TW202012657A - 在真空系統中處理遮罩之方法、及真空系統 - Google Patents

在真空系統中處理遮罩之方法、及真空系統 Download PDF

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史丹分 班格特
栗田真一
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Abstract

一種於真空系統中處理遮罩之方法，包括(a)在真空系統中沿著一傳送路徑傳送在一非水平定向(V)中運載一第一遮罩(11)之一遮罩載體(10)；(b)從非水平定向(V)改變運載第一遮罩(11)之遮罩載體(10)的定向至一本質上水平定向(H)；以及(c)從配置於真空系統中之本質上水平定向(H)中的遮罩載體(10)卸載第一遮罩(11)。根據其他方面，一種真空系統包括一遮罩處理模組，此遮罩處理模組用以處理數個遮罩。

Description

在真空系統中處理遮罩之方法、及真空系統
本揭露之數個實施例係有關於數種在真空系統中之真空下處理遮罩之方法，及特別是有關於數種處理數個遮罩之方法，此些遮罩係裝配以用於在真空系統中遮蔽一已蒸發材料於數個基板上之沈積。其他實施例係有關於數個真空系統，裝配以經由數個遮罩沈積一已蒸發材料於數個基板上。更特別是，數個包括一遮罩處理模組之真空系統係說明，遮罩處理模組用以在真空系統中之真空下處理數個遮罩。特別是，數個在真空系統中處理數個遮罩之方法，及數個真空系統。
使用有機材料的光電裝置因許多原因而變得越來越受到歡迎。使用以製造此些裝置的許多有機材料係較為便宜，使得有機光電裝置比無機裝置具有成本優勢。有機材料之固有性質可在例如是沈積於撓性或非撓性之基板上的應用具有優點。有機光電裝置之例子包括有機發光二極體裝置(organic light emitting devices，OLEDs)、有機光電晶體、有機光伏電池、及有機光偵測器。
OLEDs之有機材料可具有優於傳統之材料的性能優勢。舉例來說，在有機發光層發光的波長可輕易地利用適當的摻雜劑調整。OLEDs使用薄有機膜，薄有機膜在電壓供應於裝置時發光。OLEDs係變成受到歡迎的技術來使用於例如是平板顯示器、發光、及背光之應用中。
在次大氣壓力(sub-atmospheric pressure)下，材料一般於真空系統中沈積於基板上，此材料特別是有機材料。在沈積期間，遮罩可配置於基板之前方，其中遮罩可具有至少一開孔或數個開孔，此至少一開孔或此些開孔係定義開孔圖案，開孔圖案係對應於舉例為藉由蒸發將沈積於基板上的材料圖案。基板一般在沈積期間係配置於遮罩的後方及相對於遮罩對齊。舉例來說，遮罩載體可使用以運載遮罩至真空系統之沈積腔室中，及基板載體可使用以運載基板至沈積腔室中來配置基板於遮罩的後方。
在規律的時間間隔從真空系統移除已使用之遮罩可為有利的，舉例為用以清洗遮罩或用以替換遮罩。再者，在規律時間間隔裝載將使用之遮罩至真空系統中可為有利的，舉例為用以提供遮罩替換及用以提供乾淨、未使用之遮罩於真空系統中。然而，遮罩之替換一般係耗費時間，及可能導致系統之閒置時間，而增加所有權的成本。
因此，提供用於在真空系統中快速及有效率之遮罩處理的方法，及具有裝配以快速及有效的遮罩處理的遮罩處理模組之真空系統會為有利的。特別是，簡化及加速真空系統中之遮罩傳送及遮罩替換會為有利的。遮罩係裝配以用於遮蔽於基板上之已蒸發材料的沈積。
有鑑於上述，說明數種在一真空系統中處理數個遮罩之方法，及數個真空系統。
根據本揭露之一方面，提出一種於一真空系統中處理數個遮罩之方法。此方法包括(a)在真空系統中沿著一傳送路徑傳送在一非水平定向中運載一第一遮罩之一遮罩載體；(b)從非水平定向改變運載第一遮罩之遮罩載體的定向至一本質上水平定向；以及(c)從配置於真空系統中之本質上水平定向中的遮罩載體卸載第一遮罩。
階段(a)、(b)、及(c)一般係接續地執行。
根據本揭露之另一方面，提出一種在一真空系統中處理數個遮罩的方法。此方法包括(d)裝載一第二遮罩於遮罩載體上，此遮罩載體係配置在真空系統中之一本質上水平定向中；(e)從本質上水平定向改變運載第二遮罩之遮罩載體的定向至一非水平定向；及(f)在真空系統中沿著傳送路徑傳送在非水平定向中之運載第二遮罩之遮罩載體。
階段(d)、(e)、及(f)一般係接續地執行。於一些實施例中，(a)、(b)、及(c)係接續執行，以從遮罩載體卸載一第一遮罩，及，接著，(d)、(e)、及(f)係接續執行，以裝載一第二遮罩於遮罩載體上，及傳送第二遮罩至一沈積腔室。第一遮罩可為一已使用之遮罩，及第二遮罩可為於真空系統中之一將使用之遮罩。
根據本揭露之其他方面，提出一種真空系統。此真空系統包括數個沈積腔室，分別容置一蒸汽源，裝配以一已蒸發材料於一基板上；一遮罩處理模組，裝配以在真空下連接及分離數個遮罩及數個遮罩載體，及在一本質上水平定向及一非水平定向之間改變此些遮罩之一定向；以及一遮罩傳送系統，裝配以在遮罩處理模組及此些沈積腔室之間傳送於非水平定向中運載此些遮罩之此些遮罩載體。
於一些實施例中，遮罩處理模組包括一遮罩載體支撐件，裝配以支撐一遮罩載體；以及一致動器，裝配以於非水平定向及本質上水平定向之間改變遮罩載體支撐件之定向。
於一些實施例中，遮罩處理模組更包括一真空機器人，具有一或多個遮罩支承部，具有一本質上水平定向，用以下述之至少一者(i)從遮罩載體支撐件支撐之遮罩載體卸載一第一遮罩，及(ii)裝載一第二遮罩於遮罩支承件支撐之遮罩載體上。
於一些實施例中，真空系統包括一個單一遮罩處理模組，用以連接數個遮罩及數個遮罩載體，此些遮罩載體係從遮罩處理模組傳送至數個沈積腔室，特別是四個、六個、八個、十個或更多個沈積腔室。
根據本揭露之另一方面，提出一種在一真空系統中處理數個遮罩之方法。此方法包括於一本質上水平定向中裝載此些遮罩於真空系統中；從本質上水平定向改變此些遮罩之一定向至一非水平定向及利用一遮罩處理模組連接此些遮罩於數個遮罩載體；從遮罩處理模組傳送於非水平定向中之運載此些遮罩之此些遮罩載體至數個沈積腔室；以及在此些沈積腔室中經由此些遮罩沈積已蒸發材料於數個基板上。
