KR20240005626A - 인라인 이송시스템 - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 인라인 이송시스템은, 좌측 및 우측 이송레일과, 상기 이송레일을 따라 이송되며 마스크와 기판 및 자석판이 탑재되는 셔틀과, 상기 셔틀이 이송레일을 따라 이송되도록 하는 이송수단을 포함하여 이루어진다.
상기 셔틀은 서로 평행하게 이격 배치되어 좌측 및 우측 이송레일에 이송 가능하게 대응되는 좌측 및 우측 받침대와, 상기 양측 받침대를 연결하는 브릿지를 포함하며, 상기 좌측 및 우측 받침대에는 상기 마스크의 양선단이 각각 안착되며, 상기 브릿지는 상기 마스크와 기판 및 자석판의 상방을 가로질러 상기 좌측 및 우측 받침대를 연결하도록 구성된다.
또한 본 발명은 상기 증발원에서 배출되는 증착물질이 이송수단과 셔틀의 받침대 및 전자석 레일 과 이송레일에 점착되지 않도록 하는 방착수단을 포함하여 이루어진다.
상기 방착수단은 상기 좌측 이송레일의 저면과 내측면 및 셔틀의 좌측 받침대의 내측면을 커버하는 좌측 방착배플과, 상기 전자석 레일의 저면과 내측면과 우측 이송레일의 저면 및 셔틀의 우측 받침대의 내측면을 커버하는 우측 방착배플을 포함하여 이루어진다.
상술한 바와 같은 본 발명에 의한 인라인 이송시스템에 의하면, 증착물질에 의한 셔틀 및 이송레일의 오염이 적극적으로 방지되기 때문에 별도의 세정공정을 필요로 하지 않게 된다. 따라서 세정공정을 진행하기 위한 설비 또한 필요로 하지 않으며, 세정공정을 위한 시간이 소요되지 않기 때문에 결과적으로 OLED 디스플레이 장치의 제조 효율이 향상된다는 이점이 있다.
상기 셔틀은 서로 평행하게 이격 배치되어 좌측 및 우측 이송레일에 이송 가능하게 대응되는 좌측 및 우측 받침대와, 상기 양측 받침대를 연결하는 브릿지를 포함하며, 상기 좌측 및 우측 받침대에는 상기 마스크의 양선단이 각각 안착되며, 상기 브릿지는 상기 마스크와 기판 및 자석판의 상방을 가로질러 상기 좌측 및 우측 받침대를 연결하도록 구성된다.
또한 본 발명은 상기 증발원에서 배출되는 증착물질이 이송수단과 셔틀의 받침대 및 전자석 레일 과 이송레일에 점착되지 않도록 하는 방착수단을 포함하여 이루어진다.
상기 방착수단은 상기 좌측 이송레일의 저면과 내측면 및 셔틀의 좌측 받침대의 내측면을 커버하는 좌측 방착배플과, 상기 전자석 레일의 저면과 내측면과 우측 이송레일의 저면 및 셔틀의 우측 받침대의 내측면을 커버하는 우측 방착배플을 포함하여 이루어진다.
상술한 바와 같은 본 발명에 의한 인라인 이송시스템에 의하면, 증착물질에 의한 셔틀 및 이송레일의 오염이 적극적으로 방지되기 때문에 별도의 세정공정을 필요로 하지 않게 된다. 따라서 세정공정을 진행하기 위한 설비 또한 필요로 하지 않으며, 세정공정을 위한 시간이 소요되지 않기 때문에 결과적으로 OLED 디스플레이 장치의 제조 효율이 향상된다는 이점이 있다.
Description
본 발명은 OLED 디스플레이 장치를 제조하기 위한 인라인 증착공정에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증착물질에 의한 셔틀 및 이송레일의 오염을 방지할 수 있는 인라인 이송시스템에 관한 것이다.
