KR20230146447A - 반응관 반송 지그 및 반응관의 반송 방법 - Google Patents

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Abstract

반응관을 용이하게 교환할 수 있는 기술을 제공한다.
본 개시의 일 양태에 따른 반응관 반송 지그는, 기판 처리 장치가 구비하는 복수의 처리부 사이에서 반응관을 반송하는 반응관 반송 지그이며, 제1 평면 상을 이동 가능한 제1 대차와, 상기 제1 대차 상에 적재되어, 상기 제1 평면과 다른 높이의 제2 평면 상을 이동 가능한 제2 대차와, 상기 제2 대차 상에 적재되어, 상기 제2 평면과 다른 높이의 제3 평면 상을 이동 가능하고, 상기 반응관을 보유 지지하는 제3 대차를 구비한다.

Description

반응관 반송 지그 및 반응관의 반송 방법{REACTION TUBE TRANSFER JIG AND REACTION TUBE TRANSFER METHOD}
본 개시는, 반응관 반송 지그 및 반응관의 반송 방법에 관한 것이다.
복수매의 기판을 일괄하여 처리하는 종형 열처리 장치에 있어서, 하나의 로더 모듈에 대하여 복수의 프로세스 모듈을 마련하는 구성이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 각 프로세스 모듈은, 반응관의 내부에 복수매의 기판을 수용하여 처리한다. 또한, 반도체 제조 장치의 구성 부품인 반응관을 적재하여 반송하는 대차가 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 2 참조).
일본 특허 공개 제2020-113746호 공보 일본 특허 공개 제2019-201048호 공보
본 개시는, 반응관을 용이하게 교환할 수 있는 기술을 제공한다.
본 개시의 일 양태에 따른 반응관 반송 지그는, 기판 처리 장치가 구비하는 복수의 처리부 사이에서 반응관을 반송하는 반응관 반송 지그이며, 제1 평면 상을 이동 가능한 제1 대차와, 상기 제1 대차 상에 적재되어, 상기 제1 평면과 다른 높이의 제2 평면 상을 이동 가능한 제2 대차와, 상기 제2 대차 상에 적재되어, 상기 제2 평면과 다른 높이의 제3 평면 상을 이동 가능하고, 상기 반응관을 보유 지지하는 제3 대차를 구비한다.
본 개시에 의하면, 반응관을 용이하게 교환할 수 있다.
도 1은, 기판 처리 장치의 일례를 도시하는 사시도(1).
도 2는, 기판 처리 장치의 일례를 도시하는 사시도(2).
도 3은, 기판 처리 장치의 일례를 도시하는 사시도(3).
도 4는, 기판 반송부 및 배치 처리부를 도시하는 개략도.
도 5는, 반응관 반송 지그의 일례를 도시하는 사시도.
도 6은, 제1 대차를 도시하는 개략도(1)
도 7은, 제1 대차를 도시하는 개략도(2)
도 8은, 제1 대차를 도시하는 개략도(3).
도 9는, 제1 대차를 도시하는 개략도(4).
도 10은, 제1 대차를 도시하는 개략도(5).
도 11은, 제2 대차를 도시하는 개략도(1).
도 12는, 제2 대차를 도시하는 개략도(2).
도 13은, 제2 대차를 도시하는 개략도(3).
도 14는, 제2 대차를 도시하는 개략도(4).
도 15는, 제2 대차를 도시하는 개략도(5).
도 16은, 제3 대차를 도시하는 개략도.
도 17은, 반응관의 설치 방법을 설명하는 도면(1).
도 18은, 반응관의 설치 방법을 설명하는 도면(2).
도 19는, 반응관의 설치 방법을 설명하는 도면(3).
도 20은, 반응관의 설치 방법을 설명하는 도면(4).
도 21은, 반응관의 설치 방법을 설명하는 도면(5).
도 22는, 반응관의 설치 방법을 설명하는 도면(6).
도 23은, 반응관의 설치 방법을 설명하는 도면(7).
도 24는, 반응관의 설치 방법을 설명하는 도면(8).
이하, 첨부의 도면을 참조하면서, 본 개시의 한정적이지 않은 예시의 실시 형태에 대하여 설명한다. 첨부의 전체 도면 중, 동일하거나 또는 대응하는 부재 또는 부품에 대해서는, 동일하거나 또는 대응하는 참조 부호를 붙이고, 중복하는 설명을 생략한다.
〔기판 처리 장치〕
도 1 내지 도 4를 참조하여, 실시 형태에 관한 기판 처리 장치(1)에 대하여 설명한다. 도 1 내지 도 3은, 실시 형태에 관한 기판 처리 장치(1)를 도시하는 사시도이고, 각각 다른 방향에서 기판 처리 장치(1)를 본 때의 도면이다. 도 4는, 기판 반송부(3) 및 배치 처리부(4)를 도시하는 개략도이고, 기판 반송부(3) 및 배치 처리부(4)의 내부를 후방에서 본 때의 도면이다.
기판 처리 장치(1)는, 예를 들어 클린 룸 내에 설치된다. 기판 처리 장치(1)는, 반출입부(2)와, 기판 반송부(3)와, 복수의 배치 처리부(4)를 구비한다.
