KR20240037375A - 점착제 수지 조성물, 점착 시트, 활성 에너지선 경화성 점착 시트, 광학 부재, 화상 표시 장치용 적층체 및 화상 표시 장치 - Google Patents

점착제 수지 조성물, 점착 시트, 활성 에너지선 경화성 점착 시트, 광학 부재, 화상 표시 장치용 적층체 및 화상 표시 장치 Download PDF

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Abstract

점착제 수지 조성물에 관하여, 개시제 및 가교제의 배합량을 적게 할 수 있으며, 가교 후에, 개시제 및 그 분해물 등의 저분자량 화합물 등이 잔존하는 양을 저감하고, 응집력을 높일 수 있으며, 특히 내자외선 발포 신뢰성을 높일 수 있으며, 금속 부식을 촉진하지 않는 성질도 구비한 점착제 수지 조성물을 제공한다. (메타)아크릴계 중합체 또는 (메타)아크릴계 공중합체(A)(「(메타)아크릴계 (공)중합체(A)」라고 칭한다), 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B), 및, 당해 화합물(B) 이외의 화합물로 이루어지는 개시제(C)를 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 수지 조성물.

Description

점착제 수지 조성물, 점착 시트, 활성 에너지선 경화성 점착 시트, 광학 부재, 화상 표시 장치용 적층체 및 화상 표시 장치{ADHESIVE RESIN COMPOSITION, ADHESIVE SHEET, ACTIVE ENERGY RAY CURABLE ADHESIVE SHEET, OPTICAL MEMBER, LAMINATE FOR IMAGE DISPLAY DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은, 화상 표시 장치를 구성하는 부재를 첩합(貼合)시키는 용도 등에 적합하게 이용할 수 있는 점착제 수지 조성물 및 당해 점착제 수지 조성물로 형성되는 점착 시트, 특히, 활성 에너지선 경화성을 구비한 활성 에너지선 경화성 점착 시트, 및, 광학 부재, 화상 표시 장치용 적층체 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
최근, 화상 표시 장치의 시인성을 향상시키기 위해서, 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP) 또는 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD) 등 화상 표시 패널과, 그 전면측(시인측)에 배치하는 보호 패널이나 터치 패널 부재와의 사이의 공극을, 점착 시트나 액상의 접착제 등으로 충전하여, 입사광이나 표시 화상으로부터의 출사광의 공기층 계면에서의 반사를 억제하는 것이 행해지고 있다.
점착제를 이용하여, 이러한 화상 표시 장치용 구성 부재 사이의 공극을 충전하는 방법으로서, 예를 들면 특허문헌 1에는, 자외선 경화성 수지를 포함하는 액상의 광경화성 점착제 수지 조성물을 당해 공극에 충전한 후, 자외선을 조사하여 경화시키는 방법이 개시되어 있다.
또한, 화상 표시 장치용 구성 부재 사이를, 점착 시트를 이용하여 첩합시키는 방법도 알려져 있다. 예를 들면 특허문헌 2에는, 투명 양면 점착 시트의 적어도 편측에, 화상 표시 장치 구성 부재가 적층하여 이루어지는 구성을 구비한 화상 표시 장치 구성용 적층체의 제조 방법으로서, 자외선에 의해 1차 가교된 광경화성 점착 시트를 개재하여, 2개의 화상 표시 장치 구성 부재를 적층한 후, 화상 표시 장치 구성 부재를 개재하여 상기 광경화성 점착 시트에 자외선 조사하여 2차 가교시켜서 경화시키는 방법이 개시되어 있다.
추가로 특허문헌 3에는, 전단법에 의한 동적 점탄성 측정에 의해 얻어지는 손실 정접(Tanδ)의 극대값을 나타내는 온도가 -20℃ 이상이며, 또한 중량 평균 분자량이 5만~80만의 아크릴 공중합체 50~90질량부와, 분자량이 700 이상이며, 또한 호모폴리머의 전단법에 의한 동적 점탄성 측정에 의해 얻어지는 손실 정접(Tanδ)의 극대값을 나타내는 온도가 0℃ 미만인 다관능 (메타)아크릴레이트 모노머 10~50질량부와, 수소 인발형의 광중합 개시제를 포함하는, 활성 에너지선 경화형 점착 조성물 즉 광경화성 점착제 수지 조성물에 대하여 개시되어 있다.
또한, 특허문헌 4에는, 자외선 가교성의 감압성 접착제 시트에 있어서, 자외선 가교성의 부위를 가지는 (메타)아크릴산 에스테르를 포함하는 단량체인 (메타)아크릴 공중합체를 포함하며, 상기 감압성 접착제 시트의 자외선 가교 전의 저장 탄성률이, 30℃, 1㎐에 있어서, 5.0×104~1.0×106Pa이며, 80℃, 1㎐에 있어서, 5.0×104Pa 이하이며, 상기 감압성 접착제 시트의 자외선 가교 후의 저장 탄성률이, 130℃, 1㎐에 있어서, 1.0×103Pa 이상인, 자외선 가교성의 감압성 접착제 시트, 즉 광경화성 감압성 점착 시트에 대하여 개시되어 있다.
국제공개 제2010/027041호 일본국 특허 제4971529호 공보 일본국 공개특허 특개2008-248103호 공보 일본국 공표특허 특표2013-522393호 공보
최근의 화상 표시 장치의 박형(薄型)화 및 경량화에 수반하여, 표면 보호 패널 등의 화상 표시 구성 부재에 관해서, 종래는 글라스 재료로 형성되고 있었던 것이, 아크릴이나 폴리카보네이트 등의 플라스틱 재료로 변경되고 있고, 그 재료 변경에 수반하여 새로운 과제가 생기고 있다. 예를 들면, 플라스틱판과 양면 점착 시트의 적층체가, 고온·고습 조건에 폭로되거나, 혹은, 자외선에 노출되거나 하면, 당해 플라스틱판으로부터 아웃 가스가 발생하여, 기포, 들뜸, 박리 등의 원인이 된다고 하는 과제가 생기고 있다.
이러한 기포나 들뜸, 박리를 억제하기 위해서, 점착 시트에 대하여 응집력을 추가로 높이는 것이 요구되고 있다.
또한, 터치 패널을 구비한 화상 표시 장치 등에서는, 예를 들면 터치 패널과 액정 모듈, 터치 패널과 표면 보호 패널 등, 터치 패널과 다른 구성 부재를 점착 시트를 개재하여 첩합시켜서 일체화하는 것이 행해진다.
그런데, 터치 패널이 구비하고 있는 투명 도전층이나 도체 패턴은, 부식에 대하여 취약하며, 점착 시트의 아웃 가스나 용출 성분 유래의 산성분 등에 의해 부식되기 쉬운 것이 지적되고 있다.
그중에서도, 활성 에너지선 경화(가교)성을 구비한 점착제 수지 조성물에 관해서는, 활성 에너지선, 예를 들면 광조사에 의해 개시제가 활성화하여 라디칼을 발생하고, 이 라디칼이 금속 재료 중의 은과 반응하여 부식을 진행시킬 우려가 있다.
그 때문에, 특히 활성 에너지선 경화성 점착제 수지 조성물에 대하여, 금속 부식을 촉진시키지 않는 성능을 구비하는 것이 요구되고 있다.
그래서 본 발명에서는, 점착 시트, 특히 상기와 같은 활성 에너지선 경화성 점착 시트의 응집력을 추가로 높이기 위해서, 개시제 및 그 분해물 등이 경화(가교) 후에 잔존하는 경우의 영향에 대하여 검토하였다.
그 결과, 개시제나 가교제 등의 저분자량 화합물을 함유하는 활성 에너지선 경화성 점착제 수지 조성물에 있어서는, 활성 에너지선 경화 후의 점착 시트 내에, 개시제 및 그 분해물, 나아가서는 가교제 등의 저분자량 화합물이 잔존하면, 점착 시트의 응집력이 저하되고, 내열발포 신뢰성, 내습열 발포 신뢰성 및 내자외선 발포 신뢰성 등에 악영향을 끼치는 것을 알았다.
또한, 개시제나 가교제, 예를 들면 개열형 개시제의 개열 후 잔사 등에, 산성분이나 할로겐이 포함되어 있는 경우, 이들이 그대로 저분자량 화합물로서 잔존하면, 이들 산성분이나 할로겐이, 예를 들면 ITO나 Cu, Ag 등의 금속 부품을 부식시키는 한가지 원인이 되는 것도 알았다.
추가로, 수소 인발형 개시제나 미반응의 개열형 개시제 등이 그대로 저분자량 화합물로서 다량으로 잔존하면, 광조사에 의해 발생하는 라디칼이 금속을 부식시키는 한가지 원인이 되는 것도 알았다.
그래서 본 발명은, 점착제 수지 조성물, 특히 활성 에너지선 경화성을 구비한 점착제 수지 조성물에 관한 것으로서, 활성 에너지선 경화 후에, 개시제 및 그 분해물 등의 저분자량 화합물 등이 잔존하는 양을 최대한 저감하기 위해서, 개시제 및 가교제의 배합량을 적게 할 수 있으며, 그러면서, 활성 에너지선 경화 후의 응집력을 충분하게 높일 수 있으며, 특히 내자외선 발포 신뢰성을 높일 수 있으며, 나아가서는 금속 부식을 촉진하지 않는 성질도 구비한, 새로운 점착제 수지 조성물을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명은, (메타)아크릴계 중합체 또는 (메타)아크릴계 공중합체(A)(「(메타)아크릴계 (공)중합체(A)」라고 칭한다), 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B), 및, 당해 화합물(B) 이외의 화합물로 이루어지는 개시제(C)를 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 또한, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)과, 당해 화합물(B) 이외의 화합물로 이루어지는 개시제(C)를 조합시키고, (메타)아크릴계 (공)중합체(A)와 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는, 개시제로서의 화합물(B)의 사용 방법에 관한 것이다.
탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)은, 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼을 발생시키는, 소위 개시제로서 기능하는 성질과, 가교제로서의 성질의 양방을 겸비하고 있기 때문에, 1개의 화합물로 개시제 및 가교제의 역할을 동시에 달성할 수 있기 때문에, 개시제 및 가교제의 사용량 그 자체를 적게 할 수 있다.
그러나, 실제로, (메타)아크릴계 (공)중합체(A)에 대하여 당해 화합물(B)을 배합하여 사용해 보면, 당해 화합물(B) 단독으로는 개시제로서 기능하지 않거나, 또는, 당해 기능이 현저하게 낮은 것이 명백하게 되었다.
