KR20230058659A - 인 시투 스테이지 수정을 위한 능동 레티클 캐리어 - Google Patents
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Abstract
레티클 검사 시스템 및 레티클 검사 시스템에 있어서 레티클을 취급하는 방법이 제공된다. 레티클 검사 시스템은 능동 레티클 캐리어 및 검사 툴을 포함한다. 레티클은 능동 레티클 캐리어 상에 배치되고, 검사 툴은 능동 레티클 캐리어가 레티클 스테이지 상에 배치되어 있을 때 레티클의 배향을 결정하도록 구성된다. 능동 레티클 캐리어는 로딩 스테이션과 레티클 스테이지의 사이에서 이동가능하고, 능동 레티클 캐리어가 레티클 스테이지 상에 배치되어 있는 동안 레티클의 배향에 기초하여 레티클을 재배향시키기 위하여 레티클을 회전시키도록 구성된다.
Description
관련 발명에 대한 상호 참조
본 출원은, 2020년 9월 3일자로 출원되고, 미국 출원 번호 63/073,937를 부여받은 가출원에 대한 우선권을 주장하며, 해당 가출원은 본 명세서에 참조로서 포함된다.
본 개시는 레티클(reticle) 검사 시스템에 관한 것이고, 보다 구체적으로는, 레티클 검사 시스템 내에서 레티클을 취급하는 것에 관한 것이다.
반도체 제조 산업의 발전은 수율 관리 및, 특히 계측 시스템 및 검사 시스템에 대하여 보다 높은 수준의 요구사항을 부여하고 있다. 임계 치수(critical dimension)는 계속하여 작아지지만, 산업은 고수율, 고부가가치 생산을 달성하기 위해 시간을 단축시킬 필요가 있다. 수율 문제를 감지하는 것부터, 수율 문제를 해결하는 것까지의 총 시간을 최소화하는 것이 반도체 제조업체의 투자 수익을 결정한다.
로직 및 메모리 디바이스와 같은 반도체 디바이스를 제조하는 것은 일반적으로, 반도체 디바이스의 다양한 피쳐 및 다중 레벨(multiple level)을 형성하기 위하여 다수의 제조 공정을 사용하여 반도체 웨이퍼 또는 EUV 마스크를 처리하는 것을 포함한다. 예를 들어, 리소그래피는 레티클로부터 반도체 웨이퍼 상에 배열된 포토레지스트에 패턴을 전사하는 것을 포함하는 반도체 제조 공정이다. 반도체 제조 공정의 추가적인 예로는, CMP(chemical mechanical polishing), 에칭, 퇴적, 및 이온 주입을 포함하지만, 이에 한정되지는 않는다. 다수의 반도체 디바이스는 개별 반도체 디바이스로 분리되는 단일 반도체 웨이퍼 상에서의 배열(arrangement)로 제조될 수 있다.
검사 공정은 반도체 제작 중의 다양한 단계에서 사용되어, 웨이퍼 상의 결함을 감지하여 제작 공정에 있어서 보다 높은 수율을 촉진하고, 이로써 보다 높은 수익을 얻게 한다. 검사는 항상, 집적 회로(integrated circuit, IC)와 같은 반도체 디바이스를 제조하는 데에 있어서 중요한 부분이었다. 그러나, 반도체 디바이스의 치수가 감소함에 따라, 보다 작은 결함이 디바이스의 고장을 야기할 수 있으므로, 허용가능한 반도체 디바이스의 성공적인 제작에 검사가 더욱 중요해지고 있다. 예를 들어, 반도체 디바이스의 치수가 감소함에 따라, 비교적 작은 결함으로도 반도체 디바이스에 원하지 않는 수차를 야기할 수 있으므로, 감소하는 크기의 결함의 감지가 필요해졌다.
레지스트의 선택적인 노광을 위하여 EUV(extreme ultraviolet) 광의 형태의 전자기 에너지를 활용하는 리소그래피 공정이 개발되고 있다. EUV 방사원에 의해 생성된 EUV 방사선은 레티클 표면으로 유도되고, 레티클 표면으로부터 반사되고, 청정 진공 환경에서 웨이퍼 상으로 투사된다. 레티클 표면은 패턴화되어 있고 반사된 광은 이러한 패턴을 웨이퍼 상으로 투사한다. 매우 작은 패턴화된 피쳐 사이즈를 달성하기 위하여, 레티클 패턴의 피쳐 크기는 계속하여 작아지고 있다. 결과적으로, 레티클 표면 상에서의 입자 오염에 대한 요건은 계속하여 더욱 엄격해지고 있다.
입자 오염을 감소시키기 위한 노력으로, 표준 EUV 포드(SEMI 표준 E152-0709를 준수함)가 개발되었다. EUV 포드는 일반적으로 RSP(reticle SMIF pod)로서 지칭하는 외부 캐리어(outer carrier), 및 일반적으로 EIP(EUV inner pod)로서 지칭하는 내부 캐리어를 포함한다. RSP는 상이한 제작 스테이션 및 사이트 사이에서 EUV 마스크를 운반하는 데에 적합하다. EIP는 레티클이 진공 내에, 그리고 레티클 스테이지 근처에 있을 때까지 레티클을 보호 환경 내에 유지할 수 있게 하는 보호 엔클로저(protective enclosure)이다. 진공으로의 펌프다운 또는 대기압으로의 배기 중에, 입자는 휘저어지고, 레티클 표면 상에 퇴적될 수 있다. EIP는 레티클이 진공 내에, 그리고 레티클 스테이지 근처에 있을 때까지 레티클을 보호 환경 내에 유지할 수 있게 한다. 본 명세서에서 전체가 참조로서 포함되는 미국 특허 번호 9,851,643을 포함하여, 다수의 공보가 레티클을 보호하기 위한 EIP의 개발을 설명한다.
전통적으로, EIP는, 레티클이 정전 척 상에 로딩될 수 있도록 진공 상태에서 개방된다. 정전 척을 사용하는 것은 고비용이고, 레티클의 후면부에 축적되는 많은 입자를 생성한다. 대안적으로, 레티클은 클램프 메커니즘을 사용하여 레티클 스테이지 상에 직접 로딩될 수도 있다. 이는 많은 단점을 갖는다. 첫째로, 클램핑 공정은 상당한 수의 입자를 생성한다. EUV 리소그래피 또는 검사 공정에 요구되는 청정 진공 환경에 있어서, 이들 입자를 제어하는 것은 어렵다. 더욱이, 처리 환경에 있어서 이들 입자의 생성은 바람직하지 않다. 둘째로, EIP는 정전 척을 갖는 레티클 스테이지와 함께 사용하도록 특별히 개발되었다. EIP 설계의 한계로 인하여, 레티클을 고정하는 상이한 방법, 즉 클램핑을 이용하는 용례에서 EIP를 사용하는 것이 어렵게 된다. 이는 스테이지 설계를 복잡하게 하고, 또한 클램핑 공정 중에 생성되는 입자의 제어를 어렵게 한다.
