KR20240044098A - 광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법 - Google Patents

광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20240044098A
KR20240044098A KR1020220123423A KR20220123423A KR20240044098A KR 20240044098 A KR20240044098 A KR 20240044098A KR 1020220123423 A KR1020220123423 A KR 1020220123423A KR 20220123423 A KR20220123423 A KR 20220123423A KR 20240044098 A KR20240044098 A KR 20240044098A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
acrylate
meth
photocurable composition
group
weight
Prior art date
Application number
KR1020220123423A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102663730B1 (ko
Inventor
박상신
박태순
박남희
Original Assignee
주식회사 미뉴타텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 미뉴타텍 filed Critical 주식회사 미뉴타텍
Priority to KR1020220123423A priority Critical patent/KR102663730B1/ko
Publication of KR20240044098A publication Critical patent/KR20240044098A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102663730B1 publication Critical patent/KR102663730B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F267/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated polycarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F22/00
    • C08F267/06Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated polycarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F22/00 on to polymers of esters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

본 명세서는 (메타)아크릴레이트계 모노머; (메타)아크릴레이트계 올리고머; 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트; 및 광개시제를 포함하고, 상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트의 함량이 상기 (메타)아크릴레이트계 모노머 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 500 중량부인 것인 광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 상기 적층체의 제조방법에 관한 것이다.

Description

광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법{PHOTO-CURABLE COMPOSITION, LAMINATE COMPRISING SAME AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME}
본 명세서는 광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법에 관한 것이다.
광학 소자나 렌즈 시트 등의 광학 부품을 제조할 때에는 미세 패턴을 형성하는 공정을 수행하게 되는데, 이와 같이 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 대표적인 기법으로는 포토리소그라피 방법이 있다.
다만, 포토리소그라피 방법은 기판세정, 표면처리, 감광성 고분자 코팅, 열처리, 노광, 현상, 세정 등의 여러단계 공정을 거쳐야만 하기 때문에 공정이 복잡하고 많은 시간이 소요될 뿐만 아니라 고가의 공정 장비를 필요로 한다는 문제가 있으며, 제조 원가의 상승 및 생산성 저하라는 근본적인 단점을 가지고 있다.
이러한 한계를 극복하기 위한 대체 공정 중 하나로 임프린트 리쏘그라피 방법이 있는데, 원하는 패턴을 미리 형성시킨 스탬프를 사용하여 패턴을 각인시키고자 하는 기재 위에 경화성 조성물을 압착하고 경화시켜 패턴을 형성하는 비교적 간단한 공정으로 고 생산성, 저비용의 이점을 갖추고 있다.
이러한 임프린트 공정에서 사용되는 소재 조성물들은 기재 부착성 및 몰드와의 이형 특성을 고려하여 대부분 소수성 물질로 구성되어 있다. 하지만, 본 발명에서 임프린트 공정을 적용하고자 하는 체외진단기용 카트리지에서는 유체 형태인 검체 샘플의 빠른 이동을 위하여 임프린트 이후 표면의 친수 특성이 요구된다는 문제점이 있다. 이에 따라, 표면 코팅(부착) 난이도가 높은 기재인 PMMA의 표면에 패턴을 각인하기 위해서는 자외선 조사에 의한 경화시 기재 부착 특성이 좋은 모노머, 올리고머들을 선정하여 사용해야 하며, 이 중 친수 특성이 좋은 재료들을 별도로 선정해서 사용해야 하기 때문에 소재 선정의 어려움이 있다.
이에 따라, 친수성 원재료를 적용하면서도 기재 부착력은 물론 몰드와의 이형성을 확보하는 등 임프린트 공정 적용이 가능하고, 공정 이후에도 표면 친수 특성이 소실되지 않는 신뢰성 있는 소재 및 공정의 개발이 필요하다.
대한민국 등록 특허 제10-0929381호
본 명세서는 친수성이 높은 광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시상태는 (메타)아크릴레이트계 모노머;
(메타)아크릴레이트계 올리고머;
알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트; 및
광개시제를 포함하고,
상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트의 함량이 상기 (메타)아크릴레이트계 모노머 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 500 중량부인 것인 광경화성 조성물을 제공한다.