추가로, 당해 화합물(B)과, 다른 개시제(C), 특히 개열형 광개시제를 조합시켜서 사용하면, 당해 화합물(B)이 개시제로서 기능하는 것도 명백하게 되었다.
그리고, 당해 화합물(B)과 개시제(C)의 합계 함유량은, 종래, 광경화성 점착제 수지 조성물에 사용되고 있었던 개시제 및 가교제의 합계 함유량보다도, 적게 할 수 있는 것도 알았다.
추가로, 당해 화합물(B)과, 당해 화합물(B) 이외의 화합물로 이루어지는 개시제(C)를 조합시키고, (메타)아크릴계 (공)중합체(A)와 혼합하면, 당해 화합물(B)은, 개시제(C)의 작용에 의해, 라디칼 중합성 관능기가 반응하여 고분자량화하기(가교제로서 작용하기) 때문에, 저분자량 화합물로서 잔존하는 일이 없으며, 또한, 당해 라디칼 중합성 관능기가 반응한 화합물(B)은 개시제로서도 기능하기 때문에, 개시제(C)의 함유량은 극소량으로 억제할 수 있다.
따라서, 계(系) 내의 저분자량 화합물의 양을 대폭 억제할 수 있으며, 점착제 수지 조성물의 응집력을 높일 수 있으며, 내자외선 발포성을 높일 수 있다.
추가하여, 개시제에 의한 금속으로의 악영향도 지극히 작아지기 때문에, 금속 부식을 촉진하지 않는 성질을 구비할 수 있다.
도 1은 후술하는 실시예에서 행한 내(耐)ITO 부식 신뢰성 및 내(耐)Cu 부식 신뢰성의 평가 시험 방법을 설명하기 위한 도면이며, (A)는 ITO 글라스 기판의 ITO 패턴의 상면도 또는 내부식 신뢰성 평가용 구리 글라스 기판의 구리 패턴의 상면도, (B)는 내ITO 부식 신뢰성 평가용 ITO 글라스 기판 상에 점착 시트를 피복한 상태를 나타낸 상면도 또는 내Cu 부식 신뢰성 평가용 구리 글라스 기판 상에 점착 시트를 피복한 상태를 나타낸 상면도, (C)는 내ITO 부식 신뢰성 평가용 샘플의 단면도, (D)는 내Cu 부식 신뢰성 평가용 샘플의 단면도이다.
도 2는 후술하는 실시예에서 행한 내(耐)Ag 부식 신뢰성의 평가 시험 방법을 설명하기 위한 도면이다.
다음으로, 실시형태예에 의거하여 본 발명을 설명한다. 단, 본 발명이 다음에 설명하는 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
<<본 조성물>>
본 발명의 실시형태의 일례와 관련되는 점착제 수지 조성물(「본 조성물」이라고도 칭한다.)은, (메타)아크릴계 (공)중합체(A), 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B), 및, 당해 화합물(B) 이외의 화합물로 이루어지는 개시제(C)를 포함하고, 필요에 따라, 추가로 방청제(D), 가교제(E), 그 외의 성분을 포함하는 점착제 수지 조성물이다.
탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)은, 개시제로서도 가교제로서도 기능할 수 있는 화합물이며, 활성 에너지선에 의한 여기 하에서 중합 반응을 개시시키는 라디칼을 발생하는 기, 즉 라디칼 발생기의 작용에 의해 개시제로서도 작용하는 것 이외에, 라디칼 중합성 관능기에 의한 반응에 의해 화합물(B)끼리가 중합함으로써 가교제로서도 기능한다.
단, 화합물(B)은, 단독으로는 개시제로서 기능하지 않거나, 또는, 그 기능이 현저하게 낮은 한편, 다른 개시제(C)와 조합시켜서 사용하면, 개시제로서 기능한다.
즉, 개시제(C)로부터 생성한 활성한 라디칼종이, 당해 화합물(B)의 탄소-탄소 이중 결합을 개열함으로써, 당해 화합물(B)끼리를 중합시키면, 라디칼 발생기가 작용하여 개시제로서도 기능한다.
또한, 본 발명에 있어서, 「활성 에너지선」이란, 활성종을 발생하는 화합물을 분해하여 활성종을 발생시킬 수 있는 에너지선을 뜻하며, 이러한 활성 에너지선으로서는, 예를 들면 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선 및 전자선 등을 들 수 있다. 그중에서도, 자외선 및 전자선이 바람직하다.
상기한 바와 같이, 본 조성물에 있어서는, 당해 화합물(B)끼리가 중합하여 고분자량화하기 때문에, 저분자량 화합물의 생성을 억제할 수 있으며, 점착제 수지성 조성물의 응집력을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 라디칼 발생기가, 수소 인발 반응을 발생시킴으로써 라디칼을 발생시키는 구조를 가지는 경우, (메타)아크릴계 공중합체(A) 분자간에 가교 구조를 형성할 수도 있으며, 추가로 응집력을 향상시킬 수 있다.
이상과 같이, 당해 화합물(B)은, 그 단독으로는, 개시제 및 가교제로서의 기능은 없거나, 또는 현저하게 낮지만, 당해 화합물(B) 이외의 개시제(C)를 병용시켜, 당해 화합물(B)의 라디칼 중합성 관능기를 개열시킴으로써, 개시제 및 가교제로서의 양 기능을 발현할 수 있다.
또한, 상기 기능의 발현의 작용 메커니즘은, 다음과 같이 추찰된다.
탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기의 양방을 가지는 화합물(B)은, 라디칼 중합성 관능기가 가지는 π전자, 혹은, 그 1차 구조의 영향에 의해, 라디칼 발생기의 반응성을 저하시키는 방향으로 작용한다.
그래서, 당해 화합물(B) 이외의 개시제(C)를 병용하고, 개시제(C)의 작용에 의해 당해 화합물(B)의 라디칼 중합성 관능기의 이중 결합을 반응(개열)시켜버림으로써, 상기 서술한 당해 라디칼 발생기의 반응성을 저하시키는 작용이 없어져, 라디칼 발생기에 의한 반응이 진행해 간다.
특히, 당해 화합물(B)로서 (메타)아크릴로일기 및 벤조페논 구조를 가지는 화합물을 사용하였을 경우를 일례로서, 작용 기구를 보다 구체적으로 설명하면, 이하와 같이 된다고 추찰된다.
라디칼 발생기인 벤조페논 구조에 활성 에너지선이 조사되어 여기 상태가 될 때, 벤조페논 구조 중의 카르보닐기의 홑전자가 산소원자측에 국재(局在)함으로써, 여기된 벤조페논 구조의 수소 인발 반응성이 향상된다.
그러나, 당해 화합물(B)과 같이, 라디칼 중합성 관능기인, π전자를 가지는 (메타)아크릴로일기를 동일 분자 중에 가지면, 그 영향에 의해, 상기 서술한 카르보닐기의 전하의 편향이 억제된다.
즉, 당해 화합물(B) 단독으로는, 벤조페논 구조의 개시제로서의 기능, 즉 수소 인발에 의한 라디칼 반응성이 현저하게 저하된다.
한편, 당해 화합물(B)의 라디칼 중합성 관능기의 이중 결합을 반응(개열)시킨 경우에는, 상기 서술한 반응성을 저하시키는 작용이 없어지기 때문에, (B)의 여기된 벤조페논 구조의 수소 인발 반응성이 향상하여, 수소 인발에 의한 라디칼 반응이 진행해 간다.
본 조성물은, 상기와 같은 작용 메커니즘에 의해, 응집력이 높아질 뿐만 아니라, 당해 화합물(B)이 저분자량의 상태로 잔존하는 것을 억제할 수 있기 때문에, 응집력의 저하를 억제할 수도 있으며, 우수한 내발포 신뢰성을 얻을 수 있다.
추가로, 개시제(C)의 함유량을 억제할 수 있으며, 개시제에 의한 금속으로의 악영향도 지극히 작아지기 때문에, 금속 부식을 촉진하지 않는 성질을 구비할 수 있다.
게다가, 당해 화합물(B)과 개시제(C)의 합계 함유량은, 종래, 광경화성 점착제 수지 조성물에 사용되고 있었던 개시제 및 가교제의 합계 함유량보다도, 적게 할 수 있다.
<(메타)아크릴계 (공)중합체(A)>
상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A)로서는, 하기 식 1(식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소 원자수 4~18인 직쇄(直鎖) 또는 분기상(分岐狀)의 알킬기를 나타낸다.)로 나타내지는 구조 단위, 소위 모노머 성분을 50질량% 이상 포함하는 것이 바람직하다.
그중에서도, (메타)아크릴계 (공)중합체(A)는, 상기 모노머 성분을 55질량% 이상 포함하는 것이 더욱 바람직하고, 그중에서도 60질량% 이상 포함하는 것이 특히 바람직하다.
또한, 본 발명에 있어서, 「(메타)아크릴」이란, 아크릴 및 메타크릴을, 「(메타)아크릴로일」이란, 아크릴로일 및 메타크릴로일을, 「(메타)아크릴레이트」란 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 각각 포괄하는 의미이며, 「(공)중합체」란, 중합체 및 공중합체를 포괄하는 의미이다.
[화학식 1]
상기 식 1로 나타나는 모노머로서는, 예를 들면 n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 이소펜틸(메타)아크릴레이트, 네오펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 EO 변성(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, t-부틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 운데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 트리데실(메타)아크릴레이트, 테트라데실(메타)아크릴레이트, 세틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 3,5,5-트리메틸시클로헥산(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용하여도 된다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 병용하여 이용할 수 있다. 상기 중에서도, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트 중 어느 1종 이상을 포함하는 것이 특히 바람직하다.
상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A)는, 상기 모노머 성분 이외의 「다른 공중합성 모노머」를 공중합 성분으로서 가지는 것이 바람직하다.
상기 「다른 공중합성 모노머」는, (메타)아크릴계 (공)중합체(A) 중에, 1~30질량% 포함하는 것이 바람직하고, 그중에서도 2질량% 이상 혹은 25질량% 이하의 비율로 포함되어지는 것이 보다 바람직하다.
