KR20230114852A - 조립 구형화 입자의 제조장치 - Google Patents

조립 구형화 입자의 제조장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20230114852A
KR20230114852A KR1020220010914A KR20220010914A KR20230114852A KR 20230114852 A KR20230114852 A KR 20230114852A KR 1020220010914 A KR1020220010914 A KR 1020220010914A KR 20220010914 A KR20220010914 A KR 20220010914A KR 20230114852 A KR20230114852 A KR 20230114852A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
particles
spherical particles
rotating member
external force
granulated spherical
Prior art date
Application number
KR1020220010914A
Other languages
English (en)
Inventor
강경식
천현호
천상원
Original Assignee
주식회사 제이이엠
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 제이이엠 filed Critical 주식회사 제이이엠
Priority to KR1020220010914A priority Critical patent/KR20230114852A/ko
Publication of KR20230114852A publication Critical patent/KR20230114852A/ko

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B02CRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING; PREPARATORY TREATMENT OF GRAIN FOR MILLING
    • B02CCRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING IN GENERAL; MILLING GRAIN
    • B02C13/00Disintegrating by mills having rotary beater elements ; Hammer mills
    • B02C13/14Disintegrating by mills having rotary beater elements ; Hammer mills with vertical rotor shaft, e.g. combined with sifting devices
    • B02C13/18Disintegrating by mills having rotary beater elements ; Hammer mills with vertical rotor shaft, e.g. combined with sifting devices with beaters rigidly connected to the rotor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B02CRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING; PREPARATORY TREATMENT OF GRAIN FOR MILLING
    • B02CCRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING IN GENERAL; MILLING GRAIN
    • B02C13/00Disintegrating by mills having rotary beater elements ; Hammer mills
    • B02C13/26Details
    • B02C13/28Shape or construction of beater elements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B02CRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING; PREPARATORY TREATMENT OF GRAIN FOR MILLING
    • B02CCRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING IN GENERAL; MILLING GRAIN
    • B02C13/00Disintegrating by mills having rotary beater elements ; Hammer mills
    • B02C13/26Details
    • B02C13/286Feeding or discharge
    • B02C2013/28609Discharge means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은 복수의 침상 입자에 외력을 가하여 적어도 둘 이상의 상기 침상 입자들이 결합된 조립 구형화 입자를 제조하기 위한 조립 구형화 입자의 제조장치에 관한 것으로, 내부에 상기 침상 입자를 수용하기 위한 수용공간이 형성되고, 회전 가능하게 형성되어 상기 침상 입자에 외력을 가하는 회전부재; 및 상기 회전부재의 측부 및 상측 일부를 커버하도록 제공되어 상기 회전부재와의 사이에 개재된 상기 침상 입자에 외력을 가하는 마찰면을 형성하고, 측부에는 상기 외력에 의해 제조된 조립 구형화 입자를 외부로 배출하기 위한 복수의 배출구가 형성된 고정부재;를 포함할 수 있다.

