KR20230045022A - 유리 및 결정화 유리 - Google Patents
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Abstract
산화물 환산 질량%로, SiO2 성분을 40.0 내지 55.0%, Al2O3 성분을 10.0 내지 30.0%, MgO 성분을 10.0 내지 30.0%, TiO2 성분을 5.0 내지 15.0%, Na2O 성분을 0 초과 내지 8.0%로 함유하는 유리 및 그의 결정화 유리가 제공된다.
Description
본 발명은 신규한 조성을 갖는 유리 및 결정화 유리에 관한 것이다.
종래, 유리는 스마트폰, 태블릿형 PC 등의 휴대 전자 기기에 디스플레이를 보호하기 위한 커버 유리로서, 또한, 차량 탑재용 광학기기에 렌즈를 보호하기 위한 프로텍터로서 사용되고 있다. 또한, 최근에는 전자 기기의 외장이 되는 하우징 등으로의 이용도 요구되고 있다. 그리고, 이 기기가 가혹한 사용에 견딜 수 있도록, 높은 강도를 갖는 재료의 요구가 높아지고 있다.
유리의 강도를 높인 것으로는 결정화 유리가 있다. 결정화 유리는 유리 내부에 결정을 석출시킨 것으로, 유리보다 기계적 강도가 우수하다.
특허문헌 1에는 정보 자기 기록 매체용 결정화 유리 기판의 재료 조성이 개시되어 있다. 특허문헌 1에서는 완화휘석(enstatite) 등의 결정상을 갖는 유리 세라믹스 기판이 고속 회전에 대응한 높은 영률을 가지며, 정보 자기 기록 매체에 적합하다는 것이 기재되어 있다.
본 발명의 목적은 강도가 높은 결정화 유리 및 그 원료가 되는 유리를 제공하는 데 있다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 연구를 거듭한 결과, 소정의 조성을 갖는 유리를 결정화시킨 결정화 유리가 경도가 높고, 또한, 화학 강화를 함으로써 더 경도를 높일 수 있다는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 본 발명의 내용을 구체적으로 이하에 나타낸다.
(구성 1)
산화물 환산 질량%로,
SiO2 성분을 40.0 내지 55.0%,
Al2O3 성분을 10.0 내지 30.0%,
MgO 성분을10.0 내지 30.0%,
TiO2 성분을 5.0 내지 15.0%,
Na2O 성분을 0 초과 내지 8.0%로
함유하는,
유리.
(구성 2)
구성 1에 있어서,
산화물 환산 질량%로,
B2O3 성분을 0 내지 5.0%,
P2O5 성분을 0 내지 5.0%,
Li2O 성분을 0 내지 4.0%,
K2O 성분을 0 내지 5.0%,
CaO 성분을 0 내지 5.0%,
SrO 성분을 0 내지 5.0%,
BaO 성분을 0 내지 5.0%,
ZnO 성분을 0 내지 5.0%,
ZrO2 성분을 0 내지 8.0%,
Sb2O3 성분을 0 내지 1.0%로
함유하는,
유리.
(구성 3)
구성 1 또는 2에 따른 유리를 결정화시킨,
결정화 유리.
(구성 4)
구성 3에 있어서,
주 결정상으로서 MgSiO3, MgTi2O5 및 이들의 고용체(solid solution)로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는,
결정화 유리.
(구성 5)
구성 3 또는 4에 있어서,
표면에 압축 응력층을 갖는 강화 유리인,
결정화 유리.
본 발명에 따르면, 강도가 높은 결정화 유리 및 그 원료가 되는 유리를 얻을 수 있다.
본 발명의 결정화 유리 또는 강화된 결정화 유리는, 높은 강도를 갖는 점을 활용하여 기기의 보호 부재 등에 사용될 수 있다. 스마트폰의 커버 유리나 하우징, 태블릿형 PC나 웨어러블 단말기 등의 휴대 전자 기기의 부재로서 이용되거나, 자동차나 비행기 등의 수송 기체에서 사용되는 보호 프로텍터나 헤드업 디스플레이용 기판 등의 부재로서 이용 가능하다. 또한, 기타 전자 기기나 기계 기구류, 건축 부재, 태양광 패널용 부재, 프로젝터용 부재, 안경이나 시계용 커버 유리(방풍) 등에 사용될 수 있다.