레티클이 레티클 스테이지 상에 로딩될 때, 검사 툴에 의해 배열 오류가 발견될 수 있다. 이들 오류를 수정하기 위하여, 레티클은 레티클 스테이지로부터 제거되고, 수동 레티클 캐리어로부터 클램핑 해제되고, 레티클을 재배향시키기 위하여 레티클 로딩 시스템으로 돌아가고, 수동 레티클 캐리어에 다시 클램핑되고, 레티클 스테이지로 돌아가야 한다. 이들 단계는, 스루풋을 감소시키고 다수의 클램핑 단계를 통해 레티클을 입자 오염에 노출시키는 레티클의 복수의 핸드오프(hand-off)를 필요로 한다. 또한, 레티클에 가해지는 클램핑 힘(clamping force)을 측정할 방법이 없으며, 이로 인하여 손상을 야기하거나, 리소그래피 공정의 정확도에 영향을 끼칠 수 있다.
따라서, 레티클이 레티클 스테이지 상에 배치되어 있는 동안, 인 시투(in situ)로 레티클의 배향을 조정할 수 있는 레티클 검사 시스템이 필요하다.
본 개시의 일 실시예는 레티클 검사 시스템을 제공한다. 레티클 검사 시스템은 능동 레티클 캐리어를 포함할 수 있다. 레티클은 능동 레티클 캐리어 상에 배치될 수 있다. 레티클 검사 시스템은 검사 툴을 더 포함할 수 있다. 검사 툴은 능동 레티클 캐리어가 레티클 스테이지 상에 배치되어 있을 때 레티클의 배향을 결정하도록 구성될 수 있다. 능동 레티클 캐리어는 로딩 스테이션과 레티클 스테이지의 사이에서 이동가능할 수 있고, 능동 레티클 캐리어가 레티클 스테이지 상에 배치되어 있는 동안 레티클의 배향에 기초하여 레티클을 재배향시키기 위하여 레티클을 회전시키도록 구성될 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 레티클은 능동 레티클 캐리어에 클램핑될 수 있다. 전자기 액추에이터가 능동 레티클 캐리어 상에 배치될 수 있고, 레티클에 클램핑 힘을 가하도록 구성될 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 능동 레티클 캐리어는 캐리어 베이스, 캐리어 베이스에 회전가능하게 장착된 회전판, 및 캐리어 베이스 내에 배치된 압전 모터를 포함할 수 있다. 압전 모터는 회전판을 캐리어 베이스에 대하여 회전시키도록 구성될 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 능동 레티클 캐리어는 캐리어 베이스 상에 배치되고 압전 모터에 전력을 공급하도록 구성된 재충전가능한 배터리를 더 포함할 수 있다. 시스템의 전달 스테이지는 능동 레티클 캐리어가 전달 스테이지 상에 배치되어 있을 때 재충전가능한 배터리를 재충전하도록 구성될 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 능동 레티클 캐리어는, 캐리어 베이스 내에 배치되고, 검사 툴과 전자적으로 통신하는 프로세서를 더 포함할 수 있다. 프로세서는 레티클의 배향에 상응하는 배향 정보를 수신하고, 배향 정보에 기초하여 회전판을 회전시키도록 구성될 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 능동 레티클 캐리어는 캐리어 베이스가 레티클 스테이지 상에 배치될 때 레티클 스테이지 내의 상응하는 오목부와 결합하는, 캐리어 베이스의 하부 표면으로부터 돌출된 운동학적 커플링(kinematic coupling)을 더 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 능동 레티클 캐리어는 회전판으로부터 상측으로 돌출된 적어도 2개의 레티클 포스트를 더 포함할 수 있다. 레티클은 레티클이 회전판으로부터 이격되도록 적어도 2개의 레티클 포스트 상에 배치될 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 캐리어 베이스는 캐리어 베이스의 측벽으로부터 외측으로 연장되는 제1 플랜지를 포함할 수 있다. 회전판은 회전판의 하부 표면으로부터 하측 및 내측으로 연장되는 제2 플랜지를 포함할 수 있다. 회전판은 제1 플랜지가 회전판의 제2 플랜지와 하부 표면의 사이에 위치되도록 캐리어 베이스에 회전가능하게 장착될 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 레티클은 EIP 내에 배치될 수 있고, EIP는 레티클이 능동 레티클 캐리어 상에 배치되기 전에 EIP의 EIP 커버로부터 EIP 베이스를 분리함으로써 개방된다.
본 개시의 실시예는 레티클 검사 시스템 내에서 레티클을 취급하는 방법을 제공한다. 방법은 로딩 스테이션 상에 배치된 능동 레티클 캐리어 상에 레티클을 배치하는 것을 포함할 수 있다. 방법은 능동 레티클 캐리어를 로딩 스테이션으로부터 레티클 스테이지 상으로 위치시키는 것을 더 포함할 수 있다. 방법은 검사 툴에 의해 레티클의 배향을 결정하는 것을 더 포함할 수 있다. 방법은 능동 레티클 캐리어가 레티클 스테이지 상에 배치되어 있는 동안, 레티클의 배향에 기초하여 레티클을 재배향시키기 위하여, 능동 레티클 캐리어를 사용하여 레티클을 회전시키는 것을 더 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 방법은 레티클을 능동 레티클 캐리어에 클램핑하는 것을 더 포함할 수 있다. 방법은 전자기 액추에이터에 의해 레티클에 가해지는 클램핑 힘을 결정하는 것을 더 포함할 수 있다. 전자기 액추에이터는 능동 레티클 캐리어 상에 배치될 수 있다. 방법은 레티클에 가해지는 클램핑 힘을 검사 툴에 전달하는 것을 더 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 능동 레티클 캐리어를 로딩 스테이션으로부터 레티클 스테이지 상으로 위치시키는 것은 캐리어 베이스의 하부 표면으로부터 돌출된 운동학적 커플링이 레티클 스테이지 상의 상응하는 오목부와 결합하도록, 캐리어 베이스를 레티클 스테이지 상에 배치하는 것을 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예에 따르면, 레티클은 EIP 내에 배치될 수 있다. 레티클을 능동 레티클 캐리어 상에 배치하기 전에, 방법은 EIP의 EIP 커버로부터 EIP 베이스를 분리함으로써 EIP를 개방하는 것을 더 포함할 수 있다.
본 개시의 본질 및 목적에 대한 보다 완전한 이해를 위하여, 이하의 상세한 설명을 첨부 도면과 함께 참조해야 한다.
도 1a는 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템의 개략도이다;
도 1b는 본 개시의 시스템에 사용된 EUV 레티클 포드(pod)의 개략도이다;
도 2a는 본 개시의 일 실시예에 따른 능동 레티클 캐리어의 단면도이다;
도 2b는 본 개시의 일 실시예에 따른 능동 레티클 캐리어의 상면도이다;
도 3은 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템의 레티클 로딩 시스템 내의 로딩 스테이션 상에 배치된 능동 레티클 캐리어의 개략도이다;
도 4는 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템의 전달 챔버 내의 전달 스테이지 상에 배치된 능동 레티클 캐리어의 개략도이다;
도 5는 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템의 레티클 검사 챔버 내의 레티클 스테이지 상에 배치된 능동 레티클 캐리어의 개략도이다;
도 6은 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템 내에서 레티클을 취급하는 방법에 관한 흐름도이다;
도 7은 본 개시의 또 다른 실시예에 따른 레티클 검사 시스템 내에서 레티클을 취급하는 방법에 관한 흐름도이다.
