するアミノ化合物が挙げられる。具体的には、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを重縮合させたメラミン樹脂;ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとを重縮合させたベンゾグアナミン樹脂;グリコールウリルとホルムアルデヒドとを重縮合させたグリコールウリル樹脂;尿素とホルムアルデヒドとを重縮合させた尿素樹脂;メラミン、ベンゾグアナミン、グリコールウリル、または尿素等の2種以上とホルムアルデヒドとを共重縮合させた樹脂;上述の樹脂のメチロール基をアルコール縮合変性した変性樹脂が挙げられる。
 これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
[1-1-11]シランカップリング剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、基板との密着性を改善するため、シランカップリング剤を含有してもよい。
 シランカップリング剤としては、例えば、エポキシ系、メタクリル系、アミノ系、イミダゾール系のシランカップリング剤が使用できる。密着性向上の観点から、特にエポキシ系、イミダゾール系のシランカップリング剤が好ましい。
 本発明の着色感光性樹脂組成物がシランカップリング剤を含有する場合、その含有量は、密着性の観点から、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して、好ましくは20質量%以下、より好ましくは15質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下、よりさらに好ましくは5質量%以下、ことさらに好ましくは2質量%以下である。前記下限値以上とすることで基板との密着性が高くなる傾向がある。
 前記上限値以下とすることで塗布液の保存安定性が高くなる傾向がある。
[1-1-12]無機充填剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、硬化物としての強度の向上と共に、アルカリ可溶性樹脂との適度な相互作用(マトリックス構造の形成)による塗膜の優れた垂直性とテーパ角の向上等を目的として、(a1)白色顔料とは別に、無機充填剤を含有してもよい。
 無機充填剤としては、例えば、タルク、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、酸化マグネシウム、或いは、これらを各種シランカップリング剤により表面処理したものが挙げられる。
 無機充填剤の平均粒子径としては、好ましくは0.005~2μm、より好ましくは0.01~1μmである。平均粒子径は、ベックマン・コールター社製等のレーザー回折散乱粒度分布測定装置にて測定した値である。無機充填剤のうち、特に、シリカゾルおよびシリカゾル変性物は、分散安定性と共にテーパ角の向上効果に優れる傾向があるため、好ましい。
 本発明の着色感光性樹脂組成物が無機充填剤を含有する場合、その含有量としては、撥インク性の観点から、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して、好ましくは5質量%以上、より好ましくは10質量%以上であり、好ましくは80質量%以下、より好ましくは70質量%以下である。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、5~80質量%が好ましく、10~70質量%がより好ましい。
[1-1-13]密着性向上剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、基板との密着性を付与する目的で、密着性向上剤を含有してもよい。密着性向上剤としては、例えば、リン酸系のエチレン性単量体が挙げられる。
 リン酸系のエチレン性単量体としては、(メタ)アクリロイルオキシ基含有ホスフェート類が好ましく、下記一般式(g1)、(g2)、(g3)で表されるものが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
(上記一般式(g1)、(g2)、(g3)において、R51は水素原子又はメチル基を示し、l及びl’は1~10の整数、mは1、2又は3である。)
 これらのリン酸系エチレン性単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 本発明の着色感光性樹脂組成物が密着性向上剤としてリン酸系エチレン性単量体を含有する場合、その含有割合は、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して0.02質量%以上が好ましく、0.05質量%以上がより好ましく、0.1質量%以上がさらに好ましく、0.2質量%以上が特に好ましく、また、4質量%以下が好ましく、3質量%以下がより好ましく、2質量%以下がさらに好ましく、1質量%以下が特に好ましい。
 上記の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。例えば、0.02~4質量%が好ましく、0.05~3質量%がより好ましく、0.1~2質量%がさらに好ましく、0.2~1質量%が特に好ましい。前記下限値以上とすることで基板との密着性の改善効果が十分となる傾向がある。上記上限値以下とすることで基板との密着性の悪化を抑制しやすい傾向がある。
[1-1-14]溶剤
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、通常、溶剤を含有し、着色感光性樹脂組成物に含有される各成分を溶剤に溶解または分散させた状態で使用される。その溶剤としては、特に制限は無いが、例えば、以下に記載する有機溶剤が挙げられる。
 エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、プロピレングリコール-t-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3-メチル-3-メトキシブタノール、3-メトキシ-1-ブタノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルのようなグリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルのようなグリコールジアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3-メトキシ-1-ブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテートのようなグリコールアルキルエーテルアセテート類;
エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、1,3-ブチレングリコールジアセテート、1,4-ブタンジオールジアセテート、1,6-ヘキサノールジアセテート等のグリコールジアセテート類;
シクロヘキサノールアセテート等のアルキルアセテート類;
アミルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテルのようなエーテル類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトン、メトキシメチルペンタノンのようなケトン類;
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、メトキシメチルペンタノール、グリセリン、ベンジルアルコールのような1価又は多価アルコール類;
n-ペンタン、n-オクタン、ジイソブチレン、n-ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカンのような脂肪族炭化水素類;
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシルのような脂環式炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンのような芳香族炭化水素類;
アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、メチルイソブチレート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、安息香酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、γ-ブチロラクトンのような鎖状又は環状エステル類;
3-メトキシプロピオン酸、3-エトキシプロピオン酸のようなアルコキシカルボン酸類;
ブチルクロライド、アミルクロライドのようなハロゲン化炭化水素類;
メトキシメチルペンタノンのようなエーテルケトン類;
アセトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル類;
テトラヒドロフラン、ジメチルテトラヒドロフラン、ジメトキシテトラヒドロフランのようなテトラヒドロフラン類。
 市販の溶剤としては、例えば、ミネラルスピリット、バルソル#2、アプコ#18ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントNo.1およびNo.2、ソルベッソ#150、シェルTS28 ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、ジグライム(いずれも商品名)が挙げられる。
 溶剤は、着色感光性樹脂組成物に含有される各成分を溶解または分散させることができ、本発明の着色感光性樹脂組成物の使用方法に応じて選択される。塗布性の観点から、溶媒の大気圧下における沸点は、60~280℃が好ましく、70~260℃がより好ましい。中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、3-メトキシ-1-ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシ-1-ブチルアセテートが好ましい。
 溶剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 溶剤は、着色感光性樹脂組成物溶液中の全固形分の含有割合が、好ましくは10質量%以上、より好ましくは15質量%以上、さらに好ましくは20質量%以上、特に好ましくは25質量%以上、また、好ましくは90質量%以下、より好ましくは50質量%以下、さらに好ましくは40質量%以下、特に好ましくは35質量%以下となるように使用されることが好ましい。例えば、好ましくは10~90質量%、より好ましくは15~50質量%、さらに好ましくは20~40質量%、特に好ましくは25~35質量%となるように使用されることが好ましい。前記下限値以上とすることで塗布ムラの発生を抑制できる傾向がある。前記上限値以下とすることで異物、ハジキ等の発生を抑制できる傾向がある。
[1-2]着色感光性樹脂組成物の調製方法
 本発明の着色感光性樹脂組成物は、着色感光性樹脂組成物に含有される各成分を撹拌機で混合することにより調製される。
 例えば、(a)着色剤として顔料等の溶剤不溶成分を含有する場合には、予めペイントコンディショナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザー等を用いて分散処理することが好ましい。分散処理により(a)着色剤が微粒子化されるため、着色感光性樹脂組成物の塗布特性が向上する。
 分散処理は、通常、(a)着色剤、溶剤、及び(f)分散剤を併用した系や、それらに任意で(b)アルカリ可溶性樹脂の一部又は全部を併用した系にて行うことが好ましい(以下、分散処理に供する混合物、及び分散処理にて得られた組成物を「インク」又は「顔料分散液」と称することがある。)。特に(f)分散剤として高分子分散剤を用いると、得られたインク及び着色感光性樹脂組成物の分散安定性に優れ、経時の増粘が抑制されるため好ましい。
 このように、着色感光性樹脂組成物を製造する工程において、(a)着色剤、溶剤、及び(f)分散剤を少なくとも含有する顔料分散液を製造することが好ましい。
