KR20240004389A - 감광성 착색 수지 조성물, 경화물, 격벽 및 화상 표시 장치 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 153
- 238000005192 partition Methods 0.000 title claims description 52
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 181
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 181
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 120
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims abstract description 83
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 28
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 136
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 79
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 57
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 56
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 51
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 48
- -1 amino compound Chemical class 0.000 description 163
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 98
- 239000010408 film Substances 0.000 description 83
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 80
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 72
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 66
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 60
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 56
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 50
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 47
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 45
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 43
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 38
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 36
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 36
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 35
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 34
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 33
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 33
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 32
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 31
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 30
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 30
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 28
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 28
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 27
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 24
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 24
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 24
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 23
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 21
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 19
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 19
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 18
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 17
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 17
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 17
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 17
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 17
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 17
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 16
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 16
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 16
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 16
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 16
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 15
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 15
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 14
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 14
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 14
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 14
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 13
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 13
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 12
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 12
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 12
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 12
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 12
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 12
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 11
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 10
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical class [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 10
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 10
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 10
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 9
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 9
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 9
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 9
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 9
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 9
- 150000003458 sulfonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 9
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 8
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 8
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 8
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 8
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 8
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 7
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 7
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 7
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 7
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- DJKGDNKYTKCJKD-BPOCMEKLSA-N (1s,4r,5s,6r)-1,2,3,4,7,7-hexachlorobicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5,6-dicarboxylic acid Chemical compound ClC1=C(Cl)[C@]2(Cl)[C@H](C(=O)O)[C@H](C(O)=O)[C@@]1(Cl)C2(Cl)Cl DJKGDNKYTKCJKD-BPOCMEKLSA-N 0.000 description 6
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PMUPSYZVABJEKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C)CCCCC1C(O)=O PMUPSYZVABJEKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C)C=CCCC1C(O)=O ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 6
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 6
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N cyclododecane Chemical group C1CCCCCCCCCCC1 DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 6
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 6
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 5
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 5
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 5
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 5
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 5
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 5
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 5
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 5
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 5
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 5
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001851 cinnamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 4
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N glycoluril Chemical compound N1C(=O)NC2NC(=O)NC21 VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 4
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N methyl isobutyrate Chemical compound COC(=O)C(C)C BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 4
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N propylene glycol Substances CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 4
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 4
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 4
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical group NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 229920003270 Cymel® Polymers 0.000 description 3
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N cyclodecane Chemical group C1CCCCCCCCC1 LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 3
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical group C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000005829 trimerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylcyclohexane Chemical compound CC1(C)CCCCC1 QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzothiazole Chemical group C1=CC=C2C=NSC2=C1 CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRMMVQKUKLVVFR-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyhexan-3-one Chemical compound CCCC(=O)CCOC LRMMVQKUKLVVFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexene Chemical compound CC1=CCCCC1 CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical group C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEPDDPLQZYCHOH-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazol-2-amine Chemical compound NC1=NC=CN1 DEPDDPLQZYCHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-quinazolin-2-one Chemical group C1=CC=CC2=NC(O)=NC=C21 AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-(2-phenylpropan-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-dodecoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBEKRAXYEBAHQF-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CCC(CO)(CO)CO WBEKRAXYEBAHQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AKVUWTYSNLGBJY-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)N1CCOCC1 AKVUWTYSNLGBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutan-2-one Chemical compound CC(C)C(C)=O SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-hexanone Chemical compound CC(C)CCC(C)=O FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101001074560 Arabidopsis thaliana Aquaporin PIP1-2 Proteins 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- YTFVEVTTXDZJHN-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(3-sulfanylbutanoyloxy)-2-(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)CC(C)S)COC(=O)CC(C)S YTFVEVTTXDZJHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCCLJFJGIDIZKK-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2-(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS OCCLJFJGIDIZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylbutanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCC(COC(=O)CC(C)S)(COC(=O)CC(C)S)COC(=O)CC(C)S VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 2
- IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxybutan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)OC IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 125000005578 chrysene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical group N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 229940088516 cipro Drugs 0.000 description 2
- DIOIOSKKIYDRIQ-UHFFFAOYSA-N ciprofloxacin hydrochloride Chemical compound Cl.C12=CC(N3CCNCC3)=C(F)C=C2C(=O)C(C(=O)O)=CN1C1CC1 DIOIOSKKIYDRIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical group CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N dimethylaminopropylamine Chemical compound CN(C)CCCN IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 2
- ZTYYDUBWJTUMHW-UHFFFAOYSA-N furo[3,2-b]furan Chemical group O1C=CC2=C1C=CO2 ZTYYDUBWJTUMHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- RGFNRWTWDWVHDD-UHFFFAOYSA-N isobutyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OCC(C)C RGFNRWTWDWVHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C(C)C WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCN(CC)CCCN QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OENHRRVNRZBNNS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,8-diol Chemical compound C1=CC(O)=C2C(O)=CC=CC2=C1 OENHRRVNRZBNNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005327 perimidinyl group Chemical group N1C(=NC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 2
- RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N phenanthridine Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=NC2=C1 RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHOZZUICEDXVGD-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[2,3-d]imidazole Chemical group C1=NC2=CC=NC2=N1 MHOZZUICEDXVGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical group C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical group N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000005579 tetracene group Chemical group 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- ONCNIMLKGZSAJT-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]furan Chemical group S1C=CC2=C1C=CO2 ONCNIMLKGZSAJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]thiophene Chemical group S1C=CC2=C1C=CS2 VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- MAOBFOXLCJIFLV-UHFFFAOYSA-N (2-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 MAOBFOXLCJIFLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVUWYXJTOLSMFV-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-4-octylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VVUWYXJTOLSMFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJTCHBVEUFDSIK-NWDGAFQWSA-N (2r,5s)-1-benzyl-2,5-dimethylpiperazine Chemical compound C[C@@H]1CN[C@@H](C)CN1CC1=CC=CC=C1 WJTCHBVEUFDSIK-NWDGAFQWSA-N 0.000 description 1
- RXCOGDYOZQGGMK-UHFFFAOYSA-N (3,4-diaminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RXCOGDYOZQGGMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RONYJXRSTBQEDW-NTCAYCPXSA-N (e)-3-[4-(diethylamino)phenyl]-1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1\C=C\C(=O)C1=CC=CC=C1 RONYJXRSTBQEDW-NTCAYCPXSA-N 0.000 description 1
- RJUIDDKTATZJFE-NSCUHMNNSA-N (e)-but-2-enoyl chloride Chemical compound C\C=C\C(Cl)=O RJUIDDKTATZJFE-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzothiadiazole Chemical group C1=CC=C2SN=NC2=C1 FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C=NOC2=C1 KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAEWNKLGPBBWNM-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris[2-(3-sulfanylbutoxy)ethyl]-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(S)CCOCCN1C(=O)N(CCOCCC(C)S)C(=O)N(CCOCCC(C)S)C1=O PAEWNKLGPBBWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- CVZBYEKCIDMLRV-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(methylsulfanyl)benzene Chemical compound CSC1=CC=C(SC)C=C1 CVZBYEKCIDMLRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUKSWKGOQKREON-UHFFFAOYSA-N 1,4-diacetoxybutane Chemical compound CC(=O)OCCCCOC(C)=O XUKSWKGOQKREON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene Natural products C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,4,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCC(C)CC(C)(C)CCN=C=O QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSZHBVPYGJXEGF-UHFFFAOYSA-N 1-(2-sulfanylacetyl)oxybutyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OC(CCC)OC(=O)CS RSZHBVPYGJXEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYWJYQBUSUMZDF-UHFFFAOYSA-N 1-(3-sulfanylbutanoyloxy)butyl 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OC(CCC)OC(=O)CC(C)S UYWJYQBUSUMZDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMSKAQFWYOSTQX-UHFFFAOYSA-N 1-(3-sulfanylpropanoyloxy)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OC(CCC)OC(=O)CCS ZMSKAQFWYOSTQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-propoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CCCOCCOCCOCCC BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMIBQFXWSUBFTG-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(diethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HMIBQFXWSUBFTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHXFWEJMQVIWDH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-4-hydroxy-2-phenoxyanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=C(O)C=2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C=2C(N)=C1OC1=CC=CC=C1 MHXFWEJMQVIWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(C)=O FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloropentane Chemical compound CCCCCCl SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-methylpropane Chemical compound CCOCC(C)C RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APWZAIZNWQFZBK-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=CC=CC2=C1 APWZAIZNWQFZBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOQAPVYOGBLGOC-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-9h-carbazole Chemical compound C12=CC=CC=C2NC2=C1C=CC=C2CC HOQAPVYOGBLGOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=CC2=C1 NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 1-tert-Butoxy-2-propanol Chemical compound CC(O)COC(C)(C)C GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical compound SC=1N=CNN=1 AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1h-triazole Chemical compound N1NC=CN1 SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrooxadiazole Chemical compound N1NC=CO1 VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpent-1-ene Chemical group CC(=C)CC(C)(C)C FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004215 2,4-difluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(F)C([H])=C1F 0.000 description 1
- ZXJCJJQOVTZXOJ-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[[4-(diethylamino)phenyl]methylidene]cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=C(CC1)CC(=O)C1=CC1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 ZXJCJJQOVTZXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFISDBXSWQMOND-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethoxyoxolane Chemical compound COC1CCC(OC)O1 GFISDBXSWQMOND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXAYEPUDXSKVHS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-bis(3-methoxyphenyl)-1h-imidazole Chemical class COC1=CC=CC(C2=C(NC(=N2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)C=2C=C(OC)C=CC=2)=C1 RXAYEPUDXSKVHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1CO1 BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-fluorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class FC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylacetyl)oxyethyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCCOC(=O)CS PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCS)C(=O)C2=C1 UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXJZAWRTHMZECY-UHFFFAOYSA-N 2-(3-sulfanylbutanoyloxy)ethyl 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCCOC(=O)CC(C)S TXJZAWRTHMZECY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAQZWTGSNCDKTK-UHFFFAOYSA-N 2-(3-sulfanylpropanoyloxy)ethyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCCOC(=O)CCS HAQZWTGSNCDKTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVBLPJWQXDCAKU-UHFFFAOYSA-N 2-(4-bromo-3-hydroxyquinolin-2-yl)indene-1,3-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C1C1=C(O)C(Br)=C2C=CC=CC2=N1 DVBLPJWQXDCAKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLNVSTLNDJGLTL-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OCC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 NLNVSTLNDJGLTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOAUOEKXSLFJCQ-UHFFFAOYSA-N 2-(furan-2-yl)-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound O1C(C(Cl)(Cl)Cl)=NN=C1C1=CC=CO1 DOAUOEKXSLFJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1,3-hexanediol Chemical compound CCCC(O)C(CC)CO RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 2-Naphthalenethiol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S)=CC=C21 RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVSCAPMJFRYMFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOCCOC(C)=O NVSCAPMJFRYMFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDHQGBWMLCBNSM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOCCOC(C)=O SDHQGBWMLCBNSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXFZZHBFXRZMT-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethoxy)phenoxy]ethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC(OCCO)=C1 IAXFZZHBFXRZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(octyloxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIGKGDPQRWZLU-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[(2,6-dichloro-4-nitrophenyl)diazenyl]-n-methylanilino]ethanol Chemical compound C1=CC(N(CCO)C)=CC=C1N=NC1=C(Cl)C=C([N+]([O-])=O)C=C1Cl MPIGKGDPQRWZLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZXATTMVGZDPHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[(2-chloro-4-nitrophenyl)diazenyl]-n-ethylanilino]ethyl-trimethylazanium Chemical compound C1=CC(N(CC[N+](C)(C)C)CC)=CC=C1N=NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1Cl TZXATTMVGZDPHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 2-[n-ethyl-4-[(6-methoxy-3-methyl-1,3-benzothiazol-3-ium-2-yl)diazenyl]anilino]ethanol;methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1N=NC1=[N+](C)C2=CC=C(OC)C=C2S1 MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCC(CC)(CO)CO DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSXIZXFGQGKZQG-UHFFFAOYSA-N 2-cyano-3,3-diphenylprop-2-enoic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)O)C1=CC=CC=C1 VSXIZXFGQGKZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFNWCWCYYWCNPE-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 1,4-bis(methylamino)cyclohexa-2,4-diene-1-carboxylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1(NC)CC=C(NC)C=C1 WFNWCWCYYWCNPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCIRHAGYEUJTFH-UHFFFAOYSA-N 2-imidazol-1-ylethanamine Chemical compound NCCN1C=CN=C1 YCIRHAGYEUJTFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYWVCDJZBKSKHS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-4-methyl-3-phenylpent-2-enoic acid Chemical compound COC(C(O)=O)=C(C(C)C)C1=CC=CC=C1 QYWVCDJZBKSKHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAQVSPFHUUSNT-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methyl-3-phenylhept-2-enoic acid Chemical compound CC(C)CCC(=C(C(O)=O)OC)C1=CC=CC=C1 KUAQVSPFHUUSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGHCVSPDKSEROA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,4-dioxecane-5,10-dione Chemical compound CC1COC(=O)CCCCC(=O)O1 VGHCVSPDKSEROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVZZUPJFERSVRN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-propylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCC(C)(CO)CO JVZZUPJFERSVRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical class CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUCABBOUCNJYAH-UHFFFAOYSA-N 3,5-diphenyltriazol-4-amine Chemical compound NC1=C(C=2C=CC=CC=2)N=NN1C1=CC=CC=C1 FUCABBOUCNJYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 3-acetyloxybutyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)CCOC(C)=O MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropanoic acid Chemical compound CCOCCC(O)=O JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVRUIAMYISNHU-UHFFFAOYSA-N 3-ethylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1CCCC(C(O)=O)C1C(O)=O GLVRUIAMYISNHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDHWOCLBMVSZPG-UHFFFAOYSA-N 3-imidazol-1-ylpropan-1-amine Chemical compound NCCCN1C=CN=C1 KDHWOCLBMVSZPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 3-mercaptopropionate Chemical compound [O-]C(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTNUUDFQRYBJPH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropanehydrazide Chemical compound COCCC(=O)NN HTNUUDFQRYBJPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYIRRSOMGIRYKU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCCCOC HYIRRSOMGIRYKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPFCZYUVICHKDS-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutane-1,3-diol Chemical compound CC(C)(O)CCO XPFCZYUVICHKDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXYTXCXWNITTLN-UHFFFAOYSA-N 3-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CCCC(C(O)=O)C1C(O)=O WXYTXCXWNITTLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 3-octanone Chemical compound CCCCCC(=O)CC RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBCXRDHKXHADQF-UHFFFAOYSA-N 4,11-diamino-2-(3-methoxypropyl)naphtho[2,3-f]isoindole-1,3,5,10-tetrone Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(N)=C(C(N(CCCOC)C1=O)=O)C1=C2N WBCXRDHKXHADQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class N1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIARLPIXVMHZLJ-UHFFFAOYSA-N 4,8-diamino-2-bromo-1,5-dihydroxyanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=C(N)C=C(Br)C(O)=C2C(=O)C2=C1C(O)=CC=C2N AIARLPIXVMHZLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADRCREMWPUFGDU-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 ADRCREMWPUFGDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYKGLCSXVAAXNC-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 HYKGLCSXVAAXNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYHNMZPERVYEKS-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzoxazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2O1 MYHNMZPERVYEKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLWWHMRHFRTAII-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzoxazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2O1 NLWWHMRHFRTAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOECQEGGMWDHEV-UHFFFAOYSA-N 4-(1h-benzimidazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 KOECQEGGMWDHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKBBGUJBGLTNEK-UHFFFAOYSA-N 4-(1h-benzimidazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 ZKBBGUJBGLTNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQEGODYTGXKGEV-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)-2-(3-methylbutyl)benzoic acid Chemical compound CC(C)CCC1=CC(N(C)C)=CC=C1C(O)=O SQEGODYTGXKGEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-phenyldiazenylnaphthalen-1-yl)diazenyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N=NC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDJNNXQVYWMX-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(dimethylamino)ethyl]benzoic acid Chemical compound CN(C)CCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 JDFDJNNXQVYWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=N1 FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGKCTTQKRNEUAL-UHFFFAOYSA-N 4-[5-[4-(diethylamino)phenyl]-1,3,4-thiadiazol-2-yl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)S1 LGKCTTQKRNEUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWFMTHGMFVQPSE-UHFFFAOYSA-N 4-amino-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound NN1C(=O)NNC1=O BWFMTHGMFVQPSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBFRYSKTTHYWQZ-UHFFFAOYSA-N 4-anilino-3-nitro-n-phenylbenzenesulfonamide Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(S(=O)(=O)NC=2C=CC=CC=2)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 BBFRYSKTTHYWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVDNECJRVKOPKV-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2-(3-phenyl-1h-1,2,4-triazol-5-yl)aniline Chemical compound NC1=CC=C(Cl)C=C1C1=NNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 HVDNECJRVKOPKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIERZIUSJOSEGK-UHFFFAOYSA-N 4-cyclopenta[c][1,2]benzoxazin-2-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC2=NOC3=CC=CC=C3C2=C1 VIERZIUSJOSEGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RODDOGQBSBJOCQ-UHFFFAOYSA-N 4-cyclopenta[c][2,1]benzoxazin-2-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC2=C3C=CC=CC3=NOC2=C1 RODDOGQBSBJOCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IODOHPXRYMDKQF-UHFFFAOYSA-N 4-ethylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 IODOHPXRYMDKQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical class OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVERNFJXXRIVQN-XSDYUOFFSA-N 5-[(4-ethoxyphenyl)diazenyl]-2-[(e)-2-[4-[(4-ethoxyphenyl)diazenyl]-2-sulfophenyl]ethenyl]benzenesulfonic acid Chemical compound C1=CC(OCC)=CC=C1N=NC(C=C1S(O)(=O)=O)=CC=C1\C=C\C1=CC=C(N=NC=2C=CC(OCC)=CC=2)C=C1S(O)(=O)=O AVERNFJXXRIVQN-XSDYUOFFSA-N 0.000 description 1
- JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 5-methoxypentyl acetate Chemical compound COCCCCCOC(C)=O JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVLTVRFYVWMEQN-UHFFFAOYSA-N 5-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C=C1 SVLTVRFYVWMEQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUOWKZRABKXXBQ-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-dihydro-1,2,4-triazol-2-amine Chemical compound N1N(N)CN=C1C1=CC=CC=C1 DUOWKZRABKXXBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAGYBFHMVLFZDN-UHFFFAOYSA-N 6-ethylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1CC=CC(C(O)=O)C1C(O)=O UAGYBFHMVLFZDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPYZZWFCOCCLQZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CC=CC(C(O)=O)C1C(O)=O GPYZZWFCOCCLQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZKAYWZWUOUVRS-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-[4-(diethylamino)benzoyl]chromen-2-one Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC2=CC=C(N(CC)CC)C=C2OC1=O TZKAYWZWUOUVRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCFMUWBCZZUMRX-UHFFFAOYSA-N 9,10-Dihydroxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(C=CC=C3)C3=C(O)C2=C1 PCFMUWBCZZUMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FMMWHPNWAFZXNH-UHFFFAOYSA-N Benz[a]pyrene Chemical compound C1=C2C3=CC=CC=C3C=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 FMMWHPNWAFZXNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXVZTWMMZZVRA-UHFFFAOYSA-N CC1(C=CC=C1)[Ti]C1(C=CC=C1)C Chemical compound CC1(C=CC=C1)[Ti]C1(C=CC=C1)C YKXVZTWMMZZVRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDAHHUSZOJKBGT-UHFFFAOYSA-N CCCC(CCC(C=C1N2N=C(C=C(C=C3)Cl)C3=N2)=CC(C(C)(C)C)=C1O)CCOC(CC)=O Chemical compound CCCC(CCC(C=C1N2N=C(C=C(C=C3)Cl)C3=N2)=CC(C(C)(C)C)=C1O)CCOC(CC)=O WDAHHUSZOJKBGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJMSUPJVUDEPNC-UHFFFAOYSA-N CCCCCC(CCOC(=O)CC)c1cc(c(O)c(c1)C(C)(C)C)-n1nc2ccc(Cl)cc2n1 Chemical compound CCCCCC(CCOC(=O)CC)c1cc(c(O)c(c1)C(C)(C)C)-n1nc2ccc(Cl)cc2n1 GJMSUPJVUDEPNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHOFDRWUHKGNRM-UHFFFAOYSA-N CCCCCCC(CCOC(CC)=O)C(C=C1N2N=C(C=CC=C3)C3=N2)=CC(C(C)(C)C)=C1O Chemical compound CCCCCCC(CCOC(CC)=O)C(C=C1N2N=C(C=CC=C3)C3=N2)=CC(C(C)(C)C)=C1O CHOFDRWUHKGNRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YALWLPDELHDDMI-UHFFFAOYSA-N CCCCCCC.N=C=O.N=C=O.N=C=O Chemical compound CCCCCCC.N=C=O.N=C=O.N=C=O YALWLPDELHDDMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKBFCPLWFWQNFB-UHFFFAOYSA-M CI Acid Orange 3 Chemical compound [Na+].[O-][N+](=O)C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1NC(C=C1S([O-])(=O)=O)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 KKBFCPLWFWQNFB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- IQFVPQOLBLOTPF-UHFFFAOYSA-L Congo Red Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=CC2=C(N)C(N=NC3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)N=NC3=C(C4=CC=CC=C4C(=C3)S([O-])(=O)=O)N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 IQFVPQOLBLOTPF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 241000557626 Corvus corax Species 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000721047 Danaus plexippus Species 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N L-histidine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- 239000006001 Methyl nonyl ketone Substances 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCIBSLBQRBITCY-UHFFFAOYSA-N OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O.C1=CC=CC2=CC=CC=C12 Chemical class OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)O.C1=CC=CC2=CC=CC=C12 XCIBSLBQRBITCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEQGYPPMTKWBIU-UHFFFAOYSA-N Octyl propanoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CC CEQGYPPMTKWBIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N Padimate O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 229920001273 Polyhydroxy acid Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OVSNDJXCFPSPDZ-UHFFFAOYSA-N Reactive red 120 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC2=CC(S(O)(=O)=O)=CC(NC=3N=C(NC=4C=CC(NC=5N=C(NC=6C7=C(O)C(N=NC=8C(=CC=CC=8)S(O)(=O)=O)=C(C=C7C=C(C=6)S(O)(=O)=O)S(O)(=O)=O)N=C(Cl)N=5)=CC=4)N=C(Cl)N=3)=C2C(O)=C1N=NC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O OVSNDJXCFPSPDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N Sudan III Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC(C=C1)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMPQYAYAQWNLME-UHFFFAOYSA-N Undecanal Natural products CCCCCCCCCCC=O KMPQYAYAQWNLME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1CO XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKDJMJKKDIIJNA-UHFFFAOYSA-N [3-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(OC(=O)C(C)=C)=C1 CKDJMJKKDIIJNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IURGIPVDZKDLIX-UHFFFAOYSA-M [7-(diethylamino)phenoxazin-3-ylidene]-diethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC3=CC(N(CC)CC)=CC=C3N=C21 IURGIPVDZKDLIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(octanoyloxy)stannyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCC NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- CQPFMGBJSMSXLP-UHFFFAOYSA-M acid orange 7 Chemical compound [Na+].OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 CQPFMGBJSMSXLP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- TXVHTIQJNYSSKO-UHFFFAOYSA-N benzo[e]pyrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC4=CC=C1C2=C34 TXVHTIQJNYSSKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N benzyl(trimethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(ethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NCC)C=C1 QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(methylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NC)C=C1 HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000010504 bond cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRIRSNXZGJWTQM-UHFFFAOYSA-N butyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCOC RRIRSNXZGJWTQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- HFIYIRIMGZMCPC-UHFFFAOYSA-J chembl1326377 Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC2=CC(S([O-])(=O)=O)=C(N=NC=3C=CC(=CC=3)S(=O)(=O)CCOS([O-])(=O)=O)C(O)=C2C(N)=C1N=NC1=CC=C(S(=O)(=O)CCOS([O-])(=O)=O)C=C1 HFIYIRIMGZMCPC-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1CCCCC1 KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylcyclohexane Chemical group C1CCCCC1C1CCCCC1 WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N decane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCCCCCC(S)S WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004985 dialkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N diimidazo[1,3-b:1',3'-e]pyrazine-5,10-dione Chemical compound O=C1C2=CN=CN2C(=O)C2=CN=CN12 UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical group C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- QCWPZYSLMIXIHM-UHFFFAOYSA-L disodium 4-amino-5-hydroxy-3-[(3-nitrophenyl)diazenyl]-6-phenyldiazenylnaphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].Nc1c(N=Nc2cccc(c2)[N+]([O-])=O)c(cc2cc(c(N=Nc3ccccc3)c(O)c12)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O QCWPZYSLMIXIHM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DSARWKALPGYFTA-UHFFFAOYSA-L disodium 4-hydroxy-7-[(5-hydroxy-6-phenyldiazenyl-7-sulfonatonaphthalen-2-yl)carbamoylamino]-3-phenyldiazenylnaphthalene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC2=CC(NC(=O)NC=3C=C4C=C(C(N=NC=5C=CC=CC=5)=C(O)C4=CC=3)S([O-])(=O)=O)=CC=C2C(O)=C1N=NC1=CC=CC=C1 DSARWKALPGYFTA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VLFKFKCRUCJVNE-UHFFFAOYSA-L disodium 8-amino-7-[(4-nitrophenyl)diazenyl]-2-[[4-[4-[(4-oxidophenyl)diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-3,6-disulfonaphthalen-1-olate Chemical compound [Na+].[Na+].NC1=C(C(=CC2=CC(=C(C(=C12)O)N=NC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)N=NC1=CC=C(C=C1)O)S(=O)(=O)[O-])S(=O)(=O)[O-])N=NC1=CC=C(C=C1)[N+](=O)[O-] VLFKFKCRUCJVNE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VQHWSAGRWJWMCJ-UHFFFAOYSA-K disodium;4-chloro-2-methyl-6-[(3-methyl-5-oxo-1-phenylpyrazol-2-id-4-yl)diazenyl]phenolate;chromium(3+);hydron Chemical compound [H+].[Na+].[Na+].[Cr+3].O=C1C(N=NC=2C(=C(C)C=C(Cl)C=2)[O-])=C(C)[N-]N1C1=CC=CC=C1.O=C1C(N=NC=2C(=C(C)C=C(Cl)C=2)[O-])=C(C)[N-]N1C1=CC=CC=C1 VQHWSAGRWJWMCJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- FPAYXBWMYIMERV-UHFFFAOYSA-L disodium;5-methyl-2-[[4-(4-methyl-2-sulfonatoanilino)-9,10-dioxoanthracen-1-yl]amino]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(C)=CC=C1NC(C=1C(=O)C2=CC=CC=C2C(=O)C=11)=CC=C1NC1=CC=C(C)C=C1S([O-])(=O)=O FPAYXBWMYIMERV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TUXJTJITXCHUEL-UHFFFAOYSA-N disperse red 11 Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(N)C(OC)=CC(N)=C3C(=O)C2=C1 TUXJTJITXCHUEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010130 dispersion processing Methods 0.000 description 1
- 238000011978 dissolution method Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N ethenyl(phenyl)diazene Chemical compound C=CN=NC1=CC=CC=C1 IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-nonylsulfanyl-4-oxo-1h-pyrimidine-6-carboxylate Chemical compound CCCCCCCCCSC1=NC(=O)C=C(C(=O)OCC)N1 TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCMVJZODRSETHG-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]naphthalene-1-carboxylate Chemical compound C12=CC=CC=C2C(C(=O)OCC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 GCMVJZODRSETHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QLURSWHJVYRJKB-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;urea Chemical compound O=C.NC(N)=O.NC(N)=O QLURSWHJVYRJKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000295 fuel oil Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BGYICJVBGZQOCY-UHFFFAOYSA-N heptyl propanoate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)CC BGYICJVBGZQOCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCC(S)S ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N histidine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- LZKLAOYSENRNKR-LNTINUHCSA-N iron;(z)-4-oxoniumylidenepent-2-en-2-olate Chemical compound [Fe].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O LZKLAOYSENRNKR-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- JSLCOZYBKYHZNL-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C(C)C JSLCOZYBKYHZNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 150000002689 maleic acids Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Chemical group [CH2]OC1=CC=CC=C1 HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical group [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- LDIPAUVCWRHLAM-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibutylbutane-1,4-diamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCCN LDIPAUVCWRHLAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWNDYKKNXVKQJO-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibutylethane-1,2-diamine Chemical compound CCCCN(CCN)CCCC PWNDYKKNXVKQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYCGURZGBKFEQB-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibutylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCN KYCGURZGBKFEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JILXUIANNUALRZ-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylbutane-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)CCCCN JILXUIANNUALRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCOWZPRIMFGIDQ-UHFFFAOYSA-N n',n'-dimethylbutane-1,4-diamine Chemical compound CN(C)CCCCN GCOWZPRIMFGIDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILRJUIACXKSQE-UHFFFAOYSA-N n',n'-dimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)CCN DILRJUIACXKSQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLDVKMPSACNWFV-UHFFFAOYSA-N n',n'-dipropylbutane-1,4-diamine Chemical compound CCCN(CCC)CCCCN GLDVKMPSACNWFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMDXQHYISPCTGF-UHFFFAOYSA-N n',n'-dipropylethane-1,2-diamine Chemical compound CCCN(CCC)CCN DMDXQHYISPCTGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZUCMODGDIGMBI-UHFFFAOYSA-N n',n'-dipropylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCCN(CCC)CCCN GZUCMODGDIGMBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-1-phenylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAQPQTKYCWAAMJ-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-4-pyridin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=CC=CC=N1 SAQPQTKYCWAAMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLNHFFKCCKXSAW-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-4-pyrimidin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC=CC=N1 MLNHFFKCCKXSAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBGSBRUWVUWCS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-pyridin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC=CC=N1 QTBGSBRUWVUWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJJJWZAJSLSBKC-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-pyrimidin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC=CC=N1 RJJJWZAJSLSBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLNWLOCDPWWNDS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-quinolin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC=C(C=CC=C2)C2=N1 KLNWLOCDPWWNDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEGWLJGBFZBZSC-UHFFFAOYSA-N n-[2-[(2,6-dicyano-4-nitrophenyl)diazenyl]-5-(diethylamino)phenyl]acetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1N=NC1=C(C#N)C=C([N+]([O-])=O)C=C1C#N LEGWLJGBFZBZSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3-diol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC(O)=C21 XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-diol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUVBIBLYOCVYJU-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,7-diol Chemical compound C1=CC=C(O)C2=CC(O)=CC=C21 ZUVBIBLYOCVYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-diol Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(O)=CC2=C1 JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC2=CC(O)=CC=C21 DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTIQLGJVGNGFEW-UHFFFAOYSA-L naphthol yellow S Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C([O-])=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C2=C1 CTIQLGJVGNGFEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N octanoic acid ethyl ester Natural products CCCCCCCC(=O)OCC YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- AFDXODALSZRGIH-UHFFFAOYSA-N p-coumaric acid methyl ether Natural products COC1=CC=C(C=CC(O)=O)C=C1 AFDXODALSZRGIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000005041 phenanthrolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N phenylphosphine Chemical compound PC1=CC=CC=C1 RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940110337 pigment blue 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940099800 pigment red 48 Drugs 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000083 poly(allylamine) Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000921 polyethylene adipate Polymers 0.000 description 1
- 238000010094 polymer processing Methods 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001325 propanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940116423 propylene glycol diacetate Drugs 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012752 quinoline yellow Nutrition 0.000 description 1
- FZUOVNMHEAPVBW-UHFFFAOYSA-L quinoline yellow ws Chemical compound [Na+].[Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C1C1=NC2=C(S([O-])(=O)=O)C=C(S(=O)(=O)[O-])C=C2C=C1 FZUOVNMHEAPVBW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000004060 quinone imines Chemical class 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- WPPDXAHGCGPUPK-UHFFFAOYSA-N red 2 Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=2C=3C4=CC=C5C6=CC=C7C8=C(C=9C=CC=CC=9)C9=CC=CC=C9C(C=9C=CC=CC=9)=C8C8=CC=C(C6=C87)C(C=35)=CC=2)C4=C1C1=CC=CC=C1 WPPDXAHGCGPUPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- KUIXZSYWBHSYCN-UHFFFAOYSA-L remazol brilliant blue r Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C(N)=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1NC1=CC=CC(S(=O)(=O)CCOS([O-])(=O)=O)=C1 KUIXZSYWBHSYCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- FPSFKBGHBCHTOE-UHFFFAOYSA-M sodium 1-[(3-methyl-5-oxo-1-phenyl-4H-pyrazol-4-yl)diazenyl]-4-sulfonaphthalen-2-olate Chemical compound [Na+].O=C1C(N=NC=2C3=CC=CC=C3C(=CC=2O)S([O-])(=O)=O)C(C)=NN1C1=CC=CC=C1 FPSFKBGHBCHTOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- UDTJJVCMRRCRDB-UHFFFAOYSA-M sodium;4-(3-methyl-5-oxo-4-phenyldiazenyl-4h-pyrazol-1-yl)benzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=NN(C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1N=NC1=CC=CC=C1 UDTJJVCMRRCRDB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTOOJLUHUFUGQI-UHFFFAOYSA-M sodium;4-(4-acetamidoanilino)-1-amino-9,10-dioxoanthracene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC(NC(=O)C)=CC=C1NC1=CC(S([O-])(=O)=O)=C(N)C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O NTOOJLUHUFUGQI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- OUULRIDHGPHMNQ-UHFFFAOYSA-N stibane Chemical class [SbH3] OUULRIDHGPHMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical group 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-K thiophosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=S RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005208 trialkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M triethyl(methyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(CC)CC NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCVWVXRLJHYZLF-UHFFFAOYSA-K trisodium 5-[[4-[[4-[4-[(4-amino-9,10-dioxo-3-sulfonatoanthracen-1-yl)amino]-2-sulfonatoanilino]-6-anilino-1,3,5-triazin-2-yl]amino]phenyl]diazenyl]-2-hydroxybenzoate Chemical compound C1=CC=C(C=C1)NC2=NC(=NC(=N2)NC3=C(C=C(C=C3)NC4=CC(=C(C5=C4C(=O)C6=CC=CC=C6C5=O)N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)[O-])NC7=CC=C(C=C7)N=NC8=CC(=C(C=C8)[O-])C(=O)[O-].[Na+].[Na+].[Na+] UCVWVXRLJHYZLF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZUCXUTRTSQLRCV-UHFFFAOYSA-K trisodium;1-amino-4-[3-[[4-chloro-6-(3-sulfonatoanilino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2,4,6-trimethyl-5-sulfonatoanilino]-9,10-dioxoanthracene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].CC1=C(S([O-])(=O)=O)C(C)=C(NC=2C=3C(=O)C4=CC=CC=C4C(=O)C=3C(N)=C(C=2)S([O-])(=O)=O)C(C)=C1NC(N=1)=NC(Cl)=NC=1NC1=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 ZUCXUTRTSQLRCV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WTPOYMNMKZIOGO-UHFFFAOYSA-K trisodium;2,5-dichloro-4-[4-[[5-[[4-chloro-6-(4-sulfonatoanilino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2-sulfonatophenyl]diazenyl]-3-methyl-5-oxo-4h-pyrazol-1-yl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].CC1=NN(C=2C(=CC(=C(Cl)C=2)S([O-])(=O)=O)Cl)C(=O)C1N=NC(C(=CC=1)S([O-])(=O)=O)=CC=1NC(N=1)=NC(Cl)=NC=1NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 WTPOYMNMKZIOGO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UJMBCXLDXJUMFB-UHFFFAOYSA-K trisodium;5-oxo-1-(4-sulfonatophenyl)-4-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]-4h-pyrazole-3-carboxylate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=NN(C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 UJMBCXLDXJUMFB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KYWIYKKSMDLRDC-UHFFFAOYSA-N undecan-2-one Chemical group CCCCCCCCCC(C)=O KYWIYKKSMDLRDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
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- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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Abstract
현상 형태 및 표면 평활성이 우수한 경화물을 형성 가능한 감광성 착색 수지 조성물을 제공한다. 본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, (a) 알칼리 가용성 수지, (b) 광중합 개시제, (c) 에틸렌성 불포화 화합물 및 (d) 착색제를 함유하는 감광성 착색 수지 조성물로서, 상기 (a) 알칼리 가용성 수지가 카르도 골격을 갖는 알칼리 가용성 수지 (a1), 및 하기 일반식 (a2-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 알칼리 가용성 수지 (a2) 를 함유하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은, 감광성 착색 수지 조성물에 관한 것이다. 또, 감광성 착색 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물, 경화물로 형성되는 격벽, 격벽을 구비하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
본원은, 2021년 4월 28일에 일본에 출원된 특허출원 2021-076303호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
유기 전계 발광 소자 (유기 일렉트로루미네선스, 유기 EL 이라고도 한다) 를 포함하는 화상 표시 장치는, 콘트라스트나 시야각 등의 시인성이나 응답성이 우수하고, 저소비 전력화, 박형 경량화, 및 디스플레이 본체의 플렉시블화가 가능한 점에서, 차세대의 플랫 패널 디스플레이 (FPD) 로서 주목을 끌고 있다.
유기 전계 발광 소자는, 적어도 일방이 투광성을 갖는 1 쌍의 전극 사이에, 발광층 혹은 다양한 기능층을 포함하는 유기층이 협지된 구조를 갖는 것이다. 화상 표시 장치는 화소마다 유기 전계 발광 소자가 배치된 패널을 구동시킴으로써, 화상 표시를 실시하는 것이다.
종래부터 이와 같은 유기 전계 발광 소자는, 기판 상에, 격벽 (뱅크) 을 형성한 후에, 격벽에 둘러싸인 영역 내에, 발광층 혹은 다양한 기능층을 적층하여 제조되고 있다.
격벽을 용이하게 형성하는 방법으로는, 감광성 수지 조성물을 사용한 포토리소그래피법에 의해 형성하는 방법이 알려져 있다. 또, 차광성 기능을 부여한 착색 격벽도 개발되고 있다. 예를 들어, 특허문헌 1 에는, 특정한 유기 안료, 특정한 분산제와 특정한 수지를 조합한 감광성 착색 수지 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 2 에는 특정한 수지와 특정한 개시제를 갖는 감광성 착색 수지 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 3 에는 2 종의 특정한 수지를 조합한 감광성 착색 수지 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 4 에는 특정한 수지와 특정한 비표면적을 갖는 유기 안료를 조합한 감광성 착색 수지 조성물이 기재되어 있다.
포토리소그래피법에 의해 착색 격벽을 제조하는 경우, 감광성 착색 수지 조성물을 기판 상에 도포한 후에 진공 건조 장치로 감압 건조시키고, 그 후 핫 플레이트에서 가열 건조시키고, 추가로 화상 노광, 현상한 후, 고온 처리에 의해 경화 (큐어) 시킨다.
상기의 현상 공정에서, 현상액과 감광성 착색 수지 조성물의 조합에 따라서는, 막상의 박리가 발생하고, 현상 장치의 배관에 막힘이 발생하는 등의 문제가 있었다. 특히, 현상액에 불용인 착색제를 함유하는 감광성 착색 수지 조성물의 경우나, 현상액에 TMAH (수산화테트라메틸암모늄) 를 사용한 경우에는, 막상의 박리가 발생하기 쉽다.
한편으로, 화상 표시 장치의 표시 불량을 억제하기 위해, 격벽의 표면 조도가 낮고, 표면 평활성이 우수할 필요가 있다.
본 발명자들이 검토한 결과, 특허문헌 1 ∼ 3 에 기재된 감광성 착색 수지 조성물에서는, 표면 조도의 악화가 관측되고, 특허문헌 4 에 기재된 감광성 착색 수지 조성물에서는, 현상시에 막상의 박리가 관측되어, 착색 격벽의 형성에는 실용상 문제가 있는 것이 발견되었다.
본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 현상 형태 및 표면 평활성이 우수한 경화물을 형성 가능한 감광성 착색 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 감광성 착색 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물, 경화물로 형성되는 격벽, 격벽을 구비하는 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들이 예의 검토한 결과, 감광성 착색 수지 조성물이 특정한 알칼리 가용성 수지를 포함함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명에 이르렀다.
즉 본 발명의 요지는 이하와 같다.
[1] (a) 알칼리 가용성 수지, (b) 광중합 개시제, (c) 에틸렌성 불포화 화합물 및 (d) 착색제를 함유하는 감광성 착색 수지 조성물로서,
상기 (a) 알칼리 가용성 수지가, 카르도 골격을 갖는 알칼리 가용성 수지 (a1), 및 하기 일반식 (a2-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 알칼리 가용성 수지 (a2) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 착색 수지 조성물.
[화학식 1]
(식 (a2-1) 중의 R2 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.)
[2] 상기 카르도 골격을 갖는 알칼리 가용성 수지 (a1) 이, 하기 일반식 (a1-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 [1] 의 감광성 착색 수지 조성물.
[화학식 2]
(식 (a1-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. R1 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. X 는, O, S, CO, 또는 직접 결합을 나타낸다. n 은 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.)
[3] 알칼리 가용성 수지 (a1) 100 질량부에 대한, 알칼리 가용성 수지 (a2) 의 함유 비율이, 5 ∼ 300 질량부인, [1] 또는 [2] 의 감광성 착색 수지 조성물.
[4] 상기 (d) 착색제가, 유기 흑색 안료를 함유하는, [1] ∼ [3] 중 어느 하나의 감광성 착색 수지 조성물.
[5] 용제를 함유하는, [1] ∼ [4] 중 어느 하나의 감광성 착색 수지 조성물.
[6] [1] ∼ [5] 중 어느 하나의 감광성 착색 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.
[7] [6] 의 경화물로 형성되는 격벽.
[8] [7] 의 격벽을 구비하는 화상 표시 장치.
본 발명에 의해, 현상 형태 및 표면 평활성이 우수한 경화물을 형성 가능한 감광성 착색 수지 조성물을 제공할 수 있다. 또, 현상 형태 및 표면 평활성이 우수한 경화물, 현상 형태 및 표면 평활성이 우수한 경화물로 형성되는 격벽, 및 현상 형태 및 표면 평활성이 우수한 경화물로 형성되는 격벽을 구비하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 기재는 본 발명의 실시형태의 일례이고, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한, 이들에 특정되지 않는다.
본 발명에 있어서,「(메트)아크릴」이란,「아크릴 및 메타크릴 중 어느 일방 또는 양방」을 의미한다.
「전고형분」이란, 감광성 착색 수지 조성물에 있어서의 용제 이외의 전체 성분을 의미한다. 용제 이외의 성분이 상온에서 액체라도, 그 성분은 용제에는 포함하지 않고, 전고형분에 포함한다.
본 발명에 있어서「∼」를 사용하여 나타내는 수치 범위는,「∼」의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.
본 발명에 있어서,「(공)중합체」란, 단일 중합체 (호모폴리머) 와 공중합체 (코폴리머) 의 쌍방을 포함하는 것을 의미한다.
본 발명에 있어서,「(산)무수물」,「(무수) … 산」이란, 산과 그 무수물의 쌍방을 포함하는 것을 의미한다.
본 발명에 있어서, 격벽재란 뱅크재, 벽재, 월재를 가리키며, 동일하게, 격벽이란 뱅크, 벽, 월을 가리킨다.
격벽이란, 예를 들어, 액티브 구동형 유기 전계 발광 소자에 있어서의 기능층 (유기층) 을 구획하기 위한 것으로, 구획된 영역 (화소 영역) 에 기능층을 구성하기 위한 재료를 증착 혹은 잉크젯 등에 의한 도포, 건조를 실시함으로써, 기능층 및 격벽으로 이루어지는 화소 등을 형성시켜 가기 위해 사용되는 것이다.
본 발명에 있어서, 중량 평균 분자량이란, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 가리킨다.
본 발명에 있어서, 산가란, 특별히 언급이 없는 한 유효 고형분 환산의 산가를 나타내고, 중화 적정에 의해 산출된다.
[1] 감광성 착색 수지 조성물
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은,
(a) 알칼리 가용성 수지
(b) 광중합 개시제
(c) 에틸렌성 불포화 화합물
(d) 착색제
를 함유하고, 추가로 필요에 따라, 예를 들어, 분산제, 안료 유도체, 계면 활성제, 발액제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 열중합 개시제, 아미노 화합물, 실란 커플링제, 무기 충전재, 밀착 향상제, 그 밖의 배합 성분을 포함한다. 통상적으로 각 배합 성분이, 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다.
[1-1] 감광성 착색 수지 조성물의 성분 및 조성
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물을 구성하는 성분 및 그 조성에 대해 순서대로 설명한다.
[1-1-1] (a) 알칼리 가용성 수지
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, (a) 알칼리 가용성 수지를 함유한다. (a) 알칼리 가용성 수지를 함유함으로써, 알칼리 현상액으로 현상 가능해져, 격벽 등의 패턴을 제조할 수 있다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에 있어서의 (a) 알칼리 가용성 수지는, 카르도 골격을 갖는 알칼리 가용성 수지 (a1), 및 하기 일반식 (a2-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 알칼리 가용성 수지 (a2) 를 함유한다.
[화학식 3]
식 (a2-1) 중의 R2 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
알칼리 가용성 수지 (a1) 및 알칼리 가용성 수지 (a2) 를 함유함으로써, 현상시의 현상 형태와 표면 평활성이 양호해진다.
[알칼리 가용성 수지 (a1)]
알칼리 가용성 수지 (a1) 로는, 카르도 골격을 함유하는 것이면, 특별히 한정되지 않지만, 표면 평활성의 관점에서는 하기 일반식 (a1-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 4]
식 (a1-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. R1 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. X 는, O, S, CO, 또는 직접 결합을 나타낸다. n 은 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.
식 (a1-1) 에 있어서, 표면 평활성의 관점에서, n ≤ 3 이 바람직하고, n ≤ 2 가 보다 바람직하고, n = 0 이 더욱 바람직하다. R1 은 수소 원자인 것이 바람직하다.
식 (a1-1) 에 있어서, 표면 평활성의 관점에서는 X 는 직접 결합이 바람직하다.
식 (a1-1) 중의 벤젠 고리는 무치환이거나, 또는 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 임의의 치환기로는, 예를 들어, 메틸기, 메톡시기를 들 수 있다. 표면 조도의 관점에서, 메틸기가 바람직하다.
식 (a1-1) 로 나타내는 반복 단위 구조는, 현상성의 관점에서, 하기 일반식 (a1-2) 로 나타내는 반복 단위 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 5]
식 (a1-2) 중의 벤젠 고리는 무치환이거나, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. R1, X, n, 및 상기 임의의 치환기는 식 (a1-1) 과 동의이다. RX1, RX2, RX3 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
다염기산 잔기란, 다염기산으로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다.
다염기산으로는, 예를 들어, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산을 들 수 있다.
패터닝 특성의 관점에서, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이 바람직하고, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이 보다 바람직하고, 테트라하이드로프탈산이 더욱 바람직하다.
알칼리 가용성 수지 (a1) 의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 20 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 40 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 60 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 80 mgKOH/g 이상이 보다 더욱 바람직하고, 100 mgKOH/g 이상이 특히 바람직하다. 또, 150 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 140 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 130 mgKOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 120 mgKOH/g 이하가 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 20 ∼ 150 mgKOH/g 이 바람직하고, 40 ∼ 150 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 60 ∼ 140 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 80 ∼ 130 mgKOH/g 이 보다 더욱 바람직하고, 100 ∼ 120 mgKOH/g 이 특히 바람직하다.
알칼리 가용성 수지 (a1) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 2000 이상이 보다 바람직하고, 3000 이상이 더욱 바람직하고, 4000 이상이 보다 더욱 바람직하고, 5000 이상이 특히 바람직하다. 또, 20000 이하가 바람직하고, 15000 이하가 보다 바람직하고, 10000 이하가 더욱 바람직하고, 8000 이하가 보다 더욱 바람직하고, 6000 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1000 ∼ 20000 이 바람직하고, 2000 ∼ 15000 이 보다 바람직하고, 3000 ∼ 10000 이 더욱 바람직하고, 4000 ∼ 8000 이 보다 더욱 바람직하고, 5000 ∼ 6000 이 특히 바람직하다.
(a) 알칼리 가용성 수지의 총량에 대한 알칼리 가용성 수지 (a1) 의 함유 비율은, 10 질량% 이상이 바람직하고, 20 질량% 이상이 보다 바람직하고, 30 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 40 질량% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 60 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 90 질량% 이하가 바람직하고, 80 질량% 이하가 보다 바람직하고, 75 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 70 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 표면 평활성이 개선되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 형태가 개선되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 10 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하고, 40 ∼ 75 질량% 가 더욱 바람직하고, 60 ∼ 70 질량% 가 특히 바람직하다.
[알칼리 가용성 수지 (a2)]
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에 있어서의 알칼리 가용성 수지 (a2) 는, 하기 일반식 (a2-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는다.
[화학식 6]
식 (a2-1) 중의 R2 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
식 (a2-1) 에 있어서, 잔류물을 저감시키는 관점에서는 R2 는 메틸기가 바람직하다.
식 (a2-1) 로 나타내는 반복 단위 구조는, 현상성의 관점에서, 하기 일반식 (a2-2) 로 나타내는 반복 단위 구조가 바람직하다.
[화학식 7]
식 (a2-2) 중의 R2 는 식 (a2-1) 중의 R2 와 동의이다. * 는 결합손을 나타낸다. RY 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.
다염기산 잔기란, 식 (a1-2) 와 동의이다.
다염기산으로는, 예를 들어, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산을 들 수 있다.
패터닝 특성의 관점에서, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이 바람직하고, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이 보다 바람직하고, 테트라하이드로프탈산이 더욱 바람직하다.
알칼리 가용성 수지 (a2) 의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 20 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 40 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 60 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 80 mgKOH/g 이상이 보다 더욱 바람직하고, 90 mgKOH/g 이상이 특히 바람직하다. 또, 150 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 140 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 130 mgKOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 120 mgKOH/g 이하가 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 20 ∼ 150 mgKOH/g 이 바람직하고, 40 ∼ 150 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 60 ∼ 140 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 80 ∼ 130 mgKOH/g 이 보다 더욱 바람직하고, 90 ∼ 120 mgKOH/g 이 특히 바람직하다.
알칼리 가용성 수지 (a2) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 1500 이상이 보다 바람직하고, 2000 이상이 더욱 바람직하고, 2500 이상이 보다 더욱 바람직하고, 3000 이상이 특히 바람직하다. 또, 20000 이하가 바람직하고, 15000 이하가 보다 바람직하고, 10000 이하가 더욱 바람직하고, 6000 이하가 보다 더욱 바람직하고, 4000 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1000 ∼ 20000 이 바람직하고, 1500 ∼ 15000 이 보다 바람직하고, 2000 ∼ 10000 이 더욱 바람직하고, 2500 ∼ 6000 이 보다 더욱 바람직하고, 3000 ∼ 4000 이 특히 바람직하다.
(a) 알칼리 가용성 수지의 총량에 대한 알칼리 가용성 수지 (a2) 의 함유 비율은, 10 질량% 이상이 바람직하고, 20 질량% 이상이 보다 바람직하고, 25 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 30 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 90 질량% 이하가 바람직하고, 70 질량% 이하가 보다 바람직하고, 50 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 40 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 형태가 개선되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 표면 평활성이 개선되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 10 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하고, 25 ∼ 50 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 40 질량% 가 특히 바람직하다.
알칼리 가용성 수지 (a1) 에 대한 알칼리 가용성 수지 (a2) 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 알칼리 가용성 수지 (a1) 의 100 질량부에 대하여, 5 질량부 이상이 바람직하고, 15 질량부 이상이 보다 바람직하고, 30 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 또, 300 질량부 이하가 바람직하고, 150 질량부 이하가 보다 바람직하고, 100 질량부 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 형태가 개선되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 표면 평활성이 개선되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 5 ∼ 300 질량부가 바람직하고, 15 ∼ 150 질량부가 보다 바람직하고, 30 ∼ 100 질량부가 더욱 바람직하다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에 있어서의 (a) 알칼리 가용성 수지는, 알칼리 가용성 수지 (a1) 및 알칼리 가용성 수지 (a2) 이외의 알칼리 가용성 수지 (이하,「그 밖의 알칼리 가용성 수지」라고 칭하는 경우가 있다) 를 함유해도 된다.
그 밖의 알칼리 가용성 수지로는, 잔류물을 저감시키는 관점에서, 측사슬에 에틸렌성 불포화기를 갖는 아크릴 공중합 수지 (A11) (이하,「아크릴 공중합 수지 (A11)」로 약기하는 경우가 있다) 을 포함하는 것이 바람직하다. 패턴의 직선성의 관점에서는, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 를 포함하는 것이 바람직하다.