도 1a는 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템의 개략도이다;
도 1b는 본 개시의 시스템에 사용된 EUV 레티클 포드(pod)의 개략도이다;
도 2a는 본 개시의 일 실시예에 따른 능동 레티클 캐리어의 단면도이다;
도 2b는 본 개시의 일 실시예에 따른 능동 레티클 캐리어의 상면도이다;
도 3은 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템의 레티클 로딩 시스템 내의 로딩 스테이션 상에 배치된 능동 레티클 캐리어의 개략도이다;
도 4는 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템의 전달 챔버 내의 전달 스테이지 상에 배치된 능동 레티클 캐리어의 개략도이다;
도 5는 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템의 레티클 검사 챔버 내의 레티클 스테이지 상에 배치된 능동 레티클 캐리어의 개략도이다;
도 6은 본 개시의 일 실시예에 따른 레티클 검사 시스템 내에서 레티클을 취급하는 방법에 관한 흐름도이다;
도 7은 본 개시의 또 다른 실시예에 따른 레티클 검사 시스템 내에서 레티클을 취급하는 방법에 관한 흐름도이다.
청구된 서브젝트 매터를 특정 실시예와 관련하여 설명하지만, 본 명세서에서 기재된 모든 이득 및 특징을 제공하지는 않는 실시예를 포함하는 다른 실시예도 본 개시의 범위 내에 있다. 본 개시의 범위로부터 벗어나지 않으면서 다양한 구조적, 논리적, 공정 단계, 및 전자적 변경이 이루어질 수 있다. 따라서, 본 개시의 범위는 첨부된 청구범위를 참조하는 것에 의해서만 규정된다.
본 개시의 일 실시예는 레티클 검사 시스템(100)을 제공한다. 도 1a에 도시된 바와 같이, 시스템(100)은 포드 로딩 시스템(101), 레티클 로딩 시스템(102), 로드 락(lock)(103), 전달 챔버(104), 및 레티클 검사 챔버(105)를 포함할 수 있다. 점선은 포드 로딩 시스템(101)에서의 입구로부터 레티클 검사 챔버(105)까지 시스템(100)을 통과하고, 다시 되돌아 나오는 레티클(150)의 이동을 일반적으로 예시한다.
도 1b에 도시된 바와 같이, 레티클(150)은 EUV 레티클 포드(10) 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 레티클(150)은 EIP(14) 내에 배치될 수 있다. EIP(14)는 EIP 베이스(16) 및 EIP 커버(15)를 포함할 수 있다. 레티클(150)은 EIP 베이스(16) 상에서 위를 향하도록 또는 아래를 향하도록 배치될 수 있다. EIP 커버(15)는 EIP 베이스(16)와 EIP 커버(15)의 사이에 레티클(150)을 효과적으로 끼우도록 EIP 베이스(16)에 고정될 수 있다. EIP(14)는 때때로 RSP(11)로서 지칭되는 외부 포드에 수용될 수 있다. RSP(11)는 RSP 베이스(13) 및 RSP 커버(12)를 포함할 수 있다. RSP 커버(12)는 RSP 베이스(13)와 RSP 커버(12)의 사이에 EIP(14)를 효과적으로 끼우도록 RSP 베이스(14)에 고정될 수 있다.
EIP 베이스(16)를 EIP 커버(15)로부터 분리함으로써 레티클(150)을 EIP로부터 취출하는 것을 포함하는, 포드 로딩 시스템(101)을 통한 레티클(150)의 이동은, 예를 들어, 미국 특허 번호 9,851,643에 설명되어 있다. 이 특허의 전체 개시는 본 명세서에 참조로서 포함된다.
도 2 내지 도 5를 참조하면, 시스템(100)은 능동 레티클 캐리어(110)를 포함할 수 있다. 레티클(150)은 도 3에 도시된 바와 같이, 시스템(100)의 레티클 로딩 시스템(102) 내의 능동 레티클 캐리어(110) 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 능동 레티클 캐리어(110)는 레티클 로딩 시스템(102) 내의 로딩 스테이션(124) 상에 배치될 수 있다. 펠리클(152)이 레티클(150) 상에 배치될 수 있다. 펠리클(152)의 존재는 레티클(150)이 능동 레티클 캐리어(110) 상에서 상향 또는 하향인지를 표시할 수 있다.
레티클(150)은 능동 레티클 캐리어(110)에 클램핑될 수 있다. 예를 들어, 능동 레티클 캐리어(110)는 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 액추에이터(112a, 112b)에 의해 능동 레티클 캐리어(110)에 대하여 이동가능한 레티클 클램핑 요소(111)를 포함할 수 있다. 액추에이터(112a, 112b)는 자기 액추에이터일 수도 있고, 레티클 클램핑 요소(111)를 이동시킬 수 있는 임의의 다른 적합한 액추에이터일 수도 있다. 예를 들어, 제1 액추에이터(112a)는 레티클 클램핑 요소(111)를 능동 레티클 캐리어(110)에 대하여 내측 및 외측으로 이동시킬 수 있고, 제2 액추에이터(112b)는 레티클 클램핑 요소(111)를 능동 레티클 캐리어(110)에 대하여 상하로 이동시킬 수 있다. 레티클 클램핑 요소(111)는 레티클(150)의 측부(도 2b에 도시된 바와 같이) 또는 레티클(150)의 모서리에 결합할 수 있다. 레티클(150)이 능동 레티클 캐리어(110) 상에 배치되어 있을 때, 액추에이터(112a, 112b)는 레티클 클램핑 요소(111)를 해제 위치로부터, 레티클(150)을 능동 레티클 캐리어(110)에 효과적으로 클램핑하는 결합 위치로 이동시킬 수 있다.
능동 레티클 캐리어(110)는 레티클 로딩 시스템(102)과 레티클 검사 챔버(105)의 사이에서 전달 챔버(104)를 통해 이동가능할 수 있다. 예를 들어, 능동 레티클 캐리어(110)는 레티클 로딩 시스템(102)(도 3에 도시) 내의 로딩 스테이션(124)으로부터, 전달 챔버(104)(도 4에 도시) 내의 전달 스테이지(120)로, 레티클 검사 챔버(105)(도 5에 도시) 내의 레티클 스테이지(130)로 이동가능할 수 있다. 조작기(도시되지 않음)가 능동 레티클 캐리어(110)를 레티클 로딩 시스템(102), 전달 챔버(104)와, 레티클 검사 챔버(105)의 사이에서 이동시킬 수 있다.
시스템(100)은 검사 툴(140)을 더 포함할 수 있다. 검사 툴(140)은 광학 시스템일 수 있고, 전자 빔 또는 이온 빔을 사용할 수 있다. 검사 툴(140)은 능동 레티클 캐리어(110)가 레티클 스테이지(130) 상에 배치되어 있을 때 레티클(150)을 검사하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 검사 툴(140)은 레티클(150)의 배향을 결정하도록 구성될 수 있다. 본 개시의 실시예에 따르면, 레티클(150)은 검사 툴(140)에 의해 검사될 때, 레티클(150)의 배향을 결정하는 데 사용될 수 있는 마킹을 포함할 수 있다. 예를 들어, 마킹은, RPAS 마크, SEMI P48 마킹, 또는 레티클(150)의 배향을 결정하기 위하여 사용하는 업계에 알려진 다른 마킹일 수 있다.