본 발명의 일 실시상태는 기재; 및 상기 기재의 일면 또는 양면에 구비된 수지층을 포함하고, 상기 수지층은 상술한 광경화성 조성물을 포함하는 것인 적층체를 제공한다.
본 발명의 일 실시상태는 기재를 준비하는 단계;
기재의 일면 또는 양면에 패턴 전사용 소프트몰드를 구비하는 단계;
상기 기재 및 패턴 전사용 소프트 몰드 사이에 상술한 광경화성 조성물을 구비하는 단계;
상기 광경화성 조성물을 경화시켜 수지층을 형성하는 단계; 및
상기 기재로부터 패턴 전사용 소프트 몰드를 분리하는 단계를 포함하는 것인 적층체의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 광경화성 조성물은 친수성이 우수한 효과가 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 광경화성 조성물은 기재 부착성이 우수한 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시상태에 따른 적층체의 제조방법을 도시한 것이다.
도 2 내지 도 6은 실험예 2의 크로스 커팅 결과를 나타낸 것이다.
이하, 본 발명에 대해 더욱 상세히 설명한다.
본 명세서에 있어서, (메타)아크릴레이트는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 모두 포함하는 의미이다. 또한, 본 명세서에서, (공)중합체는 단독 중합체(homo-polymer)와 공중합체(co-polymer)를 모두 포함하는 의미이다.
본 발명의 일 실시상태는 (메타)아크릴레이트계 모노머;
(메타)아크릴레이트계 올리고머;
알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트; 및
광개시제를 포함하고,
상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트의 함량이 상기 (메타)아크릴레이트계 모노머 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 500 중량부인 것인 광경화성 조성물을 제공한다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 광경화성 조성물은 상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트를 상술한 중량으로 포함함으로써, 친수성이 우수하고, 기재 부착성이 우수한 효과가 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 광경화성 조성물은 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이는 친수성 그룹(Hydrophilic group)으로서, 광경화성 조성물이 적용되는 면을 친수성(Hydrophilic) 표면으로 만들어주는 효과가 있다. 다만, 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트를 과량 포함하는 경우 기재에 대한 부착력이 저하되므로, 함량을 적절히 조절할 필요가 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트의 함량이 상기 (메타)아크릴레이트계 모노머 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 500 중량부, 20 중량부 내지 300 중량부 또는 중량부 내지 150 중량부일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족할 때, 친수성이 우수하고, 기재 부착성이 우수한 효과가 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트는 2 내지 20의 반복 단위수를 갖는 탄소수 1 내지 20의 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 2관능 내지 15관능 (메타)아크릴레이트를 들 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 알킬렌 글리콜 반복단위는 C1 내지 C5의 알킬렌기를 포함하는 것일 수 있다. 바람직하게는 상기 알킬렌기는 에틸렌기일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트는 폴리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트의 중량평균 분자량이 100 g/mol 내지 2,000 g/mol일 수 있다. 바람직하게는, 200 g/mol 내지 1,500 g/mol 또는 300 g/mol 내지 1,000 g/mol일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 광경화성 조성물은 (메타)아크릴레이트계 올리고머를 포함한다. 상기 (메타)아크릴레이트계 올리고머는 광경화성 조성물의 점도가 너무 떨어지지 않도록 하는 역할을 한다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 (메타)아크릴레이트계 올리고머는 우레탄 (메타)아크릴레이트계 올리고머, 에폭시 (메타)아크릴레이트계 올리고머, 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트계 올리고머 및 실리콘 (메타)아크릴레이트계 올리고머로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 잇다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 (메타)아크릴레이트계 올리고머의 함량이 상기 (메타)아크릴레이트계 모노머 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 300 중량부일 수 있다. 바람직하게는, 10 중량부 내지 300 중량부 또는 10 중량부 내지 300 중량부일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족할 때, 조성물로부터 제조된 최종 결과물의 기계적 물성이 우수하고, 성능이 균일하게 유지될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 (메타)아크릴레이트계 올리고머의 중량평균 분자량이 100 g/mol 내지 50,000 g/mol일 수 있다. 