 顔料分散液に用いることができる(a)着色剤、有機溶剤、及び(f)分散剤としては、それぞれ着色感光性樹脂組成物に用いることができるものとして記載したものを好ましく採用することができる。また、顔料分散液における(a)着色剤の各着色剤の含有割合としても、着色感光性樹脂組成物における含有割合として記載したものを好ましく採用することができる。
 サンドグラインダーで(a)着色剤を分散させる場合には、0.1~8mm程度の粒子径のガラスビーズ又はジルコニアビーズが好ましく用いられる。分散処理条件は、温度は0℃から100℃が好ましく、より好ましくは室温から80℃の範囲である。分散時間は液の組成及び分散処理装置のサイズ等により適正時間が異なるため適宜調節する。着色感光性樹脂組成物の20度鏡面光沢度(JIS Z8741)が50~300の範囲となるように、インキの光沢を制御することが分散の目安である。
 インク中に分散した顔料の分散粒径は0.03~0.3μmが好ましく、動的光散乱法等により測定される。
 次に、分散処理により得られたインクと、着色感光性樹脂組成物中に含まれる他の成分を混合し、均一な溶液又は分散液とする。着色感光性樹脂組成物の製造工程においては、微細なゴミが液中に混じることがあるため、得られた着色感光性樹脂組成物はフィルター等により濾過処理することが望ましい。
[2]隔壁及びその形成方法
 本発明の着色感光性樹脂組成物を硬化させることで、本発明の硬化物を得ることができる。本発明の着色感光性樹脂組成物は隔壁を形成するために用いることができ、例えば、有機電界発光素子の有機層を区画するための隔壁や、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタにおける画素部を区画するための隔壁を形成するために好適に用いることができる。本発明の隔壁は、本発明の硬化物から構成される。
 本発明の着色感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する方法は特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。隔壁の形成方法としては、例えば、着色感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、着色感光性樹脂組成物層を形成する塗布工程と、着色感光性樹脂組成物層を露光する露光工程と、を含む方法が挙げられる。このような隔壁の形成方法の具体例としては、インクジェット法とフォトリソグラフィー法とが挙げられる。
 インクジェット法では、溶剤による希釈等により粘度調整された着色感光性樹脂組成物をインクとして用い、所定の隔壁のパターンに沿ってインクジェット法によりインク液滴を基板上に吐出することで着色感光性樹脂組成物を基板上に塗布して未硬化の隔壁のパターンを形成する。そして、未硬化の隔壁のパターンを露光して、基板上に硬化した隔壁を形成する。未硬化の隔壁のパターンの露光は、マスクを用いないことの他は、後述するフォトリソグラフィー法における露光工程と同様に行われる。
 フォトリソグラフィー法では、着色感光性樹脂組成物を、基板の隔壁が形成される領域全面に塗布して着色感光性樹脂組成物層を形成する。形成された着色感光性樹脂組成物層を、所定の隔壁のパターンに応じて露光した後、露光された着色感光性樹脂組成物層を現像して、基板上に隔壁が形成される。
 フォトリソグラフィー法における、着色感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程では、隔壁が形成されるべき基板上に、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて着色感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて、乾燥により溶媒を除去して、着色感光性樹脂組成物層を形成する。
 次いで、露光工程では、ネガ型のマスクを利用して、着色感光性樹脂組成物に紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射し、着色感光性樹脂組成物層をバンクのパターンに応じて部分的に露光する。露光には、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯等の紫外線を発する光源を用いることができる。露光量は着色感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば10~400mJ/cm2程度が好ましい。
 次いで、現像工程では、隔壁のパターンに応じて露光された着色感光性樹脂組成物層を現像液で現像することにより隔壁を形成する。現像方法は特に限定されず、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液の具体例としては、ジメチルベンジルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、4級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。又、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。
 その後、現像後の隔壁にポストベークを施して加熱硬化する。ポストベークの条件としては、80~250℃で15~180分間が好ましい。
 隔壁の形成に用いる基板は特に限定されず、隔壁が形成された基板を用いて製造される有機電界発光素子の種類に合わせて適宜選択される。好適な基板の材料としては、ガラスや、各種の樹脂材料が挙げられる。樹脂材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル;ポリエチレン、及びポリプロピレン等のポリオレフィン;ポリカーボネート;ポリ(メタ)メタアクリル樹脂;ポリスルホン;ポリイミドが挙げられる。これらの基板の材料の中では、耐熱性に優れることからガラス、及びポリイミドが好ましい。また、製造される有機電界発光素子の種類に応じて、隔壁が形成される基板の表面には、予めITOやZnO等の透明電極層を設けておいてもよい。
