TW202348639A - 化合物、聚合性組合物、硬化物、彩色濾光器、阻隔壁及圖像顯示裝置 - Google Patents

化合物、聚合性組合物、硬化物、彩色濾光器、阻隔壁及圖像顯示裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW202348639A
TW202348639A TW112111696A TW112111696A TW202348639A TW 202348639 A TW202348639 A TW 202348639A TW 112111696 A TW112111696 A TW 112111696A TW 112111696 A TW112111696 A TW 112111696A TW 202348639 A TW202348639 A TW 202348639A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
groups
aryl
alkyl
cycloalkyl
Prior art date
Application number
TW112111696A
Other languages
English (en)
Inventor
倉久稔
Original Assignee
日商三菱化學股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商三菱化學股份有限公司 filed Critical 日商三菱化學股份有限公司
Publication of TW202348639A publication Critical patent/TW202348639A/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C327/00—Thiocarboxylic acids
    • C07C327/58—Derivatives of thiocarboxylic acids, the doubly-bound oxygen atoms being replaced by nitrogen atoms, e.g. imino-thio ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
    • C08F290/12—Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

本發明係一種以下之式(A)所表示之化合物。
  
n為1～4之整數，
R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、C 7～C 15芳烷基、或Si(CH 3) 3；L 1、L 2及L 3為連接基。
本發明可提供一種即便於低溫焙燒時，亦可獲得良好硬化特性之O-亞胺基-異脲化合物。

Description

化合物、聚合性組合物、硬化物、彩色濾光器、阻隔壁及圖像顯示裝置
本發明係關於一種新穎之O-亞胺基-異脲化合物、包含該等O-亞胺基-異脲化合物、及至少聚合性化合物之聚合性組合物。進而，本發明係關於一種使上述組合物硬化而成之硬化物、及包含硬化物之彩色濾光器、阻隔壁、圖像顯示裝置。詳細而言，例如關於一種液晶顯示器、有機電致發光元件(OLED)之圖像顯示裝置中之各色像素、黑矩陣、阻隔壁材之形成所需使用之聚合性組合物、使該聚合性組合物硬化所得之硬化物、及包含該硬化物之圖像顯示裝置。
作為使用著色組合物之彩色濾光器之製造方法，已知有如下方法：於基板上塗佈顏料分散型著色組合物並加以乾燥後，隔著遮罩圖案對該塗膜照射放射線(曝光)，進行顯影並焙燒，藉此獲得各色像素。又，已知有具有所獲得之彩色濾光器之液晶顯示裝置。
又，近年來，於OLED顯示面板上具有彩色濾光器之顯示裝置，例如於OLED顯示面板上具備複數個絕緣層及金屬層並於其上具備黑矩陣、彩色光阻之OLED顯示裝置得到普及。  於製造此種OLED顯示面板之情形時，由於OLED元件之耐熱性較低，故需要降低黑矩陣或彩色光阻等之焙燒溫度。
然而，使用先前之著色組合物並於低溫下焙燒所得之黑矩陣或彩色光阻存在耐熱性或耐溶劑性變差之傾向。
熱聚合起始劑能夠實現低溫硬化性組合物之硬化。偶氮化合物或過氧化物化合物已知為於相對較低溫度下使乙烯性不飽和鍵之聚合開始之熱聚合起始劑。然而，由於其等之分解溫度相對較低，故包含其等之組合物於製造、儲存、運輸期間之穩定性及安全性上常出現問題。因此，一直需要滿足對於穩定性及安全性之要求之熱聚合起始劑。  又，熱聚合起始劑需要實現例如於光微影法之前去除溶劑時之預烘烤步驟中之良好穩定性、及光微影法後之後烘烤步驟中之高硬化性。
因此，普遍需要一種具有充分安全性，且用以於相對低溫下實現硬化性化合物之聚合的新穎之熱聚合起始劑。
專利文獻1中揭示有一種將包含新穎結構之O-亞胺基-異脲化合物或其等之鹽作為自由基聚合之聚合起始劑的用途及包含該等O-亞胺基-異脲化合物之聚合性組合物。
專利文獻2中揭示有一種能夠聚合之組合物，其包含(a)包含具有β-環硫基丙基官能基之至少1種乙烯性不飽和單體之單體組合物、(b)視情形具有2個以上之β-環硫基丙基官能基，但不具有能夠聚合之乙烯性不飽和基之化合物、(c)異脲官能性聚合起始劑及(d)作用於β-環硫基丙基官能基間之反應之觸媒，且該異脲官能性聚合起始劑(c)包含O-二烷基胺基-異脲及O-亞胺基-異脲中之至少一者。
專利文獻3中揭示有一種用於低溫硬化之新穎雙重硬化性交聯劑，其具有O-亞胺基-異脲與封端異氰酸酯且能夠同時實現自由基聚合與胺基甲酸酯硬化。  該雙重硬化性交聯劑係藉由使用O-亞胺基-異脲，對脂肪族、芳香族、或脂環式聚異氰酸酯化合物之異氰酸基進行封端而形成。
據專利文獻4中揭示，使用包含10小時半衰期溫度為90℃以上之過氧化物化合物作為熱聚合起始劑之著色圖像形成材料，於光微影法後，以100～180℃應用後烘烤步驟，藉此製造具有良好耐溶劑性之彩色濾光器。
專利文獻5中揭示有一種組合物，其係包含選自偶氮系化合物及過氧化氫之群中之至少1種熱聚合起始劑之輻射敏感性組合物，且於塑膠基板上形成彩色濾光器時，即便於採用了如該塑膠基板不會變形、黃變之低溫處理之情形時，亦可形成具有與基板之充分密接性之彩色濾光器。
非專利文獻1中，對於具有O-亞胺基-異脲結構之熱自由基起始劑之合成及聚合特性進行了報告。亦報告了藉由使用該等O-亞胺基-異脲起始劑，於較100℃低之溫度下能夠實現丙烯酸正丁酯之聚。
非專利文獻2報告了一種新穎之雙重硬化性交聯劑，其具有O-亞胺基-異脲與封端異氰酸酯且能夠同時實現自由基聚合與胺基甲酸酯硬化。上述交聯劑被設計成用於汽車之透明塗層，能夠於較先前150℃低之溫度條件、例如130℃下實現自由基反應與胺基甲酸酯反應的同時交聯。  [先前技術文獻]  [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利5693565號公報  [專利文獻2]日本專利5933818號公報  [專利文獻3]國際公開第2017/160016號  [專利文獻4]日本專利特開平10-10718號公報  [專利文獻5]日本專利4660986號公報  [非專利文獻]
[非專利文獻1]B. Kim, et al., J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem., 54 (22), 3593-3600, 2016  [非專利文獻2]K. I. Jung, et al., Progress in Organic Coatings, 163, 106611, 2022
[發明所欲解決之問題]
本發明者進行了研究，表明專利文獻1中所記載之O-亞胺基-異脲化合物若於100℃以下之低溫下熱硬化，則聚合性組合物之硬化不充分。
本發明係鑒於上述情況而完成者，其目的在於提供一種即便於低溫焙燒時亦可獲得良好硬化特性之O-亞胺基-異脲化合物。  又，本發明之目的在於提供一種含有上述O-亞胺基-異脲化合物之聚合性組合物、使聚合性組合物硬化而成之硬化物、包含硬化物之阻隔壁及彩色濾光器、具備阻隔壁及彩色濾光器之有機電致發光元件、包含有機電致發光元件之圖像顯示裝置。  [解決問題之技術手段]
本發明者進行了努力研究，結果發現，特定之O-亞胺基-異脲化合物於100℃以下之低溫下表現出高熱硬化性，且發現，藉由與聚合性化合物組合使用，可解決上述課題，從而完成本發明。  即，本發明之主旨如下所示。
[1]一種化合物，其由以下之式(A)表示，
[化1]
n為1～4之整數，  R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、C 7～C 15芳烷基、或Si(CH 3) 3；  R 3、R 4中之C 1～C 20烷基及C 3～C 20環烷基可被選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)S、及SC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 3、R 4中之C 6～C 20芳基、C 12～C 20雜芳基、及C 7～C 15芳烷基可具有選自由C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基。  L 1、L 2及L 3為連接基。  於n＝1之情形時，L 1為R 1，L 2為R 2，L 3為R 5。  於n＝2～4之情形時，L 1、L 2、L 3之任一者為連接基。於L 1為連接基之情形時，L 2為R 2，L 3為R 5。於L 2為連接基之情形時，L 1為R 1，L 3為R 5。於L 3為連接基之情形時，L 1為R 1，L 2為R 2。  R 1為C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基、C 2～C 20炔基、C 3～C 20環烷基、C 2～C 20雜環烷基、C 6～C 20芳基或C 1～C 20雜芳基；  R 1中之C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基及C 2～C 20炔基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1a；  R 1中之C 3～C 20環烷基及C 2～C 20雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1b；  R 1中之C 6～C 20芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1c；  R 1a分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、可被1個或更多個C(O)基中斷之C 3～C 20環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群；  R 1a中之C 3～C 20環烷基及C 6～C 10芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1aa；  R 1aa分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1aa中之C 1～C 12烷基可被選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1b分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1b中之C 1～C 12烷基可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基、及C 2～C 10雜環烷基所組成之群；  R 1c中之C 1～C 12烷基可具有選自F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c中之C 1～C 12烷基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷；  R 1c中之C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1ca，該R 1ca與上述R 1aa同義；  R 2為氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基、C 2～C 20炔基、C 3～C 20環烷基、C 2～C 20雜環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、SO 2R 15、或CN；  R 2中之C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基及C 2～C 20炔基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 2a；  R 2中之C 3～C 20環烷基及C 2～C 20雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 2b；  R 2中之C 6～C 20芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 2c；  R 2a與R 1a同義；  R 2b與R 1b同義；  R 2c與R 1c同義；  又，R 2與-S-R 1一同形成包含亞胺基碳原子之環結構；  作為上述包含亞胺基碳原子之環結構，可為S-(C 1～C 20伸烷基)-X、S-(C 2～C 20伸烯基)-X、S-(C 3～C 20伸環烷基)-X、S-(伸雜環烷基)-X、S-(鄰伸苯基)-X、S-(鄰二甲苯)-X、S-(鄰伸苯基-C 1～C 12伸烷基)-X、S-(C 1～C 12伸烷基-鄰伸苯基)-X、S-(C(O)N(R 16))-X、或S-(C(S)N(R 17))-X；  X鍵結於具有S之亞胺基碳原子，為O、S、N(R 6)、C(O)、OC(O)、C(O)O、SC(O)、C(O)S、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、N(R 19)SO 2或單鍵；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸烷基及伸烯基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)及C(S)所組成之群中之基中斷，可經1個或更多個基R 2d取代；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸環烷基及伸雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可經1個或更多個相同或不同之基R 2e取代；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸苯基及鄰苯二甲基可經1個或更多個相同或不同之基R 2f取代；  R 2d分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2d中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2da，R 2da分別獨立地選自由苯氧基、及R 1aa所示之基所組成之群；  R 2e分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、CONR 13R 14、C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2e中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2ea，R 2ea與R 1aa同義；  R 2f分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、CONR 13R 14、C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2f中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2fa，R 2fa與R 1aa同義；  R 5為氫原子、C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 7～C 14芳烷基、C 6～C 14芳基、或醯基；  R 5中之醯基係選自由-C(O)-H、-C(O)-C 1～C 18烷基、-C(O)-C 2～C 18烯基、-C(O)-C 6～C 14芳基、-C(O)-C 2～C 18烯基-C 6～C 14芳基、-C(O)-O-C 1～C 18烷基、-C(O)-O-C 6～C 14芳基、-C(O)-NH-C 1～C 18烷基、-C(O)-NH-C 6～C 14芳基及C(O)-N(C 1～C 18烷基) 2所組成之群；  R 3及R 5可與其等所鍵結之氮原子一同形成可進而包含雜原子之5～12員環；  R 6分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基及C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 6中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7及R 8分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基、及C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 7、R 8中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 7～C 11芳醯基、C 6～C 10芳基所組成之群；  R 9、R 10中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、C 3～C 10環烷基、雜環烷基、苯基、OH、SH及CN所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O及S所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、-OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、-OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10可與其等所鍵結之氮原子一同形成飽和之5員、6員或7員之氮雜環，上述環可具有選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、及C(O)O所組成之群中之基作為環成員，上述環可具有1個或更多個C 1～C 4烷基；  R 11分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基及C 6～C 20芳基所組成之群；  C 1～C 20烷基可被選自由O、S及C(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之R 11a；  R 11a分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、雜環烷基、苯基、OH、及SH所組成之群；  R 11中之C 6～C 20芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 12與R 8同義；  R 13及R 14與R 9、R 10同義；  R 15分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基所組成之群；  R 15中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 15中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18及R 19分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基、C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  L 1於n為2之情形時，為二價連接基，上述連接基係選自由L 1a-C 1～C 30伸烷基-L 1a、L 2a-C 1～C 30伸烯基-L 2a、L 1a-C 3～C 16伸環烷基-L 1a、L 1a-C 6～C 20伸芳基-L 1a、L 1a-C 6～C 20伸芳基-L 1b-C 6～C 20伸芳基-L 1a、及L 1a-C 1～C 13伸雜芳基-L 1a所組成之群；  L 1之上述連接基中之伸烷基及伸烯基可分別獨立地被1個或更多個相同或不同之非相鄰之基L 1c中斷；  L 1之上述連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L1；  L 1a為單鍵；  L 1b為單鍵、O、S、N(R 6)、C(O)、CH 2、C(CH 3) 2、CH(OH)或C 1～C 5伸烷基；  L 1c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基及C 3～C 16伸環烷基所組成之群；  R L1分別獨立地選自F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷基、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基；  L 1b、L 1c中之R 6與R 6同義；  L 2於n為2之情形時，為二價連接基，上述連接基係選自由單鍵、L 2a-C 1～C 30伸烷基-L 2a、L 2a-C 1～C 30伸烯基-L 2a、L 2a-C 6～C 20伸芳基-L 2a、L 2a-C 6～C 20伸芳基-L 2b-C 6～C 20伸芳基-L 2a所組成之群；  L 2之二價連接基中之伸烷基及伸烯基分別獨立地被1個或更多個相同或不同之基L 2c中斷；  L 2之二價連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L2；  L 2a分別獨立地為單鍵、S、O、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)或SO 2；  L 2b為單鍵、O、S、N(R 6)、C(O)、CH 2、C(CH 3) 2、CH(OH)或C 1～C 5伸烷基；  L 2c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基及C 3～C 16伸環烷基所組成之群；  R L2分別獨立地選自F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷基、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基；  L 2b、L 2c中之R 6與R 6同義；  L 3於n為2之情形時，為二價連接基，上述連接基係選自由L 3a-C 1～C 30伸烷基-L 3a、L 3a-C 3～C 16伸環烷基-L 3a、L 3a-C 6～C 20伸芳基-L 3a、L 3a-C 1～C 20伸烷基-L 3b-C 6～C 16伸環烷基-L 3a、L 3a-C 6～C 16伸環烷基-L 3b-C 6～C 16伸環烷基-L 3a、L 3a-C 6～C 20伸芳基-L 3b-C 6～C 20伸芳基-L 3a、及L 3a-C 1～C 13伸雜芳基-L 3a所組成之群；  L 3之二價連接基中之伸烷基可分別獨立地被1個或更多個相同或不同之非相鄰之基L 3c中斷；  L 3之二價連接基中之伸環烷基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L3a；  L 3之二價連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L3b；  L 3a為單鍵、C(O)、C(O)O或C(O)N(R 16)；  L 3b分別獨立地為單鍵、O、S、N(R 6)或C 1～C 5伸烷基；  L 3c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基、C 3～C 16伸環烷基及伸雜環烷基所組成之群；  R L3a分別獨立地為C 1～C 12烷基；  R L3b係選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群；  L 3b、L 3c中之R 6與R 6同義；  L 3a中之R 16與R 16同義；  L 1及L 2於n為3之情形時，為三價連接基，上述連接基係選自由C 1～C 30烷烴三基、C 2～C 30烯烴三基、C 3～C 16環烷烴三基、雜環烷烴三基、C 6～C 20芳烴三基、及雜芳烴三基所組成之群；  L 1、L 2之三價連接基中之烷烴三基可被1個或更多個相同或不同之基L 4中斷；  L 4分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 4中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、上述R 18同義；  L 3於n為3之情形時，為三價連接基，上述連接基係選自由C 1～C 30烷烴三基、C 2～C 30烯烴三基、C 3～C 16環烷烴三基、雜環烷烴三基、C 6～C 20芳烴三基、雜芳烴三基、三醯基所組成之群；  L 3之三價連接基中之烷烴三基可被1個或更多個相同或不同之基L 5中斷；  L 5分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 5中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、R 18同義；  L 1及L 2於n為4之情形時，為四價連接基，上述連接基為C 1～C 30烷烴四基；  L 1、L 2之四價連接基中之烷烴四基可被1個或更多個相同或不同之基L 6中斷；  L 6分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 6中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、R 18同義；  L 3於n為4之情形時，為四價連接基，上述連接基係選自由C 1～C 30烷烴四基、四醯基所組成之群；  L 3之四價連接基中之烷烴四基可被1個或更多個相同或不同之基L 7中斷；  L 7分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 7中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、R 18同義。
[2]如上述[1]中記載之化合物，其中於上述式(I)中，n＝1，L 1為R 1，L 2為R 2，L 3為R 5。  [3]如上述[1]中記載之化合物，其中於上述式(I)中，n＝2，L 1為連接基，L 2為R 2，L 3為R 5。  [4]如上述[1]中記載之化合物，其中於上述式(I)中，n＝2，L 2為連接基，L 1為R 1，L 3為R 5。  [5]如上述[1]中記載之化合物，其中於上述式(I)中，n＝2，L 3為連接基，L 1為R 1，L 2為R 2。  [6]如上述[2]中記載之化合物，其中於上述式(I)中，n＝1，R 1為C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、或C 6～C 10芳基。  [7]如上述[1]或[2]中記載之化合物，其中於上述式(I)中，n＝1，L 1為R 1，L 2為R 2，L 3為R 5，R 1為經C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基、或經1個或更多個相同或不同之C 1～C 12烷基取代之C 6～C 10芳基；R 2為C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基、或經1個或更多個相同或不同之C 1～C 12烷基取代之C 6～C 10芳基；R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 6烷基、C 5～C 12環烷基、C 6～C 10芳基、或經1個或更多個相同或不同之C 1～C 6烷基取代之C 6～C 10芳基；R 5為氫。  [8]一種聚合性組合物，其包含(A)如上述[1]～[7]中任一項記載之化合物及(B)聚合性化合物。  [9]如上述[8]中記載之聚合性組合物，其進而包含(C)鹼可溶性樹脂。  [10]如上述[8]或[9]中記載之聚合性組合物，其進而包含(D)光聚合起始劑。  [11]如上述[8]至[10]中任一項記載之聚合性組合物，其中上述(B)聚合性化合物包含(甲基)丙烯酸酯化合物。  [12]一種硬化物，其係使如上述[8]至[11]中任一項記載之聚合性組合物硬化而成。  [13]一種彩色濾光器，其包含如上述[12]中記載之硬化物。  [14]一種阻隔壁，其包含如上述[12]或[13]中記載之硬化物。  [15]一種圖像顯示裝置，其包含如上述[12]至[14]中任一項記載之硬化物。  [16]一種硬化物之形成方法，其係使用如上述[8]至[11]中任一項記載之聚合性組合物，至少進行下述步驟(1)～步驟(4)。  步驟(1)：於基板上形成聚合性組合物之塗膜之步驟。  步驟(2)：對步驟(1)中所形成之塗膜之至少一部分進行曝光之步驟。  步驟(3)：使步驟(2)中經過曝光之塗膜顯影之步驟。  步驟(4)：對步驟(3)中經過顯影之塗膜進行焙燒之步驟。  [17]如上述[16]中記載之硬化物之形成方法，其中上述步驟(4)之焙燒溫度為100℃以下。
以下，對本發明進行詳細說明。再者，以下之記載為本發明之實施方式之一例，本發明只要不超出其主旨則並不限定於其等。  於本發明中，「(甲基)丙烯酸」意指「丙烯酸及/或甲基丙烯酸」。本發明中，「總固形物成分」意指聚合性組合物中溶劑以外之總成分，即便溶劑以外之成分於常溫下呈液態，該成分亦不包含於溶劑中，而是包含於總固形物成分。  於本發明中，使用「～」所表示之數值範圍意指包含「～」前後所記載之數值作為下限值及上限值之範圍。  於本發明中，「A及/或B」意指A及B之一者或兩者，具體而言，意指A、B、或A及B。  於本發明中，「(共)聚合物」意指包含均聚物(homopolymer)與共聚物(copolymer)這兩者，又，「多元酸(酐)」意指「多元酸及/或多元酸酐」。  於本發明中，重量平均分子量意指藉由GPC(凝膠滲透層析法)所得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)。  於本發明中，酸值表示有效固形物成分換算之酸值，藉由中和滴定而算出。
於本發明中，阻隔壁材係指障壁(bank)材、壁材、牆(wall)材，同樣地，阻隔壁係指障壁、壁、牆。  於本發明中，發光部(像素部)係指當賦予電能時會發出光之部分。
[1]化合物  本發明之化合物係以下之式(A)所示者。
[化2]
此處，n為1～4之整數，R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、C 7～C 15芳烷基、或Si(CH 3) 3，L 1、L 2及L 3為連接基。  於n＝1之情形時，L 1為R 1，L 2為R 2，L 3為R 5。  於n＝2～4之情形時，L 1、L 2、L 3之任一者為連接基。於L 1為連接基之情形時，L 2為R 2，L 3為R 5。於L 2為連接基之情形時，L 1為R 1，L 3為R 5。於L 3為連接基之情形時，L 1為R 1，L 2為R 2。 針對R 3、R 4、L 1、L 2及L 3之詳情，於以下說明書本文中之實施方式中進行說明。  更具體而言，有以下之態樣。
本發明之第1態樣之化合物係以下之式(I)、(II)、(III)或(IV)所表示之化合物。再者，有時將本發明之第1態樣之化合物、及下述本發明之第2～4態樣之化合物統稱為「本發明之化合物」。
[化3]