Description

조립 구형화 입자의 제조장치{Manufacturing apparatus for globular particles}
본 발명은 이차 전지의 음극 활물질로 사용되는 조립 구형화 입자를 제조하기 위한 것으로, 보다 상세하게는 내부로 투입된 침상 입자에 충격, 압축, 마찰 등의 외력을 가하여 조립 구형화 입자를 제조하기 위한 조립 구형화 입자의 제조장치에 관한 것이다.
최근 모바일 기기에 대한 기술 개발과 수요가 증가함에 따라 에너지원으로서의 이차 전지의 수요가 급격히 증가하고 있다. 이러한 이차 전지 중 높은 에너지 밀도와 전압을 갖고 사이클 수명이 길며, 방전율이 낮은 리튬 이차 전지가 상용화되어 널리 사용되고 있다.
리튬 이차전지는 전극 집전체 상에 각각 활물질이 도포되어 있는 양극과 음극 사이에 다공성의 분리막이 개재된 전극조립체에 리튬염을 포함하는 전해질이 함침되어 있는 구조로 이루어져 있으며, 상기 전극은 활물질, 바인더 및 도전재가 용매에 분산되어 있는 슬러리를 집전체에 도포하고 건조 및 압연(pressing)하여 제조된다.
종래 이차 전지의 음극으로는 리튬 금속이 사용되었으나, 덴드라이트(dendrite) 형성에 따른 전지 단락과, 이에 의한 폭발의 위험성이 알려지면서, 구조적 및 전기적 성질을 유지하면서, 가역적인 리튬 이온의 삽입(intercalation) 및 탈리가 가능한 탄소계 화합물로 대체되고 있다.
상기 탄소계 화합물은 표준 수소 전극 전위에 대해 약 -3 V의 매우 낮은 방전 전위를 갖고, 흑연판층(graphene layer)의 일축 배향성으로 인한 매우 가역적인 충방전 거동으로 인해 우수한 전극 수명 특성(cycle life)을 나타낸다. 또한, Li 이온 충전 시 전극전위가 0V Li/Li+ 로서 순수한 리튬 금속과 거의 유사한 전위를 나타낼 수 있기 때문에, 산화물계 양극과 전지를 구성할 때, 더 높은 에너지를 얻을 수 있다는 장점이 있다.
상기 탄소계 화합물로는 인조 흑연, 천연 흑연, 하드 카본을 포함한 다양한 형태의 탄소계 재료가 적용되어 왔다. 상기 탄소계 화합물 중 흑연이 현재 가장 널리 사용되고 있다.
상기 흑연 중 천연흑연은 비가역 반응을 줄이고 전극의 공정성을 향상시키기 위해 구형화 과정 등의 후처리 가공을 통해 매끈한 형태의 표면 형상으로 바꾸어 사용하며, 피치 등의 저결정성 탄소를 열처리를 통해 코팅하여 표면을 감싸줌으로써 흑연의 에지면이 그대로 노출되는 것을 방지할 수 있으며 전해질에 의한 파괴를 방지하고 비가역 반응을 감소시킬 수 있다. 구형 천연흑연에 저결정성 탄소를 코팅하여 음극 활물질을 제조하는 방법은 대부분의 음극재 제조 회사에서 사용하는 방법이다.
이러한 음극 활물질을 제조하기 위한 종래의 구형화 입자 제조장치는 흑연 입자를 미분쇄하고 바인더를 첨가한 후 고속 믹서를 사용하여 구형으로 조립하거나 흑연 입자의 모서리를 커팅하는 방법으로 구형화된 음극 활물질을 취득하였다.
그러나, 전자의 방법은 많은 에너지 소모를 필요로 하고, 바인더를 제거하는 후 공정이 필요한 문제가 있다. 또한, 흑연 입자의 모서리를 커팅하는 후자의 방법은 입체적인 형상으로의 조립이 불가능하고 버려지는 미세분말이 발생하여 재료가 낭비되는 문제가 있다.
공개특허공보 10-2021-0040810 (2021.04.14 공개)
본 발명의 과제는 내부로 투입된 침상 입자에 충격, 압축, 마찰 등의 외력을 가하여 이차 전지의 음극 활물질로 사용되는 조립 구형화 입자를 제조하기 위한 조립 구형화 입자의 제조장치를 제공함에 있다.
상기의 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 조립 구형화 입자의 제조장치는 복수의 침상 입자에 외력을 가하여 적어도 둘 이상의 상기 침상 입자들이 결합된 조립 구형화 입자를 제조하기 위한 조립 구형화 입자의 제조장치에 있어서, 내부에 상기 침상 입자를 수용하기 위한 수용공간이 형성되고, 회전 가능하게 형성되어 상기 침상 입자에 외력을 가하는 회전부재; 및 상기 회전부재의 측부 및 상측 일부를 커버하도록 제공되어 상기 회전부재와의 사이에 개재된 상기 침상 입자에 외력을 가하는 마찰면을 형성하고, 측부에는 상기 외력에 의해 제조된 조립 구형화 입자를 외부로 배출하기 위한 복수의 배출구가 형성된 고정부재;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 회전부재는 원형의 판 형상으로 형성되고, 중앙에 회전 액추에이터와 결합되는 결합부가 돌출 형성된 지지 플레이트와, 상기 지지 플레이트의 가장자리를 따라 이격 배치된 복수의 블레이드를 포함할 수 있다.