반출입부(2)는, 바닥 F에 설치된다. 반출입부(2)는, 카세트 C가 반입 또는 반출되는 전방면(2a)과, 전방면(2a)과 반대 측의 후방면(2b)을 갖는다. 전방면(2a)은, 반출입부(2)의 Y축 방향 마이너스측에 위치한다. 후방면(2b)은, 반출입부(2)의 Y축 방향 플러스측에 위치한다. 카세트 C는, 복수매(예를 들어 25매)의 기판 W를 수용하는 용기이다. 카세트 C는, 예를 들어 FOUP(Front-Opening Unified Pod)이다. 기판 W는, 예를 들어 반도체 웨이퍼이다. 반출입부(2)는, 내부가 예를 들어 대기 분위기 하에 있다.
반출입부(2)는, 로드 포트(21)를 갖는다. 로드 포트(21)는, 반출입부(2)의 X축 방향 마이너스측 또한 Y축 방향 마이너스측에 마련된다. 로드 포트(21)는, X축 방향을 따라서 2개 마련된다. 로드 포트(21)에는, 카세트 C가 적재된다. 카세트 C는, 로드 포트(21)에 대하여 반입 또는 반출된다. 로드 포트(21)는, 연직 방향(Z축 방향)에 다단으로 마련되어도 된다. 로드 포트(21)의 수는 특별히 한정되지는 않는다.
기판 반송부(3)는, 반출입부(2)의 Y축 방향 플러스측에 배치된다. 기판 반송부(3)는, 반출입부(2)의 후방면(2b)과 직교하는 제1 방향(Y축 방향)을 따라 연장된다. 기판 반송부(3)는, 바닥 F에 설치된다. 기판 반송부(3)는, 복수의 배치 처리부(4)에 대하여 공통으로 하나 마련된다. 즉, 복수의 배치 처리부(4)는, 공통의 기판 반송부(3)를 갖는다. 기판 반송부(3)는, 기판 반송 장치(31)를 갖는다. 기판 반송 장치(31)는, 반출입부(2)와, 복수의 배치 처리부(4)의 각각 사이에서 기판 W를 반송한다. 기판 반송 장치(31)는, 복수의 피크(31p)를 갖는다. 이 경우, 기판 반송 장치(31)는 복수매의 기판 W를 동시에 반송할 수 있다. 이 때문에, 기판 W의 반송에 요하는 시간을 단축할 수 있다. 피크(31p)의 수는 특별히 한정되지는 않는다.
복수의 배치 처리부(4)는, 기판 반송부(3)의 X축 방향 마이너스측에 배치된다. 복수의 배치 처리부(4)는, 기판 반송부(3)의 긴 쪽 방향(Y축 방향)을 따라 인접하여 배치된다. 도시의 예에서는, 4개의 배치 처리부(4)가 기판 반송부(3)의 긴 족 방향을 따라서 인접하여 배치된다. 각 배치 처리부(4)는, 복수매(예를 들어 25매 내지 150매)의 기판 W를 일괄적으로 처리한다. 각 배치 처리부(4)의 내부는, 불활성 가스 분위기, 예를 들어 질소 가스 분위기가 된다. 이 경우, 배치 처리부(4)에 있어서의 기판 W의 산화를 억제할 수 있다. 배치 처리부(4)는, 처리부의 일례이다. 각 배치 처리부(4)는, 열처리 유닛(41)과, 로드 유닛(42)과, 가스 공급 유닛(43)과, 배기 유닛(44)과, 프로세스 모듈 컨트롤 유닛(45)과, 강제 공랭 유닛(46)과, 가스 컨트롤 유닛(47)과, 플로어 박스(48)와, 가이드 레일(49a, 49b)을 갖는다.
열처리 유닛(41)은, 복수매의 기판 W에 소정의 열처리를 행한다. 열처리 유닛(41)은, 반응관(411)과, 히터(412)를 갖는다.
반응관(411)은, 기판 보유 지지구(414)를 수용한다. 기판 보유 지지구(414)는, 상하 방향으로 소정의 간격을 갖고 기판 W를 대략 수평으로 보유 지지한다. 기판 보유 지지구(414)는, 예를 들어 석영, 탄화 규소 등의 내열 재료로 형성된다. 반응관(411)에는, 가스 도입 포트(411a) 및 배기 포트(411b)가 마련된다.
가스 도입 포트(411a)는, 반응관(411) 내에 가스를 도입한다. 가스 도입 포트(411a)는, 반응관(411)의 X축 방향 플러스측에 마련된다. 가스 도입 포트(411a)가 마련되는 위치는, 복수의 배치 처리부(4) 사이에서 동일한 것이 바람직하다. 이 경우, 가스 공급 유닛(43)과 가스 도입 포트(411a) 사이의 배관 길이를 복수의 배치 처리부(4) 사이에서 맞출 수 있다. 이 때문에, 기차(機差)에 의한 처리의 변동을 작게 할 수 있다.
배기 포트(411b)는, 반응관(411) 내의 가스를 배기한다. 배기 포트(411b)는, 반응관(411)의 X축 방향 마이너스측에 마련된다. 즉, 배기 포트(411b)는 가스 도입 포트(411a)와 반대 측에 마련된다. 배기 포트(411b)가 마련되는 위치는, 복수의 배치 처리부(4) 사이에서 동일한 것이 바람직하다. 이 경우, 복수의 배치 처리부(4) 사이에서 배기 컨덕턴스를 맞출 수 있다. 이 때문에, 기차에 의한 처리의 변동을 작게 할 수 있다.