上述式中，  n為2、3或4；  R 1為C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基、C 2～C 20炔基、C 3～C 20環烷基、C 2～C 20雜環烷基、C 6～C 20芳基或C 1～C 20雜芳基；  R 1中之C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基及C 2～C 20炔基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1a；  R 1中之C 3～C 20環烷基及C 2～C 20雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1b；  R 1中之C 6～C 20芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1c；  R 1a分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、可被1個或更多個C(O)基中斷之C 3～C 20環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群；  R 1a中之C 3～C 20環烷基及C 6～C 10芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1aa；  R 1aa分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1aa中之C 1～C 12烷基可被選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1b分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1b中之C 1～C 12烷基亦可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基、及C 2～C 10雜環烷基所組成之群；  R 1c中之C 1～C 12烷基可具有選自F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c中之C 1～C 12烷基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷；  R 1c中之C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1ca，該R 1ca與上述R 1aa同義；  R 2為氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基、C 2～C 20炔基、C 3～C 20環烷基、C 2～C 20雜環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、SO 2R 15、或CN；R 2中之C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基及C 2～C 20炔基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 2a；  R 2中之C 3～C 20環烷基及C 2～C 20雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 2b；  R 2中之C 6～C 20芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 2c；  R 2a與R 1a同義；  R 2b與R 1b同義；  R 2c與R 1c同義；  又，R 2可與-S-R 1一同形成包含亞胺基碳原子之環結構；  作為上述包含亞胺基碳原子之環結構，可為S-(C 1～C 20伸烷基)-X、S-(C 2～C 20伸烯基)-X、S-(C 3～C 20伸環烷基)-X、S-(伸雜環烷基)-X、S-(鄰伸苯基)-X、S-(鄰二甲苯)-X、S-(鄰伸苯基-C 1～C 12伸烷基)-X、S-(C 1～C 12伸烷基-鄰伸苯基)-X、S-(C(O)N(R 16))-X、或S-(C(S)N(R 17))-X；  X係鍵結於具有S之亞胺基碳原子，為O、S、N(R 6)、C(O)、OC(O)、C(O)O、SC(O)、C(O)S、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、N(R 19)SO 2或單鍵；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸烷基及伸烯基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)及C(S)所組成之群中之基中斷，可經1個或更多個基R 2d取代；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸環烷基及伸雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可經1個或更多個相同或不同之基R 2e取代；上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸苯基及鄰苯二甲基可經1個或更多個相同或不同之基R 2f取代；  R 2d分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2d中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2da，R 2da分別獨立地選自由苯氧基、及R 1aa所示之基所組成之群；  R 2e分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、CONR 13R 14、C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2e中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2ea，R 2ea與R 1aa同義；R 2f分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、CONR 13R 14、C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2f中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2fa，R 2fa與R 1aa同義；R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、C 7～C 15芳烷基、或Si(CH 3) 3；  R 3、R 4中之C 1～C 20烷基及C 3～C 20環烷基可被選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)S、及SC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 3、R 4中之C 6～C 20芳基、C 12～C 20雜芳基、及C 7～C 15芳烷基可具有選自由C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 5為氫原子、C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 7～C 14芳烷基、C 6～C 14芳基、或醯基；  R 5中之醯基係選自由-C(O)-H、-C(O)-C 1～C 18烷基、-C(O)-C 2～C 18烯基、-C(O)-C 6～C 14芳基、-C(O)-C 2～C 18烯基-C 6～C 14芳基、-C(O)-O-C 1～C 18烷基、-C(O)-O-C 6～C 14芳基、-C(O)-NH-C 1～C 18烷基、-C(O)-NH-C 6～C 14芳基及C(O)-N(C 1～C 18烷基) 2所組成之群；  R 3及R 5可與其等所鍵結之氮原子一同形成可進而包含雜原子之5～12員環；  R 6分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基及C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 6中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7及R 8分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基、及C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 7、R 8中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 7～C 11芳醯基、C 6～C 10芳基所組成之群；R 9、R 10中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、C 3～C 10環烷基、雜環烷基、苯基、OH、SH及CN所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O及S所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、-OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、-OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10可與其等所鍵結之氮原子一同形成飽和之5員、6員或7員之氮雜環，上述環可具有選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、及C(O)O所組成之群中之基作為環成員，上述環可具有1個或更多個C 1～C 4烷基；  R 11分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基及C 6～C 20芳基所組成之群；  C 1～C 20烷基可被選自由O、S及C(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之R 11a；  R 11a分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、雜環烷基、苯基、OH、及SH所組成之群；  R 11中之C 6～C 20芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 12與R 8同義；  R 13及R 14與R 9、R 10同義；  R 15分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基所組成之群；  R 15中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 15中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18及R 19分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基、C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  L 1於n為2之情形時，為二價連接基，上述連接基係選自由L 1a-C 1～C 30伸烷基-L 1a、L 2a-C 1～C 30伸烯基-L 2a、L 1a-C 3～C 16伸環烷基-L 1a、L 1a-C 6～C 20伸芳基-L 1a、L 1a-C 6～C 20伸芳基-L 1b-C 6～C 20伸芳基-L 1a、及L 1a-C 1～C 13伸雜芳基-L 1a所組成之群；  L 1之上述連接基中之伸烷基及伸烯基可分別獨立地被1個或更多個相同或不同之非相鄰之基L 1c中斷；  L 1之上述連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L1；  L 1a為單鍵；  L 1b為單鍵、O、S、N(R 6)、C(O)、CH 2、C(CH 3) 2、CH(OH)或C 1～C 5伸烷基；  L 1c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基及C 3～C 16伸環烷基所組成之群；  R L1分別獨立地選自F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷基、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基；  L 1b、L 1c中之R 6與R 6同義；  L 2於n為2之情形時，為二價連接基，上述連接基係選自由單鍵、L 2a-C 1～C 30伸烷基-L 2a、L 2a-C 1～C 30伸烯基-L 2a、L 2a-C 6～C 20伸芳基-L 2a、L 2a-C 6～C 20伸芳基-L 2b-C 6～C 20伸芳基-L 2a所組成之群；  L 2之二價連接基中之伸烷基及伸烯基可分別被1個或更多個相同或不同之基L 2c中斷；  L 2之二價連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L2；  L 2a分別獨立地為單鍵、S、O、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)或SO 2；  L 2b為單鍵、O、S、N(R 6)、C(O)、CH 2、C(CH 3) 2、CH(OH)或C 1～C 5伸烷基；  L 2c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基及C 3～C 16伸環烷基所組成之群；  R L2分別獨立地選自F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷基、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基；  L 2b、L 2c中之R 6與R 6同義；  L 3於n為2之情形時，為二價連接基，上述連接基係選自由L 3a-C 1～C 30伸烷基-L 3a、L 3a-C 3～C 16伸環烷基-L 3a、L 3a-C 6～C 20伸芳基-L 3a、L 3a-C 1～C 20伸烷基-L 3b-C 6～C 16伸環烷基-L 3a、L 3a-C 6～C 16伸環烷基-L 3b-C 6～C 16伸環烷基-L 3a、L 3a-C 6～C 20伸芳基-L 3b-C 6～C 20伸芳基-L 3a、及L 3a-C 1～C 13伸雜芳基-L 3a所組成之群；  L 3之二價連接基中之伸烷基可分別獨立地被1個或更多個相同或不同之非相鄰之基L 3c中斷；  L 3之二價連接基中之伸環烷基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L3a；  L 3之二價連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L3b；  L 3a為單鍵、C(O)、C(O)O或C(O)N(R 16)；  L 3b分別獨立地為單鍵、O、S、N(R 6)或C 1～C 5伸烷基；  L 3c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基、C 3～C 16伸環烷基及伸雜環烷基所組成之群；  R L3a分別獨立地為C 1～C 12烷基；R L3b係選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群；  L 3b、L 3c中之R 6與R 6同義；  L 3a中之R 16與R 16同義；  L 1及L 2於n為3之情形時，為三價連接基，上述連接基係選自由C 1～C 30烷烴三基、C 2～C 30烯烴三基、C 3～C 16環烷烴三基、雜環烷烴三基、C 6～C 20芳烴三基、及雜芳烴三基所組成之群；  L 1、L 2之三價連接基中之烷烴三基可被1個或更多個相同或不同之基L 4中斷；  L 4分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 4中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、上述R 18同義；  L 3於n為3之情形時，為三價連接基，上述連接基係選自由C 1～C 30烷烴三基、C 2～C 30烯烴三基、C 3～C 16環烷烴三基、雜環烷烴三基、C 6～C 20芳烴三基、雜芳烴三基、三醯基所組成之群；  L 3之三價連接基中之烷烴三基可被1個或更多個相同或不同之基L 5中斷；  L 5分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 5中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、R 18同義；  L 1及L 2於n為4之情形時，為四價連接基，上述連接基為C 1～C 30烷烴四基；  L 1、L 2之四價連接基中之烷烴四基可被1個或更多個相同或不同之基L 6中斷；  L 6分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 6中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、R 18同義；  L 3於n為4之情形時，為四價連接基，上述連接基係選自由C 1～C 30烷烴四基、四醯基所組成之群；  L 3之四價連接基中之烷烴四基可被1個或更多個相同或不同之基L 7中斷；  L 7分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 7中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、R 18同義。
又，本發明之第2態樣之化合物係以下之式(I)或(II)所示者。
[化4]
上述式中， n＝2；  R 1為C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基、C 2～C 20炔基、C 3～C 20環烷基、C 2～C 20雜環烷基、C 6～C 20芳基或C 1～C 20雜芳基；  R 1中之C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基及C 2～C 20炔基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1；  R 1中之C 3～C 20環烷基及C 2～C 20雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1b；  R 1中之C 6～C 20芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1c；  R 1a分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、可被1個或更多個C(O)基中斷之C 3～C 20環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之；  R 1a中之C 3～C 20環烷基及C 6～C 10芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1aa；  R 1aa分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1aa中之C 1～C 12烷基可被選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1b分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1b中之C 1～C 12烷基可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基、及C 2～C 10雜環烷基所組成之群；  R 1c中之C 1～C 12烷基可具有選自F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c中之C 1～C 12烷基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷；  R 1c中之C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1ca，該R 1ca與上述R 1aa同義；  R 2為氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基、C 2～C 20炔基、C 3～C 20環烷基、C 2～C 20雜環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、SO 2R 15、或CN；  R 2中之C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基及C 2～C 20炔基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 2a；  R 2中之C 3～C 20環烷基及C 2～C 20雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 2b；  R 2中之C 6～C 20芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 2c；  R 2a與R 1a同義；  R 2b與R 1b同義；  R 2c與R 1c同義；  又，R 2可與-S-R 1一同形成包含亞胺基碳原子之環結構；  作為上述包含亞胺基碳原子之環結構，可為S-(C 1～C 20伸烷基)-X、S-(C 2～C 20伸烯基)-X、S-(C 3～C 20伸環烷基)-X、S-(伸雜環烷基)-X、S-(鄰伸苯基)-X、S-(鄰二甲苯)-X、S-(鄰伸苯基-C 1～C 12伸烷基)-X、S-(C 1～C 12伸烷基-鄰伸苯基)-X、S-(C(O)N(R 16))-X、或S-(C(S)N(R 17))-X；  X係鍵結於具有S之亞胺基碳原子，為O、S、N(R 6)、C(O)、OC(O)、C(O)O、SC(O)、C(O)S、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、N(R 19)SO 2或單鍵；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸烷基及伸烯基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)及C(S)所組成之群中之基中斷，可經1個或更多個基R 2d取代；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸環烷基及伸雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可經1個或更多個相同或不同之基R 2e取代；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸苯基及鄰苯二甲基可經1個或更多個相同或不同之基R 2f取代；  R 2d分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2d中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2da，R 2da分別獨立地選自由苯氧基、及R 1aa所示之基所組成之群；  R 2e分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、CONR 13R 14、C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2e中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2ea，R 2ea與R 1aa同義；  R 2f分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、CONR 13R 14、C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2f中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2fa，R 2fa與R 1aa同義；  R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、C 7～C 15芳烷基、或Si(CH 3) 3；  R 3、R 4中之C 1～C 20烷基及C 3～C 20環烷基可被選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)S、及SC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 3、R 4中之C 6～C 20芳基、C 12～C 20雜芳基、及C 7～C 15芳烷基可具有選自由C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 5為氫原子、C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 7～C 14芳烷基、C 6～C 14芳基、或醯基；  R 5中之醯基係選自由-C(O)-H、-C(O)-C 1～C 18烷基、-C(O)-C 2～C 18烯基、-C(O)-C 6～C 14芳基、-C(O)-C 2～C 18烯基-C 6～C 14芳基、-C(O)-O-C 1～C 18烷基、-C(O)-O-C 6～C 14芳基、-C(O)-NH-C 1～C 18烷基、-C(O)-NH-C 6～C 14芳基及C(O)-N(C 1～C 18烷基) 2所組成之群；  R 3及R 5可與其等所鍵結之氮原子一同形成可進而包含雜原子之5～12員環；  R 6分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基及C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 6中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7及R 8分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基、及C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 7、R 8中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 7～C 11芳醯基、C 6～C 10芳基所組成之群；  R 9、R 10中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、C 3～C 10環烷基、雜環烷基、苯基、OH、SH及CN所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O及S所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、-OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、-OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10可與其等所鍵結之氮原子一同形成飽和之5員、6員或7員之氮雜環，上述環可具有選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、及C(O)O所組成之群中之基作為環成員，上述環可具有1個或更多個C 1～C 4烷基；  R 11分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基及C 6～C 20芳基所組成之群；  C 1～C 20烷基可被選自由O、S及C(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之R 11a；  R 11a分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、雜環烷基、苯基、OH、及SH所組成之群；  R 11中之C 6～C 20芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 12與R 8同義；  R 13及R 14與R 9、R 10同義；  R 15分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基所組成之群；  R 15中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 15中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18及R 19分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基、C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  L 1為二價連接基，上述連接基係選自由L 1a-C 1～C 30伸烷基-L 1a、L 2a-C 1～C 30伸烯基-L 2a、L 1a-C 3～C 16伸環烷基-L 1a、L 1a-C 6～C 20伸芳基-L 1a、L 1a-C 6～C 20伸芳基-L 1b-C 6～C 20伸芳基-L 1a、及L 1a-C 1～C 13伸雜芳基-L 1a所組成之群；  L 1之上述連接基中之伸烷基及伸烯基可分別獨立地被1個或更多個相同或不同之非相鄰之基L 1c中斷；  L 1之上述連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L1；  L 1a為單鍵；  L 1b為單鍵、O、S、N(R 6)、C(O)、CH 2、C(CH 3) 2、CH(OH)或C 1～C 5伸烷基；  L 1c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基及C 3～C 16伸環烷基所組成之群；  R L1分別獨立地選自F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷基、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基；  L 1b、L 1c中之R 6與R 6同義。
又，本發明之第3態樣之化合物係以下之式(I)所示者。
[化5]
上述式中，  R 1為C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、或C 6～C 10芳基；  R 1中之C 1～C 20烷基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1a；  R 1中之C 3～C 20環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1b；  R 1中之C 6～C 10芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1c；  R 1a可分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、可被1個或更多個C(O)基中斷之C 3～C 20環烷基及C 6～C 10芳基所組成之群；  R 1a中之C 3～C 20環烷基及C 6～C 10芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1aa；  R 1aa分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1aa中之C 1～C 12烷基可被選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1b分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1b中之C 1～C 12烷基可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基、及C 2～C 10雜環烷基所組成之群；  R 1c中之C 1～C 12烷基可具有選自F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c中之C 1～C 12烷基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷；  R 1c中之C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1ca，該R 1ca與上述R 1aa同義；  R 2為氫原子、C 1～C 20烷基、C 6～C 20芳基、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、SO 2R 15、或CN；  R 2中之C 1～C 20烷基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 2a；  R 2中之C 6～C 20芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 2c；  R 2a與R 1a同義；  R 2c與R 1c同義；  R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 6烷基、C 5～C 12環烷基、C 6～C 10芳基、經1個或更多個相同或不同之C 1～C 6烷基取代之C 6～C 10芳基、或Si(CH 3) 3；R 5為氫原子、C(O)-C 1～C 20烷基、-C(O)-C 6～C 10芳基、-C(O)O-C 1～C 20烷基、-C(O)NH-C 1～C 20烷基、或-C(O)NH-C 6～C 10芳基；  R 6分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基及C 6～C 10芳基所組成之群；  R 6中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7及R 8分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基、及C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 7、R 8中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基所組成之群；  R 9、R 10中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10可與其等所鍵結之氮原子一同形成飽和之5員、6員或7員之氮雜環，上述環可具有選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、及C(O)O所組成之群中之基作為環成員，上述環可具有1個或更多個C 1～C 4烷基；分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基及C 6～C 20芳基所組成之群；  C 1～C 20烷基可被選自由O、S及C(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之R 11a；  R 11a分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、雜環烷基、苯基、OH、及SH所組成之群；  R 12與R 8同義；  R 13及R 14與R 9、R 10同義；  R 15分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基所組成之群；  R 15中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 15中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基。