本揭露之其他方面、優點及特徵係透過說明及所附之圖式更為清楚。為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解，下文特舉實施例，並配合所附圖式詳細說明如下：
詳細的參照現在將以數種實施例達成，數種實施例的一或多個例子係繪示於圖式中。各例子係藉由說明的方式提供且不意味為一限制。舉例來說，所說明或敘述而做為一實施例之部份之特徵可用於任何其他實施例或與任何其他實施例結合，以取得再其他之實施例。此意指本揭露包括此些調整及變化 。
在圖式之下方說明中，相同參考編號係意指相同或類似之元件。一般來說，只有有關於個別實施例之相異處係進行說明。除非另有說明，一實施例中之一部份或方面之說明可亦應用於另一實施例中之對應部份或方面 。
第1A至1D圖繪示根據此處所述方法之處理第一遮罩11之方法的接續階段(a)、(b)、(c)之示意圖。第一遮罩11裝配以用於遮蔽基板上之沈積。也就是說，第一遮罩11裝配在基板的前方。此基板係將塗佈而具有材料圖案。材料圖案係由遮罩之開孔圖案定義。舉例來說，第一遮罩11可裝配以用於遮蔽蒸發製程，其中材料圖案係藉由蒸發形成於基板上。於一些實施例中，已蒸發材料可包括有機化合物。舉例來說，可製造出OLED裝置。於一些實施例中，另一材料可經由遮罩沈積於基板上，此另一材料舉例為金屬，例如是銀或鎂。
於一些實施例中，遮罩可包括遮罩框架及具有數個開孔之板。板由遮罩框架支承。遮罩框架可裝配，以用於支撐及支承一般為精密元件的板。舉例來說，遮罩框架可圍繞板。板可舉例為藉由銲接永久地固定於遮罩框架，或板可為可釋放地固定於遮罩框架。板的周圍邊緣可固定於遮罩框架。
遮罩可包括數個開孔，形成於圖案中，用以藉由遮蔽之沈積製程來沈積對應的材料圖案於基板上。在沈積期間，遮罩可配置於基板之前方的近距離處或直接接觸基板的前表面。舉例來說，遮罩可為精密金屬遮罩(fine metal mask，FMM)，具有數個開孔，舉例為100,000個開孔、1,000,000個開孔或更多。舉例來說，有機像素之圖案可沈積於基板上。其他形式的遮罩係可行的，舉例為邊緣排除遮罩(edge exclusion masks)。
於一些實施例中，遮罩可至少部份以金屬製成，舉例為以具有小的熱膨脹係數的金屬製成，例如是銦鋼(invar)。遮罩可包括磁性材料，使得遮罩可在沈積期間朝向基板磁性吸引。於一些實施例中，遮罩框架可包括磁性材料，使得遮罩框架可經由磁力吸引至遮罩載體。
遮罩可具有0.5 m2 或更多之面積，特別是1 m2 或更多之面積。舉例來說，遮罩的高度可為0.5 m或更多，特別是1 m或更多，及/或遮罩之寬度可為0.5 m或更多，特別是1 m或更多。遮罩的厚度可為1 cm或更少，其中遮罩框架可厚於遮罩。特別是，遮罩的板可具有1 mm或更少之厚度。
於一些實施例中，舉例為第一遮罩11的遮罩係在由遮罩載體10運載時傳送通過真空系統，舉例為在真空系統的二或多個真空腔室之間。舉例來說，第一遮罩11可進入真空系統之第一真空腔室，可固定於遮罩載體10，及運載第一遮罩11之遮罩載體10可於真空系統中傳送至第二真空腔室，第二真空腔室舉例為沈積腔室。一或多個其他真空腔室舉例為過渡腔室或依循路徑傳送腔室，可配置於第一真空腔室及第二真空腔室之間。在預定之沈積時間之後，已使用之第一遮罩可藉由遮罩載體10運載回到第一真空腔室，用以從遮罩載體分離及用以從真空系統卸載而舉例為用以清洗。
第一遮罩11可在真空系統中的傳送期間藉由遮罩載體10運載。舉例來說，支承第一遮罩11之遮罩載體10可在真空系統中沿著傳送路徑傳送，舉例為從第一真空腔室傳送至第二真空腔室。於一些實施例中，遮罩載體10可沿著遮罩軌道導引通過真空系統。舉例來說，遮罩載體10可包括被導引部，裝配以沿著遮罩軌道導引。
於一些實施例中，遮罩載體10藉由遮罩傳送系統50非接觸地傳送，遮罩傳送系統50可為磁性懸浮系統。特別是，磁性懸浮系統可提供，使得遮罩載體10的重量之至少一部份係藉由磁性懸浮系統運載。遮罩載體10可接著沿著遮罩軌道本質上非接觸地導引通過真空系統。用以沿著遮罩軌道移動遮罩載體之驅動器可提供，此驅動器例如是線性馬達。
在傳送期間及/或在沈積期間，遮罩載體10可於非水平定向(V)中運載第一遮罩11。舉例來說，在傳送期間及/或在沈積期間，第一遮罩11可藉由遮罩載體10支承於本質上垂直定向中。
此處所使用之裝置的「非水平定向」可為裝置之一定向，在裝置之此定向中，裝置的主表面及水平面之間的角度係為20°或更多，特別是45°或更多，更特別是80°或更多。此處所使用之裝置的「本質上垂直定向」可理解為裝置之一定向，在裝置之此定向中，裝置的主表面及重力向量之間的角度係為10°或更少。舉例來說，當遮罩或遮罩載體係提供於本質上垂直定向中時，遮罩或遮罩載體及重力向量之間的角度係為10°或更少。於一些實施例中，遮罩的定向可在傳送期間及/或沈積期間不為(準確)垂直，但相對於垂直軸略微地傾斜舉例為-1°及-5°之間的傾斜角。負角度意指遮罩的一定向，其中遮罩係向下傾斜。然而，在傳送期間及/或沈積期間，遮罩及遮罩載體之準確垂直定向(+/-1°)亦可行的。在本質上垂直定向中之遮罩載體10所運載的遮罩係繪示於第1A圖中。特別是，遮罩載體10之主表面及重力向量係含括10°或更少之角度。
特別是，在遮罩之傳送期間，遮罩載體10的遮罩支承表面可為本質上垂直定向。支承大面積遮罩於本質上垂直定向中係具挑戰性，因為遮罩可能因遮罩的重量之故而彎曲，或在不足之抓取力的情況中，遮罩可能從遮罩支承表面向下滑動。
此處所使用之遮罩的本質上水平定向意指遮罩位置，遮罩之主表面係在此遮罩位置中提供於本質上水平定向中，也就是遮罩之主表面及水平面之間的角度係為10°或更少。在第1C圖中，遮罩載體10及第一遮罩11具有本質上水平定向。
遮罩載體10可包括吸附或夾持裝置，用以吸附或夾持遮罩於遮罩載體10的支承表面。舉例來說，遮罩載體10可包括夾持件23，特別是數個夾持件，用以夾持遮罩於遮罩載體。遮罩載體10可替代地或額外地包括磁性吸座，用以吸附遮罩於遮罩載體，舉例為電永磁配置。遮罩載體10一般包括具有開孔的主體，其中遮罩係定位以覆蓋此開孔，使得已蒸發材料可在遮罩藉由遮罩載體運載時導引通過遮罩。