히터(412)는, 반응관(411)의 주위에 마련된다. 히터(412)는, 예를 들어 원통 형상을 갖는다. 히터(412)는, 반응관(411) 내에 수용된 각 기판 W를 가열한다. 반응관(411)의 하방에는, 셔터(415)가 마련된다. 셔터(415)는, 반응관(411)의 하단 개구를 막는 위치와 막지 않는 위치 사이에서 수평 이동하도록 구성된다. 셔터(415)는, 기판 보유 지지구(414)가 반응관(411) 내로부터 반출되어, 다음 기판 보유 지지구(414)가 반입될 때까지 동안, 반응관(411)의 하단 개구를 막는다.
로드 유닛(42)은, 열처리 유닛(41)의 하방에 마련된다. 로드 유닛(42)은, 플로어 박스(48)를 통해 바닥 F에 설치된다. 플로어 박스(48)는, 로드 유닛(42)에 내장되어서 일체화된 구성이어도 된다. 로드 유닛(42)은, 반응관(411)에 수용되는 각 기판 W를 기판 반송부(3) 사이에서 주고 받는다. 로드 유닛(42)에는, 기판 보유 지지구(414)가 보온 통(416)을 통해 덮개(417) 상에 적재된다. 덮개(417)는, 승강 기구(418)에 지지된다. 승강 기구(418)는, 덮개(417)를 승강시킴으로써, 기판 보유 지지구(414)를 반응관(411)에 대하여 반입 또는 반출시킨다. 승강 기구(418)는, 예를 들어 볼 나사를 포함한다. 로드 유닛(42)은, 열처리 유닛(41)에 있어서 처리된 각 기판 W를 냉각하는 공간으로서도 기능한다. 승강 기구(418)는, 후술하는 제3 대차(150)를 보유 지지하여 승강시킨다.
가스 공급 유닛(43)은, 열처리 유닛(41)의 기판 반송부(3)가 배치되는 측에 배치된다. 가스 공급 유닛(43)은, 가스 도입 포트(411a)에 처리 가스를 공급한다. 가스 공급 유닛(43)은, 가스 도입 포트(411a)와 동일 측에 배치되는 것이 바람직하다. 이 경우, 가스 공급 유닛(43)과 가스 도입 포트(411a) 사이의 배관 길이를 짧게 할 수 있다. 이 때문에, 배관 부재나 배관 히터의 사용량의 저감, 배관 히터의 소비 전력의 저감, 메인터넌스 시의 퍼지 범위의 저감, 반응관(411) 내로의 불순물의 혼입 리스크의 저감 등의 효과가 얻어진다. 가스 공급 유닛(43)은, 반응관(411)과 대략 동일한 높이 위치에 배치된다. 가스 공급 유닛(43)은, 유량 제어기, 개폐 밸브 등을 포함한다.
배기 유닛(44)은, 열처리 유닛(41)의 기판 반송부(3)가 배치되는 측과 반대 측에 배치된다. 배기 유닛(44)은, 배기 포트(411b)와 동일 측에 배치되는 것이 바람직하다. 배기 유닛(44)은, Y축 방향에서 본 때에 역 L자상을 갖는다. 배기 유닛(44)은, 로드 유닛(42) 사이에 메인터넌스 통로 B1을 형성한다. 메인터넌스 통로 B1은, 작업자가 입퇴출할 수 있는 메인터넌스 통로이다. 작업자는, 메인터넌스 통로 B1에 있어서, 전후 방향으로 배열하는 복수의 배치 처리부(4)의 메인터넌스를 용이하게 실시할 수 있다.
배기 유닛(44)은, 일단이 배기 포트(411b)에 접속되고, 타단이 하방으로 연장되어서 바닥 F를 관통하고, 바닥 F의 하방에 배치되는 도시하지 않은 배기 장치에 접속된다. 배기 장치는, 배기 포트(411b) 및 배기 유닛(44)을 통해 반응관(411) 내를 배기하여 감압한다. 배기 장치는, 진공 펌프, 밸브 등을 포함한다.
강제 공랭 유닛(46)은, 히터(412)에 공급하는 냉매를 생성하는 유닛이다. 냉매는, 예를 들어 공기이다. 강제 공랭 유닛(46)은, 열교환기, 블로어, 밸브, 배관 등을 포함한다. 강제 공랭 유닛(46)은, 열처리 유닛(41)의 X축 방향 마이너스측에 마련된다. 강제 공랭 유닛(46)에서 보내지는 냉매는, 반응관(411)과 히터(412) 사이의 공간에 공급된다. 이에 의해, 반응관(411)을 단시간에 냉각할 수 있다.
프로세스 모듈 컨트롤 유닛(45) 및 가스 컨트롤 유닛(47)은, 열처리 유닛(41)의 천장부에 배치된다. 프로세스 모듈 컨트롤 유닛(45) 및 가스 컨트롤 유닛(47)은, 배치 처리부(4)의 각 부의 동작을 제어한다. 프로세스 모듈 컨트롤 유닛(45) 및 가스 컨트롤 유닛(47)은, 각종 제어 기기를 포함한다.
플로어 박스(48)는, 바닥 F에 설치된다. 플로어 박스(48)는, 제1 상면(48a)과, 제2 상면(48b)을 갖는다. 제1 상면(48a)에는, 로드 유닛(42)이 설치된다. 제2 상면(48b)은, 메인터넌스 통로 B1에 노출된다. 제2 상면(48b)은, 제1 상면(48a)보다도 높이가 낮다.