又，本發明之第4態樣之化合物係以下之式(I)所示者。
[化6]
上述式中，  R 1為C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基、或經1個或更多個相同或不同之C 1～C 12烷基取代之C 6～C 10芳基；  R 2為C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基、或經1個或更多個相同或不同之C 1～C 12烷基取代之C 6～C 10芳基；  R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 6烷基、C 5～C 12環烷基、C 6～C 10芳基、或經1個或更多個相同或不同之C 1～C 6烷基取代之C 6～C 10芳基；  R 5為氫。
本發明中之用語「烷基」係指通常具有1～20個、較佳為1～12個、更佳為1～10個碳原子之飽和直鏈狀或支鏈狀之烴基。烷基之例為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十六烷基、正十八烷基、及正二十烷基。  烷基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)中之基中斷。  於存在複數個O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)之情形時，其等通常被至少1個亞甲基相互隔開。R 6之定義如上所述。被1個或更多個O原子中斷之烷基之例為-CH 2-O-CH 3、-CH 2CH 2-O-CH 2CH 3、-[CH 2CH 2O] y-CH 3(y為1～9)、-(CH 2CH 2O) yCH 2CH 3(y為1～9)、-CH 2-CH(CH 3)-O-CH 2-CH 2CH 3、-CH 2-CH 2CH(CH 3)-O-CH 2-CH 2CH 3、-CH 2-CH 2CH(CH 3)-O-CH 2CH 3、-CH 2-CH 2CH(CH 3)-O-CH 3及-CH 2CH(CH 3)-O-CH 2CH 3。
本發明中之用語「烯基」係具有2～20個、較佳為2～12個、更佳為2～10個碳原子且具有1個或更多個雙鍵之一不飽和或多不飽和之直鏈狀或支鏈狀烴基。作為具有1個雙鍵之烯基，例如係指：乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-甲基乙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-甲基-1-丙烯基、2-甲基-1-丙烯基、1-甲基-2-丙烯基、2-甲基-2-丙烯基、具有4個以上碳原子且於任意位置具有2個雙鍵之烷二烯基，例如1,3-丁二烯基、1,3-戊二烯基、己-1,4-二烯-1-基、己-1,4-二烯-3-基、己-1,4-二烯-6-基、庚-1,4-二烯-7-基、庚-1,5-二烯-1-基等。
本發明中之用語「炔基」係具有通常2～20個、較佳為2～12個、更佳為2～10個碳原子、及1個或更多個三鍵之不飽和直鏈狀或支鏈狀烴基。例如係指：乙烯基、炔丙基(2-丙炔-1-基)、1-丙炔-1-基、1-甲基丙-2-炔-1-基、2-丁炔-1-基、3-丁炔-1-基、1-戊炔-1-基、3-戊炔-1-基、4-戊炔-1-基、1-甲基丁-2-炔-1-基、1-乙基丙-2-炔-1-基等。
本發明中之用語「環烷基」係指具有通常3～20個、較佳為3～16個、更佳為3～12個碳原子之單環式或多環式之脂肪族基。  作為單環式之脂肪族基，例如可例舉：環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基，尤佳為環戊基、環己基。  作為多環式之環，例如為：全氫蒽醌基、全氫萘基、全氫茀基、全氫基、全氫苉基、金剛烷基、二環[1.1.1]戊基、二環[2.2.1]庚基、二環[4.2.2]癸基、二環[2.2.2]辛基、二環[3.3.0]辛基、二環[3.3.2]癸基、二環[4.4.0]癸基、二環[4.3.2]十一烷基、二環[4.3.3]十二烷基、二環[3.3.3]十一烷基、二環[4.3.1]癸基、二環[4.2.1]壬基、二環[3.3.1]壬基、二環[3.2.1]辛基。  環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷。被1個C(O)中斷之環烷基之例為3-側氧基二環[2.2.1]庚基。
本發明中之用語「雜環烷基」一般指3～8員、尤其是5員、6員、7員或8員之單環式之雜環式非芳香族基以及二環式之雜環式非芳香族基。上述單環式及二環式之非芳香族基可為飽和或不飽和。又，上述單環式及二環式之雜環式非芳香族基通常包含1、2、3或4個選自N、O及S中之雜原子、尤其是1或2個雜原子作為環成員，此時，作為環成員之S原子可以S、SO或SO2之形式存在。  雜環烷基可被1個或更多個C(O)基、通常被1或2個基中斷。  作為飽和或不飽和之3～8員之非芳香族雜環式基，例如可例舉：環氧乙烷基、氧雜環丁基、硫雜環丁基、硫雜環丁基-S-氧化物(S-側氧基硫雜環丁基)、硫雜環丁基-S-二氧化物(S-二側氧基硫雜環丁基)、吡咯啶基、吡唑啉基、咪唑啉基、吡咯啉基、吡唑啉基、咪唑啉基、四氫呋喃基、二氫呋喃基、1,3-二氧戊環基、二氧戊環基、四氫噻吩基、S-側氧基四氫噻吩基、S-二側氧基四氫噻吩基、二氫噻吩基、S-側氧基二氫噻吩基、S-二側氧基二氫噻吩基、㗁唑啶基、異㗁唑啶基、二氫㗁唑基、異二氫㗁唑基、噻唑啉基、異噻唑啉基、噻唑啶基、異噻唑啶基、氧雜四氫噻吩基、哌啶基、哌嗪基、吡喃基、二氫吡喃基、四氫吡喃基、1,3-及1,4-二氧雜環己基、硫代吡喃基、S-側氧基硫代吡喃基、S-二側氧基硫代吡喃基、二氫硫代吡喃基、S-側氧基二氫硫代吡喃基、S-二側氧基二氫硫代吡喃基、四氫硫代吡喃基、S-側氧基四氫硫代吡喃基、S-二側氧基四氫硫代吡喃基、𠰌啉基、硫代𠰌啉基、S-側氧基硫代𠰌啉基、S-二側氧基硫代𠰌啉基、噻𠯤基。  作為亦包含1或2個羰基作為環成員之雜環式之環，例如可例舉：吡咯啶-2-酮基、吡咯啶-2,5-二酮基、咪唑啶-2-酮基、㗁唑啶-2-酮基、噻唑啶-2-酮基。
本發明中之用語「芳基」係指具有環碳原子之一價單環式芳香族基以及多環式芳香族基。作為單環式芳香族基，例如可例舉苯基。作為多環式芳香族基，例如可例舉：二環式、三環式或四環式之芳香族基、例如萘基、菲基、蒽基或芘基。芳基之較佳例為苯基及萘基。經取代之苯基係經1、2、3、4或5個取代基取代。萘基通常經1、2、3、4、5、6、或7個取代基取代，較佳為經1、2、3或4個取代基取代。經取代之苯基例如為五氟苯基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、2-乙基苯基、3-乙基苯基、4-乙基苯基、2-甲氧基苯基、3-甲氧基苯基、4-甲氧基苯基、2-乙氧基苯基、3-乙氧基苯基、4-乙氧基苯基、3-硝基苯基、4-硝基苯基、2-氯苯基、3-氯苯基、4-氯苯基、3-乙烯基苯基、4-乙烯基苯基、4-三氟甲基苯基、3,5-二乙氧基羰基苯基。
本發明中之用語「雜芳基」一般指為不飽和之單環式雜環基以及多環式雜環基且為芳香族之基。雜芳基通常除作為環成員之1個或複數個碳原子以外，還包含1、2、3或4個選自N、O及S中之雜原子作為環成員。作為單環式雜芳香族基，例如可例舉：2-呋喃基、3-呋喃基、2-噻吩基、3-噻吩基、1-吡咯基、2-吡咯基、3-吡咯基、1-吡唑基、3-吡唑基、4-吡唑基、5-吡唑基、2-㗁唑基、4-㗁唑基、5-㗁唑基、2-噻唑基、4-噻唑基、5-噻唑基、3-異㗁唑基、4-異㗁唑基或5-異㗁唑基、3-異噻唑基、4-異噻唑基或5-異噻唑基、1-咪唑基、2-咪唑基、4-咪唑基、2-或5-[1,3,4]㗁二唑基、4-或5-(1,2,3-㗁二唑)基、3-或5-(1,2,4-㗁二唑)基、2-或5-(1,3,4-噻二唑)基、2-或5-(1,3,4-噻二唑)基、4-或5-(1,2,3-噻二唑)基、3-或5-(1,2,4-噻二唑)基、1H-、2H-或3H-1,2,3-三唑-4-基、1,3,4-三唑-2-基、2H-三唑-3-基、1H-、2-或4H-1,2,4-三唑基、1H-或2H-四唑基、2-吡啶基、3-吡啶基、4-吡啶基、3-嗒𠯤基、4-嗒𠯤基、2-嘧啶基、4-嘧啶基、5-嘧啶基及2-吡𠯤基。作為多環式雜環基，例如可例舉：苯并呋喃基、苯并噻吩基、吲哚基、吲唑基、苯并咪唑基、苯并㗁噻唑基、苯并㗁二唑基、苯并噻二唑基、苯并㗁 𠯤基、喹啉基、異喹啉基、嘌呤基、1,8-㖠啶基、喋啶基、吡啶并[3,2-d]嘧啶基、吡啶并咪唑基、咔唑基或吖啶基。
本發明中之用語「烷醯基」為烷基-C(O)，係指通過羰基之碳原子而鍵結在具有通常3～20個碳原子之飽和之上述定義之直鏈狀或支鏈狀烷基之任意位置處的基，例如乙醯基、丙醯基、2-甲基-丙醯基、丁醯基、戊醯基、己醯基。
本發明中之用語「環烷醯基」為環烷基-C(O)，係指通過羰基之碳原子而鍵結在單環式或多環式，例如二環式或三環式之環烷基中之任意位置處的基，例如環丁基羰基、環戊基羰基、環己基羰基。
本發明中之用語「芳醯基」為芳基-C(O)，係指通過羰基之碳原子而鍵結在上述定義之芳基中之任意位置處之基，例如苯甲醯基及萘甲醯基。
本發明中之用語「伸烷基」(或烷二基)於各自之情形時，係指上述定義之具有碳原子之烷基之任意位置的1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成二價基之基。因此，作為C 1～C 20伸烷基，可例舉：具有1～20個碳原子之二價支鏈狀或非支鏈狀之飽和脂肪族鏈，例如-CH 2-、-CH 2CH 2-、-CH(CH 3)-、-CH 2CH 2CH 2-、-CH(CH 3)CH 2-、-CH 2CH 2CH 2CH 2-、-CH 2CH(CH 3)CH 2-、-CH(CH 3)CH(CH 3)-、-CH 2CH 2CH 2CH 2CH 2-、-CH 2CH 2CH 2CH(CH 3)-、-CH 2C(CH 3) 2CH 2-。
本發明中之用語「伸烷基可被1個或更多個相同或不同之選自O、S、N(R 6)、C(O)及C(S)中之基中斷」係指上述定義之具有通常1～20個碳原子之伸烷基鏈之連續2個內部亞甲基被O、S、N(R 6)、C(O)或C(S)中斷之鏈。上述伸烷基部例如可包含1、2、3、4、5個或多於5個選自O、S、N(R 6)、C(O)及C(S)中之相同或不同之基。R 6之定義如上所述。於存在複數個O、S、N(R 6)、C(O)或C(S)之情形時，其等通常不相鄰。即，其等被至少1個亞甲基相互隔開。該等選自O、S或N(R 6)中之中斷雜原子於伸烷基中存在複數個之情形時，該等雜原子通常相同。
本發明中之用語「伸烯基」(或烯烴二基)於各自之情形時，係指上述定義之具有通常2～20個、較佳為2～12個碳原子之直鏈狀或支鏈狀烯基之碳骨架之任意位置的1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成二價部之基。因此，作為C 2～C 20-伸烯基，可例舉：具有2～20個碳原子之二價直鏈狀或支鏈狀脂肪族鏈，例如伸乙烯基、伸丙烯基、伸丁-1-烯基、伸丁-2-烯基、伸戊-1,3-二烯基。
本發明中之用語「伸環烷基」係指上述定義之環烷基之任意位置之1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成二價基之基。於多環式之伸環烷基之情形時，其等之鍵結點位於相同環中或不同環中之任一處。作為單環式之環，例如可例舉：伸環丙基、伸環丁基、伸環戊基、伸環己基或伸環庚基、尤其是伸環己基。作為多環式之環，例如可例舉：全氫伸蒽醌基、全氫伸萘基、全氫伸茀基、全氫伸基、全氫伸苉基、伸金剛烷基、二環[1.1.1]伸戊基、二環[2.2.1]伸庚基、二環[4.2.2]伸癸基、二環[2.2.2]伸辛基、二環[3.3.2]伸癸基、二環[4.3.2]伸十一烷基、二環[4.3.3]伸十二烷基、二環[3.3.3]伸十一烷基、二環[4.3.1]伸癸基、二環[4.2.1] 伸壬基、二環[3.3.1]伸壬基、二環[3.2.1]伸辛基。  伸環烷基可經1個或更多個取代基取代，例如可經C 1～C 4烷基取代。
本發明中之用語「伸芳基」(亦稱為芳烴二基)係指上述定義之芳基之任意位置之1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成二價基之基。於多環式之伸芳基之情形時，其等之鍵結點位於相同環中或不同環中之任一處。伸芳基之例為伸苯基、伸萘基、蒽二基或菲二基。於伸芳基經1個或更多個取代基取代之情形時，其例如經單取代、二取代、三取代、四取代或五取代、或多於五取代之多取代。
本發明中之用語「伸苯基」係指1,2-伸苯基(鄰伸苯基或1,2-苯二基)、1,3-伸苯基(間伸苯基、1,3-苯二基)及1,4-伸苯基(對伸苯基或1,4-苯二基)。
本發明中之用語「伸萘基」係指1,2-伸萘基、1,3-伸萘基、1,4-伸萘基、1,5-伸萘基、1,8-伸萘基、2,3-伸萘基及2,7-伸萘基。
本發明中之用語「苯二甲基」係指1,2-苯二甲基(1,2-亞甲基伸苯基亞甲基、1,2-CH 2-C 6H 4-CH 2)、1,3-苯二甲基(1,3-亞甲基伸苯基亞甲基、1,3-CH 2-C 6H 4-CH 2)及1,4-苯二甲基(1,4-亞甲基伸苯基亞甲基、1,4-CH 2-C 6H 4-CH 2)。
本發明中之用語「伸雜芳基」係指上述定義之雜芳基之任意位置之1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成二價基之基。於多環式之伸雜芳基之情形時，其等之鍵結點位於相同環中或不同環中之任一處。伸雜芳基若可能，則可為C鍵結型，亦可為N鍵結型。例如吡咯二基、咪唑二基或吡唑二基可為N鍵結型或C鍵結型。雜芳烴二基之例為吡啶二基、嘧啶二基、嗒𠯤二基、1,2,3-三𠯤二基、1,2,4-三𠯤二基、1,2,3,4-四𠯤二基、呋喃二基、噻吩二基、吡咯二基、噻唑二基、噻二唑二基、吡唑二基、咪唑二基、三唑二基、㗁唑二基、異㗁唑二基、異噻唑二基、㗁二唑二基。雜芳烴二基可經1個或更多個取代基取代。
本發明中之用語「烷烴三基」係指普通具有1～30個碳原子之上述定義之伸烷基之任意位置的1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成三價基之基。因此，烷烴三基為三價之支鏈狀或非支鏈狀之飽和脂肪族鏈。烷烴三基可經1個或更多個取代基取代。
本發明中之用語「烯烴三基」係指普通具有2～30個碳原子之上述定義之烯烴二基之任意位置的1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成三價基之基。因此，烯烴三基為三價之支鏈狀或非支鏈狀之不飽和脂肪族鏈。烯烴三基可經1個或更多個取代基取代。
本發明中之用語「環烷烴三基」係指上述定義之伸環烷基之任意位置之1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成三價基之基。於多環式之環烷烴三基之情形時，其等之鍵結點位於相同環中或不同環中之任一處。環烷烴三基可經1個或更多個取代基取代。
本發明中之用語「芳烴三基」係指上述定義之伸芳基之任意位置之1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成三價基之基。於多環式之芳烴三基之情形時，其等之鍵結點位於相同環中或不同環中之任一處。芳烴三基之例為1,2,4-苯三基、1,3,5-苯三基、1,3,5-萘三基、1,4,5-萘二基、蒽三基或菲三基。芳烴三基可經1個或更多個取代基取代。
本發明中之用語「雜芳烴三基」係指上述定義之伸雜芳基之任意位置之1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成三價基之基。於多環式之雜芳烴三基之情形時，其等之鍵結點位於相同環中或不同環中之任一處。雜芳烴三基若可能，則可為C鍵結型，亦可為N鍵結型。  例如吡咯三基、咪唑三基或吡唑三基可為N鍵結型或C鍵結型。
本發明中之用語「烷烴四基」於各自之情形時，係指普通具有1～30個碳原子之上述定義之烷烴三基之任意位置的1個氫原子進而被1個鍵結部位取代，藉此形成四價基之基。因此，烷烴四基為四價之支鏈狀或非支鏈狀之飽和脂肪族鏈。烷烴四基可經1個或更多個取代基取代。
本發明中之用語「三醯基」及「四醯基」分別為三價及四價之基，係指通過3個及4個C(O)基之碳形成鍵之基。
本發明之化合物相較於上述專利文獻1中記載之具有O-亞胺基-異脲結構之化合物，還具有S-亞胺基結構。 藉由具有該S-亞胺基結構，而容易在低溫下使N-O發生斷鍵，且自N自由基產生S自由基，自由基之反應性變得更高，因此於低溫下之反應性進一步提昇。
[2]化合物之合成方法  於以下記載本發明之化合物之合成方法。
式(I)、(II)、(III)、及(IV)所示之化合物一般可藉由文獻所記載之方法合成。例如R 5＝H之式(I)所示之化合物可藉由使適宜之游離肟與碳二醯亞胺反應，而以下述式(流程1)所示之方式合成。
[化7]
又，R 5＝H之式(II)及(III)之化合物亦同樣地，可依照下述式(流程2及3)進行合成。
[化8]
[化9]
可依照上述流程1～3，藉由肟(流程1～3中之V、V'或V'')對於碳二醯亞胺(流程1～3中之VI)之加成反應而合成。上述流程1～3中之R 1、R 2、R 3、R 4及R 5如上述中所定義。該類型之加成反應例如記載於日本專利5693565號公報中。
大多數碳二醯亞胺(流程1～3中之VI)能夠商業獲取，具體而言，例如可例舉：N,N'-二環己基碳二醯亞胺、N,N'-二異丙基碳二醯亞胺、N,N'-雙-(鄰甲苯基)-碳二醯亞胺、N,N'-雙-(對甲苯基)-碳二醯亞胺、N,N'-雙-(2,6-二異丙基苯基)-碳二醯亞胺、N,N'-雙-(三甲基矽烷基)-碳二醯亞胺、N-第二丁基-N'-乙基碳二醯亞胺、N-環己基-N'-[4-(二甲基胺基)-α-萘基]-碳二醯亞胺、N-環己基-N'-(2-𠰌啉基乙基)-碳二醯亞胺、N,N'-二-第三丁基碳二醯亞胺、N-乙基-N'-(3-二甲基胺基丙基)-碳二醯亞胺、N,N'-雙-(2,4,6-三異丙基苯基)-碳二醯亞胺。
上述加成反應可藉由將適當之溶劑，例如乙酸乙酯、甲苯、二氯甲烷、乙腈、四氫呋喃、己烷等中之肟及碳二醯亞胺之溶液進行攪拌來實施。反應溫度亦可為室溫以下，例如-78℃且室溫以上，例如150℃。
作為上述加成反應所使用之觸媒，可例舉：例如作為鹼之鹼金屬氫氧化物、鹼金屬烷氧化物、鹼金屬醯胺或鹼金屬氫氧化物；或者胺，例如三乙胺或DABCO等；或者脒，例如DBU或DBN等；或者布忍斯特酸，例如HCl、對TsOH、HBF4或H 2SO 4；或者路易斯酸，例如BF 3或Cu(O 3SCF 3)，該等觸媒之用途可實現肟對於碳二醯亞胺之加成之速度及產率的改善。或者亦可於使用相間轉移觸媒之條件下實施反應。
式(IV)所示之化合物、以及R 5不為H之式(I)、(II)及(III)所示之化合物可藉由利用適當之烷基化劑或醯化劑對R 5＝H之式(I)、(II)及(III)所示之化合物進行烷基化或醯化等而合成，例如可依照下述式(流程4)進行合成。
[化10]
作為烷基化劑R 5-X、L 3-X n，可使用周知之化合物，例如可例舉：烷基鹵化物、環烷基鹵化物或芳烷基鹵化物、磺酸鹽、三氟甲磺酸鹽、三烷基氧鎓鹽。
進而，適當之醯化劑R 5-X、L 3-X n可使用周知之化合物，例如可例舉：醯鹵、醯酐。
作為獲得R 5不為H之式(I)、(II)及(III)所示之化合物之其他方法，可例舉：R 5＝H之式(I)、(II)及(III)所示之化合物與異氰酸酯之反應。又，亦可藉由麥可加成，將R 5＝H之式(I)、(II)及(III)所示之化合物加成至適當之活性麥可受體、例如丙烯腈或丙烯酸烷基酯，從而導入R 5。
本發明之化合物之合成所使用之肟(流程1～3中之V、V'或V'')可藉由文獻中記載之各種方法來合成。例如已知有以如下述式(流程5)所示之醛作為起始原料之合成法。
[化11]
例如可藉由使Synthesis, 50, 1640-1650, 2018中記載之醛與羥胺或其鹽於乙醇或水性乙醇等極性溶劑中進行反應而獲得醛肟。於此情形時，添加乙酸鈉或碳酸鈉等鹼以控制其反應混合物之pH值。眾所周知，上述反應之速度取決於pH值，且可於最初或連續地於反應過程中添加鹼。又，吡啶等鹼性溶劑亦可用作鹼及/或溶劑或助溶劑。上述反應之溫度一般為上述混合物之回流溫度，通常約為60～120℃。
肟(流程5中之V)之簡便合成係使上述醛肟為肟醯鹵後，與硫醇R 1-SH進行反應。藉由使用多官能硫醇L 1-[SH] n代替硫醇R 1-SH，可合成肟(流程5中之V')。藉由使用多官能醛作為起始原料，可合成肟(V'')。
例如為如國際公開第2012/101245號中所記載之適宜之肟醯鹵、例如肟醯氯或肟醯溴與硫醇之反應。該等反應通常於惰性溶劑，例如甲苯、二㗁烷、四氫呋喃(THF)、二乙醚、二氯甲烷、二甲基甲醯胺(DMF)、甲醇或水性甲醇中並在鹼，例如三級胺、例如三乙胺或金屬氫氧化物、例如NaOH、LiOH及KOH的存在下進行。
上述肟醯鹵可藉由相對應之醛肟、與鹵化試劑，例如J. Org. Chem., 45, 3916-3918, 1980中所記載之N-氯代丁二醯亞胺(NCS)、N-溴代丁二醯亞胺(NBS)，例如歐洲公開專利第0064091號公報中所記載之氯或溴或者第三丁基次氯酸鹽之反應而獲得。該等反應通常於惰性溶劑，例如甲苯、四氫呋喃(THF)、二甲基甲醯胺(DMF)、氯仿、二氯甲烷中，或者於極性溶劑，例如甲醇或水性甲醇中進行。
關於肟醯氯之其他合成法，例如，如J. Org. Chem., 48, 366-372, 1983中所記載，於HCl水溶液中利用亞硝酸鈉對甘胺酸乙基酯鹽酸鹽進行肟化。
肟之各種合成法周知，並不限定於上述方法。
所記載之合成法可導致形成式(I)、(II)、(III)及(IV)所示之化合物之異構物型。對於肟基之雙鍵及異脲基之雙鍵，可以分別存在順式型(Z)及反式型(E)這兩種幾何異構物，或者，亦可以上述幾何異構物之混合物之形式存在。本發明中，可使用各個幾何異構物及幾何異構物之任意混合物這兩者。因此，又，本發明係關於一種式(I)、(II)、(III)及(IV)所示之化合物之異構物形之混合物。
[3]聚合性組合物  本發明中之聚合性組合物係含有(A)O-亞胺基-異脲化合物、及(B)聚合性化合物，且含有上述本發明之化合物之至少1種作為(A)O-亞胺基-異脲化合物者。本發明之聚合性組合物視需要，亦可進而包含其他成分，例如亦可包含(C)鹼可溶性樹脂、(D)光聚合起始劑、(E)著色劑、(F)鏈轉移劑等。
[3-1]聚合性組合物之成分及組成  對構成本發明之聚合性組合物之成分及其組成進行說明。  本發明之聚合性組合物含有(A)O-亞胺基-異脲化合物、及(B)聚合性化合物。
[3-1-1](A)O-亞胺基-異脲化合物  本發明之聚合性組合物中之(A)O-亞胺基-異脲化合物之含量於聚合性組合物之總固形物成分中，較佳為0.01質量%以上，更佳為0.05質量%以上，進而較佳為0.2質量%以上，又，較佳為25質量%以下，更佳為15質量%以下，進而較佳為10質量%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為0.01～25質量%，更佳為0.05～15質量%，進而較佳為0.2～10質量%。藉由設為上述下限值以上，存在硬化性提昇之傾向。藉由設為上述上限值以下，存在組合物穩定性變高之傾向。  (A)O-亞胺基-異脲化合物可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
[3-1-2](B)聚合性化合物  本發明之聚合性組合物含有(B)聚合性化合物。認為藉由包含(B)聚合性化合物，而變成高感度。  作為此處所使用之(B)聚合性化合物，意指於分子內具有1個以上乙烯性不飽和鍵(乙烯性雙鍵)之化合物，就聚合性及交聯性等方面而言，較佳為於分子內具有2個以上乙烯性不飽和鍵之化合物。又，進而較佳為(甲基)丙烯酸酯化合物，即其不飽和鍵源自(甲基)丙烯醯氧基者。
於本發明之聚合性組合物中，作為(B)聚合性化合物，尤其理想的是使用1分子中具有2個以上乙烯性不飽和鍵之多官能乙烯性單體。  多官能乙烯性單體所具有之乙烯性不飽和基之數量並無特別限定，較佳為2個以上，更佳為3個以上，進而較佳為4個以上，尤佳為5個以上，又，較佳為15個以下，更佳為10個以下，進而較佳為8個以下，尤佳為7個以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為2～15個，更佳為3～10個，進而較佳為4～8個，尤佳為5～7個。藉由設為上述下限值以上，存在聚合性提昇而變成高感度之傾向。藉由設為上述上限值以下，存在顯影性變得更為良好之傾向。  作為(B)聚合性化合物，例如可例舉：脂肪族多羥基化合物與不飽和羧酸之酯；芳香族多羥基化合物與不飽和羧酸之酯；藉由脂肪族多羥基化合物、芳香族多羥基化合物等多元羥基化合物與不飽和羧酸及多元羧酸之酯化反應所獲得之酯。
作為脂肪族多羥基化合物與不飽和羧酸之酯，例如可例舉：乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、丙烯酸甘油酯等脂肪族多羥基化合物之丙烯酸酯；該等化合物之丙烯酸酯由甲基丙烯酸酯代替之甲基丙烯酸酯；該等化合物之丙烯酸酯由伊康酸酯代替之伊康酸酯；該等化合物之丙烯酸酯由丁烯酸酯代替之丁烯酸酯；該等化合物之丙烯酸酯由馬來酸酯代替之馬來酸酯。
作為芳香族多羥基化合物與不飽和羧酸之酯，例如可例舉：對苯二酚二丙烯酸酯、對苯二酚二甲基丙烯酸酯、間苯二酚二丙烯酸酯、間苯二酚二甲基丙烯酸酯、鄰苯三酚三丙烯酸酯等芳香族多羥基化合物之丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。  作為藉由脂肪族多羥基化合物、芳香族多羥基化合物等多元羥基化合物與不飽和羧酸及多元羧酸之酯化反應所獲得之酯，未必為單一物質，例如可例舉：丙烯酸、鄰苯二甲酸、及乙二醇之縮合物；丙烯酸、馬來酸、及二乙二醇之縮合物；甲基丙烯酸、對苯二甲酸及季戊四醇之縮合物；丙烯酸、己二酸、丁二醇及甘油之縮合物。
作為本發明之聚合性組合物所使用之(B)聚合性化合物之除上述以外的例，例如，使聚異氰酸酯化合物與含羥基之(甲基)丙烯酸酯或使聚異氰酸酯化合物與多元醇及含羥基之(甲基)丙烯酸酯反應所獲得之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類；多元環氧化合物與含羥基之(甲基)丙烯酸酯或(甲基)丙烯酸之加成反應物之類之環氧丙烯酸酯類；伸乙基雙丙烯醯胺等丙烯醯胺類；鄰苯二甲酸二烯丙酯等烯丙酯類；鄰苯二甲酸二乙烯酯等含乙烯基之化合物較為有用。  作為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類，例如可例舉：DPHA-40H、UX-5000、UX-5002D-P20、UX-5003D、UX-5005(日本化藥公司製造)；U-2PPA、U-6LPA、U-10PA、U-33H、UA-53H、UA-32P、UA-1100H(新中村化學工業公司製造)；UA-306H、UA-510H、UF-8001G(協榮社化學公司製造)；UV-1700B、UV-7600B、UV-7605B、UV-7630B、UV7640B(日本合成化學工業公司製造)。
其等之中，就感度之觀點而言，較佳為使用酯(甲基)丙烯酸酯類或胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類作為(B)聚合性化合物，更佳為使用二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、2-三(甲基)丙烯醯氧基甲基乙基鄰苯二甲酸、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯之二元酸酐加成物、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯之二元酸酐加成物作為(B)聚合性化合物。  其等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
於本發明之聚合性組合物中，(B)聚合性化合物之分子量並無特別限定，就硬化性、傾斜角之觀點而言，較佳為100以上，更佳為150以上，且進而較佳為200以上，進而更佳為300以上，尤佳為400以上，最佳為500以上，又，較佳為1000以下，更佳為700以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為100～1000，更佳為150～1000，進而較佳為200～1000，進而更佳為300～700，尤佳為400～700，最佳為500～700。
(B)聚合性化合物之碳數並無特別限定，就硬化性、傾斜角之觀點而言，較佳為7以上，更佳為10以上，進而較佳為15以上，進而更佳為20以上，尤佳為25以上，又，較佳為50以下，更佳為40以下，進而較佳為35以下，尤佳為30以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為7～50，更佳為10～50，進而較佳為15～40，進而更佳為20～35，尤佳為25～30。
本發明之聚合性組合物中之(B)聚合性化合物之含量於聚合性組合物之總固形物成分中較佳為5質量%以上，更佳為10質量%以上，進而較佳為20質量%以上，進而更佳為30質量%以上，尤佳為40質量%以上，又，較佳為80質量%以下，更佳為70質量%以下，進而較佳為60質量%以下，進而更佳為55質量%以下，尤佳為50質量%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為5～80質量%，更佳為10～70質量%，進而較佳為20～60質量%，進而更佳為30～55質量%，尤佳為40～50質量%。藉由設為上述下限值以上，存在內部硬化性變得適當之傾向。藉由設為上述上限值以下，存在顯影性變得良好之傾向。
[3-1-3](C)鹼可溶性樹脂  本發明之聚合性組合物亦可含有(C)鹼可溶性樹脂。作為鹼可溶性樹脂，只要為能夠利用鹼性顯影液進行顯影之樹脂，則並無特別限定。作為鹼可溶性樹脂，可例舉：含有羧基及/或羥基之各種樹脂。其中，較佳為具有羧基之樹脂。
[(c)具有乙烯性雙鍵之鹼可溶性樹脂]  於本發明之聚合性組合物中，(C)鹼可溶性樹脂較佳為包含(c)具有乙烯性雙鍵之鹼可溶性樹脂(以下，有時簡稱為「(c)鹼可溶性樹脂」)。藉由包含(c)具有乙烯性雙鍵之鹼可溶性樹脂，存在感度變高之傾向。
(c)具有乙烯性雙鍵之鹼可溶性樹脂之具體結構並無特別限定，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂及/或(c2)丙烯酸共聚樹脂，就傾斜形狀之觀點而言，更佳為(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂。  以下，對(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂進行詳細說明。
[(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂]  (c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂係對環氧樹脂加成具有乙烯性不飽和鍵(乙烯性雙鍵)之酸或酯化合物並進而加成多元酸或其酐而得之樹脂。例如可例舉藉由對環氧樹脂之環氧基開環加成具有乙烯性不飽和鍵之酸之羧基，經由酯鍵(-C(O)O-)對環氧樹脂加成乙烯性不飽和鍵，並且對此時所產生之羥基加成多元酸酐之一羧基而得者。又，亦可例舉於加成多元酸酐時同時添加多元醇進行加成而得者。進而，環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂(c1)亦包括使上述反應所獲得之樹脂與具有可與該樹脂之羧基進一步反應之官能基之化合物反應而獲得的樹脂。  如上所述，(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂於化學結構上實質上不具有環氧基，且不限定於「(甲基)丙烯酸酯」，但由於環氧化合物(環氧樹脂)為原料，且「(甲基)丙烯酸酯」為代表例，故而依照慣用而如此命名。  又，作為(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯系樹脂，就圖案化性之觀點而言，可更適宜地使用於主鏈具有芳香族環者。
此處，所謂環氧樹脂，係指亦包含藉由熱硬化形成樹脂以前之原料化合物，作為該環氧樹脂，可自公知之環氧樹脂之中適當選擇而使用。又，環氧樹脂可使用使酚性化合物與表鹵醇進行反應而獲得之化合物。作為酚性化合物，較佳為具有2價或者2價以上之酚性羥基之化合物，可為單體亦可為聚合物。  具體而言，例如可例舉：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、酚系酚醛清漆環氧樹脂、甲酚酚醛清漆環氧樹脂、聯苯酚醛清漆環氧樹脂、三苯酚環氧樹脂、苯酚與二環戊烷之聚合物之環氧化物、二羥基茀型環氧樹脂、二羥基伸烷基烴氧基茀型環氧樹脂、9,9-雙(4'-羥基苯基)茀之二縮水甘油醚化物、1,1-雙(4'-羥基苯基)金剛烷之二縮水甘油醚化物，可適宜地使用於主鏈具有芳香族環者。