在第1A圖中之階段(a)中，運載第一遮罩11的遮罩載體10係在真空環境中之真空系統中於非水平定向中沿著傳送路徑T傳送，特別是本質上垂直定向中。舉例來說，在真空系統中的壓力可為10 mbar或更少，特別是1 mbar或更少。傳送路徑T垂直於第1A圖之紙面延伸。
於可與此處所述其他實施例結合之一些實施例中，運載第一遮罩11的遮罩載體10係從第一真空腔室傳送至第二真空腔室。第一真空腔室舉例為沈積腔室，容置蒸汽源。第二真空腔室舉例為遮罩處理模組20。舉例來說，第一真空腔室及第二真空腔室之間的距離可為數公尺，舉例為5 m、10 m或更多。
第一遮罩11可為已使用之遮罩，將針對清洗的目的而從真空系統卸載。第一遮罩11係在由遮罩載體10運載時傳送至第二真空腔室。在傳送期間，遮罩載體10及第一遮罩11可連續地提供於非水平定向(V)中，特別是在本質上垂直定向中，如第1A圖中所示。
遮罩處理模組20可裝配，以用於從遮罩載體10分離及卸載第一遮罩11及/或用以從真空系統卸載第一遮罩11。特別是，第一遮罩11可從遮罩載體10分離，及已分離之遮罩可從真空系統卸載。因此，遮罩載體10可維持在真空系統的內側，而第一遮罩11可從真空系統卸載，而無需遮罩載體10。
遮罩載體10可在真空系統中藉由遮罩傳送系統50非接觸地傳送，特別是藉由磁性懸浮系統。磁性懸浮系統可包括數個主動可控制磁性軸承，裝配以非接觸地支承遮罩載體10於傳送軌道51。一或多個距離感測器可測量傳送軌道51及遮罩載體10之間的間隙寬度，及一或多個主動可控制磁性軸承的磁性懸浮力可根據已測量的距離控制，以相對於傳送軌道51維持遮罩載體於本質上固定的距離。
於一些實施例中，磁性懸浮系統可包括一或多個側穩定裝置，裝配以於水平方向中穩定遮罩載體10，水平方向垂直於傳送路徑T。此一或多個側穩定裝置可包括被動磁鐵，配置於傳送軌道51，被動磁鐵舉例為永久磁鐵。被動磁鐵可磁性地吸引配置於遮罩載體的磁性配對者，使得遮罩載體可非接觸地穩定於在傳送軌道51的預定水平位置處。
於一些實施例中，可提供驅動單元，裝配以沿著傳送路徑T移動遮罩載體10。驅動單元可包括線性馬達。線性馬達之定子可提供於傳送軌道，舉例為在傳送軌道的下區段52。
如第1A圖中所示，遮罩載體10可停留於一位置，靠近遮罩處理模組20的遮罩載體支撐件22。遮罩載體支撐件22可裝配，以用於支撐遮罩載體10及用以改變遮罩載體10的定向。
如第1B圖中所示，遮罩載體支撐件22的支撐區段21可朝向遮罩載體10為可移動，用以帶動遮罩載體支撐件22接觸遮罩載體10。支撐區段21可選擇地裝配，以用於夾持遮罩載體10於遮罩載體支撐件22。於一些應用中，支撐區段21係裝配成夾持板材，用以機械地或磁性地夾持遮罩載體10於遮罩載體支撐件22。於一些實施例中，支撐區段21可朝向遮罩載體移動20 mm或更多，特別是40 mm或更多之距離。遮罩載體10可藉由啟動磁性吸座夾持至支撐區段21，磁性吸座吸引遮罩載體10於遮罩載體支撐件22。
於一些實施例中，支撐區段21可相對於遮罩載體支撐件22之底部主體26朝向遮罩傳送系統50及遠離遮罩傳送系統50。在夾持遮罩載體10於支撐區段21之後，遮罩載體可與支撐區段21移動離開遮罩傳送系統50。特別是，遮罩載體10可在本質上水平方向中傳送離開遮罩傳送系統50。
在第1C圖中之階段(b)中，運載第一遮罩11的遮罩載體10的定向係從非水平定向(V)改變至本質上水平定向(H)。
特別是，具有遮罩載體10支撐於其上之遮罩載體支撐件22的定向係從非水平定向(V)改變至本質上水平定向(H)，如第1C圖中所示。舉例來說，遮罩載體支撐件22可繞著本質上水平旋轉軸A為可旋轉，或可相對於本質上水平旋轉軸A樞轉。因此，遮罩載體10與第一遮罩11之定向係一起從第1B圖中所示之本質上垂直定向改變至第1C圖中所示之本質上水平定向。
於可與此處所述其他實施例結合之一些實施例中，遮罩載體支撐件22可裝配成具有支撐區段21的擺動台，用以支撐遮罩載體。擺動台(或「真空擺動模組」)可在第一位置及第二位置之間為可移動。在第一位置中，遮罩載體可在非水平定向中支撐於擺動台之支撐區段上，及在第二位置中，遮罩載體可在本質上水平定向中支撐於擺動台之支撐區段上。
根據此處所述之數個方法，第一遮罩11的定向係與遮罩載體10之定向一起改變。特別是，第一遮罩11係在固定於遮罩載體10時旋轉。遮罩及遮罩載體可在遮罩載體支撐件22支撐時一起旋轉。
改變第1C圖中之遮罩載體10的定向可包括支撐運載第一遮罩11之遮罩載體10於遮罩載體支撐件22上，及改變遮罩載體支撐件22的定向，舉例為繞著本質上水平旋轉軸A旋轉遮罩載體支撐件22。
在繪示於第1D圖中之階段(c)中，當遮罩載體配置於本質上水平定向中而位於遮罩載體支撐件22上時，第一遮罩11係從遮罩載體10卸除。
從遮罩載體10卸載第一遮罩11可包括舉例為藉由釋放夾持件23，從遮罩載體10分開第一遮罩11。夾持件23係固定第一遮罩於遮罩載體。藉由釋放舉例為磁性吸座之吸附裝置，第一遮罩11可替代地或額外地從遮罩載體卸除。
如第1D圖中所示，遮罩載體10可包括夾持件23，特別是數個夾持件，支承第一遮罩於遮罩載體。從遮罩載體10卸載第一遮罩11可包括解開夾持件23，使得第一遮罩11可從遮罩載體10取出。
於可與此處所述其他實施例結合之一些實施例中，從遮罩載體10卸載第一遮罩11可更包括從遮罩載體10升舉第一遮罩11，如第1D圖中所示。舉例來說，數個升舉銷可提供而用以從遮罩載體10升舉第一遮罩11。升舉銷可相對於遮罩載體支撐件22為可移動，用以從遮罩載體10升舉第一遮罩11，而遮罩載體10可支撐於遮罩載體支撐件22的支撐區段21。在從遮罩載體10升舉第一遮罩11之後，真空機器人之遮罩支承部32可插入第一遮罩11及遮罩載體10之間，及具有第一遮罩11支撐於其上之遮罩支承部32可從遮罩載體支撐件22移動離開。
在從遮罩載體10卸載第一遮罩11之後，第一遮罩11可從真空系統卸載，舉例為藉由傳送第一遮罩11進入裝載腔室中。 舉例為遮罩隔板的遮罩支承件可配置於裝載腔室。第一遮罩11可利用真空機器人放置於遮罩隔板之槽中。裝載腔室及真空系統之間的開孔可關閉，裝載腔室可設定在大氣壓力，及具有第一遮罩11之遮罩隔板可從裝載腔室移除，舉例為利用例如是起重機(crane)之升舉設備。