 本発明の隔壁の膜厚は好ましくは0.1μm以上であり、より好ましくは1μm以上、さらに好ましくは5μm以上、特に好ましくは10μm以上、また、好ましくは1mm以下、より好ましくは100μm以下、さらに好ましくは50μm以下、よりさらに好ましくは30μm以下、特に好ましくは20μm以下である。前記下限値以上とすることで遮光性が向上する傾向がある。また、前記上限値以下とすることで密着性が向上する傾向がある。隔壁の膜厚は段差・表面粗さ・微細形状測定装置、走査型白色干渉顕微鏡、エリプソメーター、反射分光膜厚計、電子顕微鏡で測定される。
[3]有機電界発光素子
 本発明の有機電界発光素子は、本発明の隔壁を備える。
 以上説明した方法により製造された隔壁パターンを備える基板を用いて、種々の有機電界発光素子が製造される。有機電界発光素子を形成する方法は特に限定されないが、好ましくは、上記方法により基板上に隔壁のパターンを形成した後に、基板上の隔壁により囲まれた領域内にインクを注入して画素等の有機層を形成することによって、有機電界発光素子が製造される。
 有機電界発光素子のタイプとしては、ボトムエミッション型やトップエミッション型が挙げられる。
 ボトムエミッション型では、例えば、透明電極を積層したガラス基板上に隔壁を形成し、隔壁で囲まれた開口部に正孔輸送層、発光層、電子輸送層、金属電極層を積層して作成される。一方でトップエミッション型では、例えば、金属電極層を積層したガラス基板上に隔壁を形成し、隔壁で囲まれた開口部に電子輸送層、発光層、正孔輸送層、透明電極層を積層して作製される。
 隔壁がすそ引き形状である場合、有機層形成用のインクが隔壁のすそ部分で弾かれるため、隔壁により囲まれた領域内が有機層形成用のインクにより十分に被覆されない場合がある。それに対して、すそ引きのない良好な形状とすることで、隔壁により囲まれた領域内を有機層形成用のインクにより十分に被覆することができる。これにより、例えば、有機EL表示素子におけるハレーションの問題を解消することができる。
 有機層形成用のインクを形成する際に使用される溶媒としては、水、有機溶剤、及びこれらの混合溶剤を用いることができる。有機溶剤は、インクの注入後に形成された皮膜から除去可能であれば特に限定されない。有機溶剤の具体例としては、トルエン、キシレン、アニソール、メシチレン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、3-フェノキシトルエン、等が挙げられる。また、インクには、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等を添加することができる。
 隔壁により囲まれた領域内にインクを注入する方法としては、少量のインクを所定の個所に容易に注入可能であることから、インクジェット法が好ましい。有機層の形成に使用されるインクは、製造される有機電界発光素子の種類に応じて適宜選択される。インクをインクジェット法により注入する場合、インクの粘度はインクをインクジェットヘッドから良好に吐出できる限り特に限定されないが、4~20mPa・sが好ましく、5~10mPa・sがより好ましい。インクの粘度は、インク中の固形分含有量の調整、溶媒の変更、粘度調整剤の添加等により調整することができる。
 なお、発光層としては、特開2009-146691号公報や特許第5734681号公報に記載されているような有機電界発光層が挙げられる。また、特許第5653387号公報や特許第5653101号公報に記載されているような量子ドットを用いてもよい。
[4]発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ
 本発明の発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタは、本発明の隔壁を備えていれば特に限定されず、隔壁で区画された領域に画素を形成したものが挙げられる。
 図1は、本発明の隔壁を備えるカラーフィルタの一例の模式断面図である。図1に示すように、カラーフィルタ100は、基板10と、基板上に設けられた隔壁20、赤色画素30、緑色画素40、及び青色画素50を備えている。赤色画素30、緑色画素40、及び青色画素50は、この順に繰り返すように格子状に配列されている。隔壁20は、これらの隣り合う画素の間に設けられている。言い換えれば、これらの隣り合う画素同士は、隔壁20によって区画されている。
 赤色画素30には赤色発光性のナノ結晶粒子2が含まれ、そして緑色画素40には緑色発光性のナノ結晶粒子1が含まれる。青色画素50は、光源からの青色光を透過する画素である。
 これらのナノ結晶粒子は、励起光を吸収して蛍光又は燐光を発光するナノサイズの結晶体であり、例えば、透過型電子顕微鏡又は走査型電子顕微鏡によって測定される最大粒子径が100nm以下である結晶体である。
 発光性ナノ結晶粒子は、所定の波長の光を吸収することにより、吸収した波長とは異なる波長の光(蛍光又は燐光)を発することができるものであり、例えば、赤色発光性のナノ結晶粒子2は、605~665nmの範囲に発光ピーク波長を有する光(赤色光)を発するものであり、緑色発光性のナノ結晶粒子1は、500~560nmの範囲に発光ピーク波長を有する光(緑色光)を発するものである。
 発光性ナノ結晶粒子が発する光の波長(発光色)は、井戸型ポテンシャルモデルのシュレディンガー波動方程式の解によれば、発光性ナノ結晶粒子のサイズ(例えば粒子径)に依存するが、発光性ナノ結晶粒子が有するエネルギーギャップにも依存する。そのため、使用する発光性ナノ結晶粒子の構成材料及びサイズを変更することにより、発光色を選択することができる。発光性ナノ結晶粒子としては、量子ドット等が挙げられる。