其中，就硬化膜強度之觀點而言，較佳為雙酚A型環氧樹脂、酚系酚醛清漆環氧樹脂、甲酚酚醛清漆環氧樹脂、苯酚與二環戊二烯之聚合物之環氧化物、9,9-雙(4'-羥基苯基)茀之環氧化物，進而較佳為雙酚A型環氧樹脂。
作為具有乙烯性不飽和鍵之酸，例如可例舉：(甲基)丙烯酸、丁烯酸、馬來酸、富馬酸、檸康酸、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯琥珀酸酐加成物、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯四氫鄰苯二甲酸酐加成物、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯琥珀酸酐加成物、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯鄰苯二甲酸酐加成物、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯四氫鄰苯二甲酸酐加成物、(甲基)丙烯酸與ε-己內酯之反應產物。其中，就感度之觀點而言，較佳為(甲基)丙烯酸。
作為多元酸(酐)，例如可例舉：琥珀酸、馬來酸、伊康酸、鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、3-甲基四氫鄰苯二甲酸、4-甲基四氫鄰苯二甲酸、3-乙基四氫鄰苯二甲酸、4-乙基四氫鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸、3-甲基六氫鄰苯二甲酸、4-甲基六氫鄰苯二甲酸、3-乙基六氫鄰苯二甲酸、4-乙基六氫鄰苯二甲酸、偏苯三甲酸、均苯四甲酸、二苯甲酮四羧酸、聯苯四羧酸、及其等之酐。其等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。其等中，就顯影後之像素部之殘渣減少之觀點而言，較佳為琥珀酸酐、馬來酸酐、伊康酸酐，更佳為琥珀酸酐。
藉由使用多元醇，使環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂(c1)之分子量增大，能夠於分子中導入分支，存在能夠取得分子量與黏度之平衡性之傾向。又，能夠提高酸基於分子中之導入率，存在容易取得感度或密接性等之平衡性之傾向。  作為多元醇，例如可例舉：三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三羥甲基乙烷、1,2,3-丙三醇。其等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂之酸值並無特別限定，較佳為10 mgKOH/g以上，更佳為20 mgKOH/g以上，進而較佳為40 mgKOH/g以上，進而更佳為60 mgKOH/g以上，又，較佳為200 mgKOH/g以下，更佳為180 mgKOH/g以下，進而較佳為150 mgKOH/g以下，進而更佳為120 mgKOH/g以下，尤佳為100 mgKOH/g以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為10～200 mgKOH/g，更佳為10～180 mgKOH/g，進而較佳為20～150 mgKOH/g，進而更佳為40～120 mgKOH/g，尤佳為60～100 mgKOH/g。藉由設為上述下限值以上，殘渣容易減少。又，藉由設為上述上限值以下，存在顯影時之殘膜率變得良好之傾向。
(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂之重量平均分子量(Mw)並無特別限定，較佳為1000以上，更佳為2000以上，進而較佳為3000以上，進而更佳為4000以上，特佳為5000以上，尤佳為6000以上，最佳為7000以上，又，較佳為30000以下，更佳為20000以下，進而較佳為15000以下，尤佳為10000以下。上述上限及下限可任意地組合，較佳為1000～30000，更佳為2000～30000，進而較佳為3000～20000，進而更佳為4000～20000，特佳為5000～15000，尤佳為6000～15000，最佳為7000～10000。藉由設為上述下限值以上，存在顯影時之殘膜率變得良好之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
於(C)鹼可溶性樹脂包含(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂之情形時，(C)鹼可溶性樹脂所包含之(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂之含量並無特別限定，較佳為30質量%以上，更佳為50質量%以上，進而較佳為70質量%以上，進而更佳為80質量%以上，尤佳為90質量%以上，又，通常為100質量%以下。上述上限及下限可任意地組合。例如較佳為30～100質量%，更佳為50～100質量%，進而較佳為70～100質量%，進而更佳為80～100質量%，尤佳為90～100質量%。藉由設為上述下限值以上，存在傾斜形狀變得良好之傾向。
(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂可藉由先前公知之方法而合成。具體而言，可使用如下方法：使上述環氧樹脂溶解於有機溶劑中，於觸媒與熱聚合抑制劑之共存下，加入上述具有乙烯性不飽和鍵之酸或酯化合物使其等進行加成反應，並進而加入多元酸或其酐使反應繼續。
作為有機溶劑，例如可例舉：甲基乙基酮、環己酮、二乙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯。作為觸媒，例如可例舉：三乙胺、二甲苄胺、三苄胺等三級胺類；氯化四甲基銨、氯化甲基三乙基銨、氯化四乙基銨、氯化四丁基銨、氯化三甲基苄基銨等四級銨鹽類；三苯基膦等磷化合物；三苯基銻等銻類。作為熱聚合抑制劑，例如可例舉：對苯二酚、對苯二酚單甲醚、甲基對苯二酚。  其等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
關於具有乙烯性不飽和鍵之酸或酯化合物，可使用相對於環氧樹脂之環氧基之1化學當量較佳為成為0.7～1.3化學當量、更佳為成為0.9～1.1化學當量之量。加成反應時之溫度較佳為60～150℃，更佳為80～120℃。多元酸(酐)可使用相對於加成反應中所產生之羥基之1化學當量較佳為成為0.1～1.2化學當量、更佳為成為0.2～1.1化學當量的量。
關於(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂，就傾斜形狀、殘膜率之觀點而言，較佳為含有選自由(c1-1)包含下述通式(i)所表示之部分結構之環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂(以下，有時稱為「(c1-1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂」)、(c1-2)包含下述通式(ii)所表示之部分結構之環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂(以下，有時稱為「(c1-2)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂」)、及(c1-3)包含下述通式(iii)所表示之部分結構之環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂(以下，有時稱為「(c1-3)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂」)所組成之群中之至少1種。
關於(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂，其等中，就顯影性、傾斜形狀之觀點而言，較佳為包含(c1-1)包含下述通式(i)所表示之部分結構之環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂，更佳為(c1-1)包含下述通式(i)所表示之部分結構之環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂。
[化12]
式(i)中，R a表示氫原子或甲基，R b表示可具有取代基之2價烴基。式(i)中之苯環可進而經任意取代基取代。*表示鍵結鍵。
於上述式(i)中，R b表示可具有取代基之2價烴基。作為2價烴基，可例舉：2價脂肪族基、2價芳香族環基、將1個以上2價脂肪族基與1個以上2價芳香族環基連結而成之基。
2價脂肪族基可例舉直鏈狀、支鏈狀、環狀者。其等中，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為直鏈狀者，另一方面，就減少顯影液對曝光部之滲透之觀點而言，較佳為環狀者。其碳數通常為1以上，較佳為3以上，更佳為6以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～20，更佳為3～15，進而較佳為6～10。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為2價直鏈狀脂肪族基，例如可例舉：亞甲基、伸乙基、伸正丙基、伸正丁基、伸正己基、伸正庚基。其等中，就殘渣減少之觀點而言，較佳為亞甲基。  作為2價支鏈狀脂肪族基，例如可例舉於上述2價直鏈狀脂肪族基上具有甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基作為側鏈之結構。  2價環狀之脂肪族基具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為1～5，進而較佳為2～5。藉由設為上述下限值以上，存在殘膜率提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。作為2價環狀之脂肪族基，例如可例舉：自環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環之環中去除2個氫原子而成之基。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為自金剛烷環中去除2個氫原子而成之基。
作為2價脂肪族基可具有之取代基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基，就合成容易性之觀點而言，較佳為未經取代。
作為2價芳香族環基，可例舉：2價芳香族烴環基及2價芳香族雜環基。其碳數通常為4以上，較佳為5以上，更佳為6以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～20，更佳為5～15，進而較佳為6～10。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為2價芳香族烴環基中之芳香族烴環，可為單環亦可為縮合環。作為2價芳香族烴環基，例如可例舉：具有2個自由原子價之苯環、萘環、蒽環、菲環、苝環、稠四苯環、芘環、苯并芘環、環、三伸苯基環、苊環、螢蒽環、茀環。  作為2價芳香族雜環基中之芳香族雜環，可為單環亦可為縮合環。作為2價芳香族雜環基，例如可例舉：具有2個自由原子價之呋喃環、苯并呋喃環、噻吩環、苯并噻吩環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、㗁二唑環、吲哚環、咔唑環、吡咯并咪唑環、吡咯并吡唑環、吡咯并吡咯環、噻吩并吡咯環、噻吩并噻吩環、呋喃并吡咯環、呋喃并呋喃環、噻吩并呋喃環、苯并異㗁唑環、苯并異噻唑環、苯并咪唑環、吡啶環、吡𠯤環、嗒𠯤環、嘧啶環、三𠯤環、喹啉環、異喹啉環、㖕啉環、喹㗁啉環、啡啶環、呸啶環、喹唑啉環、喹唑啉酮環、薁環。其等中，就光硬化性之觀點而言，較佳為具有2個自由原子價之苯環、萘環，更佳為具有2個自由原子價之苯環。
作為2價芳香族環基可具有之取代基，例如可例舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基、縮水甘油醚基。其等中，就硬化性之觀點而言，較佳為未經取代。
作為將1個以上2價脂肪族基與1個以上2價芳香族環基連結而成之基，可例舉將1個以上之上述2價脂肪族基與1個以上之上述2價芳香族環基連結而成之基。  2價脂肪族基之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下，進而較佳為3以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為1～5，進而較佳為2～3。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  2價芳香族環基之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下，進而較佳為3以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為1～5，進而較佳為2～3。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為將1個以上2價脂肪族基與1個以上2價芳香族環基連結而成之基，例如可例舉下述式(i-A)～(i-F)所表示之基。其等中，就骨架之剛性及膜之疏水化之觀點而言，較佳為下述式(i-A)所表示之基。化學式中之*表示鍵結鍵。
[化13]
如上所述，式(i)中之苯環可進而經任意取代基取代。作為式(i)中之苯環之取代基，例如可例舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基。取代基之數量亦無特別限定，只要化學上容許，可為1個，亦可為2個以上。 就硬化性之觀點而言，較佳為未經取代。
上述式(i)所表示之部分結構就顯影溶解性之觀點而言，較佳為下述式(i-1)所表示之部分結構。
[化14]
式(i-1)中，R a及R b與上述式(i)之R a及R b同義。R c表示可具有取代基之碳數1～4之2價烴基。*表示鍵結鍵。式(i-1)中之苯環可進而經任意取代基取代。
於上述通式(i-1)中，R c表示可具有取代基之碳數1～4之2價烴基。作為2價烴基，可例舉：伸烷基、伸烯基。
伸烷基可為直鏈亦可為支鏈，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為直鏈。其碳數並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為4以下，更佳為3以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～4，更佳為1～3，進而較佳為2～3。藉由設為上述下限值以上，存在殘膜率變高之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在焙燒時、焙燒後之釋氣產生量變少之傾向。
作為伸烷基之具體例，可例舉亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基，就減少釋氣之觀點而言，較佳為亞甲基或伸乙基，更佳為伸乙基。
伸烯基可為直鏈亦可為支鏈，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為直鏈。其碳數並無特別限定，通常為2以上，又，較佳為4以下，更佳為3以下。例如較佳為2～4，更佳為2～3。藉由設為上述下限值以上，存在殘膜率變高之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在焙燒時、焙燒後之釋氣產生量變少之傾向。
作為伸烯基之具體例，可例舉伸乙烯基、伸丙烯基、伸丁烯基，就釋氣之觀點而言，較佳為伸乙烯基。
碳數1～4之2價烴基可具有之取代基並無特別限定，例如可例舉鹵素原子、烷氧基、苯甲醯基、羥基，就合成之容易性之觀點而言，較佳為未經取代。
其等中，就釋氣減少之觀點而言，較佳為R c為碳數1～4之2價伸烷基，更佳為亞甲基或伸乙基，進而較佳為伸乙基。
(c1-1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂1分子中所包含之上述式(i-1)所表示之部分結構可為1種，亦可為2種以上。
(c1-1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂1分子中所包含之上述式(i)所表示之部分結構之數量並無特別限定，較佳為1以上，更佳為2以上，進而較佳為3以上，又，較佳為10以下，進而較佳為8以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為2～10，進而較佳為3～8。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
(c1-1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂1分子中所包含之上述式(i-1)所表示之部分結構之數量並無特別限定，較佳為1以上，更佳為2以上，進而較佳為3以上，又，較佳為10以下，進而較佳為8以下。  上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為2～10，進而較佳為3～8。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
以下例舉(c1-1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂之具體例。
[化15]
[化16]
[化17]
[化18]
[化19]
[化20]
[化21]
作為另一態樣，(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂就顯影密接性之觀點而言，較佳為包含下述式(ii)所表示之部分結構之(c1-2)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂。
[化22]
式(ii)中，R d分別獨立地表示氫原子或甲基。R e表示具有環狀烴基作為側鏈之2價烴基。*表示鍵結鍵。
於上述式(ii)中，R e表示具有環狀烴基作為側鏈之2價烴基。  作為環狀烴基，可例舉脂肪族環基或芳香族環基。
脂肪族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下，進而較佳為3以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為1～5，進而較佳為2～3。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  脂肪族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，又，較佳為40以下，更佳為30以下，進而較佳為20以下，尤佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～40，更佳為4～30，進而較佳為6～20，尤佳為8～15。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為脂肪族環基中之脂肪族環，例如可例舉：環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為金剛烷環。
芳香族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，更佳為3以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下，進而較佳為4以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為2～5，進而較佳為3～4。藉由設為上述下限值以上，存在殘渣減少之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在顯影密接性提昇之傾向。  作為芳香族環基，可例舉：芳香族烴環基、芳香族雜環基。芳香族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，進而更佳為10以上，尤佳為12以上，又，較佳為40以下，更佳為30以下，進而較佳為20以下，尤佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～40，更佳為6～40，進而較佳為8～30，進而更佳為10～20，尤佳為12～15。藉由設為上述下限值以上，存在殘渣減少之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在顯影密接性提昇之傾向。  作為芳香族環基中之芳香族環，例如可例舉：苯環、萘環、蒽環、菲環、苝環、稠四苯環、芘環、苯并芘環、環、三伸苯基環、苊環、螢蒽環、茀環。其等中，就圖案化特性之觀點而言，較佳為茀環。
具有環狀烴基作為側鏈之2價烴基中之2價烴基並無特別限定，例如可例舉：2價脂肪族基、2價芳香族環基、將1個以上2價脂肪族基與1個以上2價芳香族環基連結而成之基。
2價脂肪族基可例舉直鏈狀、支鏈狀、環狀者。其等中，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為直鏈狀者，另一方面，就減少顯影液對曝光部之滲透之觀點而言，較佳為環狀者。其碳數通常為1以上，較佳為3以上，更佳為6以上，又，較佳為25以下，更佳為20以下，進而較佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～25，更佳為3～20，進而較佳為6～15。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為2價直鏈狀脂肪族基，例如可例舉：亞甲基、伸乙基、伸正丙基、伸正丁基、伸正己基、伸正庚基。其等中，就殘渣之觀點而言，較佳為亞甲基。  作為2價支鏈狀脂肪族基，例如可例舉於上述之2價直鏈狀脂肪族基上具有甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基作為側鏈之結構。  2價環狀之脂肪族基具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下，進而較佳為3以下。  上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為1～5，進而較佳為2～3。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為2價環狀之脂肪族基，例如可例舉自環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環中去除2個氫原子而成之基。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為自金剛烷環中去除2個氫原子而成之基。
作為2價脂肪族基可具有之取代基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基，就合成容易性之觀點而言，較佳為未經取代。
作為2價芳香族環基，可例舉2價芳香族烴環基及2價芳香族雜環基。其碳數通常為4以上，較佳為5以上，更佳為6以上，又，較佳為30以下，更佳為20以下，進而較佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～30，更佳為5～20，進而較佳為6～15。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為2價芳香族烴環基中之芳香族烴環，可為單環亦可為縮合環。作為2價芳香族烴環基，例如可例舉具有2個自由原子價之苯環、萘環、蒽環、菲環、苝環、稠四苯環、芘環、苯并芘環、環、三伸苯基環、苊環、螢蒽環、茀環。  作為2價芳香族雜環基中之芳香族雜環，可為單環亦可為縮合環。作為2價芳香族雜環基，例如可例舉具有2個自由原子價之呋喃環、苯并呋喃環、噻吩環、苯并噻吩環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、㗁二唑環、吲哚環、咔唑環、吡咯并咪唑環、吡咯并吡唑環、吡咯并吡咯環、噻吩并吡咯環、噻吩并噻吩環、呋喃并吡咯環、呋喃并呋喃環、噻吩并呋喃環、苯并異㗁唑環、苯并異噻唑環、苯并咪唑環、吡啶環、吡𠯤環、嗒𠯤環、嘧啶環、三𠯤環、喹啉環、異喹啉環、㖕啉環、喹㗁啉環、啡啶環、呸啶環、喹唑啉環、喹唑啉酮環、薁環。其等中，就光硬化性之觀點而言，較佳為具有2個自由原子價之苯環、萘環，更佳為具有2個自由原子價之苯環。
作為2價芳香族環基可具有之取代基，例如可例舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基。其等中，就硬化性之觀點而言，較佳為未經取代。
作為將1個以上2價脂肪族基與1個以上2價芳香族環基連結而成之基，可例舉將1個以上之上述2價脂肪族基與1個以上之上述2價芳香族環基連結而成之基。  2價脂肪族基之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下，進而較佳為3以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為1～5，進而較佳為2～3。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  2價芳香族環基之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下，進而較佳為3以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為1～5，進而較佳為2～3。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為將1個以上2價脂肪族基與1個以上2價芳香族環基連結而成之基，例如可例舉上述式(i-A)～(i-F)所表示之基等。其等中，就殘渣減少之觀點而言，較佳為上述式(i-C)所表示之基。
作為側鏈之環狀烴基對該等2價烴基之鍵結態樣並無特別限定，例如可例舉：脂肪族基或芳香族環基之1個氫原子被側鏈取代之態樣、或包含脂肪族基之1個碳原子而構成作為側鏈之環狀烴基之態樣。
上述式(ii)所表示之部分結構就顯影密接性之觀點而言，較佳為下述式(ii-1)所表示之部分結構。
[化23]
式(ii-1)中，R d與上述式(ii)同義。R f表示可具有取代基之1價環狀烴基。n為1以上之整數。式(ii-1)中之苯環可進而經任意取代基取代。*表示鍵結鍵。
(R f)  於上述式(ii-1)中，R f表示可具有取代基之1價環狀烴基。  作為環狀烴基，可例舉脂肪族環基或芳香族環基。
脂肪族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為6以下，更佳為4以下，進而較佳為3以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～6，更佳為1～4，進而較佳為2～3。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  又，脂肪族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，又，較佳為40以下，更佳為30以下，進而較佳為20以下，尤佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～40，更佳為4～30，進而較佳為6～20，尤佳為8～15。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為脂肪族環基中之脂肪族環，例如可例舉：環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為金剛烷環。
芳香族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，更佳為3以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為2～10，進而較佳為3～5。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為芳香族環基，可例舉：芳香族烴環基、芳香族雜環基。又，芳香族環基之碳數通常為4以上，較佳為5以上，更佳為6以上，又，較佳為30以下，更佳為20以下，進而較佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～30，更佳為5～20，進而較佳為6～15。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為芳香族環基中之芳香族環，例如可例舉：苯環、萘環、蒽環、菲環、茀環。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為茀環。
作為環狀烴基可具有之取代基，例如可例舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、伸丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、異戊基等碳數1～5之烷基；甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基，就合成之容易性之觀點而言，較佳為未經取代。
n表示1以上之整數，較佳為2以上，又，較佳為3以下。例如較佳為1～3，更佳為1～2。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
其等中，就強固之膜硬化度及電特性之觀點而言，R f較佳為1價脂肪族環基，更佳為金剛烷基。
如上所述，式(ii-1)中之苯環可進而經任意取代基取代。作為取代基，例如可例舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基。取代基之數量亦無特別限定，可為1個，亦可為2個以上。就硬化性之觀點而言，較佳為未經取代。
以下例舉上述式(ii-1)所表示之部分結構之具體例。
[化24]
[化25]
[化26]
[化27]
[化28]
上述式(ii)所表示之部分結構就顯影密接性之觀點而言，較佳為下述式(ii-2)所表示之部分結構。
[化29]
式(ii-2)中，R d與上述式(ii)同義。R g表示可具有取代基之2價環狀烴基。式(ii-2)中之苯環可進而經任意取代基取代。*表示鍵結鍵。
於上述式(ii-2)中，R g表示可具有取代基之2價環狀烴基。  作為環狀烴基，可例舉脂肪族環基或芳香族環基。
脂肪族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為2～5。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  又，脂肪族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，又，較佳為40以下，更佳為35以下，進而較佳為30以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～40，更佳為6～35，進而較佳為8～30。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為脂肪族環基中之脂肪族環，可例舉：環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為金剛烷環。
芳香族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，更佳為3以上，又，較佳為10以下，較佳為5以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為2～10，進而較佳為3～5。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為芳香族環基，可例舉：芳香族烴環基、芳香族雜環基。又，芳香族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，進而較佳為10以上，又，較佳為40以下，更佳為30以下，進而較佳為20以下，尤佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～40，更佳為6～30，進而較佳為8～20，尤佳為10～15。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為芳香族環基中之芳香族環，例如可例舉：苯環、萘環、蒽環、菲環、茀環。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為茀環。
作為環狀烴基可具有之取代基，例如可例舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、伸丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、異戊基等碳數1～5之烷基；甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基。其等中，就合成之簡易性之觀點而言，較佳為未經取代。
其等中，就硬化性之觀點而言，R g較佳為2價脂肪族環基，更佳為2價金剛烷環基。  作為另一態樣，就顯影密接性之觀點而言，R g較佳為2價芳香族環基，更佳為2價茀環基。
如上所述，式(ii-2)中之苯環可進而經任意取代基取代。作為式(ii-2)中之苯環之取代基，例如可例舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基。取代基之數量亦無特別限定，可為1個，亦可為2個以上。就硬化性之觀點而言，較佳為未經取代。