가이드 레일(49a)은, 메인터넌스 통로 B1의 X축 방향 플러스측의 측면에 착탈 가능하게 설치된다. 예를 들어, 가이드 레일(49a)은 플로어 박스(48)의 측면에 설치된다. 가이드 레일(49b)은, 메인터넌스 통로 B1의 X축 방향 마이너스측의 측면에 착탈 가능하게 설치된다. 예를 들어, 가이드 레일(49b)은, 배기 유닛(44)의 측면에 설치된다. 가이드 레일(49a, 49b)은, 각각 Y축 방향을 따라서 연장된다. 가이드 레일(49a, 49b)은, 예를 들어 반응관(411)을 교환할 때에 설치된다. 가이드 레일(49a)에는, 복수의 걸림 결합부(49c)가 마련된다. 복수의 걸림 결합부(49c)는, Y축 방향에 있어서, 복수의 배치 처리부(4)의 각각 대응하는 위치에 마련된다. 걸림 결합부(49c)는, 후술하는 제2 대차(130)의 피결합부(140)와 걸림 결합함으로써, 제2 대차(130)를 로드 유닛(42)측에 끌어 당겨서 고정한다.
이상에서 설명한 바와 같이 기판 처리 장치(1)에 의하면, 하나의 기판 반송부(3)에 대하여 복수의 배치 처리부(4)가 배치되므로, 하나의 기판 반송부(3)에 대하여 하나의 배치 처리부(4)가 배치되는 경우와 비교하여, 기판 처리 장치(1)의 설치 면적을 작게 할 수 있다. 이 때문에, 단위 면적당의 생산성이 향상된다.
〔반응관 반송 지그〕
도 5 내지 도 16을 참조하여, 실시 형태에 관한 반응관 반송 지그(100)에 대하여 설명한다.
도 5는, 반응관 반송 지그(100)의 일례를 도시하는 사시도이다. 반응관 반송 지그(100)는, 복수의 배치 처리부(4) 사이에서 반응관(411)을 보유 지지하여 반송한다. 반응관 반송 지그(100)는, 예를 들어 클린 룸 내에서 사용된다. 반응관 반송 지그(100)는, 제1 대차(110)와, 제2 대차(130)와, 제3 대차(150)를 구비한다.
도 6 내지 도 10은, 제1 대차(110)를 도시하는 개략도이다. 도 6은, 제1 대차(110)의 사시도이다. 도 7은, 도 6의 화살표 A11의 방향에서 제1 대차(110)를 본 때의 도면이다. 도 8은, 도 6의 화살표 A12의 방향에서 제1 대차(110)를 본 때의 도면이다. 도 9는, 도 6의 화살표 A13의 방향에서 제1 대차(110)를 본 때의 도면이다. 도 10은, 도 6의 화살표 A14의 방향에서 제1 대차(110)를 본 때의 도면이다.
제1 대차(110)는, 제1 평면 상을 이동 가능하게 구성된다. 제1 평면은, 예를 들어 클린 룸 내의 바닥 F이다. 제1 대차(110)는, 프레임(111)과, 캐스터(112)와, 핸들(113)과, 어저스터 풋(114)과, 가이드 레일(115)과, 연결용 블록(116)과, 브래킷(117)을 갖는다.
프레임(111)은, 직사각형의 프레임상으로 형성된다. 프레임(111)에는, 캐스터(112), 핸들(113), 어저스터 풋(114), 가이드 레일(115), 연결용 블록(116) 및 브래킷(117)이 설치된다. 프레임(111)은, 제1 프레임의 일례이다.
캐스터(112)는, 프레임(111)의 네 구석에 설치된다. 캐스터(112)는, 예를 들어 클린 룸 대응 캐스터이다. 캐스터(112)는, 제1 평면 상에서 제1 대차(110)를 수평 방향으로 자유 자재로 이동시킨다. 캐스터(112)는, 예를 들어 주행 방향이 선회하는 자재차와, 주행 방향이 고정하고 있는 고정차를 포함하고 있어도 된다. 캐스터(112)는, 예를 들어 로크 기구 구비 캐스터를 포함하고 있어도 된다. 캐스터(112)의 차륜 재질은, 예를 들어 공기 유입 고무이다. 이 경우, 제1 대차(110)의 주행 시의 진동을 억제할 수 있다. 캐스터(112)의 차륜 직경은, 예를 들어 210mm이다.
핸들(113)은, 프레임(111)의 X축 방향 플러스측에 설치된다. 핸들(113)은, Y축 방향을 따라서 연장된다. 작업자는, 핸들(113)을 쥐고 제1 대차(110)를 X축 방향 및 Y축 방향을 따라서 이동시킬 수 있다.
어저스터 풋(114)은, 캐스터(112)와 마찬가지로, 프레임(111)의 네 구석에 설치된다. 어저스터 풋(114)은, 제1 평면과 접촉함으로써, 캐스터(112)를 제1 평면으로부터 이격시켜서 프레임(111)의 높이를 조정한다. 캐스터(112)를 제1 평면으로부터 이격시키고, 또한 어저스터 풋(114)을 제1 평면과 접촉시킴으로써, 제1 평면 상에 제1 대차(110)가 고정된다. 어저스터 풋(114)은, 가이드 레일(115) 상의 제2 대차(130)가 이동하는 면과, 후술하는 제2 평면이 동일 높이가 되도록 프레임(111)의 높이를 조정한다. 어저스터 풋(114)은, 예를 들어 프레임(111)의 높이를 기준 위치±5mm의 범위에서 조정 가능하게 구성된다. 어저스터 풋(114)은, 높이 조정 기구의 일례이다.