능동 레티클 캐리어(110)는 레티클(150)을 회전시키도록 구성될 수 있다. 특히, 능동 레티클 캐리어(110)는 회전 축을 중심으로 레티클을 회전시키도록 구성될 수 있다. 회전 축은 능동 레티클 캐리어(110)에 대하여 중앙에 위치될 수 있다. 능동 레티클 캐리어는 능동 레티클 캐리어(110)가 레티클 스테이지(130) 상에 배치되어 있는 동안 레티클(150)을 회전시키도록 구성될 수 있다. 이렇게 하여, 능동 레티클 캐리어(110)는 능동 레티클 캐리어(110)가 레티클 검사 챔버(105) 내의 레티클 스테이지(130) 상에 배치되어 있는 동안, 레티클(150)을 재배향시킬 수도 있다. 관련 분야에서 사용되는 수동 레티클 캐리어는 재정렬을 수행하기 위하여 레티클(150)을 레티클 검사 챔버(105) 및 레티클 스테이지(130) 상으로부터 제거한다. 그러나, 본 개시의 검사 시스템(100)에서는, 능동 레티클 캐리어(110)가 레티클 검사 챔버(105) 내의 레티클 스테이지(130) 상에 배치되어 있는 동안, 능동 레티클 캐리어(110)가 레티클(150)을 인 시투로 재배향시킬 수 있다. 일부 실시예에서, 능동 레티클 캐리어(110)는, 능동 레티클 캐리어가 전달 스테이지(120) 상에 배치되어 있는 동안, 또는 레티클 검사 시스템(100)을 통과하는 레티클(150)의 이동의 임의의 다른 부분에서, 레티클(150)을 또한 재배향시킬 수 있다.
도 2a에 도시된 바와 같이, 능동 레티클 캐리어(110)는 캐리어 베이스(113) 및 회전판(115)을 포함할 수 있다. 도 2b에 도시된 바와 같이, 캐리어 베이스(113) 및 회전판(115)은 환형 형상(annular shape)일 수 있다. 예를 들어, 캐리어 베이스(113) 및 회전판(115)의 환상 형상에 의해 개구(151)가 규정될 수 있다. 회전판(115)은 캐리어 베이스(113)에 회전가능하게 장착될 수 있다. 레티클(150)은 회전판(115) 상에 배치될 수 있다. 따라서, 회전판(115)을 캐리어 베이스(113)에 대하여 회전시킴으로써 레티클(150)의 배향이 조정될 수 있다.
압전 모터(160)가 캐리어 베이스(113) 내에 배치될 수 있다. 압전 모터(160)는 회전판(115)을 캐리어 베이스(113)에 대하여 회전시키도록 구성될 수 있다. 압전 모터(160)는 또한 환형 형상일 수 있다. 압전 모터(160)는 높은 재현성 및 높은 각도 민감도를 위한 정확한 위치 결정 시스템을 갖는 피에조 모터 기반(piezo-motor-based) 스테이지일 수 있다. 예를 들어, 압전 모터(160)는 5 마이크로 라디안의 회전 각도 민감도 및 180도의 범위를 가질 수 있다.
배터리(170)가 캐리어 베이스(113) 내에 배치될 수 있다. 배터리(170)는 압전 모터(160)에 전력을 공급하도록 구성될 수 있다. 배터리(170)는 재충전가능한 배터리일 수 있다. 예를 들어, 배터리(170)는 무선 재충전가능한 배터리일 수 있다. 전달 스테이지(120)는 능동 레티클 캐리어(110)가 전달 스테이지(120) 상에 또는 시스템(100)의 임의의 다른 부분에 배치되어 있을 때, 배터리(170)를 재충전하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 충전기(121)가, 도 4에 도시된 바와 같이 전달 스테이지(120) 내에 배치될 수 있다. 충전기(121)는 인덕션을 통해 배터리(170)를 무선으로 재충전할 수도 있고, 또는 배터리 컨택(172)과 접촉되는, 전달 스테이지(120) 상의 충전 컨택(122)을 통해 배터리(170)를 직접 재충전할 수도 있다. 본 개시의 능동 레티클 캐리어(110)에서는, 충전기(121)가 배터리(170)를 재충전할 수 있으므로, 배터리(170)의 교체가 필요하지 않을 수도 있다. 배터리(170)의 교체로 인하여, 시스템(100)의 정지 시간이 증가될 수 있고, 배터리(170)를 교체하기 위하여 능동 레티클 캐리어(110)를 취출하는 동안 시스템(100)이 오염될 수도 있다는 점을 인식할 수 있다. 따라서, 능동 레티클 캐리어(110)는 이들 문제점을 방지할 수 있다.
프로세서(180)가 캐리어 베이스(113) 내에 배치될 수 있다. 프로세서(180)는 마이크로프로세서, 마이크로제어기, 또는 다른 디바이스를 포함할 수 있다.
프로세서(180)는, 프로세서(180)가 출력을 수신할 수 있도록, 임의의 적합한 방식(예컨대, 유선 및/또는 무선 전송 매체를 포함할 수도 있는 하나 이상의 전송 매체를 통함)으로 시스템(100)의 구성요소에 결합될 수 있다. 프로세서(180)는 출력을 사용하여 다수의 기능을 수행하도록 구성될 수 있다. 검사 툴은 프로세서(180)로부터 지시 또는 다른 정보를 수신할 수 있다. 프로세서(180)는 추가적인 정보를 수신하기 위하여, 또는 지시를 송신하기 위하여 또 다른 검사 툴, 계측 툴, 또는 검토 툴(도시되지 않음)과 선택적으로 전자적으로 통신할 수 있다.
프로세서(180)는 개인 컴퓨터 시스템, 이미지 컴퓨터, 메인프레임 컴퓨터 시스템, 워크스테이션, 네트워크 기기, 인터넷 기기, 또는 다른 디바이스를 포함하는 다양한 시스템의 부분일 수 있다. 서브시스템(들) 또는 시스템(들)은 병렬 프로세서와 같이, 해당 분야에서 알려진 임의의 적합한 프로세서를 또한 포함할 수도 있다. 또한, 서브시스템(들) 또는 시스템(들)은 자립형 또는 네트워크형 툴 중의 하나로서, 소프트웨어 및 고속 프로세싱을 갖는 플랫폼을 포함할 수 있다.
프로세서(180)는 시스템(100) 내에 배치되거나, 이와 달리 시스템(100)의 부분이거나, 또 다른 디바이스일 수 있다. 일 예시에서, 프로세서(180)는 자립형 제어 유닛의 부분이거나, 중앙화된 품질 제어 유닛 내에 있을 수 있다. 복수의 프로세서(180)를 사용하여, 시스템(100)의 복수의 서브시스템을 규정할 수 있다.
프로세서(180)는 실제로는 하드웨어, 소프트웨어, 및 펌웨어의 임의의 조합으로 구현될 수 있다. 또한, 본 명세서에 설명된 프로세서(180)의 기능은 하나의 유닛에 의해 수행되거나, 또는 상이한 구성요소 중으로 분할되어 수행될 수 있고, 이들 각각은 순서대로 하드웨어, 소프트웨어 및 펌웨어의 임의의 조합에 의해 구현될 수 있다. 다양한 방법 및 기능을 구현하게 하기 위한 프로그램 코드 또는 지시가 메모리와 같은, 판독가능 스토리지 매체에 저장될 수 있다.