以下例舉上述式(ii-2)所表示之部分結構之具體例。
[化30]
[化31]
[化32]
[化33]
上述式(ii)所表示之部分結構就硬化性之觀點而言，較佳為下述式(ii-3)所表示之部分結構。
[化34]
式(ii-3)中，R d及R e與上述式(ii)同義。R c與上述式(i-1)同義。*表示鍵結鍵。
(c1-2)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂1分子中所包含之上述式(ii-3)所表示之部分結構可為1種亦可為2種以上。
(c1-2)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂1分子中所包含之上述式(ii)所表示之部分結構之數量並無特別限定，較佳為1以上，更佳為3以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下。  上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～20，更佳為1～15，進而較佳為3～10。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為又一態樣，(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂就顯影性、顯影時之傾斜形狀之觀點而言，較佳為包含下述通式(iii)所表示之部分結構之(c1-3)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂。
[化35]
式(iii)中，R h表示氫原子或甲基，R i表示單鍵、-C(O)-、可具有取代基之伸烷基、或可具有取代基之2價環狀烴基。式(iii)中之苯環可進而經任意取代基取代。*表示鍵結鍵。
(R i)  於上述式(iii)中，R i表示單鍵、-C(O)-、可具有取代基之伸烷基、或可具有取代基之2價環狀烴基。
伸烷基可為直鏈狀，亦可為支鏈狀，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為直鏈狀，就顯影密接性之觀點而言，較佳為支鏈狀。其碳數並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為6以下，更佳為4以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～6，更佳為2～4。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為伸烷基，例如可例舉：亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基、伸己基、伸庚基，就兼顧顯影密接性與顯影溶解性之觀點而言，較佳為亞甲基、伸乙基、伸丙基，更佳為二甲基亞甲基(2,2-伸丙基)。
作為伸烷基可具有之取代基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基，就兼顧顯影密接性與顯影溶解性之觀點而言，較佳為未經取代。
作為2價環狀烴基，可例舉2價脂肪族環基或2價芳香族環基。
脂肪族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為2～5。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  又，脂肪族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，又，較佳為40以下，更佳為35以下，進而較佳為30以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～40，更佳為6～35，進而較佳為8～30。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為脂肪族環基中之脂肪族環，例如可例舉：環己烷環、環庚烷環、環癸烷環、環十二烷環、降𦯉烷環、異𦯉烷環、金剛烷環。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為金剛烷環。
芳香族環基所具有之環之數量並無特別限定，通常為1以上，較佳為2以上，更佳為3以上，又，較佳為10以下，更佳為5以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～10，更佳為2～10，進而較佳為3～5。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為芳香族環基，可例舉：芳香族烴環基、芳香族雜環基。芳香族環基之碳數通常為4以上，較佳為6以上，更佳為8以上，進而較佳為10以上，又，較佳為40以下，更佳為30以下，進而較佳為20以下，尤佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～40，更佳為6～30，進而較佳為8～20，進而更佳為10～15。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為芳香族環基中之芳香族環，例如可例舉：苯環、萘環、蒽環、菲環、茀環。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為茀環。
作為環狀烴基可具有之取代基，例如可例舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、伸丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、異戊基等碳數1～5之烷基；甲氧基、乙氧基等碳數1～5之烷氧基；羥基；硝基；氰基；羧基，就合成之簡易性之觀點而言，較佳為未經取代。
其等中，就殘渣減少之觀點而言，R i較佳為可具有取代基之伸烷基，更佳為二甲基亞甲基。
如上所述，式(iii)中之苯環可進而經任意取代基取代。作為式(iii)中之苯環之取代基，例如可例舉：羥基、甲基、甲氧基、乙基、乙氧基、丙基、丙氧基。  取代基之數量亦無特別限定，可為1個，亦可為2個以上。就硬化性之觀點而言，較佳為未經取代。
上述式(iii)所表示之部分結構就顯影溶解性之觀點而言，較佳為下述式(iii-1)所表示之部分結構。
[化36]
式(iii-1)中，R h及R i與上述式(iii)同義。R c與上述式(i-1)之R c同義。*表示鍵結鍵。式(iii-1)中之苯環可進而經任意取代基取代。
(c1-3)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂1分子中所包含之上述式(iii)所表示之部分結構之數量並無特別限定，較佳為1以上，更佳為5以上，進而較佳為10以上，又，較佳為18以下，進而較佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～18，更佳為5～18，進而較佳為10～15。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
(c1-3)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂1分子中所包含之上述式(iii-1)所表示之部分結構之數量並無特別限定，較佳為1以上，更佳為3以上，進而較佳為5以上，又，較佳為18以下，進而較佳為15以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～18，更佳為3～18，進而較佳為5～15。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
以下例舉(c1-3)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂之具體例。
[化37]
[化38]
[化39]
[(c2)丙烯酸共聚樹脂]  (c2)丙烯酸共聚樹脂就硬化性之觀點而言，較佳為於側鏈具有乙烯性雙鍵者。
(c2)丙烯酸共聚樹脂之中，就顯影溶解性之觀點而言，較佳為(c2-1)包含下述通式(iv)所表示之部分結構之丙烯酸共聚樹脂。
[化40]
式(iv)中，R j及R k分別獨立地表示氫原子或甲基。*表示鍵結鍵。
上述式(iv)所表示之部分結構就顯影性之觀點而言，較佳為下述通式(iv-1)所表示之部分結構。
[化41]
式(iv-1)中，R j及R k與上述式(iv)之R j及R k同義。R c與上述式(i-1)之R c同義。
上述式(iv)所表示之部分結構就感度之觀點而言，較佳為下述式(iv-2)所表示之部分結構。
[化42]
式(iv-2)中，R j及R k與上述式(iv)之R j及R k同義。
於(c2-1)丙烯酸共聚樹脂包含上述通式(iv)所表示之部分結構之情形時，(c2-1)丙烯酸共聚樹脂所包含之上述通式(iv)所表示之部分結構之含量並無特別限定，較佳為5莫耳%以上，更佳為20莫耳%以上，進而較佳為30莫耳%以上，進而更佳為50莫耳%以上，尤佳為70莫耳%以上，最佳為80莫耳%以上，又，較佳為99莫耳%以下，更佳為97莫耳%以下，進而較佳為95莫耳%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為5～99莫耳%，更佳為20～99莫耳%，進而較佳為30～97莫耳%，進而更佳為50～97莫耳%，尤佳為70～95莫耳%，最佳為80～95莫耳%。藉由設為上述下限值以上，存在殘渣減少之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在顯影密接性提昇之傾向。
於(c2-1)丙烯酸共聚樹脂包含上述通式(iv-1)所表示之部分結構之情形時，(c2-1)丙烯酸共聚樹脂所包含之上述通式(iv-1)所表示之部分結構之含量並無特別限定，較佳為1莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，進而較佳為8莫耳%以上，進而更佳為10莫耳%以上，又，較佳為99莫耳%以下，更佳為60莫耳%以下，進而較佳為40莫耳%以下，進而更佳為30莫耳%以下，尤佳為20莫耳%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～99莫耳%，更佳為1～60莫耳%，進而較佳為5～40莫耳%，進而更佳為8～30莫耳%，尤佳為10～20莫耳%。藉由設為上述下限值以上，存在感度變高，殘渣減少之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在顯影密接性提昇之傾向。
於(c2-1)丙烯酸共聚樹脂包含上述通式(iv-2)所表示之部分結構之情形時，(c2-1)丙烯酸共聚樹脂所包含之上述通式(iv-2)所表示之部分結構之含量並無特別限定，較佳為10莫耳%以上，更佳為20莫耳%以上，進而較佳為30莫耳%以上，進而更佳為40莫耳%以上，尤佳為50莫耳%以上，最佳為70莫耳%以上，又，較佳為99莫耳%以下，更佳為95莫耳%以下，進而較佳為90莫耳%以下，尤佳為85莫耳%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為10～99莫耳%，更佳為20～99莫耳%，進而較佳為30～95莫耳%，進而更佳為40～95莫耳%，尤佳為50～90莫耳%，最佳為70～85莫耳%。藉由設為上述下限值以上，存在感度變高之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在顯影性提昇之傾向。
於(c2-1)丙烯酸共聚樹脂包含上述通式(iv)所表示之部分結構之情形時，其他可包含之部分結構並無特別限定，就顯影密接性之觀點而言，例如較佳為包含下述通式(iv')所表示之部分結構。
[化43]
上述式(iv')中，R l表示氫原子或甲基，R m表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基(芳香族環基)、或可具有取代基之烯基。
於上述式(iv')中，R m表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、或可具有取代基之烯基。  作為R m中之烷基，可例舉直鏈狀、支鏈狀或環狀之烷基。其碳數較佳為1以上，更佳為3以上，進而較佳為5以上，又，較佳為20以下，更佳為18以下，進而較佳為16以下，進而更佳為14以下，尤佳為12以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～20，更佳為1～18，進而較佳為3～16，進而更佳為3～14，尤佳為5～12。藉由設為上述下限值以上，存在膜強度變高，顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為烷基，例如可例舉：甲基、乙基、環己基、二環戊基、十二烷基。其等中，就膜強度之觀點而言，較佳為二環戊基、十二烷基，更佳為二環戊基。  作為烷基可具有之取代基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基、氯基、溴基、氟基、羥基、胺基、環氧基、低聚乙二醇基、苯基、羧基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基，就顯影性之觀點而言，較佳為羥基、低聚乙二醇基。
作為R m中之芳基(芳香族環基)，可例舉：1價芳香族烴環基、1價芳香族雜環基。其碳數較佳為4以上，更佳為6以上，又，較佳為24以下，更佳為22以下，進而較佳為20以下，尤佳為18以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為4～24，更佳為4～22，進而較佳為6～20，尤佳為6～18。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。  作為芳香族烴環基中之芳香族烴環，可為單環亦可為縮合環，例如可例舉：苯環、萘環、蒽環、菲環、苝環、稠四苯環、芘環、苯并芘環、環、三伸苯基環、苊環、螢蒽環、茀環。  作為芳香族雜環基中之芳香族雜環，可為單環亦可為縮合環，例如可例舉：呋喃環、苯并呋喃環、噻吩環、苯并噻吩環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、㗁二唑環、吲哚環、咔唑環、吡咯并咪唑環、吡咯并吡唑環、吡咯并吡咯環、噻吩并吡咯環、噻吩并噻吩環、呋喃并吡咯環、呋喃并呋喃環、噻吩并呋喃環、苯并異㗁唑環、苯并異噻唑環、苯并咪唑環、吡啶環、吡𠯤環、嗒𠯤環、嘧啶環、三𠯤環、喹啉環、異喹啉環、㖕啉環、喹㗁啉環、啡啶環、呸啶環、喹唑啉環、喹唑啉酮環、薁環。其等中，就硬化性之觀點而言，較佳為苯環基、萘環基，更佳為苯環基。  作為芳基可具有之取代基，例如可例舉：甲基、乙基、丙基、甲氧基、乙氧基、氯基、溴基、氟基、羥基、胺基、環氧基、低聚乙二醇基、苯基、羧基，就顯影性之觀點而言，較佳為羥基、低聚乙二醇基。
作為R m中之烯基，可例舉：直鏈狀、支鏈狀或環狀之烯基。其碳數較佳為2以上，又，較佳為22以下，更佳為20以下，進而較佳為18以下，進而更佳為16以下，尤佳為14以下。例如較佳為2～22，更佳為2～20，進而較佳為2～18，進而更佳為2～16，尤佳為2～14。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為烯基，例如可例舉：乙烯基、丙烯基、丁烯基、環己烯基。其等中，就硬化性之觀點而言，較佳為乙烯基、丙烯基，更佳為乙烯基。  作為烯基可具有之取代基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基、氯基、溴基、氟基、羥基、胺基、環氧基、低聚乙二醇基、苯基、羧基，就顯影性之觀點而言，較佳為羥基、低聚乙二醇基。
其等中，就顯影性之觀點而言，作為R m，較佳為烷基、烯基，更佳為烷基，進而較佳為二環戊基。
於(c2-1)丙烯酸共聚樹脂包含上述通式(iv')所表示之部分結構之情形時，(c2-1)丙烯酸共聚樹脂所包含之上述通式(iv')所表示之部分結構之含量並無特別限定，較佳為0.5莫耳%以上，更佳為1莫耳%以上，進而較佳為1.5莫耳%以上，進而更佳為2莫耳%以上，又，較佳為90莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而較佳為50%莫耳以下，進而更佳為30莫耳%以下，尤佳為10莫耳%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為0.5～90莫耳%，更佳為0.5～70莫耳%，進而較佳為1～50%莫耳，進而更佳為1.5～30莫耳%，尤佳為2～10莫耳%。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
於(c2-1)丙烯酸共聚樹脂包含上述通式(iv)所表示之部分結構之情形時，就耐熱性、膜強度之觀點而言，較佳為進而包含下述通式(iv'')所表示之部分結構。
[化44]
於上述式(iv'')中，R n表示氫原子或甲基，R o表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、羥基、羧基、鹵素原子、可具有取代基之烷氧基、硫醇基、或可具有取代基之烷基硫基。t表示0～5之整數。
於上述式(iv'')中，R o表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、羥基、羧基、鹵素原子、可具有取代基之烷氧基、硫醇基、或可具有取代基之烷基硫基。  作為R o中之烷基，可例舉：直鏈狀、支鏈狀或環狀之烷基。其碳數較佳為1以上，更佳為3以上，進而較佳為5以上，又，較佳為20以下，更佳為18以下，進而較佳為16以下，進而更佳為14以下，尤佳為12以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～20，更佳為1～18，進而較佳為3～16，進而更佳為3～14，尤佳為5～12。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為烷基，例如可例舉：甲基、乙基、環己基、二環戊基、十二烷基。其等中，就顯影密接性之觀點而言，較佳為二環戊基、十二烷基，更佳為二環戊基。  作為烷基可具有之取代基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基、氯基、溴基、氟基、羥基、胺基、環氧基、低聚乙二醇基、苯基、羧基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基，就顯影性之觀點而言，較佳為羥基、低聚乙二醇基。
作為R o中之烯基，可例舉：直鏈狀、支鏈狀或環狀之烯基。其碳數較佳為2以上，又，較佳為22以下，更佳為20以下，進而較佳為18以下，進而更佳為16以下，尤佳為14以下。例如較佳為2～22，更佳為2～20，進而較佳為2～18，進而更佳為2～16，尤佳為2～14。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為烯基，例如可例舉：乙烯基、丙烯基、丁烯基、環己烯基。其等中，就硬化性之觀點而言，較佳為乙烯基、丙烯基，更佳為乙烯基。  作為烯基可具有之取代基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基、氯基、溴基、氟基、羥基、胺基、環氧基、低聚乙二醇基、苯基、羧基，就顯影性之觀點而言，較佳為羥基、低聚乙二醇基。
作為R o中之鹵素原子，可例舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
作為R o中之烷氧基，可例舉：直鏈狀、支鏈狀或環狀之烷氧基。其碳數較佳為1以上，又，較佳為20以下，更佳為18以下，進而較佳為16以下，進而更佳為14以下，尤佳為12以下。例如較佳為1～20，更佳為1～18，進而較佳為1～16，進而更佳為1～14，尤佳為1～12。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為烷氧基可具有之取代基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基、氯基、溴基、氟基、羥基、胺基、環氧基、低聚乙二醇基、苯基、羧基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基，就顯影性之觀點而言，較佳為羥基、低聚乙二醇基。
作為R o中之烷基硫基，可例舉：直鏈狀、支鏈狀或環狀之烷基硫基。其碳數較佳為1以上，又，較佳為20以下，更佳為18以下，進而較佳為16以下，進而更佳為14以下，尤佳為12以下。例如較佳為1～20，更佳為1～18，進而較佳為1～16，進而更佳為1～14，尤佳為1～12。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為烷基硫基，例如可例舉：甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、丁基硫基。其等中，就顯影性之觀點而言，較佳為甲基硫基、乙基硫基。  作為烷基硫基中之烷基可具有之取代基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基、氯基、溴基、氟基、羥基、胺基、環氧基、低聚乙二醇基、苯基、羧基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基，就顯影性之觀點而言，較佳為羥基、低聚乙二醇基。
其等中，就顯影性之觀點而言，作為R o，較佳為羥基、羧基，更佳為羧基。
(t)  於上述式(iv'')中，t表示0～5之整數。就顯影性之觀點而言，較佳為0～2，更佳為0～1，進而較佳為0。
於(c2-1)丙烯酸共聚樹脂包含上述通式(iv'')所表示之部分結構之情形時，(c2-1)丙烯酸共聚樹脂中所包含之上述通式(iv'')所表示之部分結構之含量並無特別限定，較佳為1莫耳%以上，更佳為2莫耳%以上，進而較佳為3莫耳%以上，進而更佳為5莫耳%以上，又，較佳為90莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而較佳為50莫耳%以下，進而更佳為30莫耳%以下，尤佳為20莫耳%以下，最佳為10莫耳%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1～90莫耳%，更佳為1～70莫耳%，進而較佳為2～50莫耳%，進而更佳為2～30莫耳%，尤佳為3～20莫耳%，最佳為5～10莫耳%。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
於(c2-1)丙烯酸共聚樹脂包含上述通式(iv)所表示之部分結構之情形時，就顯影性之觀點而言，較佳為進而包含下述通式(iv''')所表示之部分結構。
[化45]
上述式(iv''')中，R p表示氫原子或甲基。
於(c2-1)丙烯酸共聚樹脂包含上述通式(iv''')所表示之部分結構之情形時，(c2-1)丙烯酸共聚樹脂中所包含之上述通式(iv''')所表示之部分結構之含量並無特別限定，較佳為5莫耳%以上，更佳為10莫耳%以上，進而較佳為30莫耳%以上，又，較佳為90莫耳%以下，更佳為80莫耳%以下，進而較佳為70莫耳%以下，尤佳為50莫耳%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為5～90莫耳%，更佳為5～80莫耳%，進而較佳為10～70莫耳%，尤佳為30～50莫耳%。藉由設為上述下限值以上，存在殘渣減少之傾向。  又，藉由設為上述上限值以下，存在顯影密接性提昇之傾向。
(c2)丙烯酸共聚樹脂之酸值並無特別限定，較佳為5 mgKOH/g以上，更佳為10 mgKOH/g以上，進而較佳為20 mgKOH/g以上，進而更佳為25 mgKOH/g以上，又，較佳為100 mgKOH/g以下，更佳為80 mgKOH/g以下，進而較佳為60 mgKOH/g以下，進而更佳為40 mgKOH/g以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為5～100 mgKOH/g，更佳為10～80 mgKOH/g，進而較佳為20～60 mgKOH/g，進而更佳為25～40 mgKOH/g。藉由設為上述下限值以上，存在殘渣減少之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在顯影密接性提昇之傾向。
(c2)丙烯酸共聚樹脂之重量平均分子量(Mw)並無特別限定，較佳為1000以上，更佳為2000以上，進而較佳為3000以上，進而更佳為4000以上，尤佳為5000以上，又，較佳為30000以下，更佳為20000以下，進而較佳為15000以下，進而更佳為10000以下。尤佳為8000以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為1000～30000，更佳為2000～20000，進而較佳為3000～15000，進而更佳為4000～10000，尤佳為5000～8000。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
於(C)鹼可溶性樹脂包含(c2)丙烯酸共聚樹脂之情形時，(C)鹼可溶性樹脂中所包含之(c2)丙烯酸共聚樹脂之含量並無特別限定，較佳為5質量%以上，更佳為10質量%以上，進而較佳為15質量%以上，進而更佳為20質量%以上，又，通常較佳為100質量%以下，更佳為80質量%以下，進而較佳為50質量%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為5～100質量%，更佳為10～100質量%，進而較佳為15～80質量%，尤佳為20～50質量%。藉由設為上述下限值以上，存在顯影溶解性變良好之傾向。藉由設為上述上限值以下，存在傾斜角變高之傾向。
於(C)鹼可溶性樹脂中，可單獨包含(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂及(c2)丙烯酸共聚樹脂之任一者，亦可包含兩者。進而，於(C)鹼可溶性樹脂中還可包含(c)鹼可溶性樹脂以外之鹼可溶性樹脂。
本發明之聚合性組合物中之(C)鹼可溶性樹脂之含量於聚合性組合物之總固形物成分中，較佳為5質量%以上，更佳為10質量%以上，進而較佳為20質量%以上，進而更佳為30質量%以上，尤佳為40質量%以上，又，較佳為90質量%以下，更佳為80質量%以下，進而較佳為70質量%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為5～90質量%，更佳為10～90質量%，進而較佳為20～80質量%，進而更佳為30～70質量%。藉由設為上述下限值以上，存在顯影性提昇之傾向。又，藉由設為上述下限值以下，存在硬化性變良好之傾向。
於本發明之聚合性組合物包含(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂之情形時，(c1)環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂之含量並無特別限定，於聚合性組合物之總固形物成分中，較佳為5質量%以上，更佳為10質量%以上，進而較佳為20質量%以上，進而更佳為30質量%以上，尤佳為40質量%以上，又，較佳為90質量%以下，更佳為70質量%以下，進而較佳為60質量%以下，尤佳為50質量%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為5～90質量%，更佳為10～90質量%，進而較佳為20～70質量%，進而更佳為30～60質量%，尤佳為40～50質量%。藉由設為上述下限值以上，存在顯影性提昇之傾向。又，藉由設為上述下限值以下，存在硬化性變良好之傾向。
又，於本發明之聚合性組合物包含(c2)丙烯酸共聚樹脂之情形時，(c2)丙烯酸共聚樹脂之含量並無特別限定，於聚合性組合物之總固形物成分中，較佳為5質量%以上，更佳為10質量%以上，進而較佳為20質量%以上，進而更佳為30質量%以上，尤佳為40質量%以上，又，較佳為90質量%以下，更佳為80質量%以下，進而較佳為70質量%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為5～90質量%，更佳為10～90質量%，進而較佳為20～80質量%，進而更佳為30～70質量%。藉由設為上述下限值以上，存在顯影性提昇之傾向。又，藉由設為上述下限值以下，存在傾斜形狀變良好之傾向。
又，聚合性組合物之總固形物成分中之(C)鹼可溶性樹脂及(B)聚合性化合物之含量合計較佳為5質量%以上，更佳為10質量%以上，進而較佳為30質量%以上，進而更佳為50質量%以上，尤佳為70質量%以上，進而尤佳為80質量%以上，最佳為90質量%以上，又，較佳為99質量%以下，更佳為97質量%以下，進而較佳為95質量%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為5～99質量%，更佳為10～99質量%，進而較佳為30～99質量%，進而更佳為50～97質量%，特佳為70～97質量%，尤佳為80～95質量%，最佳為90～95質量%。  藉由設為上述下限值以上，存在顯影性提昇之傾向。又，藉由設為上述下限值以下，存在可增加熱聚合起始劑等，而使得硬化性提昇之傾向。
作為聚合性組合物中(C)鹼可溶性樹脂相對於(B)聚合性化合物之調配比，相對於(B)聚合性化合物100質量份，較佳為50質量份以上，更佳為60質量份以上，進而較佳為70質量份以上，進而更佳為80質量份以上，又，較佳為500質量份以下，更佳為400質量份以下，進而較佳為300質量份以下。全部上限及下限可任意地組合，例如較佳為50～400質量份，更佳為60～300質量份。藉由設為上述下限值以上，存在顯影密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述下限值以下，存在硬化性提昇之傾向。
[3-1-4](D)光聚合起始劑  本發明之聚合性組合物亦可進而含有(D)光聚合起始劑。(D)光聚合起始劑係具有直接吸收光，引起分解反應或奪氫反應，而產生聚合活性自由基之功能的成分，從而使(B)聚合性化合物聚合。例如只要為使(B)聚合性化合物所具有之乙烯性不飽和鍵聚合之化合物即可，並無特別限定。
本發明之聚合性組合物可使用該領域中通常使用之光聚合起始劑作為(D)光聚合起始劑。作為此種光聚合起始劑，例如可例舉：日本專利特開昭59-152396號公報、日本專利特開昭61-151197號公報中記載之包含二茂鈦化合物之茂金屬化合物；日本專利特開2000-56118號公報中記載之六芳基聯咪唑衍生物類；日本專利特開平10-39503號公報中記載之鹵甲基化㗁二唑衍生物類、鹵甲基-對稱三𠯤衍生物類、N-苯基甘胺酸等N-芳基-α-胺基酸類、N-芳基-α-胺基酸鹽類、N-芳基-α-胺基酸酯類等自由基活性劑、α-胺烷基苯酮衍生物類；日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特開2006-36750號公報等中記載之肟酯系化合物。
具體而言，例如作為茂金屬化合物，可例舉：二環戊二烯基二氯化鈦、二環戊二烯基二苯基鈦、二環戊二烯基雙(2,3,4,5,6-五氟苯基)鈦、二環戊二烯基雙(2,3,5,6-四氟苯基)鈦、二環戊二烯基雙(2,4,6-三氟苯基)鈦、二環戊二烯基二(2,6-二氟苯基)鈦、二環戊二烯基二(2,4-二氟苯基)鈦、二(甲基環戊二烯基)雙(2,3,4,5,6-五氟苯基)鈦、二(甲基環戊二烯基)雙(2,6-二氟苯基)鈦、二環戊二烯基[2,6-二-氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]鈦。
作為聯咪唑衍生物類，例如可例舉：2-(2'-氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(2'-氯苯基)-4,5-雙(3'-甲氧基苯基)咪唑二聚物、2-(2'-氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(2'-甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、(4'-甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物。
作為鹵甲基化㗁二唑衍生物類，例如可例舉：2-三氯甲基-5-(2'-苯并呋喃基)-1,3,4-㗁二唑、2-三氯甲基-5-[β-(2'-苯并呋喃基)乙烯基]-1,3,4-㗁二唑、2-三氯甲基-5-[β-(2'-(6''-苯并呋喃基)乙烯基)]-1,3,4-㗁二唑、2-三氯甲基-5-呋喃基-1,3,4-㗁二唑。
作為鹵甲基-對稱三𠯤衍生物類，例如可例舉：2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三𠯤、2-(4-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三𠯤、2-(4-乙氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三𠯤、2-(4-乙氧基羰基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三𠯤。
作為α-胺基烷基苯酮衍生物類，例如可例舉：2-甲基-1-[4-(甲基硫基)苯基]-2-𠰌啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-𠰌啉基苯基)丁烷-1-酮、2-二甲基胺基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-𠰌啉基苯基)丁烷-1-酮、3,6-雙(2-甲基-2-𠰌啉基丙醯基)-9-辛基咔唑。