당해 「다른 공중합성 모노머」로서는, 예를 들면 (a) 카르복실기 함유 모노머(이하 「공중합성 모노머 A」라고도 칭한다.), (b) 수산기 함유 모노머(이하 「공중합성 모노머 B」라고도 칭한다.), (c) 아미노기 함유 모노머(이하 「공중합성 모노머 C」라고도 칭한다.), (d) 에폭시기 함유 모노머(이하 「공중합성 모노머 D」라고도 칭한다.), (e) 아미드기 함유 모노머(이하 「공중합성 모노머 E」라고도 칭한다.), (f) 비닐 모노머(이하 「공중합성 모노머 F」라고도 칭한다.), (g) 측쇄의 탄소수가 1~3인 (메타)아크릴레이트 모노머(이하 「공중합성 모노머 G」라고도 칭한다.), (h) 매크로 모노머(이하 「공중합성 모노머 H」라고도 칭한다.), (i) 방향족 함유 모노머(이하 「공중합성 모노머 I」라고 칭한다)나, (j) 그 외 관능기 함유 모노머(이하 「공중합성 모노머 J」)를 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 병용하여 이용할 수 있다.
상기 공중합성 모노머 A로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산, 카르복시에틸(메타)아크릴레이트, 카르복시프로필(메타)아크릴레이트, 카르복시부틸(메타)아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸말레산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필말레산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필숙신산, 크로톤산, 푸마르산, 말레산, 이타콘산을 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜도 된다.
상기 공중합성 모노머 B로서는, 예를 들면 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류를 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜도 된다.
상기 공중합성 모노머 C로서는, 예를 들면 아미노메틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트, 아미노프로필(메타)아크릴레이트, 아미노이소프로필(메타)아크릴레이트 등의 아미노알킬(메타)아크릴레이트, N-알킬아미노알킬(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트 등의 N,N-디알킬아미노알킬(메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜도 된다.
상기 공중합성 모노머 D로서는, 예를 들면 글리시딜(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트글리시딜에테르를 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜도 된다.
상기 공중합성 모노머 E로서는, 예를 들면 (메타)아크릴아미드, N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, N-부틸(메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N-메틸올프로판(메타)아크릴아미드, N-메톡시메틸(메타)아크릴아미드, N-부톡시메틸(메타)아크릴아미드, 다이아세톤(메타)아크릴아미드, 말레산 아미드, 말레이미드를 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜도 된다.
상기 공중합성 모노머 F로서는, 비닐기를 분자 내에 가지는 화합물을 들 수 있다. 이러한 화합물로서는, 알킬기의 탄소수가 1~12인 (메타)아크릴산 알킬에스테르류 및 분자 내에 히드록실기, 아미드기 및 알콕실알킬기 등의 관능기를 가지는 관능성 모노머류 및 폴리알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트류 및 아세트산 비닐, N-비닐-2-피롤리돈, 프로피온산 비닐 및 라우르산 비닐 등의 비닐에스테르 모노머 및 스티렌, 클로로스티렌, 클로로메틸스티렌, α-메틸스티렌 및 그 외의 치환 스티렌 등의 방향족 비닐 모노머를 예시할 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜도 된다.
상기 공중합성 모노머 G로서는, 예를 들면 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜도 된다.
상기 공중합성 모노머 H로서의 매크로 모노머는, 말단의 관능기와 고분자량 골격 성분을 가지는 고분자 단량체이며, 중합에 의해 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체가 되었을 때에 측쇄의 탄소수가 20 이상이 되는 모노머인 것이 바람직하다.
공중합성 모노머 H를 이용함으로써, 그래프트 공중합체의 가지 성분으로서 매크로 모노머를 도입하여, (메타)아크릴산 에스테르 공중합체를 그래프트 공중합체로 할 수 있다. 예를 들면 가지 성분으로서 매크로 모노머를 구비한 그래프트 공중합체로 이루어지는 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체(a)로 할 수 있다.
따라서, 공중합성 모노머 H와, 그 이외의 모노머의 선택이나 배합 비율에 의해, 그래프트 공중합체의 주쇄와 측쇄의 특성을 변화시킬 수 있다.
상기 매크로 모노머의 골격 성분은, 아크릴산 에스테르 중합체 또는 비닐계 중합체로부터 구성되는 것이 바람직하다. 예를 들면 상기 측쇄의 탄소수가 4~18인 직쇄 또는 분기 알킬(메타)아크릴레이트, 상기 공중합성 모노머 A, 상기 공중합성 모노머 B, 상기 공중합성 모노머 G 등으로 예시되는 것을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종류 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다.
상기 공중합성 모노머 I로서는, 예를 들면 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 노닐페놀 EO 변성(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜도 된다.
상기 공중합성 모노머 J로서는, 예를 들면 (메타)아크릴 변성 실리콘이나, 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1H,1H,5H-옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 1H,1H,2H,2H-트리데카플루오로-n-옥틸(메타)아크릴레이트 등의 함(含)불소 모노머 등을 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜도 된다.
상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A)는, 금속 부식 방지성 및 내습열 백화성 등의 관점에서, 상기 「공중합성 모노머 A」를 포함하지 않거나 또는 실질적으로 포함하지 않는 것인 것이 바람직하다.
또한, 「공중합성 모노머 A를 포함하지 않거나 또는 실질적으로 포함하지 않는다」란, 완전하게 포함하지 않을 경우뿐만 아니라, (메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체 중에, 공중합성 모노머 A가 0.5질량% 미만, 바람직하게는, 0.1질량% 미만으로 포함하는 것을 허용하는 의미이다.
상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A)는, 점착제에 점접착력화나 응집력을 부여하는 관점에서, 수산기 함유 모노머 및/또는 질소 원자 함유 모노머를 포함하는 것인 것이 바람직하다. 따라서, 상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A)는, 상기 「공중합성 모노머 B」나, 질소 원자 함유 모노머, 특히 「공중합성 모노머 E」를, 공중합 성분으로서 가지는 것이 특히 바람직하다.
<화합물(B)>
화합물(B)은, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물이다.
여기에서, 상기 「탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기」로서는, 예를 들면 (메타)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 가지는 관능기를 들 수 있다.
한편, 화합물(B)에 있어서 상기 「라디칼 발생기」란, 활성 에너지선에 의한 여기 하에서 중합 반응을 개시시키는 라디칼을 발생하는 기를 의미한다.
상기 「라디칼 발생기」로서는, 특히, 활성 에너지선의 조사에 의해 여기되며, 수소 인발 반응을 발생시킴으로써 라디칼을 발생시키는 구조가 바람직하다.
당해 화합물(B)이 라디칼 발생기를 구비하고 있는 것에 의해, 예를 들면 당해 화합물(B)끼리를 중합시키거나, (메타)아크릴계 (공)중합체(A) 분자간에 가교 구조를 형성하거나 할 수 있으므로 점착제 수지 조성물의 응집력을 향상시킬 수 있다.
상기 화합물(B)로서는, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기를 분자 내에 가지고, 또한, 라디칼 발생기, 즉, 활성 에너지선의 조사를 받으면 라디칼을 발생하는 관능기를 가지는 것이면 된다.
특히, (메타)아크릴계 (공)중합체(A)의 분자 등으로부터 수소를 인발하여 라디칼을 발생시키는 것이 가능한 구조를 가지는 것이 바람직하다.
상기 화합물(B)로서, 예를 들면, (메타)아크릴로일기와, 벤조페논 구조, 벤질 구조, o-벤조일벤조산 에스테르 구조, 티오크산톤 구조, 3-케토쿠마린 구조, 2-에틸안트라퀴논 구조 및 캄퍼퀴논 구조 중 어느 1개의 구조 또는 2개 이상의 구조를 가지는 화합물을 들 수 있다.
상기 중에서도 특히, 화합물(B)은, (메타)아크릴로일기와 벤조페논 구조를 가지는 화합물인 것이 바람직하다.
보다 구체적으로는, 4-아크릴로일옥시벤조페논, 4-아크릴로일옥시에톡시벤조페논, 4-아크릴로일옥시-4'-메톡시벤조페논, 4-아크릴로일옥시에톡시-4'-메톡시벤조페논, 4-아크릴로일옥시-4'-브로모벤조페논, 4-아크릴로일옥시에톡시-4'-브로모벤조페논, 4-메타크릴로일옥시벤조페논, 4-메타크릴로일옥시에톡시벤조페논, 4-메타크릴로일옥시-4'-메톡시벤조페논, 4-메타크릴로일옥시에톡시-4'-메톡시벤조페논, 4-메타크릴로일옥시-4'-브로모벤조페논, 4-메타크릴로일옥시에톡시-4'-브로모벤조페논 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
상기 화합물(B)의 함유량의 하한값으로서는, 본 조성물의 전체 질량을 기준으로 하여, 0.2질량% 이상인 것이 바람직하고, 0.3질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.5질량% 이상인 것이 가장 바람직하다. 또한, 그 상한값으로서는, 본 조성물의 전체 질량을 기준으로 하여, 5질량% 이하인 것이 바람직하고, 2질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 1질량% 이하인 것이 가장 바람직하다.
<개시제(C)>
상기 개시제(C)로서는, 상기 화합물(B) 이외의 화합물로 이루어지는 개시제면 된다. 예를 들면, 상기 화합물(B) 이외의 화합물로 이루어지는 열개시제 또는 광개시제를 들 수 있다.
상기 열개시제로서는, 유기 또는 무기 과산화물, 또는, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스-2-히드록시메틸프로피오니트릴, 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 및 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴) 등의 아조계 화합물 등도 사용할 수 있다.
상기 광개시제로서는, 자외선이나 가시광선 등의 광, 보다 구체적으로는, 파장 200㎚~780㎚의 광을 조사함으로써 활성한 라디칼종을 발생하는 화합물이며, 개열형 광개시제 및 수소 인발형 개시제 중 어느 것도 사용할 수 있다.
개열형 광개시제로서는, 예를 들면 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-(4-(2-히드록시에톡시)페닐)-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-1-[4-{4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)벤질}페닐]-2-메틸-프로판-1-온, 올리고(2-히드록시-2-메틸-1-(4-(1-메틸비닐)페닐)프로판온), 페닐글리옥실산 메틸, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴린일)페닐]-1-부탄온, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, (2,4,6-트리메틸벤조일)에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일) 2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드나, 그들의 유도체 등을 들 수 있다.