유기발광소자(OLED: Organic Light Emitting Diodes)를 이용한 디스플레이 장치(이하 OLED 디스플레이 장치)는 응답속도가 빠르고, 기존의 액정표시소자 보다 소비전력이 낮으며, 무게가 가볍고, 휘도가 높으며, 별도의 백라이트(back light) 구성이 필요없어서 초박형으로 만들 수 있는 등의 장점으로 인하여 차세대 디스플레이 장치로서 각광받고 있다.
이러한 OLED 디스플레이 장치는 기판 위에 양극막, 유기박막, 음극막을 순서대로 입히고, 양극과 음극 사이에 전압을 인가함으로써 이때 발생하는 에너지의 차이로 인하여 유기박막이 스스로 발광하는 원리이다.
한편, OLED 의 구성에 있어서, 유기층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기박막으로 되어 있고, 이러한 유기박막은 진공 열증착방법으로 기판 상에 증착되는 방법으로 구성된다.
최근에는 제품의 생산성 향상을 위하여 복수의 기판을 연속적으로 이송시키면서 기판에 대한 증착공정을 수행하는 인라인(IN-LINE) 증착공정이 사용되고 있다.
인라인 증착공정에서는 이송레일을 따라 마스크 및 이에 올려진 기판이 증착챔버로 이송되면 증착챔버 내의 증발원이 증발물질을 상향배출함으로써 증착물질이 마스크를 통과하여 기판에 증착된다.
한편, 이 같은 인라인 증착공정에서 기판을 이송하기 위하여 사용하는 인라인 이송시스템은 이른바 롤러방식과 LMS(Linear Motor System) 방식이 있는데, 롤러방식은 도 1 에 나타난 것과 같이 다수개의 이송롤러(2)가 구비된 이송레일(3)이 사용되는 것이다.
이에 따르면, 마스크(M)가 이송레일(3) 위에 바로 올려지고, 이송롤러(2)가 구동모터 등에 의해 회전됨으로써 이송레일(3) 위에 올려진 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)이 이송된다.
여기서, 자석판(P)은 마스크(M)와 기판(S)이 자력에 의해 완전히 밀착되도록 하기 위해 사용된다.
이와 같은 종래 롤러방식에 의하면 마스크(M)가 이송레일(3)을 따라 이동하게 되고 마스크(M)가 각 증착챔버(도면생략)에 도달하면 증발원(도면생략)에서 증발된 증착물질이 마스크(M)를 통과하여 기판(S)에 증착되는 증착공정이 진행된다.
한편, 이러한 종래기술에 의하면, 이송롤러(2)와, 마스크(M)가 직접 접촉하게 됨으로써 이송롤러(2)와 마스크(M)의 마찰에 따른 마스크(M)의 훼손우려가 있으며, 이송롤러(2)의 작동시 발생하는 미세분진에 의해 마스크(M) 내지는 기판(S) 등이 오염될 우려가 있다.
LMS 방식은 도 2a, 2b 에 나타난 것과 같이 액자형태의 셔틀(4)이 사용되며, 셔틀(4)에 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)이 탑재되고, 일측 이송레일(5)을 따라 전자석 레일(6)이 구비되고, 전자석 레일(6)과 셔틀(4)에 장착되어 있는 영구자석과의 상호작용에 의해 셔틀(4)이 이송레일(5) 상에서 이송되는 것이다.
상기 이송레일은, LM(Linear Motion) 가이드, 자기 부상장치, 구동력이 없는 롤러 배열 등의 여러가지 방식으로 구성될 수 있다.
이와 같은 LMS 방식의 경우 롤러방식에 비하여 마스크(M)의 훼손 및 미세분진에 의한 오염우려는 낮아지지만, 셔틀(4)의 일부부위가 증착물질의 유동경로상에 노출됨으로써 셔틀(4)이 증착물질에 의해 오염된다.
그리고 특히 LMS 방식에서 사용되는 셔틀(4)은 자기반응을 위한 자성체를 포함하여 이루어지는데, 오염된 셔틀(4)을 세정할 경우 셔틀(4)에 장착된 자성체가 산화, 부식 될 수 있으며, 이는 LMS 오작동의 원인이 될 수 있다.