가이드 레일(115)은, X축 방향으로 간격을 두고 2개 마련된다. 각 가이드 레일(115)은, 프레임(111)의 상면에 설치된다. 각 가이드 레일(115)은, Y축 방향을 따라서 연장된다. 가이드 레일(115)은, 제2 대차(130)가 Y축 방향을 따라서 이동하도록 안내한다. 가이드 레일(115)은, 제1 가이드 레일의 일례이다.
연결용 블록(116)은, 프레임(111)의 Y축 방향 마이너스측에 설치된다. 연결용 블록(116)은, 제1 대차(110)를 플로어 박스(48)에 고정하기 위하여 사용된다. 연결용 블록(116)은, 제1 고정구의 일례이다.
브래킷(117)은, 프레임(111)의 상면 또한 가이드 레일(115)의 Y축 방향 플러스측에 설치된다. 브래킷(117)은, 가이드 레일(115) 상에 탑재되는 제2 대차(130)를 고정하기 위하여 사용된다.
도 11 내지 도 15는, 제2 대차(130)를 도시하는 개략도이다. 도 11은, 제2 대차(130)의 사시도이다. 도 12는, 도 11의 화살표 A21의 방향에서 제2 대차(130)를 본 때의 도면이다. 도 13은, 도 11의 화살표 A22의 방향에서 제2 대차(130)를 본 때의 도면이다. 도 14는, 도 11의 화살표 A23의 방향에서 제2 대차(130)를 본 때의 도면이다. 도 15는, 도 11의 화살표 A24의 방향에서 제2 대차(130)를 본 때의 도면이다.
제2 대차(130)는, 제1 대차(110) 상에 적재된다. 제2 대차(130)는, 제2 평면 상을 이동 가능하게 구성된다. 제2 평면은, 제1 평면과 다른 높이의 평면, 예를 들어 제1 평면보다도 높은 위치에 있는 평면이다. 제2 평면은, 예를 들어 플로어 박스(48)의 제2 상면(48b)이다. 제2 대차(130)는, 프레임(131)과, 캐스터(132)와, 핸들(133)과, 스토퍼(134)와, 보유 지지부(135)와, 가이드 레일(136)과, 보충 레일(137)과, 브래킷(138)과, 브래킷(139)과, 피결합부(140)를 갖는다.
프레임(131)은, 직육면체의 프레임상으로 형성된다. 프레임(131)에는, 캐스터(132), 핸들(133), 스토퍼(134), 보유 지지부(135), 보충 레일(137), 브래킷(138) 및 브래킷(139)이 설치된다. 프레임(131)은, 제2 프레임의 일례이다.
캐스터(132)는, 프레임(131)의 하부의 네 구석에 설치된다. 캐스터(132)는, 예를 들어 클린 룸 대응 캐스터이다. 캐스터(132)는, 가이드 레일(115) 상 및 제2 평면 상에서 제2 대차(130)를 수평 방향으로 이동시킨다. 캐스터(132)는, 예를 들어 주행 방향이 고정하고 있는 고정차이다. 캐스터(132)는, 예를 들어 로크 기구를 구비한 캐스터를 포함하고 있어도 된다. 캐스터(132)의 차륜 재질은, 예를 들어 나일론이다. 캐스터(132)의 차륜 직경은, 예를 들어 100mm 이상이다.
핸들(133)은, 프레임(131)의 상부의 Y축 방향 플러스측에 설치된다. 핸들(133)은, X축 방향을 따라서 연장된다. 작업자는, 핸들(133)을 쥐고 제2 대차(130)를 Y축 방향을 따라서 이동시킬 수 있다.
스토퍼(134)는, 프레임(131)의 하부의 Y축 방향 플러스측에 설치된다. 스토퍼(134)는, 제2 평면과 접촉함으로써, 제2 평면 상에 제2 대차(130)가 고정된다. 스토퍼(134)는 핸들(133)과 동일 측에 설치되므로, 작업자는 핸들(133)을 사용한 제2 대차(130)의 이동과, 스토퍼(134)를 사용한 제2 대차(130)의 고정을, 제2 대차(130)의 동일 측에서 행할 수 있다.
보유 지지부(135)는, 프레임(131)의 상부에 설치된다. 보유 지지부(135)는, 프레임(131)에 대하여 제3 대차(150)를 수평 회전 가능하게 보유 지지한다. 보유 지지부(135)는, 고정 테이블(135a)과, 회전 기구(135b)와, 회전 테이블(135c)과, 회전 정지부(135d)를 갖는다. 보유 지지부(135)는, 회전 테이블(135c)의 회전 충격을 완화하기 위해서, 쇼크 업소버를 갖고 있어도 된다.
고정 테이블(135a)은, 프레임(131)의 상부에 고정된다. 고정 테이블(135a)은, 직사각형 판상을 갖는다. 고정 테이블(135a)은, 예를 들어 프레임(131)에 대하여 승강 가능하다. 이 경우, 가이드 레일(136) 상의 제3 대차(150)가 이동하는 면과, 후술하는 제3 평면이 동일 높이가 되도록 프레임(131)의 높이를 조정할 수 있다. 고정 테이블(135a)은, 예를 들어 기준 위치±10mm의 범위에서 높이를 조정 가능하게 구성된다.
회전 기구(135b)는, 고정 테이블(135a)에 대하여 회전 테이블(135c)을 수평 회전 가능하게 지지한다.