이하, 본 발명의 실시 형태 및 실시예에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시 형태 및 실시예에 전혀 한정되지 않으며, 본 발명의 목적 범위 내에서 적절히 변경하여 실시할 수 있다.
결정화 유리는, 유리를 열처리함으로써 유리 내부에 결정을 석출시켜 얻을 수 있다. 일반적으로, 결정화 유리의 결정상은 X선 회절 분석의 X선 회절 도형에서 나타나는 피크의 각도 및 필요에 따라 TEMEDX를 사용하여 판별된다.
본 발명의 결정화 유리는, 예를 들어, 결정상으로서 MgSiO3, MgTi2O5, Mg2SiO4, Na2TiSiO5, MgAl2O4, Mg2Al2Si3O12 또는 이 고용체를 포함한다. 바람직하게는, 주 결정상으로서 MgSiO3, MgTi2O5 및 이들의 고용체로부터 선택되는 하나 이상을 함유한다. 이러한 주 결정상을 가짐으로써 높은 경도를 갖는다.
본 명세서에 있어서의 "주 결정상"이란, X선 회절 도형의 피크로부터 판정되는 결정화 유리 중에 가장 많이 함유된 결정상에 상응한다.
유리 및 결정화 유리(이하, 간단히 유리라고도 한다)의 구성 성분의 함유량을 기재함에 있어서, "산화물 환산 질량%"란, 유리 구성 성분이 모두 분해되어 산화물로 변화한다고 가정한 경우에, 당해 산화물의 총량을 100질량%로 했을 때의, 유리 중에 함유되는 각 성분의 산화물의 양을 질량%로 표기한 것이다. 본 명세서에 있어서, 각 성분의 함유량은, 특별히 언급하지 않는 경우, "산화물 환산 질량%"로 표시한다.
본 명세서에 있어서, A 내지 B%는 A% 이상 B% 이하를 나타낸다. 또한, "0 내지 C%를 함유한다"에서 0은 함유량이 0%인 것을 의미한다.
이하, 구체적으로, 본 발명의 유리를 구성하는 각 성분의 조성 범위를 설명한다.
SiO2 성분은 유리 망목(network) 구조를 형성하는 필수 성분이다. SiO2 성분의 함유량은, 예를 들어, 40.0% 이상, 41.0% 이상 또는 42.0% 이상을 하한으로 할 수 있다. SiO2 성분의 함유량은, 예를 들어, 55.0% 이하, 50.0% 이하, 49.0% 이하 또는 48.0% 이하를 상한으로 할 수 있다.
Al2O3 성분은 SiO2와 마찬가지로 유리 망목 구조를 형성하고, 결정화 전의 유리의 열처리에 의해 결정상을 구성하는 성분이 될 수 있는 필수 성분이다. 또한, 기계적 강도의 향상에 기여하는 성분이다. Al2O3 성분의 함유량은, 예를 들어, 10.0% 이상, 13.5% 이상 또는 15.0% 이상을 하한으로 할 수 있다. Al2O3 성분의 함유량은, 예를 들어, 30.0% 이하, 25.0% 이하 또는 23.0% 이하를 상한으로 할 수 있다.
MgO 성분은 결정상을 구성할 수 있는 성분 중 하나이며, 필수 성분이다. 또한, 기계적 강도의 향상에 기여하는 성분이다. MgO 성분의 함유량은, 예를 들어, 10.0% 이상, 13.5% 이상 또는 15.0% 이상을 하한으로 할 수 있다. MgO 성분의 함유량은, 예를 들어, 30.0% 이하, 25.0% 이하 또는 23.0% 이하를 상한으로 할 수 있다.
TiO2 성분은 결정을 석출시키기 위한 핵 형성의 역할을 하는 필수 성분이다. 또한, 기계적 강도의 향상에 기여하는 성분이다. TiO2 성분의 함유량은, 예를 들어, 5.0% 이상, 6.0% 이상 또는 7.0% 이상을 하한으로 할 수 있다. TiO2 성분의 함유량은, 예를 들어, 15.0% 이하, 14.0% 이하 또는 13.0% 이하를 상한으로 할 수 있다.
Na2O 성분은 화학 강화에 관여하는 필수 성분이다. 또한, 기계적 강도의 향상에 기여하는 성분이다. Na2O 성분의 함유량은, 예를 들어, 0% 초과 0.5% 이상, 1.0% 이상, 2.0% 이상 또는 3.0% 이상을 하한으로 할 수 있다.