수소 인발형 광개시제로서는, 예를 들면 벤조페논, 4-메틸-벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4-페닐벤조페논, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 4-(메타)아크릴로일옥시벤조페논, 2-벤조일벤조산 메틸, 벤조일포름산 메틸, 비스(2-페닐-2-옥소아세트산)옥시비스에틸렌, 4-(1,3-아크릴로일-1,4,7,10,13-펜타옥소트리데실)벤조페논, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 3-메틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-tert-부틸안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논이나 그 유도체 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 상기 화합물(B)이 가지는 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기의 불포화 이중 결합을 열 수 있는 성질이 우수한 관점에서 보면, 개열형 광개시제가 바람직하다. 그중에서도, 아미노케톤 구조를 가지는 개열형 광개시제, 아실포스핀옥사이드 구조를 가지는 개열형 광개시제, 히드록시케톤 구조를 가지는 개열형 광개시제, 티타노센 구조를 가지는 개열형 광개시제, 옥심에스테르 구조를 가지는 개열형 광개시제 등을 특히 바람직하게 예시할 수 있다.
또한, 개열형 광개시제는, 개열한 분해물이 더욱 저분자량이 되기 때문에, 광경화(가교) 후에 저분자 상태 그대로 다량으로 잔존하면, 응집력을 보다 저하시키는 한가지 원인이 될 가능성이 있다.
그러나, 본 조성물에 있어서는, 개시제(C)는, 상기 화합물(B)의 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기의 이중 결합을 개열시키기 위하여 사용하기 때문에, 그 사용량을 대폭 저감할 수 있으며, 또한, 상기 화합물(B)은, 가교제로서 기능하고, 당해 화합물(B) 자신이 중합하여 고분자량화를 도모할 수 있기 때문에, 개시제(C)를 사용하여도, 계 내의 저분자량 화합물의 잔존을 최소한으로 억제할 수 있고, 점착제 수지 조성물의 응집력의 저하를 막을 수 있다.
한편, 본 조성물에 있어서는, 수소 인발형 광개시제도 유용하다.
내자외선 발포는, 점착제나 피착체로부터의 아웃 가스에 대하여, 점착제의 응집력이나 피착체 계면 밀착력이 견딜 수 없어져, 발포를 야기하는 현상이라고 생각된다. 개시제(C)를 다량으로 포함하는 점착제는, 그 분해물 기인의 응집력 저하나 아웃 가스에 의해, 자외선 발포를 야기하는 한가지 원인이 된다. 추가로, 수소 인발형 광개시제를 다량으로 포함하는 점착제는, 자외선 조사에 의해 라디칼을 발생하고, 점착제 수지 조성물로부터의 아웃 가스의 발생을 보다 증대시키는 한가지 원인이 된다.
그러나, 본 조성물에 있어서는, 상기 서술한 바와 같이, 개시제(C)의 양을 최대한 저감할 수 있으며, 또한 응집력을 높이는 것이 가능하기 때문에, 특히 내자외선 발포성을 높일 수 있다. 이 점에서, 아웃 가스를 발생하기 쉬운 수소 인발형 광개시제도 유효하게 이용할 수 있다.
상기 개시제(C)의 함유량의 하한값으로서는, 본 조성물의 전체 질량을 기준으로 하여, 0.01질량% 이상인 것이 바람직하고, 0.03질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.05질량% 이상인 것이 가장 바람직하다. 또한, 그 상한값으로서는, 본 조성물의 전체 질량을 기준으로 하여, 1질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.3질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.2질량% 이하인 것이 가장 바람직하다.
또한, 점착제 조성물의 응집력이나 내(耐)금속 부식성의 관점에서, 상기 화합물(B) 100질량부에 대한, 상기 개시제(C)의 함유량의 하한값으로서는, 1질량부 이상인 것이 바람직하고, 3질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 5질량부 이상인 것이 가장 바람직하다. 추가로, 그 상한값으로서는, 본 조성물의 전체 질량을 기준으로 하여, 100질량부 이하인 것이 바람직하고, 80질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 50질량부 이하인 것이 가장 바람직하다.
또한, 상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A) 100질량부에 대하여, 상기 화합물(B) 및 개시제(C)의 합계 함유량은 0.2~5질량부인 것이 바람직하고, 그중에서도 0.3질량부 이상 3질량부 이하, 그중에서도 0.5질량부 이상 1.5질량부 이하인 것이 더욱 바람직하다.
<방청제(D)>
본 조성물은, 계 내에 발생하는 개시제(C) 유래의 저분자량 화합물에 의한 금속의 부식을 억제하기 위해서, 방청제(D)를 함유하여도 된다.
본 조성물은 방청제(D)를 함유함으로써, (메타)아크릴계 (공)중합체(A)의 모노머의 산성분에 의한 금속 부식을 억제할 수 있을 뿐만 아니라, 계 내에 발생하는 개시제(C) 유래의 저분자량 화합물이 존재하여도, 당해 저분자량 화합물에 의한 금속의 부식을 억제할 수 있다.
상기 방청제(D)로서는, 트리아졸계 화합물인 것이 바람직하다. 그중에서도, 벤조트리아졸, 1,2,3-트리아졸 및 1,2,4-트리아졸에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것이 특히 바람직하다.
상기 벤조트리아졸로서는, 치환 또는 무치환 중 어느 것의 벤조트리아졸이어도 되고, 예를 들면 1,2,3-벤조트리아졸, 메틸-1H-벤조트리아졸 등의 알킬벤조트리아졸, 카르복시벤조트리아졸, 1-히드록시벤조트리아졸, 5-아미노벤조트리아졸, 5-페닐티올벤조트리아졸, 5-메톡시벤조트리아졸, 니트로벤조트리아졸, 클로로벤조트리아졸, 브로모벤조트리아졸, 플루오로벤조트리아졸 등의 할로게노벤조트리아졸, 구리 벤조트리아졸, 은 벤조트리아졸, 벤조트리아졸 실란 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 본 조성물에 대한 분산성이나 첨가 용이함, 금속 부식 방지 효과의 관점에서, 1,2,3-벤조트리아졸, 1-[N,N-비스(2-에틸헥실)아미노메틸]벤조트리아졸, 1-[N,N-비스(2-에틸헥실)아미노메틸]메틸벤조트리아졸, 2,2'-[[(메틸-1H-벤조트리아졸-1-일)메틸]이미노]비스에탄올로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1종 또는 2종 이상의 혼합물이 바람직하다.
추가로, 1,2,4-트리아졸은, 융점이 약 120℃의 고체인 한편, 1,2,3-트리아졸은 융점이 약 20℃로 실온에서 거의 액체 상태이다. 따라서, 1,2,3-트리아졸은, 본 조성물 중에 혼합할 때의 분산성이 우수하여, 균일하게 혼합할 수 있으며, 또한, 마스터배치화하기 쉬운 등의 우수한 이점이 있다.
본 조성물에 있어서, 방청제(D)의 함유량은, 상기 화합물(B) 100질량부에 대하여 10~90질량부인 것이 바람직하고, 그중에서도 15질량부 이상 혹은 80질량부 이하, 그중에서도 20질량부 이상 혹은 70질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.
본 조성물이 함유하는 방청제(D)의 함유량은, 본 조성물의 전체 질량을 기준으로 하여, 0.01~5질량%인 것이 바람직하고, 그중에서도 0.1질량% 이상 혹은 1질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 그중에서도 0.2질량% 이상 혹은 0.5질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
<가교제(E)>
본 조성물은, 필요에 따라, 추가로 가교제(E)를 포함할 수도 있다.
상기 가교제(E)로서는, 다관능 모노머 외, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 수소화 톨릴렌디이소시아네이트, 1,3-크실릴렌디이소시아네이트, 1,4-크실릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산, 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등의 이소시아네이트계 화합물 및 이들의 이소시아네이트계 화합물과 트리메틸올프로판 등의 폴리올 화합물과의 어덕트체, 이들 폴리이소시아네이트 화합물의 뷰렛체나 이소시아누레이트체 등의 이소시아네이트계 가교제나, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르 등의 에폭시계 가교제, 멜라민 수지계 가교제, 아지리딘계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 요소계 가교제, 금속염계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제, 아미노 수지계 가교제, 금속 알콕시드계 가교제, 과산화물계 가교제를 들 수 있다.
이들의 가교제(E)는 1종 또는 2종 이상을 병용하여 이용할 수 있다.
또한, 글리시딜기, 수산기 또는 이소시아네이트기 등의 유기 관능기를 가지는 (메타)아크릴레이트 모노머를 이용하여, 다른 가교성 반응기에 의한 가교 구조를 병존시켜도 된다.
상기 중에서도 다관능 모노머가 바람직하고, 당해 다관능 모노머로서는, 예를 들면 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 글리세린글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메타크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 폴리메톡시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 폴리프로폭시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀F 폴리에톡시디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리옥시에틸(메타)아크릴레이트, ε-카프로락톤 변성 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 프로폭시화 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 에톡시화 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 프로폭시화 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 에톡시화 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산 네오펜글리콜의 ε-카프로락톤 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판폴리에톡시트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트 등의 자외선 경화형의 다관능 (메타)아크릴계 모노머 외, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 에폭시(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에테르(메타)아크릴레이트 등의 다관능 (메타)아크릴계 올리고머를 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용하여도 된다.
상기 가교제(E)의 함유량은, 상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A) 100질량부에 대하여 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 그중에서도 0.05질량부 이상 혹은 5질량부 이하, 그중에서도 0.1질량부 이상 혹은 3질량부 이하의 비율로 있는 것이 더욱 바람직하다. 상기 가교제(E)를 사용함으로써, 저분자량 화합물이 잔존함으로써 응집력을 저하시키는 등의 폐해를 회피할 수 있다.
또한, 본 조성물은, 화합물(B)이 가교제로서도 기능하기 때문에, 굳이 가교제를 사용하지 않아도, 높은 응집력을 얻을 수 있다.
따라서, 이러한 관점에서는, 상기 가교제(E)를 사용하지 않는 것이 특히 바람직하다.
<그 외의 성분>
본 조성물에 포함되는 상기 이외의 「그 외의 성분」으로서, 예를 들면, 필요에 따라, 점착 부여 수지나, 산화방지제, 광안정화제, 금속 불활성화제, 노화방지제, 흡습제, 중합금지제, 자외선 흡수제, 실란커플링제, 무기 입자 등의 각종의 첨가제를 적절히 함유시키는 것이 가능하다.
또한, 필요에 따라, 3급 아민계 화합물, 4급 암모늄계 화합물, 라우릴산 주석 화합물 등의 반응 촉매를 적절히 함유하여도 된다.
<본 조성물의 조제>
본 조성물은, 상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A), 상기 화합물(B) 및 개시제(C), 필요에 따라 방청제(D), 필요에 따라 가교제(E), 추가로 필요에 따라 그 외의 성분을 각각 소정량 혼합함으로써 얻을 수 있다.