또한, 상기 블레이드는 상기 지지 플레이트 상에 원주 방향을 따라 등간격으로 배치되고, 일방향으로 기울어지게 제공될 수 있다.
또한, 상기 블레이드는 상기 고정부재와 마주하는 일면이 상기 지지 플레이트의 측부와 나란하게 형성될 수 있다.
또한, 상기 블레이드는 회전 방향으로 만곡 형성될 수 있다.
또한, 상기 회전부재의 하부에는 외부로 이탈된 상기 침상 입자를 쓸어주어, 상기 침상 입자가 상기 회전부재의 하부에 쌓이는 것을 방지하기 위한 복수의 돌출부재가 구비될 수 있다.
또한, 상기 고정부재는 중공의 원기둥 형상으로 제공되어 상기 회전부재의 측부를 감싸도록 형성되며, 상기 배출구가 원주 방향을 따라 이격 배치된 바디부와, 상기 바디부의 상부에서 내측 방향으로 연장 형성되어 상기 조립 구형화 입자가 상부로 이탈하는 것을 방지하기 위한 이탈 방지부를 포함할 수 있다.
또한, 상기 배출구의 크기에 따라 상기 침상 입자에 가해지는 외력의 시간이 증감할 수 있다.
또한, 상기 배출구의 개수에 따라 상기 침상 입자에 가해지는 외력의 시간이 증감할 수 있다.
또한, 상기 고정부재는 교체 가능하게 제공되며, 상기 회전부재와 상기 고정부재 사이의 간극 크기를 제어하여 상기 침상 입자에 가해지는 외력의 크기를 제어할 수 있다.
본 발명에 따르면, 내부로 투입된 침상 입자에 충격, 압축, 마찰 등의 외력을 가하여 조립 구형화 입자를 제조할 수 있으므로, 이를 이차 전지의 음극 활물질로 사용할 수 있게 된다.
또한, 고정부재에 형성된 배출구의 크기 및 개수를 변경하여 조립 구형화 입자의 생산량 및 가공 시간을 제어할 수 있으므로, 환경에 맞는 제어가 용이해지는 이점이 있다.
아울러, 바인더를 투입하지 않고도 조립 구형화 입자를 형성할 수 있기 때문에 구형화 공정 이후 바인더를 제거하는 후공정을 필요로 하지 않으며, 침상 입자의 커팅을 요하지 않기 때문에 재료의 낭비를 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 조립 구형화 입자의 제조장치에 대한 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 회전부재의 일면을 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 1에 도시된 회전부재의 타면을 나타낸 사시도이다.
도 4는 도 1에 도시된 고정부재의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 고정부재의 사시도이다.
도 6(a)는 침상 입자를 나타낸 도면이고 도 6(b)는 도 1에 도시된 조립 구형화 입자를 이용하여 제조된 조립 구형화 입자를 나타낸 도면이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여, 바람직한 실시예에 따른 조립 구형화 입자의 제조장치에 대해 상세히 설명하면 다음과 같다. 여기서, 동일한 구성에 대해서는 동일부호를 사용하며, 반복되는 설명, 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다. 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 조립 구형화 입자의 제조장치에 대한 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 회전부재의 일면을 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 1에 도시된 회전부재의 타면을 나타낸 사시도이며, 도 4는 도 1에 도시된 고정부재의 사시도이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 조립 구형화 입자의 제조장치(100)는 복수의 침상 입자(10)에 외력을 가하여 적어도 둘 이상의 상기 침상 입자(10)들이 결합된 조립 구형화 입자(20)를 제조하기 위한 것으로서, 회전부재(110) 및 고정부재(120)를 포함할 수 있다.
본 실시예에서의 침상 입자(10)는 음극 활물질로서, 인조 흑연, 천연 흑연, 하드 카본 중 적어도 하나를 포함하는 탄소계 입자일 수 있다. 이러한 침상 입자(10)는 상기 탄소계 입자를 원하는 크기 및 형상으로 분쇄하여 획득할 수 있다. 즉, 조립 구형화 입자의 제조장치(100)는 선 가공된 침상의 탄소계 입자를 제공받아 구형입자로 후처리하는 장치일 수 있다.
회전부재(110)는 내부에 침상 입자(10)를 수용하기 위한 수용공간(110a)이 형성되고, 회전 가능하게 형성되어 침상 입자(10)에 외력을 가할 수 있다. 여기서, 회전부재(110)는 내부로 투입된 침상 입자(10)를 회전 방향으로 유동시키며 충격을 가하여 입자 간의 마찰을 통해 조립 구형화 입자(20)를 형성할 수 있다.