시스템(100)이 하나 이상의 서브시스템을 포함하는 경우, 서브시스템들의 사이에서 이미지, 데이터, 정보, 지시 등이 전달될 수 있도록, 상이한 프로세서들(180)이 서로 결합될 수 있다. 예를 들어, 하나의 서브시스템은, 해당 분야에 알려진 임의의 적합한 유선 및/또는 무선 전송 매체를 포함할 수 있는 적합한 전송 매체에 의해 추가의 서브시스템(들)에 결합될 수 있다. 이러한 서브시스템의 2개 이상은 공유 컴퓨터 판독가능 스토리지 매체(도시되지 않음)에 의해 효과적으로 결합될 수 있다.
프로세서(180)는 시스템(100)의 구성요소의 출력 또는 다른 출력을 사용하여 다수의 기능을 수행하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 프로세서(180)는 전자 데이터 스토리지 유닛 또는 또 다른 스토리지 매체에 출력을 전달하도록 구성될 수 있다. 프로세서(180)는 본 명세서에 설명된 것과 같이 추가로 구성될 수 있다.
프로세서(180)는 결함 검토 시스템, 검사 시스템, 계측 시스템, 또는 일부 다른 타입의 시스템의 부분일 수 있다. 따라서, 본 명세서에서 개시된 실시예는, 상이한 용례에 실질적으로 적합한 상이한 성능을 갖는 시스템을 위하여 다수의 방식으로 개조될 수 있는 일부 구성을 설명한다.
프로세서(180)는 본 명세서에서 설명된 임의의 실시예에 따라 구성될 수 있다. 프로세서(180)는 또한 시스템(100)의 출력을 사용하여 또는 다른 소스로부터의 데이터 또는 이미지를 사용하여 다른 기능 또는 추가의 단계를 수행하도록 구성될 수 있다.
프로세서(180)는 해당 분야에서 알려진 임의의 방식으로 시스템(100)의 임의의 다양한 구성요소 또는 서브시스템에 통신가능하게 결합될 수 있다. 더욱이, 프로세서(180)는 유선부 및/또는 무선부를 포함할 수 있는 전달 매체에 의해 다른 시스템으로부터의 데이터 또는 정보(예컨대, 검토 툴, 설계 데이터 등을 포함하는 원격 데이터베이스와 같은, 검사 시스템으로부터의 검사 결과)를 수신 및/또는 습득하도록 구성될 수 있다. 이러한 방식으로, 전송 매체는 프로세서(180)와 시스템(100)의 다른 서브시스템, 또는 시스템(100)의 외부에 있는 시스템 사이의 데이터 링크로서의 역할을 수행할 수 있다. 본 명세서에서 개시된 시스템(100)의 다양한 단계, 기능, 및/또는 동작 및 방법은 전자 회로, 로직 게이트, 멀티플렉서, 프로그램가능 로직 디바이스, ASICs, 아날로그 또는 디지털 컨트롤/스위치, 마이크로제어기, 또는 컴퓨팅 시스템 중의 하나 이상에 의해 수행된다. 본 명세서에 설명된 바와 같은 방법을 구현하는 프로그램 지시는 캐리어 매체를 통해 전달되거나 캐리어 매체 상에 저장될 수 있다. 캐리어 매체는 리드 온리 메모리, 랜덤 액세스 메모리, 자기 또는 광학 디스크, 비휘발성 메모리, 솔리드 스테이트 메모리, 자기 테이프 등과 같은 스토리지 매체를 포함할 수 있다. 캐리어 매체는 와이어, 케이블, 또는 무선 전송 링크와 같은 전송 매체를 포함할 수 있다. 예를 들어, 본 개시에서 설명한 다양한 단계는 단일 프로세서(180)(또는 컴퓨터 서브시스템)에 의해, 또는 대안적으로, 복수의 프로세서(180)(또는 복수의 컴퓨터 서브시스템)에 의해 수행될 수 있다. 더욱이, 시스템(100)의 상이한 서브시스템은 하나 이상의 컴퓨팅 또는 로직 시스템을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 설명은 본 개시를 제한하는 것이 아닌, 단지 예시로서 해석되어야 한다.
본 개시의 실시예에 따르면, 프로세서(180)는 배터리(170)로부터 전력을 인출할 수 있다. 프로세서(180)는 검사 툴(140)과 전자적으로 통신할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(180)는 검사 툴(140)과 무선 통신할 수도 있고, 또는 검사 툴(140)과 유선 통신할 수도 있다. 프로세서(180)는 검사 툴(140)로부터 레티클(150)의 배향에 상응하는 배향 정보를 수신하도록 구성될 수 있다. 프로세서(180)는 검사 툴(140)로부터 수신된 배향 정보에 기초하여 회전판(115)을 회전시키도록 압전 모터(160)에 지시를 내리도록 구성될 수 있다. 이렇게 하여, 시스템(100)은 레티클(150)의 배향이 검사 툴(140)에 의해 결정될 수 있고, 능동 레티클 캐리어(110)가 레티클 검사 챔버(105) 내의 레티클 스테이지(130) 상에 배치되어 있는 동안, 능동 레티클 캐리어(110)가 레티클(150)을 인 시투로 재배향시킬 수 있는 폐루프 시스템일 수 있다.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 제2 액추에이터(112b)는 능동 레티클 캐리어(110) 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제2 액추에이터(112b)는 회전판(115) 상에 배치될 수 있다. 제2 액추에이터(112b)는 전자기 액추에이터일 수 있고, 프로세서(180)와 전자적으로 통신할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(180)는 제2 액추에이터(112b)에 기지의 전압을 가하여 전기적인 힘을 인가할 수 있다. 전자기적 힘은 레티클(150)을 능동 레티클 캐리어(110)에 효과적으로 클램핑하기 위하여 레티클 클램핑 요소(111)를 상하로 이동시킬 수 있다. 예를 들어, 레티클 클램핑 요소(111)가 해제 위치(도 3에 도시)로부터 결합 위치(예컨대, 도 4에 도시)로 이동될 때, 레티클 클램핑 요소(111)는 레티클(150)을 능동 레티클 캐리어(110)에 효과적으로 클램핑 한다. 과도한 클램핑 힘은 레티클(150)을 손상시킬 수도 있고, 또는 레티클(150)의 배향에 영향을 끼칠 수도 있고, 스캔의 정확도를 감소시킬 수도 있다는 점을 인식할 수 있다. 따라서, 제2 액추에이터(112b)에 기지의 전압을 가함으로써, 레티클(150)에 가해지는 클램핑 힘은 프로세서(180)에 의해 제어될 수 있고, 프로세서(180)는 폐루프 제어를 위하여 클램핑 힘을 검사 툴(140)에 전달할 수 있다.
능동 레티클 캐리어(110)는 캐리어 베이스(113)의 하부 표면으로부터 돌출된 운동학적 커플링(116)을 더 포함할 수 있다. 운동학적 커플링(116)은 능동 레티클 캐리어(110)가 로딩 스테이션(124) 상에 배치될 때, 로딩 스테이션(124) 내의 상응하는 오목부(125)와 결합할 수 있다. 운동학적 커플링(116)은 능동 레티클 캐리어(110)가 전달 스테이지(120) 상에 배치될 때, 전달 스테이지(120) 내의 상응하는 오목부(126)와 또한 결합할 수 있다. 운동학적 커플링(116)은 능동 레티클 캐리어(110)가 레티클 스테이지(130) 상에 배치될 때, 레티클 스테이지(130) 내의 상응하는 오목부(136)와 또한 결합할 수 있다.