이들의 혼합 방법으로서는, 특별히 제한되지 않으며, 각 성분의 혼합 순서도 특별하게 한정되지 않는다.
또한, 본 조성물 제조 시에 열처리 공정을 추가하여도 된다. 이 경우에는, 미리, 본 조성물의 각 성분을 혼합하고 나서 열처리를 행하는 것이 바람직하다. 각종의 혼합 성분을 농축하여 마스터배치화한 것을 사용하여도 된다.
또한, 혼합할 때의 장치도 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 만능 혼련기, 플래너테리 믹서, 반바리 믹서, 니더, 게이트 믹서, 가압 니더, 3개 롤, 2개 롤을 이용할 수 있다. 필요에 따라 용제를 이용하여 혼합하여도 된다.
또한, 본 조성물은, 용제를 포함하지 않는 무용제계로서 사용할 수 있다. 무용제계로서 사용함으로써 용제가 잔존하지 않고, 내열성 및 내광성이 높아진다고 하는 이점을 구비할 수 있다.
<<본 점착 시트>>
본 발명의 실시형태의 일례와 관련되는 점착 시트(「본 점착 시트」라고도 칭한다)는, 본 조성물로부터 형성되는 점착제층을 가지는 것이다.
본 점착 시트에 있어서의 상기 점착제층은, 단층이어도 다층이어도 되고, 또한, 다층인 경우에는, 소위 기재층과 같은 다른 층이 개재되어도 된다.
점착제층이 다른 층을 가지는 다층 구성인 경우에는, 본 점착 시트의 표면층이 본 조성물로부터 형성되는 점착제층인 것이 바람직하다.
또한, 상기 점착제층은, 활성 에너지선에 의해 경화될 여지가 남은 활성 에너지선 경화성을 가지는 것이어도 된다. 이 경우, 상기 개시제(C)의 반응 분해물을 함유하는 경우가 있다.
추가로, 본 점착 시트가 다층 구성인 경우, 표리층의 점착제층은, 가교제(E)를 포함하지 않는 본 조성물로부터 형성되는 것이, 점착 시트의 점접착력이나 신뢰성을 높이는 관점에서 바람직하다.
또한, 본 점착 시트가 다층 구성인 경우, 표리층 이외의 다른 층의 점착제층은, 점착 시트의 핸들링성이나 재단 가공성을 높이는 관점에서, 가교제(E)를 포함하는 점착제 수지 조성물로 형성되는 것이 바람직하고, 이 때, 당해 점착제 수지 조성물은, 본 조성물이어도 되고, 종래 공지된 점착제 수지 조성물이어도 된다.
본 점착 시트의 두께는, 10㎛~500㎛인 것이 바람직하고, 그중에서도 15㎛ 이상 혹은 400㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 그중에서도 특히 20㎛ 이상 혹은 350㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
<<본 경화성 점착 시트>>
본 발명의 실시형태의 일례와 관련되는 활성 에너지선 경화성 점착 시트(「본 경화성 점착 시트」라고도 칭한다)는, 본 조성물 중, 상기 화합물(B)의 라디칼 발생기가, 활성 에너지선의 조사에 의해 여기되며, 수소 인발 반응을 발생시킴으로써 라디칼을 발생시키는 구조를 가지는 것이다.
이 때, 본 경화성 점착 시트는, 상기 개시제(C)로서 개열형 광개시제를 사용하면, 당해 개시제(C)의 반응 분해물을 함유하는 경우가 있다.
당해 화합물(B)이 당해 구조를 가짐으로써, 활성 에너지선의 조사에 의해, 예를 들면 (메타)아크릴계 중합체의 분자간에 가교 구조를 형성할 수 있기 때문에, 당해 화합물(B)은 (후)경화성을 구비할 수 있다.
점착 시트가, 이러한 활성 에너지선 경화성을 가짐으로써, 경화 전(예를 들면 피착체로의 첩합 전)에는 비교적 유연성이 뛰어나며, 또한, 경화 후(예를 들면 피착체로의 첩합 후)에는 응집력을 높여서, 우수한 내발포 신뢰성을 겸비시킬 수 있다.
<본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트의 사용 형태>
본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트는, 점착 시트 단체(單體)로서 이용하는 것도 가능하다. 예를 들면, 피착체에 본 조성물을 직접 도포하여 시트상(狀)으로 형성하거나, 본 조성물을 직접 압출 성형하거나, 형(型)에 주입하거나 하여, 본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트를 사용할 수 있다. 나아가서는, 도전부재 등의 부재 사이에 본 조성물을 직접 충전함으로써, 본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트를 사용할 수도 있다.
한편, 본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트는, 본 조성물로부터 형성되는 점착제층을 구비한 점착 시트(「점착 시트 적층체」라고도 칭한다)로서 사용하는 것도 가능하다. 예를 들면, 본 조성물을, 이형(離型) 필름 상에 단층 또는 다층의 시트상으로 성형한 이형 필름을 구비하는 점착 시트의 형태로 할 수도 있다.
상기 이형 필름의 재질로서는, 예를 들면 폴리에스테르 필름, 폴리올레핀 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리스티렌 필름, 아크릴 필름, 트리아세틸셀룰로오스 필름, 불소 수지 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 폴리에스테르 필름 및 폴리올레핀 필름이 특히 바람직하다.
이형 필름의 두께는 특별히 제한되지 않는다. 그중에서도, 예를 들면 가공성 및 핸들링성의 관점에서는, 25㎛~500㎛인 것이 바람직하고, 그중에서도 38㎛ 이상 혹은 250㎛ 이하, 그중에서도 50㎛ 이상 혹은 200㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
<<광학 부재>>
본 발명의 실시형태의 일례와 관련되는 광학 부재는, 본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트의 적어도 편면에, 금속 배선을 가지는 기판을 구비한 것이다.
이 때, 상기 금속 배선이란, 예를 들면 ITO나 Cu, Ag 등의 금속으로 이루어지는 것을 들 수 있다.
상기 기판의 재질로서는, 글라스 외, 아크릴계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 시클로올레핀 폴리머 등의 지환식 폴리올레핀계 수지, 스티렌계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 페놀계 수지, 멜라민계 수지, 에폭시계 수지 등의 플라스틱이어도 된다.
<<본 적층체>>
본 발명의 실시형태의 일례와 관련되는 화상 표시 장치용 적층체(「본 적층체」라고 칭한다)는, 2개의 화상 표시 장치용 구성 부재의 사이에, 본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트가 개재하여 이루어지는 구성을 구비한 것이다.
이 때, 상기 2개의 화상 표시 장치용 구성 부재란, 그 중 적어도 하나가, 터치 센서, 화상 표시 패널, 표면 보호 패널 및 편광 필름, 위상차 필름으로 이루어지는 군 중 어느 것 또는 2종류 이상의 조합으로 이루어지는 적층체인 것을 들 수 있다.
본 적층체의 구체예로서는, 예를 들면 이형 필름/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/터치 패널, 화상 표시 패널/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/터치 패널, 화상 표시 패널/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/터치 패널/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/보호 패널, 편광 필름/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/터치 패널, 편광 필름/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/터치 패널/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/보호 패널 등의 구성을 들 수 있다.
상기 터치 패널로서는, 보호 패널에 터치 패널 기능을 내재시킨 구조체나, 화상 표시 패널에 터치 패널 기능을 내재시킨 구조체도 포함한다.
따라서, 본 적층체는, 예를 들면 이형 필름/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/보호 패널, 이형 필름/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/화상 표시 패널, 화상 표시 패널/본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트/보호 패널 등의 구성이어도 된다.
또한, 상기 구성에 있어서, 본 점착 시트 또는 본 경화성 점착 시트와, 이와 인접하는 터치 패널, 보호 패널, 화상 표시 패널, 편광 필름 등의 부재와의 사이에 상기 도전층을 개입하는 모든 구성을 들 수 있다. 단, 이들의 적층예에 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 터치 패널로서는, 저항막 방식, 정전 용량 방식, 전자 유도 방식 등의 방식의 것을 들 수 있다. 그중에서도 정전 용량 방식인 것이 바람직하다.
상기 보호 패널의 재질로서는, 글라스 외, 아크릴계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 시클로올레핀 폴리머 등의 지환식 폴리올레핀계 수지, 스티렌계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 페놀계 수지, 멜라민계 수지, 에폭시계 수지 등의 플라스틱이어도 된다.
화상 표시 패널은, 편광 필름 그 외 위상차 필름 등의 다른 광학 필름, 액정 재료 및 백라이트 시스템으로부터 구성되는(통상, 점착제 수지 조성물 또는 점착 물품의 화상 표시 패널에 대한 피착면은 광학 필름이 된다.) 것이며, 액정 재료의 제어 방식에 따라 STN 방식이나 VA 방식이나 IPS 방식 등이 있으며, 어느 것의 방식이어도 된다.
본 적층체는, 예를 들면 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 무기 EL 디스플레이, 전자 페이퍼, 플라즈마 디스플레이 및 마이크로 일렉트로메카니컬 시스템(MEMS) 디스플레이 등 화상 표시 장치의 구성 부재로서 사용할 수 있다.
<<본 화상 표시 장치>>
본 발명의 실시형태의 일례와 관련되는 화상 표시 장치(「본 화상 표시 장치」라고도 칭한다)는, 본 적층체를 구비한 화상 표시 장치이다.
본 화상 표시 장치의 구체예로서는, 예를 들면 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 무기 EL 디스플레이, 전자 페이퍼, 플라즈마 디스플레이 및 마이크로 일렉트로메카니컬 시스템(MEMS) 디스플레이 등을 들 수 있다.
<<어구의 설명>>
본 발명에 있어서 「X~Y」(X, Y는 임의의 숫자)라고 표현하는 경우, 특별히 언급하지 않는 한 「X 이상 Y 이하」의 뜻과 함께, 「바람직하게는 X보다 크다」 혹은 「바람직하게는 Y보다 작다」의 뜻도 포함한다.
또한, 「X 이상」(X는 임의의 숫자) 혹은 「Y 이하」(Y는 임의의 숫자)라고 표현하였을 경우, 「X보다 큰 것이 바람직하다」 혹은 「Y 미만인 것이 바람직하다」 취지의 의도도 포함한다.
또한, 본 발명에 있어서 「시트」란, 시트, 필름, 테이프를 개념적으로 포함하는 것이다.