바람직하게는, 100 g/mol 내지 30,000 g/mol 또는 100 g/mol 내지 10,000 g/mol일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족할 때, 조성물로부터 제조된 최종 결과물의 기계적 물성이 우수하고, 성능이 균일하게 유지될 수 있다. 상기 중량평균 분자량은 GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 (메타)아크릴레이트계 올리고머는 우레탄 (메타)아크릴레이트계 올리고머를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 우레탄 (메타)아크릴레이트계 올리고머는 우레탄기 및 (메타)아크릴레이트기를 포함하고, 상기 (메타)아크릴레이트기에 대한 우레탄기의 몰비가 0.1 내지 3일 수 있다. 바람직하게는, 0.2 내지 3 또는 0.3 내지 3일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족할 때, 조성물로부터 제조된 최종 결과물의 기계적 물성이 우수한 효과가 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 광경화성 조성물은 (메타)아크릴레이트계 모노머를 포함한다. 상기 성분은 기재에 대한 부착력을 부여하는 역할을 할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 (메타)아크릴레이트계 모노머는 제1 (메타)아크릴레이트계 모노머; 제2 (메타)아크릴레이트계 모노머; 및 제3 (메타)아크릴레이트계 모노머로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 제1 (메타)아크릴레이트계 모노머; 제2 (메타)아크릴레이트계 모노머; 및 제3 (메타)아크릴레이트계 모노머는 각각 상이할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 (메타)아크릴레이트계 모노머는 C1∼C18의 알킬 아크릴레이트일 수 있다. 상기 제1 (메타)아크릴레이트계 모노머는 조성물의 유연성을 향상시킴으로써 공정성을 개선할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 (메타)아크릴레이트계 모노머는 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 아밀아크릴레이트, 이소아밀아크릴레이트, 에틸헥실아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종이 가능하다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 (메타)아크릴레이트계 모노머는 C1∼C18의 알킬 메타크릴레이트, C3∼C18 지방족/방향족 고리 아크릴레이트, C3∼C18 지방족/방향족 고리 메타크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 제2 (메타)아크릴레이트계 모노머는 조성물에 일정 수준의 경도를 부여함으로써, 조성물으로부터 제조된 최종품의 기계적 강도를 향상시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 (메타)아크릴레이트계 모노머는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 프로필메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 아밀메타크릴레이트, 이소아밀메타크릴레이트, 헥실메타크릴레이트, 에틸헥실 메타크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 이소보닐메타아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종이 가능하다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 제3 (메타)아크릴레이트계 모노머는 C1∼C18의 하이드록시알킬 아크릴레이트, C1∼C18의 하이드록시알킬 메타크릴레이트, C3∼C18 하이드록시시클로알킬 아크릴레이트, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함할 수 있다. 상기 제3 (메타)아크릴레이트계 모노머는 조성물에 친수성을 부여할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 제3 (메타)아크릴레이트계 모노머는 하이드록시에틸 아크릴레이트, 하이드록시에틸 메타크릴레이트, 하이드록시 프로필아크릴레이트, 하이드록시 프로필메타크릴레이트, 하이드록시 부틸아크릴레이트, 하이드록시 부틸메타크릴레이트, 락톤 아크릴레이트 락톤 메타크릴레이트, 카프로락톤변성 하이드록시에틸아크릴레이트, 카프로락톤변성 하이드록시 에틸메타아크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 비닐 벤젠산, 이타콘산, 말레인산, 말레산, 푸마르산, 신남산, 크로톤산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종이 가능하다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광개시제는 벤젠 에테르, 벤질 케탈, 알파-하이드록시 알킬페논, 아미노 알킬페논, 포스핀 옥사이드, 캄포르퀴논, 불화티타노센 및 바이이미다졸로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 광개시제는 2,4,6-트리메틸벤조일 포스핀옥사이드, 1-페닐-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 페닐비스 2,4,6-트리메틸벤조일 포스핀옥사이드 및 (1-하이드록시사이클헥실)페닐-메탄온으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물의 물에 대한 접촉각이 60도 이하일 수 있다. 바람직하게는, 40도 이하 또는 30도 이하일 수 있다. 하한은 특별히 한정하지 않으나, 1도 이상 또는 5도 이상일 수 있다. 이 경우, 친수성이 우수하다는 것을 의미한다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물의 25℃ 및 10rpm 내지 100rpm의 전단 속도에서 측정된 점도가 10 내지 300 cPs일 수 있다. 바람직하게는, 10 내지 200 cPs, 또는 10 내지 100cPs 일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 공정성이 개선되는 효과가 있다.