在階段(a)中，在由遮罩載體10於非水平定向中運載時傳送遮罩通過真空系統可因下述數個原因有利：(1)在減少損害遮罩的風險之下，遮罩可藉由遮罩載體傳送通過真空系統數公尺或數十公尺的長距離。舉例來說，遮罩可經由數個其他真空腔室傳送於遮罩處理模組及沈積腔室之間。僅有遮罩載體可在此傳送期間與遮罩傳送系統50交互作用。(2)由於遮罩及遮罩載體在傳送期間的非水平定向之故，可節省空間及可提供具有減少佔地面積之緊密的(compact)真空系統。
根據此處所述之數個實施例，一起改變遮罩及遮罩載體之定向，及在配置於本質上水平定向中時從遮罩載體卸除遮罩可因下述數個原因有利：(1)在定向改變期間損害遮罩之風險可減少，因為第一遮罩係在定向改變期間由遮罩載體支承及支撐。(2)在配置於本質上水平時從遮罩載體分離遮罩係特別簡單及耐故障(failure-resistant)，因為水平定向的遮罩可支撐於簡單水平配置之遮罩支承部上，而沒有任何掉落之風險。(3)在從遮罩載體卸除之後，遮罩可直接地插入遮罩隔板之水平槽中。
根據此處所述之數個實施例，對遮罩處理可有助益，及可提供遮罩的快速及簡單之定向改變。再者，遮罩可從遮罩載體分離及從真空系統卸載係具有減少損害遮罩之風險。因此，在真空系統中之遮罩運輸可加速，及真空系統的產量可增加。
在從遮罩載體10卸載第一遮罩11之後，第二遮罩12可裝載於遮罩載體10上。第二遮罩12可為將使用之乾淨的遮罩，使用以在沈積腔室中沈積已蒸發材料於基板上。
第2A至2D圖繪示根據此處所述實施例之處理遮罩之方法之接續階段(d)、(e)、及(f)的示意圖。階段(d)、(e)、及(f)可在繪示於第1A至1D圖中之階段(a)、(b)、及(c)之後執行。特別是，在階段(a)、(b)、及(c)中從遮罩載體10卸載第一遮罩11之後，第二遮罩12裝載於遮罩載體10上，及第二遮罩12可藉由遮罩載體10在真空系統中沿著傳送路徑運載。然而，本揭露係不限於(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)之順序。舉例來說，於一些實施例中，僅有階段(d)、(e)、及(f)係接續執行來用以裝載遮罩於遮罩載體上、一起改變遮罩與遮罩載體的方向，及在真空系統中沿著傳送路徑傳送遮罩載體。
如第2A圖中所示，根據此處所述之數個實施例之遮罩處理的方法包括，於階段(d)中，裝載第二遮罩12於配置於真空系統中本質上水平定向(H)中的遮罩載體10上。遮罩載體10可支撐於遮罩載體支撐件22上，遮罩載體支撐件22提供於本質上水平定向中。
在裝載第二遮罩12於遮罩載體10上之後或期間，舉例為藉由選擇地偵測相對於遮罩載體10之第二遮罩12的位置，及校正第二遮罩12及遮罩載體10之間的相對位置，第二遮罩12可選擇地相對於遮罩載體10對準，直到第二遮罩12係正確地位於遮罩載體10上。相對於具有非水平或垂直定向之遮罩的對準，對準提供於本質上水平定向中之遮罩可較簡單及更準確。
裝載第二遮罩12於遮罩載體10上可選擇地包括舉例為利用夾持件23或利用另一吸附裝置，貼附第二遮罩12於遮罩載體10上。此另一吸附裝置舉例為磁性吸座。第2B圖繪示裝載於遮罩載體10上及貼附於遮罩載體10的第二遮罩12，遮罩載體10係水平地支撐於遮罩載體支撐件22的支撐區段21上。
根據此處所述數個實施例之方法更包括，於階段(e)中，從本質上水平定向(H)改變運載第二遮罩12之遮罩載體10的定向至非水平定向(V)，特別是到本質上垂直定向，如第2C圖中所示。舉例來說，具有遮罩載體10支撐於其上之遮罩載體支撐件22可旋轉45°或更多及135°或更少的角度，特別是約90°的角度，直到遮罩載體10係配置於第2C圖中所示之本質上垂直定向中。特別是，遮罩載體之定向改變可包括旋轉80°或更多及90°或更少之角度。更特別是，遮罩載體可在階段(b)中向下旋轉約-87°，及可在階段(e)中向上旋轉約+87°。
特別是，例如是馬達的致動器可提供而用於改變遮罩載體支撐件22之定向，特別是在本質上水平定向(H)及非水平定向(V)之間，非水平定向例如是本質上垂直定向。
如第2C圖中所示，遮罩載體10可與貼附於其之第二遮罩12一起旋轉。藉由一起旋轉第二遮罩12及遮罩載體，損害第二遮罩12之風險可減少。
根據此處所述之數個實施例的方法更包括，於階段(f)中，在真空系統中於非水平定向(V)中沿著傳送路徑(T)傳送運載第二遮罩12的遮罩載體10。傳送路徑(T)可垂直於第2D圖之紙面延伸。舉例來說，第二遮罩12可藉由遮罩載體10運載至沈積腔室中，第二遮罩12可在沈積腔室使用而用以經由第二遮罩沈積已蒸發材料於基板上。
於一些實施例中，傳送遮罩載體10包括利用遮罩傳送系統50沿著傳送軌道51非接觸地傳送遮罩載體10，特別是利用磁性懸浮系統。參照係以上述說明達成，而不於此重複。
第3A至3G圖繪示根據此處所述實施例之處理遮罩之方法的數個階段之示意圖。更特別是，藉由遮罩載體10運載之第一遮罩11係從遮罩載體(見第3A至3D圖)卸載，及第二遮罩12係接續地裝載於遮罩載體10上(見第3E至3G圖)。第一遮罩11可為已使用之遮罩，將從真空系統卸載而舉例為用以清洗，及第二遮罩12可為乾淨之遮罩，將傳送至真空系統的沈積腔室中，用以使用於蒸發製程中。
第3A圖繪示裝配以從遮罩載體10分離第一遮罩11，及連接第二遮罩12於遮罩載體10的遮罩處理模組20之示意圖。遮罩處理模組20包括遮罩載體支撐件22，遮罩載體支撐件22裝配以支撐遮罩載體10。於一些實施例中，遮罩載體支撐件22可在繪示於第3A圖中之本質上水平定向(H)及非水平定向(V)之間為可移動，非水平定向(V)舉例為第1A圖中所示之本質上垂直定向。特別是，致動器可提供而用以在非水平定向及本質上水平定向之間改變遮罩載體支撐件22的定向。
如第3A圖中所示，遮罩載體10可在本質上水平定向(H)中支撐於遮罩載體支撐件22上。舉例來說，舉例為在定向改變至本質上水平定向之後，遮罩載體10可定位於遮罩載體支撐件之一或多個支撐區段21的頂部上。舉例為經由夾持件23，特別是數個夾持件，第一遮罩11可固定於遮罩載體10。
