KR20230044221A - 연도 가스 처리 장치 및 관련 방법 - Google Patents

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엔조 조세프 치아룰로
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테노바 에스.피.에이.
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Abstract

가스 회로를 포함하고, 제 1 분기를 따라 제 1 열교환 챔버 및 제 2 분기를 따라 제 2 열교환 챔버, 연도 가스의 온도 측정 장치 및/또는 유량 측정 장치, 적어도 제 1 위치와 제 2 위치 사이에서 움직일 수 있는 조절 부재를 가지는 산업 플랜트에 의해 방출되는 고온 처리 장치. 제 1 위치에서 연도 가스의 제 1 열교환 챔버로의 이동이 허용되는 반면, 연도 가스의 제 2 열교환 챔버로의 이동은 방지되거나 감소되며, 제 2 위치에서 연도 가스가 제 1 및 제 2 열 교환 챔버로 이동하는 것이 허용된다. 제어 유닛은 연도 가스의 온도 및/또는 유량 값에 기초하여 제 1 위치 또는 제 2 위치에서 조절 부재를 명령하도록 구성된다.

Description

연도 가스 처리 장치 및 관련 방법
본 발명은 산업 플랜트, 즉 철 및 비철 금속을 위한 금속 처리 또는 주조 플랜트에 의해 방출되는 연도 가스의 처리 장치에 관한 것으로, 연도 가스의 열 에너지는 재사용을 위해 적어도 부분적으로 회수된다. 본 발명의 처리 장치는 연도 가스에 포함된 하나 이상의 유형의 오염 물질의 감소 또는 적어도 감소에 관한 것이다. 본 발명은 또한 각각의 연도 가스 처리 방법에 관한 것이다.
고온 열 공정이 수반되는 산업 공정에서, 특히 원료가 중합체 요소로 오염된 경우 연도 가스에 고농도의 오염 물질이 발생한다. 이것은 예를 들어 도시 고형 폐기물 처리 공장, 폐기물 에너지 공장 또는 특히 철 스크랩이 전기 아크로와 같은 용광로에서 용해되는 고철 회수를 위한 철강 공장에서 발생한다. 이러한 산업 공정에 도입된 물질(폐기물 에너지 공장의 도시 폐기물, 전기 아크로의 고철)에는 필연적으로 고온 및 후속 냉각의 결과 다이옥신 및 푸란을 발생시킬 수 있는 고분자 오염 물질이 포함되어 있으며, 산업 공정에서 생성된 배기 가스에 의해 대기 중으로 확산되면 인체 건강에 위험을 초래할 수 있다.
페인트, 코팅 또는 플라스틱 요소와 같은 고분자 물질로 종종 오염되는 금속 스크랩, 특히 철 스크랩의 회수 공정의 경우 일반적으로 전기 아크로(EAF, electric arc furnaces)가 사용된다. 고분자 물질은 연소될 수 있으며, 그 생성물은 EAF에서 수행되는 공정에 의해 생성된 가스 스트림으로 배출된다. EAF 공정은 일반적으로 매우 높은 온도, 특히 1500°C 이상을 포함하여 연도 가스에서 다이옥신 전구체를 생성한다. 또한, EAF 공정은 EAF로의 재료 적재 작업, 재료의 용융 공정 및 후속 용융 금속 주조로 인해 높은 불연속성을 특징으로 한다. 이로 인해 배치 유형인 공정 단계 동안 처리할 연도 가스의 유량이 달라 지게 된다. 마지막으로 EAF 공정에서 방출되는 가스의 고온은 추가 사용을 위한 해당 에너지가 회수되도록 한다.
연도 가스의 오염 물질을 줄이기 위한 알려진 방법은 이러한 가스를 700 - 800°C 이상, 특히 850°C 이상의 온도에서 2초 이상의 시간 동안 유지한 다음 이러한 연도 가스를 바람직하게는 600°C와 250°C의 온도 사이에서 200-300°C/sec이상의 속도로 급속 냉각시키는 것을 의미한다. 오염 물질을 줄이기 위해 활성탄을 주입할 수도 있다.
연도 가스의 신속한 냉각은 주위 압력과 온도에서 공기와 물의 혼합물이 연도 가스 흐름에 주입되는 담금질 타워(Quenching Towers)를 통해 얻을 수 있다. 주입된 혼합물과 밀접하게 접촉하는 가스는 혼합물의 액체 부분을 증발시키는 데 필요한 열을 방출하고 타워의 부피 내에서 냉각된다. 타워는 연도 가스 흐름의 속도가 주입된 물 흐름의 속도와 결합되어 원하는 연도 가스 냉각 속도를 달성할 수 있도록 설계된다. 그러나 담금질 타워와 관련된 단점은 이 공정이 연도 가스에 존재하는 열 에너지를 적어도 부분적으로 회수할 수 없다는 것이다.: 실제로 이 공정에서 생성된 증기는 대기 중으로 분산된다.