본 발명의 일 실시상태는 기재; 및 상기 기재의 일면 또는 양면에 구비된 수지층을 포함하고, 상기 수지층은 상술한 광경화성 조성물을 포함하는 것인 적층체를 제공한다. 상기 적층체의 수지층은 별도의 전처리 없이도 기재와의 접합력이 우수하며, 물에 대한 친수성이 우수한 효과를 갖는다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지층은 패턴을 포함할 수 있다. 상기 패턴은 U자형, V자형 등 그 형태는 특별히 한정되지 않는다. 상기 적층체가 진단 키트 또는 세포계수기인 경우, 상기 패턴은 유체가 흘러가는 유로로 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 적층체는 진단 키트 또는 세포계수기용일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태는 기재를 준비하는 단계;
기재의 일면 또는 양면에 패턴 전사용 소프트몰드를 구비하는 단계;
상기 기재 및 패턴 전사용 소프트 몰드 사이에 상술한 광경화성 조성물을 구비하는 단계;
상기 광경화성 조성물을 경화시켜 수지층을 형성하는 단계; 및
상기 기재로부터 패턴 전사용 소프트 몰드를 분리하는 단계를 포함하는 것인 적층체의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재 및 패턴 전사용 소프트 몰드 사이에 상술한 광경화성 조성물을 구비하는 단계는 광경화성 조성물을 상기 기재 또는 패턴 전사용 소프트 몰드에 도포하는 단계를 포함할 수 있다. 이때, 정량 토출 장치를 이용할 수 있다. 예를 들어, 상기 기재 표면에 정량 토출 장치를 이용하여 광경화성 조성물을 도포하고, 상기 패턴 전사용 소프트 몰드를 기재 상에 적층할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물을 경화시키는 단계는 상기 광경화성 조성물에 자외선을 조사하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물에 자외선을 조사하는 단계는 상기 기재의 상기 패턴 전사용 소프트 몰드에 대향하는 면의 반대면; 또는 상기 패턴 전사용 소프트 몰드의 상기 기재에 대향하는 면의 반대면 중 어느 하나 이상에 수행될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물에 자외선을 조사하는 단계는 1초 내지 100초, 1초 내지 60초 또는 3초 내지 10초 동안 수행될 수 있다. 상기 수치 범위를 만족할 때, 자외선에 의해 각종 부재가 손상되는 것을 방지하면서, 광경화성 조성물이 충분히 경화될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물에 자외선을 조사하는 단계는 메탈할라이드 램프를 사용할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재 및 패턴 전사용 소프트 몰드 사이에 상술한 광경화성 조성물을 구비하는 단계 이후에, 상기 광경화성 조성물을 가압하는 단계를 포함할 수 있다. 이는, 광경화성 조성물의 두께를 균일하게 하는 과정이며, 가압롤러를 사용할 수 있다.
이하, 실시예를 통해 본 발명을 설명하기로 한다.
실시예 1
(메타)아크릴레이트계 모노머, (메타)아크릴레이트계 올리고머 및 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트 및 광개시제(2,4,6-트리메틸벤조일 포스핀옥사이드)를 혼합 및 교반하여 조성물을 제조하였다. 이때, 광개시제의 함량은 조성물 전체를 기준으로 3 중량부였다.