회전부재(110)는 조립 구형화 입자의 제조장치(100)에서 하측 몸체를 형성하는 부위로서, 회전 액추에이터에 결합되어 정방향 또는 역방향으로 회전 이동할 수 있다. 여기서, 회전 시간 및 속도는 내부로 투입되는 침상 입자(10)의 양에 따라 적절히 조절될 수 있다.
구체적으로, 회전부재(110)는 지지 플레이트(111)와, 블레이드(112)를 포함할 수 있다.
지지 플레이트(111)는 내부로 투입되는 침상 입자(10)를 지지하기 위한 것으로서, 원형의 판 형상으로 형성되고, 중앙에는 회전 액추에이터와 결합되는 결합부(113)가 돌출 형성될 수 있다. 예를 들어, 결합부(113)는 지지 플레이트(111)의 상측으로 돌출 형성될 수 있으며, 내부에는 회전 액추에이터의 회전 축과 결합 가능한 키홈(113a)이 형성될 수 있다.
블레이드(112)는 회전부재(110)의 회전시 외측으로 이동하려는 침상 입자(10)를 내측으로 흡입하는 동시에 침상 입자(10)에 외력을 가하는 것으로, 복수로 구비되어 지지 플레이트(111)의 가장자리를 따라 이격 배치될 수 있다. 예를 들어, 블레이드(112)는 지지 플레이트(111) 상에 원주 방향을 따라 등간격으로 배치되고, 일방향으로 기울어지게 제공될 수 있다. 이러한 블레이드(112)의 기울기는 침상 입자(10)의 운동방향을 결정할 수 있으며, 구체적으로는 회전 방향으로 30 ~ 60°의 기울기를 갖도록 형성될 수 있다. 즉, 회전부재(110)가 반시계 방향으로 회전 구동하도록 형성된 경우 블레이드(112)는 반시계 방향으로 30 ~ 60°로 기울어지도록 형성될 수 있다.
블레이드(112)는 사각의 판 형상으로 형성될 수 있으며, 회전 방향으로 만곡 형성될 수 있다. 이에 따라, 만곡된 부위를 통해 침상 입자(10)를 타격할 수 있다. 그리고, 블레이드(112)는 고정부재(120)와 마주하는 일면이 지지 플레이트(111)의 측부와 나란하게 형성될 수 있는데, 이는 블레이드(112)의 일면과 후술되는 고정부재(120)의 마찰면(12) 사이에 균일한 힘이 작용하도록 하기 위함이다.
한편, 회전부재(110)의 하부에는 미처 결합하지 못한 침상 입자(10)가 회전력에 의해 외부로 이탈하여 하부에 쌓일 수 있다. 이렇게 쌓인 침상 입자(10)는 더미를 형성하여 회전부재(110)의 회전 구동을 방해할 수 있다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 회전부재(110)의 하부에는 외부로 유출된 침상 입자(10)를 쓸어주어 침상 입자(10)가 회전부재(110)의 하부에 쌓이는 것을 방지하기 위한 복수의 돌출부재(114)가 구비될 수 있다.
돌출부재(114)는 지지 플레이트(111)의 하부에 원주 방향을 따라 등간격으로 배치될 수 있으며, 밑면이 반구 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 돌출부재(114)는 3개 구비되어 지지 플레이트(111)의 하부에 120°간격으로 배치될 수 있다. 본 실시예에서는 돌출부재(114)가 3개 구비된 것으로 도시 및 설명하였으나, 이보다 많거나 적게 구비될 수도 있다.
이와 같이, 회전부재(110)의 회전시 돌출부재(114)가 하부에 쌓인 침상 입자(10)를 쓸어주게 되는 경우, 외부로 유출된 침상 입자(10)로 인한 회전부재(110)의 구동 방해를 미연에 예방할 수 있다.
고정부재(120)는 조립 구형화 입자의 제조장치(100)에서 상측 몸체를 형성하는 부위로서, 회전부재(110)의 측부 및 상측 일부를 커버하도록 제공되어 회전부재(110)와의 사이에 개재된 침상 입자(10)에 외력을 가하는 마찰면(12)을 형성할 수 있다. 예를 들어, 고정부재(120)는 회전부재(110)로부터 이격 배치되어 회전부재(110)와의 사이에서 침상 입자(10)의 가공 공간을 형성할 수 있으며, 이 가공 공간 내에서 침상 입자(10)에 충격, 압축, 마찰 등의 외력을 가할 수 있다. 그리고, 고정부재(120)의 하측부는 작업대 등에 고정 설치될 수 있으며, 측부에는 외력에 의해 제조된 조립 구형화 입자(20)를 외부로 배출하기 위한 복수의 배출구(120a)가 형성될 수 있다.
구체적으로, 고정부재(120)는 바디부(121)와, 이탈 방지부(122)를 포함할 수 있다.
바디부(121)는 중공의 원기둥 형상으로 제공되어 회전부재(110)의 측부를 감싸도록 형성되며, 측부에는 조립 구형화 입자(20)가 배출되는 복수의 배출구(120a)가 원주 방향을 따라 이격 배치될 수 있다. 이때, 배출구(120a)는 상하 방향으로 길게 형성된 구 형상으로 형성될 수 있다.