따라서, 이러한 종래기술에 의하면 셔틀(4)을 세정하는 세정공정을 위한 설비가 필요할 뿐만 아니라, 세정공정의 진행을 위한 시간이 소요되기 때문에 OLED 디스플레이 장치제조상의 생산효율이 저하 및 제조비용이 높아진다는 문제점이 있다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 증착물질에 의한 셔틀 및 이송레일 등의 오염이 적극적으로 방지되는 인라인 이송시스템의 제공을 목적으로 한다.
상기 목적을 해결하기 위하여 제공되는 본 발명에 따른 인라인 이송시스템은, 좌측 및 우측 이송레일과, 상기 이송레일을 따라 이송되며 마스크와 기판 및 자석판이 탑재되는 셔틀과, 상기 셔틀이 이송레일을 따라 이송되도록 하는 이송수단을 포함하여 이루어진다.
상기 셔틀은 서로 평행하게 이격 배치되어 좌측 및 우측 이송레일에 이송 가능하게 대응되는 좌측 및 우측 받침대와, 상기 양측 받침대를 연결하는 브릿지를 포함하며, 상기 좌측 및 우측 받침대에는 상기 마스크의 양선단이 각각 안착되며, 상기 브릿지는 상기 마스크와 기판 및 자석판의 상방을 가로질러 상기 좌측 및 우측 받침대를 연결하도록 구성된다.
또한 본 발명은 상기 증발원에서 배출되는 증착물질이 이송수단과 셔틀의 받침대 및 전자석 레일 과 이송레일에 점착되지 않도록 하는 방착수단을 포함하여 이루어진다.
상기 방착수단은 상기 좌측 이송레일의 저면과 내측면 및 셔틀의 좌측 받침대의 내측면을 커버하는 좌측 방착배플과, 상기 전자석 레일의 저면과 내측면과 우측 이송레일의 저면 및 셔틀의 우측 받침대의 내측면을 커버하는 우측 방착배플을 포함하여 이루어진다.
본 발명에 의한 인라인 이송시스템에 의하면, 증착물질에 의한 셔틀 및 이송레일의 오염이 적극적으로 방지되기 때문에 별도의 세정공정을 필요로 하지 않게 된다. 따라서 세정공정을 진행하기 위한 설비 또한 필요로 하지 않으며, 세정공정을 위한 시간이 소요되지 않기 때문에 결과적으로 OLED 디스플레이 장치의 제조 효율이 향상된다는 이점이 있다.
도 1: 종래 롤러방식 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 2a, 2b: 종래 LMS 방식 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 3a, 3b: 본 발명의 제 1 실시예에 따른 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 4a, 4b: 본 발명의 제 2 실시예에 따른 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 5a, 5b: 본 발명의 제 3 실시예에 따른 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 6a, 6b: 본 발명의 제 4 실시예에 따른 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 2a, 2b: 종래 LMS 방식 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 3a, 3b: 본 발명의 제 1 실시예에 따른 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 4a, 4b: 본 발명의 제 2 실시예에 따른 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 5a, 5b: 본 발명의 제 3 실시예에 따른 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
도 6a, 6b: 본 발명의 제 4 실시예에 따른 인라인 이송시스템의 구성을 나타낸 도면
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 도 3a 부터 도 6b 까지 참조로 하여 상세하게 설명한다. 설명에 앞서 종래기술과 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였음을 밝혀둔다
1) 제 1 실시예 (도 3a, 3b 참조)
본 발명의 제 1 실시예에 따른 인라인 이송시스템은,
좌측 및 우측 이송레일(5)(5')과, 상기 이송레일(5)(5')을 따라 이송되며 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)이 탑재되는 셔틀(10)과, 상기 셔틀(10)이 이송레일(5)(5')을 따라 이송되도록 하는 이송수단을 포함하여 이루어진다.
상기 셔틀(10)은, 서로 평행하게 이격 배치되어 좌측 및 우측 이송레일(5)(5')에 이송 가능하게 대응되는 좌측 및 우측 받침대(12)(12')와, 상기 양측 받침대(12)(12')를 연결하는 브릿지(14)를 포함하여 이루어진다.