잔류물의 저감과 직선성의 양립의 관점에서는, (a) 알칼리 가용성 수지로서, 아크릴 공중합 수지 (A11) 과, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 를 포함하는 것이 바람직하다.
먼저, 아크릴 공중합 수지 (A11) 에 대해 상세하게 서술한다.
[아크릴 공중합 수지 (A11)]
아크릴 공중합 수지 (A11) 은, 측사슬에 에틸렌성 불포화기를 갖는다. 에틸렌성 불포화기를 갖는 것으로 함으로써, 노광에 의한 광경화가 발생하여 보다 강고한 막이 되고, 현상 후의 포스트베이크시의 열변형이 억제되어, 해상성이 향상된다고 생각된다. 또, 노광에 의한 광경화가 발생하여 강고한 막이 됨으로써, 막 중의 경화성이 약한 부분이 현상시에 깎여 기판 상에 부착됨으로써 발생하는 잔류물도 저감시키는 경향이 있다.
(식 (I) 로 나타내는 부분 구조)
아크릴 공중합 수지 (A11) 이 갖는, 에틸렌성 불포화기를 갖는 측사슬을 포함하는 부분 구조는 특별히 한정되지 않지만, 막의 유연성에 수반하는 라디칼의 발산 용이성의 관점에서, 예를 들어, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 8]
식 (I) 중, R111 및 R112 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
식 (I) 로 나타내는 부분 구조 중에서도, 감도나 알칼리 현상성의 관점에서, 하기 일반식 (I') 로 나타내는 부분 구조가 바람직하다.
[화학식 9]
식 (I') 중, R111 및 R112 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. Rx 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
(Rx)
식 (I') 에 있어서, Rx 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.
다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다.
다염기산으로는, 예를 들어, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산을 들 수 있다.
패터닝 특성의 관점에서, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이 바람직하고, 테트라하이드로프탈산, 숙신산이 보다 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 아크릴 공중합 수지 (A11) 의 구성 단위의 총몰수에 대해 10 몰% 이상이 바람직하고, 20 몰% 이상이 보다 바람직하고, 30 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 40 몰% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 50 몰% 이상이 특히 바람직하고, 또, 90 몰% 이하가 바람직하고, 85 몰% 이하가 보다 바람직하고, 80 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 75 몰% 이하가 보다 더욱 바람직하고, 70 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 예를 들어, 식 (I) 로 나타내는 부분 구조의 함유 비율은 10 ∼ 90 몰% 가 바람직하고, 20 ∼ 85 몰% 가 보다 바람직하고, 30 ∼ 80 몰% 가 더욱 바람직하고, 40 ∼ 75 몰% 가 보다 더욱 바람직하고, 50 ∼ 70 몰% 가 특히 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (I') 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 아크릴 공중합 수지 (A11) 의 구성 단위의 총몰수에 대해 10 몰% 이상이 바람직하고, 20 몰% 이상이 보다 바람직하고, 25 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 30 몰% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 35 몰% 이상이 특히 바람직하고, 또, 80 몰% 이하가 바람직하고, 75 몰% 이하가 보다 바람직하고, 70 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 65 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 알칼리 현상성이 양호해지기 쉬운 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 밀착성을 확보하기 쉬운 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (I') 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 예를 들어, 식 (I') 로 나타내는 부분 구조의 함유 비율은 10 ∼ 80 몰% 가 바람직하고, 20 ∼ 80 몰% 가 보다 바람직하고, 25 ∼ 75 몰% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 70 몰% 가 보다 더욱 바람직하고, 35 ∼ 65 몰% 가 특히 바람직하다.
(일반식 (II) 로 나타내는 부분 구조)
아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 밖에 포함되는 부분 구조는 특별히 한정되지 않지만, 현상 밀착성의 관점에서, 예를 들어, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 것도 바람직하다.
[화학식 10]
식 (II) 중, R113 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R114 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
(R114)
식 (II) 에 있어서, R114 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기를 나타낸다.
R114 에 있어서의 알킬기로는 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알킬기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상인 것이 바람직하고, 3 이상인 것이 보다 바람직하고, 5 이상인 것이 더욱 바람직하고, 8 이상인 것이 특히 바람직하고, 또, 20 이하인 것이 바람직하고, 18 이하인 것이 보다 바람직하고, 16 이하인 것이 더욱 바람직하고, 14 이하인 것이 보다 더욱 바람직하고, 12 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 높아지고, 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알킬기의 탄소수는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 5 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 14 가 보다 더욱 바람직하고, 8 ∼ 12 가 특히 바람직하다.
알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기가 바람직하고, 디시클로펜타닐기가 보다 바람직하다.
알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
R114 에 있어서의 방향족 고리기로는, 1 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 1 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 6 이상인 것이 바람직하고, 또, 24 이하인 것이 바람직하고, 22 이하인 것이 보다 바람직하고, 20 이하인 것이 더욱 바람직하고, 18 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 방향족 고리기의 탄소수는 6 ∼ 24 가 바람직하고, 6 ∼ 22 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 6 ∼ 18 이 특히 바람직하다.
방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 되고, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다.
방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 되고, 예를 들어, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리가 바람직하고, 벤젠 고리가 보다 바람직하다.
방향족 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
R114 에 있어서의 알케닐기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알케닐기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 2 이상이 바람직하고, 또, 22 이하인 것이 바람직하고, 20 이하인 것이 보다 바람직하고, 18 이하인 것이 더욱 바람직하고, 16 이하인 것이 보다 더욱 바람직하고, 14 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알케닐기의 탄소수는 2 ∼ 22 가 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 18 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 16 이 보다 더욱 바람직하고, 2 ∼ 14 가 특히 바람직하다.
알케닐기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
R114 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기를 나타내고, 현상성과 막강도의 관점에서, 알킬기, 알케닐기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (II) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 아크릴 공중합 수지 (A11) 의 구성 단위의 총몰수에 대해 1 몰% 이상이 바람직하고, 5 몰% 이상이 보다 바람직하고, 10 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 20 몰% 이상이 특히 바람직하고, 또, 70 몰% 이하가 바람직하고, 60 몰% 이하가 보다 바람직하고, 50 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 40 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (II) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 예를 들어, 식 (II) 로 나타내는 부분 구조의 함유 비율은 1 ∼ 70 몰% 가 바람직하고, 5 ∼ 60 몰% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 50 몰% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 40 몰% 가 특히 바람직하다.
(일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조)
아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 밖에 포함되는 부분 구조로서 내열성, 막강도의 관점에서 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조가 포함되는 것이 바람직하다.
[화학식 11]
식 (III) 중, R115 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R116 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알키닐기, 하이드록시기, 카르복시기, 할로겐 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 티올기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬술파이드기를 나타낸다. t 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
(R116)
식 (III) 에 있어서 R116 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알키닐기, 하이드록시기, 카르복시기, 할로겐 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 티올기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬술파이드기를 나타낸다.
R116 에 있어서의 알킬기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알킬기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상인 것이 바람직하고, 3 이상인 것이 보다 바람직하고, 5 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 20 이하인 것이 바람직하고, 18 이하인 것이 보다 바람직하고, 16 이하인 것이 더욱 바람직하고, 14 이하인 것이 보다 더욱 바람직하고, 12 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알킬기의 탄소수는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 5 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 5 ∼ 14 가 보다 더욱 바람직하고, 5 ∼ 12 가 특히 바람직하다.
알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기를 들 수 있다. 현상성과 막강도의 관점에서, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기가 바람직하고, 디시클로펜타닐기가 보다 바람직하다.
알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 등을 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
R116 에 있어서의 알케닐기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알케닐기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 2 이상이 바람직하고, 또, 22 이하인 것이 바람직하고, 20 이하인 것이 보다 바람직하고, 18 이하인 것이 더욱 바람직하고, 16 이하인 것이 보다 더욱 바람직하고, 14 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알케닐기의 탄소수는 2 ∼ 22 가 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 18 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 16 이 보다 더욱 바람직하고, 2 ∼ 14 가 특히 바람직하다.
알케닐기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
R116 에 있어서의 알키닐기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알키닐기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 2 이상이 바람직하고, 또, 22 이하인 것이 바람직하고, 20 이하인 것이 보다 바람직하고, 18 이하인 것이 더욱 바람직하고, 16 이하인 것이 보다 더욱 바람직하고, 14 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알키닐기의 탄소수는 2 ∼ 22 가 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 18 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 16 이 보다 더욱 바람직하고, 2 ∼ 14 가 특히 바람직하다.
알키닐기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
R116 에 있어서의 할로겐 원자로는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. 해상성의 관점에서, 불소 원자가 바람직하다.
R116 에 있어서의 알콕시기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알콕시기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상이 바람직하고, 또, 20 이하인 것이 바람직하고, 18 이하인 것이 보다 바람직하고, 16 이하인 것이 더욱 바람직하고, 14 이하인 것이 보다 더욱 바람직하고, 12 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알콕시기의 탄소수는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 1 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 1 ∼ 14 가 보다 더욱 바람직하고, 1 ∼ 12 가 특히 바람직하다.
알콕시기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
R116 에 있어서의 알킬술파이드기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알킬술파이드기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상인 것이 바람직하고, 또, 20 이하인 것이 바람직하고, 18 이하인 것이 보다 바람직하고, 16 이하인 것이 더욱 바람직하고, 14 이하인 것이 보다 더욱 바람직하고, 12 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알킬술파이드기의 탄소수는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 1 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 1 ∼ 14 가 보다 더욱 바람직하고, 1 ∼ 12 가 특히 바람직하다.
알킬술파이드기에 있어서의 알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.
R116 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알키닐기, 하이드록시기, 카르복시기, 할로겐 원자, 알콕시기, 하이드록시알킬기, 티올기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬술파이드기를 나타내지만, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 카르복시기가 바람직하고, 카르복시기가 보다 바람직하다.
식 (III) 에 있어서 t 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타내지만, 제조 용이성의 관점에서는 t 가 0 인 것이 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 아크릴 공중합 수지 (A11) 의 구성 단위의 총몰수에 대해 0.5 몰% 이상이 바람직하고, 1 몰% 이상이 보다 바람직하고, 2 몰% 이상이 더욱 바람직하다. 또, 50 몰% 이하가 바람직하고, 30 몰% 이하가 보다 바람직하고, 20 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 10 몰% 이하가 보다 더욱 바람직하고, 5 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 예를 들어, 식 (III) 으로 나타내는 부분 구조의 함유 비율은 0.5 ∼ 50 몰% 가 바람직하고, 0.5 ∼ 30 몰% 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 20 몰% 가 더욱 바람직하고, 1 ∼ 10 몰% 가 보다 더욱 바람직하고, 2 ∼ 5 몰% 가 특히 바람직하다.
(일반식 (IV) 로 나타내는 부분 구조)
아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 경우, 그 밖에 포함되는 부분 구조로서 현상성의 관점에서 하기 일반식 (IV) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 것도 바람직하다.
[화학식 12]
식 (IV) 중, R117 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (IV) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 아크릴 공중합 수지 (A11) 의 구성 단위의 총몰수에 대해 5 몰% 이상이 바람직하고, 10 몰% 이상이 보다 바람직하고, 20 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 또, 80 몰% 이하가 바람직하고 70 몰% 이하가 보다 바람직하고, 60 몰% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 아크릴 공중합 수지 (A11) 이 식 (IV) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 예를 들어, 식 (IV) 로 나타내는 부분 구조의 함유 비율은 5 ∼ 80 몰% 가 바람직하고, 10 ∼ 70 몰% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 60 몰% 가 더욱 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (A11) 의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 30 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 40 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 50 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 60 mgKOH/g 이상이 보다 더욱 바람직하고, 또, 150 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 140 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 130 mgKOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 120 mgKOH/g 이하가 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 아크릴 공중합 수지 (A11) 의 산가는 30 ∼ 150 mgKOH/g 이 바람직하고, 40 ∼ 140 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 50 ∼ 130 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 60 ∼ 120 mgKOH/g 이 특히 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (A11) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 2000 이상이 보다 바람직하고, 4000 이상이 더욱 바람직하고, 6000 이상이 보다 더욱 바람직하고, 7000 이상이 더욱더 바람직하고, 8000 이상이 특히 바람직하고, 또, 30000 이하가 바람직하고, 20000 이하가 보다 바람직하고, 15000 이하가 더욱 바람직하고, 10000 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물은 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 아크릴 공중합 수지 (A11) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 2000 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 4000 ∼ 15000 이 더욱 바람직하고, 6000 ∼ 15000 이 보다 더욱 바람직하고, 7000 ∼ 10000 이 더욱더 바람직하고, 8000 ∼ 10000 이 특히 바람직하다.
(a) 알칼리 가용성 수지의 총량에 대한 아크릴 공중합 수지 (A11) 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 3 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 8 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 10 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 70 질량% 이하가 바람직하고, 50 질량% 이하가 보다 바람직하고, 30 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 20 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, (a) 알칼리 가용성 수지에 포함되는 아크릴 공중합 수지 (A11) 의 함유 비율은 3 ∼ 70 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 질량% 가 더욱 바람직하고, 10 ∼ 20 질량% 가 특히 바람직하다.
아크릴 공중합 수지 (A11) 의 구체예로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평8-297366호나 일본 공개특허공보 2001-89533호에 기재된 수지를 들 수 있다.
다음으로, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 에 대해 상세하게 서술한다.
[에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12)]
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 는, 에폭시 수지에 에틸렌성 불포화 모노카르복실산 또는 에스테르 화합물을 부가하고, 임의로 이소시아네이트기 함유 화합물을 반응시킨 후, 추가로 다염기산 또는 그 무수물을 반응시킨 수지이다. 그 중에서도 주사슬에 방향족 고리를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 바람직하게 사용할 수 있다.
예를 들어, 에폭시 수지의 에폭시기에, 불포화 모노카르복실산의 카르복시기가 개환 부가됨으로써, 에폭시 화합물에 에스테르 결합 (-COO-) 을 개재하여 에틸렌성 불포화 결합이 부가됨과 함께, 그 때 발생한 수산기에, 다염기산 무수물의 일방의 카르복시기가 부가된 것을 들 수 있다. 또 다염기산 무수물을 부가할 때에, 다가 알코올을 동시에 첨가하여 부가된 것도 들 수 있다.
또 상기 반응으로 얻어진 수지의 카르복시기에, 추가로 반응할 수 있는 관능기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수지도, 상기 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 에 포함된다.
이와 같이, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는 화학 구조상, 실질적으로 에폭시기를 갖지 않고, 또한「(메트)아크릴레이트」에 한정되는 것은 아니지만, 에폭시 화합물 (에폭시 수지) 이 원료이고, 또한,「(메트)아크릴레이트」가 대표예이므로 관용에 따라 이와 같이 명명되고 있다.
여기서, 에폭시 수지란, 열경화에 의해 수지를 형성하기 이전의 원료 화합물도 포함하여 말하는 것으로 하고, 그 에폭시 수지로는, 공지된 에폭시 수지 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 에폭시 수지는, 페놀성 화합물과 에피할로하이드린을 반응시켜 얻어지는 화합물을 사용할 수 있다. 페놀성 화합물로는, 2 가 혹은 2 가 이상의 페놀성 수산기를 갖는 화합물이 바람직하고, 단량체여도 되고 중합체여도 된다.
구체적으로는, 예를 들어, 비스페놀 A 에폭시 수지, 비스페놀 F 에폭시 수지, 비스페놀 S 에폭시 수지, 페놀노볼락에폭시 수지, 크레졸노볼락에폭시 수지, 비페닐노볼락에폭시 수지, 트리스페놀에폭시 수지, 디하이드로옥실플루오렌형 에폭시 수지, 디하이드로옥실알킬렌옥실플루오렌형 에폭시 수지, 1,1-비스(4'-하이드록시페닐)아다만탄의 디글리시딜에테르화물을 들 수 있고, 주사슬에 방향족 고리를 갖는 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
그 중에서도, 높은 경화막 강도의 관점에서, 예를 들어, 비스페놀 A 에폭시 수지, 페놀노볼락에폭시 수지, 크레졸노볼락에폭시 수지가 바람직하다.
에폭시 수지로는, 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의「jER (등록상표, 이하 동일) 828」,「jER1001」,「jER1002」,「jER1004」, 닛폰 화약사 제조의「NER-1302」 (에폭시 당량 323, 연화점 76 ℃) 등), 비스페놀 F 형 수지 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의「jER807」,「jER4004P」,「jER4005P」,「jER4007P」, 닛폰 화약사 제조의「NER-7406」 (에폭시 당량 350, 연화점 66 ℃) 등), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비페닐글리시딜에테르 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의「jERYX-4000」), 페놀노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의「EPPN (등록상표, 이하 동일)-201」, 미츠비시 케미컬사 제조의「jER152」,「jER154」, 다우 케미컬사 제조의「DEN-438」), (o, m, p-)크레졸노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의「EOCN (등록상표, 이하 동일)-102S」,「EOCN-1020」,「EOCN-104S」), 트리글리시딜이소시아누레이트 (예를 들어, 닛산 화학사 제조의「TEPIC (등록상표)」), 트리스페놀메탄형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의「EPPN-501」,「EPPN-502」,「EPPN-503」), 지환식 에폭시 수지 (다이셀사 제조의「셀록사이드 (등록상표, 이하 동일) 2021P」,「셀록사이드 EHPE」), 하기 일반식 (i-12) 및 (i-13) 으로 나타내는 에폭시 수지를 바람직하게 사용할 수 있다. 구체적으로는, 하기 일반식 (i-12) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰 화약사 제조의「NC-3000」을 들 수 있다.
[화학식 13]
식 (i-12) 에 있어서, b 는 평균값이고, 0 ∼ 10 의 수를 나타낸다. R121 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기를 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R121 은, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.
[화학식 14]
식 (i-13) 에 있어서, X 는 하기 일반식 (i-13-1) 또는 (i-13-2) 로 나타내는 연결기를 나타낸다. 단, 분자 구조 중에 1 개 이상의 아다만탄 구조를 포함한다. c 는 2 또는 3 을 나타낸다.
[화학식 15]
식 (i-13-1) 및 (i-13-2) 에 있어서, R131 ∼ R134 및 R135 ∼ R137 은, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 아다만틸기, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
식 (i-12) 및 (i-13) 중 어느 것으로 나타내는 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
에틸렌성 불포화 모노카르복실산으로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산 등, 및 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 무수 숙신산 부가물, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트테트라하이드로 무수 프탈산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 무수 숙신산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 무수 프탈산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트테트라하이드로 무수 프탈산 부가물, (메트)아크릴산과 ε-카프로락톤의 반응 생성물을 들 수 있다. 감도의 관점에서, (메트)아크릴산이 바람직하다.
다염기산 (무수물) 으로는, 예를 들어, 숙신산, 말레산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 3-메틸테트라하이드로프탈산, 4-메틸테트라하이드로프탈산, 3-에틸테트라하이드로프탈산, 4-에틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 3-메틸헥사하이드로프탈산, 4-메틸헥사하이드로프탈산, 3-에틸헥사하이드로프탈산, 4-에틸헥사하이드로프탈산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 비페닐테트라카르복실산, 및 그들의 무수물을 들 수 있다. 아웃 가스의 관점에서, 숙신산 무수물, 말레산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물이 바람직하고, 숙신산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물이 보다 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 의 원료로서 다가 알코올을 사용함으로써, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 의 분자량을 증대시켜, 분자 중에 분기를 도입할 수 있고, 분자량과 점도의 밸런스를 취할 수 있는 경향이 있다. 또, 분자 중에 대한 산기의 도입률을 늘릴 수 있어 감도나 밀착성 등의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.
다가 알코올로는, 예를 들어, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리메틸올에탄, 1,2,3-프로판트리올이 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지로는, 전술한 것 이외에, 예를 들어, 한국 특허 공개공보 제10-2013-0022955호에 기재된 것을 들 수 있다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 20 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 30 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 40 mgKOH/g 이상이 보다 더욱 바람직하고, 50 mgKOH/g 이상이 특히 바람직하고, 또, 200 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 180 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 150 mgKOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 120 mgKOH/g 이하가 보다 더욱 바람직하고, 110 mgKOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 의 산가는 10 ∼ 200 mgKOH/g 이 바람직하고, 20 ∼ 180 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 30 ∼ 150 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 40 ∼ 120 mgKOH/g 이 보다 더욱 바람직하고, 50 ∼ 110 mgKOH/g 이 특히 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 2000 이상이 보다 바람직하고, 3000 이상이 더욱 바람직하고, 3500 이상이 특히 바람직하고, 또, 30000 이하가 바람직하고, 15000 이하가 보다 바람직하고, 10000 이하가 더욱 바람직하고, 8000 이하가 보다 더욱 바람직하고, 6000 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 2000 ∼ 15000 이 보다 바람직하고, 3000 ∼ 10000 이 더욱 바람직하고, 3500 ∼ 8000 이 보다 더욱 바람직하고, 3500 ∼ 6000 이 특히 바람직하다.
(a) 알칼리 가용성 수지가 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 를 포함하는 경우, (a) 알칼리 가용성 수지의 총량에 대한 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 3 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 10 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 15 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 90 질량% 이하가 바람직하고, 50 질량% 이하가 보다 바람직하고, 30 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 3 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 90 질량% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 50 질량% 가 더욱 바람직하고, 15 ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 는, 종래 공지된 방법에 의해 합성할 수 있다. 구체적으로는, 상기 에폭시 수지를 유기 용제에 용해시키고, 촉매와 열중합 금지제의 공존하, 상기 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산 또는 에스테르 화합물을 첨가하여 부가 반응시키고, 추가로 다염기산 또는 그 무수물을 첨가하여 반응을 계속하는 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 일본 특허공보 제3938375호, 일본 특허공보 제5169422호에 기재되어 있는 방법을 들 수 있다.
반응에 사용하는 유기 용제로는, 예를 들어, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 디에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 유기 용제의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.
촉매로는, 예를 들어, 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리벤질아민 등의 제 3 급 아민류, 테트라메틸암모늄클로라이드, 메틸트리에틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라부틸암모늄클로라이드, 트리메틸벤질암모늄클로라이드 등의 제 4 급 암모늄염류, 트리페닐포스핀 등의 인 화합물, 트리페닐스티빈 등의 스티빈류 등의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.
열중합 금지제로는, 예를 들어, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논 등의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.
에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산 또는 에스테르 화합물의 사용량으로는, 에폭시 수지의 에폭시기의 1 화학당량에 대하여, 바람직하게는 0.7 ∼ 1.3 화학당량, 보다 바람직하게는 0.9 ∼ 1.1 화학당량이 되는 양으로 할 수 있다.
부가 반응시의 온도로는, 바람직하게는 60 ∼ 150 ℃, 보다 바람직하게는 80 ∼ 120 ℃ 의 온도로 할 수 있다. 또한, 다염기산 (무수물) 의 사용량으로는, 부가 반응으로 발생한 수산기의 1 화학당량에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 1.2 화학당량, 보다 바람직하게는 0.2 ∼ 1.1 화학당량이 되는 양으로 할 수 있다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12) 중에서도, 막강도나 직선성의 관점에서, 하기 일반식 (i), 하기 일반식 (ii-1), 하기 일반식 (ii-2), 하기 일반식 (iii) 으로 나타내는 부분 구조 중, 적어도 1 종을 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지가 바람직하다.
[화학식 16]
식 (i) 중, Ra 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. Rb 는 치환기를 가져도 되는 직사슬형 혹은 분기 사슬형의 2 가의 지방족기, 치환기를 가져도 되는 2 가의 방향족 고리기, 또는 치환기를 가져도 되는 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 나타낸다. 식 (i) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. * 는 결합손을 나타낸다.
[화학식 17]
식 (ii-1) 중, Rc 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. Rα 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. n 은 1 이상의 정수이다. 식 (ii-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.
[화학식 18]
식 (ii-2) 중, Rc 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. Rβ 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. 식 (ii-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.
[화학식 19]
식 (iii) 중, Re 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. δ 는 단결합, -CO-, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. 식 (iii) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. * 는 결합손을 나타낸다.
하기 일반식 (i) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (이하,「에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-1)」이라고 칭하는 경우가 있다) 에 대해 상세하게 서술한다.
[화학식 20]
식 (i) 중, Ra 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. Rb 는 치환기를 가져도 되는 직사슬형 혹은 분기 사슬형의 2 가의 지방족기, 치환기를 가져도 되는 2 가의 방향족 고리기, 또는 치환기를 가져도 되는 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 나타낸다. 식 (i) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. * 는 결합손을 나타낸다.
(Rb)
식 (i) 에 있어서, Rb 는 치환기를 가져도 되는 직사슬형 혹은 분기 사슬형의 2 가의 지방족기, 치환기를 가져도 되는 2 가의 방향족 고리기, 또는 치환기를 가져도 되는 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 나타낸다.
2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기 사슬형의 지방족기를 들 수 있다. 그 탄소수는 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 6 이상이 더욱 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 지방족기의 탄소수는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 10 이 더욱 바람직하다.
2 가의 직사슬형 지방족기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기를 들 수 있다. 해상성이나 제조 비용의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.
2 가의 분기 사슬형 지방족기로는, 예를 들어, 전술한 2 가의 직사슬형 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 갖는 구조를 들 수 있다.
2 가의 지방족기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 5 이상이 보다 바람직하고, 6 이상이 더욱 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 방향족 고리기의 탄소수는 4 ∼ 20 이 바람직하고, 5 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 이 더욱 바람직하다.
2 가의 방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다.
방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리를 들 수 있다. 제조 비용의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리, 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리가 보다 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록시기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 경화성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과, 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.
2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 지방족기의 수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 방향족 고리기의 수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하다.
1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기의 구체예로는, 예를 들어, 하기 일반식 (i-A) ∼ (i-F) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성과 막의 소수화의 관점에서, 하기 일반식 (i-A) 로 나타내는 기가 바람직하다.
[화학식 21]
식 (i) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 치환기로는, 예를 들어, 하이드록시기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. 경화성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.
식 (i) 로 나타내는 부분 구조는, 현상 용해성의 관점에서, 하기 일반식 (i-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 22]
식 (i-1) 중, Ra 및 Rb 는, 식 (i) 의 Ra 및 Rb 와 동의이다. Ry 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다. 식 (i-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.
(Ry)
Ry 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.
다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다.
다염기산으로는, 예를 들어, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산을 들 수 있다.