이탈 방지부(122)는 바디부(121)의 상부에서 내측 방향으로 연장 형성되어 조립 구형화 입자(20)가 상부로 이탈하는 것을 방지할 수 있다. 이때, 이탈 방지부(122)의 연장된 단부는 결합부(113)와 블레이드(112)부 사이에 위치하도록 제공될 수 있는데, 이는 결합부(113)와 이탈 방지부(122) 사이에 침상 입자(10)를 공급받기 위한 유입구(123)를 성하기 위함이다.
고정부재(120)는 교체 가능하게 제공되며, 회전부재(110)와 고정부재(120) 사이의 간극 크기를 제어하여 침상 입자(10)에 가해지는 외력의 크기를 제어할 수 있다. 예를 들어, 고정부재(120)와 회전부재(110) 사이의 간극이 넓어질수록 침상 입자(10)들에 가해지는 마찰력은 증가하되 압축력은 줄어들게 되고, 간극이 좁아질수록 침상 임자에 가해지는 압축력은 증가하되 마찰력은 감소할 수 있다. 즉, 구형화 입자를 제조하기 위해서는 간극을 최소로 형성하는 것이 바람직하고, 구형화 입자를 코팅하기 위해서는 간극을 최대로 형성하는 것이 바람직하다. 이때, 간극은 침상 입자(10)의 폭보다 크고 침상 입자(10)의 길이보다 작게 형성될 수 있다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 고정부재의 사시도이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 고정부재(220)에 형성된 배출구(120a)의 개수는 변경 가능하다. 예를 들어, 배출구(120a)의 개수가 줄어들수록 마찰면적이 증가하여 생산속도가 향상될 수 있다. 그러나, 배출구(120a)의 개수가 너무 적은 경우 조립 구형화 입자(20)의 생산량에 비하여 배출량이 적어 생산에 차질이 생길 수 있기 때문에 배출구(120a)의 개수는 적절히 조절하는 것이 바람직하다.
이 밖에도 고정부에 형성된 배출구(120a)의 크기는 변경 가능하다. 예를 들어, 배출구(120a)의 크기가 증가할수록 제조된 조립 구형화 입자(20)의 배출량은 증가될 수 있다. 그러나, 배출구(120a)의 크기가 너무 큰 경우 마찰면적이 줄어들어 생산 효율이 저하되므로 배출구(120a)의 크기는 적절히 조절하는 것이 바람직하다.
한편, 배출구(120a)의 크기 및 개수에 따라 침상 입자(10)에 가해지는 외력의 시간이 증감할 수 있다. 이는 앞서 설명한 바와 같이 배출구(120a)의 크기 및 개수가 증가할수록 회전부와 고정부 사이의 마찰면적이 줄어들게 되므로 더 많은 가공 시간을 필요로 하기 때문이다. 따라서, 배출구(120a)의 크기 및 개수에 따라 회전부재(110)의 회전구동 시간은 증감될 수 있으며, 원하는 생산량 및 생산속도에 따라 이를 적절히 제어하는 것이 바람직하다.
도 6(a)는 침상 입자를 나타낸 도면이고 도 6(b)는 도 1에 도시된 조립 구형화 입자를 이용하여 제조된 조립 구형화 입자를 나타낸 도면이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르면 도 6(a)의 침상 입자(10)가 조립 구형화 입자의 제조장치(100) 내부로 투입된 상태에서 회전부재(110)가 고속으로 회전하게 되는 경우, 침상 입자(10)에는 충격, 압축, 마찰 등의 외력이 작용하여 침상 입자(10)들이 도 6(b)의 조립 구형화 입자(20)로 제조될 수 있다.
또한, 조립 구형화 입자의 제조장치(100)에 조립 구형화 입자(20)와 비정질 또는 준결정질 탄소 전구체를 함께 투입하는 경우, 비정질 또는 준결정질 탄소 전구체에 연화점 이상의 온도로 강한 기계적 전단력을 부여하여 조립 구형화 입자(20)를 코팅할 수 있다.
전술한 바와 같이, 조립 구형화 입자의 제조장치(100)는 내부로 투입된 침상 입자(10)에 충격, 압축, 마찰 등의 외력을 가하여 조립 구형화 입자(20)를 제조할 수 있으므로, 이를 이차 전지의 음극 활물질로 사용할 수 있게 된다.
또한, 고정부재(120)에 형성된 배출구(120a)의 크기 및 개수를 변경하여 조립 구형화 입자(20)의 생산량 및 가공 시간을 제어할 수 있으므로, 환경에 맞는 제어가 용이해지는 이점이 있다.
아울러, 바인더를 투입하지 않고도 조립 구형화 입자(20)를 형성할 수 있기 때문에 구형화 공정 이후 바인더를 제거하는 후공정을 필요로 하지 않으며, 침상 입자(10)의 커팅을 요하지 않기 때문에 재료의 낭비를 줄일 수 있다.
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
110: 회전부재
111: 지지 플레이트
112: 블레이드
113: 결합부
114: 돌출부재
120: 고정부재
120a: 배출구
121: 바디부
122: 이탈 방지부