능동 레티클 캐리어(110)는 회전판(115)으로부터 상측으로 돌출된 적어도 2개의 레티클 포스트(117)를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 적어도 2개의 레티클 포스트(117)는 회전판(115)으로부터 상측으로 돌출된 아치형, 원형, 또는 다각형의 구조체일 수 있다. 레티클(150)은 레티클(150)이 회전판(115)으로부터 이격되도록 적어도 2개의 레티클 포스트(117) 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 레티클(150)은 회전판(115)으로부터 약 500 μm의 거리만큼 이격될 수 있다.
도 2a에 도시된 본 개시의 일 실시예에 따르면, 캐리어 베이스(113)는 제1 플랜지(118)를 포함할 수 있다. 제1 플랜지는 캐리어 베이스(113)의 측벽(113a)으로부터 외측으로 연장될 수 있다. 회전판(115)은 제2 플랜지(119)를 포함할 수 있다. 제2 플랜지(119)는 회전판(115)의 하부 표면(115a)으로부터 하측 및 내측으로 연장될 수 있다. 따라서, 회전판(115)은 제1 플랜지(118)가 회전판(115)의 제2 플랜지(119)와 하부 표면(115a)의 사이에 위치되도록 캐리어 베이스(113)에 회전가능하게 장착될 수 있다. 제1 플랜지(118)와 제2 플랜지(119)의 사이, 및 제2 플랜지(119)와 회전판(115)의 하부 표면(115a)의 사이에는 간극이 있을 수 있다. 제1 플랜지(118) 및 제2 플랜지(119)의 배치에 의해, 회전판(115)을 캐리어 베이스(113)에 대하여 회전시키는 것을 가능하게 할 수 있고, 입자가 캐리어 베이스(113)로부터 이탈하여 레티클 검사 챔버(105)를 오염시키는 것을 방지할 수 있다는 점을 인식할 수 있다.
본 개시의 시스템(100)에서, 레티클 검사 공정은 관련 분야에 비교하여 향상될 수 있다. 예를 들어, 능동 레티클 캐리어(110)는 능동 레티클 캐리어(110)가 레티클 스테이지(130) 상에 배치되어 있는 동안 레티클(150)을 재배향시킬 수 있는 반면, 종래의 시스템은 재배열을 수행하기 위하여 레티클을 언로딩해야 할 필요가 있다. 따라서, 시스템(100)은 종래의 기술의 시스템에 비교하여 스루풋을 증가시킬 수 있다. 또한, 레티클(150)은 재배향 중에 클램핑 해제되고 다시 클램핑되지 않아도 되므로, 입자 방해(particulate disturbance)의 확률은 감소한다. 또한, 능동 레티클 캐리어(110)는 레티클(150) 상에 클램핑 힘을 제공하기 위하여 검사 툴(140)과 직접 통신할 수 있고, 검사 툴(140)로부터 수신한 배향 정보에 기초하여 레티클(150)을 회전시킬 수 있다. 이렇게 하여, 시스템(100)은 높은 정확도의 정렬 및 스캐닝을 수행하는 폐루프 시스템일 수 있다.
본 개시의 일 실시예는 레티클 검사 시스템 내에서 레티클을 취급하는 방법(200)을 제공한다. 방법은 레티클 검사 시스템(100)에 적용될 수 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, 방법(200)은 이하의 단계를 포함할 수 있다.
단계(210)에서, 레티클은 능동 레티클 캐리어 상에 배치될 수 있다. 능동 레티클 캐리어는 본 명세서에서 개시된 바와 같은, 레티클 검사 시스템의 레티클 로딩 시스템 내의 로딩 스테이션 상에 배치될 수 있다. 능동 레티클 캐리어는 캐리어 베이스 및 회전판을 포함할 수 있다. 캐리어 베이스 및 회전판은 환형 형상일 수 있다. 회전판은 캐리어 베이스에 회전가능하게 장착될 수 있다. 레티클은 회전판 상에 배치될 수 있다. 따라서, 회전판을 캐리어 베이스에 대하여 회전시킴으로써, 레티클의 배향이 조정될 수 있다.
능동 레티클 캐리어는 회전판으로부터 상측으로 돌출된 적어도 2개의 레티클 포스트를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 적어도 2개의 레티클 포스트는 회전판으로부터 상측으로 돌출된 아치형, 원형, 또는 다각형의 구조체일 수 있다. 레티클은 레티클이 회전판으로부터 이격되도록 적어도 2개의 레티클 포스트 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 레티클은 회전판으로부터 약 500 μm의 거리만큼 이격될 수 있다.
압전 모터는 캐리어 베이스 내에 배치될 수 있다. 압전 모터는 회전판을 캐리어 베이스에 대하여 회전시키도록 구성될 수 있다. 압전 모터는 또한 환형 형상일 수 있다. 압전 모터는 높은 재현성 및 높은 각도 민감도를 위한 정확한 위치 결정 시스템을 갖는 피에조 모터 기반 스테이지일 수 있다. 예를 들어, 압전 모터는 5 마이크로 라디안의 회전 각도 민감도 및 180도의 범위를 가질 수 있다.
배터리는 캐리어 베이스 내에 배치될 수 있다. 배터리는 압전 모터에 전력을 공급하도록 구성될 수 있다. 배터리는 재충전가능한 배터리일 수 있다. 예를 들어, 배터리는 무선으로 재충전가능한 배터리일 수 있다. 전달 스테이지는 능동 레티클 캐리어가 전달 스테이지 상에 배치되어 있을 때, 배터리를 재충전하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 충전기가, 전달 스테이지 내에 배치될 수 있다. 충전기는 배터리를 인덕션을 통해 무선으로 재충전할 수도 있고, 또는 배터리 컨택과 접촉되는 전달 스테이지 상의 충전 컨택을 통해 배터리를 직접 재충전할 수도 있다.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 캐리어 베이스는 제1 플랜지를 포함할 수 있다. 제1 플랜지는 캐리어 베이스의 측벽으로부터 외측으로 연장될 수 있다. 회전판은 제2 플랜지를 포함할 수 있다. 제2 플랜지는 회전판의 하부 표면으로부터 하측 및 내측으로 연장될 수 있다. 따라서, 회전판은 제1 플랜지가 회전판의 제2 플랜지와 하부 표면의 사이에 위치되도록 캐리어 베이스에 회전가능하게 장착될 수 있다. 제1 플랜지와 제2 플랜지의 사이, 및 제2 플랜지와 회전판의 하부 표면의 사이에는 간극이 있을 수 있다. 제1 플랜지 및 제2 플랜지의 배치에 의해, 회전판을 캐리어 베이스에 대하여 회전시키는 것을 가능하게 할 수 있고, 입자가 캐리어 베이스로부터 이탈하여 레티클 검사 챔버를 오염시키는 것을 방지할 수 있다는 점을 인식할 수 있다.
단계(220)에서, 능동 레티클 캐리어는 로딩 스테이션으로부터 레티클 스테이지 상으로 위치될 수 있다. 레티클 스테이지는 레티클 검사 시스템의 레티클 검사 챔버 내에 배치될 수 있다. 능동 레티클 캐리어는 캐리어 베이스의 하부 표면으로부터 돌출된 운동학적 커플링을 더 포함할 수 있다. 운동학적 커플링은 능동 레티클 캐리어가 레티클 스테이지 상에 배치될 때, 레티클 스테이지 내의 상응하는 오목부와 결합할 수 있다.