<실시예>
이하, 실시예 및 비교예에 의해 더욱 자세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, 공중합체(A-1, 질량 평균 분자량 49만, 글라스 전이 온도(Tg)-19℃) 1㎏과, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 가지는 화합물(B)로서, 4-메타크릴로일옥시벤조페논(B-1, 분자량 266, 융점 70℃) 5g과, (B) 이외의 개시제(C)로서, 2,4,6-트리메틸벤조페논 및 4-메틸벤조페논의 혼합물(C-1) 4g과, 방청제(D)로서, 1,2,4-트리아졸(D-1) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 1을 제조하였다.
또한, 상기 공중합체(A-1)는, 카르복실기 함유 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하지 않으면서, 또한, 수산기 함유 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하는 (메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체였다. 여기에서, 「어떤 모노머에 유래하는 구성 단위」란, 당해 모노머가 공중합 반응한 결과물로서의 구성 단위 즉 공중합체를 구성하는 단위의 의미이다.
금속 부식 방지제로서의 1,2,4-트리아졸(D-1)은, 365㎚에서의 흡광 계수는 0.3㎖/(g·㎝)이며, 25℃에 있어서의 수(水)용해도는 1000g/L보다 높았다.
당해 수지 조성물 1을, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(미쓰비시케미컬사제 「다이아 호일 MRF」, 두께 75㎛/미쓰비시케미컬사제 「다이아 호일 MRT」, 두께 38㎛)으로 끼우고, 두께 100㎛가 되도록 온도 80℃로 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 1을 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 1에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<실시예 2>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-1) 1㎏과, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)로서, (B-1) 5g과, (B) 이외의 개시제(C)로서, 올리고(2-히드록시-2-메틸-1-(4-(1-메틸비닐)페닐)프로판온)(C-2) 1g과, 방청제(D)로서, 1,2,3-트리아졸(D-2) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 2를 제조하였다.
또한, 금속 부식 방지제로서의 1,2,3-트리아졸(D-2)은, 365㎚에서의 흡광 계수는 0.3㎖/(g·㎝)이며, 25℃에 있어서의 수용해도는 1000g/L보다 높았다.
당해 수지 조성물 2를, 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 두께 100㎛가 되도록 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 2를 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 2에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<실시예 3>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-1) 1㎏과, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)로서, (B-1) 10g과, (B) 이외의 개시제(C)로서, (C-2) 1g과, 방청제(D)로서, (D-2) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 3을 제조하였다.
당해 수지 조성물 3을, 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 두께 100㎛가 되도록 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 3을 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 3에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<실시예 4>
수지 조성물 3을, 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 두께 100㎛가 되도록 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 3500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하여, 투명 양면 점착 시트 4를 제조하였다.
<실시예 5>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-1) 1㎏과, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)로서, (B-1) 5g과, (B) 이외의 개시제(C)로서, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온(C-3) 1g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 4를 제조하였다.
당해 수지 조성물 4를, 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 두께 100㎛가 되도록 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 5를 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 5에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<실시예 6>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, 공중합체(A-2, 질량 평균 분자량 51만, Tg-18℃) 1㎏과, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)로서, (B-1) 5g과, (B) 이외의 개시제(C)로서, (C-2) 1g과, 방청제(D)로서, (D-1) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 5를 제조하였다.
또한, 상기 공중합체(A-2)는, 카르복실기 함유 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하지 않으면서, 또한, 수산기 함유 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하는 (메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체였다.
당해 수지 조성물 5를, 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 두께 100㎛가 되도록 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 6을 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 6에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<실시예 7>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-2) 1㎏과, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)로서, (B-1) 5g과, (B) 이외의 개시제(C)로서, (C-2) 1g과, 방청제(D)로서, (D-1) 3g과, 가교제(E)로서, 1,10-데칸디올디아크릴레이트(E-1) 10g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 6을 제조하였다.
당해 수지 조성물 6을, 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 두께 100㎛가 되도록 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 3500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하여, 투명 양면 점착 시트 7을 제조하였다.
<실시예 8>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, 공중합체(A-3, 질량 평균 분자량 44만, Tg-6℃) 1㎏과, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)로서, (B-1) 5g과, (B) 이외의 개시제(C)로서, (C-2) 1g과, 방청제(D)로서, (D-2) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 7을 제조하였다.
또한, 상기 공중합체(A-3)는, 카르복실기 함유 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하지 않으면서, 또한, 수산기 함유 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하는 (메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체였다.
당해 수지 조성물 7을, 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 두께 100㎛가 되도록 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1000mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 8을 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 8에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<실시예 9>
수지 조성물 2를, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 25㎛가 되도록 시트상으로 부형하여, 표층용 시트 9-1을 제조하였다.
수지 조성물 2를, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRV」 두께 100㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 25㎛가 되도록 시트상으로 부형하여, 표층용 시트 9-1'를 제조하였다.
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-1) 1㎏, (B) 이외의 개시제(C)로서, (C-2) 10g, 가교제(E)로서, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(E-2) 120g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 8을 제조하였다.
당해 수지 조성물 8을, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 50㎛가 되도록 시트상으로 부형하여, 중간층용 시트 9-2를 제조하였다.
중간층용 시트 9-2의 양측의 PET 필름을 순차 박리 제거하는 것과 함께, 표층용 시트 9-1 및 9-1'의 점착면을 양 표면에 순차 첩합하여, 9-1/9-2/9-1'로 이루어지는 적층체를 제조하였다.
9-1 및 9-1'의 표면에 남은 PET 필름을 개재하여, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 적층체 9를 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 적층체 9에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<실시예 10>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, n-부틸아크릴레이트(71질량%)/2-에틸헥실아크릴레이트(26질량%)/아크릴산(3질량%)으로 이루어지는 공중합체(A-4, 질량 평균 분자량 49만, Tg-30℃) 1㎏과, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)로서, (B-1) 5g과, (B) 이외의 개시제(C)로서, (C-2) 1g과, 방청제(D)로서, (D-2) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 9를 제조하였다.
수지 조성물 9를, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 25㎛가 되도록 시트상으로 부형하여, 표층용 시트 10-1을 제조하였다.
수지 조성물 9를, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRV」 두께 100㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 25㎛가 되도록 시트상으로 부형하여, 표층용 시트 10-1'를 제조하였다.
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-4) 1㎏, (B) 이외의 개시제(C)로서, (C-2) 10g, 가교제(E)로서, 프로폭시화펜타에리스리톨트리아크릴레이트(E-3) 200g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 10을 제조하였다.
당해 수지 조성물 10을, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 50㎛가 되도록 시트상으로 부형하여, 중간층용 시트 10-2를 제조하였다.
중간층용 시트 10-2의 양측의 PET 필름을 순차 박리 제거하는 것과 함께, 표층용 시트 10-1 및 10-1'의 점착면을 양 표면에 순차 첩합하여, 10-1/10-2/10-1'로 이루어지는 적층체를 제조하였다.
10-1 및 10-1'의 표면에 남은 PET 필름을 개재하여, 파장 365㎚의 적산광량이 1000mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 적층체 10을 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 적층체 10에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<비교예 1>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-2) 1㎏과, (B) 이외의 개시제(C)로서, 2,4,6-트리메틸벤조페논과 4-메틸벤조페논의 혼합물(C-1) 15g과, 방청제(D)로서, (D-1) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 11을 제조하였다.
당해 수지 조성물 11을, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」, 두께 38㎛)으로 끼우고, 두께 100㎛가 되도록 온도 80℃로 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 11을 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 11에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<비교예 2>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-3) 1㎏과, (B) 이외의 개시제(C)로서, 2,4,6-트리메틸벤조페논과 4-메틸벤조페논의 혼합물(C-1) 15g과, 방청제(D)로서, (D-1) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 12를 제조하였다.
당해 수지 조성물 12를, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 100㎛가 되도록 온도 80℃로 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 12를 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 12에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<비교예 3>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-2) 1㎏과, (B) 이외의 개시제(C)로서, 2,4,6-트리메틸벤조페논 및 4-메틸벤조페논의 혼합물(C-1) 5g과, 방청제(D)로서, (D-1) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 13을 제조하였다.
당해 수지 조성물 13을, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 100㎛가 되도록 온도 80℃로 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 13을 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 13에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<비교예 4>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-2) 1㎏과, (B) 이외의 개시제(C)로서, (C-1) 7.5g과, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드(C-4) 7.5g과, 가교제(E)로서, (E-1) 10g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 14를 제조하였다.
당해 수지 조성물 14를, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 100㎛가 되도록 온도 80℃로 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 3500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하여, 투명 양면 점착 시트 14를 제조하였다.
<비교예 5>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-4) 1㎏과, (B) 이외의 개시제(C)로서, (C-1) 15g과, 방청제(D)로서, (D-2) 3g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 15를 제조하였다.
수지 조성물 15를, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 25㎛가 되도록 시트상으로 부형하여, 표층용 시트 15-1을 제조하였다.
수지 조성물 15를, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRV」 두께 100㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 25㎛가 되도록 시트상으로 부형하여, 표층용 시트 15-1'를 제조하였다.
상기 실시예 10의 중간층용 시트 10-2의 양측의 PET 필름을 순차 박리 제거하는 것과 함께, 표층용 시트 15-1 및 15-1'의 점착면을 양 표면에 순차 첩합하여, 15-1/10-2/15-1'로 이루어지는 적층체를 제조하였다.
15-1 및 15-1'의 표면에 남은 PET 필름을 개재하여, 파장 365㎚의 적산광량이 1000mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 적층체 15를 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 적층체 15에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
<비교예 6>
(메타)아크릴산 에스테르 (공)중합체(A)로서, (A-2) 1㎏과, 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)로서, (B-1) 5g을 균일하게 용융 혼련하여, 수지 조성물 16을 제조하였다.
당해 수지 조성물 16을, 박리 처리한 2매의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 「다이아 호일 MRF」 두께 75㎛/「다이아 호일 MRT」 두께 38㎛로 끼우고, 두께 100㎛가 되도록 온도 80℃로 시트상으로 부형하고, 일방의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 1500mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하고, 예비 경화시켜서, 투명 양면 점착 시트 16을 제조하였다.
또한, 투명 양면 점착 시트 16에 있어서의 점착층은, 광조사에 의해 광경화될 여지가 남아 있었다(예비 경화품).
[물성 평가]
실시예·비교예에서 얻은 투명 양면 점착 시트의 물성을, 다음과 같이 하여 측정하였다.