Na2O 성분을 많이 포함하면, 얻어지는 유리가 실투(devitrification), 분상(phase separation) 또는 불균일화된다. 따라서, Na2O 성분의 함유량은, 예를 들어, 8.0% 이하, 6.0% 이하, 5.0% 이하 또는 4.5% 이하를 상한으로 할 수 있다.
B2O3 성분, P2O5 성분은 임의 성분으로서 첨가할 수 있다. 임의 성분이란 포함될 수도 있고 포함되지 않을 수도 있는 성분이다. 함유량은 0% 이상으로 할 수 있다.
이들 성분의 함유량은, 각각, 예를 들어, 5.0% 이하, 3.0% 이하 또는 2.0% 이하를 상한으로 할 수 있다. B2O3 성분의 함유량을 0 내지 2.0% 미만 또는 0 내지 1.0%로 할 수 있다.
Li2O 성분은 화학 강화에 관여하는 임의 성분이다. 또한, 기계적 강도의 향상에 기여하는 성분이다.
Li2O 성분을 많이 포함하면, 실투, 분상 또는 불균일화가 발생한다. 따라서, Li2O 성분의 함유량은, 예를 들어, 4.0% 이하, 3.0% 이하, 2.0% 이하 또는 1.0% 이하를 상한으로 할 수 있다.
Na2O 성분과 Li2O 성분은 모두 화학 강화에 관여하지만, 함유량이 많으면 실투성이 나빠지므로, 합계 함유량은, 5.0% 이하가 바람직하고, 4.0% 이하가 보다 바람직하다.
K2O 성분, CaO 성분, SrO 성분, BaO 성분 및 ZnO 성분은 임의 성분으로서 첨가될 수 있다. 이들 성분의 함유량은, 각각, 예를 들어, 5.0% 이하, 3.0% 이하 또는 2.0% 이하를 상한으로 할 수 있다.
ZrO2 성분은 결정을 석출시키기 위한 핵 형성의 역할을 할 수 있는 임의 성분이다. ZrO2 성분의 함유량은, 예를 들어, 8.0% 이하, 5.0% 이하 또는 3.0% 이하를 상한으로 할 수 있다.
유리는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, Gd2O3 성분, TeO2 성분, FeO 성분, La2O3 성분, Y2O3 성분, Nb2O5 성분, Ta2O5 성분, WO3 성분을 임의 성분으로 함유할 수 있다. 각각의 성분의 함유량은 0 내지 2.0% 또는 0.5 내지 1.0%로 할 수 있다.
유리는 청징제로서 Sb2O3 성분, SnO2 성분 및 CeO2 성분으로부터 선택되는 하나 이상을 0 내지 2.0%, 바람직하게는 0.005 내지 1.0%, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 0.5%로 포함할 수 있다.
Pb, Th, Cd, Tl, Os, Be 및 Se의 각 성분은 최근 유해한 화학 물질로서 사용을 삼가하는 경향에 있으므로, 이들을 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다.
상기 배합량은 적절히 조합할 수 있다.
SiO2 성분, Al2O3 성분, MgO 성분, TiO2 성분 및 Na2O 성분을 합하여, 80.0% 이상, 85.0% 이상, 90.0% 이상 또는 92.0% 이상으로 할 수 있다.
본 발명의 강화 결정화 유리는 그 표면에 압축 응력층을 갖는다. 최외측 표면을 깊이 제로로 하면, 최외측 표면의 압축 응력(표면 압축 응력)이 CS이다. 압축 응력이 0MPa일 때의 압축 응력층의 깊이를 DOLzero로 한다.
표면에 압축 응력층을 형성함으로써 크랙(crack)의 확장을 억제하고 기계적 강도를 높일 수 있다. 압축 응력층의 표면 압축 응력값(CS)은 150Mpa 이상이 바람직하고, 200Mpa 이상이 보다 바람직하고, 500Mpa 이상이 보다 바람직하고, 600Mpa 이상이 더욱 바람직하다. 중심 인장 응력(CT)은 예를 들어 30Mpa 이하 또는 25Mpa 이하로 할 수 있다.