於可與此處所述其他實施例結合之一些實施例中，從遮罩載體10卸載第一遮罩11可包括舉例為藉由釋放夾持件23，特別是藉由釋放數個夾持件，從遮罩載體10分離第一遮罩11。舉例來說，夾持升舉銷29可向上移動，用以釋放夾持件。第3B圖繪示在從遮罩載體分離第一遮罩11之後的遮罩載體10。
接著，第一遮罩11可從遮罩載體10升舉，舉例為利用數個升舉銷24，升舉銷24可在本質上垂直方向中相對於遮罩載體支撐件22的支撐區段21可移動。舉例來說，第一遮罩11可從遮罩載體10升舉100 mm或更多及/或200 mm或更少的距離。
於一些實施例中，從遮罩載體10卸載第一遮罩11可更包括插入真空機器人之遮罩支承部32於升舉的第一遮罩及遮罩載體之間。特別是，在第一遮罩11已經從遮罩載體升舉50 mm或更多，特別是100 mm或更多之距離後，遮罩支承部32可插入遮罩載體10及第一遮罩11之間的縫隙。第3C圖繪示插入真空機器人之遮罩支承部32後之遮罩處理模組的示意圖。遮罩支承部32可為真空機器人之可移動的機器手臂，舉例為包括板材部，用以支撐遮罩於其上。
於是，具有第一遮罩11支撐於其上之遮罩支承部32可舉例為在垂直方向及/或水平方向中移動離開遮罩載體10，如第3D圖中所示。特別是，遮罩支承部32可傳送第一遮罩11至遮罩支承件中，遮罩支承件可配置於裝載腔室中。裝載腔室可配置而相鄰於遮罩處理模組，使得真空機器人可以遮罩支承部32移動離開而通過第一開孔至裝載腔室中及擺置第一遮罩11至遮罩支承件中，舉例為至遮罩隔板之槽中。特別是，真空機器人可擺置第一遮罩11至遮罩隔板的水平槽中，遮罩隔板係配置於裝載腔室中。遮罩隔板可具有數個槽，舉例為五個、十個或更多個槽。
第一遮罩11可從真空系統經由裝載腔室卸載，舉例為關閉真空系統及裝載腔室之間的第一開孔，設定裝載腔室於大氣壓力下，及舉例為利用升舉裝置從裝載腔室通過第二開孔移除遮罩隔板。
在從遮罩載體10卸載第一遮罩11之後，第二遮罩12可裝載於遮罩載體上，如第3E圖中所示。
裝載第二遮罩12於遮罩載體10上可包括利用真空機器人之遮罩支承部或利用真空機器人之第二遮罩支承部33來移動第二遮罩12至遮罩載體10之頂部上的一位置。舉例來說，當遮罩載體支撐件22支撐遮罩載體時，第二遮罩12可藉由真空機器人從提供於裝載腔室中的遮罩隔板傳送至遮罩載體10之頂部上的一位置。
於可與此處所述其他實施例結合之一些實施例中，遮罩處理模組20可包括真空機器人，具有一個、兩個或多個個別之可移動的機器手臂。各機器手臂可包括遮罩支承部，裝配以抓取遮罩及傳送遮罩於遮罩載體支撐件22及一或多個遮罩支承件之間。此一或多個遮罩支承件舉例為遮罩隔板。在一些實施例中，真空機器人可提供而具有至少兩個個別之可移動的遮罩支承部。因此，第二遮罩可由第二遮罩支承部抓取，而第一遮罩由第一遮罩支承部從遮罩載體卸載。因此，可加速遮罩替換。機器手臂可在至少兩個方向中為可移動，舉例為垂直及水平可移動。舉例來說，機器手臂可向上及向下可移動，及/或可相對於中央機器人主體朝向及/從遮罩載體支撐件為可伸展及可收回。
於一些實施例中，真空機器人相鄰於遮罩載體支撐件定位，及包括二或多個機器手臂。此二或多個機器手臂係繞著一軸為可旋轉及包括個別之遮罩支承部。個別的遮罩支承部係於垂直及/或水平方向中為可移動。
如第3E圖中所示，藉由降低真空機器人之第二遮罩支承部33，直到第二遮罩12接觸升舉銷24及升舉銷24支撐第二遮罩12，第二遮罩12可定位於升舉銷24上。升舉銷24可支承第二遮罩12於遮罩載體10之上方的一距離處。接著，升舉銷可降低，直到第二遮罩12擺置於遮罩載體10上。
於可與此處所述其他實施例結合之一些實施例中，裝載第二遮罩12於遮罩載體10上可更包括舉例為利用光學對準系統相對於遮罩載體10對準第二遮罩12。光學對準系統係裝配，以在兩個橫向水平方向中相對於遮罩載體10對準第二遮罩12。相對於遮罩載體對準第二遮罩12係繪示於第3F圖中。
在第二遮罩12的對準之後，第二遮罩12可特別是利用夾持件23或利用磁性吸座來貼附於遮罩載體10，如第3G圖中所示。
在裝載第二遮罩12於遮罩載體10上之後，遮罩載體支撐件22的定向可從第3G圖中所示之本質上水平定向(H)改變至第2C圖中所示的非水平定向。於是，運載第二遮罩12的遮罩載體10可在真空系統中於非水平定向中舉例為朝向沈積腔室傳送。
根據此處所述之另一方面，提出真空系統100。真空系統包括數個沈積腔室101，其中各沈積腔室容置沈積源，例如是蒸汽源105。
然而，本揭露係不限於具有蒸汽源的真空系統。舉例來說，可設置化學氣相沈積(chemical vapor deposition，CVD)系統、物理氣相沈積(physical vapor deposition，PVD)系統、或蒸發系統。PVD系統舉例為濺射系統。
真空系統100可為真空沈積系統，裝配以塗佈舉例為用於顯示器應用之基板而具有層堆疊。基板舉例為薄玻璃基板 。基板可貼附於真空系統中之基板載體，及基板載體可藉由基板傳送系統傳送通過真空系統。基板載體可接續藉由基板傳送系統傳送至數個沈積腔室中，以沈積不同材料之堆疊於基板上。當基板定位於以預定速度移動通過基板的蒸汽源之前方時，基板的主表面可於沈積腔室中塗佈而具有薄塗層。或者，基板可在沈積期間以預定速度傳送通過塗佈裝置。
基板可為非撓性基板，舉例為晶圓、例如是藍寶石或類似者之透明水晶片、玻璃基板、或陶瓷板材。然而，本揭露係不以此為限，且名稱基板可亦包含撓性基板，例如是網格(web)或箔，箔舉例為金屬箔或塑膠箔。