산업 공정에서 열 에너지를 회수하는 시스템은 "폐열 보일러"(WHB)로 알려져 있으며 작동 유체는 연도 가스로부터 열 에너지를 받기 위해 열 교환기를 정의하는 복수의 튜브 내에서 흐른다.: 이러한 튜브는 작동 유체의 기상(gaseous phase)을 받는 스팀 드럼에 유동적으로 흐른다. 작동 유체 순환은 열 자체에 의해 결정되며, 이로 인해 작동 유체의 기상은 스팀 드럼 쪽으로 흐르고 작동 유체의 액상은 스팀 드럼에서 열교환기로 흘러서 산업 플랜트의 연도 가스로부터 열 에너지를 빼게 된다.: 이러한 종류의 WHB에서 유체 순환은 유체 흐름을 유발하는(작동 유체의 순환을 위한 적어도 하나의 펌프가 설치된 보조 또는 강제 순환에서도 가능함) 펌프가 없음을 특정하기 위해 "자연 순환"이라고 한다. 어쨌든 EAF 공정에서 일반적으로 발생하는 것과 같이 일정하지 않은 양으로 생성되는 연도 가스와 교환되는 열 에너지에 의존하는 작동 유체의 유량이므로 유속이 변할 때 연도 가스의 적절한 냉각 속도를 얻을 수 없다. 상술한 파라미터를 벗어난 연기의 냉각 속도는 새로운 합성을 통해 대기 중에 분산될 다이옥신과 푸란의 재형성에 기여하는 조건으로 이어진다.
요약하자면, 출원인은 상기 두 분기 기술, 즉 급속 담금질 탑과 폐열 보일러 기술이 연도 가스의 오염 물질 감소와 열 에너지 회수의 조합이 필요할 때 중요한 결점을 갖는다고 지적한다.
따라서 본 발명의 범위는 이전 해결책의 결점 및/또는 제한 중 하나 이상을 적어도 부분적으로 해결하는 것이다.
첫 번째 범위는 연소 또는 고온 공정이 수반되는 산업 플랜트에서 배출되는 연도 가스에 함유된 하나 이상의 오염 물질, 특히 다이옥신 및 퓨란을 감소시킬 수 있는 연도 가스 처리 장치 및 관련 방법을 제공하는 것이다.
추가 범위는 추가 사용을 위해 연도 가스에 함유된 열 에너지를 적어도 부분적으로 회수할 수 있는 연도 가스 처리 장치 및 관련 방법을 제공하는 것이다.
또 다른 범위는 에너지 회수와 연도 가스의 오염 물질 감소를 결합할 수 있는 연도 가스 처리 장치 및 관련 방법을 제공하는 것이다.
추가 범위는 오염물 처리 공정 동안 연도 가스의 냉각 속도 제어를 개선할 수 있는 연도 가스 처리 장치 및 관련 방법을 제공하는 것이다.
또 다른 범위는 신뢰할 수 있고 오염 물질의 감소에 효과적이며 에너지 회수 양태에서 효율적인 연도 가스 처리 장치 및 관련 방법을 제공하는 것이다.
이하의 설명으로부터 더욱 명백해질 이러한 범위 및 그 이상은 실질적으로 이하의 청구범위 및/또는 양태 중 하나 이상에 따른 연도 가스 처리 장치 및 관련 방법에 의해 달성된다.