패터닝 특성의 관점에서, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이 바람직하고, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이 보다 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-1) 1 분자 중에 포함되는, 식 (i-1) 로 나타내는 반복 단위 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 된다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-1) 1 분자 중에 포함되는, 식 (i) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 8 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-1) 1 분자 중에 포함되는, 식 (i) 로 나타내는 부분 구조의 수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 8 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 8 이 더욱 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-1) 1 분자 중에 포함되는, 식 (i-1) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 8 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-1) 1 분자 중에 포함되는, 식 (i-1) 로 나타내는 부분 구조의 수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 8 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 8 이 더욱 바람직하다.
이하에 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-1) 의 구체예를 든다.
[화학식 23]
[화학식 24]
[화학식 25]
[화학식 26]
[화학식 27]
다음으로, 하기 일반식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 및 일반식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지에 대해 상세하게 서술한다 (이하, 양방을 통합하여「에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2)」라고 칭하는 경우가 있다).
[화학식 28]
식 (ii-1) 중, Rc 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. Rα 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. n 은 1 이상의 정수이다. 식 (ii-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.
식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조를 가짐으로써, 차광성이 양호해지는 경향이 있다.
(Rα)
식 (ii-1) 에 있어서, Rα 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.
Rα 에 있어서의 1 가의 고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기, 방향족 고리기를 들 수 있다.
지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 또, 6 이하가 바람직하고, 4 이하가 보다 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 1 ∼ 6 이 바람직하고, 1 ∼ 4 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 특히 바람직하다.
지방족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 지방족 고리기의 탄소수는 4 ∼ 40 이 바람직하고, 4 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 가 특히 바람직하다.
지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리를 들 수 있다. 막강도와 현상성의 양립의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.
방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하다.
방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 방향족 고리기의 탄소수는 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다.
방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다. 막강도와 현상성의 양립의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.
고리형 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록시기, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, 이소아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 합성의 용이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
n 은 1 이상의 정수를 나타내지만, 2 이상이 바람직하고, 또, 3 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, n 은 1 이상 3 이하의 정수인 것이 바람직하고, 2 이상 3 이하의 정수인 것이 보다 바람직하다.
이들 중에서도, 막강도와 현상성의 양립의 관점에서, Rα 가 1 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 아다만틸기인 것이 보다 바람직하다.
식 (ii-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 치환기로는, 예를 들어, 하이드록시기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. 경화성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.
이하에 식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.
[화학식 29]
[화학식 30]
[화학식 31]
[화학식 32]
[화학식 33]
다음으로, 하기 일반식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지에 대해 상세하게 서술한다.
[화학식 34]
식 (ii-2) 중, Rc 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. Rβ 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. 식 (ii-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.
식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조를 가짐으로써, 차광성이 양호해지는 경향이 있다.
(Rβ)
상기 식 (ii-2) 에 있어서, Rβ 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.
Rβ 에 있어서의 2 가의 고리형 탄화수소기로는, 2 가의 지방족 고리기, 2 가의 방향족 고리기를 들 수 있다.
2 가의 지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하다.
2 가의 지방족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 35 이하가 보다 바람직하고, 30 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 지방족 고리기의 탄소수는 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 35 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 이 더욱 바람직하다.
2 가의 지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리를 들 수 있다. 막강도와 현상성의 양립의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하고, 3 ∼ 5 가 특히 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 2 가의 방향족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하고, 10 이상이 특히 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 방향족 고리기의 탄소수는 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 가 특히 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리를 들 수 있다. 막강도와 현상성의 관점에서, 벤젠 고리가 바람직하다.
2 가의 고리형 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록시기, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, 이소아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 합성의 간이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
막강도와 현상성의 양립의 관점에서, Rβ 가 2 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 아다만탄 고리기인 것이 보다 바람직하다.
식 (ii-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 치환기로는, 예를 들어, 하이드록시기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. 경화성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.
이하에 식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.
[화학식 35]
[화학식 36]
[화학식 37]
식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조는, 현상성의 관점에서, 하기 일반식 (ii-3) 으로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 38]
식 (ii-3) 중, Rc, Rα, 및 n 은 상기 식 (ii-1) 과 동의이다. Rz1, Rz2 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.
식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조는, 현상성의 관점에서, 하기 일반식 (ii-4) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 39]
식 (ii-4) 중, Rc, Rβ 는 식 (ii-2) 에 있어서의 Rc, Rβ 와 동의이다. Rv1, Rv2 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.
다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다.
다염기산으로는, 예를 들어, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산을 들 수 있다. 패터닝 특성의 관점에서, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이 바람직하고, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이 보다 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2) 1 분자 중에 포함되는, 식 (ii-1), 식 (ii-2), 식 (ii-3), 또는 식 (ii-4) 로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 된다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2) 1 분자 중에 포함되는, 식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2) 1 분자 중에 포함되는, 식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조의 수는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 이 더욱 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2) 1 분자 중에 포함되는, 식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2) 1 분자 중에 포함되는, 식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조의 수는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 이 더욱 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2) 1 분자 중에 포함되는, 식 (ii-3) 으로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2) 1 분자 중에 포함되는, 식 (ii-3) 으로 나타내는 부분 구조의 수는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 이 더욱 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2) 1 분자 중에 포함되는, 식 (ii-4) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-2) 1 분자 중에 포함되는, 식 (ii-4) 로 나타내는 부분 구조의 수는 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 이 더욱 바람직하다.
다음으로, 하기 일반식 (iii) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (이하,「에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-3)」이라고 칭하는 경우가 있다) 에 대해 상세하게 서술한다.
[화학식 40]
식 (iii) 중, Re 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. δ 는 단결합, -CO-, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. 식 (iii) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. * 는 결합손을 나타낸다.
(δ)
상기 식 (iii) 에 있어서, δ 는 단결합, -CO-, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.
δ 에 있어서의 알킬렌기는 직사슬이어도 되고, 분기 사슬이어도 되고, 현상 용해성의 관점에서는 직사슬인 것이 바람직하고, 현상 밀착성의 관점에서는 분기 사슬인 것이 바람직하다. 그 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 또, 6 이하가 바람직하고, 4 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알킬렌기의 탄소수는 1 ∼ 6 이 바람직하고, 1 ∼ 4 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 4 가 더욱 바람직하다.
알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 헥실렌기, 헵틸렌기를 들 수 있다. 막강도와 현상성의 양립의 관점에서, 에틸렌기, 프로필렌기가 바람직하고, 프로필렌기가 보다 바람직하다.
알킬렌기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.
δ 에 있어서의 2 가의 고리형 탄화수소기로는, 2 가의 지방족 고리기, 2 가의 방향족 고리기를 들 수 있다.
2 가의 지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하다.
2 가의 지방족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 35 이하가 보다 바람직하고, 30 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 지방족 고리기의 탄소수는 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 35 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 이 더욱 바람직하다.
2 가의 지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리를 들 수 있다. 막강도와 현상성의 양립의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하고, 3 ∼ 5 가 특히 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기, 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 2 가의 방향족 고리기의 탄소수는 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 8 이상이 더욱 바람직하고, 10 이상이 특히 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막강도가 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 가의 방향족 고리기의 탄소수는 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 가 특히 바람직하다.
2 가의 방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리를 들 수 있다. 막강도와 현상성의 양립의 관점에서, 벤젠 고리가 바람직하다.
2 가의 고리형 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록시기, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, 이소아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 합성의 간이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.
현상성의 관점에서, δ 가 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기인 것이 바람직하고, 디메틸메틸렌기인 것이 보다 바람직하다.
식 (iii) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 치환기로는, 예를 들어, 하이드록시기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. 경화성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.
식 (iii) 으로 나타내는 부분 구조는, 현상 용해성의 관점에서, 하기 일반식 (iii-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.
[화학식 41]
식 (iii-1) 중, Re 및 δ 는 상기 식 (iii) 의 Re 및 δ 와 동의이다. RW 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다. 식 (iii-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.
다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다.
다염기산으로는, 예를 들어, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산을 들 수 있다. 패터닝 특성의 관점에서, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이 바람직하고, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이 보다 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-3) 1 분자 중에 포함되는, 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 5 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 더욱 바람직하고, 또, 18 이하가 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-3) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위 구조의 수는 1 ∼ 18 이 바람직하고, 5 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 15 가 더욱 바람직하다.
에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-3) 1 분자 중에 포함되는, 식 (iii-1) 로 나타내는 반복 단위 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 5 이상이 더욱 바람직하고, 또, 18 이하가 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-3) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (iii-1) 로 나타내는 반복 단위 구조의 수는 1 ∼ 18 이 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 15 가 더욱 바람직하다.
이하에 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (A12-3) 의 구체예를 든다.
[화학식 42]
[화학식 43]
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물 중에 있어서의 (a) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 5 질량% 이상이 바람직하고, 10 질량% 이상이 보다 바람직하고, 20 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 30 질량% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 40 질량% 이상이 더욱더 바람직하고, 50 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 90 질량% 이하가 바람직하고, 80 질량% 이하가 보다 바람직하고, 70 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 표면 경도가 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 (a) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율은 5 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 90 질량% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 80 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 40 ∼ 70 질량% 가 더욱더 바람직하고, 50 ∼ 70 질량% 가 특히 바람직하다.
감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 (c) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율 및 (a) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율의 총합은, 특별히 한정되지 않지만, 10 질량% 이상이 바람직하고, 30 질량% 이상이 보다 바람직하고, 50 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 60 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 90 질량% 이하가 바람직하고, 85 질량% 이하가 보다 바람직하고, 80 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 75 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 격벽의 형상이 양호해지는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 (c) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율 및 (a) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율의 총합은 10 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 30 ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하고, 60 ∼ 75 질량% 가 특히 바람직하다.
[1-1-2] (b) 광중합 개시제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, (b) 광중합 개시제를 함유한다. (b) 광중합 개시제는, 광을 직접 흡수하여, 분해 반응 또는 수소 인발 반응을 일으켜, 중합 활성 라디칼을 발생시키는 기능을 갖는 성분이다. 필요에 따라, (b) 광중합 개시제에 더하여, 중합 촉진제 (연쇄 이동제), 증감 색소 등의 부가제를 첨가하여 사용해도 된다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, (b) 광중합 개시제로서, 이 분야에서 통상적으로 사용되고 있는 광중합 개시제를 사용할 수 있다. 이와 같은 광중합 개시제로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 소59-152396호, 일본 공개특허공보 소61-151197호에 기재된 티타노센 화합물을 포함하는 메탈로센 화합물 ; 일본 공개특허공보 2000-56118호에 기재된 헥사아릴비이미다졸 유도체 ; 일본 공개특허공보 평10-39503호에 기재된 할로메틸화옥사디아졸 유도체, 할로메틸-s-트리아진 유도체, N-페닐글리신 등의 N-아릴-α-아미노산류, N-아릴-α-아미노산염류, N-아릴-α-아미노산에스테르류 등의 라디칼 활성제, α-아미노알킬페논 유도체 ; 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공개특허공보 2006-36750호 등에 기재되어 있는 옥심에스테르계 화합물을 들 수 있다.
티타노센 유도체류로는, 예를 들어, 디시클로펜타디에닐티타늄디클로라이드, 디시클로펜타디에닐티타늄비스페닐, 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,5,6-테트라플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,4,6-트리플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,4-디플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄[2,6-디-플루오로-3-(피로-1-일)-페닐] 을 들 수 있다.
비이미다졸 유도체류로는, 예를 들어, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-비스(3'-메톡시페닐)이미다졸 2 량체, 2-(2'-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, (4'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체를 들 수 있다.
할로메틸화옥사디아졸 유도체류로는, 예를 들어, 2-트리클로로메틸-5-(2'-벤조푸릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-벤조푸릴)비닐〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-(6''-벤조푸릴)비닐)〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-푸릴-1,3,4-옥사디아졸을 들 수 있다.
할로메틸-s-트리아진 유도체류로는, 예를 들어, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시카르보닐나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진을 들 수 있다.
α-아미노알킬페논 유도체류로는, 예를 들어, 2-메틸-1〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 4-디메틸아미노에틸벤조에이트, 4-디메틸아미노이소아밀벤조에이트, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 2-에틸헥실-1,4-디메틸아미노벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 7-디에틸아미노-3-(4-디에틸아미노벤조일)쿠마린, 4-(디에틸아미노)칼콘을 들 수 있다.
광중합 개시제로는, 감도나 제판성의 점에서 옥심에스테르계 화합물이 유효하다. 페놀성 수산기를 포함하는 알칼리 가용성 수지를 사용하는 경우 등은, 감도의 점에서 불리해지기 때문에, 감도가 우수한 옥심에스테르계 화합물이 특히 유용하다. 옥심에스테르계 화합물은, 그 구조 중에 자외선을 흡수하는 구조와 광 에너지를 전달하는 구조와 라디칼을 발생시키는 구조를 겸비하고 있기 때문에, 소량으로 광 반응의 양자 수율이 높고, 생성되는 라디칼의 활성이 높기 때문에, 감도가 높고, 또한, 열반응에 대해 안정적이고, 소량으로 고감도인 감광성 착색 수지 조성물을 얻는 것이 가능하다.
옥심에스테르계 화합물로는, 예를 들어, 하기 일반식 (b1) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 44]
식 (b1) 중, R21a 는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.
R21b 는 방향 고리를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.
R22a 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 알카노일기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴로일기를 나타낸다.
n 은 0 또는 1 의 정수를 나타낸다.
R21a 는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.
R21a 에 있어서의 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다.
알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 시클로펜틸메틸기, 시클로펜틸에틸기, 시클로헥실메틸기, 시클로헥실에틸기를 들 수 있다.
알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 방향족 고리기, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 4-(2-메톡시-1-메틸) 에톡시-2-메틸페닐기, N-아세틸-N-아세톡시아미노기를 들 수 있다. 감도의 관점에서는, N-아세틸-N-아세톡시아미노기인 것이 바람직하다.
R21a 에 있어서의 방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기 및 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 방향족 고리기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 수지 조성물에 대한 용해성의 관점에서 5 이상인 것이 바람직하다. 또, 현상성의 관점에서 30 이하인 것이 바람직하고, 20 이하인 것이 보다 바람직하고, 12 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 방향족 고리기의 탄소수는 5 ∼ 30 인 것이 바람직하고, 5 ∼ 20 인 것이 보다 바람직하고, 5 ∼ 12 인 것이 더욱 바람직하다.
방향족 고리기로는, 예를 들어, 페닐기, 나프틸기, 피리딜기, 푸릴기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.
방향족 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기, 알콕시기, 이들의 치환기가 연결된 기를 들 수 있다. 현상성의 관점에서 알킬기, 알콕시기, 이들을 연결한 기가 바람직하고, 연결한 알콕시기가 보다 바람직하다.
R21b 는 방향 고리를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.
R21b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바졸릴기, 치환되어 있어도 되는 티오크산토닐기, 치환되어 있어도 되는 플루오레닐기, 치환되어 있어도 되는 디페닐술파이드기, 치환되어 있어도 되는 플루오레닐기 또는 치환되어 있어도 되는 인돌릴기를 들 수 있다. 감도의 관점에서, 치환되어 있어도 되는 카르바졸릴기가 바람직하다.
R22a 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알카노일기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴로일기를 나타낸다.
R22a 에 있어서의 알카노일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하고, 5 이하가 특히 바람직하다.
알카노일기로는, 예를 들어, 아세틸기, 에틸로일기, 프로파노일기, 부타노일기를 들 수 있다.
알카노일기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 방향족 고리기, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기를 들 수 있다. 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.
R22a 에 있어서의 아릴로일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 7 이상이 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다.
아릴로일기로는, 예를 들어, 벤조일기, 나프토일기를 들 수 있다.
아릴로일기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기를 들 수 있다. 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.
감도의 관점에서, R22a 가 치환기를 갖고 있어도 되는 알카노일기인 것이 바람직하고, 무치환의 알카노일기인 것이 보다 바람직하고, 아세틸기인 것이 더욱 바람직하다.
(b) 광중합 개시제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.
(b) 광중합 개시제에는, 필요에 따라, 감응 감도를 높일 목적으로, 화상 노광 광원의 파장에 따른 증감 색소, 중합 촉진제를 배합시킬 수 있다.
증감 색소로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평4-221958호, 일본 공개특허공보 평4-219756호에 기재된 크산텐 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 복소 고리를 갖는 쿠마린 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 3-케토쿠마린 화합물, 일본 공개특허공보 평6-19240호에 기재된 피로메텐 색소, 그 밖에, 일본 공개특허공보 소47-2528호, 일본 공개특허공보 소54-155292호, 일본 특허공보 소45-37377호, 일본 공개특허공보 소48-84183호, 일본 공개특허공보 소52-112681호, 일본 공개특허공보 소58-15503호, 일본 공개특허공보 소60-88005호, 일본 공개특허공보 소59-56403호, 일본 공개특허공보 평2-69호, 일본 공개특허공보 소57-168088호, 일본 공개특허공보 평5-107761호, 일본 공개특허공보 평5-210240호, 일본 공개특허공보 평4-288818호에 기재된 디알킬아미노벤젠 골격을 갖는 색소를 들 수 있다.
증감 색소로는, 아미노기 함유 증감 색소가 바람직하고, 아미노기 및 페닐기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 예를 들어, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 2-아미노벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 화합물 ; 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[4,5]벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[6,7]벤조옥사졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-티아디아졸, (p-디메틸아미노페닐)피리딘, (p-디에틸아미노페닐)피리딘, (p-디메틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디에틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디메틸아미노페닐)피리미딘, (p-디에틸아미노페닐)피리미딘 등의 p-디알킬아미노페닐기 함유 화합물이 더욱 바람직하다. 4,4'-디알킬아미노벤조페논이 특히 바람직하다.
증감 색소는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
중합 촉진제로는, 예를 들어, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 4-디메틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논 등의 방향족 아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민, 벤조산 2-디메틸아미노에틸 등의 지방족 아민이 사용된다.
중합 촉진제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
광중합 개시제와 병용하여, 연쇄 이동제를 사용해도 된다.
연쇄 이동제로는, 예를 들어, 메르캅토기 함유 화합물이나, 사염화탄소를 들 수 있다. 연쇄 이동 효과가 높은 경향이 있는 점에서, 메르캅토기 함유 화합물이 보다 바람직하다. S-H 결합 에너지가 작음으로써 결합 개열이 일어나기 쉽고, 수소 인발 반응이나 연쇄 이동 반응을 일으키기 쉽기 때문이라고 생각되고, 감도 향상이나 표면 경화성에 유효하다.
메르캅토기 함유 화합물로는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 3-메르캅토-1,2,4-트리아졸, 2-메르캅토-4(3H)-퀴나졸린, β-메르캅토나프탈렌, 1,4-디메틸메르캅토벤젠 등의 방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물 ; 헥산디티올, 데칸디티올, 부탄디올비스(3-메르캅토프로피오네이트), 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 부탄디올비스(3-메르캅토부티레이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토부티레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부티레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등의 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물을 들 수 있고, 메르캅토기를 복수 갖는 화합물이 바람직하다.
방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물 중에서는 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조이미다졸이 바람직하고, 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물 중에서는, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부티레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온이 바람직하다.
연쇄 이동제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
연쇄 이동제로는, 테이퍼각을 높이는 관점에서, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 및 2-메르캅토벤조옥사졸로 이루어지는 군에서 선택된 1 또는 2 이상과, 광중합 개시제를 조합하여, 광중합 개시제계로서 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 2-메르캅토벤조티아졸을 사용해도 되고, 2-메르캅토벤조이미다졸을 사용해도 되고, 2-메르캅토벤조티아졸과 2-메르캅토벤조이미다졸을 병용해도 된다. 또, (b) 광중합 개시제로서, 비이미다졸 유도체류를 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.
또, 감도의 관점에서, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트)로 이루어지는 군에서 선택된 1 또는 2 이상을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 감도의 관점에서, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 및 2-메르캅토벤조옥사졸로 이루어지는 군에서 선택된 1 또는 2 이상과, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트)로 이루어지는 군에서 선택된 1 또는 2 이상과, 광중합 개시제를 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에 있어서의 (b) 광중합 개시제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 0.01 질량% 이상이 바람직하고, 0.1 질량% 이상이 보다 바람직하고, 1 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 2 질량% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 3 질량% 이상이 특히 바람직하고, 25 질량% 이하가 바람직하고, 20 질량% 이하가 보다 바람직하고, 15 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 더욱 바람직하고, 7 질량% 이하가 더욱더 바람직하고, 5 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 표면 평활성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.01 ∼ 25 질량% 가 바람직하고, 0.01 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 15 질량% 가 더욱 바람직하고, 1 ∼ 10 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 2 ∼ 7 질량% 가 더욱더 바람직하고, 3 ∼ 5 질량% 가 특히 바람직하다.
감광성 착색 수지 조성물 중의 (c) 에틸렌성 불포화 화합물에 대한 (b) 광중합 개시제의 배합비로는, (c) 에틸렌성 불포화 화합물 100 질량부에 대하여, 5 질량부 이상이 바람직하고, 10 질량부 이상이 보다 바람직하고, 20 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 25 질량부 이상이 보다 더욱 바람직하고, 30 질량부 이상이 특히 바람직하고, 또, 200 질량부 이하가 바람직하고, 100 질량부 이하가 보다 바람직하고, 50 질량부 이하가 더욱 바람직하고, 40 질량부 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 표면 평활성이 개선되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 5 ∼ 200 질량부가 바람직하고, 10 ∼ 100 질량부가 보다 바람직하고, 20 ∼ 100 질량부가 더욱 바람직하고, 25 ∼ 50 질량부가 보다 더욱 바람직하고, 30 ∼ 40 질량부가 특히 바람직하다.
[1-1-3] (c) 에틸렌성 불포화 화합물
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, (c) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유한다. (c) 에틸렌성 불포화 화합물을 포함함으로써, 도막의 경화성이 높아지고, 또 밀착성이 향상된다고 생각된다.
에틸렌성 불포화 화합물은, 에틸렌성 불포화 결합을 분자 내에 1 개 이상 갖는 화합물을 의미하지만, 중합성, 가교성, 및 그것에 수반하는 노광부와 비노광부의 현상액 용해성의 차이를 확대할 수 있는 등의 점에서, 에틸렌성 불포화 결합을 분자 내에 2 개 이상 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 그 불포화 결합은 (메트)아크릴로일옥시기에서 유래하는 것이 바람직하고, 요컨대, 에틸렌성 불포화 화합물은 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서는, (c) 에틸렌성 불포화 화합물로는, 특히, 1 분자 중에 에틸렌성 불포화 결합을 2 개 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 다관능 에틸렌성 단량체가 갖는 에틸렌성 불포화기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 2 개 이상, 보다 바람직하게는 3 개 이상이고, 또, 바람직하게는 15 개 이하, 보다 바람직하게는 10 개 이하, 더욱 바람직하게는 8 개 이하, 특히 바람직하게는 6 개 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 표면 평활성이 향상되는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 보다 양호해지는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 다관능 에틸렌성 단량체가 갖는 에틸렌성 불포화기의 수는 2 ∼ 15 개가 바람직하고, 2 ∼ 10 개가 보다 바람직하고, 2 ∼ 8 개가 더욱 바람직하고, 3 ∼ 8 개가 보다 더욱 바람직하고, 3 ∼ 6 개가 특히 바람직하다.
에틸렌성 불포화 화합물로는, 예를 들어, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과, 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르를 들 수 있다.
지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트 등의 지방족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르, 이들의 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 대신한 메타크릴산에스테르, 이들의 아크릴레이트를 이타코네이트로 대신한 이타콘산에스테르, 이들의 아크릴레이트를 크로토네이트로 대신한 크로톤산에스테르 혹은 이들의 아크릴레이트를 말레에이트로 대신한 말레산에스테르를 들 수 있다.
방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 예를 들어, 하이드로퀴논디아크릴레이트, 하이드로퀴논디메타크릴레이트, 레조르신디아크릴레이트, 레조르신디메타크릴레이트, 피로갈롤트리아크릴레이트 등의 방향족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르를 들 수 있다.
지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르로는 반드시 단일물은 아니지만, 대표적인 구체예로는, 예를 들어, 아크릴산, 프탈산, 및 에틸렌글리콜의 축합물, 아크릴산, 말레산, 및 디에틸렌글리콜의 축합물, 메타크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물, 아크릴산, 아디프산, 부탄디올 및 글리세린의 축합물을 들 수 있다.
본 발명에 사용되는 다관능 에틸렌성 단량체의 그 밖의 예로는, 예를 들어, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트류 ; 다가 에폭시 화합물과 하이드록시(메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴산의 부가 반응물과 같은 에폭시아크릴레이트류 ; 에틸렌비스아크릴아미드 등의 아크릴아미드류 ; 프탈산디알릴 등의 알릴에스테르류 ; 디비닐프탈레이트 등의 비닐기 함유 화합물을 들 수 있다.
우레탄(메트)아크릴레이트류로는, 예를 들어, DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (닛폰 화약사 제조), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (신나카무라 화학 공업사 제조), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (쿄에이샤 화학사 제조), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (미츠비시 케미컬사 제조) 를 들 수 있다.
해상성의 관점에서, (c) 에틸렌성 불포화 화합물로서, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르류 또는 우레탄(메트)아크릴레이트류를 사용하는 것이 바람직하고, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 2,2,2-트리스(메트)아크릴로일옥시메틸에틸프탈산, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트의 이염기산 무수물 부가물, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트의 이염기산 무수물 부가물을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
(c) 에틸렌성 불포화 화합물은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
본 발명에 있어서, (c) 에틸렌성 불포화 화합물의 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 해상성의 관점에서, 바람직하게는 100 이상, 보다 바람직하게는 150 이상, 더욱 바람직하게는 200 이상, 보다 더욱 바람직하게는 300 이상, 특히 바람직하게는 400 이상, 가장 바람직하게는 500 이상이고, 또, 바람직하게는 1000 이하, 보다 바람직하게는 700 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, (c) 에틸렌성 불포화 화합물의 분자량은 100 ∼ 1000 이 바람직하고, 150 ∼ 1000 이 보다 바람직하고, 200 ∼ 1000 이 더욱 바람직하고, 300 ∼ 700 이 보다 더욱 바람직하고, 400 ∼ 700 이 더욱더 바람직하고, 500 ∼ 700 이 특히 바람직하다.