이때, (메타)아크릴레이트계 모노머로는 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 20 중량부 및 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 20 중량부를 사용하였으며, (메타)아크릴레이트계 올리고머로는 우레탄 아크릴레이트 올리고머 40 중량부 및 실리콘 아크릴레이트 올리고머 20 중량부를 사용하였으며, 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트로는 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트 20 중량부를 사용하였다. 이때, 광개시제를 제외한 성분의 함량은 조성물 중 광개시제를 제외한 나머지 성분의 총 중량을 기준으로 한 것이다.
실시예 2 내지 3 및 비교예 1 내지 2
아래 표 1과 같이 성분의 종류 및 함량을 변경한 것 외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 조성물을 제조하였다.
구성 종류 실시예 1 실시예 2 실시예 3 비교예 1 비교예 2
(A) (메타)아크릴레이트계 모노머; 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 20 15 10 25 15
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 20 15 10 25 15
이소보닐 아크릴레이트 0 0 0 0 20
합계 40 30 20 50 50
(B) (메타)아크릴레이트계 올리고머; 우레탄 아크릴레이트 올리고머 20 20 15 25 25
실리콘 아크릴레이트 올리고머 20 15 15 25 25
합계 40 35 30 50 50
(C) 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트; 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트 20 35 50 0 0
(D) 광개시제 2,4,6-트리메틸벤조일 포스핀옥사이드 3 3 3 3 3
중량비 (B)/(A)*100 100 117 150 100 100
(C)/(A)*100 50 117 250 0 0
실험예 1 : 접촉각 측정
폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA) 기재의 일면에 상기 실시예 및 비교예의 조성물을 도포하고, 자외선 투과형 소프트몰드를 사용하여 가압하였다. 이후, 500 mJ/cm2 광량의 메탈 할라이드 램프를 소프트몰드 면에 조사하여 조성물을 경화함으로써 수지층을 형성하였으며, 소프트몰드를 기재로부터 분리함으로써 적층체를 제조하였다.
상기 제조된 적층체의 수지층 면에 순수(Water)를 적하한 뒤 접촉각 측정기(SEO社 PHEONIX 300)를 이용하여 접촉각을 측정하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
실험예 2 : 박리력 측정
상기 실시예 1과 동일한 방법으로 적층체를 제조한 후, 수지층 면에 대한 크로스 커팅(Cross-cut) 테스트를 진행하여, 수지층의 기재에 대한 박리력을 측정하였다.
구체적으로, 수지층 위에 크로스커터(cross cutter)를 이용하여 커팅 가이드나 적당한 자 등에 대고 샘플에 1 mm 간격으로 바눅판눈 모양으로 가로 세로로 격자 모양으로 그어, 총 100개의 격자를 형성하였다. 그 후, 브러쉬나 무진천으로 수지층의 표면을 세척한 뒤 테이프(니또사 제조)를 붙이고, 180도의 박리 각도로 급격하게 벗긴 후의 박리면에 대하여, 수지층이 얼마나 떨어졌는지 육안으로 관찰함으로써, 초기 100개의 격자 중 남아있는 격자의 수(n)개를 계산하여, 표 2에 n/100으로 나타내었다.
한편, 도 2 내지 도 6에 상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 2에 대한 크로스커팅 결과를 각각 도시하였다.
실시예 1 실시예 2 비교예 1 비교예 2
실험예 1 26도 10~15도 69도 77도
실험예 2 100/100 80/100 100/100 100/100
상기 결과로부터, 실시예 1 및 2에 따른 광경화성 조성물은 순수에 대한 접촉각이 낮고, 기재에 대한 박리력이 높은 것을 확인할 수 있었다.반면에, 비교예 1 및 비교예 2의 광경화성 조성물은 순수에 대한 접촉각이 높은 것을 확인할 수 있었다.