作為光聚合起始劑，尤其是就感度或製版性之方面而言，較為有效的是肟酯系化合物，例如於使用包含酚性羥基之鹼可溶性樹脂之情形時，由於在感度方面變得不利，故尤其是此種感度優異之肟酯系化合物較為有用。  肟酯系化合物對於熱反應較為穩定，且光反應之量子產率較高，生成之自由基之活性較高，因此以少量便能獲得高感度之聚合性組合物。
作為肟酯系化合物，例如可例舉下述通式(1)所表示之化合物。
[化46]
式(1)中，  R 101表示氫原子、可具有取代基之烷基、或可具有取代基之芳香族環基。  R 102表示包含芳香環之任意取代基。  R 103表示可具有取代基之烷醯基、或可具有取代基之芳醯基。  n表示0或1之整數。
R 101中之烷基之碳數並無特別限定，就於溶劑中之溶解性、感度之觀點而言，較佳為1以上，更佳為2以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下。作為烷基之具體例，例如可例舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、環戊基甲基、環戊基乙基、環己基甲基、環己基乙基。  作為烷基可具有之取代基，例如可例舉：芳香族環基、羥基、羧基、鹵素原子、胺基、醯胺基、4-(2-甲氧基-1-甲基)乙氧基-2-甲基苯基、N-乙醯基-N-乙醯氧基胺基、苯硫基。作為烷基，就合成容易性之觀點而言，較佳為未經取代。
作為R 101中之芳香族環基，可例舉：芳香族烴環基及芳香族雜環基。芳香族環基之碳數並無特別限定，就於聚合性組合物中之溶解性之觀點而言，較佳為5以上。又，就顯影性之觀點而言，較佳為30以下，更佳為20以下，進而較佳為12以下。例如較佳為5～30，更佳為5～20，進而較佳為5～12。
作為芳香族環基之具體例，例如可例舉：苯基、萘基、吡啶基、呋喃基，其等中，就顯影性之觀點而言，較佳為苯基或萘基，更佳為苯基。  作為芳香族環基可具有之取代基，例如可例舉：羥基、羧基、鹵素原子、胺基、醯胺基、烷基、烷氧基、該等取代基連結而成之基，就顯影性之觀點而言，較佳為烷基、烷氧基、其等連結而成之基，更佳為連結之烷氧基。  其等中，就溶解性之觀點而言，R 101較佳為可具有取代基之烷基。
作為R 102，較佳者可例舉：可經取代之苯基、可經取代之咔唑基、可經取代之9-氧硫𠮿基、可經取代之二苯基硫基、可經取代之茀基、或可經取代之吲哚基。其等中，就感度之觀點而言，較佳為可經取代之咔唑基或可經取代之二苯基硫基。
R 103中之烷醯基之碳數並無特別限定，就於溶劑中之溶解性或感度之觀點而言，較佳為2以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下，進而更佳為5以下。作為烷醯基之具體例，例如可例舉：乙醯基、羥乙基、丙醯基、丁醯基。  作為烷醯基可具有之取代基，例如可例舉：芳香族環基、羥基、羧基、鹵素原子、胺基、醯胺基。作為烷醯基，就合成容易性之觀點而言，較佳為未經取代。
R 103中之芳醯基之碳數並無特別限定，就於溶劑中之溶解性或感度之觀點而言，較佳為7以上，又，較佳為20以下，更佳為15以下，進而較佳為10以下。作為芳醯基之具體例，例如可例舉苯甲醯基、萘甲醯基。  作為芳醯基可具有之取代基，例如可例舉：羥基、羧基、鹵素原子、胺基、醯胺基、烷基。作為芳醯基，就合成容易性之觀點而言，較佳為未經取代。  其等中，就感度之觀點而言，R 103較佳為可具有取代基之烷醯基，更佳為未經取代之烷醯基，進而較佳為乙醯基。
本發明之聚合性組合物中，作為(D)光聚合起始劑，除上述之光聚合起始劑以外，還可使用例如日本專利4454067號公報、國際公開2002年/100903號公報、國際公開2012年/45736號公報、國際公開2015年/36910號公報、國際公開2006年/18973號公報、國際公開2008/78678號公報、日本專利4818458號公報、國際公開2005年/80338號/公報、國際公開2008年/75564號公報、國際公開2009/131189號/公報、國際公報2009年/131189號公報、國際公報2010年/133077號公報、國際公報2010年/102502號公報、國際公報年2012/68879號公報中記載之光聚合起始劑等。
光聚合起始劑可單獨使用1種，亦可組合使用2種以上。於光聚合起始劑中，可視需要調配與圖像曝光光源之波長匹配之增感色素、聚合促進劑，以提昇感度。作為增感色素，例如可例舉：日本專利特開平4-221958號公報、日本專利特開平4-219756號公報中記載之𠮿色素、日本專利特開平3-239703號公報、日本專利特開平5-289335號公報中記載之具有雜環之香豆素色素、日本專利特開平3-239703號公報、日本專利特開平5-289335號公報中記載之3-酮香豆素化合物、日本專利特開平6-19240號公報中記載之吡咯甲川色素、日本專利特開昭47-2528號公報、日本專利特開昭54-155292號公報、日本專利特公昭45-37377號公報、日本專利特開昭48-84183號公報、日本專利特開昭52-112681號公報、日本專利特開昭58-15503號公報、日本專利特開昭60-88005號公報、日本專利特開昭59-56403號公報、日本專利特開平2-69號公報、日本專利特開昭57-168088號公報、日本專利特開平5-107761號公報、日本專利特開平5-210240號公報、日本專利特開平4-288818號公報中記載之具有二烷基胺基苯骨架之色素。
該等增感色素中，較佳為含胺基之增感色素，更佳為於同一分子內具有胺基及苯基之化合物。例如進而較佳為4,4'-二甲基胺基苯并苯酮、4,4'-二乙基胺基苯并苯酮、2-胺基苯并苯酮、4-胺基苯并苯酮、4,4'-二胺基苯并苯酮、3,3'-二胺基苯并苯酮、3,4-二胺基苯并苯酮等苯并苯酮系化合物；2-(對二甲基胺基苯基)苯并㗁唑、2-(對二乙基胺基苯基)苯并㗁唑、2-(對二甲基胺基苯基)苯并[4,5]苯并㗁唑、2-(對二甲基胺基苯基)苯并[6,7]苯并㗁唑、2,5-雙(對二乙基胺基苯基)-1,3,4-㗁唑、2-(對二甲基胺基苯基)苯并噻唑、2-(對二乙基胺基苯基)苯并噻唑、2-(對二甲基胺基苯基)苯并咪唑、2-(對二乙基胺基苯基)苯并咪唑、2,5-雙(對二乙基胺基苯基)-1,3,4-噻二唑、(對二甲基胺基苯基)吡啶、(對二乙基胺基苯基)吡啶、(對二甲基胺基苯基)喹啉、(對二乙基胺基苯基)喹啉、(對二甲基胺基苯基)嘧啶、(對二乙基胺基苯基)嘧啶等含對二烷基胺基苯基之化合物。其等中，尤佳為4,4'-二烷基胺基苯并苯酮。  增感色素可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
作為聚合促進劑，例如可使用4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸2-乙基己酯、4-二甲基胺基苯乙酮、4-二甲基胺基苯丙酮等芳香族胺、正丁基胺、N-甲基二乙醇胺、苯甲酸2-二甲基胺基乙酯等脂肪族胺。聚合促進劑可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
於本發明之聚合性組合物含有(D)光聚合起始劑之情形時，(D)光聚合起始劑之含有比例並無特別限定，於聚合性組合物之總固形物成分中，較佳為0.01質量%以上，更佳為0.1質量%以上，進而較佳為1質量%以上，進而更佳為2質量%以上，尤佳為3質量%以上，又，較佳為25質量%以下，更佳為20質量%以下，進而較佳為15質量%以下，進而更佳為10質量%以下，尤佳為7質量%以下，最佳為5質量%以下。例如較佳為0.01～25質量%，更佳為0.01～20質量%，進而較佳為0.1～15質量%，進而更佳為1～10質量%，特佳為2～7質量%，尤佳為3～5質量%。藉由設為上述下限值以上，存在硬化性提昇之傾向。藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
作為聚合性組合物中(D)光聚合起始劑相對於(B)聚合性化合物之調配比，相對於(B)聚合性化合物100質量份，較佳為1質量份以上，更佳為5質量份以上，進而較佳為10質量份以上，進而更佳為15質量份以上，尤佳為20質量份以上，又，較佳為200質量份以下，更佳為100質量份以下，進而較佳為50質量份以下，尤佳為30質量份以下。例如較佳為1～200質量份，更佳為5～200質量份，進而較佳為10～100質量份，進而更佳為15～50質量份，尤佳為20～30質量份。藉由設為上述下限值以上，存在硬化性提昇之傾向。藉由設為上述上限值以下，存在殘渣減少之傾向。
[3-1-5](E)著色劑  本發明之聚合性組合物亦可含有(E)著色劑，以使組合物著色。  作為(E)著色劑，可使用顏料、染料等公知之著色劑。  本發明中所使用之(E)著色劑之種類並無特別限定，可使用顏料，亦可使用染料。其等中，就耐久性之觀點而言，較佳為使用顏料。
(E)著色劑中所包含之顏料可為1種，亦可為2種以上。尤其是就於可見光區域均勻遮光之觀點而言，較佳為2種以上。  可用作(E)著色劑之顏料之種類並無特別限定，例如可例舉有機顏料或無機顏料。其等中，就控制聚合性組合物之透過波長而有效率地進行硬化之觀點而言，較佳為使用有機顏料。  作為有機顏料，可例舉：有機著色顏料或有機黑色顏料。此處，有機著色顏料意指呈黑色以外之顏色之有機顏料，可例舉：紅色顏料、橙色顏料、藍色顏料、紫色顏料、綠色顏料、黃色顏料等。
有機顏料之中，就紫外線吸收性之觀點而言，較佳為使用有機著色顏料。  有機著色顏料可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。尤其是於用於遮光性之用途之情形時，更佳為將顏色不同之有機著色顏料組合使用，進而較佳為將呈接近黑色之顏色之有機著色顏料組合使用。
該等有機顏料之化學結構並無特別限定，例如可例舉：偶氮系、酞菁系、喹吖啶酮系、苯并咪唑酮系、異吲哚啉酮系、二㗁𠯤系、陰丹士林系、苝系。以下，將可使用之顏料之具體例用顏料編號來表示。以下例舉之「C.I.顏料紅2」等用語意指色指數(C.I.)。
作為紅色顏料，可例舉：C.I.顏料紅1、2、3、4、5、6、7、8、9、12、14、15、16、17、21、22、23、31、32、37、38、41、47、48、48：1、48：2、48：3、48：4、49、49：1、49：2、50：1、52：1、52：2、53、53：1、53：2、53：3、57、57：1、57：2、58：4、60、63、63：1、63：2、64、64：1、68、69、81、81：1、81：2、81：3、81：4、83、88、90：1、101、101：1、104、108、108：1、109、112、113、114、122、123、144、146、147、149、151、166、168、169、170、172、173、174、175、176、177、178、179、181、184、185、187、188、190、193、194、200、202、206、207、208、209、210、214、216、220、221、224、230、231、232、233、235、236、237、238、239、242、243、245、247、249、250、251、253、254、255、256、257、258、259、260、262、263、264、265、266、267、268、269、270、271、272、273、274、275、276。  其中，就遮光性、分散性之觀點而言，較佳者可例舉C.I.顏料紅48：1、122、149、168、177、179、194、202、206、207、209、224、242、254，進而較佳者可例舉C.I.顏料紅177、209、224、254。  再者，就分散性或遮光性之方面而言，較佳為使用C.I.顏料紅177、254、272，於利用紫外線使聚合性組合物硬化之情形時，作為紅色顏料，較佳為使用紫外線吸收率較低者，就該觀點而言，更佳為使用C.I.顏料紅254、272。
作為橙色(orange)顏料，可例舉：C.I.顏料橙1、2、5、13、16、17、19、20、21、22、23、24、34、36、38、39、43、46、48、49、61、62、64、65、67、68、69、70、71、72、73、74、75、77、78、79。  其中，就分散性或遮光性之觀點而言，較佳為使用C.I.顏料橙13、43、64、72，於利用紫外線使聚合性組合物硬化之情形時，作為橙色顏料，較佳為使用紫外線吸收率較低者，就該觀點而言，更佳為使用C.I.顏料橙64、72。
作為藍色顏料，可例舉：C.I.顏料藍1、1：2、9、14、15、15：1、15：2、15：3、15：4、15：6、16、17、19、25、27、28、29、33、35、36、56、56：1、60、61、61：1、62、63、66、67、68、71、72、73、74、75、76、78、79。  其中，就遮光性之觀點而言，較佳者可例舉C.I.顏料藍15、15：1、15：2、15：3、15：4、15：6、60，進而較佳者可例舉C.I.顏料藍15：6。  再者，就分散性或遮光性之方面而言，較佳為使用C.I.顏料藍15：6、16、60，於利用紫外線使聚合性組合物硬化之情形時，作為藍色顏料，較佳為使用紫外線吸收率較低者，就該觀點而言，更佳為使用C.I.顏料藍60。
作為紫色顏料，可例舉：C.I.顏料紫1、1：1、2、2：2、3、3：1、3：3、5、5：1、14、15、16、19、23、25、27、29、31、32、37、39、42、44、47、49、50。  其中，就遮光性之觀點而言，較佳者可例舉C.I.顏料紫19、23，進而較佳者可例舉C.I.顏料紫23。  再者，就分散性或遮光性之方面而言，較佳為使用C.I.顏料紫23、29，於利用紫外線使聚合性組合物硬化之情形時，作為紫色顏料，較佳為使用紫外線吸收率較低者，就該觀點而言，更佳為使用C.I.顏料紫29。
作為除紅色顏料、橙色顏料、藍色顏料、紫色顏料以外可使用之有機著色顏料，例如可例舉：綠色顏料、黃色顏料等。  作為綠色顏料，可例舉：C.I.顏料綠1、2、4、7、8、10、13、14、15、17、18、19、26、36、45、48、50、51、54、55。  其中，較佳者可例舉C.I.顏料綠7、36。  作為黃色顏料，可例舉：C.I.顏料黃1、1：1、2、3、4、5、6、9、10、12、13、14、16、17、24、31、32、34、35、35：1、36、36：1、37、37：1、40、41、42、43、48、53、55、61、62、62：1、63、65、73、74、75、81、83、87、93、94、95、97、100、101、104、105、108、109、110、111、116、117、119、120、126、127、127：1、128、129、133、134、136、138、139、142、147、148、150、151、153、154、155、157、158、159、160、161、162、163、164、165、166、167、168、169、170、172、173、174、175、176、180、181、182、183、184、185、188、189、190、191、191：1、192、193、194、195、196、197、198、199、200、202、203、204、205、206、207、208。  其中，較佳者可例舉C.I.顏料黃83、117、129、138、139、150、154、155、180、185，進而較佳者可例舉C.I.顏料黃83、138、139、150、180。
其等中，就遮光性或光硬化性之觀點而言，較佳為使用選自由紅色顏料、橙色顏料、藍色顏料及紫色顏料所組成之群中之至少1種。
其等之中，就硬化性或光硬化性之觀點而言，較佳為含有以下顏料中之至少1種以上者。  紅色顏料：C.I.顏料紅177、254、272  橙色顏料：C.I.顏料橙43、64、72  藍色顏料：C.I.顏料藍15：6、60  紫色顏料：C.I.顏料紫23、29
又，就遮光性之觀點而言，作為(E)著色劑，較佳為使用有機黑色顏料。  作為有機黑色顏料，可例舉：苯胺黑、苝黑或以下通式(2)所表示之有機黑色顏料。其中，就遮光性、分散性之觀點而言，更佳為式(2)所表示之有機黑色顏料。
[化47]
又，亦可使用無機顏料。作為無機黑色顏料，可例舉：碳黑、乙炔黑、燈黑、骨黑、石墨、鐵黑、花青黑、鈦黑等。其等中，就遮光性、分散性之觀點而言，可較佳地使用碳黑。
使用顏料時，亦可併用公知之分散劑或分散助劑，以使該顏料不會凝集而可穩定地存在於聚合性組合物中。
於本發明之聚合性組合物含有(E)著色劑之情形時，作為著色劑之含量，並無特別限定，於聚合性組合物之總固形物成分中，較佳為1質量%以上，更佳為10質量%以上，又，較佳為60質量%以下，更佳為40質量%以下。  藉由設為下限值以上，存在色特性、遮光性變得良好之傾向，藉由設為上限值以下，存在硬化性變得良好之傾向。
[3-1-6](F)鏈轉移劑  本發明之聚合性組合物亦可含有(F)鏈轉移劑。藉由含有(F)鏈轉移劑，存在因表面附近之氧抑制等引起之自由基失活得以改善而能提高表面硬化性，傾斜角變高之傾向。  作為(F)鏈轉移劑，例如可例舉含巰基化合物、或四氯化碳，就有鏈轉移效果較高之傾向之方面而言，更佳為含巰基化合物。含巰基化合物由於S-H鍵結能較小，由此容易引起斷鍵，並且容易引起鏈轉移反應，故而存在能夠提高表面硬化性之傾向。
鏈轉移劑之中，就傾斜角、表面硬化性之觀點而言，較佳為具有芳香族環之含巰基化合物及脂肪族系之含巰基化合物。  作為脂肪族系之含巰基化合物，例如可例舉：丁二醇雙(3-巰基丙酸酯)、丁二醇雙巰基乙酸酯、乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)、乙二醇雙巰基乙酸酯、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三巰基乙酸酯、三硫代丙酸三羥基乙酯、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇三(3-巰基丙酸酯)、丁二醇雙(3-巰基丁酸酯)、乙二醇雙(3-巰基丁酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丁酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、季戊四醇三(3-巰基丁酸酯)、1,3,5-三(3-巰基丁基氧基乙基)-1,3,5-三𠯤-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮。
其等之中，較佳為三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇三(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丁酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、季戊四醇三(3-巰基丁酸酯)、1,3,5-三(3-巰基丁基氧基乙基)-1,3,5-三𠯤-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮，更佳為季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)。
其等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
[3-1-7]塗佈性改善劑、顯影改良劑  本發明之聚合性組合物亦可含有塗佈性改善劑或顯影改良劑，以提昇塗佈性或顯影溶解性。  作為塗佈性改善劑或顯影改良劑，例如可使用公知之界面活性劑。  界面活性劑可以提昇聚合性組合物之作為塗佈液之塗佈性、及塗佈膜之顯影性等為目的而使用，其中較佳為氟系界面活性劑或矽酮系界面活性劑。  尤其是就顯影時具有自未曝光部去除聚合性組合物之殘渣之作用並且具有表現潤濕性之功能之方面而言，較佳為矽酮系界面活性劑，進而較佳為聚醚改性矽酮系界面活性劑。
作為氟系界面活性劑，較佳為於末端、主鏈及側鏈之至少任一部位具有氟烷基或氟伸烷基之化合物。具體而言可例舉：1,1,2,2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟丙基)醚、1,1,2,2-四氟辛基己基醚、八乙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六乙二醇二(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六丙二醇二(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、全氟十二烷基磺酸鈉、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-十氟十二烷、1,1,2,2,3,3-六氟癸烷等。作為其等之市售品，例如可例舉：BM Chemie公司製造之「BM-1000」、「BM-1100」、DIC公司製造之「MEGAFACF 470」、「MEGAFACF 475」、「MEGAFACF 554」、「MEGAFACF 559」、3M Japan公司製造之「FC430」、NEOS公司製造之「DFX-18」。
作為矽酮系界面活性劑，例如可例舉：Dow Corning Toray公司製造之「DC3PA」、「SH7PA」、「DC11PA」、「SH21PA」、「SH28PA」、「SH29PA」、「8032Additive」、「SH8400」、BYK-Chemie公司製造之「BYK(註冊商標，以下相同)323」、「BYK330」。 亦可包含除氟系界面活性劑及矽酮系界面活性劑以外之其他界面活性劑作為界面活性劑，作為其他界面活性劑，例如可例舉非離子性、陰離子性、陽離子性、兩性界面活性劑。
作為非離子性界面活性劑，例如可例舉：聚氧乙烯烷基醚類、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚類、聚氧乙烯烷基苯基醚類、聚氧乙烯烷基酯類、聚氧乙烯脂肪酸酯類、甘油脂肪酸酯類、聚氧乙烯甘油脂肪酸酯類、季戊四醇脂肪酸酯類、聚氧乙烯季戊四醇脂肪酸酯類、山梨糖醇酐脂肪酸酯類、聚氧乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯類、山梨糖醇脂肪酸酯類、聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸酯類。作為其等之市售品，例如可例舉：花王公司製造之「EMULGEN(註冊商標；以下相同)104P」、「EMULGEN A60」等聚氧乙烯系界面活性劑等。
作為陰離子性界面活性劑，例如可例舉：烷基磺酸鹽類、烷基苯磺酸鹽類、烷基萘磺酸鹽類、聚氧乙烯烷基醚磺酸鹽類、烷基硫酸鹽類、烷基硫酸酯鹽類、高級醇硫酸酯鹽類、脂肪族醇硫酸酯鹽類、聚氧乙烯烷基醚硫酸鹽類、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鹽類、烷基磷酸酯鹽類、聚氧乙烯烷基醚磷酸鹽類、聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸鹽類、特殊高分子系界面活性劑。其中，較佳為特殊高分子系界面活性劑，進而較佳為特殊多羧酸型高分子系界面活性劑。作為陰離子性界面活性劑，例如烷基硫酸酯鹽類可例舉花王公司製造之「EMAL(註冊商標)10」等，烷基萘磺酸鹽類可例舉花王公司製造之「Pelex(註冊商標)NB-L」等，特殊高分子系界面活性劑可例舉花王公司製造之「HOMOGENOL(註冊商標，以下相同)L-18」、「HOMOGENOL L-100」等。
作為陽離子性界面活性劑，例如可例舉：四級銨鹽類、咪唑啉衍生物類、烷基胺鹽類。作為兩性界面活性劑，例如可例舉：甜菜鹼型化合物類、咪唑鎓鹽類、咪唑啉類、胺基酸類。其等中，較佳為四級銨鹽類，進而較佳為硬脂基三甲基銨鹽類。作為陽離子性界面活性劑或兩性界面活性劑，例如，作為烷基胺鹽類，可例舉花王公司製造之「Acetamin(註冊商標)24」，作為四級銨鹽類，可例舉花王公司製造之「Quartamin(註冊商標，以下相同)24P」、「Quartamin 86W」。 界面活性劑可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。例如可例舉：矽酮系界面活性劑/氟系界面活性劑之組合、矽酮系界面活性劑/特殊高分子系界面活性劑之組合、氟系界面活性劑/特殊高分子系界面活性劑之組合。其中，較佳為矽酮系界面活性劑/氟系界面活性劑之組合。關於該矽酮系界面活性劑/氟系界面活性劑之組合，例如可例舉：BYK-Chemie公司製造之「BYK-300」或「BYK-330」/NEOS公司製造之「DFX-18」、BYK-Chemie公司製造之「BYK-300」、「BYK-330」/AGC SEIMI CHEMICAL公司製造之「S-393」、BYK-Chemie公司製造之「BYK-300」或「BYK-330」/DIC公司製造之「F-554」或「F-559」、Shin-Etsu Silicones公司製造之「KP340」/DIC公司製造之「F-478」或「F-475」、Dow Corning Toray公司製造之「SH7PA」/Daikin公司製造之「DS-401」、NUC公司製造之「L-77」/3M Japan公司製造之「FC4430」。  作為顯影改良劑，例如亦可使用包含有機羧酸或其酐之公知之顯影改良劑。  於本發明之聚合性組合物包含塗佈性改善劑或顯影改良劑之情形時，關於塗佈性改善劑或顯影改良劑之含量，就感度之觀點而言，於聚合性組合物之總固形物成分中，較佳為分別為20質量%以下，更佳為分別為10質量%以下。
[3-1-8]紫外線吸收劑  本發明之聚合性組合物亦可含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑係為了如下目的而添加者：藉由紫外線吸收劑來吸收曝光所使用之光源之特定波長，藉此控制光硬化分佈。藉由包含紫外線吸收劑，存在可獲得改善顯影後之傾斜角形狀、或減少顯影後殘留於非曝光部之殘渣等效果之傾向。作為紫外線吸收劑，就抑制藉由光聚合起始劑之光吸收之觀點而言，例如可使用於波長250 nm至400 nm之間具有吸收極大之化合物。  作為紫外線吸收劑，例如可例舉：苯并三唑系化合物、三𠯤系化合物、二苯甲酮化合物、苯甲酸酯化合物、肉桂酸衍生物、萘衍生物、蒽及其衍生物、二萘化合物、啡啉化合物、染料。  該等紫外線吸收劑可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
[3-1-9]聚合抑制劑  本發明之聚合性組合物亦可含有聚合抑制劑。由於藉由含有聚合抑制劑可抑制自由基聚合，因此認為能夠增大所獲得之阻隔壁之傾斜角。  作為聚合抑制劑，例如可例舉：對苯二酚、對苯二酚單甲醚、甲基對苯二酚、甲氧基苯酚、2,6-二-第三丁基-4-甲酚(BHT)。其等中，就聚合抑制能力之觀點而言，較佳為甲基對苯二酚、甲氧基苯酚，更佳為甲基對苯二酚。
聚合抑制劑可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。通常於製造(B)鹼可溶性樹脂時，有時於樹脂中包含聚合抑制劑，可將其作為本發明之聚合性組合物所包含之聚合抑制劑來使用，亦可於製造聚合性組合物時除樹脂中所包含之聚合抑制劑以外，還添加與其相同、或不同之聚合抑制劑。
[3-1-10]矽烷偶合劑  本發明之聚合性組合物亦可含有矽烷偶合劑，以改善與基板之密接性。作為矽烷偶合劑，例如可使用環氧系、甲基丙烯酸系、胺基系、咪唑系之矽烷偶合劑。就提昇密接性之觀點而言，尤佳為環氧系、咪唑系之矽烷偶合劑。  於本發明之聚合性組合物包含矽烷偶合劑之情形時，矽烷偶合劑之含量就密接性之觀點而言，於聚合性組合物之總固形物成分中，較佳為20質量%以下，更佳為15質量%以下。
[3-1-11]磷酸系密接改善劑  本發明之聚合性組合物亦可含有磷酸系密接改善劑，以改善與基板之密接性。作為磷酸系密接改善劑，較佳為含有(甲基)丙烯醯氧基之磷酸酯類，其中較佳為下述通式(3a)、(3b)、(3c)所表示者。
[化48]
於上述通式(3a)、(3b)、(3c)中，R q表示氫原子或甲基，r及r'為1～10之整數，s為1、2或3。
於本發明之聚合性組合物含有磷酸系密接改善劑之情形時，其含量並無特別限定，於聚合性組合物之總固形物成分中，較佳為0.1質量%以上，更佳為0.2質量%以上，進而較佳為0.3質量%以上，又，較佳為5質量%以下，更佳為3質量%以下，進而較佳為1質量%以下。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為0.1～5質量%，更佳為0.2～3質量%，進而較佳為0.3～1質量%。藉由設為上述下限值以上，存在與基板之密接性提昇之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在表面硬化性提昇之傾向。
[3-1-12]溶劑  本發明之聚合性組合物通常含有溶劑，且以使上述各成分溶解或分散於溶劑中之狀態進行使用。作為溶劑，並無特別限制，例如可例舉以下記載之有機溶劑。
乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單正丁醚、丙二醇第三丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單正丁醚、甲氧基甲基戊醇、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、3-甲氧基-1-丁醇、三乙二醇單甲醚、三乙二醇單乙醚、三丙二醇甲醚等二醇單烷基醚類；乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二丁醚、二丙二醇二甲醚等二醇二烷基醚類；乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單正丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯、乙酸甲氧基丁酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸甲氧基戊酯、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單正丁醚乙酸酯、二丙二醇單甲醚乙酸酯、三乙二醇單甲醚乙酸酯、三乙二醇單乙醚乙酸酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲氧基-1-丁酯等二醇烷基醚乙酸酯類；乙二醇二乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯、1,6-己醇二乙酸酯等二醇二乙酸酯類；乙酸環己酯等乙酸烷基酯類；戊醚、二乙醚、二丙醚、二異丙醚、二丁醚、二戊醚、乙基異丁基醚、二己醚等醚類；丙酮、甲基乙基酮、甲基戊基酮、甲基異丙基酮、甲基異戊基酮、二異丙基酮、二異丁基酮、甲基異丁基酮、環己酮、乙基戊基酮、甲基丁基酮、甲基己基酮、甲基壬基酮、甲氧基甲基戊酮等酮類；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇、丙二醇、丁二醇、二乙二醇、二丙二醇、三乙二醇、甲氧基甲基戊醇、甘油、苄醇等一元或多元醇類；正戊烷、正辛烷、二異丁烯、正己烷、己烯、異戊二烯、二戊烯、十二烷等脂肪族烴類；環己烷、甲基環己烷、甲基環己烯、聯環己烷等脂環式烴類；苯、甲苯、二甲苯、異丙苯等芳香族烴類；甲酸戊酯、甲酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸戊酯、異丁酸甲酯、乙二醇乙酸酯、丙酸乙酯、丙酸丙酯、丁酸丁酯、丁酸異丁酯、異丁酸甲酯、辛酸乙酯、硬脂酸丁酯、苯甲酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、γ-丁內酯等鏈狀或環狀酯類；3-甲氧基丙酸、3-乙氧基丙酸等烷氧基羧酸類；氯丁烷、氯戊烷等鹵代烴類；甲氧基甲基戊酮等醚酮類；乙腈、苯甲腈等腈類；四氫呋喃、二甲基四氫呋喃、二甲氧基四氫呋喃等四氫呋喃類等。
作為相當於上述溶劑之市售溶劑，例如可例舉：礦油精、Varsol#2、Apco#18溶劑、Apco稀釋劑、Socal溶劑No.1及No.2、Solvesso#150、Shell TS28溶劑、卡必醇、乙基卡必醇、丁基卡必醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、乙基溶纖劑乙酸酯、甲基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇二甲醚(均為商品名)。
溶劑能夠使聚合性組合物中之各成分溶解或分散，可根據本發明之聚合性組合物之使用方法進行選擇，就塗佈性之觀點而言，較佳為大氣壓下(1013.25 hPa)之沸點為60～280℃者，更佳為70～260℃者。例如較佳為丙二醇單甲醚、3-甲氧基-1-丁醇、丙二醇單甲醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基-1-丁酯。
溶劑可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。  關於溶劑，較佳為以聚合性組合物中之總固形物成分成為較佳為10質量%以上、更佳為15質量%以上、進而較佳為18質量%以上，並且成為較佳為90質量%以下、更佳為50質量%以下、進而較佳為40質量%以下、尤佳為30質量%以下之方式進行使用。上述上限及下限可任意地組合，例如較佳為10～90質量%，更佳為10～50質量%，進而較佳為15～40質量%，尤佳為18～30質量%。藉由設為上述下限值以上，存在即便針對較高之膜厚亦可獲得塗膜之傾向。又，藉由設為上述上限值以下，存在可獲得適度之塗佈均勻性之傾向。
[3-2]聚合性組合物之製備方法  本發明之聚合性組合物係藉由將上述各成分利用攪拌機加以混合來製備。再者，亦可使用膜濾器等進行過濾，以使所製備之聚合性組合物變得均勻。
[4]硬化物之形成方法  藉由使本發明之聚合性組合物硬化，可獲得硬化物。  繼而，針對使用本發明之聚合性組合物之硬化物之形成方法進行說明。於本發明中，較佳為至少進行下述步驟(1)～步驟(4)而形成硬化物之方法。  步驟(1)：於基板上形成聚合性組合物之塗膜之步驟。  步驟(2)：對步驟(1)中所形成之塗膜之至少一部分進行曝光之步驟。  步驟(3)：使步驟(2)中經曝光之塗膜顯影之步驟。  步驟(4)：對步驟(3)中經顯影之塗膜進行焙燒之步驟。