회전 테이블(135c)은, 직사각형 판상을 갖는다. 회전 테이블(135c)은, 회전 기구(135b)를 통해 0° 위치와 90° 위치 사이에서 회전 가능하게 구성된다. 90° 위치는, 0° 위치에 대하여 반시계 방향으로 90° 회전한 위치이다. 회전 테이블(135c)은, 예를 들어 레스트 포지션 타입의 플런저에 의해 고정 테이블(135a)에 고정된다. 회전 테이블(135c)이 0° 위치에 있는 경우에 있어서의 X축 방향 플러스측 또한 Y축 방향 마이너스측의 구석에는, 노치(135e)가 형성된다.
회전 정지부(135d)는, 회전 테이블(135c)의 회전을 정지시킨다.
가이드 레일(136)은, 회전 테이블(135c)의 상면에 서로 간격을 두고 2개 마련된다. 가이드 레일(136)은, 회전 테이블(135c)이 0° 위치에 있는 경우에 있어서, Y축 방향을 따라서 연장된다. 가이드 레일(136)은, 노치(135e)와 대응하는 위치에는 마련되어 있지 않다. 가이드 레일(136)은, 제3 대차(150)의 이동을 안내한다. 가이드 레일(136)은, 제2 가이드 레일의 일례이다.
보충 레일(137)은, 고정 테이블(135a)의 X축 방향 플러스측 또한 Y축 방향 플러스측에 설치된다. 보충 레일(137)은, 수평 회전 가능하다. 보충 레일(137)은, 회전 테이블(135c)이 90° 위치에 있는 경우에 가이드 레일(136)을 보충하고, 가이드 레일(136)과 함께 제3 대차(150)의 이동을 안내한다.
브래킷(138)은, 회전 테이블(135c)에 설치된다. 브래킷(138)은, 제2 대차(130) 상에 적재된 제3 대차(150)를 회전 테이블(135c)에 대하여 고정하기 위하여 사용된다.
브래킷(139)은, 프레임(131)의 상부의 다른 3개의 변에 설치된다. 브래킷(139)은, 제2 대차(130) 상에 적재된 제3 대차(150) 상에 반응관(411)이 적재된 때에, 해당 반응관(411)을 프레임(131)에 대하여 고정하기 위하여 사용된다. 프레임(131)에 대하여 반응관(411)이 고정됨으로써, 제1 대차(110)나 제2 대차(130)를 이동시킬 때에 반응관(411)이 파손되는 것을 방지할 수 있다. 브래킷(139)은, 제2 고정구의 일례이다.
피결합부(140)는, 프레임(131)의 하부의 X축 방향 플러스측에 설치된다. 피결합부(140)는, 상술한 가이드 레일(49a)에 설치된 걸림 결합부(49c)와 걸림 결합 가능하게 구성된다. 걸림 결합부(49c)가 피결합부(140)에 걸림 결합함으로써, 제2 대차(130)가 로드 유닛(42)측에 끌어 당겨져서 고정된다.
도 16은, 제3 대차(150)를 도시하는 개략도이고, 제3 대차(150)의 사시도이다.
제3 대차(150)는, 제2 대차(130) 상에 적재된다. 제3 대차(150)는, 제3 평면을 이동 가능하게 구성된다. 제3 평면은, 제1 평면 및 제2 평면과 다른 높이의 평면, 예를 들어 제2 평면보다도 높은 위치에 있는 평면이다. 제3 평면은, 예를 들어 승강 기구(418)의 상면이다. 제3 대차(150)는, 프레임(151)과, 차륜(152)과, 핸들(153)을 갖는다.
프레임(151)은, 원형의 개구부(151a)가 형성된 직사각형 판상을 갖는다. 프레임(151)은, 상면에서 반응관(411)을 보유 지지한다.
차륜(152)은, 프레임(151)의 하부의 네 구석에 설치된다. 차륜(152)은, 가이드 레일(136) 상 및 제3 평면 상에서 제3 대차(150)를 수평 방향으로 이동시킨다. 차륜(152)은, 예를 들어 엔지니어링 플라스틱 베어링이다.
핸들(153)은, 프레임(151)에 설치된다. 작업자는, 핸들(153)을 쥐고 제3 대차(150)를 이동시킬 수 있다.
〔반응관의 반송 방법〕
도 1 내지 도 16에 추가하여, 도 17 내지 도 24를 참조하여, 기판 처리 장치(1)가 구비하는 복수의 배치 처리부(4) 사이에서 반응관(411)을 반송하는 방법의 일례로서, 배치 처리부(4)에 반응관(411)을 설치하는 방법에 대하여 설명한다. 이하에서는, 복수의 배치 처리부(4) 중 반출입부(2)에 인접하는 배치 처리부(4)에 반응관(411)을 설치하는 경우를 예로 들어 설명한다. 단, 복수의 배치 처리부(4) 중 다른 배치 처리부(4)에 대해서도 마찬가지로 반응관(411)을 설치할 수 있다.
먼저, 도 5에 도시되는 바와 같이, 제1 대차(110) 상에 제2 대차(130)를 적재하고, 브래킷(117)을 사용하여 제1 대차(110) 상에 제2 대차(130)를 고정한다. 이어서, 제2 대차(130) 상에 제3 대차(150)를 적재하고, 브래킷(138)을 사용하여 제2 대차(130) 상에 제3 대차(150)를 고정한다. 이어서, 제3 대차(150) 상에 반응관(411)을 적재하고, 브래킷(139)을 사용하여 제2 대차(130) 상에 반응관(411)을 고정한다.