於一些實施例中，基板可為大面積基板。大面積基板可具有1 m2 或更多之表面積。特別是，大面積基板可使用於顯示器製造，及可為玻璃或塑膠基板。舉例來說，此處所述之基板應包含一般使用於液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)、電漿顯示器(Plasma Display Panel，PDP)、及類似者的基板。於一些實施例中，大面積基板可為第4.5代、第5代或更大。第4.5代對應於約0.67 m2 之基板(0.73 m x 0.92 m)、第5代對應於約1.4 m2 之基板(1.1 m x 1.3 m)。大面積基板可更為第7.5代、第8.5代、或甚至是第10代。第7.5代對應於約4.29 m2 之基板(1.95 m x 2.2 m)、第8.5代對應於約5.7m2 之基板(2.2 m x 2.5 m)、第10代對應於約8.7 m2 之基板(2.85 m × 3.05 m)。甚至例如是第11代及第12代之更高代及對應之基板面積可以類似之方式應用。於一些應用中，具有小至數cm2 的表面積及/或數種個別的形狀之較小尺寸基板的陣列可定位於單一個基板支撐件上。數cm2 的表面積舉例為2 cm x 4 cm。遮罩可於一些實施例中大於基板，以在沈積期間提供對基板的完整覆蓋。
於一些應用中，垂直於基板的主表面之一方向中的基板的厚度可為 1 mm 或更少，舉例為從0.1 mm至1 mm，特別是從0.3 mm至0.6 mm，舉例為0.5 mm。甚至更薄之基板亦為可行的。
真空系統100更包括遮罩處理模組20，裝配以在真空下連接及分開遮罩及遮罩載體。遮罩處理模組20更裝配，以於本質上水平定向(H)及非水平定向(V)之間改變遮罩的定向，非水平定向(V)特別是本質上垂直定向。
於一些實施例中，遮罩處理模組20裝配，以一起改變遮罩載體及貼附於其上之個別的遮罩的定向，如第1A圖至1D圖中所示。於其他實施例中，遮罩處理模組20係裝配，以從遮罩載體分離遮罩，及改變已分離之遮罩的定向。特別是，遮罩處理模組可裝配，以於本質上水平定向及本質上垂直定向之間旋轉遮罩，而無需遮罩載體。
真空系統100更包括遮罩傳送系統，裝配以傳送在非水平定向中運載遮罩之遮罩載體於遮罩處理模組20及此些沈積腔室101之間。舉例來說，將使用之遮罩可藉由遮罩處理模組20固定於個別之遮罩載體，及可藉由遮罩傳送系統傳送至個別的沈積腔室，及將從真空系統卸載之已使用的遮罩可從個別的沈積腔室傳送回到遮罩處理模組，以從個別之遮罩載體分離及從真空系統卸載。
第4圖繪示根據此處所述之實施例之真空系統100的示意圖。
真空系統100包括數個沈積腔室101，特別是四個或更多個沈積腔室，更特別是六個或更多個沈積腔室，或甚至是十個或更多個沈積腔室。裝配以藉由蒸發沈積已蒸發材料於基板上之蒸汽源105可配置於各沈積腔室101中。
蒸汽源105可包括蒸發坩鍋及分佈管。蒸發坩鍋係裝配以蒸發材料。分佈管具有數個開孔之分佈管，用以導引已蒸發材料朝向基板，基板配置於沈積腔室之沈積區域中。分佈管可在本質上垂直方向中延伸。於一些實施例中，分佈管可旋轉地固定。舉例來說，分佈管可在沈積腔室之第一沈積區域及沈積腔室之第二沈積區域之間為可轉動，其中第一沈積區域及第二沈積區域可配置在蒸汽源105的相反側上。因此，在已蒸發材料沈積於配置在第一沈積區域中的第一基板上之後，分佈管可旋轉約180° 之角度來用以沈積已蒸發材料於配置在沈積腔室之第二沈積區域中的第二基板上。
在第4圖中，兩個基板15係範例地繪示於蒸汽源105之兩側上的沈積腔室102之此兩個沈積區域中。為了簡化起見，剩餘之基板係未繪示於第4圖中。
於一些實施例中，在沈積期間，蒸汽源105係特別是沿著線性源路徑可移動通過基板。特別是，蒸汽源105可繞著一軸為可旋轉，及沿著線性源路徑通過基板為可移動。
第4圖之真空系統100更包括遮罩處理模組20，裝配以連接遮罩於遮罩載體及從遮罩載體分開遮罩。特別是，已使用之遮罩一般藉由遮罩處理模組從個別之遮罩載體分開，以從真空系統卸載已使用之遮罩，而遮罩載體可保留在真空系統中。將使用的遮罩一般係藉由遮罩處理模組連接於個別的遮罩載體，以從遮罩處理模組傳送將使用之遮罩至個別之沈積腔室中。
遮罩處理模組20可裝配，以在本質上水平定向及非水平定向之間改變遮罩的定向，特別是與運載遮罩之遮罩載體一起改變遮罩的定向。
特別是，遮罩處理模組20可包括遮罩載體支撐件22。 遮罩載體支撐件22係裝配，以支撐遮罩載體10，及在本質上水平定向及本質上垂直定向之間改變遮罩載體的定向。舉例來說，致動器可提供，用以在非水平定向(V)及本質上水平定向(H)之間改變遮罩載體支撐件22的定向。
於一些實施例中，遮罩處理模組20可更包括真空機器人30。真空機器人可裝配，以從遮罩載體支撐件所支撐的遮罩載體卸載第一遮罩11。真空機器人可更裝配，以裝載第二遮罩12於遮罩載體支撐件所支撐的遮罩載體上。
更特別是，真空機器人30可相鄰於遮罩載體支撐件22配置，及可包括至少一可移動的遮罩支承部。遮罩支承部係裝配，以從遮罩載體支撐件支撐於本質上水平定向中的遮罩載體抓取遮罩。再者，此至少一可移動的遮罩支承部可裝配，以移動遮罩載體之頂部上的遮罩及裝載遮罩於遮罩載體上。此遮罩載體係支撐於遮罩載體支撐件上。
特別是，真空機器人30可包括數個可移動的機器手臂，各機器手臂包括遮罩支承部。繪示於第4圖中之真空機器人30 包括三個可移動的機器手臂，其中第一個可移動之機器手臂的第一遮罩支承部可從遮罩載體卸載第一遮罩11，及第二個可移動之機械手臂的第二遮罩支承部可同時從遮罩隔板取出第二遮罩12。在藉由第一個機器手臂從遮罩載體卸載第一遮罩11之後，第二個機器手臂可裝載第二遮罩12於遮罩載體上。快速及節省時間的遮罩交換可提供。
真空機器人30可相鄰於在真空系統之真空腔室中的遮罩載體支撐件22設置，及一個、兩個、或多個裝載腔室108可相鄰於真空腔室配置。遮罩支承件舉例為遮罩隔板109，可設置於裝載腔室108中。真空機器人30可裝配，以傳送遮罩於此一個、兩個或多個裝載腔室108及遮罩載體支撐件22之間。
如第4圖中所示，真空系統可包括一個單一的遮罩處理模組20，用以處理將分散至此些沈積腔室101中的遮罩，特別是處理將分散至四個、六個、八個、十個或更多個沈積腔室中的遮罩。遮罩處理模組20可根據此處所述之任何實施例裝配，及適用於快速及有效率的遮罩處理。因此，遮罩可利用遮罩處理模組20非常快速地連接於遮罩載體及從遮罩載體拆開，使得一個單一之遮罩載體模組係足以用於處理此些沈積腔室101中將利用的遮罩。
於可與此處所述其他實施例結合之一些實施例中，此些沈積腔室101包括四個、八個、十個或更多個沈積腔室，及真空系統100包括一個單一的遮罩處理模組20，用以連接將傳送至此四個、八個、十個或更多個沈積腔室之遮罩及遮罩載體，及/或用以在預定使用時間之後從遮罩載體拆開此些遮罩。