 発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタの製造方法は特に限定されないが、本発明の硬化物から構成される隔壁を備えた基板を準備し、隔壁で区画された領域に発光性ナノ結晶粒子を含む層を形成する方法が挙げられる。発光性ナノ結晶粒子を含む層を形成する方法は特に限定されないが、例えば発光性ナノ結晶粒子を含むインク組成物を、インクジェット方式により選択的に付着させ、活性エネルギー線の照射又は加熱によりインク組成物を硬化させる方法により製造することができる。
[5]画像表示装置
 本発明の画像表示装置は、本発明の隔壁を備える。
 本発明の画像表示装置として、例えば、本発明の有機電界発光素子を含む画像表示装置が挙げられる。有機電界発光素子を含むものであれば、画像表示装置の型式や構造については特に制限はなく、例えばアクティブ駆動型有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。例えば、「有機ELディスプレイ」(オーム社、平成16年8月20日発行、時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載されているような方法で、本発明の画像表示装置を形成することができる。例えば、白色光を発光する有機電界発光素子とカラーフィルタとを組み合わせて画像表示させてもよいし、RGB等の発光色の異なる有機電界発光素子を組み合わせて画像表示させてもよい。
 また、本発明の画像表示装置として、例えば、本発明に係る発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタを備える画像表示装置が挙げられる。
 画像表示装置の種類としては、液晶表示装置や、有機電界発光素子を含む画像表示装置などが挙げられる。液晶表示装置の場合、青色LEDを備えた光源と、光源から発せられた青色光を画素部ごとに制御する電極を備えた液晶層を含むものが挙げられる。
 一方で、有機電界発光素子を含む画像表示装置では、前記カラーフィルタの各画素部に対応する位置に青色発光の有機電界発光素子を配置したものが挙げられる。具体的には、日本国特開2019-87746号公報に記載の方式が挙げられる。
 以下、本発明の着色感光性樹脂組成物について、具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
 以下の実施例及び比較例で用いた着色感光性樹脂組成物の構成成分は次の通りである。
<アルカリ可溶性樹脂-I>
 ジシクロペンタニルメタクリレート/スチレン/グリシジルメタクリレート(モル比:0.02/0.05/0.93)を構成モノマーとする共重合樹脂に、アクリル酸を前記グリシジルメタクリレートと等量付加反応させ、さらに無水テトラヒドロフタル酸を上記の共重合樹脂1モルに対して0.10モルになるように付加させた、アルカリ可溶性のアクリル共重合樹脂。GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は7700、固形分酸価は28.5mgKOH/g、二重結合当量は260g/molであり、アクリル共重合樹脂(b1)に該当する。
<アルカリ可溶性樹脂-II>
 ジシクロペンタニルメタクリレート/スチレン/グリシジルメタクリレート(モル比:0.30/0.10/0.60)を構成モノマーとする共重合樹脂に、アクリル酸を前記グリシジルメタクリレートに対して等量付加反応させ、さらに無水テトラヒドロフタル酸を上記の共重合樹脂1モルに対して0.39モルになるように付加反応させた、アルカリ可溶性のアクリル共重合樹脂。GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は9000、固形分酸価は80mgKOH/g、二重結合当量は470g/molであり、アクリル共重合樹脂(b1)に該当しない。
<アルカリ可溶性樹脂-III>
 日本化薬社製 ZCR-1642H(重量平均分子量Mw=6500、酸価=98mgKOH/g、二重結合当量=500g/mol)
 アクリル共重合樹脂(b1)に該当しない。
<溶剤-I>
 PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
<溶剤-II>
 PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
<光重合性化合物-I>
 DPHA:日本化薬社製 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
<光重合開始剤-I>
 国際公開2009/131189号公報記載の方法で製造することができる、以下の化学構造を有する化合物を用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
<撥液剤-I>
 DIC社製 メガファック RS-90(エチレン性不飽和基及びパーフルオロアルキレン基を有する化合物)
<界面活性剤-I>
 DIC社製 メガファック F-559(架橋基を有さないフッ素系界面活性剤)
<添加剤-I>
 昭和電工社製 カレンズMT PE1(ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)
<添加剤-II>
 日本化薬社製 KAYAMER PM-21(メタクリロイル基含有ホスフェート)
<顔料分散液1>
 石原産業社製のTiO2酸化チタン PT501R(一次粒子の平均粒子径0.18μm)、アミン塩基性高分子系アクリル分散剤(分散剤-I)、及び溶剤を、表1に記載の質量比となるように混合した。この混合液をペイントシェーカーにより25~45℃の範囲で6時間分散処理を行った。ビーズとしては、0.3mmφのジルコニアビーズを用い、混合液の2.5倍の質量を加えた。分散終了後、フィルターによりビーズと分散液を分離して、顔料分散液1を調製した。
 なお、表1中の分散剤の配合割合は固形分換算値であり、溶剤の配合割合には分散剤由来の溶剤の量も含まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
[実施例1~7及び比較例1~3]