다음으로, 도 17에 도시되는 바와 같이, 제1 대차(110)를 플로어 박스(48)의 Y축 방향 플러스측의 측면이고, 또한 메인터넌스 통로 B1의 입구와 인접하는 위치로 이동시킨다. 이어서, 어저스터 풋(114)(도 6 참조)에 의해, 제1 대차(110) 상의 제2 대차(130)가 이동하는 면과, 플로어 박스(48)의 제2 상면(48b)이 동일 높이가 되도록 프레임(111)의 높이를 조정한다. 이어서, 연결용 블록(116)(도 6 참조)을 사용하여 플로어 박스(48)의 Y축 방향 플러스측의 측면에 제1 대차(110)를 고정한다. 또한, 제3 대차(150) 상에 반응관(411)을 적재하기 전에 제1 대차(110)를 플로어 박스(48)의 Y축 방향 플러스측의 측면에 고정해도 된다. 이어서, 브래킷(117)에 의한 제2 대차(130)의 고정을 해제한다.
다음으로, 도 18에 도시되는 바와 같이, 제2 대차(130)를 플로어 박스(48)의 제2 상면(48b)을 Y축 방향 마이너스측으로 이동시키고, 반응관(411)의 설치 대상의 배치 처리부(4)와 대응하는 위치에서 정지시킨다. 이때, 플로어 박스(48)의 제2 상면(48b)에 간극이나 단차가 있는 경우에는, 제2 대차(130)의 이동을 원활하게 행하기 위해서, 제2 상면(48b) 상의 캐스터(132)가 통과하는 영역에 밑판을 설치해도 된다.
다음으로, 도 19에 도시되는 바와 같이, 걸림 결합부(49c)(도 4 참조)를 제2 대차(130)의 피결합부(140)(도 11 참조)와 결합시킴으로써, 제2 대차(130)를 로드 유닛(42)측에 끌어 당겨서 고정한다. 또한, 스토퍼(134)(도 11 참조)에 의해, 제2 대차(130)를 고정한다. 이어서, 브래킷(139)(도 11 참조)에 의한 반응관(411)의 고정을 해제한다.
다음으로, 도 20의 (a) 및 도 20의 (b)에 도시되는 바와 같이, 회전 테이블(135c)을 반시계 방향으로 90° 회전시켜, 플런저에 의해 고정 테이블(135a)에 고정한다. 이어서, 보충 레일(137)을 회전시켜서 가이드 레일(136)을 보충한다. 이어서, 브래킷(138)에 의한 제3 대차(150)의 고정을 해제한다.
다음으로, 도 21에 도시되는 바와 같이, 제3 대차(150)를 Y축 방향과 직교하는 X축 방향 플러스측으로 이동시키고, 로드 유닛(42) 내의 승강 기구(418) 상에서 정지시킨다. 승강 기구(418)는, 제3 대차(150)를 이동시키기 전에, 미리 대차 전달 위치로 이동시켜 둔다. 대차 전달 위치는, 반응관(411)의 설치 위치의 바로 아래이다.
다음으로, 도 22의 (a) 및 도 22의 (b)에 도시되는 바와 같이, 승강 기구(418)에 의해, 로드 유닛(42) 내에서 제3 대차(150)를 상승시킨다. 또한, 도 22의 (b)는 도 22의 (a)의 화살표 A31의 방향에서 제3 대차(150)를 본 때의 도면이다.
다음으로, 도 23의 (a) 및 도 23의 (b)에 도시되는 바와 같이, 반응관(411)을 설치 위치에 정지시켜, 열처리 유닛(41) 내에 반응관(411)을 설치한다. 또한, 도 23의 (b)는 도 23의 (a)의 화살표 A32의 방향에서 제3 대차(150)를 본 때의 도면이다.
다음으로, 도 24의 (a) 및 도 24의 (b)에 도시되는 바와 같이, 승강 기구(418)에 의해, 제3 대차(150)를 하강시켜, 대차 전달 위치에서 정지시킨다. 또한, 도 24의 (b)는 도 24의 (a)의 화살표 A33의 방향에서 제3 대차(150)를 본 때의 도면이다.
다음으로, 제3 대차(150)를 X축 방향 마이너스측으로 이동시키고, 제2 대차(130) 상에서 정지시킨다. 이어서, 브래킷(138)을 사용하여 제3 대차(150)를 제2 대차(130) 상에 고정한다.
다음으로, 제2 대차(130)를 Y축 방향 플러스측으로 이동시키고, 제1 대차(110) 상에서 정지시킨다. 이어서, 브래킷(117)을 사용하여 제2 대차(130)를 제1 대차(110) 상에 고정한다.
다음으로, 연결용 블록(116)에 의한 제1 대차(110)의 고정을 해제한다. 이어서, 어저스터 풋(114)을 바닥 F로부터 이격시켜, 캐스터(112)를 바닥 F에 설치시킨다. 이어서, 제1 대차(110)를 소정의 퇴피 위치까지 이동시킨다.
이상의 수순에 의해, 기판 처리 장치(1)가 구비하는 배치 처리부(4)에 반응관(411)을 설치할 수 있다.