압축 응력층이 깊으면, 표면에 깊은 크랙이 발생해도 크랙이 확장되거나, 기판이 깨지는 것을 억제할 수 있다. 압축 응력층의 깊이(DOLzero)는, 25μm 이상이 바람직하고, 30μm 이상이 보다 바람직하고, 40μm 이상이 더욱 바람직하다.
유리 기판의 두께의 하한은, 바람직하게는 0.10mm 이상, 보다 바람직하게는 0.20mm 이상, 보다 바람직하게는 0.40mm 이상이며, 유리 기판의 두께의 상한은, 바람직하게는 10.00mm 이하, 보다 바람직하게는 5.00mm 이하, 보다 바람직하게는 1.00mm 이하, 보다 바람직하게는 0.90mm 이하, 보다 바람직하게는 0.80mm 이하이다.
결정화 유리 또는 강화 결정화 유리는, 실시예에서 측정한 비커스 경도(Hv)가, 바람직하게는 700 이상, 보다 바람직하게는 800 이상, 더욱 바람직하게는 900 이상이다. 이러한 내충격성을 가짐으로써, 보호 부재로서 사용했을 때에 낙하 시의 충격에 견딜 수 있다.
본 발명의 유리 및 결정화 유리는, 예를 들어, 이하의 방법으로 제조할 수 있다.
원료를 균일하게 혼합하고, 제작한 혼합물을 용융, 교반함으로써 균질화한 후에, 성형, 서냉함으로써, 유리를 제조한다. 다음으로, 이 유리를 결정화하여 결정화 유리를 제작한다. 또한, 결정화 유리를 모재로 하여 화학 강화하면 강화 결정화 유리를 형성할 수 있다.
유리를 열처리하여 유리 내부에 결정을 석출시킨다. 이 열처리는 1단계의 온도 또는 2단계의 온도로 열처리할 수 있다.
2단계 열처리에서는, 먼저 제1 온도로 열처리함으로써 핵 형성 공정을 행하고, 이 핵 형성 공정 후에, 핵 형성 공정보다 높은 제2 온도로 열처리 함으로써 결정 성장 공정을 행한다.
1단계 열처리에서는, 1단계의 온도로 핵 형성 공정과 결정 성장 공정을 연속적으로 행한다. 통상, 소정의 열처리 온도까지 승온시키고, 당해 열처리 온도에 도달한 후에 일정 시간 그 온도를 유지하고, 그 후, 강온시킨다.
1단계의 온도로 열처리할 경우, 열처리 온도는 600℃ 내지 1000℃가 바람직하고, 750℃ 내지 900℃가 보다 바람직하다. 또한, 열처리 온도에서의 유지 시간은, 30분 내지 500분이 바람직하고, 60분 내지 300분이 보다 바람직하다.
압축 응력층의 형성 방법으로서는, 예를 들어 결정화 유리 기판의 표면층에 존재하는 알칼리 성분을, 그보다 이온 반경이 큰 알칼리 성분과 교환 반응시켜, 표면층에 압축 응력층을 형성하는 화학 강화법이 있다. 또한, 결정화 유리 기판을 가열하고, 그 후 급냉하는 열 강화법, 결정화 유리 기판의 표면층에 이온을 주입하는 이온 주입법이 있다.
화학 강화법은, 예를 들어 다음과 같은 공정으로 실시할 수 있다. 결정화 유리를, 칼륨 또는 나트륨을 함유하는 염, 예를 들어 질산칼륨(KNO3), 질산나트륨(NaNO3) 또는 그 혼합염이나 복합염의 용융염에 접촉 또는 침지시킨다. 이 용융염에 접촉 또는 침지시키는 처리(화학 강화 처리)는 1단계 또는 2단계로 처리할 수 있다.
예를 들어 2단계 화학 강화 처리의 경우, 첫번째로 350℃ 내지 550℃로 가열한 나트륨염 또는 칼륨과 나트륨의 혼합염에 1 내지 1440분 접촉 또는 침지시킨다. 이어서, 두번째로 350℃ 내지 550℃로 가열한 칼륨염 또는 칼륨과 나트륨의 혼합염에 1 내지 1440분 접촉 또는 침지시킨다.
1단계 화학 강화 처리의 경우, 350℃ 내지 550℃로 가열한 칼륨 또는 나트륨을 함유하는 염, 또는 그 혼합염에 1 내지 1440분, 바람직하게는 90 내지 600분 접촉 또는 침지시킨다.