(c) 에틸렌성 불포화 화합물의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 해상성의 관점에서, 바람직하게는 7 이상, 보다 바람직하게는 10 이상, 더욱 바람직하게는 15 이상, 또, 바람직하게는 50 이하, 보다 바람직하게는 40 이하, 더욱 바람직하게는 30 이하, 특히 바람직하게는 20 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, (c) 에틸렌성 불포화 화합물의 탄소수는 7 ∼ 50 이 바람직하고, 10 ∼ 40 이 보다 바람직하고, 15 ∼ 30 이 더욱 바람직하고, 15 ∼ 20 이 보다 더욱 바람직하다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물 중의 (c) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율은, 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 1 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 8 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 12 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 80 질량% 이하가 바람직하고, 60 질량% 이하가 보다 바람직하고, 40 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 20 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 표면 평활성이 양호해지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 (c) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율은 1 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 60 질량% 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 40 질량% 가 더욱 바람직하고, 12 ∼ 20 질량% 가 특히 바람직하다.
(a) 알칼리 가용성 수지 100 질량부에 대한 (c) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 1 질량부 이상이 바람직하고, 5 질량부 이상이 보다 바람직하고, 10 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 15 질량부 이상이 더욱더 바람직하고, 20 질량부 이상이 특히 바람직하고, 또, 150 질량부 이하가 바람직하고, 100 질량부 이하가 보다 바람직하고, 70 질량부 이하가 더욱 바람직하고, 50 질량부 이하가 더욱더 바람직하고, 40 질량부 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 표면 평활성이 양호해지고, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, (a) 알칼리 가용성 수지 100 질량부에 대한 (c) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율은 1 ∼ 150 질량부가 바람직하고, 5 ∼ 100 질량부가 보다 바람직하고, 10 ∼ 70 질량부가 더욱 바람직하고, 15 ∼ 50 질량부가 보다 더욱 바람직하고, 20 ∼ 40 질량부가 특히 바람직하다.
[1-1-4] (d) 착색제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, (d) 착색제를 함유한다. (d) 착색제를 함유함으로써, 적당한 광 흡수성, 특히 착색 격벽 등의 차광 부재를 형성하는 용도로 사용하는 경우에는 적당한 차광성을 얻을 수 있다.
(d) 착색제의 함유 비율은, 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 5 질량% 이상이 바람직하고, 10 질량% 이상이 보다 바람직하고, 20 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 25 질량% 이상이 특히 바람직하다. 표면 평활성 및 현상성의 관점에서, 60 질량% 이하가 바람직하고, 50 질량% 이하가 보다 바람직하고, 40 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 35 질량% 이하가 보다 더욱 바람직하고, 30 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 5 ∼ 60 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 40 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 35 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 25 ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다.
(d) 착색제는 특별히 한정되지 않지만, 비유전율이나 해상성의 관점에서는, 유기 안료를 함유하는 것이 바람직하다.
유기 안료의 종류로는, 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서는, 유기 흑색 안료나 유기 착색 안료가 바람직하고, 유기 흑색 안료가 더욱 바람직하다. 여기서, 유기 착색 안료란, 흑색 이외의 색을 나타내는 유기 안료를 의미하고, 예를 들어, 적색 안료, 등색 안료, 청색 안료, 자색 안료, 녹색 안료, 황색 안료를 들 수 있다.
유기 착색 안료는, 1 종을 단독으로 사용해도 되는데, 2 종 이상을 병용해도 된다.
특히, 차광성의 용도에 사용하는 경우에는, 색이 상이한 유기 착색 안료를 조합하여 사용하는 것이 보다 바람직하고, 흑색에 가까운 색을 나타내는 유기 착색 안료의 조합을 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
유기 안료의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 인단트렌계, 페릴렌계를 들 수 있다.
이하, 사용할 수 있는 안료의 구체예를 피그먼트 넘버로 나타낸다. 이하에 예시하는「C.I. 피그먼트 레드 2」 등의 용어는, 컬러 인덱스 (C.I.) 를 의미한다.
적색 안료로는, 예를 들어, C.I. 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48 : 1, 48 : 2, 48 : 3, 48 : 4, 49, 49 : 1, 49 : 2, 50 : 1, 52 : 1, 52 : 2, 53, 53 : 1, 53 : 2, 53 : 3, 57, 57 : 1, 57 : 2, 58 : 4, 60, 63, 63 : 1, 63 : 2, 64, 64 : 1, 68, 69, 81, 81 : 1, 81 : 2, 81 : 3, 81 : 4, 83, 88, 90 : 1, 101, 101 : 1, 104, 108, 108 : 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276 을 들 수 있다. 차광성, 분산성의 관점에서 바람직하게는 C.I. 피그먼트 레드 48 : 1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 레드 177, 209, 224, 254 를 들 수 있다.
분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 레드 177, 254, 272 를 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 착색 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 적색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 레드 254, 272 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
등색 (오렌지) 안료로는, 예를 들어, C.I. 피그먼트 오렌지 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79 를 들 수 있다. 분산성이나 차광성의 관점에서, C.I. 피그먼트 오렌지 13, 43, 64, 72 를 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 착색 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 오렌지 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 오렌지 64, 72 를 사용하는 것이 보다 바람직하고, C.I. 피그먼트 오렌지 64 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
청색 안료로는, 예를 들어, C.I. 피그먼트 블루 1, 1 : 2, 9, 14, 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56 : 1, 60, 61, 61 : 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 를 들 수 있다. 차광성의 관점에서, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 블루 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 60, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 블루 15 : 6 을 들 수 있다.
분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 블루 15 : 6, 16, 60 을 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 착색 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 청색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 블루 60 을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
자색 안료로는, 예를 들어, C.I. 피그먼트 바이올렛 1, 1 : 1, 2, 2 : 2, 3, 3 : 1, 3 : 3, 5, 5 : 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 을 들 수 있다. 차광성의 관점에서, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 바이올렛 23 을 들 수 있다.
분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 를 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 착색 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 자색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 바이올렛 29 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
적색 안료, 등색 안료, 청색 안료, 자색 안료 외에 사용할 수 있는 유기 착색 안료로는 예를 들어, 녹색 안료, 황색 안료를 들 수 있다.
녹색 안료로는, 예를 들어, C.I. 피그먼트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55 를 들 수 있다. 바람직하게는 C.I. 피그먼트 그린 7, 36 을 들 수 있다.
황색 안료로는, 예를 들어, C.I. 피그먼트 옐로 1, 1 : 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35 : 1, 36, 36 : 1, 37, 37 : 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62 : 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127 : 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191 : 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208 을 들 수 있다. 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로 83, 138, 139, 150, 180 을 들 수 있다.
차광성이나, 형상의 컨트롤의 관점에서, 이하의 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것이 바람직하다.
적색 안료 : C.I. 피그먼트 레드 177, 254, 272
등색 안료 : C.I. 피그먼트 오렌지 43, 64, 72
청색 안료 : C.I. 피그먼트 블루 15 : 6, 60
자색 안료 : C.I. 피그먼트 바이올렛 23, 29
유기 흑색 안료로는, 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서는, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물 (이하,「화합물 (1)」이라고도 한다), 화합물 (1) 의 기하 이성체, 화합물 (1) 의 염, 및 화합물 (1) 의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 유기 흑색 안료 (이하,「일반식 (1) 로 나타내는 유기 흑색 안료」라고 칭하는 경우가 있다) 를 사용하는 것이 바람직하다.
[화학식 45]
식 (1) 중, R11 및 R16 은 각각 독립적으로, 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자, 또는 염소 원자를 나타내고 ;
R12, R13, R14, R15, R17, R18, R19 및 R20 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, R21, COOH, COOR21, COO-, CONH2, CONHR21, CONR21R22, CN, OH, OR21, COCR21, OOCNH2, OOCNHR21, OOCNR21R22, NO2, NH2, NHR21, NR21R22, NHCOR22, NR21COR22, N=CH2, N=CHR21, N=CR21R22, SH, SR21, SOR21, SO2R21, SO3R21, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR21, 또는 SO2NR21R22 를 나타내고 ;
R12 와 R13, R13 과 R14, R14 와 R15, R17 과 R18, R18 와 R19, 및 R19 와 R20 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합해도 되고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR21 브릿지에 의해 서로 결합해도 되고 ;
R21 및 R22 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기, 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기를 나타낸다.
화합물 (1) 및 화합물 (1) 의 기하 이성체는, 이하의 코어 구조를 갖고 (단, 구조식 중의 치환기는 생략하고 있다), 트랜스-트랜스 이성체가 아마 가장 안정적이다.
[화학식 46]
화합물 (1) 이 아니온성인 경우, 그 전하를 임의의 공지된 적합한 카티온, 예를 들어, 금속, 유기, 무기 또는 금속 유기 카티온, 구체적으로는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 천이 금속, 1 급 암모늄, 2 급 암모늄, 트리알킬암모늄 등의 3 급 암모늄, 테트라알킬암모늄 등의 4 급 암모늄 또는 유기 금속 착물에 의해 보상한 염인 것이 바람직하다. 화합물 (1) 의 기하 이성체가 아니온성인 경우, 동일한 염인 것이 바람직하다.
식 (1) 에 있어서의 치환기 및 그들의 정의에 있어서는, 차폐율이 높아지는 경향이 있는 점에서, 이하의 것이 바람직하다. 이것은, 이하의 치환기는 흡수가 없어, 안료의 색상에 영향을 미치지 않는다고 생각되기 때문이다.
R12, R14, R15, R17, R19 및 R20 은 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.
R13 및 R18 은 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H, 또는 SO3 - 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 SO3H 이고, 특히 바람직하게는 수소 원자이다.
R11 및 R16 은 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자, CH3 또는 CF3 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.
바람직하게는, R11 과 R16, R12 와 R17, R13 과 R18, R14 와 R19, 및 R15 와 R20 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합이 동일하고, 보다 바람직하게는, R11 은 R16 과 동일하고, R12 는 R17 과 동일하고, R13 은 R18 과 동일하고, R14 는 R19 와 동일하고, 또한, R15 는 R20 과 동일하다.
탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 2-메틸부틸기, n-펜틸기, 2-펜틸기, 3-펜틸기, 2,2-디메틸프로필기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 1,1,3,3-테트라메틸부틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기이다.
탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기는, 예를 들어, 시클로프로필기, 시클로프로필메틸기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 트리메틸시클로헥실기, 투일기, 노르보르닐기, 보르닐기, 노르카릴기, 카릴기, 멘틸기, 노르피닐기, 피닐기, 아다만탄-1-일기, 아다만탄-2-일기이다.
탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기는, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 2-프로펜-2-일기, 2-부텐-1-일기, 3-부텐-1-일기, 1,3-부타디엔-2-일기, 2-펜텐-1-일기, 3-펜텐-2-일기, 2-메틸-1-부텐-3-일기, 2-메틸-3-부텐-2-일기, 3-메틸-2-부텐-1-일기, 1,4-펜타디엔-3-일기, 헥세닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기, 도데세닐기이다.
탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기는, 예를 들어, 2-시클로부텐-1-일기, 2-시클로펜텐-1-일기, 2-시클로헥센-1-일기, 3-시클로헥센-1-일기, 2,4-시클로헥사디엔-1-일기, 1-p-멘텐-8-일기, 4(10)-투젠-10-일기, 2-노르보르넨-1-일기, 2,5-노르보르나디엔-1-일기, 7,7-디메틸-2,4-노르카라디엔-3-일기, 캄페닐기이다.
탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기는, 예를 들어, 1-프로핀-3-일기, 1-부틴-4-일기, 1-펜틴-5-일기, 2-메틸-3-부틴-2-일기, 1,4-펜타디인-3-일기, 1,3-펜타디인-5-일기, 1-헥신-6-일기, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 1,3-헥사디인-5-일기, 1-옥틴-8-일기, 1-노닌-9-일기, 1-데신-10-일기, 1-도데신-12-일기이다.
할로겐 원자는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자이다.
식 (1) 로 나타내는 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 하기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물 (이하,「화합물 (2)」라고도 한다), 및 화합물 (2) 의 기하 이성체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 유기 흑색 안료이다.
[화학식 47]
이와 같은 유기 흑색 안료의 구체예로는, 상품명으로, Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF (BASF 사 제조) 를 들 수 있다.
이 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 후술되는 분산제, 용제, 방법에 의해 분산시켜 사용된다. 또, 분산시에 화합물 (1) 의 술폰산 유도체, 특히 화합물 (2) 의 술폰산 유도체가 존재하면, 분산성이나 보존성이 향상되는 경우가 있기 때문에, 유기 흑색 안료가 이들의 술폰산 유도체를 포함하는 것이 바람직하다.
식 (1) 로 나타내는 유기 흑색 안료 이외의 유기 흑색 안료로는, 예를 들어, 아닐린 블랙이나 페릴렌 블랙을 들 수 있다.
이들의 유기 안료 이외에, 무기 안료를 함유해도 된다. 무기 안료로는, 차광성의 관점에서, 무기 흑색 안료를 함유하는 것이 바람직하다.
무기 흑색 안료로는, 예를 들어, 카본 블랙, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 시아닌 블랙, 티탄 블랙을 들 수 있다. 이들 중에서도, 차광성, 화상 특성의 관점에서 카본 블랙을 바람직하게 사용할 수 있다. 카본 블랙의 예로는, 이하와 같은 카본 블랙을 들 수 있다.
미츠비시 케미컬사 제조 : MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, #5, #10, #20, #25, #30, #32, #33, #40, #44, #45, #47, #50, #52, #55, #650, #750, #850, #900, #950, #960, #970, #980, #990, #1000, #2200, #2300, #2350, #2400, #2600, #2650, #3030, #3050, #3150, #3250, #3400, #3600, #3750, #3950, #4000, #4010, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, OIL31B,
데구사사 제조 : Printex (등록상표, 이하 동일) 3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170,
캐봇사 제조 : Monarch (등록상표, 이하 동일) 120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL (등록상표, 이하 동일) 99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL550R, REGAL660R, BLACK PEARLS (등록상표, 이하 동일) 480, BLACK PEARLS130, VULCAN (등록상표, 이하 동일) XC72R, ELFTEX (등록상표)-8,
비를라사 제조 : RAVEN (등록상표, 이하 동일) 11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22, RAVEN30, RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN1000, RAVEN1020, RAVEN1040, RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000.
카본 블랙은, 수지로 피복된 것을 사용해도 된다. 수지로 피복된 카본 블랙을 사용하면, 유리 기판에 대한 밀착성이나 체적 저항값이 향상되는 효과가 있다. 수지로 피복된 카본 블랙으로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평09-71733호에 기재되어 있는 카본 블랙을 바람직하게 사용할 수 있다. 체적 저항이나 유전율의 점에서, 수지 피복 카본 블랙이 바람직하게 사용된다.
수지에 의한 피복 처리에 제공하는 카본 블랙으로는, Na 와 Ca 의 합계 함유량이 100 ppm 이하인 것이 바람직하다. 카본 블랙은, 통상적으로 제조시의 원료유나 연소유 (또는 가스), 반응 정지수나 조립수, 나아가서는 반응로의 노재 등으로부터 혼입된 Na 나 Ca, K, Mg, Al, Fe 등을 조성으로 하는 회분이 함유되어 있다. 이 중, Na 나 Ca 는, 각각 수백 ppm 이상 함유되어 있는 것이 일반적이지만, 이들을 적게 함으로써, 투명 전극 (ITO) 이나 그 밖의 전극에 대한 침투를 억제하여, 전기적 단락을 방지할 수 있는 경향이 있다.
이들의 Na 나 Ca 를 포함하는 회분의 함유량을 저감시키는 방법으로는, 카본 블랙을 제조할 때의 원료유나 연료유 (또는 가스) 그리고 반응 정지수로서, 이들의 함유량이 최대한 적은 것을 엄선하는 것 및 스트럭처를 조정하는 알칼리 물질의 첨가량을 최대한 적게 하는 것에 의해 가능하다. 다른 방법으로는, 노로부터 제출 (製出) 한 카본 블랙을 물이나 염산 등으로 씻어 Na 나 Ca 를 용해시켜 제거하는 방법을 들 수 있다.
구체적으로는 카본 블랙을 물, 염산, 또는 과산화수소수에 혼합 분산시킨 후, 물에 난용인 용매를 첨가해 가면 카본 블랙은 용매측으로 이행하고, 물과 완전하게 분리됨과 함께 카본 블랙 중에 존재한 대부분의 Na 나 Ca 는, 물이나 산에 용해, 제거된다. Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 저감시키기 위해서는, 원재료를 엄선한 카본 블랙 제조 과정 단독, 또는 물이나 산 용해 방식 단독으로도 가능한 경우도 있지만, 이 양 방식을 병용함으로써 더욱 용이하게 Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 할 수 있다.
또 수지 피복 카본 블랙은, pH 6 이하의 이른바 산성 카본 블랙인 것이 바람직하다. 수중에서의 분산 직경 (어글로머레이트 직경) 이 작아지므로, 미세 유닛까지의 피복이 가능해져 바람직하다. 또한, 평균 입자경 40 ㎚ 이하, 디부틸프탈레이트 (DBP) 흡수량 140 mL/100 g 이하인 것이 바람직하다. 상기 범위 내로 함으로써, 차광성이 양호한 도막이 얻어지는 경향이 있다. 평균 입자경은 수평균 입자경을 의미하고, 전자 현미경 관찰에 의해 수만배로 촬영된 사진을 수시야 촬영하고, 이들 사진의 입자를 화상 처리 장치에 의해 2000 ∼ 3000 개 정도 계측하는 입자 화상 해석에 의해 구해지는 원 상당 직경을 의미한다.
수지로 피복된 카본 블랙을 조제하는 방법에는 특별히 한정이 없지만, 예를 들어, 카본 블랙 및 수지의 배합량을 적절히 조정한 후, 1. 수지와 시클로헥사논, 톨루엔, 자일렌 등의 용제를 혼합하여 가열 용해시킨 수지 용액과 카본 블랙 및 물을 혼합한 현탁액을 혼합 교반하고, 카본 블랙과 물을 분리시킨 후, 물을 제거하고 가열 혼련하여 얻어진 조성물을 시트상으로 성형하고, 분쇄한 후, 건조시키는 방법 ; 2. 상기와 동일하게 하여 조제한 수지 용액과, 현탁액을 혼합 교반하여 카본 블랙 및 수지를 입상화한 후, 얻어진 입상물을 분리, 가열하여 잔존하는 용제 및 물을 제거하는 방법 ; 3. 상기 예시한 용제에 말레산, 푸마르산 등의 카르복실산을 용해시키고, 카본 블랙을 첨가, 혼합하여 건조시키고, 용제를 제거하여 카르복실산 첨착 카본 블랙을 얻은 후, 이것에 수지를 첨가하여 드라이블렌드하는 방법 ; 4. 피복시키는 수지를 구성하는 반응성기 함유 모노머 성분과 물을 고속 교반하여 현탁액을 조제하고, 중합 후 냉각시켜 중합체 현탁액으로부터 반응성기 함유 수지를 얻은 후, 이것에 카본 블랙을 첨가하여 혼련하고, 카본 블랙과 반응성기를 반응시켜 (카본 블랙을 그래프트시켜), 냉각 및 분쇄하는 방법 등을 채용할 수 있다.
피복 처리하는 수지의 종류도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 합성 수지가 일반적이고, 또한 구조 중에 벤젠 고리를 갖는 수지 쪽이 양쪽성계 계면 활성제적인 기능이 보다 강하기 때문에, 분산성 및 분산 안정성의 점에서 바람직하다.
구체적인 합성 수지로는, 예를 들어, 페놀 수지, 멜라민 수지, 자일렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 글리프탈 수지, 에폭시 수지, 알킬벤젠 수지 등의 열경화성 수지나, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리술폰, 폴리파라페닐렌테레프탈아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리아미노비스말레이미드, 폴리에테르술포폴리페닐렌술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르에테르케톤 등의 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 피복 수지의 양은, 카본 블랙과 수지의 합계량에 대해 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 피복을 충분한 것으로 할 수 있는 경향이 있다. 한편, 상기 상한값 이하로 함으로써, 수지끼리의 점착을 방지하여, 분산성이 양호한 것으로 할 수 있는 경향이 있다.
이와 같이 하여 수지로 피복 처리하여 이루어지는 카본 블랙은, 통상적인 방법에 따라 착색 격벽의 착색제로서 사용할 수 있다. 이와 같은 카본 블랙을 사용하면, 고차광률이고 또한 표면 반사율이 낮은 착색 격벽을 저비용으로 형성할 수 있는 경향이 있다. 또, 카본 블랙 표면을 수지로 피복함으로써, Na 나 Ca 를 포함하는 회분을 카본 블랙 중에 봉입하는 기능이 있는 것도 추측된다.
안료의 평균 입자경은, 0.2 ㎛ 이하가 바람직하고, 0.1 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 0.05 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 안료의 평균 1 차 입자경은 투과형 전자 현미경 (TEM), 또는 주사형 전자 현미경 (SEM) 을 사용하여, 그 전자 현미경 사진으로부터 1 차 입자의 크기를 직접 계측하는 방법 등으로 측정된다.
(d) 착색제로서, 유기 착색 안료, 흑색 안료 외에, 염료를 사용해도 된다. 착색제로서 사용할 수 있는 염료로는, 예를 들어, 아조계 염료, 안트라퀴논계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 퀴논이민계 염료, 퀴놀린계 염료, 니트로계 염료, 카르보닐계 염료, 메틴계 염료를 들 수 있다.
아조계 염료로는, 예를 들어, C.I. 애시드 옐로 11, C.I. 애시드 오렌지 7, C.I. 애시드 레드 37, C.I. 애시드 레드 180, C.I. 애시드 블루 29, C.I. 다이렉트 레드 28, C.I. 다이렉트 레드 83, C.I. 다이렉트 옐로 12, C.I. 다이렉트 오렌지 26, C.I. 다이렉트 그린 28, C.I. 다이렉트 그린 59, C.I. 리액티브 옐로 2, C.I. 리액티브 레드 17, C.I. 리액티브 레드 120, C.I. 리액티브 블랙 5, C.I. 디스퍼스 오렌지 5, C.I. 디스퍼스 레드 58, C.I. 디스퍼스 블루 165, C.I. 베이직 블루 41, C.I. 베이직 레드 18, C.I. 모던트 레드 7, C.I. 모던트 옐로 5, C.I. 모르단트 블랙 7 을 들 수 있다.
안트라퀴논계 염료로는, 예를 들어, C.I. 배트 블루 4, C.I. 애시드 블루 40, C.I. 애시드 그린 25, C.I. 리액티브 블루 19, C.I. 리액티브 블루 49, C.I. 디스퍼스 레드 60, C.I. 디스퍼스 블루 56, C.I. 디스퍼스 블루 60 을 들 수 있다.
프탈로시아닌계 염료로서, 예를 들어, C.I. 배트 블루 5 를 들 수 있다.
퀴논이민계 염료로서, 예를 들어, C.I. 베이직 블루 3, C.I. 베이직 블루 9 를 들 수 있다.
퀴놀린계 염료로서, 예를 들어, C.I. 솔벤트 옐로 33, C.I. 애시드 옐로 3, C.I. 디스퍼스 옐로 64 를 들 수 있다.
니트로계 염료로서, 예를 들어, C.I. 애시드 옐로 1, C.I. 애시드 오렌지 3, C.I. 디스퍼스 옐로 42 를 들 수 있다.
[1-1-5] 분산제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, (d) 착색제를 미세하게 분산시키고, 또한 그 분산 상태를 안정화시키기 위해, 분산제를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서의 분산제로는, 관능기를 갖는 고분자 분산제가 바람직하고, 또한 분산 안정성의 면에서 카르복시기 ; 인산기 ; 술폰산기 ; 또는 이들의 염기 ; 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 관능기를 갖는 고분자 분산제가 바람직하다. 특히, 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 염기성 관능기를 갖는 고분자 분산제가 안료를 분산시킬 때에 소량의 분산제로 분산시킬 수 있다는 관점에서 특히 바람직하다.
고분자 분산제로는, 예를 들어, 우레탄계 분산제, 아크릴계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리알릴아민계 분산제, 아미노기를 갖는 모노머와 매크로 모노머로 이루어지는 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌디에스테르계 분산제, 폴리에테르인산계 분산제, 폴리에스테르인산계 분산제, 소르비탄 지방족 에스테르계 분산제, 지방족 변성 폴리에스테르계 분산제를 들 수 있다.
이와 같은 분산제로는, 예를 들어, 상품명으로, EFKA (등록상표. BASF 사 제조), DISPERBYK (등록상표. 빅케미사 제조), 디스팔론 (등록상표. 쿠스모토 화성사 제조), SOLSPERSE (등록상표. 루브리졸사 제조), KP (신에츠 화학 공업사 제조), 폴리플로 (쿄에이샤 화학사 제조), 아지스퍼 (등록상표. 아지노모토사 제조) 를 들 수 있다.
고분자 분산제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2 종 이상을 병용해도 된다.
고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 700 이상이 바람직하고, 1000 이상이 보다 바람직하고, 또, 100000 이하가 바람직하고, 50000 이하가 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 700 ∼ 100000 이 바람직하고, 1000 ∼ 50000 이 보다 바람직하다.
안료의 분산성의 관점에서, 분산제는 관능기를 갖는 우레탄계 고분자 분산제 및 아크릴계 고분자 분산제 중 어느 일방 또는 양방을 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 것이 특히 바람직하다.
분산성, 보존성의 면에서, 염기성 관능기를 갖고, 폴리에스테르 결합 및 폴리에테르 결합 중 어느 일방 또는 양방을 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.
우레탄계 및 아크릴계 고분자 분산제로는, 예를 들어, DISPERBYK-160 ∼ 167, 182 시리즈 (모두 우레탄계), DISPERBYK-2000, 2001, BYK-LPN21116 (모두 아크릴계) (이상 모두 빅케미사 제조) 을 들 수 있다.
우레탄계 고분자 분산제로는, 예를 들어, 폴리이소시아네이트 화합물과, 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물과, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는, 중량 평균 분자량 1000 ∼ 200000 의 분산 수지를 들 수 있다. 이들을 벤질클로라이드 등의 4 급화제로 처리함으로써, 3 급 아미노기의 전부 또는 일부를 4 급 암모늄염기로 할 수 있다.
폴리이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어, 파라페닐렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신메틸에스테르디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 다이머산디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), ω,ω'-디이소시아네이트디메틸시클로헥산 등의 지환족 디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향 고리를 갖는 지방족 디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐메탄), 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트 등의 트리이소시아네이트, 및 이들의 3 량체, 물 부가물, 및 이들의 폴리올 부가물을 들 수 있다. 폴리이소시아네이트로는 유기 디이소시아네이트의 3 량체가 바람직하고, 톨릴렌디이소시아네이트의 3 량체와 이소포론디이소시아네이트의 3 량체가 보다 바람직하다.