상기 좌측 및 우측 받침대(12)(12')에는 상기 마스크(M)의 양선단이 각각 안착되며, 상기 브릿지(14)는 상기 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)의 상방을 가로질러 상기 좌측 및 우측 받침대(12)(12')를 연결하도록 구성된다.
상기 브릿지(14)는, 상기 좌측 및 우측 받침대(12)(12')에 각각 연결되는 좌측 및 우측 수직부(141)(141')와, 상기 좌측 및 우측 수직부(141)(141')를 연결하는 수평부(142)로 이루어지며, 상기 좌측 및 우측 수직부(141)(141')는 받침대(12)(12')에 안착된 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)의 적층된 높이 초과하는 높이로 이루어진다.
또한, 상기 브릿지(14)의 전후방향 폭은 마스크(M)의 전후방향 폭 보다 충분히 짧게 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 이송수단은 우측 이송레일(5')에 근접하여 구성된 전자석 레일(6)을 포함하는 LMS 방식으로 이루어진다.
또한, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 인라인 이송시스템은 상기 증발원에서 배출되는 증착물질이 이송수단과 셔틀(10)의 받침대(12)(12') 및 전자석 레일(6)과 이송레일(5)(5')에 점착되지 않도록 하는 방착수단을 포함하여 이루어진다.
상기 방착수단은, 상기 좌측 이송레일(5)의 저면과 내측면 및 셔틀(10)의 좌측 받침대(12)의 내측면을 커버하는 좌측 방착배플(100)과, 상기 전자석 레일(6)의 저면과 내측면 및 우측 이송레일(5')의 저면 및 셔틀(10)의 우측 받침대(12')의 내측면을 커버하는 우측 방착배플(100')을 포함하여 이루어진다.
여기서, 내측면이라 함은 증발원에서 배출되는 증착물질이 유동되는 공간 측으로 향하는 방향을 말한다.
이와 같이 구성된 본 발명의 제 1 실시예의 작용에 대하여 설명하면 다음과 같다.
우선, 본 실시예에 의하면 이송수단이 LMS(Linear Motion System) 방식으로 이루어지는 특성상 종래와 같은 미세분진에 의한 오염 문제가 발생하지 않는다.
또한, 셔틀(10)의 구조 및 방착수단이 구비된 특성상, 증발원에서 배출되는 증착물질에 의하여 셔틀(10) 및 이송레일(5)(5')의 오염이 방지되는 방오작용이 다음과 같이 이루어진다.
양측 받침대(12)(12')를 연결하는 브릿지(14)가 양측 받침대(12)(12')의 상방에 구성되며, 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)이 브릿지(14)의 아래에 위치하게 되는 구조상, 셔틀(10)의 아래에 배치된 증발원에서 배출되어 상향유동되는 증착물질이 마스크(M)를 통과하여 기판(S)에 증착되기는 하지만, 브릿지(14)에 점착되는 현상은 발생하지 않는다.
이는, 증착물질의 유동경로상으로 볼 때 브릿지(14) 보다 마스크(M)가 앞서 배치되어 증착물질의 유동이 마스크(M) 및 기판(S)에 의해 차단되기 때문이다.
또한, 상기 브릿지(14)의 전후방향 폭이 마스크(M)의 전후방향 폭 보다 충분히 짧게 이루어지기 때문에 증착물질이 마스크(M)를 타고 넘어가서 브릿지(14)와 접하는 현상이 억제된다.
그리고, 좌측 받침대(12)와 좌측 이송레일(5)이 상기 좌측 방착배플(100)에 의해 커버되고, 전자석 레일(6)과 우측 이송레일(5')이 우측 방착배플(100')에 의해 커버되는 구조상, 증착물질이 받침대(12)(12')와 이송레일(5)(5') 및 전자석 레일(6)에 점착되지 않는다.