 上記調製した顔料分散液1を用いて、全固形分中の各成分の固形分の比率が表2の配合割合となるように各成分を加え、さらに全固形分の含有割合が31質量%、かつ、全溶剤中において溶剤-I/溶剤-II=80/20(質量比)となるように溶剤を加え、攪拌、溶解させて、着色感光性樹脂組成物1~10(組成物1~10)を調製した。得られた各着色感光性樹脂組成物を用いて、後述する方法で評価を行った。
 なお、表2中の顔料分散液、アルカリ可溶性樹脂、撥液剤の配合割合は固形分換算値である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
 以下に性能評価の方法を説明する。
<PGMEA接触角の測定>
 ガラス基板上にスピナーを用いて、加熱硬化後に10μmの厚みになるように前記感光性着色樹脂組成物を塗布した。この塗布基板を1分間真空乾燥し、さらに100℃で120秒間、ホットプレート上で加熱乾燥した。得られた塗布基板を露光装置 MPA-600FA(Canon社製)を用いて365nmの波長で500mW/cmの強度にて100mJ/cmの露光をした。次にこの基板を、0.03質量%のKOH及び0.05質量%のエマルゲンA-60(花王社製界面活性剤)を溶解した水溶液を現像液として、24℃で0.05MPaのスプレー圧で70秒間スプレー現像した後、0.5MPaのスプレー圧で、純水で10秒間洗浄した。最後にこの基板をオーブン中150℃で30分間加熱硬化させ、接触角測定用基板を得た。
 協和界面科学社製Drop Master 500(接触角測定装置)を用いて、23℃、湿度50%RHの条件下でPGMEA0.7μLを滴下した1秒後の前記接触角測定用基板の接触角を測定し、以下の基準で撥インク性を評価した。その結果を表2に示した。接触角が大きい方が、撥インク性が高いことを表す。
(撥インク性の評価基準)
A:PGMEA接触角が30°以上
B:PGMEA接触角が30°未満
<最小密着ライン幅評価>
 ガラス基板上にスピナーを用いて、加熱硬化後に10μmの厚みになるように前記感光性着色樹脂組成物を塗布した。この塗布基板を1分間真空乾燥し、さらに100℃で、120秒間ホットプレート上で加熱乾燥した。次に、得られた塗膜基板にフォトマスクを用いて露光装置 MPA-600FA(Canon社製)を用いて365nmの波長で500mW/cmの強度にて80mJ/cmの露光をした。フォトマスクは開口幅5~50μm(5~20μm:1μmおき、25~50μm:5μmおき)で開口長さ2mmの各種幅のライン状開口部を有するフォトマスクを使用した。次いで、接触角測定用基板の作製時と同様の条件で現像、水洗処理した後、オーブン中150℃で30分間加熱硬化させ、隔壁を想定したライン状パターン基板を作製した。
 前記ライン状パターン基板上のライン全体(2mm)を光学顕微鏡で観察し、欠けや剥離がなく基板上に密着しているラインのうち、対応するマスクの開口幅が最も小さいラインについて、その開口幅を最小密着ライン幅とし、以下の基準にて評価した。最小密着ライン幅が小さい程、密着性が高いことを示す。
(最小密着ライン幅の評価基準)
A:12μm未満
B:12μm以上
<ライン直線性評価>
 前記ライン状パターン基板上のライン全体(2mm)を光学顕微鏡で観察し、ラインの直線性について、以下の基準にて評価した。ラインの直線性が高い方が、現像性が高いことを示す。
(ライン直線性の評価基準)
A:ラインが直線、又はほぼ直線である。
B:図2に示すような状態であり、ラインが直線ではない。
 表2の実施例1~6と比較例1~2の比較から明らかなように、撥液剤として架橋基を有し、且つフッ素原子及び/又はシロキサン鎖を有する化合物を用い、(b)アルカリ可溶性樹脂の二重結合当量を400g/mol以下とすることで、PGMEA接触角が高くなり、撥インク性を高くすることができた。(b)アルカリ可溶性樹脂の二重結合当量を小さくすることで、塗膜中の架橋密度が高くなるため、現像後も撥液剤が膜に残存しやすく、高い撥インク性を発現したと考えられる。また、塗膜中の架橋密度が高くなるため、露光時に形成されたラインの現像時の剥離も抑制できたと考えらえる。
 表2の実施例1~6と比較例3の比較から明らかなように、架橋基を有し、且つフッ素原子及び/又はシロキサン鎖を有する化合物の代わりに架橋基を有さないフッ素系界面活性剤を用いた場合、撥インク性が不十分となった。架橋基を有さないため、現像時に界面活性剤が溶出し、現像後の膜表面における界面活性剤の残存量が低下したためと考えられる。
 表2の実施例1~6と実施例7の比較から明らかなように、光重合開始剤の含有割合が3質量%以下の場合、高い撥インク性とライン直線性を両立することができた。光重合開始剤の含有割合は3質量%以下でも高い撥インク性を発現することができ、また光重合開始剤の含有割合が少ないことで現像性を高めることができたためと考えらえる。
1 緑色発光性のナノ結晶粒子
2 赤色発光性のナノ結晶粒子
10 基板
20 隔壁
30 赤色画素
40 緑色画素
50 青色画素
100 カラーフィルタ
200 ライン状パターン
300 ガラス基板露出部

Claims (14)

  1.  (a)着色剤、(b)アルカリ可溶性樹脂、(c)光重合開始剤、(d)光重合性化合物及び(e)撥液剤を含有する着色感光性樹脂組成物であって、
     前記(a)着色剤が(a1)白色顔料を含有し、
     前記(a)着色剤の含有割合が、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して30質量%以下であり、
     前記(b)アルカリ可溶性樹脂の二重結合当量が400g/mol以下であり、
     前記(e)撥液剤が、架橋基を有し、且つフッ素原子及び/又はシロキサン鎖を有する化合物(e1)を含有することを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
  2.  前記(b)アルカリ可溶性樹脂が、下記一般式(I)で示される部分構造を有するアクリル共重合樹脂(b1)を含有する、請求項1に記載の着色感光性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (式(I)中、R1及びR2は各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。*は結合手を表す。)