열 강화법에 대해서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 결정화 유리를 300℃ 내지 600℃로 가열한 후, 수냉 및/또는 공냉 등의 급속 냉각을 실시함으로써, 결정화 유리 기판의 표면과 내부의 온도차에 의해 압축 응력층을 형성할 수 있다. 또한, 상기 화학 처리법과 조합함으로써, 압축 응력층을 더욱 효과적으로 형성할 수 있다.
이온 주입법에 대해서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 결정화 유리(모재) 표면에 임의의 이온을 모재 표면이 파괴하지 않을 정도의 가속 에너지, 가속 전압으로 충돌시킴으로써 모재 표면에 이온을 주입한다. 그 후, 필요에 따라 열처리를 행함으로써, 다른 방법과 마찬가지로 표면에 압축 응력층을 형성할 수 있다.
실시예
실시예 1 내지 36, 비교예 1, 2
1. 유리 및 결정화 유리의 제조
유리의 각 성분의 원료로서 각각 상응하는 산화물, 수산화물, 탄산염, 질산염, 불화물, 염화물, 메타 인산 화합물 등의 원료를 선정하고, 이들 원료를 표 1에 기재된 조성(질량%)이 되도록 칭량하여 균일하게 혼합하였다. 또한, 비교예 1은 특허문헌 1의 실시예 6에 상응한다.
이어서, 혼합한 원료를 백금 도가니에 투입하고, 유리 조성의 용융 난이도에 따라 전기로에서 1300℃ 내지 1540℃의 온도 범위에서 용융하였다. 그 후, 용융한 유리를 교반하여 균질화한 후 금형에 주입하고, 서냉하여 유리를 제작하였다.
얻어진 유리에 대하여, 표 1에 나타낸 결정화 온도와 결정화 시간으로 1단계 열처리를 실시하여, 결정화 유리를 제작하였다. 얻어진 결정화 유리에 대해서, X선 회절에 의해 결정상을 확인하였다. 확인된 결정상 및 열처리 시 온도에서의 유지 시간을 표 1에 나타낸다.
2. 결정화 유리의 화학 강화
제작한 결정화 유리를 절단 및 연삭하고, 실시예 1 내지 34 및 비교예에 대해서는 두께가 10mm가 되도록 대면 평행 연마하고, 실시예 35, 36에 대해서는 두께가 1.00mm가 되도록 대면 평행 연마하여, 결정화 유리 기판을 얻었다.
실시예 1 내지 11, 13 내지 29, 35 내지 36, 비교예 1, 2에서는, 결정화 유리 기판을 KNO3 염욕에 500℃에서 8시간(480분) 침지시키고, 화학 강화를 행하여 강화 결정화 유리를 얻었다.
3. 결정화 유리 및 강화 결정화 유리의 평가
결정화 유리 및 강화 결정화 유리에 대하여 이하의 평가를 실시하였다.
(1) 비커스 경도 측정
결정화 유리(강화 전)와 강화 결정화 유리(강화 후)의 비커스 경도(Hv)를 표 2에 나타낸다. 비커스 경도는, 대면각이 136°인 다이아몬드 사각추 압자를 사용하여, 시험면에 피라미드 형상의 오목부를 형성했을 때의 하중을, 오목부의 길이로부터 산출한 표면적(mm2)으로 나눈 값으로 나타냈다. (주)시마즈 세이사꾸쇼((株)島津製作所)의 마이크로 비커스 경도계 HMV-G21D를 사용하여, 시험 하중 200gf, 유지 시간 15초로 측정하였다.
(2) 응력 측정
실시예 1 내지 9, 11, 13, 14, 16, 18 내지 21, 35, 36에서 얻어진 강화 결정화 유리 기판에 대해서는 응력 측정을 하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. 표면 압축 응력값(CS)은, 오리하라 세이사꾸쇼(折原製作所) 제품인 유리 표면 응력계 FSM-6000LE 시리즈를 사용하여 측정하였다. CS 측정에 사용되는 측정기의 광원은 596nm 파장의 광원을 선택하였다. CS 측정에 사용하는 굴절률은 596nm의 굴절률 값을 사용하였다. 파장 596nm에 있어서의 굴절률 값은, JIS B 7071-2:2018에 규정된 V 블록법에 준하여 C선, d선, F선, g선의 파장에 있어서의 굴절률의 측정값으로부터 2차 근사식을 사용하여 산출하였다.