요약 섹션
제 1 양태는 가스 회로 및 유체 회로를 포함하는, 산업 플랜트에 의해 방출되는 고온 연도 가스의 처리 장치(1)에 관한 것으로, 상기 가스 회로는:
각각의 가스 입구(11a, 12a) 및 가스 출구(11b, 12b)를 모두 포함하고 연도 가스를 입구에 수용하도록 구성된 적어도 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12);
상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 입구(11a, 12a)를 연도 가스 공급원(20)에 각각 연결하는 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24);
상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 출구(11b, 12b)에 각각 연결되고 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)로부터 연도 가스를 이송하도록 구성된 제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26),
여기서 제 1 연도 가스 공급 덕트(23), 제 1 연도 가스 배출 덕트(25) 및 제 1 열교환 챔버(11)는 가스 회로의 제 1 분기를 형성하고, 제 2 연도 가스 공급 덕트(24)는 제 2 연도 가스 배출 덕트(26) 및 제 2 열 교환 챔버(12)는 가스 회로의 제 2 분기를 형성하며;
상기 연소가스의 온도 및 유량의 대표신호를 각각 제공하도록 구성된 온도측정장치(50, 50a, 51, 51a) 및 유량측정장치(60, 61) 중 적어도 하나;
적어도 다음 사이에서 움직일 수 있는 적어도 하나의 조절 부재(40, 41):
°연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 열교환 챔버(11)로 연도 가스의 이동이 허용되는 한편, 연도 가스 공급원(20)으로부터 제 2 열교환 챔버로 연도 가스의 이동이 방지 또는 감소되는 제 1 위치(12), 및
°연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 및 제 2 열 교환 챔버(11, 12) 모두로 연도 가스의 통과가 허용되는 제 2 위치;
상기 유체 회로는 작동 유체, 특히 물을 액상 및 기상으로 이송하도록 구성되며, 상기 유체 회로는:
- 연도 가스와 작동 유체 사이의 열교환을 허용하도록 구성된 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 각각 배열되거나 이와 열 접촉하는 적어도 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103);
적어도 제 1 및 제 2 열 교환 유닛(101, 103)에 자연 및/또는 보조 및/또는 강제 순환으로 선택적으로 유체 연결되는 스팀 드럼(110);
상기 처리 장치(1)는:
온도의 대표 신호와 연도 가스 유량의 대표 신호 중 적어도 하나를 수신하고;
상기 각각의 대표 신호에 기초하여 온도 대표값과 유량 대표값 중 적어도 하나를 결정하며;
연도 가스의 온도 또는 유량 값 사이의 적어도 하나에 기초하여 적어도 하나의 기준 파라미터를 정의하고;
상기 기준 파라미터와 적어도 하나의 임계값 사이의 비교를 정의하고;
상기 비교에 기초하여, 제 1 위치 또는 제 2 위치에 있는 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 명령하는 제어 유닛(200)을 포함한다.
제 2 양태는 산업 플랜트에 의해 방출되는 고온 연도 가스를 처리하는 방법에 관한 것으로, 상기 방법은 임의로 양태들 중 어느 하나에 따른 처리 장치에 의해 수행되며, 상기 장치는 가스 회로 및 유체 회로를 포함하고, 상기 가스 회로는:
각각의 가스 입구(11a, 12a) 및 가스 출구(11b, 12b)를 모두 포함하고 입구에 상기 연도 가스를 수용하는 적어도 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12);
상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 입구(11a, 12a)를 연도 가스 공급원(20)에 각각 연결하는 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24);
상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 출구(11b, 12b)에 각각 연결되고 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)로부터 연도 가스를 이송하도록 구성된 제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26),
여기서 제 1 연도 가스 공급 덕트(23), 제 1 연도 가스 배출 덕트(25) 및 제 1 열교환 챔버(11)는 가스 회로의 제 1 분기를 형성하는 한편, 제 2 연도 가스 공급 덕트(24), 제 2 연도 가스 배출 덕트(26) 및 제 2 열 교환 챔버(12)는 가스 회로의 제 2 분기를 형성하며;
- 상기 연도가스의 온도 및 유량의 대표신호를 각각 제공하도록 구성된 온도측정장치(50, 50a, 51, 51a) 및 유량측정장치(60, 61) 중 적어도 하나;
- 적어도 다음 사이에서 움직일 수 있는 적어도 하나의 조절 부재(40, 41):
°연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 열교환 챔버(11)로 연도 가스의 이동이 허용되는 한편, 연도 가스 공급원(20)으로부터 제 2 열교환 챔버로 연도 가스의 이동이 예방 또는 감소되는 제 1 위치(12), 및
°연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 및 제 2 열 교환 챔버(11, 12) 모두로 연도 가스의 통과가 허용되는 제 2 위치;
유체 회로는 작동 유체, 특히 물을 액상 및 기상으로 이송하도록 구성되며,
상기 유체 회로는:
연도 가스와 작업 챔버 사이의 열교환을 허용하도록 구성되고 상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 각각 배열되거나 열 접촉하는 적어도 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103);
상기 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103)에 적어도 유동적으로 연결된 스팀 드럼(110);을 포함하고,
여기서 상기 방법은 적어도 처리 장치(1)에 의해 수행되는:
상기 온도 대표 신호와 상기 연도가스 유량 대표 신호 중 적어도 하나를 수신하는 단계;
상기 각 대표 신호에 기초하여 온도 대표값과 유량 대표값 중 적어도 하나를 결정하는 단계;
연도 가스의 유량 값 또는 온도 값 사이의 적어도 하나에 기초하여 적어도 하나의 기준 파라미터를 정의하는 단계;
상기 기준 파라미터와 적어도 하나의 임계값 사이의 비교를 정의하는 단계;