또한, 반응관(411)의 설치 방법과 역의 수순에 의해, 기판 처리 장치(1)가 구비하는 배치 처리부(4)에 설치된 반응관(411)을 떼어낼 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 실시 형태에 관한 반응관 반송 지그(100)는, 제1 대차(110)와, 제1 대차(110) 상에 적재되는 제2 대차(130)와, 제2 대차(130) 상에 적재되어, 반응관(411)을 보유 지지하는 제3 대차(150)를 구비한다. 제1 대차(110)는 제1 평면 상을 이동 가능하고, 제2 대차(130)는 제1 평면과 다른 높이의 제2 평면 상을 이동 가능하고, 제3 대차(150)는 제2 평면과 다른 높이의 제3 평면 상을 이동 가능하다. 이에 의해, 높이가 다른 평면을 포함하는 반송 경로를 따라 반응관(411)을 반송할 수 있고, 또한 좁은 작업 스페이스에서 반응관(411)의 이동 방향을 변경할 수 있다. 이 때문에, 반응관(411)을 용이하게 교환할 수 있다.
금회 개시된 실시 형태는 모든 점에서 예시이며 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 상기의 실시 형태는, 첨부의 청구범위 및 그 취지를 일탈하지 않고, 다양한 형태로 생략, 치환, 변경되어도 된다.
상기의 실시 형태에서는, 배치 처리부가 갖는 반응관이 단관 구조인 경우를 설명했지만, 본 개시는 이것에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 해당 반응관은 내부관과 외부관을 포함하는 이중관 구조여도 된다. 이 경우, 제3 대차로서 내부관을 보유 지지 가능한 대차를 사용함으로써, 전술한 반응관 반송 방법과 마찬가지의 방법으로 내부관의 설치 및 떼어내기를 행할 수 있다. 또한, 제3 대차로서 외부관을 보유 지지 가능한 대차를 사용함으로써, 전술한 반응관의 반송 방법과 마찬가지의 방법으로 외부관의 설치 및 떼어내기를 행할 수 있다. 또한, 제3 대차로서, 반응관, 내부관 및 외부관을 보유 지지 가능한 대차를 사용해도 된다.

Claims (10)

  1. 기판 처리 장치가 구비하는 복수의 처리부 사이에서 반응관을 반송하는 반응관 반송 지그이며,
    제1 평면 상을 이동 가능한 제1 대차와,
    상기 제1 대차 상에 적재되어, 상기 제1 평면과 다른 높이의 제2 평면 상을 이동 가능한 제2 대차와,
    상기 제2 대차 상에 적재되어, 상기 제2 평면과 다른 높이의 제3 평면 상을 이동 가능하고, 상기 반응관을 보유 지지하는 제3 대차를
    구비하는, 반응관 반송 지그.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 대차는,
    제1 프레임과,
    상기 제1 프레임에 설치되고, 상기 제1 프레임의 높이를 조정하는 높이 조정 기구와,
    상기 제1 프레임에 설치되고, 상기 제2 대차의 이동을 안내하는 제1 가이드 레일을
    갖는, 반응관 반송 지그.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1 대차는, 상기 제1 프레임에 설치되고, 상기 기판 처리 장치에 대하여 상기 제1 프레임을 고정하는 제1 고정구를 갖는,
    반응관 반송 지그.
  4. 제2항에 있어서, 상기 제2 대차는,
    제2 프레임과,
    상기 제2 프레임에 대하여 수평 회전 가능한 회전 테이블과,
    상기 회전 테이블에 설치되고, 상기 제3 대차의 이동을 안내하는 제2 가이드 레일을
    갖는, 반응관 반송 지그.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제2 대차는, 상기 제2 프레임에 설치되고, 상기 제2 프레임에 대하여 상기 반응관을 고정하는 제2 고정구를 갖는,
    반응관 반송 지그.
  6. 기판 처리 장치가 구비하는 복수의 처리부 사이에서 반응관을 반송하는 방법이며,
    (a) 제2 대차 및 제3 대차를 적재한 제1 대차를, 제1 평면 상 또한 상기 기판 처리 장치와 인접하는 위치로 이동시키는 공정과,
    (b) 상기 공정 (a) 후에 상기 제2 대차를 상기 기판 처리 장치에 형성된 제2 평면 상 또한 상기 복수의 처리부 중 하나의 처리부와 인접하는 위치로 이동시키는 공정과,
    (c) 상기 공정 (b) 후에 상기 제3 대차를 상기 하나의 처리부에 형성된 제3 평면 상 또한 상기 반응관이 설치되는 설치 위치의 바로 아래로 이동시키는 공정과,
    (d) 상기 공정 (c) 후에 상기 제3 대차를 상승시키는 공정을
    갖는, 반응관의 반송 방법.
  7. 제6항에 있어서, (e) 상기 공정 (b)와 상기 공정 (c) 사이에 상기 제2 대차를 수평 회전시키는 공정을 갖는,
    반응관의 반송 방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 공정 (c)는, 상기 제3 대차를 상기 제2 대차의 이동 방향과 직교하는 방향을 따라서 이동시키는 것을 포함하는,
    반응관의 반송 방법.
  9. 제6항에 있어서, (f) 상기 공정 (b) 전에 상기 제3 대차 상에 상기 반응관을 적재하는 공정과,
    (g) 상기 공정 (d) 후에 상기 반응관을 상기 하나의 처리부에 설치하는 공정을
    갖는, 반응관의 반송 방법.
  10. 제6항에 있어서, (h) 상기 공정 (d) 후에 상기 제3 대차 상에 상기 반응관을 적재하는 공정을 갖는, 반응관의 반송 방법.
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