  3.  前記(b)アルカリ可溶性樹脂における前記アクリル共重合樹脂(b1)の含有割合が40質量%以上である請求項2に記載の着色感光性樹脂組成物。
  4.  前記(a)着色剤における前記(a1)白色顔料の含有割合が50質量%以上である請求項1~3のいずれか1項に記載の着色感光性樹脂組成物。
  5.  前記(a1)白色顔料の一次粒子の平均粒子径が100nm以上である請求項1~4のいずれか1項に記載の着色感光性樹脂組成物。
  6.  前記(a1)白色顔料が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム及び酸化ハフニウムのうち少なくとも1種を含む、請求項1~5のいずれか1項に記載の着色感光性樹脂組成物。
  7.  前記(a1)白色顔料が、少なくとも酸化チタンを含む、請求項6に記載の着色感光性樹脂組成物。
  8.  前記(c)光重合開始剤の含有割合が、着色感光性樹脂組成物の全固形分量に対して3質量%以下である請求項1~7のいずれか1項に記載の着色感光性樹脂組成物。
  9.  溶剤を含有する請求項1~8のいずれか1項に記載の着色感光性樹脂組成物。
  10.  請求項1~9のいずれか1項に記載の着色感光性樹脂組成物を硬化させた硬化物。
  11.  請求項10に記載の硬化物から構成される隔壁。
  12.  請求項11に記載の隔壁を備える有機電界発光素子。
  13.  請求項11に記載の隔壁を備える、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ。
  14.  請求項11に記載の隔壁を備える画像表示装置。
PCT/JP2022/010979 2021-03-31 2022-03-11 着色感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ及び画像表示装置 WO2022209771A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020237032529A KR20230164671A (ko) 2021-03-31 2022-03-11 착색 감광성 수지 조성물, 경화물, 격벽, 유기 전계 발광 소자, 발광성 나노 결정 입자를 포함하는 컬러 필터 및 화상 표시 장치
CN202280024223.4A CN117099047A (zh) 2021-03-31 2022-03-11 着色感光性树脂组合物、固化物、间隔壁、有机场致发光元件、包含发光性纳米晶体粒子的滤色片及图像显示装置
JP2023510839A JPWO2022209771A1 (ja) 2021-03-31 2022-03-11

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021061055 2021-03-31
JP2021-061055 2021-03-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022209771A1 true WO2022209771A1 (ja) 2022-10-06

Family

ID=83456195

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/010979 WO2022209771A1 (ja) 2021-03-31 2022-03-11 着色感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ及び画像表示装置

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPWO2022209771A1 (ja)
KR (1) KR20230164671A (ja)
CN (1) CN117099047A (ja)
TW (1) TW202244069A (ja)
WO (1) WO2022209771A1 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019086745A (ja) * 2017-11-10 2019-06-06 Dic株式会社 インク組成物、光変換層及びカラーフィルタ
WO2019146685A1 (ja) * 2018-01-26 2019-08-01 三菱ケミカル株式会社 着色感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
WO2020017576A1 (ja) * 2018-07-20 2020-01-23 三菱ケミカル株式会社 感光性着色樹脂組成物、硬化物、画像表示装置及び照明
JP2020071262A (ja) * 2018-10-29 2020-05-07 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 隔壁用感光性樹脂組成物及びその硬化物並びにその製造方法
WO2021014759A1 (ja) * 2019-07-22 2021-01-28 三菱ケミカル株式会社 感光性着色樹脂組成物、硬化物、隔壁及び画像表示装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6688875B2 (ja) 2016-03-14 2020-04-28 富士フイルム株式会社 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法
KR102383518B1 (ko) 2018-02-06 2022-04-06 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 화소정의막, 유기발광소자 및 화상 표시 장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019086745A (ja) * 2017-11-10 2019-06-06 Dic株式会社 インク組成物、光変換層及びカラーフィルタ