Claims (10)

  1. 복수의 침상 입자에 외력을 가하여 적어도 둘 이상의 상기 침상 입자들이 결합된 조립 구형화 입자를 제조하기 위한 조립 구형화 입자의 제조장치에 있어서,
    내부에 상기 침상 입자를 수용하기 위한 수용공간이 형성되고, 회전 가능하게 형성되어 상기 침상 입자에 외력을 가하는 회전부재; 및
    상기 회전부재의 측부 및 상측 일부를 커버하도록 제공되어 상기 회전부재와의 사이에 개재된 상기 침상 입자에 외력을 가하는 마찰면을 형성하고, 측부에는 상기 외력에 의해 제조된 조립 구형화 입자를 외부로 배출하기 위한 복수의 배출구가 형성된 고정부재;
    를 포함하는 조립 구형화 입자의 제조장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 회전부재는,
    원형의 판 형상으로 형성되고, 중앙에 회전 액추에이터와 결합되는 결합부가 돌출 형성된 지지 플레이트와,
    상기 지지 플레이트의 가장자리를 따라 이격 배치된 복수의 블레이드를 포함하는 조립 구형화 입자의 제조장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 블레이드는 상기 지지 플레이트 상에 원주 방향을 따라 등간격으로 배치되고, 일방향으로 기울어지게 제공되는 조립 구형화 입자의 제조장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 블레이드는 상기 고정부재와 마주하는 일면이 상기 지지 플레이트의 측부와 나란하게 형성되는 조립 구형화 입자의 제조장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 블레이드는 회전 방향으로 만곡 형성되는 조립 구형화 입자의 제조장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 회전부재의 하부에는 외부로 이탈된 상기 침상 입자를 쓸어주어, 상기 침상 입자가 상기 회전부재의 하부에 쌓이는 것을 방지하기 위한 복수의 돌출부재가 구비되는 조립 구형화 입자의 제조장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 고정부재는,
    중공의 원기둥 형상으로 제공되어 상기 회전부재의 측부를 감싸도록 형성되며, 상기 배출구가 원주 방향을 따라 이격 배치된 바디부와,
    상기 바디부의 상부에서 내측 방향으로 연장 형성되어 상기 조립 구형화 입자가 상부로 이탈하는 것을 방지하기 위한 이탈 방지부를 포함하는 조립 구형화 입자의 제조장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 배출구의 크기에 따라 상기 침상 입자에 가해지는 외력의 시간이 증감하는 조립 구형화 입자의 제조장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 배출구의 개수에 따라 상기 침상 입자에 가해지는 외력의 시간이 증감하는 조립 구형화 입자의 제조장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 고정부재는 교체 가능하게 제공되며, 상기 회전부재와 상기 고정부재 사이의 간극 크기를 제어하여 상기 침상 입자에 가해지는 외력의 크기를 제어하는 조립 구형화 입자의 제조장치.
KR1020220010914A 2022-01-25 2022-01-25 조립 구형화 입자의 제조장치 KR20230114852A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220010914A KR20230114852A (ko) 2022-01-25 2022-01-25 조립 구형화 입자의 제조장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220010914A KR20230114852A (ko) 2022-01-25 2022-01-25 조립 구형화 입자의 제조장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230114852A true KR20230114852A (ko) 2023-08-02