단계(230)에서, 검사 툴이 레티클의 배향을 결정할 수도 있다. 검사 툴은 광학 시스템일 수도 있고, 또는 전자 빔 또는 이온 빔을 사용할 수도 있다. 검사 툴은 능동 레티클 캐리어가 레티클 스테이지 상에 배치되어 있을 때 레티클을 검사하도록 구성될 수 있다. 본 개시의 실시예에 따르면, 레티클은 검사 툴에 의해 검사될 때, 레티클의 배향을 결정하는 데 사용될 수 있는 마킹을 포함할 수 있다. 예를 들어, 마킹은 RPAS 마크, SEMI P48 마킹, 또는 해당 분야에서 레티클의 배향을 결정하기 위하여 사용하는 것으로 알려진 다른 마킹일 수 있다.
프로세서가 캐리어 베이스 내에 배치될 수 있다. 프로세서는 배터리로부터 전력을 인출할 수 있다. 프로세서는 검사 툴과 전자적으로 통신할 수 있다. 예를 들어, 프로세서는 검사 툴과 무선 통신할 수도 있고, 검사 툴과 유선 통신할 수도 있다. 프로세서는 검사 툴로부터 레티클의 배향에 상응하는 배향 정보를 수신하도록 구성될 수 있다.
단계(240)에서, 레티클은 능동 레티클 캐리어가 레티클 스테이지 상에 배치되어 있는 동안, 레티클의 배향에 기초하여 레티클을 재배향시키기 위하여 능동 레티클 캐리어를 사용하여 회전될 수 있다. 능동 레티클 캐리어는 능동 레티클 캐리어가 레티클 검사 챔버 내의 레티클 스테이지 상에 배치되어 있는 동안 레티클을 재배향시킬 수도 있다. 예를 들어, 프로세서는 검사 툴로부터 수신한 배향 정보에 기초하여 회전판을 회전시키도록 압전 모터에 지시하도록 구성될 수 있다. 관련 분야에서 사용되는 수동 레티클 캐리어는 재정렬을 수행하기 위하여 레티클을 레티클 검사 챔버 및 레티클 스테이지 상으로부터 제거해야 한다는 것을 인식할 수 있다. 그러나, 본 개시의 방법(200)에서는, 능동 레티클 캐리어가 레티클 검사 챔버 내의 레티클 스테이지 상에 배치되어 있는 동안 능동 레티클 캐리어가 레티클을 인 시투로 재배향시킬 수 있다.
본 개시의 일 실시예에 다르면, 레티클은 EUV 레티클 포드 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 레티클은 EIP 내에 배치될 수 있다. 단계(210)에서, 레티클을 능동 레티클 캐리어 상에 배치하기 전에, 방법(200)은 EIP의 EIP 커버로부터 EIP 베이스를 분리함으로써 EIP를 개방하는 것을 더 포함할 수 있다. 레티클을 EUV 레티클 포드로부터 취출하는 것에 관한 특정 상세한 설명은 예를 들어, 미국 특허 번호 9,851,643에 설명되어 있다.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 방법(200)은 도 7에 도시된 바와 같이, 단계(220)에서 능동 레티클 캐리어를 전달 스테이지로부터 레티클 스테이지로 위치시키기 전에, 이하의 단계를 더 포함할 수 있다.
단계(212)에서, 레티클은 능동 레티클 캐리어에 클램핑될 수 있다. 예를 들어, 능동 레티클 캐리어는 액추에이터에 의해 능동 레티클 캐리어에 대하여 이동가능한 레티클 클램핑 요소를 포함할 수 있다. 액추에이터는 자기 액추에이터일 수도 있고, 레티클 클램핑 요소를 이동시킬 수 있는 임의의 다른 적합한 액추에이터일 수도 있다. 예를 들어, 제1 액추에이터는 레티클 클램핑 요소를 능동 레티클 캐리어에 대하여 내측 및 외측으로 이동시킬 수 있고, 제2 액추에이터는 레티클 클램핑 요소를 능동 레티클 캐리어에 대하여 상하로 이동시킬 수 있다. 레티클 클램핑 요소는 레티클의 측부 또는 레티클의 모서리에 결합할 수 있다. 레티클이 능동 레티클 캐리어 상에 배치되어 있을 때, 액추에이터는 레티클 클램핑 요소를 해제 위치로부터, 레티클을 능동 레티클 캐리어에 효과적으로 클램핑하는 결합 위치로 이동시킬 수 있다.
단계(214)에서, 제2 액추에이터에 의해 레티클에 가해지는 클램핑 힘이 결정될 수 있다. 제2 액추에이터는 회전판 상에 배치될 수 있다. 제2 액추에이터는 전자기 액추에이터일 수 있고, 프로세서와 전자적으로 통신할 수 있다. 예를 들어, 프로세서는 제2 액추에이터에 기지의 전압을 가하여 전자기적 힘을 인가할 수 있다. 전자기적 힘은 클램핑 힘을 가하여, 레티클을 능동 레티클 캐리어에 효과적으로 클램핑하기 위하여 레티클 클램핑 요소를 상하로 이동시킬 수 있다. 예를 들어, 레티클 클램핑 요소가 해제 위치로부터 결합 위치로 이동될 때, 레티클 클램핑 요소는 레티클을 능동 레티클 캐리어에 효과적으로 클램핑 한다. 과도한 클램핑 힘은 레티클을 손상시킬 수도 있고, 레티클의 배향에 영향을 끼칠 수도 있고, 스캔의 정확도를 감소시킬 수도 있다는 점을 인식할 수 있다. 따라서, 제2 액추에이터에 기지의 전압을 인가함으로써, 레티클에 가해지는 클램핑 힘은 프로세서에 의해 제어될 수 있다.
단계(216)에서, 레티클에 가해지는 클램핑 힘은 검사 툴에 전달될 수 있다. 예를 들어, 프로세서는 검사 툴에 클램핑 힘을 전달할 수 있다. 이렇게 하여, 클램핑 힘은 레티클에 과도한 힘이 가해지는 것을 방지하도록 모니터링될 수 있다.
본 개시를 하나 이상의 특정 실시예에 관하여 설명하였지만, 본 개시의 범위로부터 벗어나지 않으면서 본 개시의 다른 실시예가 있을 수 있다는 점이 이해될 것이다. 따라서, 본 개시는 첨부된 청구범위 및 이에 대한 합리적인 해석에 의해서만 한정되는 것으로 간주된다.