WO2019146685A1 (ja) * 2018-01-26 2019-08-01 三菱ケミカル株式会社 着色感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
WO2020017576A1 (ja) * 2018-07-20 2020-01-23 三菱ケミカル株式会社 感光性着色樹脂組成物、硬化物、画像表示装置及び照明
JP2020071262A (ja) * 2018-10-29 2020-05-07 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 隔壁用感光性樹脂組成物及びその硬化物並びにその製造方法
WO2021014759A1 (ja) * 2019-07-22 2021-01-28 三菱ケミカル株式会社 感光性着色樹脂組成物、硬化物、隔壁及び画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW202244069A (zh) 2022-11-16
KR20230164671A (ko) 2023-12-04
JPWO2022209771A1 (ja) 2022-10-06
CN117099047A (zh) 2023-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7294146B2 (ja) 着色感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
JP7205089B2 (ja) 感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
KR20190088972A (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 안료 분산액, 격벽, 유기 전계 발광 소자, 화상 표시 장치 및 조명
JP7435445B2 (ja) 感光性着色樹脂組成物、硬化物、画像表示装置及び照明
JP7201019B2 (ja) 感光性着色樹脂組成物、硬化物、隔壁及び画像表示装置
JP7234946B2 (ja) 感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
WO2021090836A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、カラーフィルタ及び画像表示装置
WO2022163682A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、カラーフィルタ及び画像表示装置
JP2021124704A (ja) 感光性着色樹脂組成物、硬化物、隔壁及び画像表示装置
WO2023054597A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、及び画像表示装置
WO2022209771A1 (ja) 着色感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ及び画像表示装置
WO2022210497A1 (ja) 着色感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、カラーフィルタ及び画像表示装置
WO2024154752A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、カラーフィルター、光散乱層及び画像表示装置
WO2024034608A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、カラーフィルター及び画像表示装置
WO2022264909A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、カラーフィルター、画像表示装置、及び硬化物の形成方法
WO2023153311A1 (ja) 着色感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、カラーフィルタ及び画像表示装置
WO2024204340A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、カラーフィルター、光散乱層及び画像表示装置
WO2021125160A1 (ja) 感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、及び画像表示装置
WO2024143067A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、カラーフィルター、画像表示装置、及び硬化物の形成方法
CN117136333A (zh) 着色感光性树脂组合物、固化物、间隔壁、滤色片及图像显示装置
TW202436367A (zh) 感光性樹脂組合物、硬化物、彩色濾光器、光散射層及圖像顯示裝置
WO2022230792A1 (ja) 感光性着色樹脂組成物、硬化物、隔壁及び画像表示装置
WO2023181962A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物及び画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22779992

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2023510839

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 202280024223.4

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 22779992

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1