CS 측정에 사용하는 596nm의 광탄성 상수의 값은, 파장 435.8nm, 파장 546.1nm, 파장 643.9nm에 있어서의 광탄성 상수의 측정값으로부터 2차 근사식을 사용하여 산출하였다.
압축 응력층의 깊이(DOLzero)(μm) 및 중심 인장 응력(CT)은 산란광 광탄성 응력계 SLP-1000을 사용하여 측정하였다. DOLzero 및 CT 측정에 사용되는 측정 광원의 파장은 640nm 파장의 광원을 선택하였다.
DOLzero 및 CT 측정에 사용되는 굴절률은 640nm의 굴절률 값을 사용하였다. 또한, 파장 640nm에 있어서의 굴절률 값은, JIS B 7071-2:2018에 규정되는 V 블록법에 준하여 C선, d선, F선, g선의 파장에 있어서의 굴절률의 측정값으로부터 2차 근사식을 사용하여 산출하였다.
DOLzero 및 CT 측정에 사용되는 640nm의 광탄성 상수의 값은, 파장 435.8nm, 파장 546.1nm, 파장 643.9nm에 있어서의 광탄성 상수의 측정값으로부터 2차 근사식을 사용하여 산출하였다.
(3) 파괴 인성
실시예 18, 21, 비교예 1에서 얻어진 결정화 유리 기판에 대해서, 화학 강화 전후에 파괴 인성을 측정하였다. 결과를 표 3에 나타낸다. 파괴 인성은, (주)시마즈 세이사꾸쇼의 마이크로 비커스 경도계 HMV-G21D를 사용하여, 시험 하중 1kgf, 유지 시간 15초로 측정하였다.
표 2에 나타낸 바와 같이, 실시예의 결정화 유리는 화학 강화되어 표면에 압축 응력층이 형성됨으로써 비커스 경도가 높아져 있다.
한편, 비교예 1, 2에서는, KNO3 염욕에 500℃에서 8시간 침지해도, 비커스 경도가 높아져 있지 않은 점에서, 화학 강화되지 않아 압축 응력층이 형성되어 있지 않은 것을 알 수 있다. 오히려, 염욕 침지에 의해 표면이 거칠어져 비커스 경도가 저하되어 있다.
표 3에 나타낸 바와 같이, 실시예 18, 21의 결정화 유리는 화학 강화되면 파괴 인성이 높아진다. 비교예 1에서는, 화학 강화되어 있지 않으므로 파괴 인성은 변하지 않는다. 파괴 인성이 높으면, 크랙의 확장을 억제할 수 있다.
본 명세서에 기재된 문헌 및 본원의 파리 조약 우선권의 기초가 되는 일본 출원 명세서의 개시(명세서, 도면, 클레임을 포함한다)를 모두 여기에 원용한다.
Claims (5)
- 산화물 환산 질량%로,
SiO2 성분을 40.0 내지 55.0%,
Al2O3 성분을 10.0 내지 30.0%,
MgO 성분을 10.0 내지 30.0%,
TiO2 성분을 5.0 내지 15.0%,
Na2O 성분을 0 초과 내지 8.0%로
함유하는,
유리. - 제1항에 있어서,
산화물 환산 질량%로,
B2O3 성분을 0 내지 5.0%,
P2O5 성분을 0 내지 5.0%,
Li2O 성분을 0 내지 4.0%,
K2O 성분을 0 내지 5.0%,
CaO 성분을 0 내지 5.0%,
SrO 성분을 0 내지 5.0%,
BaO 성분을 0 내지 5.0%,
ZnO 성분을 0 내지 5.0%,
ZrO2 성분을 0 내지 8.0%,
Sb2O3 성분을 0 내지 1.0%로
함유하는,
유리. - 제1항 또는 제2항에 따른 유리를 결정화시킨,
결정화 유리. - 제3항에 있어서,
주 결정상으로서 MgSiO3, MgTi2O5 및 이들의 고용체(solid solution)로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는,
결정화 유리. - 제3항 또는 제4항에 있어서,
표면에 압축 응력층을 갖는 강화 유리인,
결정화 유리.
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001048581A (ja) | 1999-06-01 | 2001-02-20 | Ohara Inc | 高剛性ガラスセラミックス基板 |
Family Cites Families (12)
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Patent Citations (1)
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