Claims (20)

  1. (메타)아크릴레이트계 모노머;
    (메타)아크릴레이트계 올리고머;
    알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트; 및
    광개시제를 포함하고,
    상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트의 함량이 상기 (메타)아크릴레이트계 모노머 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 500 중량부인 것인 광경화성 조성물.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 알킬렌 글리콜 반복단위는 C1 내지 C5의 알킬렌기를 포함하는 것인 광경화성 조성물.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트는 폴리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트인 것인 광경화성 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 알킬렌 글리콜 반복단위를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트의 중량평균 분자량이 100 g/mol 내지 2,000 g/mol인 것인 광경화성 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 (메타)아크릴레이트계 올리고머는 우레탄 (메타)아크릴레이트계 올리고머, 에폭시 (메타)아크릴레이트계 올리고머, 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트계 올리고머 및 실리콘 (메타)아크릴레이트계 올리고머로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것인 광형화성 조성물.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 (메타)아크릴레이트계 올리고머의 함량이 상기 (메타)아크릴레이트계 모노머 100 중량부를 기준으로 10 중량부 내지 300 중량부인 것인 광경화성 조성물.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 (메타)아크릴레이트계 올리고머의 중량평균 분자량이 100 g/mol 내지 50,000 g/mol인 것인 광경화성 조성물.
  8. 청구항 5에 있어서,
    상기 우레탄 (메타)아크릴레이트계 올리고머는 우레탄기 및 (메타)아크릴레이트기를 포함하고,
    상기 (메타)아크릴레이트기에 대한 우레탄기의 몰비가 0.1 내지 3인 것인 광경화성 조성물.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 (메타)아크릴레이트계 모노머는 제1 (메타)아크릴레이트계 모노머; 제2 (메타)아크릴레이트계 모노머; 및 제3 (메타)아크릴레이트계 모노머로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것인 광경화성 조성물.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 제1 (메타)아크릴레이트계 모노머는 C1∼C18의 알킬 아크릴레이트인 것인 광경화성 조성물.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 제2 (메타)아크릴레이트계 모노머는 C1∼C18의 알킬 메타크릴레이트, C3∼C18 지방족/방향족 고리 아크릴레이트, C3∼C18 지방족/방향족 고리 메타크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것인 광경화성 조성물.
  12. 청구항 9에 있어서,
    상기 제3 (메타)아크릴레이트계 모노머는 C1∼C18의 하이드록시알킬 아크릴레이트, C1∼C18의 하이드록시알킬 메타크릴레이트, C3∼C18 하이드록시시클로알킬 아크릴레이트, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것인 광경화성 조성물.
  13. 청구항 1에 있어서,
    상기 광개시제는 벤젠 에테르, 벤질 케탈, 알파-하이드록시 알킬페논, 아미노 알킬페논, 포스핀 옥사이드, 캄포르퀴논, 불화티타노센 및 바이이미다졸로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것인 광경화성 조성물.
  14. 청구항 1에 있어서,
    물에 대한 접촉각이 60도 이하인 것인 광경화성 조성물.
  15. 청구항 1에 있어서,
    25℃ 및 10rpm 내지 100rpm의 전단 속도에서 측정된 점도가 10 내지 300 cPs인 것인 광경화성 조성물.
  16. 기재; 및
    상기 기재의 일면 또는 양면에 구비된 수지층을 포함하고,
    상기 수지층은 청구항 1 내지 15 중 어느 한 항에 따른 광경화성 조성물을 포함하는 것인 적층체.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 수지층은 패턴을 포함하는 것인 적층체.
  18. 청구항 16에 있어서,
    진단 키트 또는 세포계수기용인 것인 적층체.
  19. 기재를 준비하는 단계;
    기재의 일면 또는 양면에 패턴 전사용 소프트몰드를 구비하는 단계;
    상기 기재 및 패턴 전사용 소프트 몰드 사이에 청구항 1 내지 15 중 어느 한 항에 따른 광경화성 조성물을 구비하는 단계;
    상기 광경화성 조성물을 경화시켜 수지층을 형성하는 단계; 및
    상기 기재로부터 패턴 전사용 소프트 몰드를 분리하는 단계를 포함하는 것인 적층체의 제조방법.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 광경화성 조성물을 경화시키는 단계는
    상기 광경화성 조성물에 자외선을 조사하는 단계를 포함하는 것인 적층체의 제조방법.