2) 제 2 실시예 (도 4a, 4b 참조)
본 발명의 제 2 실시예에 따른 인라인 이송시스템은,
좌측 및 우측 이송레일(5)(5')과, 상기 이송레일(5)(5')을 따라 이송되며 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)이 탑재되는 셔틀(20)과, 상기 셔틀(20)이 이송레일(5)(5')을 따라 이송되도록 하는 이송수단과, 상기 셔틀(20)의 아래에 배치되어 증착물질을 상향 배출하는 증발원을 포함하여 이루어진다.
상기 셔틀(20)은, 서로 평행하게 이격 배치되는 좌측 및 우측 거치대(22)(22')와, 상기 좌측 및 우측 거치대(22)(22')를 연결하며, 상기 좌측 및 우측 이송레일(5)(5')에 그 양측 선단이 각각 이송 가능하게 대응되는 브릿지(24)를 포함하고, 상기 좌측 및 우측 거치대(22)(22')에는 상기 마스크(M)의 양선단이 각각 거치되며, 상기 브릿지(24)는 상기 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)의 상방을 가로질러 상기 좌측 및 우측 거치대(22)(22')를 연결하도록 구성된다.
상기 좌측 및 우측 거치대(22)(22')는 브릿지(24)의 저면으로부터 일정 길이만큼 수직으로 내려오는 형태로 이루어지며, 그 하단에는 수평방향으로 절곡된 수평부(221)(221')가 형성되고, 상기 마스크(M)는 좌측 및 우측 거치대(22)(22')의 수평부(221)(221')에 안착되며, 상기 거치대(22)(22')의 상하길이는 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)의 적층된 높이를 초과하도록 이루어진다.
상기 브릿지(24)는 상기 좌측 및 우측 거치대(22)(22')를 기준으로 그 외측의 선단이 상기 이송레일(5)(5')과 대응되도록 이루어진다.
상기 이송수단은 우측 이송레일(5')에 근접하여 구성된 전자석 레일(6)을 포함하는 LMS 방식으로 이루어진다.
본 발명의 제 2 실시예에 따른 인라인 이송시스템은 상기 증발원에서 배출되는 증착물질이 이송레일(5)(5')과 셔틀(20)의 거치대(22)(22') 및 전자석 레일(6)에 점착되지 않도록 하는 방착수단을 포함하여 이루어진다.
상기 방착수단은 상기 좌측 이송레일(5)의 저면과 셔틀(20)의 좌측 거치대(22)의 저면을 커버하는 좌측 방착배플(200)과, 상기 전자석 레일(6)의 저면과 우측 이송레일(5')의 저면 및 우측 거치대(22')의 저면을 커버하는 우측 방착배플(200')을 포함하여 이루어진다.
이와 같이 구성된 본 발명의 제 2 실시예의 작용에 대하여 설명하면 다음과 같다.
우선, 본 실시예에 의하면 이송수단이 LMS 방식으로 이루어지는 특성상 종래와 같은 미세분진에 의한 오염 문제가 발생하지 않는다.
또한, 셔틀(20)의 구조 및 방착수단이 구비된 특성상, 증발원에서 배출되는 증착물질에 의하여 셔틀(20) 및 이송레일(5)(5')의 오염이 방지되는 방오작용이 다음과 같이 이루어진다.
우선, 양측 거치대(22)(22')가 브릿지(24)의 아래에 구성되고, 상기 마스크(M)가 거치대(22)(22')에 거치된 상태에서 브릿지(24)의 아래에 위치하게 되는 구조상, 셔틀(20)의 아래에 배치된 증발원에서 배출되어 상향유동되는 증착물질이 상기 브릿지(24)에 점착되는 현상은 발생하지 않는다.
이는, 증착물질의 유동경로상에서 볼때는 브릿지(24) 보다 마스크(M)가 앞서 배치되는 구조상 증착물질이 마스크(M)에 의해 차단되기 때문이다.
또한, 상기 브릿지(24)의 전후방향 폭이 마스크(M)의 전후방향 폭 보다 충분히 짧게 이루어지기 때문에 증착물질이 마스크(M)를 타고 넘어가서 브릿지(24)와 접하는 현상이 억제된다.