＜步驟(1)：於基板上形成聚合性組合物之塗膜之步驟＞  [4-1]基板  作為用以形成硬化物之基板，其材質並無特別限定，只要強度適度即可。主要使用透明基板，作為材質，例如可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚丙烯、聚乙烯等聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碸等熱可塑性樹脂製片材；環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚(甲基)丙烯酸系樹脂等熱硬化性樹脂片材；各種玻璃。其中，就耐熱性之觀點而言，較佳為玻璃、耐熱性樹脂。又，亦有時將ITO、IZO等透明電極於基板之表面成膜。除透明基板以外，亦能夠形成於TFT陣列上或觸控面板上。例如於日本專利特開2021-110936號公報中記載之面板結構等中適宜使用。
對於基板，亦可視需要，例如進行電暈放電處理、臭氧處理、矽烷偶合劑或胺基甲酸酯系樹脂等各種樹脂之薄膜形成處理，以實現接著性等表面物性之改良。  基板之厚度通常為0.05～10 mm之範圍，較佳為0.1～7 mm之範圍。  又，於進行各種樹脂之薄膜形成處理之情形時，其膜厚通常為0.01～10 μm之範圍，較佳為0.05～5 μm之範圍。
[4-2]向基板供給聚合性組合物之方法  本發明之聚合性組合物通常以溶解或分散於溶劑中之狀態供給至基板上。作為本發明之聚合性組合物之供給方法，可藉由先前公知之方法，例如旋轉塗佈法、線棒塗佈法、流塗法、模嘴塗佈法、輥塗法、噴塗法來進行。又，例如亦可藉由噴墨法或印刷法而供給成圖案狀。其中，根據模嘴塗佈法，使得組合物之使用量得到大幅削減，且完全沒有採用旋轉塗佈法時會附著之薄霧等之影響，且抑制異物產生等，綜合來看較佳。
塗佈量根據用途會有所不同，以乾燥後之膜厚達到通常0.5 μm～10 μm、較佳為1 μm～9 μm、尤佳為1 μm～7 μm之方式進行塗佈。重要的是乾燥膜厚或最終形成之硬化物之膜厚在整個基板上均勻。只要不均較小，則可抑制硬化物所產生之不均缺陷。
於使用本發明之聚合性組合物，一次性形成下述膜厚不同之硬化物之情形時，最終所形成之硬化物之膜厚會變得不同。
[4-3]乾燥方法  於基板上供給了聚合性組合物後，較佳為進行乾燥而形成塗膜。乾燥較佳為利用使用加熱板、IR烘箱、對流烘箱之乾燥方法來進行。亦可組合不提高溫度而於減壓腔室內進行乾燥之減壓乾燥法。
乾燥之條件可根據溶劑成分之種類、要使用之乾燥機之性能等來適當選擇。乾燥時間根據溶劑成分之種類、要使用之乾燥機之性能等，通常於40℃～100℃之溫度下在15秒～5分鐘之範圍內選擇，較佳為於50℃～80℃之溫度下在30秒～3分鐘之範圍內選擇。  再者，較佳為於不超過下述焙燒溫度之範圍內進行。
＜步驟(2)：對步驟(1)中所形成之塗膜之至少一部分進行曝光之步驟＞  [4-4]曝光方法  曝光係於聚合性組合物之塗膜上重疊負型遮罩圖案，隔著該遮罩圖案照射紫外線或可見光線之光源來進行。於使用曝光遮罩進行曝光之情形時，亦可藉由如下方法來進行：使曝光遮罩接近聚合性組合物之塗膜之方法；或將曝光遮罩配置在遠離聚合性組合物之塗膜之位置處，隔著曝光遮罩投影曝光之光之方法。亦可不使用遮罩圖案，而利用雷射光以掃描曝光方式來進行。亦可視需要，於脫氧環境下進行或於聚合性組合物之塗膜上形成聚乙烯醇層等隔氧層後進行曝光來進行，以防止由氧導致之塗膜之感度降低。
於同時形成膜厚不同之硬化物之情形時，例如使用曝光遮罩，其具有遮光部(透光率0%)；及作為複數個開口部之平均透光率最高之開口部(完全透過開口部)及相對於平均透光率最高之開口部，平均透光率較小之開口部(中間透過開口部)。藉由該方法，而利用中間透過開口部與完全透過開口部之平均透光率之差、即曝光量之差而使殘膜率產生差異。  關於中間透過開口部，例如已知有藉由具有微小多角形之遮光單元之矩陣狀遮光圖案來製作之方法。又，作為吸收體，例如已知有藉由鉻系、鉬系、鎢系、矽系材料之膜來控制透光率並製作之方法。
上述曝光所使用之光源並無特別限定。作為光源，例如可例舉：氙氣燈、鹵素燈、鎢絲燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵素燈、中壓水銀燈、低壓水銀燈、碳電弧、螢光燈等燈光源、或氬離子雷射、YAG雷射、準分子雷射、氮氣雷射、氦-鎘雷射、藍紫光半導體雷射、近紅外半導體雷射等雷射光源。於照射特定波長之光來使用之情形時，可利用光學濾光器。
作為光學濾光器，例如可為呈薄膜且能夠控制曝光波長下之透光率之類型，作為此情形時之材質，例如可例舉：Cr化合物(Cr之氧化物、氮化物、氮氧化物、氟化物等)、MoSi、Si、W、Al。
作為曝光量，通常為1 mJ/cm 2以上，較佳為5 mJ/cm 2以上，更佳為10 mJ/cm 2以上，又，較佳為300 mJ/cm 2以下，更佳為200 mJ/cm 2以下，進而較佳為150 mJ/cm 2以下。  於近接曝光方式之情形時，作為曝光對象與遮罩圖案之距離，較佳為10 μm以上，更佳為50 μm以上，進而較佳為75 μm以上，又，較佳為500 μm以下，更佳為400 μm以下，進而較佳為300 μm以下。
＜步驟(3)：使步驟(2)中經曝光之塗膜顯影之步驟＞  [4-5]顯影方法  進行上述曝光後，藉由使用鹼性化合物之水溶液、或有機溶劑之顯影，而可於基板上形成圖像圖案。鹼性化合物之水溶液亦可進而包含例如界面活性劑、有機溶劑、緩衝劑、錯合劑、染料或顏料。
作為鹼性化合物，可例舉：氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、矽酸鈉、矽酸鉀、偏矽酸鈉、磷酸鈉、磷酸鉀、磷酸氫鈉、磷酸氫鉀、磷酸二氫鈉、磷酸二氫鉀、氫氧化銨等無機鹼性化合物、單乙醇胺、二乙醇胺或三乙醇胺、單甲胺、二甲胺或三甲胺、單乙胺、二乙胺或三乙胺、單異丙胺或二異丙胺、正丁基胺、單異丙醇胺、二異丙醇胺或三異丙醇胺、伸乙基亞胺、伸乙基二亞胺、氫氧化四甲基銨(TMAH)、膽鹼等有機鹼性化合物。該等鹼性化合物亦可為2種以上之混合物。
作為界面活性劑，例如可例舉：聚氧乙烯烷基醚類、聚氧乙烯烷基芳基醚類、聚氧乙烯烷基酯類、山梨醇酐烷基酯類、單甘油酯烷基酯類等非離子系界面活性劑；烷基苯磺酸鹽類、烷基萘磺酸鹽類、烷基硫酸鹽類、烷基磺酸鹽類、磺基琥珀酸酯鹽類等陰離子性界面活性劑；烷基甜菜鹼類、胺基酸類等兩性界面活性劑。
作為有機溶劑，例如可例舉：異丙醇、苄醇、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、苯基溶纖劑、丙二醇、二丙酮醇。該等有機溶劑亦可併用2種以上。又，有機溶劑可單獨使用，亦可與水或鹼性化合物之水溶液併用。
顯影處理之條件並無特別限制，通常顯影溫度為10～50℃，較佳為15～45℃，更佳為20～40℃。顯影方法例如可利用浸漬顯影法、噴射顯影法、毛刷顯影法、超音波顯影法來進行。  對於顯影處理後之基板，亦可視需要，藉由與上述曝光方法相同之方法進行追加曝光。
＜步驟(4)：對步驟(3)中經顯影之塗膜進行焙燒之步驟＞  [4-6]焙燒方法  所獲得之塗膜較佳為進行焙燒。  焙燒之方法並無特別限定，適宜使用加熱板、IR烘箱、對流烘箱等。焙燒溫度較佳為50℃以上，更佳為70℃以上。又，較佳為150℃以下，更佳為100℃以下，進而較佳為90℃以下，進而更佳為80℃以下。焙燒時間較佳為5分鐘～60分鐘。
[5]黑矩陣  於使用本發明之硬化物作為黑矩陣之情形時，黑矩陣之寬度或形狀等係根據應用其之彩色濾光器之規格來適當調整。黑矩陣可於陣列上製作，或者可於對向基板上製作。
[6]阻隔壁、包含發光性奈米結晶粒子之光轉換層、彩色濾光器  本發明之硬化物可用作阻隔壁，又，可用於包含發光性奈米結晶粒子之光轉換層或彩色濾光器。  例如可用於具有藉由上述方法所製造之經圖案化之硬化物作為阻隔壁並在被阻隔壁劃分之區域形成有像素的彩色濾光器。作為像素層，可例舉：包含著色顏料之層；或包含發光性奈米結晶粒子之層。於使用發光性奈米結晶粒子之情形時，可藉由變更構成材料及尺寸而選擇發光色。作為發光性奈米結晶粒子，可例舉量子點等。  例如可例舉：日本專利特開2019-086745號公報中記載之發光性奈米結晶粒子、或使用其之光轉換層、彩色濾光器。
[7]有機電致發光元件  又，使用具備藉由上述方法所製造之經圖案化之硬化物作為阻隔壁之基板而製造各種有機電致發光元件。形成有機電致發光元件之方法並無特別限定，較佳為藉由利用上述方法於基板上形成阻隔壁之圖案後，使功能材料於真空狀態下昇華，並使之附著於基板上之由阻隔壁包圍之區域內而進行成膜之蒸鍍法；或以澆鑄法、旋轉塗佈法、噴墨印刷法等濕法形成像素等有機層，而製造有機電致發光元件。
作為有機電致發光元件之類型，可例舉：底部發光型或頂部發光型。  底部發光型有機電致發光元件例如以如下方式製作：於積層有透明電極之玻璃基板上形成阻隔壁，並於由阻隔壁包圍之開口部積層電洞傳輸層、發光層、電子傳輸層、金屬電極層。另一方面，頂部發光型有機電致發光元件例如以如下方式製作：於積層有金屬電極層之玻璃基板上形成阻隔壁，並於由阻隔壁包圍之開口部積層電子傳輸層、發光層、電洞傳輸層、透明電極層。  再者，作為發光層，可例舉如日本專利特開2009-146691號公報或日本專利第5734681號公報中所記載之有機電致發光層。亦可使用如日本專利第5653387號公報或日本專利第5653101號公報中所記載之量子點。
層構成並不限定於此，例如就發光效率之觀點而言，電洞傳輸層、電子傳輸層之各層亦可為包含兩層以上之積層構成。各層之厚度並無特別限定，就發光效率或亮度之觀點而言，通常為1～500 nm。
有機電致發光元件可逐個開口部，分RGB各色來形成，亦可於1個開口部積層二色以上。就可靠性提昇之觀點而言，有機電致發光元件亦可具備密封層。密封層具有防止空氣中之水分吸附於有機電致發光元件，而使發光效率降低之功能。就光提取效率提昇之觀點而言，有機電致發光元件亦可在與空氣之界面具備低反射膜。藉由將低反射膜配置於空氣與元件之界面而縮小折射率之差距，可期待抑制於界面之反射。此種低反射膜例如可應用蛾眼結構、超多層膜之技術。
於使用有機電致發光元件作為圖像顯示裝置之像素之情形時，需要防止某像素之發光層之光洩露至其他像素，進而，於電極等為金屬之情形時，需要防止伴隨著外界光之反射之圖像品質降低，因此較佳為對於構成有機電致發光元件之阻隔壁賦予遮光性。  又，於有機電致發光元件中，需要對阻隔壁之上表面及下表面賦予電極，因此就絕緣性之觀點而言，阻隔壁較佳為高電阻、低介電常數。因此，於使用著色劑以對阻隔壁賦予遮光性之情形時，較佳為使用為高電阻且低介電常數之上述有機顏料。
[8]圖像顯示裝置  本發明之圖像顯示裝置包含本發明之硬化物。  例如設置於具有由本發明之聚合性組合物形成之黑矩陣之液晶驅動基板(陣列基板)上、或相對電極基板側，將其等貼合而形成液晶胞，向所形成之液晶胞中注入液晶，藉此可製造包含本發明之硬化物之液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。
又，亦可將具有由本發明之聚合性組合物形成之黑矩陣之彩色濾光器用於有機發光顯示面板之副像素。彩色濾光器層與偏光板相比，可增加光提取率，可延長有機發光顯示裝置之使用壽命。例如可用於日本專利特表2021-517333號公報、日本專利特開2021-110936號公報中所記載之顯示裝置。
作為本發明之圖像顯示裝置，亦可例舉：具有包含本發明之硬化物之阻隔壁或有機電致發光元件之有機EL顯示裝置。  有機EL顯示裝置只要為包含上述有機電致發光元件者，則對於圖像顯示裝置之式樣或構造並無特別限制，例如可使用主動驅動型有機電致發光元件並按照常規方法進行組裝。例如可藉由如「有機EL顯示器」(Ohmsha，2004年8月20日發行，時任靜士、安達千波矢、村田英幸著)中記載之方法來形成。例如可將發出白色光之有機電致發光元件與彩色濾光片進行組合來進行圖像顯示，亦可將RGB(Red-Green-Blue，紅綠藍)等之發光色不同之有機電致發光元件進行組合來進行圖像顯示。  [實施例]
繼而，對本發明之化合物及聚合性組合物，例舉具體之實施例進行說明，但本發明只要不超出其主旨，就不限定於以下實施例。
[實施例1]  ＜O-亞胺基-異脲-1之合成＞  (合成例1.1 肟化合物-1之合成)
[化49]
於200 ml之四口燒瓶中加入乙醛肟(東京化成公司製造)2.95 g並使之溶解於DMF 21 ml中。將反應溶液加熱至40℃，於40～45℃下添加N-氯代丁二醯亞胺(富士膠片和光純藥公司製造)6.68 g後，於室溫下攪拌30分鐘。  其後，利用冰浴將反應容器進行冷卻，於10℃以下滴加對甲苯硫醇(東京化成公司製造)5.59 g、三乙胺5.57 g。滴加結束後，恢復至室溫，攪拌1小時40分鐘。  將所獲得之反應溶液釋出至水100 ml中，對所析出之固體進行過濾分離，進行真空乾燥而獲得白色固體之肟化合物-1 7.61 g(產率84%)。
(合成例1.2 O-亞胺基-異脲-1之合成)
[化50]
於100 ml之茄形燒瓶中使合成例1.1中所獲得之肟化合物-1 1.45 g溶解於THF 12 ml中，添加氫氧化鈉0.03 g、N,N'-二異丙基碳二醯亞胺(富士膠片和光純藥公司製造)1.11 g，於室溫下攪拌7小時30分鐘。對反應溶液進行過濾，利用蒸發器，將所獲得之濾液之溶劑蒸餾去除，而獲得白色固體2.42 g。利用氯仿/甲醇溶劑對所獲得之固體1.28 g進行管柱純化，而獲得目標化合物(O-亞胺基-異脲-1)0.95 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR(CDCl 3) δ (ppm) 1.14 - 1.27 (m, 12H, N-CH(CH 3) 2), 1.84 (s, 3H, C(=N)-CH 3), 2.42 (s, 3H, Ph-CH 3), 3.84 - 4.03 (m, 2H, N-CH), 5.00 (s, 1H, N-H), 7.22 - 7.24 (d, 2H, CH 3Ph-H), 7.45 - 7.47 (d, 2H, CH 3Ph-H)
[實施例2]  ＜O-亞胺基-異脲-2之合成＞
[化51]
於100 ml之茄形燒瓶中使合成例1.1中所獲得之肟化合物-1 1.45 g溶解於THF 12 ml中，於室溫下添加氫氧化鈉0.03 g、N,N'-二環己基碳二醯亞胺(東京化成公司製造)1.73 g，於室溫下攪拌7小時30分鐘。將反應溶液進行過濾，針對所獲得之濾液，利用蒸發器將溶劑蒸餾去除，而獲得白色固體3.02 g。取1.92 g，利用氯仿/甲醇溶劑進行管柱純化，獲得作為白色固體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-2)1.2 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR (CDCl 3) δ (ppm) 0.99 - 2.05 (m, 20H, -CH 2-), 1.73 (s, 3H, C(=N)-CH 3), 2.32 (s, 3H, Ph-CH 3), 3.39 - 3.55 (m, 2H, N-CH), 4.94 (s, 1H, N-H), 7.13 - 7.15 (d, 2H, CH 3Ph-H), 7.36 - 7.38 (d, 2H, CH 3Ph-H)
[實施例3]  ＜O-亞胺基-異脲-3之合成＞
[化52]
於100 ml之茄形燒瓶中使合成例1.1中所獲得之肟化合物-1 2.72 g溶解於THF 23 ml中，於室溫下添加氫氧化鈉0.06 g、雙(2,6-二異丙基苯基)碳二醯亞胺(東京化成公司製造)5.44 g，於室溫下攪拌7小時30分鐘。將反應溶液進行過濾，利用蒸發器，將所獲得之濾液之溶劑蒸餾去除，而獲得白色固體7.92 g。利用氯仿/甲醇溶劑，對所獲得之固體之1.75 g進行管柱純化，而獲得作為白色固體之目標之化合物(O-亞胺基-異脲-3)1.15 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR (CDCl 3) δ (ppm) 1.00 - 1.46 (m, 24H, Ph-CH(CH 3) 2), 1.82 (s, 3H, C(=N)-CH 3), 2.38 (s, 3H, Ph-CH 3), 3.07 - 3.26 (m, 2H, Ph-CH), 3.44-3.64 (m, 2H, Ph-CH), 6.81 - 7.27 (m, 6H, (iPr) 2Ph-H), 7.16 - 7.18 (d, 2H, CH 3Ph-H), 7.32 - 7.34 (d, 2H, CH 3Ph-H)
[實施例4]  ＜O-亞胺基-異脲-4之合成＞  (合成例4.1 肟化合物-2之合成)
[化53]
於200 ml之四口燒瓶中加入α-苯甲醛肟(東京化成公司製造)3.03 g，使之溶解於DMF 30 ml中。將裝有反應溶液之燒瓶放在水浴中，於20～25℃下添加N-氯代丁二醯亞胺(富士膠片和光純藥公司製造)3.51 g，於室溫下攪拌45分鐘，進而追加N-氯代丁二醯亞胺0.21 g並於室溫下攪拌1小時。其後，將反應容器利用冰浴進行冷卻，於10℃以下滴加1-丁硫醇(東京化成公司製造)2.25 g、三乙胺2.78 g。滴加結束後，恢復至室溫，攪拌1小時30分鐘。將所獲得之反應溶液釋出至水120 ml中，加入乙酸乙酯120 ml並進行萃取，萃取層係利用飽和食鹽水洗淨。將萃取層利用硫酸鈉乾燥後，進行過濾，將溶劑利用蒸發器蒸餾去除，而獲得黃色液體4.08 g(產率78%)。
(合成例4.2 O-亞胺基-異脲-4之合成)
[化54]
於100 ml之茄形燒瓶中使合成例4.1中所獲得之肟化合物-2 1.57 g溶解於THF 11 ml中，於室溫下添加氫氧化鈉0.034 g、N,N'-二異丙基碳二醯亞胺(富士膠片和光純藥公司製造)0.99 g，並於室溫下攪拌6小時。將反應溶液進行過濾，利用蒸發器，將所獲得之濾液之溶劑蒸餾去除，而獲得無色液體2.0 g。取2.0 g，利用氯仿/甲醇溶劑進行管柱純化，而獲得作為無色液體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-4)1.15 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR (CDCl 3) δ (ppm) 0.75 - 0.84 (t, 3H, SCH 2CH 2CH 2-CH 3), 1.11 - 1.22 (m, 12H, N-CH(CH 3) 2), 1.22 - 1.32 (m, 2H, SCH 2CH 2-CH 2-), 1.39 - 1.49 (m, 2H, SCH 2-CH 2-), 2.52 - 2.61 (t, 2H, S-CH 2-), 3.82 - 4.07 (m, 2H, N-CH), 7.40 - 7.58 (m, 5H, Ph-H)
[實施例5]  ＜O-亞胺基-異脲-5之合成＞
[化55]
於100 ml之茄形燒瓶中使合成例4.1中所獲得之肟化合物-2 1.26 g溶解於THF 11 ml中，於室溫下添加氫氧化鈉0.03 g、N,N'-二環己基碳二醯亞胺(東京化成公司製造)1.3 g，於室溫下攪拌6小時。將反應溶液進行過濾，針對所獲得之濾液，利用蒸發器將溶劑蒸餾去除，而獲得黃色液體2.63 g。取2.0 g，利用氯仿/甲醇溶劑進行管柱純化，而獲得作為液體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-5)0.78 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR (CDCl 3) δ (ppm) 0.67 - 0.74 (t, 3H, SCH 2CH 2CH 2-CH 3), 0.99 - 1.97 (m, 20H, -CH 2-), 1.09 - 1.17 (m, 2H, SCH 2CH 2-CH 2-), 1.25 - 1.32 (m, 2H, SCH 2-CH 2-), 2.45 - 2.53 (t, 2H, S-CH 2-), 3.38 - 3.62 (m, 2H, N-CH), 7.34 - 7.45 (m, 5H, Ph-H)
[實施例6]  ＜O-亞胺基-異脲-6之合成＞
[化56]
於100 ml之茄形燒瓶中使合成例4.1中所獲得之肟化合物-2 0.84 g溶解於THF 11 ml中，於室溫下添加氫氧化鈉0.03 g、雙(2,6-二異丙基苯基)碳二醯亞胺(東京化成公司製造)1.45 g，於室溫下攪拌6小時。將反應溶液進行過濾，利用蒸發器，將所獲得之濾液之溶劑蒸餾去除，而獲得白色固體2.33 g。取2.3 g，利用氯仿/己烷溶劑進行管柱純化後，利用己烷進行洗淨及乾燥後，獲得作為白色固體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-6)0.55 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR(CDCl 3) δ (ppm) 0.80 - 0.83 (t, 3H, SCH 2CH 2CH 2-CH 3), 0.99 - 1.97 (m, 24H, Ph-CH(CH 3) 2), 1.09 - 1.17 (m, 2H, SCH 2CH 2-CH 2-), 1.12 - 1.29 (m, 2H, SCH 2-CH 2-), 2.35 - 2.47 (t, 2H, S-CH 2-), 3.09 - 3.27 (m, 2H, Ph-CH), 3.42 - 3.61 (m, 2H, Ph-CH), 6.90 - 7.37 (m, 6H, (iPr) 2Ph-H), 7.39 - 7.67 (m, 5H, C(=N)-Ph-H)
[實施例7]  ＜O-亞胺基-異脲-7之合成＞  (合成例7.1 肟化合物-3之合成)
[化57]
於200 ml之四口燒瓶中加入丁醛肟(東京化成公司製造)4.36 g，並使之溶解於DMF 30 ml中。將裝有反應溶液之燒瓶放在水浴中，於40℃以下添加N-氯代丁二醯亞胺(富士膠片和光純藥公司製造)6.68 g後，於室溫下攪拌90分鐘。其後，將反應容器利用冰浴進行冷卻，於10℃以下滴加對甲苯硫醇(東京化成公司製造)5.59 g、三乙胺5.57 g。滴加結束後，恢復至室溫，攪拌1小時40分鐘。將所獲得之反應溶液釋出至水200 ml中，將所析出之固體進行過濾分離，利用水250 ml洗淨後，進行真空乾燥，獲得白色固體之肟化合物-3 9.11 g(產率96.7%)。
(合成例7.2 O-亞胺基-異脲-7之合成)
[化58]
於100 ml之茄形燒瓶中使合成例7.1中所獲得之肟化合物-3 3.14 g溶解於THF 30 ml中，於室溫下添加氫氧化鈉0.1 g、雙(2,6-二異丙基苯基)碳二醯亞胺(東京化成公司製造)5.44 g，於室溫下攪拌3小時45分鐘，一夜後進而攪拌4小時。將反應溶液進行過濾，利用蒸發器，將所獲得之濾液之溶劑蒸餾去除，而獲得白色固體8.78 g。利用氯仿/己烷溶劑，對所獲得之固體之2.1 g進行管柱純化，獲得作為白色固體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-7)1.55 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR(CDCl 3) δ (ppm) 0.62 - 0.78 (t, 3H, C(=N)CH 2CH 2-CH 3), 0.89 - 1.30 (m, 24H, Ph-CH(CH 3)), 1.30 - 1.42 (m, 2H, C(=N)CH 2-CH 2-), 1.95 - 2.06 (t, 2H, C(=N)-CH 2-), 2.29 (s, 3H, Ph-CH 3), 2.97 - 3.18 (m, 2H, Ph-CH), 3.32 - 3.55 (m, 2H, Ph-CH), 6.75 - 7.18 (m, 6H, (iPr) 2Ph-H), 7.06 - 7.08 (d, 2H, CH 3Ph-H), 7.22 - 7.24 (d, 2H, CH 3Ph-H)
[實施例8]  ＜O-亞胺基-異脲-8之合成＞  (合成例8.1 肟化合物-4之合成)
[化59]
於50 ml之四口燒瓶中加入乙醛肟(東京化成公司製造)0.59 g，並使之溶解於DMF 12 ml中。於室溫下向其中添加N-氯代丁二醯亞胺(富士膠片和光純藥公司製造)1.4 g後，於室溫下攪拌30分鐘。其後，將反應容器利用冰浴進行冷卻，於10℃以下滴加1,4-苯二硫醇(東京化成公司製造)0.64 g、三乙胺1.11 g。滴加結束後，恢復至室溫，攪拌1小時30分鐘。將所獲得之反應溶液釋出至水100 ml中，將所析出之固體進行過濾分離，利用水80 ml及甲醇30 ml洗淨，進行真空乾燥，而獲得白色固體之肟化合物-4 0.89 g(產率77.4%)。
(合成例8.2 O-亞胺基-異脲-8之合成)
[化60]
於50 ml之茄形燒瓶中使合成例8.1中所獲得之肟化合物-4 0.38 g溶解於THF 20 ml中，於室溫下添加氫氧化鈉0.03 g、雙(2,6-二異丙基苯基)碳二醯亞胺(東京化成公司製造)1.09 g，於室溫下攪拌7小時45分鐘。一夜後，進而攪拌8小時。將反應溶液進行過濾，利用蒸發器，將所獲得之濾液之溶劑蒸餾去除，而所獲得之固體利用己烷15 ml洗淨，進行乾燥後，獲得白色固體1.16 g。取0.6 g，利用氯仿/甲醇溶劑進行管柱純化後，獲得作為白色固體之目標之化合物(O-亞胺基-異脲-8)0.12 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR (CDCl 3) δ (ppm) 0.91 - 1.34 (m, 48H, Ph-CH(CH 3) 2), 1.73 (s, 6H, C(=N)-CH 3), 2.97 - 3.14 (m, 4H, Ph-CH), 3.32 - 3.49 (m, 4H, Ph-CH), 6.63 - 7.28 (m, 12H, (iPr) 2Ph-H), 7.36 (s, 4H, S 2Ph-H)
[實施例9] ＜O-亞胺基-異脲-9之合成＞ 反應式如以下所示。
[化61]
於20 ml之茄形燒瓶中使硫代乙異羥肟酸甲酯(富士膠片和光純藥公司製造)0.18 g溶解於THF 4 ml中，添加氫氧化鈉0.02 g、雙(2,6-二異丙基苯基)碳二醯亞胺(東京化成公司製造)0.62 g，於室溫下攪拌3小時45分鐘。直接將反應溶液靜置3天後，將反應溶液進行過濾，針對所獲得之濾液，利用蒸發器將溶劑蒸餾去除，而獲得白色固體。將所獲得之固體加入至己烷中，加以攪拌後，將固體進行過濾分離，利用己烷洗淨。進行真空乾燥，而獲得作為白色固體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-9)0.5 g。 針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR(CDCl 3) δ (ppm) 0.91 - 1.46 (m, 24H, -CH 2-(CH 3) 2), 2.21 (s, 3H, C(=N)-CH 3), 2.22 (s, 3H, S-CH 3), 3.04 - 3.22 (m, 2H, CH-(CH 3) 2), 3.36 - 3.60 (m, 2H, CH-(CH 3) 2), 6.77 - 7.36 (m, 12H, Ph-H)
[實施例10] ＜O-亞胺基-異脲-10之合成＞ (合成例10.1 肟化合物-5之合成) 反應式如以下所示。
[化62]
於50 ml之四口燒瓶中加入乙醛肟(東京化成公司製造)1.9 g，並使之溶解於DMF 7.7 ml中。於室溫下，歷時70分鐘添加N-氯代丁二醯亞胺(富士膠片和光純藥公司製造)4.40 g。 其後，將反應容器利用冰浴進行冷卻，使4-(甲硫基)苯硫醇(東京化成公司製造)5.29 g溶解於DMF 1.2 ml中，歷時5分鐘添加後，滴加三乙胺3.69 g。滴加結束後，恢復至室溫，攪拌1小時30分鐘。 向所獲得之反應溶液中添加水21 ml，將所析出之固體進行過濾分離，利用水洗淨。將所獲得之固體進行真空乾燥，而獲得白色固體之肟化合物-5 6.57 g(產率94.1%)。
[化63]
(合成例10.2 O-亞胺基-異脲-10之合成)  於100 ml之四口茄形燒瓶中使合成例10.1中所獲得之肟化合物-5 6.57 g溶解於THF 36 ml中，於室溫下添加氫氧化鈉0.125 g、雙(2,6-二異丙基苯基)碳二醯亞胺(東京化成公司製造)12.2 g，於室溫下攪拌47小時。將反應溶液進行過濾，利用蒸發器，將所獲得之濾液之溶劑蒸餾去除，而獲得白色固體19.1 g。向所獲得之固體加入正庚烷100 ml並攪拌30分鐘後後，將固體進行過濾分離，利用正庚烷30 ml洗淨。將所獲得之固體進行乾燥，而獲得作為白色固體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-10)14.5 g(產率81.7%)。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR(CDCl 3) δ (ppm) 0.92 - 1.45 (m, 24H, Ph-CH(CH 3) 2), 1.81 (s, 3H, C(=N)-CH 3), 2.48 (s, 3H, S-CH 3), 3.05 - 3.24 (m, 2H, Ph-CH), 3.40 - 3.58 (m, 2H, Ph-CH), 6.75 - 7.35 (m, 10H, (iPr) 2Ph-H, CH 3SPh-H)
[實施例11] ＜O-亞胺基-異脲-11之合成＞ (合成例11.1 肟化合物-6之合成)
[化64]
於50 ml之四口燒瓶中加入丁醛肟(東京化成公司製造)1.31 g，並使之溶解於DMF 13 ml中。於室溫下添加N-氯代丁二醯亞胺(富士膠片和光純藥公司製造)2.00 g後，於室溫下攪拌1小時。 其後，將反應容器利用冰浴進行冷卻，於10℃以下滴加4-(甲硫基)苯硫醇(東京化成公司製造)2.11 g、三乙胺1.67 g。滴加結束後，恢復至室溫，攪拌1小時。 將所獲得之反應溶液釋出至水100 ml中，將所析出之固體進行過濾分離，進而加入至水100 ml中並攪拌後，將固體進行過濾分離，利用水洗淨。將所獲得之固體進行真空乾燥，而獲得白色固體之肟化合物-6 3.16 g(產率96.9%)。
[化65]
(合成例11.2 O-亞胺基-異脲-11之合成)  於50 ml之茄形燒瓶中使合成例11.1中所獲得之肟化合物-6 0.72 g溶解於THF 12 ml中，於室溫下添加氫氧化鈉0.03 g、雙(2,6-二異丙基苯基)碳二醯亞胺(東京化成公司製造)1.09 g，於室溫下攪拌10小時後，靜置3天。將反應溶液進行過濾，利用蒸發器，將所獲得之濾液之溶劑蒸餾去除，而獲得白色固體。將所獲得之固體加入至己烷15 ml中，加以攪拌後，將固體進行過濾分離，利用己烷洗淨。將所獲得之固體進行真空乾燥，而獲得作為白色固體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-11)1.38 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR(CDCl 3) δ (ppm) 0.72 - 0.86 (t, 3H, C(=N)CH 2CH 2-CH 3), 1.00 - 1.40 (m, 24H, Ph-CH(CH 3) 2), 1.40 - 1.50 (m, 2H, C(=N)CH 2-CH 2-), 2.02 - 2.15 (t, 2H, C(=N)-CH 2-), 2.48 (s, 3H, S-CH 3), 3.01 - 3.23 (m, 2H, Ph-CH), 3.38 - 3.62 (m, 2H, Ph-CH), 6.75 - 7.34 (m, 10H, (iPr) 2Ph-H, CH 3SPh-H)
以下之實施例中所使用之聚合性組合物之構成成分如下所示。
聚合性化合物-1(B-1)：二季戊四醇六丙烯酸酯(KAYARAD DPHA，日本化藥公司製造)
鹼可溶性樹脂-1(C-1)：  使以甲基丙烯酸二環戊酯/苯乙烯/甲基丙烯酸縮水甘油酯(莫耳比：0.3/0.1/0.6)作為構成單體之共聚樹脂、與相對於上述甲基丙烯酸縮水甘油酯為等量之丙烯酸進行加成反應，進而，使四氫鄰苯二甲酸酐以相對於上述共聚樹脂1莫耳達到0.39莫耳之方式進行加成反應，而獲得鹼可溶性丙烯酸共聚樹脂。利用GPC所測得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)為9000，固形物成分酸值為80 mgKOH/g。
界面活性劑-1：MEGAFAC F-559(DIC公司製造)  溶劑-1：丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)
[表1]
表1
      組合物1 組合物2 組合物3 組合物4 組合物5 組合物6
調配比例 (重量份) 聚合性化合物-1(B-1) 47.45 47.45 47.45 44.95 44.95 44.95
鹼可溶性樹脂-1(C-1) 47.45 47.45 47.45 44.95 44.95 44.95
界面活性劑-1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
O-亞胺基-異脲-1 5       10      
O-亞胺基-異脲-3    5       10   
O-亞胺基-異脲-7       5       10
[實施例12～17]  ＜聚合性組合物之製備＞  以聚合性組合物之總固形物成分中之各成分之固形物成分的比率達到表1之調配比例之方式加入各成分，進而以總固形物成分之含有比例達到17質量%之方式加入溶劑-1，進行攪拌、溶解，而製備組合物1～6。  再者，表1中之聚合性化合物、鹼可溶性樹脂、熱聚合起始劑(O-亞胺基-異脲)之調配比例係固形物成分換算值。  針對組合物1～6，利用以下所記載之方法進行評價。
(丙烯酸酯之雙鍵反應率測定)  於矽晶圓基板上使用旋轉塗佈機，以乾燥後厚度達到2.0 μm之方式塗佈組合物。其後，於60℃下在加熱板上加熱乾燥2分鐘，於烘箱中以85℃或100℃使所獲得之塗膜加熱硬化1小時，利用FT-IR分光光度計對熱硬化前後之IR吸收圖譜進行測定。根據圖譜之810 cm -1之吸光度，估算丙烯酸酯之雙鍵反應率。將結果示於表2。