<보지(保持)력>
두께 100㎛의 상기 투명 양면 점착 시트 1~16을, 40㎜×50㎜로 재단하고, 편면의 이형 필름을 벗기고, 배접용의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(미쓰비시케미컬 주식회사제, 다이아 호일 S-100, 두께 38㎛)을 핸드 롤러로 배첩(背貼)한 후, 이것을 폭 25㎜×길이 100㎜의 단책상(短冊狀)으로 재단하여 시험편으로 하였다.
다음으로, 남은 이형 필름을 벗기고, 스테인리스판(120㎜×50㎜×두께 1.2㎜)에, 첩착(貼着) 면적이 25㎜×20㎜가 되도록 핸드 롤러로 첩착하였다.
그 후, 시험편을 40℃의 분위기 하에서 15분 양생시킨 후, 시험편에 500gf(4.9N)의 추를 연직 방향으로 장착하여 걸어서 30분 정치한 후, SUS와 시험편의 첩착 위치가 하방으로 어긋난 길이(㎜), 즉 어긋남량을 측정하였다.
<단차 흡수성>
상기 투명 양면 점착 시트 1~16을, 이형 필름을 적층한 채 톰슨 타발기를 이용하여 50×80㎜로 컷트하였다. 편측의 이형 필름을 박리하고, 노출된 점착면을, 주연부 5㎜에 두께 10㎛ 혹은 25㎛의 인쇄를 실시한 소다라임글라스(82㎜×54㎜×두께 0.5㎜)의 인쇄면에, 점착 시트의 4변이 인쇄 단차에 걸리도록 하여 진공 프레스기를 이용하여 프레스 압착하였다(온도 25℃, 프레스압 0.1㎫). 이어서 남은 이형 필름을 벗기고, 인쇄 단차가 없는 소다라임글라스(82㎜×54㎜×두께 0.5㎜)를 프레스 첩합한 후, 오토클레이브 처리(60℃, 게이지압 0.2㎫, 20분)를 실시하여 마무리 첩착하고, 단차를 구비하는 글라스/점착 시트/글라스 적층체를 제조하였다.
제조한 당해 적층체를 육안 관찰하였다.
인쇄 단차 근방에서 점착 시트가 추종하지 않고 기포가 남아버려, 인쇄 단차 첩합에는 적합하지 않은 것을 「△(usual)」, 인쇄 단차 10㎛에서는 기포가 없으며 외관 양호하게 첩합하였지만 25㎛에서는 기포가 남은 것을 「○(good)」, 인쇄 단차 10㎛와 25㎛ 모두 기포가 없으며 외관 양호하게 첩합한 「◎(very good)」이라고 판정하였다.
<재단 가공성>
투명 양면 점착 시트 1~16을, 이형 필름을 적층한 채 톰슨 타발기를 이용하여 50×50㎜로 컷트하였다. 편면 이형 필름을 박리한 후, 점착만을 30×30㎜로 컷트하고, 재차 박리한 편면 이형 필름을 롤로 첩합시킴으로써, 양면 이형 필름이 50×50㎜, 점착이 30×30㎜의 재단 가공품을 100매 제조하였다.
이형 필름 박리 시에 풀이 실처럼 늘어나거나, 울면서 떨어지는 것이 생기거나 한 것을 불량품으로 하여, 불량품이 10매를 넘은 것을 「×(poor)」, 불량품이 10매 이하로 억제된 것을 「○(good)」, 추가로 불량품이 1매 이하로 억제된 것을 「◎(very good)」이라고 판정하였다.
<보관 안정성>
재단 가공성 평가에서 제조한, 점착 시트 1~16의 재단 가공품을, 50㎜×50㎜×두께 1㎜의 글라스판 사이에 끼우도록 적층하고, 상부면의 글라스판에 500g의 추를 얹어서 40℃에서 200시간 정치하였다.
양생 후에 점착 시트가 현저하게 찌부러져, 풀이 단부로부터 0.1㎜ 이상 밀려 나온 것을 「×(poor)」, 풀 밀려 나옴이 0.1㎜ 이하로 억제되어, 실용상 문제 없는 것을 「○(good)」이라고 판정하였다.
<내습열 발포성>
투명 양면 점착 시트 1~16을, 이형 필름을 적층한 채 톰슨 타발기를 이용하여 50×78㎜로 컷트하였다. 편측의 이형 필름을 박리하고, 노출된 점착면을, 소다라임글라스 1(54×82㎜, t 0.6㎜)에 핸드 롤로 첩합하였다. 다음으로, 점착을 구비하는 편광판(산리츠사제 VLC2)의 점착측의 이형 필름을 박리하고, 노출된 점착면을, 소다라임글라스 2(54×82㎜, t 0.6㎜)에 핸드 롤로 첩합하였다. 추가로, 소다라임글라스 1에 첩합한 투명 양면 점착 시트 1~16의 또 다른 일방의 이형 필름을 박리하고, 편광판측의 보호 필름을 박리한 편광판 상에 핸드 롤로 첩합하였다.
이어서, 오토클레이브 처리(60℃, 게이지압 0.2㎫, 20분)를 실시하여 마무리 첩착하였다.
실시예 1~3, 5~6, 8~10, 비교예 1~3, 5~6에 대해서는, 소다라임글라스 1측으로부터, 고압 수은 램프를 이용하여, 365㎚의 적산광량이 2000mJ/㎠이 되도록 광을 조사하여 점착 시트를 광경화시켰다(후경화품). 그 후, 실온에서 12시간 양생함으로써, 내열발포성 평가용 시료(소다라임글라스 1/투명 양면 점착 시트/점착을 구비하는 편광판/소다라임글라스 2)를 제조하였다.
또한, 상기 후경화품에 대해서는, 상기 서술한 방법과 마찬가지로, 후경화 후의 보지력에 관해서도 측정하였다.
이들을, 85℃의 환경하에 300시간 정치하고, 발포의 유무를 육안 관찰하였다.
편광판/투명 양면 점착 시트 계면 등에 기포가 발생한 것을 「×(poor)」, 기포가 발생하지 않고 외관 양호였던 것을 「○(good)」이라고 판정하였다.
<내자외선 발포성>
투명 양면 점착 시트 1~16을, 이형 필름을 적층한 채 톰슨 타발기를 이용하여 200×150㎜로 컷트하였다. 투명 양면 점착 시트의 편측의 이형 필름을 박리하고, 노출된 점착면을, 소다라임글라스(200×150㎜, t 0.6㎜)의 전체 면에 핸드 롤로 첩합하였다. 이어서, 또 다른 일방의 이형 필름을 박리하고, 노출된 점착면을, 또 다른 한장의 소다라임글라스(200×150㎜, t 0.6㎜)와 진공 프레스 압착하였다(23℃, 프레스압력 0.1㎫, 1분). 이어서, 오토클레이브 처리(60℃, 게이지압 0.2㎫, 20분)를 실시하여 마무리 첩착하였다.
실시예 1~3, 5~6, 8~10, 비교예 1~3, 5~6에 대해서는, 일방의 글라스측으로부터, 고압 수은 램프를 이용하여, 365㎚의 적산광량이 2000mJ/㎠이 되도록 광을 조사하여 점착 시트를 광경화시켰다(후경화품). 그 후, 실온에서 12시간 양생함으로써, 내자외선 발포성 평가용 시료를 제조하였다.
이들을, 하기의 환경하에 3시간/8시간/24시간 정치하고, 강력한 UV 조사 환경하에서의 발포 혹은 미소 기포의 유무를 경시(經時)로 육안 관찰하였다.
<장치> 산테스트 CPS+ (도요정기사제)
<광원> 크세논 아크램프(공냉식, 파장 270㎚ 컷오프 필터)
<방사조도> 765W/㎡(파장 800㎚ 이하)
<온도> BST 83℃
그리고, 다음 기준으로 내자외선 발포성을 판정하였다.
3시간 정치 후에 큰 발포 혹은 미소 기포가 다수 생긴 것을 「×(poor)」, 3시간 정치 후에는 외관 양호하며, 또한, 8시간 정치 후에 발포 혹은 미소 기포가 생긴 것을 「△(usual)」, 8시간 정치 후에는 외관 양호하며, 또한, 24시간 정치 후에 발포 혹은 미소 기포가 생긴 것을 「○(good)」, 24시간 후에도 외관 양호였던 것을 「◎(very good)」이라고 판정하였다.
<내ITO 부식성>
60×45㎜, 두께 0.7㎜의 글라스 상에, 선폭 70μm/선간 30μm(패터닝 정밀도 ±8㎛), 선 길이 46㎝, 전극 사이즈 5㎜□, 전극간 거리 50㎜의 패터닝 조건으로, ITO200Å을 성막한 내ITO 부식성 평가용 기판을 준비하였다.
양면 점착 시트 1~16의 편면 박리 필름을 박리하고, PET 필름(미쓰비시케미컬사제 다이아 호일 T100, 두께 50㎛)에 롤첩합한 후, 52㎜ 폭으로 컷트하였다. 그 후, 또 다른 편측의 이형 필름을 박리하고, 전극 사이에 점착 시트가 위치하도록, 기판에 롤로 첩합한 후, 오토클레이브 처리(60℃, 게이지압 0.2㎫, 20분)를 실시하여 마무리 첩착하였다.
실시예 1~3, 5~6, 8~10, 비교예 1~3, 5~6에 대해서는, PET 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 2000mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하여 광경화시켰다(후경화품). 그 후, 실온에서 12시간 양생함으로써, 도 1에 나타나 있는 바와 같은, 내ITO 부식성 평가용 시료를 제조하였다.
이 시료에 대해서, 65℃ 90% RH×500h의 습열 환경하에서 환경 시험을 행하여, 전극간의 저항값 상승을 확인하였다.
상기 환경 시험에서, 저항값 상승이 5%를 넘은 것을 「×(poor)」, 저항값 상승이 4% 이하로 억제된 것을 「○(good)」, 추가로 저항값 상승이 3% 이하로 억제된 것을 「◎(very good)」이라고 판정하였다.
<내Cu 부식성>
60×45㎜, 두께 0.7㎜의 글라스 상에, 선폭 70μm/선간 30μm(패터닝 정밀도 ±8㎛), 선 길이 46㎝, 전극 사이즈 5㎜□, 전극간 거리 50㎜의 패터닝 조건으로, ITO 1300Å, Cu 3000Å의 순서대로 성막한 내Cu 부식성 평가용 기판을 준비하였다.