Family

ID=87566657

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220010914A KR20230114852A (ko) 2022-01-25 2022-01-25 조립 구형화 입자의 제조장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20230114852A (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210040810A (ko) 2019-10-04 2021-04-14 주식회사 엘지화학 구형화된 카본계 음극활물질, 이의 제조방법, 이를 포함하는 음극 및 리튬 이차전지

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210040810A (ko) 2019-10-04 2021-04-14 주식회사 엘지화학 구형화된 카본계 음극활물질, 이의 제조방법, 이를 포함하는 음극 및 리튬 이차전지

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7767346B2 (en) Anode active material, method of preparing the same, and anode and lithium battery containing the material
KR100385357B1 (ko) 리튬-황 전지
US8753778B2 (en) Negative active material for rechargeable lithium battery, method of preparing the same, and rechargeable lithium battery comprising the same
WO2019074753A1 (en) PARTICULATE MATERIALS OF SURFACE-STABILIZED ANODE ACTIVE MATERIAL FOR LITHIUM BATTERIES AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
WO2019060237A1 (en) METHOD FOR PRELITHIATION OF ACTIVE ANODE MATERIAL FOR LITHIUM BATTERY
KR101661050B1 (ko) 복합 흑연질 재료 및 그 제조 방법, 리튬 이온 2차 전지용 부극 재료, 리튬 이온 2차 전지용 부극 및 리튬 이온 2차 전지
CN107078288A (zh) 锂离子二次电池负极材料用石墨质粒子、锂离子二次电池负极和锂离子二次电池
JP2008176981A (ja) 全固体リチウム二次電池用電極および全固体リチウム二次電池
KR20130094853A (ko) 리튬 이온 2차 전지용 부극 재료, 리튬 이온 2차 전지 부극 및 리튬 이온 2차 전지
CN1893149A (zh) 锂二次电池用复合粒子及其制造方法、使用其的锂二次电池
CN1848489A (zh) 锂二次电池的负极活性物质及包含它的负极和锂二次电池
KR20190052406A (ko) 리튬-황 전지용 전해질 복합체, 이를 포함하는 전기화학소자 및 그 제조방법
KR100578868B1 (ko) 리튬 이차 전지용 음극 활물질 및 이를 포함하는 음극 및리튬 이차 전지
KR20150078068A (ko) 리튬 이차전지용 음극 활물질의 제조방법 및 리튬 이차전지
JP4713068B2 (ja) 非水電解質二次電池
KR20150046861A (ko) 리튬-황 전지용 양극 및 이를 제조하는 방법
KR20230114852A (ko) 조립 구형화 입자의 제조장치
JP3409956B2 (ja) リチウムイオン電池用電極の製造方法及びその電極を用いたリチウムイオン電池
KR100960138B1 (ko) 리튬 이차 전지용 음극 활물질, 이의 제조 방법 및 이를포함하는 리튬 이차 전지
JP3622276B2 (ja) ポリマー電解質・リチウム電池およびその電極の製造法
Okashy et al. Practical anodes for Li-ion batteries comprising metallurgical silicon particles and multiwall carbon nanotubes
JP2007157592A (ja) リチウムイオン二次電池用負極材料およびその製造方法、リチウムイオン二次電池負極ならびにリチウムイオン二次電池
US20220359868A1 (en) Anode active material comprising silicon composite formed by network of conductive fibers, preparation method therefor, and lithium secondary battery comprising same
KR20200128306A (ko) 리튬 이차전지용 집전체 프리 양극, 그 제조방법 및 상기 집전체 프리 양극을 포함하는 리튬 이차전지
KR101505218B1 (ko) 수명 저하가 없는 급속 충전형 음극과 이를 포함하는 리튬 이차전지

Legal Events

Date Code Title Description
E601 Decision to refuse application