[表2]
表2
丙烯酸酯之雙鍵反應率(%) 熱硬化溫度
85℃ 100℃
實施例12 組合物1 3.7 8.3
實施例13 組合物2 25.7 38.9
實施例14 組合物3 22.4 38.9
實施例15 組合物4 6.9 14.8
實施例16 組合物5 26.6 40.1
實施例17 組合物6 24.3 39.1
根據表2之實施例12～17之結果表明，藉由使用本發明之O-亞胺基-異脲化合物，即便為100℃以下之低溫焙燒，亦能夠達成高雙鍵反應率，而可獲得良好之熱硬化特性。
[比較例1] ＜O-亞胺基-異脲-12之合成＞
[化66]
於200 ml之茄形燒瓶中使環己酮肟(東京化成公司製造)3.39 g溶解於THF 41 ml中，添加氫氧化鈉0.12 g、N,N'-二環己基碳二醯亞胺(東京化成公司製造)6.81 g，於室溫下攪拌7小時30分鐘。直接將反應溶液靜置3天後，向反應溶液中加入二氯甲烷50 ml，暫時攪拌後進行過濾。針對所獲得之濾液，利用蒸發器將溶劑蒸餾去除，而獲得液體混合而成之白色固體。向所獲得之殘渣加入乙腈30 ml，暫時攪拌後，將乙腈層去除。向所獲得之殘渣中加入二氯甲烷30 ml並攪拌後，進行過濾，於減壓下自所獲得之濾液中將二氯甲烷蒸餾去除。將該操作反覆2次後，將所獲得之殘渣進行真空乾燥，而獲得作為黃色黏性液體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-12)2.1 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR (CDCl 3) δ (ppm) 0.98 - 2.19 (m, 26H, -CH 2-), 2.21-2.35 (t, 2H, C(=N)-CH 2-), 2.51 - 2.66 (t, 2H, C(=N)-CH 2-), 3.35 - 3.64 (m, 2H, N-CH), 5.03 - 5.30 (s, 1H, N-H)
[比較例2] ＜O-亞胺基-異脲-13之合成＞
[化67]
於100 ml之茄形燒瓶中使2-丁酮肟(東京化成公司製造)5.022 g溶解於THF 32 ml中，添加氫氧化鈉0.163 g、N,N'-二環己基碳二醯亞胺(東京化成公司製造)11.867 g，於室溫下攪拌8小時。將反應溶液進行過濾，自所獲得之濾液中，利用蒸發器將溶劑蒸餾去除，而獲得淡黃色黏性液體。利用乙酸乙酯/己烷溶劑對所獲得之液體之一部分進行管柱純化後，進行真空乾燥，而獲得作為淡黃色黏性液體之目標化合物(O-亞胺基-異脲-13)4.6 g。
針對所獲得之化合物，藉由NMR圖譜測定進行結構確認。將結果示於以下。 1H-NMR (CDCl 3) δ (ppm) 1.10 - 2.00 (m, 25H, -CH 2-/C(=N)-CH 2-CH 3), 1.96 (s, 3H, C(=N)-CH 3), 3.40 - 3.55 (m, 2H, N-CH), 5.14 (s, 1H, NH)
[比較例3～6] ＜聚合性組合物之製備＞  與聚合性組合物1～6同樣地，以達到表3之調配比例之方式製備組合物7～10。
[表3]
表3
      組合物7 組合物8 組合物9 組合物10
調配比例(重量份) 聚合性化合物-1(B-1) 47.45 47.45 44.95 44.95
   鹼可溶性樹脂-1 (C-1) 47.45 47.45 44.95 44.95
界面活性劑-1 0.1 0.1 0.1 0.1
o-亞胺基-異脲-12 5    10   
o-亞胺基-異脲-13    5    10
(丙烯酸酯之雙鍵反應率測定)  針對組合物7～10，利用與組合物1～6相同之方法進行丙烯酸酯之雙鍵反應率之評價。將結果示於表4。
[表4]
表4
丙烯酸酯之雙鍵反應率(%) 熱硬化溫度
85℃ 100℃
比較例3 組合物7 0 0.3
比較例4 組合物8 2.0 6.9
比較例5 組合物9 0 0.4
比較例6 組合物10 6.2 13.3
根據表4之比較例3～6之結果證實，於使用偏離本發明之範圍之O-亞胺基-異脲化合物之情形時，若於100℃以下之低溫焙燒時，則雙鍵反應率極低，藉由使用本發明之O-亞胺基-異脲化合物，與使用比較化合物之情形相比，可獲得極良好之熱硬化特性。

Claims (17)

  1. 一種化合物，其由以下之式(A)表示，  [化1] n為1～4之整數，  R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、C 7～C 15芳烷基、或Si(CH 3) 3；  R 3、R 4中之C 1～C 20烷基及C 3～C 20環烷基可被選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)S、及SC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 3、R 4中之C 6～C 20芳基、C 12～C 20雜芳基、及C 7～C 15芳烷基可具有選自由C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  L 1、L 2及L 3為連接基；  於n＝1之情形時，L 1為R 1，L 2為R 2，L 3為R 5；  於n＝2～4之情形時，L 1、L 2、L 3之任一者為連接基；於L 1為連接基之情形時，L 2為R 2，L 3為R 5；於L 2為連接基之情形時，L 1為R 1，L 3為R 5；於L 3為連接基之情形時，L 1為R 1，L 2為R 2；  R 1為C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基、C 2～C 20炔基、C 3～C 20環烷基、C 2～C 20雜環烷基、C 6～C 20芳基或C 1～C 20雜芳基；  R 1中之C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基及C 2～C 20炔基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1a；  R 1中之C 3～C 20環烷基及C 2～C 20雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 1b；  R 1中之C 6～C 20芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1c；  R 1a分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、可被1個或更多個C(O)基中斷之C 3～C 20環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群；  R 1a中之C 3～C 20環烷基及C 6～C 10芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1aa；  R 1aa分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1aa中之C 1～C 12烷基可被選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1b分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8及NR 9R 10所組成之群；  R 1b中之C 1～C 12烷基可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c分別獨立地選自由C 1～C 12烷基、C 2～C 12烯基、F、Cl、Br、I、CN、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基、及C 2～C 10雜環烷基所組成之群；  R 1c中之C 1～C 12烷基可具有選自F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、及C(O)NR 13R 14中之1個或更多個相同或不同之基；  R 1c中之C 1～C 12烷基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷；  R 1c中之C 6～C 10芳基、C 1～C 20雜芳基、C 3～C 10環烷基及C 2～C 10雜環烷基可具有1個或更多個相同或不同之基R 1ca，該R 1ca與上述R 1aa同義；  R 2為氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基、C 2～C 20炔基、C 3～C 20環烷基、C 2～C 20雜環烷基、C 6～C 20芳基、C 1～C 20雜芳基、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、SO 2R 15、或CN；  R 2中之C 1～C 20烷基、C 2～C 20烯基及C 2～C 20炔基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 2a；  R 2中之C 3～C 20環烷基及C 2～C 20雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之基R 2b；  R 2中之C 6～C 20芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個相同或不同之基R 2c；  R 2a與R 1a同義；  R 2b與R 1b同義；  R 2c與R 1c同義；  又，R 2可與-S-R 1一同形成包含亞胺基碳原子之環結構；  作為上述包含亞胺基碳原子之環結構，可為S-(C 1～C 20伸烷基)-X、S-(C 2～C 20伸烯基)-X、S-(C 3～C 20伸環烷基)-X、S-(伸雜環烷基)-X、S-(鄰伸苯基)-X、S-(鄰二甲苯)-X、S-(鄰伸苯基-C 1～C 12伸烷基)-X、S-(C 1～C 12伸烷基-鄰伸苯基)-X、S-(C(O)N(R 16))-X、或S-(C(S)N(R 17))-X；  X係鍵結於具有S之亞胺基碳原子，為O、S、N(R 6)、C(O)、OC(O)、C(O)O、SC(O)、C(O)S、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、N(R 19)SO 2或單鍵；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸烷基及伸烯基可被1個或更多個相同或不同之選自由O、S、N(R 6)、C(O)及C(S)所組成之群中之基中斷，可經1個或更多個基R 2d取代；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸環烷基及伸雜環烷基可被1個或更多個C(O)基中斷，可經1個或更多個相同或不同之基R 2e取代；  上述包含亞胺基碳原子之環結構中之伸苯基及鄰苯二甲基可經1個或更多個相同或不同之基R 2f取代；  R 2d分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、NO 2、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、C(O)NR 13R 14、C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2d中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2da，R 2da分別獨立地選自由苯氧基、及R 1aa所示之基所組成之群；  R 2e分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、CONR 13R 14、C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2e中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2ea，R 2ea與R 1aa同義；  R 2f分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、SR 7、OR 8、NR 9R 10、C(O)R 11、C(O)OR 12、CONR 13R 14、C 1～C 12烷基、C 1～C 12鹵烷基、C 6～C 10芳基、及C 1～C 20雜芳基所組成之群；  R 2f中之C 6～C 10芳基及C 1～C 20雜芳基可具有1個或更多個基R 2fa，R 2fa與R 1aa同義；  R 5係氫原子、C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、C 7～C 14芳烷基、C 6～C 14芳基、或醯基；  R 5中之醯基係選自由-C(O)-H、-C(O)-C 1～C 18烷基、-C(O)-C 2～C 18烯基、-C(O)-C 6～C 14芳基、-C(O)-C 2～C 18烯基-C 6～C 14芳基、-C(O)-O-C 1～C 18烷基、-C(O)-O-C 6～C 14芳基、-C(O)-NH-C 1～C 18烷基、-C(O)-NH-C 6～C 14芳基及C(O)-N(C 1～C 18烷基) 2所組成之群；  R 3及R 5可與其等所鍵結之氮原子一同形成可進而包含雜原子之5～12員環；  R 6分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基及C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 6中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 6中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7及R 8分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基、及C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 7、R 8中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 6～C 10芳基亦可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 7、R 8中之C 7～C 11芳醯基亦可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 7～C 11芳醯基、C 6～C 10芳基所組成之群；  R 9、R 10中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，亦可具有選自由F、Cl、Br、I、NO 2、C 3～C 10環烷基、雜環烷基、苯基、OH、SH及CN所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O及S所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、-OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9、R 10中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、-OH及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 9及R 10可與其等所鍵結之氮原子一同形成飽和之5員、6員或7員之氮雜環，上述環可具有選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、及C(O)O所組成之群中之基作為環成員，上述環可具有1個或更多個C 1～C 4烷基；  R 11分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基及C 6～C 20芳基所組成之群；  C 1～C 20烷基可被選自由O、S及C(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有1個或更多個相同或不同之R 11a；  R 11a分別獨立地選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、雜環烷基、苯基、OH、及SH所組成之群；  R 11中之C 6～C 20芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 12與R 8同義；  R 13及R 14與R 9、R 10同義；  R 15分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基所組成之群；  R 15中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 15中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 6烷基、及C 1～C 6烷氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18及R 19分別獨立地選自由氫原子、C 1～C 20烷基、C 2～C 20烷醯基、C 6～C 10芳基、C 7～C 11芳醯基所組成之群；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 1～C 20烷基可被選自由O、S、N(C 1～C 12烷基)、C(O)、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、C 6～C 10芳基、OH、及SH所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 2～C 20烷醯基可被選自由O、S、CO、C(O)O、及OC(O)所組成之群中之1個或更多個基中斷，可具有選自由F、Cl、Br、I、C 3～C 10環烷基、C 2～C 10雜環烷基、及C 6～C 10芳基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 6～C 10芳基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  R 16、R 17、R 18、R 19中之C 7～C 11芳醯基可具有選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 10烷基、C 1～C 10烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群中之1個或更多個相同或不同之基；  L 1於n為2之情形時，為二價連接基，上述連接基係選自由L 1a-C 1～C 30伸烷基-L 1a、L 2a-C 1～C 30伸烯基-L 2a、L 1a-C 3～C 16伸環烷基-L 1a、L 1a-C 6～C 20伸芳基-L 1a、L 1a-C 6～C 20伸芳基-L 1b-C 6～C 20伸芳基-L 1a、及L 1a-C 1～C 13伸雜芳基-L 1a所組成之群；  L 1之上述連接基中之伸烷基及伸烯基可分別獨立地被1個或更多個相同或不同之非相鄰之基L 1c中斷；  L 1之上述連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L1；  L 1a為單鍵；  L 1b為單鍵、O、S、N(R 6)、C(O)、CH 2、C(CH 3) 2、CH(OH)或C 1～C 5伸烷基；  L 1c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基及C 3～C 16伸環烷基所組成之群；  R L1分別獨立地選自F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷基、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基；  L 1b、L 1c中之R 6與R 6同義；  L 2於n為2之情形時，為二價連接基，上述連接基係選自由單鍵、L 2a-C 1～C 30伸烷基-L 2a、L 2a-C 1～C 30伸烯基-L 2a、L 2a-C 6～C 20伸芳基-L 2a、L 2a-C 6～C 20伸芳基-L 2b-C 6～C 20伸芳基-L 2a所組成之群；  L 2之二價連接基中之伸烷基及伸烯基可分別獨立地被1個或更多個相同或不同之基L 2c中斷；  L 2之二價連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L2；  L 2a分別獨立地為單鍵、S、O、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)或SO 2；  L 2b為單鍵、O、S、N(R 6)、C(O)、CH 2、C(CH 3) 2、CH(OH)或C 1～C 5伸烷基；  L 2c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基及C 3～C 16伸環烷基所組成之群；  R L2分別獨立地選自F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷基、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基；  L 2b、L 2c中之R 6與R 6同義；  L 3於n為2之情形時，為二價連接基，上述連接基係選自由L 3a-C 1～C 30伸烷基-L 3a、L 3a-C 3～C 16伸環烷基-L 3a、L 3a-C 6～C 20伸芳基-L 3a、L 3a-C 1～C 20伸烷基-L 3b-C 6～C 16伸環烷基-L 3a、L 3a-C 6～C 16伸環烷基-L 3b-C 6～C 16伸環烷基-L 3a、L 3a-C 6～C 20伸芳基-L 3b-C 6～C 20伸芳基-L 3a、及L 3a-C 1～C 13伸雜芳基-L 3a所組成之群；  L 3之二價連接基中之伸烷基可分別獨立地被1個或更多個相同或不同之非相鄰之基L 3c中斷；  L 3之二價連接基中之伸環烷基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L3a；  L 3之二價連接基中之伸芳基及伸雜芳基可分別獨立地具有1個或更多個相同或不同之基R L3b；  L 3a為單鍵、C(O)、C(O)O或C(O)N(R 16)；  L 3b分別獨立地為單鍵、O、S、N(R 6)或C 1～C 5伸烷基；  L 3c分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C 6～C 20伸芳基、C 3～C 16伸環烷基及伸雜環烷基所組成之群；  R L3a分別獨立地為C 1～C 12烷基；  R L3b選自由F、Cl、Br、I、C 1～C 12烷氧基、及C 2～C 11醯氧基所組成之群；  L 3b、L 3c中之R 6與R 6同義；  L 3a中之R 16與R 16同義；  L 1及L 2於n為3之情形時，為三價連接基，上述連接基係選自由C 1～C 30烷烴三基、C 2～C 30烯烴三基、C 3～C 16環烷烴三基、雜環烷烴三基、C 6～C 20芳烴三基、及雜芳烴三基所組成之群；  L 1、L 2之三價連接基中之烷烴三基可被1個或更多個相同或不同之基L 4中斷；  L 4分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 4中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、上述R 18同義；  L 3於n為3之情形時，為三價連接基，上述連接基係選自由C 1～C 30烷烴三基、C 2～C 30烯烴三基、C 3～C 16環烷烴三基、雜環烷烴三基、C 6～C 20芳烴三基、雜芳烴三基、三醯基所組成之群；  L 3之三價連接基中之烷烴三基可被1個或更多個相同或不同之基L 5中斷；  L 5分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 5中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、R 18同義；  L 1及L 2於n為4之情形時，為四價連接基，上述連接基為C 1～C 30烷烴四基；  L 1、L 2之四價連接基中之烷烴四基可被1個或更多個相同或不同之基L 6中斷；  L 6分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 6中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、R 18同義；  L 3於n為4之情形時，為四價連接基，上述連接基係選自由C 1～C 30烷烴四基、四醯基所組成之群；  L 3之四價連接基中之烷烴四基可被1個或更多個相同或不同之基L 7中斷；  L 7分別獨立地選自由O、S、N(R 6)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R 16)、N(R 18)C(O)、C 3～C 20伸環烷基、伸雜環烷基、C 6～C 20伸芳基及伸雜芳基所組成之群；  L 7中之R 6、R 16、R 18分別與R 6、R 18同義。
  2. 如請求項1之化合物，其中於上述式(I)中，n＝1，L 1為R 1，L 2為R 2，L 3為R 5。
  3. 如請求項1之化合物，其中於上述式(I)中，n＝2，L 1為連接基，L 2為R 2，L 3為R 5。
  4. 如請求項1之化合物，其中於上述式(I)中，n＝2，L 2為連接基，L 1為R 1，L 3為R 5。
  5. 如請求項1之化合物，其中於上述式(I)中，n＝2，L 3為連接基，L 1為R 1，L 2為R 2。
  6. 如請求項1之化合物，其中於上述式(I)中，n＝1，  R 1為C 1～C 20烷基、C 3～C 20環烷基、或C 6～C 10芳基。
  7. 如請求項1之化合物，其中於上述式(I)中，n＝1，L 1為R 1，L 2為R 2，L 3為R 5，  R 1為C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基、或經1個或更多個相同或不同之C 1～C 12烷基取代之C 6～C 10芳基；  R 2為C 1～C 20烷基、C 6～C 10芳基、或經1個或更多個相同或不同之C 1～C 12烷基取代之C 6～C 10芳基；  R 3及R 4分別獨立地為C 1～C 6烷基、C 5～C 12環烷基、C 6～C 10芳基、或經1個或更多個相同或不同之C 1～C 6烷基取代之C 6～C 10芳基；  R 5為氫。
  8. 一種聚合性組合物，其包含(A)如請求項1至7中任一項之化合物及(B)聚合性化合物。
  9. 如請求項8之聚合性組合物，其進而包含(C)鹼可溶性樹脂。
  10. 如請求項8之聚合性組合物，其進而包含(D)光聚合起始劑。
  11. 如請求項8之聚合性組合物，其中上述(B)聚合性化合物包含(甲基)丙烯酸酯化合物。
  12. 一種硬化物，其係使如請求項8之聚合性組合物硬化而成。
  13. 一種彩色濾光器，其包含如請求項12之硬化物。
  14. 一種阻隔壁，其包含如請求項12之硬化物。
  15. 一種圖像顯示裝置，其包含如請求項12之硬化物。
  16. 一種硬化物之形成方法，其使用如請求項8之聚合性組合物，至少進行下述步驟(1)～步驟(4)，  步驟(1)：於基板上形成聚合性組合物之塗膜之步驟；  步驟(2)：對步驟(1)中所形成之塗膜之至少一部分進行曝光之步驟；  步驟(3)：使步驟(2)中經曝光之塗膜顯影之步驟；  步驟(4)：對步驟(3)中經顯影之塗膜進行焙燒之步驟。
  17. 如請求項16之硬化物之形成方法，其中上述步驟(4)之焙燒溫度為100℃以下。
TW112111696A 2022-03-28 2023-03-28 化合物、聚合性組合物、硬化物、彩色濾光器、阻隔壁及圖像顯示裝置 TW202348639A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022-051562 2022-03-28
JP2022051562 2022-03-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202348639A true TW202348639A (zh) 2023-12-16

Family

ID=88202383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW112111696A TW202348639A (zh) 2022-03-28 2023-03-28 化合物、聚合性組合物、硬化物、彩色濾光器、阻隔壁及圖像顯示裝置

Country Status (2)

Country Link
TW (1) TW202348639A (zh)
WO (1) WO2023190410A1 (zh)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010128062A1 (en) * 2009-05-07 2010-11-11 Basf Se O-imino-iso-urea compounds and polymerizable compositions thereof
KR20170048422A (ko) * 2014-08-29 2017-05-08 바스프 에스이 옥심 술포네이트 유도체
KR101859813B1 (ko) * 2016-03-14 2018-05-18 한국화학연구원 이중 경화가 가능한 저온가교형 블록이소시아네이트 및 이를 포함하는 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023190410A1 (ja) 2023-10-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI753056B (zh) 著色感光性樹脂組合物、顏料分散液、阻隔壁、有機電致發光元件、圖像顯示裝置及照明
JP7205089B2 (ja) 感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
KR102349690B1 (ko) 착색 조성물, 착색 경화막 및 표시 소자
KR101808818B1 (ko) 액정디스플레이 패널용 블랙매트릭스 포토레지스트 조성물
JP7099319B2 (ja) 有機電界発光素子隔壁形成用感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
TW201937283A (zh) 有色感光性樹脂組成物、分隔壁、有機電致發光元件、影像顯示裝置及照明
CN106575078B (zh) 感光性组合物、硬化膜及其制法、触摸屏及其显示装置、液晶显示装置及有机el显示装置
TWI772604B (zh) 感光性樹脂組成物、分隔壁、有機電致發光元件、影像顯示裝置及照明
TW201439229A (zh) 噴墨塗佈用感光性樹脂組成物、熱處理物及其製造方法、樹脂圖案製造方法、液晶顯示裝置、有機ｅｌ顯示裝置、觸控面板及其製造方法、以及觸控面板顯示裝置
TW201627762A (zh) 黑色感光性樹脂組合物、黑矩陣及圖像顯示裝置
TW201339761A (zh) 感光性樹脂組合物、硬化膜的製造方法、硬化膜、有機電致發光顯示裝置以及液晶顯示裝置
KR20150101935A (ko) 착색 조성물, 착색 경화막 및 표시 소자
TWI592441B (zh) A hardenable composition, a cured film, a display element, and a dry film
TW202129415A (zh) 感光性樹脂組合物、硬化物、阻隔壁、有機電致發光元件、彩色濾光片及圖像顯示裝置
WO2022163682A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、カラーフィルタ及び画像表示装置
TW202348639A (zh) 化合物、聚合性組合物、硬化物、彩色濾光器、阻隔壁及圖像顯示裝置
JP7040089B2 (ja) 隔壁形成用感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
KR102466525B1 (ko) 신규한 비페닐 옥심 에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
WO2023054597A1 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、及び画像表示装置
WO2022209771A1 (ja) 着色感光性樹脂組成物、硬化物、隔壁、有機電界発光素子、発光性ナノ結晶粒子を含むカラーフィルタ及び画像表示装置
KR101947474B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 옥심계 광중합 개시제
KR20230144970A (ko) 렌즈의 제조 방법, 감방사선성 조성물, 표시 소자, 표시 장치, 고체 촬상 소자, 촬상 장치 및 화합물
TW202348638A (zh) 感光性樹脂組合物、硬化物及圖像顯示裝置
TW202342555A (zh) 著色感光性樹脂組合物、硬化物、阻隔壁、有機電致發光元件、彩色濾光器及圖像顯示裝置