그리고, 좌측 거치대(22)의 수평부(221)와 좌측 이송레일(5)이 좌측 방착배플(200)에 의해 커버되고, 우측 거치대(22)의 수평부(221')와 전자석 레일(6)과 우측 이송레일(5')이 우측 방착배플(200')에 의해 커버되는 구조상, 증착물이 거치대(22)(22')와 이송레일(5)(5') 및 전자석 레일(6)에 점착되지 않는다.
더불어서, 본 발명의 제 2 실시예에 따르면, 셔틀(20)의 브릿지(24)가 직접 이송레일(5)(5')에 대응되도록 이루어지는 구조상, 제 1 실시예에 비하여 셔틀(20)의 높이가 낮게 구성될 수 있다.
3) 제 3 실시예 (도 5a, 5b 참조)
본 발명의 제 3 실시예에 따른 인라인 이송시스템은,
좌측 및 우측 이송레일(5)(5')과, 상기 좌측 및 우측 이송레일(5)(5')을 따라 이송되는 좌측 및 우측 셔틀(30)(30')과, 상기 좌측 및 우측 셔틀(30)(30')이 좌측 및 우측 이송레일(5)(5')을 따라 이송되도록 하는 좌측 및 우측 이송수단과, 상기 좌측 및 우측 셔틀(30)(30')의 아래에 배치되어 증착물질을 상향 배출하는 증발원을 포함하여 이루어진다.
상기 좌측 및 우측 셔틀(30)(30')에는 마스크(M)의 좌측단과 우측단이 각각 안착되는 형태로 탑재되며, 좌측 및 우측 셔틀(30)(30')이 협동하여 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)을 이송하게 된다.
상기 이송수단은 상기 좌측 및 우측 이송레일(5)(5')에 각각 근접하여 구성되는 좌측 및 우측 전자석 레일(6)(6')을 포함하는 LMS 방식으로 이루어진다.
상기 이송레일(5)(5')은 각 셔틀(30)(30')을 안정적으로 지지할 수 있도록 각 전자석 레일(6)(6')을 사이에 두고 좌우로 1개씩 배치되는 구조로 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 인라인 이송시스템은, 상기 증발원에서 배출되는 증착물질이 이송레일(5)(5')과 셔틀(30)(30')에 점착되지 않도록 하는 방착수단을 포함하여 이루어진다.
상기 방착수단은, 좌측 셔틀(30)과 좌측 이송레일(5)의 내측면을 커버하는 좌측 방착배플(300)과, 우측 셔틀(30')과 우측 이송레일(5')의 내측면을 커버하는 우측 방착배플(300')로 이루어진다.
이와 같이 구성된 본 발명의 제 3 실시예의 작용에 대하여 설명하면 다음과 같다.
우선, 본 실시예에 의하면 이송수단이 LMS 방식으로 이루어지는 특성상 종래와 같은 미세분진에 의한 오염 문제가 발생하지 않는다.
또한, 셔틀(30)(30')의 구조 및 방착수단이 구비된 특성상, 증발원에서 배출되는 증착물질에 의하여 셔틀(30)(30') 및 이송레일(5)(5')의 오염이 방지되는 방오작용이 다음과 같이 이루어진다.
우선, 제 1 실시예의 브릿지 또는 제 2 실시예의 브릿지와 같은 구성요소를 사용하지 않고 좌측 셔틀(30)과 우측 셔틀(30')이 완전히 별개로 이루어지는 구조상, 증착물질에 의해 오염되는 구성요소가 감소된다고 볼 수 있다.
또한, 좌측 방착배플(300)에 의해 좌측 셔틀(30)과 좌측 이송레일(5)이 커버되고, 우측 방착배플(300')에 의해 우측 셔틀(30')과 우측 이송레일(5')이 커버되는 구조상, 증착물질이 셔틀(30)(30')과 이송레일(5)(5')에 점착되지 않는다.