於可與此處所述其他實施例結合之一些實施例中，真空系統100包括主傳送路徑5，具有傳送軌道，用以沿著主傳送路徑5傳送遮罩載體及基板載體。遮罩處理模組20連接於主傳送路徑5的第一區段，基板處理模組115裝配以連接及分離基板，及基板處理模組115連接於主傳送路徑5的第二區段，及此些沈積腔室101連接於主傳送路徑5之第三區段。主傳送路徑5可在本質上線性方向中延伸，第一區段可為主傳送路徑5之第一端區段，及第二區段可為主傳送路徑5之第二端區段。第三區段可部份地或全部地設置於第一區段及第二區段之間。
於一些實施例中，真空系統100可包括一或多個遮罩支承件，特別是遮罩隔板109，用以容置將從真空系統卸載及裝載至真空系統中的遮罩。此一或多個遮罩支承件可設置於一或多個裝載腔室108中，裝載腔室108相鄰於遮罩處理模組20定位。遮罩隔板可設置而具有數個水平延伸槽，用以容置個別之遮罩。特別是，遮罩隔板可裝配成遮罩匣(cassettes)，可利用升舉裝置從真空系統卸載及於大氣壓力傳送至清洗或維護站，用以清洗或維護遮罩。
第5圖繪示根據此處所述數個實施例之處理遮罩之方法的流程圖。
於方塊510中，遮罩於本質上水平定向中裝載至真空系統中。 舉例來說，水平配置於遮罩隔板之數個槽中的遮罩係放置於裝載腔室中。遮罩處理模組之真空機器人可分別從個別之槽取出遮罩，及放置遮罩於支撐於遮罩載體支撐件上的遮罩載體上。
於方塊520中，遮罩利用遮罩處理模組連接於遮罩載體。在連接遮罩於遮罩載體之後，遮罩之定向可從本質上水平定向改變至非水平定向，特別是本質上垂直定向。或者，在連接遮罩於遮罩載體之前，遮罩之定向可從本質上水平定向改變至非水平定向。
於方塊530中，運載遮罩之遮罩載體係在非水平定向中從遮罩處理模組傳送至數個沈積腔室中。舉例來說，各遮罩係傳送至預定之沈積腔室，遮罩係在由遮罩載體支承時於此預定之沈積腔室將使用來在基板上遮蔽沈積。特別是，此些遮罩可從單一個遮罩處理模組分散至數個沈積腔室 ，此單一個遮罩處理模組可裝配，以用以組設及拆卸遮罩及遮罩載體及用以改變遮罩定向。
於方塊540中，已蒸發材料係在此些沈積腔室中經由此些遮罩沈積於數個基板上。
根據此處所述之數個實施例，遮罩及遮罩載體係在真空下於水平定向中匹配，及運載遮罩之遮罩載體係藉由擺動台樞轉而提供於本質上垂直定向中。運載遮罩的遮罩載體係在本質上垂直定向中於真空系統中傳送至沈積腔室。於一些實施例中，遮罩載體係藉由磁性懸浮系統非接觸地傳送。
根據此處所述之數個實施例，遮罩係在由遮罩載體於本質上垂直定向(+/-10°)中運載時在真空系統中傳送。此遮罩載體概念係促使利用遮罩替換模組之一個單一個遮罩替換區域的使用，遮罩替換模組適用於連接及分離在真空系統中使用的遮罩及遮罩載體。特別是，於真空系統中使用的遮罩可經由一個單一個遮罩替換區域裝載至真空系統中及從真空系統卸載，此單一個遮罩替換區域可選擇地提供於真空系統之第一端區段。於一些實施例中，在真空系統中將塗佈的基板可經由一個單一個基板替換區域裝載至真空系統中及從真空系統卸載，此單一個基板替換區域可選擇地提供於真空系統之第二端區段，第二端區段相反於第一端區段。
特別是，真空系統可包括數個沈積腔室，相對於本質上線性延伸之主傳送路徑橫向地提供，其中遮罩處理區域可配置於主傳送路徑的第一端區段。因此，於真空系統中將使用的乾淨的遮罩係(僅)於沿著主傳送路徑的一方向中傳送，也就是從遮罩處理區域朝向沈積腔室。從真空系統將卸載之已使用的遮罩係(僅)於沿著主傳送路徑之相反方向中傳送，也就是從沈積腔室朝向遮罩處理區域。系統中的遮罩運輸可簡化。
綜上所述，雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
5:主傳送路徑 10:遮罩載體 11:第一遮罩 12:第二遮罩 15:基板 20:遮罩處理模組 21:支撐區段 22:遮罩載體支撐件 23:夾持件 24:升舉銷 26:底部主體 29:夾持升舉銷 30:真空機器人 32:遮罩支承部 33:第二遮罩支承部 50:遮罩傳送系統 51:傳送軌道 52:下區段 100:真空系統 101、102:沈積腔室 105:蒸汽源 108:裝載腔室 109:遮罩隔板 115:基板處理模組 510-540:方塊 A:本質上水平旋轉軸 H:本質上水平定向 T:傳送路徑 V:非水平定向
為了使本揭露的上述特徵可詳細地瞭解，簡要摘錄於上之本揭露之更特有的說明可參照數個實施例。所附之圖式係有關於本揭露之數個實施例且說明於下文中。典型實施例係繪示於圖式中且於下方說明中詳細闡述 。 第1A至1D圖繪示根據此處所述實施例之處理遮罩之方法的數個階段之示意圖； 第2A至2D圖繪示根據此處所述實施例之處理遮罩之方法的數個階段的示意圖； 第3A至3G圖繪示根據此處所述實施例之處理遮罩之方法的數個階段的示意圖； 第4圖繪示根據此處所述實施例之真空系統的示意圖；以及 第5圖繪示根據此處所述實施例之處理遮罩之方法的流程圖。
10:遮罩載體
11:第一遮罩
20:遮罩處理模組
22:遮罩載體支撐件
23:夾持件
A:本質上水平旋轉軸
H:本質上水平定向
V:非水平定向

Claims (20)