Claims (20)
- 레티클(reticle) 검사 시스템으로서:
능동 레티클 캐리어 - 상기 능동 레티클 캐리어 상에 레티클이 배치됨 - ; 및
상기 능동 레티클 캐리어가 레티클 스테이지 상에 배치되어 있을 때 상기 레티클의 배향을 결정하도록 구성된 검사 툴
을 포함하고;
상기 능동 레티클 캐리어는 로딩 스테이션(loading station)과 상기 레티클 스테이지의 사이에서 이동가능하고, 상기 능동 레티클 캐리어가 상기 레티클 스테이지 상에 배치되어 있는 동안 상기 레티클의 상기 배향에 기초하여 상기 레티클을 재배향시키기 위하여 상기 레티클을 회전시키도록 구성되는 것인, 레티클 검사 시스템. - 제1항에 있어서, 상기 레티클은 상기 능동 레티클 캐리어에 클램핑되는 것인, 레티클 검사 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어 상에 배치되고 상기 레티클에 클램핑 힘(clamping force)을 가하도록 구성된 전자기 액추에이터를 더 포함하는, 레티클 검사 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어는:
캐리어 베이스;
상기 캐리어 베이스에 회전가능하게 장착된 회전판; 및
상기 캐리어 베이스 내에 배치되고, 상기 회전판을 상기 캐리어 베이스에 대하여 회전시키도록 구성된 압전 모터
를 더 포함하는 것인, 레티클 검사 시스템. - 제4항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어는, 상기 캐리어 베이스 상에 배치되고, 상기 압전 모터에 전력을 공급하도록 구성된 재충전가능한 배터리를 더 포함하고, 상기 능동 레티클 캐리어가 전달 스테이지(transfer stage) 상에 배치되어 있을 때, 상기 전달 스테이지는 상기 재충전가능한 배터리를 재충전하도록 구성된 것인, 레티클 검사 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어는:
상기 캐리어 베이스 내에 배치되고, 상기 검사 툴과 전자적으로 통신하는 프로세서 - 상기 프로세서는 상기 레티클의 상기 배향에 상응하는 배향 정보를 수신하고, 상기 배향 정보에 기초하여 상기 회전판을 회전시키도록 구성됨 - 를 더 포함하는 것인, 레티클 검사 시스템. - 제4항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어는, 상기 캐리어 베이스가 상기 레티클 스테이지 상에 배치될 때 상기 레티클 스테이지 내의 상응하는 오목부와 결합하는, 상기 캐리어 베이스의 하부 표면으로부터 돌출된 운동학적 커플링(kinematic coupling)을 더 포함하는 것인, 레티클 검사 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어는 상기 회전판으로부터 상측으로 돌출된 적어도 2개의 레티클 포스트 - 상기 레티클은, 상기 레티클이 상기 회전판으로부터 이격되도록 상기 적어도 2개의 레티클 포스트 상에 배치됨 - 를 더 포함하는, 레티클 검사 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 캐리어 베이스는 상기 캐리어 베이스의 측벽으로부터 외측으로 연장되는 제1 플랜지를 포함하고;
상기 회전판은 상기 회전판의 하부 표면으로부터 하측 및 내측으로 연장되는 제2 플랜지를 포함하며; 그리고
상기 회전판은 상기 제1 플랜지가 상기 회전판의 상기 제2 플랜지와 상기 하부 표면의 사이에 위치되도록 상기 캐리어 베이스에 회전가능하게 장착되는 것인, 레티클 검사 시스템. - 제1항에 있어서, 상기 레티클은 EIP(EUV(extreme ultra violet)inner pod) 내에 배치되고, 상기 EIP는 상기 레티클이 상기 능동 레티클 캐리어 상에 배치되기 전에 상기 EIP의 커버로부터 EIP 베이스를 분리함으로써 개방되는 것인, 레티클 검사 시스템.
- 레티클 검사 시스템에서 레티클을 취급하는 방법으로서:
로딩 스테이션 상에 배치된 능동 레티클 캐리어 상에 상기 레티클을 배치하는 단계;
상기 능동 레티클 캐리어를 상기 로딩 스테이션으로부터 레티클 스테이지 상으로 위치시키는 단계;
검사 툴에 의해 상기 레티클의 배향을 결정하는 단계; 및
상기 능동 레티클 캐리어가 상기 레티클 스테이지 상에 배치되어 있는 동안, 상기 레티클의 상기 배향에 기초하여 상기 레티클을 재배향시키기 위하여, 상기 능동 레티클 캐리어를 사용하여 상기 레티클을 회전시키는 단계
를 포함하는, 레티클 취급 방법. - 제11항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어를 상기 로딩 스테이션으로부터 상기 레티클 스테이지에 위치시키기 전에, 상기 방법은:
상기 레티클을 상기 능동 레티클 캐리어에 클램핑시키는 단계를 더 포함하는, 레티클 취급 방법. - 제12항에 있어서,
전자기 액추에이터에 의해 상기 레티클 상에 가해지는 클램핑 힘을 결정하는 단계 - 상기 전자기 액추에이터는 상기 능동 레티클 캐리어 상에 배치됨 - ; 및
상기 레티클에 대한 상기 클램핑 힘을 상기 검사 툴에 전달하는 단계
를 더 포함하는, 레티클 취급 방법. - 제11항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어는:
캐리어 베이스;
상기 캐리어 베이스에 회전가능하게 장착된 회전판; 및
상기 캐리어 베이스 내에 배치되고, 상기 회전판을 상기 캐리어 베이스에 대하여 회전시키도록 구성된 압전 모터
를 포함하는 것인, 레티클 취급 방법. - 제14항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어는:
상기 캐리어 베이스 상에 배치되고, 상기 압전 모터에 전력을 공급하도록 구성된 재충전가능한 배터리를 더 포함하고;
상기 능동 레티클 캐리어가 전달 스테이지 상에 배치되어 있을 때, 상기 전달 스테이지는 상기 재충전가능한 배터리를 충전하도록 구성된 것인, 레티클 취급 방법. - 제14항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어는:
상기 캐리어 베이스 내에 배치되고, 상기 검사 툴과 전자적으로 통신하는 프로세서 - 상기 프로세서는 상기 레티클의 상기 배향에 상응하는 배향 정보를 수신하고, 상기 배향 정보에 기초하여, 상기 압전 모터를 사용하여 상기 회전판을 회전시키도록 구성됨 - 를 더 포함하는 것인, 레티클 취급 방법. - 제14항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어를 상기 로딩 스테이션으로부터 상기 레티클 스테이지 상으로 위치시키는 단계는:
상기 캐리어 베이스의 하부 표면으로부터 돌출된 운동학적 커플링이 상기 레티클 스테이지 상의 상응하는 오목부와 결합하도록, 상기 레티클 스테이지 상에 상기 캐리어 베이스를 배치하는 단계를 포함하는 것인, 레티클 취급 방법. - 제14항에 있어서, 상기 능동 레티클 캐리어는 상기 회전판으로부터 상측으로 돌출된 적어도 2개의 레티클 포스트 - 상기 레티클은, 상기 레티클이 상기 회전판으로부터 이격되도록 상기 적어도 2개의 레티클 포스트 상에 배치됨 - 를 더 포함하는, 레티클 취급 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 캐리어 베이스는 상기 캐리어 베이스의 측벽으로부터 외측으로 연장되는 제1 플랜지를 포함하고;
상기 회전판은 상기 회전판의 하부 표면으로부터 하측 및 내측으로 연장되는 제2 플랜지를 포함하며; 그리고
상기 회전판은 상기 제1 플랜지가 상기 회전판의 상기 제2 플랜지와 상기 하부 표면의 사이에 위치되도록 상기 캐리어 베이스에 회전가능하게 장착되는 것인, 레티클 취급 방법. - 제11항에 있어서, 상기 레티클은 EIP 내에 배치되고, 상기 능동 레티클 캐리어 상에 상기 레티클을 배치시키기 전에, 상기 방법은:
상기 EIP의 EIP 커버로부터 EIP 베이스를 분리함으로써 상기 EIP를 개방하는 단계를 더 포함하는 것인, 레티클 취급 방법.
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