한편, 본 실시예에 있어서, 각각의 셔틀(30)(30')에 대하여 서로 이격되는 한쌍의 이송레일(5)(5)(5')(5')이 대응되도록 구성되고, 한쌍의 이송레일(5)(5)(5')(5') 사이에 전자석 레일(6)(6')이 각각 배치되도록 이루어질 수 도 있다.
4) 제 4 실시예 (도 6a, 6b 참조)
본 발명의 제 4 실시예에 따른 인라인 이송시스템은, 이송레일(5)과, 상기 이송레일(5)에 의해 이송되며, 마스크(M)와 기판(S) 및 자석판(P)이 탑재되는 셔틀(40)과, 상기 셔틀(40)이 이송레일(5)을 따라 이송되도록 하는 이송수단과, 상기 셔틀(40)의 아래에 배치되어 증착물질을 상향 배출하는 증발원을 포함하여 이루어진다.
그리고, 상기 셔틀(40)은 마스크(M)의 일측단만을 지지하도록 구성되는데, 셔틀(40)의 일측면에는 끼움슬롯(40a)이 형성되고, 상기 마스크(M)는 상기 셔틀(40)의 끼움슬롯(40a)에 그 일측단이 이탈 가능하게 끼워짐으로써 셔틀(40)에 의해 지지된다.
상기 이송수단은 상기 이송레일(5)에 근접하여 구성되는 전자석 레일(6)을 포함하는 LMS 방식으로 이루어진다.
상기 각 이송레일(5)은 셔틀(40)을 안정적으로 지지할 수 있도록 전자석 레일(6)을 사이에 두고 좌우로 1개씩 배치되는 구조로 이루어지는 것이 바람직하다.
따라서, 본 발명의 제 4 실시예에서는 마스크(M)의 일측단만이 셔틀(40)에 의해 지지되는 이른바 외팔보 형식이 적용되었으며, 셔틀(40)의 이송을 위한 이송레일(5) 및 이송수단 역시 이에 부합되도록 1열만이 구비된다.
또한, 본 발명의 제 4 실시예에 의한 인라인 이송시스템은, 상기 증발원에서 배출된 증착물질이 셔틀(40) 및 이송레일(5)에 점착되지 않도록 하는 방착수단을 포함하여 이루어진다.
상기 방착수단은 상기 이송레일(5) 및 셔틀(40)로부터 측방향으로 이격 배치되며 이송레일(5)을 따라 이어지는 상부 파티션(400)과, 상기 상부 파티션(400)의 아래에 일정 간격을 두고 배치되는 하부 파티션(400')을 포함하여 이루어지며, 상기 마스크(M)는 상기 상부 및 하부 파티션(400)(400') 사이를 통과하여 상기 셔틀(40)에 끼움지지된다.
여기서, 상기 상부 파티션(400)은 단면상으로 볼때, 중간에 차단공간을 형성하고, 저면이 개방된 ∩ 형태로 이루어질 수 있으며, 상기 하부 파티션(400')은 중간에 차단공간을 형성하고 상면이 개방된 ∪ 형태로 이루어질 수 있으며, 상기 마스크(M)에는 상기 상부 파티션(400)의 차단공간에 개재되는 상부 차단판(50)과, 상기 하부 파티션(400')의 차단공간에 개재되는 하부 차단판(50')이 구비될 수 있다.
이와 같이 구성된 본 발명의 제 4 실시예의 작용에 대하여 설명하면 다음과 같다.
우선, 본 실시예에 의하면 이송수단이 LMS 방식으로 이루어지는 특성상 종래와 같은 미세분진에 의한 오염 문제가 발생하지 않는다.
또한, 셔틀(40)의 구조 및 방착수단이 구비된 특성상, 증발원에서 배출되는 증착물질에 의하여 셔틀(40) 및 이송레일(5)의 오염이 방지되는 방오작용이 다음과 같이 이루어진다.
우선, 본 실시예에서는 전술한 바와 같이 마스크(M)의 일측단만이 셔틀(40)에 의해 지지되도록 구성되는 특성상 결과적으로 증착물질이 점착될 수 있는 구성요소의 수량이 적으며, 이에 따라 당연히 증착물질에 의한 오염정도가 낮아지게 된다.