  1. 一種於一真空系統中處理複數個遮罩之方法，包括： a) 在該真空系統中沿著一傳送路徑傳送在一非水平定向中運載一第一遮罩(11)之一遮罩載體(10)； b) 從該非水平定向改變運載該第一遮罩(11)之該遮罩載體(10)的定向至一本質上水平定向；以及 c) 從配置於該真空系統中之該本質上水平定向中的該遮罩載體(10)卸載該第一遮罩(11)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該非水平定向係為一本質上垂直定向。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中該遮罩載體(10)係從一沈積腔室傳送至一遮罩處理模組(20)，該沈積腔室容納一蒸汽源(105)，該遮罩處理模組(20)包括一遮罩載體支撐件(22)，在該非水平定向及該本質上水平定向之間為可移動。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中傳送該遮罩載體(10)包括利用一遮罩傳送系統(50)非接觸地傳送該遮罩載體(10)，該遮罩傳送系統(50)包括一磁性懸浮系統。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中改變該定向包括支撐運載該第一遮罩(11)之該遮罩載體(10)於一遮罩載體支撐件(22)上，及旋轉該遮罩載體支撐件(22)。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中卸載包括從該遮罩載體(10)分離該第一遮罩(11)。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之方法，其中該第一遮罩(11)係藉由釋放一夾持件(23)或一磁性吸座來分離。
  8. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中卸載包括： 從支撐於一遮罩載體支撐件(22)上的該遮罩載體(10)升舉該第一遮罩(11)； 插入一真空機器人(30)之一遮罩支承部(32)於該第一遮罩(11)及該遮罩載體(10)之間；及 移動具有該第一遮罩(11)支撐於其上之該遮罩支承部(32)離開該遮罩載體支撐件(22)。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之方法，其中該第一遮罩(11)係利用複數個升舉銷(24)升舉，該些升舉銷(24)係相對於該遮罩載體支撐件(22)為可移動。
  10. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，更包括在該卸載之後： 利用一真空機器人(30)移動該第一遮罩(11)至一遮罩隔板(109)中，該遮罩隔板(109)係配置於一裝載腔室(108)中。
  11. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，更包括： d) 裝載一第二遮罩(12)於該遮罩載體(10)上，該遮罩載體(10)係配置在該真空系統中之該本質上水平定向(H)中； e) 從該本質上水平定向改變運載該第二遮罩(12)之該遮罩載體(10)的定向至該非水平定向；及 f) 在該真空系統中沿著該傳送路徑傳送在該非水平定向中之運載該第二遮罩(12)之該遮罩載體(10)。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之方法，更包括： 相對於該遮罩載體(10)對準該第二遮罩(12)；及 貼附該第二遮罩(12)於該遮罩載體(10)。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中該第二遮罩(12)係利用一夾持件(23)或一磁性吸座貼附於該遮罩載體(10)。
  14. 一種在一真空系統中之遮罩處理的方法，包括： a) 於該真空系統中裝載一遮罩於配置於一本質上水平定向(H)中的一遮罩載體(10)； b) 從該本質上水平定向改變運載該遮罩之該遮罩載體(10)之定向至一非水平定向；及 c) 在該真空系統中沿著一傳送路徑傳送於該非水平定向中運載該遮罩之該遮罩載體(10)。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之方法，更包括在改變該定向之前： 相對於該遮罩載體(10)對準該遮罩；及 貼附該遮罩於該遮罩載體(10)。
  16. 一種真空系統(100)，包括： 複數個沈積腔室(101)，分別容置一蒸汽源(105)； 一遮罩處理模組(20)，裝配以在真空下連接及分離複數個遮罩及複數個遮罩載體，及在一本質上水平定向及一非水平定向之間改變該些遮罩之一定向；以及 一遮罩傳送系統(50)，裝配以在該遮罩處理模組(20)及該些沈積腔室(101)之間傳送於該非水平定向中運載該些遮罩之該些遮罩載體。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之真空系統，其中該遮罩處理模組(20)包括： 一遮罩載體支撐件(22)，裝配以支撐該些遮罩載體的其中一者(10)； 一致動器，裝配以於該非水平定向及該本質上水平定向之間改變該遮罩載體支撐件(22)之定向；以及 一真空機器人(30)，具有至少一遮罩支承部(32)，用以下述之至少一者： - 從該遮罩載體支撐件(22)支撐之該些遮罩載體的該其中一者卸載一第一遮罩(11)，及 - 裝載一第二遮罩(12)於該遮罩載體支撐件(22)支撐之該些遮罩載體的該其中一者上。
  18. 如申請專利範圍第16或17項所述之真空系統，其中該些沈積腔室(101)包括四個、八個、十個或更多個沈積腔室，及其中該真空系統(100)包括一單一之該遮罩處理模組(20)，用以連接該些遮罩及該些遮罩載體來傳送至該四個、八個、十個或更多個沈積腔室。
  19. 如申請專利範圍第16或17項所述之真空系統，包括一主傳送路徑(5)，具有複數個傳送軌道，用以沿著該主傳送路徑(5)傳送該些遮罩載體及複數個基板載體，該遮罩處理模組(20)連接於該主傳送路徑(5)之一第一區段，一基板處理模組(115)裝配以連接及複數個基板及該些基板載體，該基板處理模組連接於該主傳送路徑(5)之一第二區段，及該些沈積腔室(101)連接於該主傳送路徑(5)之一第三區段。
  20. 一種在一真空系統(100)中處理複數個遮罩之方法，包括： 於一本質上水平定向中裝載該些遮罩於該真空系統(100)中； 從該本質上水平定向改變該些遮罩之一定向至一非水平定向，及利用一遮罩處理模組(20)連接該些遮罩於複數個遮罩載體； 從該遮罩處理模組(20)傳送於該非水平定向中之運載該些遮罩之該些遮罩載體至複數個沈積腔室(101)；以及 在該些沈積腔室(101)中經由該些遮罩沈積已蒸發材料於複數個基板上。
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