폴리이소시아네이트 화합물은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
이소시아네이트의 3 량체의 제조 방법으로는, 상기 폴리이소시아네이트류를 적당한 3 량화 촉매, 예를 들어, 제 3 급 아민류, 포스핀류, 알콕시드류, 금속 산화물, 카르복실산염류 등을 사용하여 이소시아네이트기의 부분적인 3 량화를 실시하고, 촉매독의 첨가에 의해 3 량화를 정지시킨 후, 미반응의 폴리이소시아네이트를 용제 추출, 박막 증류에 의해 제거하여 목적으로 하는 이소시아누레이트기 함유 폴리이소시아네이트를 얻는 방법을 들 수 있다.
동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물로는, 예를 들어, 폴리에테르글리콜, 폴리에스테르글리콜, 폴리카보네이트글리콜, 폴리올레핀글리콜 등, 및 이들의 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 것 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다.
폴리에테르글리콜로는, 예를 들어, 폴리에테르디올, 폴리에테르에스테르디올, 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다.
폴리에테르디올로는, 예를 들어, 알킬렌옥사이드를 단독 또는 공중합시켜 얻어지는 것, 예를 들어, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌-프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜, 폴리옥시헥사메틸렌글리콜, 폴리옥시옥타메틸렌글리콜 및 그들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
폴리에테르에스테르디올로는, 예를 들어, 에테르기 함유 디올 혹은 다른 글리콜과의 혼합물을 디카르복실산 또는 그들의 무수물과 반응시키거나, 또는 폴리에스테르글리콜에 알킬렌옥사이드를 반응시킴으로써 얻어지는 것, 예를 들어, 폴리(폴리옥시테트라메틸렌) 아디페이트 등을 들 수 있다.
폴리에테르글리콜로는 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜 또는 이들의 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 화합물이 특히 바람직하다.
폴리에스테르글리콜로는, 디카르복실산 (숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세바크산, 푸마르산, 말레산, 프탈산 등) 또는 그들의 무수물과 글리콜 (에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,8-옥타메틸렌글리콜, 2-메틸-1,8-옥타메틸렌글리콜, 1,9-노난디올 등의 지방족 글리콜, 비스하이드록시메틸시클로헥산 등의 지환족 글리콜, 자일릴렌글리콜, 비스하이드록시에톡시벤젠 등의 방향족 글리콜, N-메틸디에탄올아민 등의 N-알킬디알칸올아민 등) 을 중축합시켜 얻어진 것, 예를 들어, 폴리에틸렌아디페이트, 폴리부틸렌아디페이트, 폴리헥사메틸렌아디페이트, 폴리에틸렌/프로필렌아디페이트 등, 또는 상기 디올류 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 1 가 알코올을 개시제로서 사용하여 얻어지는 폴리락톤디올 또는 폴리락톤모노올, 예를 들어, 폴리카프로락톤글리콜, 폴리메틸발레로락톤 및 이들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에스테르글리콜로는 폴리카프로락톤글리콜 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 알코올을 개시제로 한 폴리카프로락톤이 특히 바람직하다.
폴리카보네이트글리콜로는, 폴리(1,6-헥실렌)카보네이트, 폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌)카보네이트 등, 폴리올레핀글리콜로는 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리이소프렌글리콜 등을 들 수 있다.
폴리카보네이트글리콜은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 화합물의 수평균 분자량은, 바람직하게는 300 ∼ 10000, 보다 바람직하게는 500 ∼ 6000, 더욱 바람직하게는 1000 ∼ 4000 이다.
동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 설명한다.
활성 수소, 즉, 산소 원자, 질소 원자 또는 황 원자에 직접 결합하고 있는 수소 원자로는, 수산기, 아미노기, 티올기 등의 관능기 중의 수소 원자를 들 수 있고, 아미노기, 특히 1 급의 아미노기의 수소 원자가 바람직하다.
3 급 아미노기는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 갖는 아미노기, 헤테로 고리 구조 (예를 들어, 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리) 를 들 수 있다.
동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물로는, 예를 들어, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, N,N-디프로필-1,3-프로판디아민, N,N-디부틸-1,3-프로판디아민, N,N-디메틸에틸렌디아민, N,N-디에틸에틸렌디아민, N,N-디프로필에틸렌디아민, N,N-디부틸에틸렌디아민, N,N-디메틸-1,4-부탄디아민, N,N-디에틸-1,4-부탄디아민, N,N-디프로필-1,4-부탄디아민, N,N-디부틸-1,4-부탄디아민을 들 수 있다.
3 급 아미노기가 함질소 헤테로 고리 구조인 경우의 함질소 헤테로 고리로는, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 테트라졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 인다졸 고리, 벤즈이미다졸 고리, 벤조트리아졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조티아디아졸 고리 등의 함질소 헤테로 5 원 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 아크리딘 고리, 이소퀴놀린 고리 등의 함질소 헤테로 6 원 고리를 들 수 있다. 함질소 헤테로 고리로는, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리가 바람직하다.
이미다졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물로는, 예를 들어, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 히스티딘, 2-아미노이미다졸, 1-(2-아미노에틸)이미다졸을 들 수 있다.
트리아졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물로는, 예를 들어, 3-아미노-1,2,4-트리아졸, 5-(2-아미노-5-클로로페닐)-3-페닐-1H-1,2,4-트리아졸, 4-아미노-4H-1,2,4-트리아졸-3,5-디올, 3-아미노-5-페닐-1H-1,3,4-트리아졸, 5-아미노-1,4-디페닐-1,2,3-트리아졸, 3-아미노-1-벤질-1H-2,4-트리아졸 등을 들 수 있다.
동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물로는, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 3-아미노-1,2,4-트리아졸이 바람직하다.
동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
우레탄계 고분자 분산제를 제조할 때의 원료의 배합 비율로는, 폴리이소시아네이트 화합물 100 질량부에 대하여, 동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물의 10 ∼ 200 질량부가 바람직하고, 20 ∼ 190 질량부가 보다 바람직하고, 30 ∼ 180 질량부가 더욱 바람직하고, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물의 0.2 ∼ 25 질량부가 바람직하고, 0.3 ∼ 24 질량부가 보다 바람직하다.
우레탄계 고분자 분산제의 제조는 폴리우레탄 수지 제조의 공지된 방법에 따라 실시된다. 제조할 때의 용매로는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산셀로솔브 등의 에스테르류, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 헥산 등의 탄화수소류, 디아세톤알코올, 이소프로판올, 제 2 부탄올, 제 3 부탄올 등 일부의 알코올류, 염화메틸렌, 클로로포름 등의 염화물, 테트라하이드로푸란, 디에틸에테르 등의 에테르류, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드 등의 비프로톤성 극성 용매 등이 바람직하게 사용된다.
용매는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
우레탄계 고분자 분산제의 제조시에, 우레탄화 반응 촉매가 바람직하게 사용된다. 촉매로는, 예를 들어, 디부틸틴디라우레이트, 디옥틸틴디라우레이트, 디부틸틴디옥토에이트, 스태너스옥토에이트 등의 주석계, 철아세틸아세토네이트, 염화제2철 등의 철계, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민 등의 3 급 아민계를 들 수 있다.
촉매는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물의 도입량은 반응 후의 아민가로, 바람직하게는 1 ∼ 100 mgKOH/g, 보다 바람직하게는 5 ∼ 95 mgKOH/g 의 범위로 제어하는 것이 바람직하다. 아민가는, 염기성 아미노기를 산에 의해 중화 적정하고, 산가에 대응시켜 KOH 의 mg 수로 나타낸 값이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산 능력이 좋아지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 좋아지는 경향이 있다.
고분자 분산제에 이소시아네이트기가 잔존하는 경우에는 또한 알코올이나 아미노 화합물로 이소시아네이트기를 불활성화시키면 생성물의 시간 경과적 안정성이 높아지므로 바람직하다.
우레탄계 고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 1000 ∼ 200000 이 바람직하고, 2000 ∼ 100000 이 보다 바람직하고, 3000 ∼ 50000 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성 및 분산 안정성이 좋아지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 용해성이 향상되어 분산성이 좋아지는 경향이 있다.
아크릴계 고분자 분산제로는, 관능기 (여기서 말하는 관능기란, 고분자 분산제에 함유되는 관능기로서 전술한 관능기이다) 를 갖는 불포화기 함유 단량체와, 관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체의 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체, 블록 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 이들의 공중합체는 공지된 방법으로 제조할 수 있다.
관능기를 갖는 불포화기 함유 단량체로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 아크릴산 다이머 등의 카르복시기를 갖는 불포화 단량체, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 및 이들의 4 급화물 등의 3 급 아미노기, 4 급 암모늄염기를 갖는 불포화 단량체를 들 수 있다.
관능기를 갖는 불포화기 함유 단량체는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체로는, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시메틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, 스티렌 및 그 유도체, α-메틸스티렌, N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-벤질말레이미드 등의 N-치환 말레이미드, 아크릴로니트릴, 아세트산비닐 및 폴리메틸(메트)아크릴레이트 매크로 모노머, 폴리스티렌 매크로 모노머, 폴리2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 매크로 모노머, 폴리에틸렌글리콜 매크로 모노머, 폴리프로필렌글리콜 매크로 모노머, 폴리카프로락톤 매크로 모노머 등의 매크로 모노머를 들 수 있다.
관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
아크릴계 고분자 분산제는, 관능기를 갖는 A 블록과 관능기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체가 바람직하다. 이 경우, A 블록 중에는 상기 관능기를 포함하는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조 외에, 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조가 포함되어 있어도 되고, 이들이 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 관능기를 포함하지 않는 부분 구조의, A 블록 중의 함유량은, 80 질량% 이하가 바람직하고, 50 질량% 이하가 보다 바람직하고, 30 질량% 이하가 더욱 바람직하다.
B 블록은, 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조로 이루어진다. 1 개의 B 블록 중에 2 종 이상의 단량체 유래의 부분 구조가 함유되어 있어도 되고, 이들은, B 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.
A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체는, 예를 들어, 이하에 나타내는 리빙 중합법으로 조제된다.
리빙 중합법에는, 아니온 리빙 중합법, 카티온 리빙 중합법, 라디칼 리빙 중합법이 있다.
아크릴계 고분자 분산제를 합성할 때에는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평9-62002호나, P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), 우테 코이치, 하타다 코이치, 고분자 가공, 36, 366 (1987), 히가시무라 토시노부, 사와모토 미츠오, 고분자 논문집, 46, 189 (1989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), 아이다 타쿠조, 이노우에 쇼헤이, 유기 합성 화학, 43, 300 (1985), D. Y. Sogoh, W. R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987) 에 기재된 방법을 채용할 수 있다.
아크릴계 고분자 분산제는 A-B 블록 공중합체여도 되고, B-A-B 블록 공중합체여도 되고, 그 공중합체를 구성하는 A 블록/B 블록비는 1/99 ∼ 80/20, 특히 5/95 ∼ 60/40 (질량비) 인 것이 바람직하고, 이 범위 내로 함으로써 분산성과 보존 안정성의 밸런스의 확보를 할 수 있는 경향이 있다.
A-B 블록 공중합체, B-A-B 블록 공중합체 1 g 중의 4 급 암모늄염기의 양은, 0.1 ∼ 10 mmol 인 것이 바람직하고, 이 범위 내로 함으로써 양호한 분산성을 확보할 수 있는 경향이 있다.
블록 공중합체의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 1000 ∼ 100000 의 범위가 바람직하다. 상기 범위 내로 함으로써 양호한 분산성을 확보할 수 있는 경향이 있다.
4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 경우, 고분자 분산제의 구체적인 구조에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서는, 하기 일반식 (e1) 로 나타내는 반복 단위 (이하,「반복 단위 (e1)」이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 48]
식 (e1) 중, R31 ∼ R33 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기를 나타내고 ;
R31 ∼ R33 중 2 개 이상이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 되고 ;
R34 는 수소 원자 또는 메틸기이고 ;
X 는 2 가의 연결기이고 ;
Y- 는 카운터 아니온이다.
식 (e1) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알킬기의 탄소수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 6 이 보다 바람직하다.
알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기를 들 수 있고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기가 보다 바람직하다. 알킬기는, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 되고, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.
식 (e1) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 6 이상이 바람직하고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 아릴기의 탄소수는 6 ∼ 16 이 바람직하고, 6 ∼ 12 가 보다 바람직하다.
아릴기로는, 예를 들어, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기를 들 수 있고, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기가 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기가 보다 바람직하다.
식 (e1) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 7 이상이 바람직하고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 아르알킬기의 탄소수는 7 ∼ 16 이 바람직하고, 7 ∼ 12 가 보다 바람직하다.
아르알킬기로는, 예를 들어, 페닐메틸기 (벤질기), 페닐에틸기 (페네틸기), 페닐프로필기, 페닐부틸기, 페닐이소프로필기를 들 수 있고, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 페닐부틸기가 바람직하고, 페닐메틸기, 페닐에틸기가 보다 바람직하다.
분산성의 관점에서, R31 ∼ R33 이 각각 독립적으로, 알킬기, 아르알킬기가 바람직하고, 구체적으로는, R31 및 R33 이 각각 독립적으로, 메틸기, 에틸기이고, 또한, R32 가 페닐메틸기, 페닐에틸기인 것이 바람직하고, R31 및 R33 이 메틸기이고, 또한, R32 가 페닐메틸기인 것이 보다 바람직하다.
고분자 분산제가 관능기로서 3 급 아민을 갖는 경우, 분산성의 관점에서는, 하기 일반식 (e2) 로 나타내는 반복 단위 (이하,「반복 단위 (e2)」라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 49]
식 (e2) 중, R35 및 R36 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이고 ;
R35 및 R36 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 되고 ;
R37 은 수소 원자 또는 메틸기이고 ;
Z 는 2 가의 연결기이다.
식 (e2) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기로는, 식 (e1) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 알킬기를 바람직하게 채용할 수 있다.
식 (e2) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기로는, 상기 식 (e1) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 아릴기를 바람직하게 채용할 수 있다.
식 (e2) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기로는, 상기 식 (e1) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 아르알킬기를 바람직하게 채용할 수 있다.
R35 및 R36 이 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기인 것이 보다 바람직하다.
식 (e1) 의 R31 ∼ R33 및 식 (e2) 의 R35 및 R36 에 있어서의 알킬기, 아르알킬기 또는 아릴기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 할로겐 원자, 알콕시기, 벤조일기, 수산기를 들 수 있다.
식 (e1) 및 식 (e2) 에 있어서, 2 가의 연결기 X 및 Z 로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴렌기, -CONH-R43- 기, -COO-R44- 기 (단, R43 및 R44 는 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 2 ∼ 10 의 에테르기 (알킬옥시알킬기) 이다) 를 들 수 있고, 바람직하게는 -COO-R44- 기이다.
식 (e1) 에 있어서, 카운터 아니온의 Y- 로는, 예를 들어, Cl-, Br-, I-, ClO4 -, BF4 -, CH3COO-, PF6 - 를 들 수 있다.
식 (e1) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 식 (e1) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율과 식 (e2) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율의 합계에 대하여, 바람직하게는 60 몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 50 몰% 이하이고, 더욱 바람직하게는 40 몰% 이하이고, 특히 바람직하게는 35 몰% 이하이고, 또, 바람직하게는 5 몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 10 몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 20 몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 30 몰% 이상이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 식 (e1) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율과 식 (e2) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율의 합계에 대한, 식 (e1) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율 5 ∼ 60 몰% 가 바람직하고, 10 ∼ 50 몰% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 40 몰% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 35 몰% 가 특히 바람직하다.
고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 식 (e1) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 5 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 50 몰% 이하인 것이 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 15 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 식 (e1) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 1 ∼ 50 몰% 가 바람직하고, 5 ∼ 30 몰% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 20 몰% 가 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 몰% 가 특히 바람직하다.
고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 식 (e2) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 5 몰% 이상인 것이 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 15 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 20 몰% 이상인 것이 특히 바람직하고, 또, 60 몰% 이하인 것이 바람직하고, 40 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 25 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 식 (e2) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 5 ∼ 60 몰% 가 바람직하고, 10 ∼ 40 몰% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 30 몰% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 25 몰% 가 특히 바람직하다.
고분자 분산제는, 용매 등의 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 일반식 (e3) 으로 나타내는 반복 단위 (이하,「반복 단위 (e3)」이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 50]
식 (e3) 중, R40 은 에틸렌기 또는 프로필렌기이고 ;
R41 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기이고 ;
R42 는 수소 원자 또는 메틸기이고 ;
n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.
식 (e3) 의 R41 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알킬기의 탄소수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 6 이 보다 바람직하다.
알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기를 들 수 있고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기가 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지상 중 어느 것이어도 되고, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.
식 (e3) 에 있어서의 n 은 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산성의 관점에서, 1 이상이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 5 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, n 으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하다.
고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 식 (e3) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 2 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 4 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 30 몰% 이하인 것이 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기 범위 내인 경우에는 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산 안정성의 양립이 가능해지는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (e3) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 1 ∼ 30 몰% 가 바람직하고, 2 ∼ 20 몰% 가 보다 바람직하고, 4 ∼ 10 몰% 가 더욱 바람직하다.
고분자 분산제는, 분산제의 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 일반식 (e4) 로 나타내는 반복 단위 (이하,「반복 단위 (e4)」라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 51]
식 (e4) 중, R38 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이고 ;
R39 는 수소 원자 또는 메틸기이다.
식 (e4) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하고, 4 이상인 것이 보다 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 8 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 알킬기의 탄소수는 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 8 이 보다 바람직하고, 4 ∼ 8 이 더욱 바람직하다.
알킬기의 구체예로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기를 들 수 있고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기가 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지상 중 어느 것이어도 되고, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.
식 (e4) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 6 이상이 바람직하고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 8 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 아릴기의 탄소수는 6 ∼ 16 이 바람직하고, 6 ∼ 12 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 12 가 더욱 바람직하다.
아릴기로는, 예를 들어, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기를 들 수 있고, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기가 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기가 보다 바람직하다.
식 (e4) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 7 이상이 바람직하고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 아르알킬기의 탄소수는, 7 ∼ 16 이 바람직하고, 7 ∼ 12 가 보다 바람직하고, 7 ∼ 10 이 더욱 바람직하다.
아르알킬기로는, 예를 들어, 페닐메틸기 (벤질기), 페닐에틸기 (페네틸기), 페닐프로필기, 페닐부틸기, 페닐이소프로필기를 들 수 있고, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 페닐부틸기인 것이 바람직하고, 페닐메틸기, 페닐에틸기인 것이 보다 바람직하다.
용제 상용성과 분산 안정성의 관점에서, R38 이 알킬기, 아르알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 페닐메틸기인 것이 보다 바람직하다.
R38 에 있어서의, 알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 할로겐 원자, 알콕시기를 들 수 있다.
아릴기, 아르알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 알킬기, 할로겐 원자, 알콕시기를 들 수 있다.
R38 로 나타내는 알킬기에는, 직사슬형 및 분기 사슬형 모두 포함된다.
고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 식 (e4) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은, 분산성의 관점에서, 30 몰% 이상인 것이 바람직하고, 40 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 50 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 80 몰% 이하인 것이 바람직하고, 70 몰% 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 식 (e4) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 30 ∼ 80 몰% 가 바람직하고, 40 ∼ 70 몰% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 70 몰% 가 더욱 바람직하다.
고분자 분산제는, 반복 단위 (e1), 반복 단위 (e2), 반복 단위 (e3) 및 반복 단위 (e4) 이외의 반복 단위를 갖고 있어도 된다. 그러한 반복 단위의 예로는, 예를 들어, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다.
고분자 분산제는, 분산성을 보다 높인다는 관점에서, 반복 단위 (e1) 및 반복 단위 (e2) 를 갖는 A 블록과, 반복 단위 (e1) 및 반복 단위 (e2) 를 갖지 않는 B 블록을 갖는, 블록 공중합체인 것이 바람직하다. 블록 공중합체는, A-B 블록 공중합체 또는 B-A-B 블록 공중합체인 것이 바람직하다. A 블록에 4 급 암모늄염기뿐만 아니라 3 급 아미노기도 도입함으로써, 분산제의 분산 능력이 현저하게 향상되는 경향이 있다. 또, B 블록이 반복 단위 (e3) 을 갖는 것이 바람직하고, 추가로 반복 단위 (e4) 를 갖는 것이 보다 바람직하다.
A 블록 중에 있어서, 반복 단위 (e1) 및 반복 단위 (e2) 는, 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 반복 단위 (e1) 및 반복 단위 (e2) 는, 1 개의 A 블록 중에 각각 2 종 이상 함유되어 있어도 되고, 그 경우, 각각의 반복 단위는, 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.
반복 단위 (e1) 및 반복 단위 (e2) 이외의 반복 단위가, A 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위로는, 예를 들어, 전술한 (메트)아크릴산에스테르계 단량체 유래의 반복 단위를 들 수 있다. 반복 단위 (e1) 및 반복 단위 (e2) 이외의 반복 단위의, A 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 A 블록 중에 함유되지 않는 것이 바람직하다.
반복 단위 (e3) 및 (e4) 이외의 반복 단위가 B 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위로는, 예를 들어, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다. 반복 단위 (e3) 및 반복 단위 (e4) 이외의 반복 단위의, B 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 B 블록 중에 함유되지 않는 것이 바람직하다.
분산제의 아민가는 1 ∼ 100 mgKOH/g 이 바람직하고, 분산성의 관점에서, 보다 바람직하게는 10 mgKOH/g 이상, 더욱 바람직하게는 30 mgKOH/g 이상, 특히 바람직하게는 50 mgKOH/g 이상, 또, 보다 바람직하게는 90 mgKOH/g 이하, 더욱 바람직하게는 80 mgKOH/g 이하, 특히 바람직하게는 75 mgKOH/g 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 분산제의 아민가는 1 ∼ 100 mgKOH/g 이 바람직하고, 10 ∼ 90 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 30 ∼ 80 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 50 ∼ 75 mgKOH/g 이 특히 바람직하다.
분산제의 아민가는, 분산제 시료 중의 용제를 제외한 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내고, 다음의 방법에 의해 측정한다.
100 mL 의 비커에 분산제 시료의 0.5 ∼ 1.5 g 을 정밀 칭량하고, 50 mL 의 아세트산으로 용해한다. pH 전극을 구비한 자동 적정 장치를 사용하여, 이 용액을 0.1 mol/L 의 HClO4 아세트산 용액으로 중화 적정한다. 적정 pH 곡선의 변곡점을 적정 종점으로 하여 다음 식에 의해 아민가를 구한다.
아민가 [mgKOH/g] = (561 × V)/(W × S) 〔단, W : 분산제 시료 칭량량 [g], V : 적정 종점에서의 적정량 [mL], S : 분산제 시료의 고형분 농도 [질량%] 를 나타낸다〕
분산제의 산가는, 그 산가의 바탕이 되는 산성기의 유무 및 종류에 따라 다르기도 하지만, 일반적으로 낮은 편이 바람직하고, 10 mgKOH/g 이하가 바람직하다.
분산제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물이 분산제를 함유하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 1 질량% 이상이 바람직하고, 3 질량% 이상이 보다 바람직하고, 5 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 7 질량% 이상이 특히 바람직하다. 또, 12 질량% 이하가 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 바람직하고, 9 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 8 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 응집물에 의한 잔류물 발생을 억제할 수 있는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물이 분산제를 함유하는 경우, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 분산제의 함유 비율은 1 ∼ 12 질량% 가 바람직하고, 3 ∼ 10 질량% 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 9 질량% 가 더욱 바람직하고, 7 ∼ 8 질량% 가 특히 바람직하다.
[1-1-6] 안료 유도체
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에는, 분산성, 보존성 향상을 위해, 분산 보조제로서 안료 유도체를 함유시켜도 된다.
안료 유도체로는, 예를 들어, 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 퀴노프탈론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 안트라퀴논계, 인단트렌계, 페릴렌계, 페리논계, 디케토피롤로피롤계, 디옥사진계의 유도체를 들 수 있지만, 그 중에서도 프탈로시아닌계, 퀴노프탈론계가 바람직하다.
안료 유도체의 치환기로는, 예를 들어, 술폰산기, 술폰아미드기 및 그 4 급 염, 프탈이미드메틸기, 디알킬아미노알킬기, 수산기, 카르복시기, 아미드기 등이 안료 골격에 직접 또는 알킬기, 아릴기, 복소 고리기 등을 개재하여 결합한 것을 들 수 있고, 바람직하게는 술폰산기이다. 또한 이들 치환기는 하나의 안료 골격으로 복수 치환되어 있어도 된다.
안료 유도체로는, 예를 들어, 프탈로시아닌의 술폰산 유도체, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체, 안트라퀴논의 술폰산 유도체, 퀴나크리돈의 술폰산 유도체, 디케토피롤로피롤의 술폰산 유도체, 디옥사진의 술폰산 유도체를 들 수 있다.
안료 유도체는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
[1-1-7] 계면 활성제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에는, 도포성 향상을 위해, 계면 활성제를 함유시켜도 된다.
계면 활성제로는, 예를 들어, 아니온계 계면 활성제, 카티온계 계면 활성제, 비이온계 계면 활성제, 양쪽성 계면 활성제를 사용할 수 있다. 여러 특성에 악영향을 미칠 가능성이 낮은 점에서, 비이온계 계면 활성제가 바람직하고, 불소계나 실리콘계의 계면 활성제가 도포성의 면에서 효과적이다.
시판품으로는, 예를 들어, BM Chemie 사 제조「BM-1000」,「BM-1100」, DIC 사 제조「메가팍 F-142D」,「메가팍 F-172」,「메가팍 F-173」,「메가팍 F-183」,「메가팍 F-470」,「메가팍 F-475」,「메가팍 F-478」,「메가팍 F-554」,「메가팍 F-559」, 쓰리엠 재팬사 제조「FC430」, 네오스사 제조「DFX-18」을 들 수 있다.
실리콘계 계면 활성제로는, 예를 들어, 도레이·다우코닝사 제조「DC3PA」,「SH7PA」,「DC11PA」,「SH21PA」,「SH28PA」,「SH29PA」,「8032Additive」,「SH8400」, 빅케미사 제조「BYK300」,「BYK323」,「BYK325」,「BYK330」, 신에츠 실리콘사 제조「KP340」의 시판품을 들 수 있다.
계면 활성제로서, 불소계 계면 활성제 및 실리콘계 계면 활성제 이외의 것을 포함하고 있어도 되고, 그 밖의 계면 활성제로는, 예를 들어, 비이온계 계면 활성제, 아니온계 계면 활성제, 카티온계 계면 활성제, 양쪽성 계면 활성제를 들 수 있다.