KR1020220123423A 2022-09-28 2022-09-28 광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법 KR102663730B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220123423A KR102663730B1 (ko) 2022-09-28 2022-09-28 광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220123423A KR102663730B1 (ko) 2022-09-28 2022-09-28 광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20240044098A true KR20240044098A (ko) 2024-04-04
KR102663730B1 KR102663730B1 (ko) 2024-05-03

Family

ID=90638085

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220123423A KR102663730B1 (ko) 2022-09-28 2022-09-28 광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102663730B1 (ko)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020002402A (ko) * 1999-03-19 2002-01-09 다께다 가즈히꼬 우레탄 올리고머, 그의 수지조성물, 그의 경화물
KR100929381B1 (ko) 2007-11-22 2009-12-02 주식회사 미뉴타텍 몰드 시트 조성물 및 이를 이용한 몰드 시트 제조방법
JP2016199617A (ja) * 2015-04-07 2016-12-01 日本合成化学工業株式会社 光硬化性組成物
KR20180106524A (ko) * 2017-03-20 2018-10-01 주식회사 케이씨씨 경화성 조성물

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020002402A (ko) * 1999-03-19 2002-01-09 다께다 가즈히꼬 우레탄 올리고머, 그의 수지조성물, 그의 경화물
KR100929381B1 (ko) 2007-11-22 2009-12-02 주식회사 미뉴타텍 몰드 시트 조성물 및 이를 이용한 몰드 시트 제조방법
JP2016199617A (ja) * 2015-04-07 2016-12-01 日本合成化学工業株式会社 光硬化性組成物
KR20180106524A (ko) * 2017-03-20 2018-10-01 주식회사 케이씨씨 경화성 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
KR102663730B1 (ko) 2024-05-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4124991B2 (ja) フレネルレンズ用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びフレネルレンズシート
US20080258345A1 (en) Liquid Radiation-Curing Compositions
JP3982377B2 (ja) 光硬化性樹脂組成物及び光学部材
EP3418313B1 (en) Composition optical three-dimensional molding
JPWO2005008299A1 (ja) レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びレンズシート
JP3668310B2 (ja) 光学的立体造形用樹脂組成物
TW201942271A (zh) 由積層製造法製成之具有降低的表面霧度之三維物件
JP2021113334A (ja) 硬化性樹脂組成物、およびその硬化物
US20230242697A1 (en) Photocurable resin composition for three-dimensional modeling and method for producing three-dimensional object
TW202118804A (zh) 光可固化(甲基)丙烯酸酯組合物
JP2011082347A (ja) インプリント用硬化性組成物、硬化物の製造方法および硬化物
KR102663730B1 (ko) 광경화성 조성물, 이를 포함하는 적층체 및 적층체의 제조방법
CN108713033A (zh) 模型材用组合物、光造型品以及光造型品的制造方法
WO2020196753A1 (ja) 光硬化性立体造形用組成物、立体造形物及び立体造形物の製造方法
JP2016020489A (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
JP4315507B2 (ja) 耐熱性に優れる光硬化性樹脂組成物
JP4228780B2 (ja) 注型重合用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
JP3741446B2 (ja) 光ファイバ一次被覆用紫外線硬化型樹脂組成物
CN116744900A (zh) 指甲或人工指甲用光固化性树脂组合物、固化物及指甲或人工指甲的覆盖方法
JP7279919B2 (ja) 光学的立体造形用組成物、並びに立体造形物、及びその製造方法
JPH03296513A (ja) 紫外線硬化型光学レンズ用樹脂組成物及び光学レンズ
EP3744740B1 (en) Composition for optical three-dimensional shaping, three-dimensional shaped object, and production method therefor
JP4588513B2 (ja) 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた立体造形物
JP6753038B2 (ja) 光硬化性組成物
JP2014084401A (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、活性エネルギー線硬化性コーティング剤、活性エネルギー線硬化物およびその成形物品

Legal Events

Date Code Title Description
GRNT Written decision to grant