그리고, 상기 방착수단을 구성하는 상측 및 하측 파티션(400)(400')에 의해 증착물질이 이송레일(5) 및 셔틀(40) 측으로 유동되지 않기 때문에 증착물질이 이송레일(5) 및 셔틀(40)에 점착되는 현상이 적극적으로 방지된다.
상술한 바와 같은 각 실시예를 설명함에 있어서 이송수단을 LMS 방식으로 언급하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 방식으로 이루어질 수 있다는 것을 밝혀둔다.
또한. 상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술분야의 통상의 기술자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
5: 이송레일 6: 전자석 레일
10: 셔틀 12: 받침대 14: 브릿지 100: 방착배플
20: 셔틀 22: 거치대 24: 브릿지 200: 방착배플
30: 셔틀 300: 방착배플
40: 셔틀 400: 파티션
10: 셔틀 12: 받침대 14: 브릿지 100: 방착배플
20: 셔틀 22: 거치대 24: 브릿지 200: 방착배플
30: 셔틀 300: 방착배플
40: 셔틀 400: 파티션
Claims (7)
- 좌측 및 우측 이송레일과,
상기 이송레일을 따라 이송되며 마스크와 기판 및 자석판이 탑재되는 셔틀과,
상기 셔틀이 이송레일을 따라 이송되도록 하는 이송수단을 포함하여 이루어지며,
상기 셔틀은
서로 평행하게 이격 배치되는 좌측 및 우측 거치대와,
상기 좌측 및 우측 거치대를 연결하며, 상기 좌측 및 우측 이송레일에 그 양측 선단이 각각 이송 가능하게 대응되는 브릿지를 포함하고,
상기 좌측 및 우측 거치대에는 상기 마스크의 양선단이 각각 거치되며,
상기 브릿지는 상기 마스크와 기판 및 자석판의 상방을 가로질러 상기 좌측 및 우측 거치대를 연결하도록 구성되는 것
을 특징으로 하는 인라인 이송시스템.
- 제 1 항에 있어서,
상기 좌측 및 우측 거치대는
브릿지의 저면으로부터 일정 길이만큼 수직으로 내려오는 형태로 이루어지며, 그 하단에는 수평방향으로 절곡된 수평부가 형성되고,
상기 마스크는 좌측 및 우측 거치대의 수평부에 안착되며,
상기 거치대의 상하길이는 마스크와 기판 및 자석판의 적층된 높이를 초과하도록 이루어지는 것
을 특징으로 하는 인라인 이송시스템.
- 제 2 항에 있어서, 상기 브릿지는
상기 좌측 및 우측 거치대를 기준으로 그 외측의 선단이 상기 이송레일과 대응되도록 이루어지는 것
을 특징으로 하는 인라인 이송시스템.
- 제 3 항에 있어서, 상기 이송수단은
일측 이송레일에 근접하여 구성된 전자석 레일과, 상기 전자석 레일을 포함하는 LMS 방식으로 이루어지며,
상기 셔틀의 브릿지의 일측선단에만 대응되도록 구성되는 것
을 특징으로 하는 인라인 이송시스템.
- 제 4 항에 있어서,
상기 증발원에서 배출되는 증착물질이 이송레일과 셔틀의 거치대 및 전자석 레일에 점착되지 않도록 하는 방착수단을 포함하여 이루어지는 인라인 이송시스템.
- 제 5 항에 있어서, 상기 방착수단은
상기 좌측 이송레일의 저면과 셔틀의 좌측 거치대의 저면을 커버하는 좌측 방착배플과,
상기 전자석 레일의 저면과 우측 이송레일의 저면 및 우측 거치대의 저면을 커버하는 우측 방착배플
을 포함하여 이루어지는 인라인 이송시스템.
- 제 1 항 내지 제 6 항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 이송시스템과,
증착물질을 상향배출하는 증발원
을 포함하는 인라인 증착시스템.
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A107 | Divisional application of patent |