계면 활성제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다. 그 중에서도, 실리콘계 계면 활성제/불소계 계면 활성제의 조합이 바람직하다. 이 실리콘계 계면 활성제/불소계 계면 활성제의 조합으로는, 예를 들어, 빅케미사 제조「BYK-300」또는「BYK-330」/DIC 사 제조「F-475」「F-478」「F-554」또는「F-559」를 들 수 있다.
[1-1-8] 발액제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, 발액제를 함유하고 있어도 된다. 본 발명의 감광성 착색 수지 조성물을 격벽재로서 사용하여 격벽을 제조하고, 잉크젯법으로 유기 전계 발광 소자를 제조하는 경우에는, 발액제를 함유하는 것이 바람직하다. 발액제를 함유함으로써 그것이 격벽의 표면에 발액성을 부여할 수 있는 점에서, 얻어지는 격벽을 유기층의 화소마다의 혼색을 방지하는 것으로 할 수 있다.
발액제로는, 실리콘 함유 화합물이나 불소계 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는, 가교기를 갖는 발액제 (이하,「가교기 함유 발액제」라고 칭하는 경우가 있다) 를 들 수 있다. 가교기로는, 에폭시기 또는 에틸렌성 불포화기를 들 수 있고, 현상액의 발액 성분의 유출 억제의 관점에서, 바람직하게는 에틸렌성 불포화기이다.
가교기 함유 발액제를 사용하는 경우에는, 형성한 도막을 노광할 때에 그 표면에서의 가교 반응을 가속할 수 있고, 발액제가 현상 처리로 유출되기 어려워져, 그 결과, 얻어지는 격벽을 높은 발액성을 나타내는 것으로 할 수 있다고 생각된다.
발액제로서 불소계 화합물을 사용한 경우에는, 당해 불소계 화합물이 격벽의 표면에 배향되어, 잉크의 번짐이나 혼색을 방지하는 기능을 하는 경향이 있다. 더욱 상세하게는, 불소 원자를 갖는 기가, 잉크를 튕겨내, 잉크가 격벽을 넘어 인접하는 영역에 진입하는 것에 의한 잉크의 번짐이나 혼색을 방지하는 기능을 하는 경향이 있다.
가교기 함유 발액제, 특히 에틸렌성 불포화기 함유 불소계 화합물로는, 예를 들어, 퍼플루오로알킬술폰산, 퍼플루오로알킬카르복실산, 퍼플루오로알킬알킬렌옥사이드 부가물, 퍼플루오로알킬트리알킬암모늄염, 퍼플루오로알킬기와 친수기를 포함하는 올리고머, 퍼플루오로알킬기와 친유기를 포함하는 올리고머, 퍼플루오로알킬기와 친수기와 친유기를 포함하는 올리고머, 퍼플루오로알킬과 친수기를 포함하는 우레탄, 퍼플루오로알킬에스테르, 퍼플루오로알킬인산에스테르 등의 불소 함유 유기 화합물을 들 수 있다.
불소 함유 화합물의 시판품으로는, 예를 들어, DIC 사 제조「DEFENSAMCF-300」,「DEFENSAMCF-310」,「DEFENSAMCF-312」,「DEFENSAMCF-323」,「메가팍 RS-72-K」, 쓰리엠 재팬사 제조「플루오라드 FC-431」,「플루오라드 FC-4430」,「플루오라드 FC-4432」, 아사히 가라스사 제조「아사히가드 AG710」,「서플론 S-382」,「서플론 SC-101」,「서플론 SC-102」,「서플론 SC-103」,「서플론 SC-104」,「서플론 SC-105」,「서플론 SC-106」, 다이킨 공업사 제조「옵툴 DAC-HP」,「HP-650」을 들 수 있다.
발액제로서 불소계 화합물을 사용하는 경우에 있어서, 발액제 중의 불소 원자 함유 비율은 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 발액제 중의 불소 원자 함유 비율로는, 1 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또, 50 질량% 이하가 바람직하고, 25 질량% 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 높은 접촉각을 나타내는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 화소부로의 유출을 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 25 질량% 가 보다 바람직하다.
발액제의 분자량은 특별히 제한되지 않고, 저분자량의 화합물이어도 되고, 고분자량체여도 된다. 고분자량체의 발액제 쪽이, 소성에 의한 발액제의 유동성이 억제되기 때문에, 격벽 외로 발액제가 유출되는 것을 억제할 수 있는 경향이 있기 때문에 바람직하고, 이러한 관점에서 발액제의 수평균 분자량은, 100 이상이 바람직하고, 500 이상이 보다 바람직하고, 100000 이하가 바람직하고, 10000 이하가 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 100 ∼ 100000 이 바람직하고, 500 ∼ 10000 이 보다 바람직하다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물이 발액제를 함유하는 경우, 본 발명의 감광성 착색 수지 조성물 중의 발액제의 함유 비율은, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대해 0.01 질량% 이상이 바람직하고, 0.05 질량% 이상이 보다 바람직하고, 0.1 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또, 1 질량% 이하가 바람직하고, 0.5 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.3 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 높은 발액성을 나타내는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 발액제의 화소부로의 유출을 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.01 ∼ 1 질량% 가 바람직하고, 0.05 ∼ 0.5 질량% 가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 0.3 질량% 가 더욱 바람직하다.
[1-1-9] 자외선 흡수제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, 자외선 흡수제를 함유해도 된다. 자외선 흡수제는, 노광에 사용되는 광원의 특정한 파장을 자외선 흡수제에 의해 흡수시킴으로써, 광경화 분포를 제어할 목적으로 첨가되는 것이다. 자외선 흡수제의 첨가에 의해, 현상 후의 격벽 측면의 수직성을 개선하거나, 현상 후에 비노광부에 남는 잔류물을 없애거나 하는 등의 효과가 얻어진다. 자외선 흡수제로는, (b) 광중합 개시제의 광 흡수의 저해의 관점에서, 예를 들어, 파장 250 ㎚ 내지 400 ㎚ 의 사이에 흡수 극대를 갖는 화합물을 사용할 수 있다.
자외선 흡수제로는, 벤조트리아졸계 화합물 및 트리아진계 화합물 중 어느 일방 또는 양방을 포함하는 것이 바람직하다. 벤조트리아졸계 화합물 및 트리아진계 화합물 중 어느 일방 또는 양방을 포함함으로써 개시제의 막바닥부에서의 광 흡수율이 감소하고, 도막 하부의 선폭이 작아짐으로써 격벽 측면의 수직성 효과가 얻어지는 것으로 생각된다.
벤조트리아졸계 화합물로는, 예를 들어, 2-(5메틸-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-5-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 3-[3-tert-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산옥틸, 3-[3-tert-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산에틸헥실, 2-[2-하이드록시-3,5-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-(3-t부틸-5-메틸-2-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3,5-디-t-아밀-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀, 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산헵틸, 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산옥틸, 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산노닐을 들 수 있다.
시판되고 있는 벤조트리아졸계 화합물로는, 예를 들어, 스미소브 (등록상표, 이하 동일) 200, 스미소브 250, 스미소브 300, 스미소브 340, 스미소브 350 (스미토모 화학사 제조), JF77, JF78, JF79, JF80, JF83 (죠호쿠 화학 공업사 제조), TINUVIN (등록상표, 이하 동일) PS, TINUVIN99-2, TINUVIN109, TINUVIN384-2, TINUVIN326, TINUVIN900,「TINUVIN928」, TINUVIN1130 (BASF 사 제조), EVERSORB70, EVERSORB71, EVERSORB72, EVERSORB73, EVERSORB74, EVERSORB75, EVERSORB76, EVERSORB234, EVERSORB77, EVERSORB78, EVERSORB80, EVERSORB81 (타이완 영광 화학 공업사 제조), 토미소브 (등록상표, 이하 동일) 100, 토미소브 600 (에이피아이 코포레이션사 제조), SEESORB (등록상표, 이하 동일) 701, SEESORB702, SEESORB703, SEESORB704, SEESORB706, SEESORB707, SEESORB709 (시프로 화성사 제조), RUVA-93 (오츠카 화학사 제조) 을 들 수 있다.
트리아진계 화합물로는, 예를 들어, 2-[4,6-디(2,4-자일릴)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-옥틸옥시페놀, 2-[4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-[3-(도데실옥시)-2-하이드록시프로폭시]페놀, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진과 2-에틸헥실글리시딜에테르의 반응 생성물, 2,4-비스[2-하이드록시-4-부톡시페닐]-6-(2,4-디부톡시페닐)-1,3-5-트리아진을 들 수 있다. 격벽 측면의 수직성과 해상성의 관점에서, 하이드록시페닐트리아진 화합물이 바람직하다.
시판되고 있는 트리아진계 화합물로는, 예를 들어, TINUVIN400, TINUVIN405, TINUVIN460, TINUVIN477, TINUVIN479 (BASF 사 제조) 를 들 수 있다.
그 밖의 자외선 흡수제로는, 예를 들어, 벤조페논 화합물, 벤조에이트 화합물, 계피산 유도체, 나프탈렌 유도체, 안트라센 및 그 유도체, 디나프탈렌 화합물, 페난트롤린 화합물, 염료를 들 수 있다.
예를 들어, 스미소브 130 (스미토모 화학사 제조), EVERSORB10, EVERSORB11, EVERSORB12 (타이완 영광 화학 공업사 제조), 토미소브 800 (에이피아이 코포레이션사 제조), SEESORB100, SEESORB101, SEESORB101S, SEESORB102, SEESORB103, SEESORB105, SEESORB106, SEESORB107, SEESORB151 (시프로 화성사 제조) 등의 벤조페논 화합물 ; 스미소브 400 (스미토모 화학사 제조), 살리실산페닐 등의 벤조에이트 화합물 ; 계피산2-에틸헥실, 파라메톡시계피산2-에틸헥실, 메톡시계피산이소프로필, 메톡시계피산이소아밀 등의 계피산 유도체 ; α-나프톨, β-나프톨, α-나프톨메틸에테르, α-나프톨에틸에테르, 1,2-디하이드록시나프탈렌, 1,3-디하이드록시나프탈렌, 1,4-디하이드록시나프탈렌, 1,5-디하이드록시나프탈렌, 1,6-디하이드록시나프탈렌, 1,7-디하이드록시나프탈렌, 1,8-디하이드록시나프탈렌, 2,3-디하이드록시나프탈렌, 2,6-디하이드록시나프탈렌, 2,7-디하이드록시나프탈렌 등의 나프탈렌 유도체 ; 안트라센, 9,10-디하이드록시안트라센 등의 안트라센 및 그 유도체 ; 아조계 염료, 벤조페논계 염료, 아미노케톤계 염료, 퀴놀린계 염료, 안트라퀴논계 염료, 디페닐시아노아크릴레이트계 염료, 트리아진계 염료, p-아미노벤조산계 염료 등의 염료 ; 를 들 수 있다. 해상성의 관점에서, 계피산 유도체, 나프탈렌 유도체를 사용하는 것이 바람직하고, 계피산 유도체를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
자외선 흡수제로는, 테이퍼 형상의 관점에서, 벤조트리아졸 화합물 및 하이드록시페닐트리아진 화합물 중 어느 일방 또는 양방을 사용하는 것이 바람직하고, 벤조트리아졸 화합물이 특히 바람직하다.
자외선 흡수제로는, 1 종류의 화합물을 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상의 화합물을 병용해도 된다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물이 자외선 흡수제를 함유하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 0.01 질량% 이상이 바람직하고, 0.05 질량% 이상이 보다 바람직하고, 0.1 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 0.5 질량% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 1 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 15 질량% 이하가 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 바람직하고, 5 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 3 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 격벽 측면의 수직성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 경화성이 높아지는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물이 자외선 흡수제를 함유하는 경우, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 자외선 흡수제의 함유 비율은 0.01 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 0.05 ∼ 10 질량% 가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 5 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.5 ∼ 3 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 1 ∼ 3 질량% 가 특히 바람직하다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물이 자외선 흡수제를 함유하는 경우, (b) 광중합 개시제에 대한 배합비로는, (b) 광중합 개시제 100 질량부에 대한 자외선 흡수제의 배합량으로서, 1 질량부 이상이 바람직하고, 10 질량부 이상이 보다 바람직하고, 30 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 50 질량부 이상이 보다 더욱 바람직하고, 80 질량부 이상이 특히 바람직하고, 또, 500 질량부 이하가 바람직하고, 300 질량부 이하가 보다 바람직하고, 200 질량부 이하가 더욱 바람직하고, 100 질량부 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 밀착성이 높아지는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 감광성 착색 수지 조성물이 자외선 흡수제를 함유하는 경우, (b) 광중합 개시제 100 질량부에 대한 자외선 흡수제의 배합량으로서 1 ∼ 500 질량부가 바람직하고, 10 ∼ 300 질량부가 보다 바람직하고, 30 ∼ 200 질량부가 더욱 바람직하고, 50 ∼ 100 질량부가 보다 더욱 바람직하고, 80 ∼ 100 질량부가 특히 바람직하다.
[1-1-10] 중합 금지제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, 중합 금지제를 함유하는 것이 바람직하다. 중합 금지제를 함유함으로써 그것이 라디칼 중합을 저해하는 점에서, 얻어지는 격벽의 테이퍼각을 크게 할 수 있는 경향이 있다.
중합 금지제로는, 예를 들어, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논, 메톡시페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸 (BHT) 을 들 수 있다. 중합 금지 능력의 관점에서, 하이드로퀴논, 메톡시페놀이 바람직하고, 메틸하이드로퀴논이 보다 바람직하다.
중합 금지제는, 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 것이 바람직하다. 통상적으로 (a) 알칼리 가용성 수지를 제조할 때에, 수지 중에 중합 금지제가 포함되는 경우가 있으며, 그대로 사용해도 되고, 수지 중에 포함되는 중합 금지제 외에, 그것과 동일하거나, 또는 상이한 중합 금지제를 감광성 착색 수지 조성물 제조시에 첨가해도 된다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물이 중합 금지제를 함유하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 0.0005 질량% 이상이 바람직하고, 0.001 질량% 이상이 보다 바람직하고, 0.01 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또, 0.1 질량% 이하가 바람직하고, 0.08 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.05 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 해상성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 경화성이 향상되는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물이 중합 금지제를 함유하는 경우, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 중합 금지제의 함유 비율은 0.0005 ∼ 0.1 질량% 가 바람직하고, 0.001 ∼ 0.08 질량% 가 보다 바람직하고, 0.01 ∼ 0.05 질량% 가 더욱 바람직하다.
[1-1-11] 열중합 개시제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에는, 열중합 개시제가 함유되어 있어도 된다. 열중합 개시제를 함유함으로써, 도막의 가교도를 높게 할 수 있는 경향이 있다. 열중합 개시제의 구체예로는, 예를 들어, 아조계 화합물, 유기 과산화물, 과산화수소를 들 수 있다.
열중합 개시제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
광중합 개시제에 해상성의 향상이나 도막의 가교 밀도의 증대를 기대하여 열중합 개시제를 병용하는 경우, 열중합 개시제의 함유 비율의 합계가, 감광성 착색 수지 조성물 중의 광중합 개시제의 함유 비율이 되도록 하는 것이 바람직하고, 또, 광중합 개시제와 열중합 개시제의 병용 비율로는, 잔류물을 저감시키는 관점에서, 광중합 개시제 100 질량부에 대해 열중합 개시제를 5 ∼ 300 질량부로 하는 것이 바람직하다.
[1-1-12] 아미노 화합물
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에는, 열경화를 촉진시키기 위해 아미노 화합물이 포함되어 있어도 된다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물이 아미노 화합물을 함유하는 경우, 아미노 화합물의 함유 비율로는, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 40 질량% 이하가 바람직하고, 30 질량% 이하가 보다 바람직하고, 또, 0.5 질량% 이상이 바람직하고, 1 질량% 이상이 보다 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써 보존 안정성을 유지할 수 있는 경향이 있고, 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 열경화성을 확보할 수 있는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물이 아미노 화합물을 함유하는 경우, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 함유 비율은, 0.5 ∼ 40 질량% 가 바람직하고, 1 ∼ 30 질량% 가 보다 바람직하다.
아미노 화합물로는, 예를 들어, 관능기로서 메틸올기, 그것을 탄소수 1 ∼ 8 의 알코올 축합 변성한 알콕시메틸기를 적어도 2 개 갖는 아미노 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 멜라민과 포름알데히드를 중축합시킨 멜라민 수지 ; 벤조구아나민과 포름알데히드를 중축합시킨 벤조구아나민 수지 ; 글리콜우릴과 포름알데히드를 중축합시킨 글리콜우릴 수지 ; 우레아와 포름알데히드를 중축합시킨 우레아 수지 ; 멜라민, 벤조구아나민, 글리콜우릴, 또는 우레아 등의 2 종 이상과 포름알데히드를 공중축합시킨 수지 ; 상기 서술한 수지의 메틸올기를 알코올 축합 변성한 변성 수지를 들 수 있다.
아미노 화합물은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, 아미노 화합물로는 멜라민 수지 및 그 변성 수지가 바람직하고, 메틸올기의 변성 비율이, 70 % 이상의 변성 수지가 더욱 바람직하고, 80 % 이상의 변성 수지가 특히 바람직하다.
아미노 화합물의 구체예로서, 멜라민 수지 및 그 변성 수지로는, 예를 들어, 사이테크사 제조의「사이멜」 (등록상표, 이하 동일) 300, 301, 303, 350, 736, 738, 370, 771, 325, 327, 703, 701, 266, 267, 285, 232, 235, 238, 1141, 272, 254, 202, 1156, 1158, 산와 케미컬사 제조의「니칼락」 (등록상표, 이하 동일) MW-390, MW-100LM, MX-750LM, MW-30M, MX-45, MX-302 를 들 수 있다.
벤조구아나민 수지 및 그 변성 수지로는, 예를 들어, 사이테크사 제조의「사이멜」1123, 1125, 1128 을 들 수 있다.
글리콜우릴 수지 및 그 변성 수지로는, 예를 들어, 사이테크사 제조의「사이멜」1170, 1171, 1174, 1172, 산와 케미컬사 제조의「니칼락」MX-270 을 들 수 있다.
우레아 수지 및 그 변성 수지로는, 예를 들어, 사이테크사 제조의「UFR」 (등록상표) 65, 300, 산와 케미컬사 제조의「니칼락」MX-290 을 들 수 있다.
[1-1-13] 실란 커플링제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에는, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해, 실란 커플링제를 첨가해도 된다. 실란 커플링제의 종류로는, 에폭시계, 메타크릴계, 아미노계, 이미다졸계 등 다양한 것을 사용할 수 있지만, 밀착성 향상의 관점에서, 특히 에폭시계, 이미다졸계의 실란 커플링제가 바람직하다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물이 실란 커플링제를 함유하는 경우, 실란 커플링제의 함유량은, 밀착성의 관점에서, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 20 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 보다 바람직하다.
[1-1-14] 무기 충전재
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, 경화물로서의 강도의 향상과 함께, 알칼리 가용성 수지와의 적당한 상호 작용 (매트릭스 구조의 형성) 에 의한 도막의 우수한 수직성과 테이퍼각의 향상 등을 목적으로 하여, 무기 충전재를 함유해도 된다.
무기 충전재로는, 예를 들어, 탤크, 실리카, 알루미나, 황산바륨, 산화마그네슘, 산화티탄, 혹은, 이들을 각종 실란 커플링제에 의해 표면 처리한 것을 들 수 있다.
무기 충전재의 평균 입자경으로는, 0.005 ∼ 2 ㎛ 가 바람직하고, 0.01 ∼ 1 ㎛ 가 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서, 평균 입자경이란, 베크만·쿨터사 제조 등의 레이저 회절 산란 입도 분포 측정 장치로 측정한 값이다. 무기 충전재 중, 특히, 실리카졸 및 실리카졸 변성물은, 분산 안정성과 함께 테이퍼각의 향상 효과가 우수한 경향이 있어 바람직하다. 본 발명의 감광성 착색 수지 조성물이 무기 충전재를 포함하는 경우, 무기 충전재의 함유량으로는, 해상성의 관점에서, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대하여, 5 질량% 이상이 바람직하고, 10 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또, 80 질량% 이하가 바람직하고, 70 질량% 이하가 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물이 무기 충전재를 포함하는 경우, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 함유 비율은 5 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하다.
[1-1-15] 밀착성 향상제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물에는, 기판과의 밀착성을 부여할 목적으로 인산계의 에틸렌성 단량체를 함유시켜도 된다.
인산계의 에틸렌성 단량체로는, (메트)아크릴로일옥시기 함유 포스페이트류가 바람직하고, 하기 일반식 (g1), (g2), (g3) 으로 나타내는 화합물이 바람직하다.
[화학식 52]
식 (g1), (g2), (g3) 에 있어서, R51 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, l 및 l' 는 1 ∼ 10 의 정수, m 은 1, 2 또는 3 이다.
인산계 에틸렌성 단량체는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
인산계 에틸렌성 단량체를 사용하는 경우의 함유 비율은, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대해 0.02 질량% 이상이 바람직하고, 0.05 질량% 이상이 보다 바람직하고, 0.1 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 0.2 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 4 질량% 이하가 바람직하고, 3 질량% 이하가 보다 바람직하고, 2 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 1 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 기판과의 밀착성의 개선 효과가 충분해지는 경향이 있고, 한편 상기 상한값 이하로 함으로써 기판과의 밀착성의 악화를 억제하기 쉬운 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물이 인산계 에틸렌성 단량체를 포함하는 경우, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분에 대한 함유 비율은 0.02 ∼ 4 질량% 가 바람직하고, 0.05 ∼ 3 질량% 가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 2 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.2 ∼ 1 질량% 가 특히 바람직하다.
[1-1-16] 용제
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, 용제를 함유하고, 전술한 각 성분을 용제에 용해 또는 분산시킨 상태에서 사용되는 것이 바람직하다. 용제로는, 특별히 제한은 없지만, 예를 들어, 이하에 기재하는 유기 용제를 들 수 있다.
에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르와 같은 글리콜모노알킬에테르류 ;
에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르와 같은 글리콜디알킬에테르류 ;
에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 3-메톡시-1-부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트와 같은 글리콜알킬에테르아세테이트류 ;
에틸렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,4-부탄디올디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류 ;
시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류 ;
아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르와 같은 에테르류 ;
아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논과 같은 케톤류 ;
메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올과 같은 1 가 또는 다가 알코올류 ;
n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸과 같은 지방족 탄화수소류 ;
시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실과 같은 지환식 탄화수소류 ;
벤젠, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소류 ;
아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 아세트산아밀, 메틸이소부티레이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 벤조산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤과 같은 사슬형 또는 고리형 에스테르류 ;
3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산류 ;
부틸클로라이드, 아밀클로라이드와 같은 할로겐화 탄화수소류 ;
메톡시메틸펜타논과 같은 에테르케톤류 ;
아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 니트릴류 ;
테트라하이드로푸란, 디메틸테트라하이드로푸란, 디메톡시테트라하이드로푸란과 같은 테트라하이드로푸란류.
시판되는 용제로는, 예를 들어, 미네랄 스피릿, 발솔 #2, 아프코 #18 솔벤트, 아프코 티너, 소칼 솔벤트 No.1 및 No.2, 솔베쏘 #150, 셸 TS28 솔벤트, 카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 디글라임 (모두 상품명) 을 들 수 있다.
용제는, 감광성 착색 수지 조성물 중의 각 성분을 용해 또는 분산시킬 수 있는 것으로, 본 발명의 감광성 착색 수지 조성물의 사용 방법에 따라 선택된다. 도포성의 관점에서, 대기압하에 있어서의 비점이 60 ∼ 280 ℃ 의 범위인 용제를 선택하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 70 ℃ 이상, 260 ℃ 이하의 비점을 갖는 용제이고, 예를 들어, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시-1-부탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시-1-부틸아세테이트가 바람직하다.
용제는 1 종을 단독으로 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
용제는, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분의 비율이, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 특히 바람직하게는 25 질량% 이상, 또, 바람직하게는 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 50 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 40 질량% 이하, 특히 바람직하게는 35 질량% 이하가 되도록 사용되는 것이 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 도포 불균일의 발생을 억제할 수 있는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 이물질, 크레이터링 등의 발생을 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 용제는, 감광성 착색 수지 조성물의 전고형분의 비율이, 바람직하게는 10 ∼ 90 질량%, 보다 바람직하게는 15 ∼ 50 질량%, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 40 질량%, 특히 바람직하게는 25 ∼ 35 질량% 가 되도록 사용되는 것이 바람직하다.
[1-2] 감광성 착색 수지 조성물의 조제 방법
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, 상기의 각 성분을 교반기로 혼합함으로써 조제될 수 있다.
예를 들어, (d) 착색제로서 안료 등의 용제 불용 성분을 포함하는 경우에는, 미리 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼 밀, 롤 밀, 스톤 밀, 제트 밀, 호모게나이저 등을 사용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다. 분산 처리에 의해 (d) 착색제가 미립자화되기 때문에, 감광성 착색 수지 조성물의 도포 특성이 향상된다.
분산 처리는, 통상적으로 (d) 착색제, 용제, 및 분산제에 더하여, 분산 보조제 그리고 (a) 알칼리 가용성 수지의 일부 또는 전부를 병용한 계에서 실시하는 것이 바람직하다 (이하, 분산 처리에 제공하는 혼합물, 및 분산 처리에서 얻어진 조성물을「잉크」또는「안료 분산액」이라고 칭하는 경우가 있다). 특히 분산제로서 고분자 분산제를 사용하면, 얻어진 잉크 및 감광성 착색 수지 조성물의 시간 경과적 증점이 억제되는, 바꿔 말하면, 분산 안정성이 우수하므로 바람직하다.
감광성 착색 수지 조성물을 제조하는 공정에 있어서, (d) 착색제, 용제, 및 분산제를 적어도 함유하는 안료 분산액을 제조하는 것이 바람직하다.
안료 분산액에 사용할 수 있는 (d) 착색제, 용제, 및 분산제로는, 각각 감광성 착색 수지 조성물에 사용할 수 있는 것으로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 안료 분산액에 있어서의 (d) 착색제의 각 착색제의 함유 비율로는, 감광성 착색 수지 조성물에 있어서의 함유 비율로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.