양면 점착 시트 1~16의 편면 박리 필름을 박리하고, PET 필름(미쓰비시케미컬사제 다이아 호일 T100, 두께 50㎛)에 롤첩합한 후, 52㎜ 폭으로 컷트하였다. 그 후, 또 다른 편측의 이형 필름을 박리하고, 전극 사이에 점착 시트가 위치하도록, 기판에 롤로 첩합한 후, 오토클레이브 처리(60℃, 게이지압 0.2㎫, 20분)를 실시하여 마무리 첩착하였다.
실시예 1~3, 5~6, 8~10, 비교예 1~3, 5~6에 대해서는, PET 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 2000mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하여 광경화시켰다(후경화품). 그 후, 실온에서 12시간 양생함으로써, 도 1에 나타나 있는 바와 같은, 내Cu 부식성 평가용 시료를 제조하였다.
이 시료에 대해서, 65℃ 90% RH×500h의 습열 환경하에서 환경 시험을 행하여, 전극간의 저항값 상승을 확인하였다.
상기 환경 시험에서, 저항값 상승이 5%를 넘은 것을 「×(poor)」, 저항값 상승이 3% 이하로 억제된 것을 「○(good)」, 추가로 저항값 상승이 1% 이하로 억제된 것을 「◎(very good)」이라고 판정하였다.
<내Ag 부식성>
은을 포함하는 도전부재로서, 은나노와이어 필름(C3nano사제 Activegrid Film, 기재 폴리에틸렌테레프탈레이트(두께 50㎛), 표면 저항값 50Ω/□, 오버코팅층 구비, 전광선 투과율>91%, 헤이즈≤0.9%, b*≤1.3)을 준비하였다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 은나노와이어 필름을 세로 45×가로 80㎜로 컷트하고, 은 페이스트(후지쿠라카세이사제 도다이트 D-550)를, 전극간이 50㎜가 되도록 종방향으로 약 3~5㎜ 폭으로 도포하고, 건조시킨 후, 시트의 세로폭 9㎜가 되도록 횡방향으로 컷트하였다. 이 9㎜×80㎜×5개의 은 페이스트 전극을 구비하는 은나노와이어 필름을, 소다라임글라스 상에 평행하게 나란히 놓았다.
양면 점착 시트 1~16의 편면 박리 필름을 박리하고, PET 필름(미쓰비시케미컬사제 다이아 호일 T100, 두께 50㎛)에 롤첩합한 후, 50㎜ 폭으로 컷트하였다. 그 후, 또 다른 편측의 이형 필름을 박리하고, 전극 사이에 점착 시트가 위치하도록, 소다라임글라스에 롤로 첩합한 후, 오토클레이브 처리(60℃, 게이지압 0.2㎫, 20분)를 실시하여 마무리 첩착하였다.
실시예 1~3, 5~6, 8~10, 비교예 1~3, 5~6에 대해서는, PET 필름측으로부터, 파장 365㎚의 적산광량이 2000mJ/㎠이 되도록 고압 수은 램프로 광을 조사하여 광경화시켰다(후경화품). 그 후, 실온에서 12시간 양생함으로써, 내Ag 부식성 평가용 시료를 제조하였다.
이 시료에 대해서, 65℃ 90% RH×300h의 습열 환경하에서 환경 시험을 행하여, 전극간의 저항값 상승을 확인하였다.
상기 환경 시험에서, 저항값 상승이 30%를 넘은 것을 「×(poor)」, 저항값 상승이 10%를 넘어서 30% 이하이었던 것을 「△(usual)」, 저항값 상승이 10% 이하로 억제된 것을 「○(good)」, 추가로 저항값 상승이 2% 이하로 억제된 것을 「◎(very good)」이라고 판정하였다.
실시예 및 비교예의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
또한, 표 1의 각 실시예 및 비교예에 있어서, 점착제 수지 조성물의 각 항에 기재된 수치는 질량부이다.
실시예 1~10의 투명 양면 점착 시트는, (메타)아크릴계 (공)중합체(A), 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B) 및 당해 (B) 이외의 개시제(C)를 포함하는 점착제 수지 조성물로 이루어지는 점착 시트이기 때문에, 점착 시트 중에 저분자량의 개시제나 그 분해물이 거의 잔존하지 않아, 우수한 내발포 신뢰성, 특히 내자외선 발포 신뢰성을 가지며, 또한 ITO나 Cu, Ag와 같은 주로 투명 도전층에 이용되는 금속 성분에 대한 내부식성에도 우수한 것이었다.
그중에서도, 실시예 2, 6 및 9는, 화합물(B) 및 당해 (B) 이외의 개시제(C)의 첨가량 및 이들의 종류의 선정, 방청제(D)와의 병용 등에 의해, 특히 내발포 신뢰성과 내금속 부식성의 성능에 있어서 우수한 것이었다.
실시예 9 및 10은, 당해 점착제 수지 조성물을 이용한 점착층을 표리층에 이용하고, 가교제(E)를 첨가한 가교도가 높은 점착층을 중층에 이용함으로써 우수한 내발포 신뢰성과 내금속 부식성을 가지며, 게다가 재단 가공성이나 보관 안정성에도 우수한 것이었다.
이에 비하여, 비교예 1, 2, 5에서는, (수소 인발형)개시제를 다량으로 첨가하고 있어, 내자외선 발포성이나 내금속 부식성이 뒤떨어지는 것이었다.
또한, 비교예 3과 같이, 내자외선 발포성이나 내금속 부식성을 억제하려고 해서, 개시제의 첨가량을 저감하려고 하면, 예비 경화나 후경화에서 충분하게 경화시킬 수 없어, 보지력이 저하되고, 재단 가공성이나 보관 안정성, 내습열 발포성이나 내자외선 발포성이 뒤떨어지는 것이었다.
추가로, 비교예 4는, 수소 인발형 개시제와 개열형 개시제를 병용하였지만, 개시제나 그 잔사에 기인하는 금속 부식을 억제할 수는 없었다.
또한, 비교예 6에서는, 화합물(B)만을 단독으로 사용하였지만, 광을 조사하여도 거의 경화시킬 수는 없었다. (B) 이외의 개시제(C)와 병용하지 않으면, (B)는 개시제로서 거의 기능하지 않는 결과가 되었다.

Claims (19)

  1. (메타)아크릴계 중합체 또는 (메타)아크릴계 공중합체(A)(「(메타)아크릴계 (공)중합체(A)」라고 칭한다), 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B), 및, 당해 화합물(B) 이외의 화합물로 이루어지는 개시제(C)를 포함하며,
    상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A)가, 카르복실기를 가지는 단량체를 포함하지 않거나 또는 실질적으로 포함하지 않는 것인 것을 특징으로 하는 점착제 수지 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 화합물(B)은, 활성 에너지선의 조사에 의해 여기되며 수소 인발 반응을 발생시킴으로써 라디칼을 발생시키는 구조를 가지는, 점착제 수지 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 화합물(B)은, (메타)아크릴로일기와, 벤조페논 구조, 벤질 구조, o-벤조일벤조산 에스테르 구조, 티오크산톤 구조, 3-케토쿠마린 구조, 2-에틸안트라퀴논 구조 및 캄퍼퀴논 구조 중 어느 1개의 구조 또는 2개 이상의 구조를 가지는 화합물인, 점착제 수지 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A)는, 수산기 함유 모노머 및/또는 질소 원자 함유 모노머를 포함하는 것인, 점착제 수지 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    추가로 방청제(D)를 포함하는, 점착제 수지 조성물.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 개시제(C)가 개열형 광개시제인, 점착제 수지 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A) 100질량부에 대하여, 상기 화합물(B) 및 개시제(C)의 합계 함유량이 0.2~5질량부인, 점착제 수지 조성물.
  8. 제 1 항에 기재된 점착제 수지 조성물로 형성되는 점착제층을 구비한 점착 시트.
  9. 제 1 항에 기재된 점착제 수지 조성물로 형성되는 점착제층을 구비한 점착 시트에 있어서, 상기 점착제층은, 활성 에너지선 경화성을 가지는, 활성 에너지선 경화성 점착 시트.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 개시제(C)의 반응 분해물을 함유하는, 활성 에너지선 경화성 점착 시트.
  11. 제 8 항에 기재된 점착 시트 또는 제 9 항 또는 제 10 항에 기재된 활성 에너지선 경화성 점착 시트의 적어도 편면에, 금속 배선을 가지는 기판을 구비한 광학 부재.
  12. 제 8 항에 기재된 점착 시트 또는 제 9 항 또는 제 10 항에 기재된 활성 에너지선 경화성 점착 시트가, 2개의 화상 표시 장치용 구성 부재의 사이에 개재하여 이루어지는 구성을 구비한 화상 표시 장치용 적층체.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 2개의 화상 표시 장치용 구성 부재 중 적어도 하나는, 터치 센서, 화상 표시 패널, 표면 보호 패널 및 편광 필름, 위상차 필름으로 이루어지는 군 중 어느 것 또는 2종류 이상의 조합으로 이루어지는 적층체인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치용 적층체.
  14. 제 12 항에 기재된 화상 표시 장치용 적층체를 구비한 화상 표시 장치.
  15. 탄소-탄소 이중 결합을 가지는 라디칼 중합성 관능기 및 라디칼 발생기를 분자 내에 가지는 화합물(B)과, 당해 화합물(B) 이외의 화합물로 이루어지는 개시제(C)를 조합시키고, (메타)아크릴계 (공)중합체(A)와 혼합하여 사용하며,
    상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A)가, 카르복실기를 가지는 단량체를 포함하지 않거나 또는 실질적으로 포함하지 않는 것인 것을 특징으로 하는, 개시제로서의 화합물(B)의 사용 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 화합물(B)은, 활성 에너지선의 조사에 의해 여기되며 수소 인발 반응을 발생시킴으로써 라디칼을 발생시키는 구조를 가지는, 화합물(B)의 사용 방법.
  17. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
    상기 화합물(B)은, (메타)아크릴로일기와, 벤조페논 구조, 벤질 구조, o-벤조일벤조산 에스테르 구조, 티오크산톤 구조, 3-케토쿠마린 구조, 2-에틸안트라퀴논 구조 및 캄퍼퀴논 구조 중 어느 1개의 구조 또는 2개 이상의 구조를 가지는 화합물인, 화합물(B)의 사용 방법.
  18. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
    상기 개시제(C)가 개열형 광개시제인, 화합물(B)의 사용 방법.
  19. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
    상기 (메타)아크릴계 (공)중합체(A) 100질량부에 대한, 상기 화합물(B) 및 개시제(C)의 합계 혼합량을 0.2~5질량부로 하는, 화합물(B)의 사용 방법.
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