샌드 그라인더로 (d) 착색제를 분산시키는 경우에는, 0.1 ∼ 8 ㎜ 정도의 입자경의 유리 비드 또는 지르코니아 비드가 바람직하게 사용된다. 분산 처리 조건은, 온도는 0 ℃ 내지 100 ℃ 가 바람직하고, 실온으로부터 80 ℃ 가 보다 바람직하다. 분산 시간은 액의 조성 및 분산 처리 장치의 사이즈 등에 의해 적정 시간이 상이하기 때문에 적절히 조절한다. 감광성 착색 수지 조성물의 20 도 경면 광택도 (JIS Z8741) 가 50 ∼ 300 의 범위가 되도록, 잉크의 광택을 제어하는 것이 분산의 기준이다.
잉크 중에 분산된 안료의 분산 입경은 0.03 ∼ 0.3 ㎛ 가 바람직하다. 분산 입경은, 예를 들어, 동적 광 산란법에 의해 측정된다. 동적 광 산란 (DLS) 에 의한 분산 입경 측정은, 충분히 희석된 감광성 착색 수지 조성물 (통상적으로는 희석하여, 안료 농도 0.005 ∼ 0.2 질량% 정도로 조제한다. 단, 측정 기기에 따라 추천된 농도가 있으면, 그 농도에 따른다) 에 대해 실시하고, 25 ℃ 에서 측정한다.
분산 처리에 의해 얻어진 잉크는, 감광성 착색 수지 조성물 중에 포함되는, 상기의 다른 성분과 혼합하여, 균일한 용액 또는 분산액으로 한다. 감광성 착색 수지 조성물의 제조 공정에 있어서는, 미세한 먼지가 액 중에 섞이는 경우가 있기 때문에, 얻어진 감광성 착색 수지 조성물은 필터 등에 의해 여과 처리하는 것이 바람직하다.
[2] 경화물, 격벽 및 그 형성 방법
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물을 경화시킴으로써, 본 발명의 경화물을 얻을 수 있다. 본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, 그 자신을 격벽재로서 격벽을 형성하기 위해 사용할 수 있고 특히 유기 전계 발광 소자의 유기층을 구획하기 위한 격벽을 형성하기 위해 바람직하게 사용할 수 있다.
본 발명의 감광성 착색 수지 조성물을 사용하여 격벽을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 격벽의 형성 방법으로는, 예를 들어, 감광성 착색 수지 조성물을, 기판 상에 도포하여, 감광성 착색 수지 조성물층을 형성하는 도포 공정과, 감광성 착색 수지 조성물층을 노광하는 노광 공정을 포함하는 방법을 들 수 있다. 이와 같은 뱅크의 형성 방법으로는, 예를 들어, 잉크젯법과 포토리소그래피법을 들 수 있다.
잉크젯법에서는, 용제에 의한 희석 등에 의해 점도 조정된 감광성 착색 수지 조성물을 잉크로서 사용하고, 소정의 격벽의 패턴을 따라 잉크젯법에 의해 잉크 액적을 기판 상에 토출함으로써 감광성 착색 수지 조성물을 기판 상에 도포하여 미경화의 격벽의 패턴을 형성한다. 그리고, 미경화의 격벽의 패턴을 노광하여, 기판 상에 경화된 격벽을 형성한다. 미경화의 격벽의 패턴의 노광은, 마스크를 사용하지 않는 것 이외에는, 후술하는 포토리소그래피법에 있어서의 노광 공정과 동일하게 실시된다.
포토리소그래피법에서는, 감광성 착색 수지 조성물을, 기판의 격벽이 형성되는 영역 전체면에 도포하여 감광성 착색 수지 조성물층을 형성한다. 형성된 감광성 착색 수지 조성물층을, 소정의 격벽의 패턴에 따라 노광한 후, 노광된 감광성 착색 수지 조성물층을 현상하여, 기판 상에 격벽이 형성된다.
포토리소그래피법에 있어서의, 감광성 착색 수지 조성물을 기판 상에 도포하는 도포 공정에서는, 격벽이 형성되어야 하는 기판 상에, 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너 (회전식 도포 장치), 커튼 플로 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 사용하여 감광성 착색 수지 조성물을 도포하고, 필요에 따라, 건조에 의해 용매를 제거하여, 감광성 착색 수지 조성물층을 형성한다.
노광 공정에서는, 네거티브형의 마스크를 이용하여, 감광성 착색 수지 조성물에 자외선, 엑시머 레이저광 등의 활성 에너지선을 조사하고, 감광성 착색 수지 조성물층을 뱅크의 패턴에 따라 부분적으로 노광한다. 노광에는, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 카본 아크등 등의 자외선을 발하는 광원을 사용할 수 있다. 노광량은 감광성 착색 수지 조성물의 조성에 따라 상이하기도 하지만, 예를 들어, 10 ∼ 400 mJ/㎠ 정도가 바람직하다.
현상 공정에서는, 격벽의 패턴에 따라 노광된 감광성 착색 수지 조성물층을 현상액으로 현상함으로써 격벽을 형성한다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 침지법, 스프레이법을 사용할 수 있다. 현상액으로는, 예를 들어, 디메틸벤질아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기계의 현상액이나, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4 급 암모늄염 등의 수용액을 들 수 있다. 현상액에는, 소포제나 계면 활성제를 첨가할 수도 있다.
현상 후의 격벽에는, 포스트베이크를 실시하여 가열 경화한다. 포스트베이크는, 150 ∼ 250 ℃ 에서 15 ∼ 60 분간 실시하는 것이 바람직하다.
격벽의 형성에 사용하는 기판은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 격벽이 형성된 기판을 사용하여 제조되는 유기 전계 발광 소자의 종류에 맞춰 적절히 선택된다. 바람직한 기판의 재료로는, 유리나, 각종 수지 재료를 들 수 있다. 수지 재료로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 ; 폴리에틸렌, 및 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 ; 폴리카보네이트 ; 폴리(메트)메타아크릴 수지 ; 폴리술폰 ; 폴리이미드를 들 수 있다. 내열성이 우수한 점에서 유리, 폴리이미드가 바람직하다. 또, 제조되는 유기 전계 발광 소자의 종류에 따라, 격벽이 형성되는 기판의 표면에는, 미리 ITO 나 ZnO 등의 투명 전극층을 형성해 두어도 된다.
본 발명의 격벽의 막 두께는 0.1 ㎛ 이상이 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 1 ㎛ 이상이 더욱 바람직하고, 1.5 ㎛ 이상이 특히 바람직하고, 또, 10 ㎛ 이하가 바람직하고, 8 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 4 ㎛ 이하가 더욱 바람직하고, 3 ㎛ 이하가 보다 더욱 바람직하고, 2 ㎛ 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 밀착성이 향상되는 경향이 있다. 격벽의 막 두께는 단차·표면 조도·미세 형상 측정 장치, 주사형 백색 간섭 현미경, 엘립소미터, 반사 분광 막후계, 전자 현미경으로 측정된다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.1 ∼ 10 ㎛ 가 바람직하고, 0.1 ∼ 8 ㎛ 가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 4 ㎛ 가 더욱 바람직하고, 1 ∼ 3 ㎛ 가 보다 더욱 바람직하고, 1.5 ∼ 2 ㎛ 가 특히 바람직하다.
[3] 화상 표시 장치
본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 격벽을 구비한다. 화상 표시 장치로는, 화상이나 영상을 표시하는 장치이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다.
본 발명의 화상 표시 장치는, 예를 들어,「유기 EL 디스플레이」(옴사, 2004년 8월 20일 발행, 토키토 시즈오, 아다치 치하야, 무라타 히데유키 저) 에 기재되어 있는 방법으로 형성할 수 있다. 백색광을 발광하는 유기 전계 발광 소자와 컬러 필터를 조합하여 화상 표시시켜도 되고, RGB 등의 발광색이 상이한 유기 전계 발광 소자를 조합하여 화상 표시시켜도 된다.
실시예
합성예, 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 감광성 착색 수지 조성물의 구성 성분은 다음과 같다.
<합성예 1 : 알칼리 가용성 수지-I>
DIC 사 제조 EPICLON HP7200HH (디시클로펜타디엔·페놀 중합물의 폴리글리시딜에테르, 중량 평균 분자량 1000, 에폭시 당량 270) 155 질량부, 메타크릴산 49 질량부, p-메톡시페놀 0.1 질량부, 트리페닐포스핀 2.5 질량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 280 질량부를 반응 용기에 주입하고, 100 ℃ 에서 산가가 3.0 mgKOH/g 이하가 될 때까지 가열 교반을 하였다. 산가가 목표에 이를 때까지 9 시간을 필요로 하였다 (산가 2.9 mgKOH/g). 이어서 추가로 테트라하이드로 무수 프탈산 77 g 을 첨가하고, 120 ℃ 에서 4 시간 반응시켜, 산가 100 mgKOH/g, 중량 평균 분자량 3500 의 알칼리 가용성 수지-I 을 얻었다.
알칼리 가용성 수지-I 은 일반식 (a2-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는다.
<합성예 2 : 알칼리 가용성 수지-II>
DIC 사 제조 EPICLON HP7200HH (디시클로펜타디엔·페놀 중합물의 폴리글리시딜에테르, 중량 평균 분자량 1000, 에폭시 당량 270) 155 질량부, 아크릴산 41 질량부, p-메톡시페놀 0.1 질량부, 트리페닐포스핀 2.5 질량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 270 질량부를 반응 용기에 주입하고, 100 ℃ 에서 산가가 3.0 mgKOH/g 이하가 될 때까지 가열 교반을 하였다. 산가가 목표에 이를 때까지 9 시간을 필요로 하였다 (산가 2.9 mgKOH/g). 이어서 추가로 테트라하이드로 무수 프탈산 74 g 을 첨가하고, 120 ℃ 에서 4 시간 반응시켜, 산가 100 mgKOH/g, 중량 평균 분자량 3500 의 알칼리 가용성 수지-II 를 얻었다.
알칼리 가용성 수지-II 는 일반식 (a2-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는다.
<합성예 3 : 알칼리 가용성 수지-IV>
[화학식 53]
상기 구조식으로 나타내는 에폭시 화합물 (에폭시 당량 230) 230 질량부, 아크릴산 72 질량부, 메톡시부틸아세테이트 300 질량부, 트리페닐포스핀 5 질량부, 및 파라메톡시페놀 0.13 질량부를, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 90 ℃ 에서 산가가 5 mgKOH/g 이하가 될 때까지 15 시간 반응시켰다.
이어서, 비페닐테트라카르복실산 2 무수물 (BPDA) 82.4 질량부, 테트라하이드로프탈산 무수물 (THPA) 30.4 질량부, 및 메톡시부틸아세테이트 120 질량부를 넣고, 교반하면서 105 ℃ 까지 천천히 승온하여 반응시켜, 고형분 산가 110 mgKOH/g, GPC 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 5200 인 알칼리 가용성 수지-IV 를 얻었다.
알칼리 가용성 수지-IV 는 카르도 골격을 갖는다.
<합성예 4 : 광중합 개시제-I>
(디케톤체)
에틸카르바졸 (5 g, 25.61 mmol) 과 o-나프토일클로라이드 (5.13 g, 26.89 mmol) 를 30 ml 의 디클로로메탄에 용해하고, 빙수 배스에서 2 ℃ 로 냉각시켜 교반하고, AlCl3 (3.41 g, 25.61 mmol) 을 첨가하였다. 추가로 실온에서 3 시간 교반 후, 반응액에 크로토노일클로라이드 (2.81 g, 26.89 mmol) 의 15 ml 디클로로메탄 용액을 첨가하고, AlCl3 (4.1 g, 30.73 mmol) 을 첨가하고, 추가로 1 시간 30 분 교반하였다. 반응액을 빙수 200 ml 에 넣고, 디클로로메탄 200 ml 를 첨가하여 유기층을 분액하였다. 회수한 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조 후, 감압하 농축하여, 백색 고체 (10 g) 의 디케톤체를 얻었다.
(옥심체)
디케톤체 (3.00 g, 7.19 mmol), NH2OH·HCl (1.09 g, 15.81 mmol), 및 아세트산나트륨 (1.23 g, 15.08 mmol) 을 용제로서 이소프로판올 30 ml 를 사용하여, 3 시간 환류하였다.
반응 종료 후, 반응액을 농축하고, 얻어진 잔류물에 아세트산에틸 30 ml 를 첨가하고, 포화 탄산수소나트륨 수용액 30 ml, 포화 식염수 30 ml 로 세정, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 여과 후, 유기층을 감압하 농축하여, 고체 1.82 g 을 얻었다. 이것을 칼럼 크로마토그래피로 정제하여, 담황색 고체 2.22 g 의 옥심체를 얻었다.
(옥심에스테르체)
옥심체 (2.22 g, 4.77 mmol) 와 아세틸클로라이드 (1.34 g, 17.0 mmol) 를 디클로로메탄 20 ml 에 첨가하여 2 ℃ 까지 빙랭하고, 트리에틸아민 (1.77 g, 17.5 mmol) 을 적하하고, 그대로 1 시간 반응하였다. 박층 크로마토그래피에 의해 원료의 소실을 확인한 후, 물을 첨가하고 반응을 정지하였다. 반응액을 포화 탄산수소나트륨 수용액 5 ml 로 2 회, 포화 식염수 5 ml 로 2 회 세정하고, 무수 황산나트륨으로 건조시켰다. 여과 후, 유기층을 감압하 농축하여, 얻어진 잔류물을 칼럼 크로마토그래피 (아세트산에틸/헥산 = 2/1) 로 정제하여, 0.79 g 의 담황색 고체의 광중합 개시제-I (옥심에스테르체) 을 얻었다.
광중합 개시제-I 의 구조는 이하와 같다.
[화학식 54]
이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 감광성 착색 수지 조성물의 구성 성분은 다음과 같다.
<착색제>
유기 흑색 안료, BASF 사 제조, Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF
<분산제-I>
측사슬에 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖는 A 블록과, 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는, 아크릴계 A-B 블록 공중합체. 아민가는 70 mgKOH/g. 산가는 1 mgKOH/g 이하.
분산제-I 의 A 블록 중에는, 하기 식 (1a) 및 (2a) 의 반복 단위가 포함되고, B 블록 중에는 하기 식 (3a) 의 반복 단위가 포함된다. 분산제-I 의 전체 반복 단위에서 차지하는 하기 식 (1a), (2a), 및 (3a) 의 반복 단위의 함유 비율은 각각 11.1 몰%, 22.2 몰%, 6.7 몰% 이다.
[화학식 55]
<용제>
PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트
MB : 3-메톡시부탄올
<알칼리 가용성 수지>
알칼리 가용성 수지-I : 합성예 1 에 기재된 수지
알칼리 가용성 수지-II : 합성예 2 에 기재된 수지
알칼리 가용성 수지-III : 닛폰 화약사 제조「ZCR-1569H」 (중량 평균 분자량 (Mw) = 4500, 고형분 산가 = 98 mgKOH/g). 부분 구조로서 비페닐기를 갖는다.
알칼리 가용성 수지-IV : 합성예 3 에 기재된 수지
<에틸렌성 불포화 화합물>
DPHA-40H : 닛폰 화약사 제조「KAYARAD DPHA-40H」 (다관능 아크릴레이트)
TMP-A : 쿄에이샤 화학사 제조「라이트 아크릴레이트 TMP-A」 (다관능 아크릴레이트)
<광중합 개시제>
광중합 개시제-I : 합성예 4 에 기재된 광중합 개시제
<계면 활성제>
BYK-330 : 빅케미사 제조「BYK-330」
<안료 분산액 1 ∼ 4 의 조제>
표 1 에 기재된 안료, 분산제, 알칼리 가용성 수지 및 용제를, 표 1 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하여 혼합액을 얻었다. 또한 표 1 중의 용제의 배합 비율에는, 분산제 및 알칼리 가용성 수지 유래의 용제의 양도 포함된다.
이 혼합액을 페인트 셰이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시하였다. 비드로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비드를 사용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가하였다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비드와 분산액을 분리하여, 안료 분산액 1 ∼ 4 를 조제하였다.
<감광성 착색 수지 조성물의 조제>
[실시예 1 ∼ 5 및 비교예 1 ∼ 3]
상기 조제한 안료 분산액 1 ∼ 4 를 사용하여, 전고형분에 대한 각 성분의 고형분의 비율이 표 2 의 배합 비율이 되도록 각 성분을 첨가하고, 추가로 전고형분의 함유 비율이 19 질량% 가 되고, 나아가서는 용제 중의 비율이 PGMEA/MB 가 80/20 질량% 가 되도록 PGMEA 와 MB 를 첨가하고, 교반, 용해시켜, 감광성 착색 수지 조성물인 조성물 1 ∼ 8 을 조제하였다.
조성물 1 ∼ 8 에 대하여, 후술하는 방법으로 평가를 실시하였다.
<조도 및 표면 평활성 평가>
유리 기판 상의 전체면에 막 두께 8 ㎚ 의 ITO, 막 두께 120 ㎚ 의 은, 막 두께 10 ㎚ 의 ITO 가 이 순서로 증착된 전극 기판 상에, 감광성 착색 수지 조성물을 가열 경화 후의 막 두께가 1.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 도포하고, 1 분간 감압 건조시킨 후에, 핫 플레이트로 100 ℃ 에서 120 초간 건조시켰다. 얻어진 도막에, 마스크를 사용하지 않고, 파장 365 ㎚ 에서의 강도가 45 ㎽/㎠ 인 자외선을 사용하여, 노광량이 40 mJ/㎠ 가 되도록 전체면 노광 처리를 실시하였다.
계속해서, 2.38 질량% 의 TMAH (수산화테트라메틸암모늄) 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용하고, 24 ℃ 에 있어서 수압 0.05 ㎫ 의 샤워 현상한 후, 순수에서 현상을 정지하고, 수세 스프레이로 세정하였다. 샤워 현상 시간은 미노광부의 도막이 용해 제거되는 시간의 2 배로 하였다.
그 후, 당해 기판을 오븐 중, 230 ℃ 에서 30 분간 가열 경화 (큐어) 시킴으로써, 조도 평가용 기판을 얻었다.
얻어진 기판의 10 ㎛ × 10 ㎛ 의 범위의 도막 표면의 산술 평균 표면 조도 (Sa) 를 히타치 하이테크놀로지사 제조의 주사형 백색 간섭 현미경 VS1530 에 의해 측정하고, Sa 를 도막 표면의 조도로 하였다. 또, 이하의 기준으로 표면 평활성의 평가를 실시하였다. 측정 결과와 평가 결과를 표 2 에 나타냈다. 또한, 측정 모드는 Focus 모드로 하고, 대물 렌즈의 배율은 50 배, 측정광의 중심 파장은 520 ㎚ 로 하였다. Sa 는, 표면 형상 곡면과 평균면으로 둘러싸인 부분의 체적을 측정 면적으로 나눈 것이고, 수치가 작을수록 도막의 표면 평활성이 높은 것을 나타낸다.
(표면 평활성의 평가 기준)
A : Sa 가 50 Å 미만
B : Sa 가 50 Å 이상, 100 Å 미만
C : Sa 가 100 Å 이상
<현상 형태의 평가>
유리 기판 상의 전체면에 막 두께 8 ㎚ 의 ITO, 막 두께 120 ㎚ 의 은, 막 두께 10 ㎚ 의 ITO 가 이 순서로 증착된 전극 기판 상에, 감광성 착색 수지 조성물을 가열 경화 후의 막 두께가 1.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 도포하고, 1 분간 감압 건조시킨 후에, 핫 플레이트로 100 ℃ 에서 120 초간 건조시켰다. 그 후, 2.38 질량% 의 TMAH (수산화테트라메틸암모늄) 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용하고, 24 ℃ 에 있어서 수압 0.05 ㎫ 의 샤워 현상을 실시했을 때의 현상의 모습을 육안으로 관찰하고, 이하의 기준으로 평가를 실시하였다.
(현상 형태의 평가 기준)
A : 균일하게 용해한다.
B : 막상의 박리를 볼 수 있다.
<잔류물의 평가>
유리 기판 상의 전체면에 막 두께 8 ㎚ 의 ITO, 막 두께 120 ㎚ 의 은, 막 두께 10 ㎚ 의 ITO 가 이 순서로 증착된 전극 기판 상에, 감광성 착색 수지 조성물을 가열 경화 후의 막 두께가 1.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 도포하고, 1 분간 감압 건조시킨 후에, 핫 플레이트로 100 ℃ 에서 120 초간 건조시켰다. 계속해서, 2.38 질량% 의 TMAH (수산화테트라메틸암모늄) 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용하고, 24 ℃ 에 있어서 수압 0.05 ㎫ 의 샤워 현상한 후, 순수에서 현상을 정지하고, 수세 스프레이로 세정하여, 잔류물 평가용 기판을 얻었다. 샤워 현상 시간은 미노광부의 도막이 용해 제거되는 시간의 2 배로 하였다.
얻어진 잔류물 평가용 기판을, 클리닝 클로스에 에틸알코올을 스며들게 하여, 기판 상을 닦아냈다. 그 후 백색등하에서, 닦아낸 부분과 닦아내지 않은 부분의 경계부를 관찰하였다.
(잔류물의 평가 기준)
A : 닦아낸 부분과 닦아내지 않은 부분의 경계를 알 수 없다 (즉 현상 후에 ITO 상에 잔류물이 생기지 않는다)
B : 닦아낸 부분과 닦아내지 않은 부분의 경계선을 육안으로 인식할 수 있다 (즉 현상 후에 ITO 상에 잔류물이 생겨 있다)
조성물 1 로 잔류물의 평가를 실시한 결과, 평가는 A 였다.
표 2 에 나타낸 실시예 1 ∼ 5 로부터 명확한 바와 같이, 알칼리 가용성 수지로서, 일반식 (a1-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 알칼리 가용성 수지 (a1) 및 일반식 (a1-2) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 알칼리 가용성 수지 (a2) 를 함유하는 감광성 착색 수지 조성물을 사용함으로써, 현상 형태와 조도가 우수한 경화물을 형성 가능한 것을 알 수 있다.
실시예 1 ∼ 5 와 비교예 2 의 비교로부터, 알칼리 가용성 수지로서, 카르도 골격을 갖는 알칼리 가용성 수지 (a1) 을 포함함으로써 도막의 표면 평활성이 향상된다. 이것은, 알칼리 가용성 수지 (a1) 은 소수성이 높기 때문에, 현상시에 있어서 도막의 노광 부분으로의 현상액의 침투를 억제하고, 표면 거?s에 의한 표면 평활성의 저하가 억제되기 때문인 것으로 생각된다.
한편, 실시예 1 ∼ 5 와 비교예 3 의 비교로부터, 알칼리 가용성 수지로서, 알칼리 가용성 수지 (a1) 에 더하여, 일반식 (a2-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 알칼리 가용성 수지 (a2) 를 포함함으로써 현상 형태가 양호해진다. 이것은, 알칼리 가용성 수지 (a1) 은 소수성이 지나치게 높은 점에서, 단독으로는 도막의 미노광 부분으로의 현상액 침투가 일어나기 힘들고, 균일한 용해가 발생하지 않지만, 알칼리 가용성 수지 (a2) 를 포함함으로써 적당히 도막의 소수성이 조정되기 때문에, 현상 형태가 개선되는 것으로 생각된다.
또, 실시예 1 ∼ 5 와 비교예 1, 3 의 비교로부터, 현상 형태 개선을 위해 알칼리 가용성 수지 (a2) 이외의 수지를 사용하여, 알칼리 가용성 수지 (a1) 비율을 저하시키면 도막의 표면 평활성이 저하되지만, 알칼리 가용성 수지 (a2) 를 사용하여, 알칼리 가용성 수지 (a1) 비율을 저하시키면 표면 평활성은 유지할 수 있는 것을 알 수 있다. 이것은, 알칼리 가용성 수지 (a2) 는, 소수성은 알칼리 가용성 수지 (a1) 보다 낮기는 하지만, 입체적으로 부피가 큰 부분 구조를 갖기 때문에, 도막 중의 수지끼리의 응집이 억제되어, 응집물의 용해에 의한 표면 평활성의 저하가 생기지 않기 때문이라고 생각된다.
실시예 1, 3, 4 및 5 의 결과로부터, 알칼리 가용성 수지 (a1) 100 질량부에 대한, 알칼리 가용성 수지 (a2) 의 함유 비율이, 5 ∼ 300 질량부이면, 도막의 표면 평활성과 현상 형태가 양호해지는 것을 알 수 있다. 특히 함유 비율이 48 질량부인 경우에, 표면 평활성이 가장 양호해졌다. 이것은, 도막의 소수성이 적당하기 때문에, 도막의 노광 부분으로의 현상액의 과도한 침투를 억제하면서도, 표면 평활성을 악화시키는 응집물 등을 적당히 용해시키기 때문인 것으로 생각된다.
Claims (8)
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
알칼리 가용성 수지 (a1) 100 질량부에 대한, 알칼리 가용성 수지 (a2) 의 함유 비율이, 5 ∼ 300 질량부인, 감광성 착색 수지 조성물. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (d) 착색제가, 유기 흑색 안료를 함유하는, 감광성 착색 수지 조성물. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
용제를 함유하는, 감광성 착색 수지 조성물. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.
- 제 6 항에 기재된 경화물로 형성되는 격벽.
- 제 7 항에 기재된 격벽을 구비하는 화상 표시 장치.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021076303 | 2021-04-28 | ||
JPJP-P-2021-076303 | 2021-04-28 | ||
PCT/JP2022/018667 WO2022230792A1 (ja) | 2021-04-28 | 2022-04-25 | 感光性着色樹脂組成物、硬化物、隔壁及び画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20240004389A true KR20240004389A (ko) | 2024-01-11 |
Family
ID=83847245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020237037150A KR20240004389A (ko) | 2021-04-28 | 2022-04-25 | 감광성 착색 수지 조성물, 경화물, 격벽 및 화상 표시 장치 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2022230792A1 (ko) |
KR (1) | KR20240004389A (ko) |
CN (1) | CN117222943A (ko) |
TW (1) | TW202248255A (ko) |
WO (1) | WO2022230792A1 (ko) |
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- 2022-04-25 CN CN202280031399.2A patent/CN117222943A/zh active Pending
- 2022-04-25 WO PCT/JP2022/018667 patent/WO2022230792A1/ja active Application Filing
- 2022-04-25 JP JP2023517497A patent/JPWO2022230792A1/ja active Pending
- 2022-04-25 KR KR1020237037150A patent/KR20240004389A/ko unknown
- 2022-04-26 TW TW111115775A patent/TW202248255A/zh unknown
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JPWO2022230792A1 (ko) | 2022-11-03 |
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