상기 비교에 기초하여, 제 1 위치 또는 제 2 위치에서 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 명령하는 단계를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 3 양태에서, 가스 회로는 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)를 포함하고, 상기 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)는 제 1 열교환 챔버(11)의 상류에 배치된 제 1 고온 센서(50, 51)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 4 양태에서, 가스 회로는 제 2 열 교환 챔버(12)의 상류에 배치된 제 2 고온 센서(51)를 포함하는 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 5 양태에서, 가스 회로는 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)를 포함하고, 상기 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)는 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버(11, 12) 하류에 배열된 적어도 하나의 저온 센서(50a, 51a)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 6 양태에서, 가스 회로는 특히 제 1 연도 가스 공급 덕트(23) 상에 배열된 제 1 열 교환 챔버(11) 상류의 제 1 고온 센서(50)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 7 양태에서, 가스 회로는 제 2 연도 가스 공급 덕트(24) 상의 제 2 열 교환 챔버(12) 상류에 배열된, 특히 제 1 고온 센서(50)와 분리되고 별개인 제 2 고온 센서(51)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 8 양태에서, 가스 회로는 제 1 열교환 챔버(11) 하류의 제 1 연도 가스 배출 덕트(25) 상에 배열된 제 1 저온 센서(50a)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 9 양태에서, 가스 회로는 제 2 열교환 챔버(12) 하류의 제 2 연도 가스 배출 덕트(26) 상에 배열된 제 2 저온 센서(51a)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 10 양태에서, 제어 유닛은 적어도 하나의 고온 센서(50, 51)와 적어도 하나의 저온 센서(50a, 51a)에 의해 측정된 온도 값 사이의 차이로서 온도 변화 파라미터를 결정하도록 구성되며, 상기 기준 파라미터는 상기 온도 변화 파라미터를 기반으로 한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 11 양태에서, 제어 유닛은 특히 제 1 열 교환 챔버(11)의 상류 섹션과 하류 섹션 사이에서 연도 가스의 온도 변화를 나타내는 제 1 온도 변화 파라미터를 결정하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 12 양태에서, 제어 유닛은 특히 제 2 열 교환 챔버(12)의 상류 섹션과 하류 섹션 사이에서 연도 가스의 온도 변화를 나타내는 제 2 온도 변화 파라미터를 결정하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 13 양태에서, 상기 기준 파라미터는 제 1 온도 변동 파라미터 또는 제 2 온도 변동 파라미터 또는 이들의 조합에 기초한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 14 양태에서, 제어 유닛은:
상기 제 1 온도 변화 및/또는 제 2 온도 변화 파라미터, 선택적으로 이들의 조합을 각각의 온도 변화 임계값과 비교하고;
상기 온도 변화 파라미터가 상기 각각의 온도 변화 임계값보다 낮으면, 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 제 1 위치로 명령하고; 또는
선택적으로 상기 온도 변화가 상기 각각의 온도 변화 임계값보다 높으면, 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 제 2 위치로 명령하도록 구성되고,
특히 상기 온도 변동 임계값은 200℃ 내지 600℃, 특히 300℃ 내지 500℃, 보다 특히 350℃ 내지 450℃에 포함된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 15 양태에서, 제어 유닛은 고온 센서를 통해 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버(11, 12) 상류의 연도 가스의 상류 온도 값을 결정하고 상기 상류 온도 값을 상류 온도 값 임계값과 비교하도록 구성되며, 특히 특히 제어 유닛은 상기 비교에 기초하여 조절 부재를 명령하도록 추가로 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 16 양태에서, 제어 유닛은 상류 온도 값이 상류 온도 값 임계값에 대해 높거나 낮은 경우 경보 신호를 방출하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 17 양태에서, 상류 온도 값 임계값은 550℃ 내지 800℃, 특히 600℃ 내지 700℃, 특히 640℃ 내지 660℃를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 18 양태에서, 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)는 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버를 통과하는 연도 가스의 냉각 프로세스를 결정하도록 구성된다..
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 추가의 제 18 양태에서, 제어 유닛(200)은:
특히 제 1 및/또는 제 2 열 교환 챔버(11, 12)를 가로지르는 연도 가스의 온도 변화 파라미터 및 유량에 기초하여 연도 가스의 현재 냉각 속도를 나타내는 냉각 파라미터를 결정하고;
상기 냉각 파라미터를 냉각 속도 임계값과 비교하고, 상기 냉각 속도 임계값은 200℃/초와 400℃/초 사이, 예를 들어 200℃/초와 250℃/초 사이, 또는 250℃/초와 300℃/초 사이 또는 300℃/초 내지 350℃/초 또는 350℃/초 내지 400℃/초이며;
냉각 파라미터가 냉각 속도 임계값보다 낮은 경우, 조절 부재를 제 1 위치로 명령하도룩 구성되고;
선택적으로 냉각 파라미터가 냉각 속도 임계값보다 높으면, 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 제 2 위치에 명령한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 19 양태에서, 기준 파라미터는 상기 냉각 속도 파라미터에 기초하고, 적어도 하나의 임계값은 상기 냉각 속도 임계값을 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 20 양태에서, 냉각 속도 파라미터는 다음 공식에 따라 계산된다:
Figure pct00001
여기서
Figure pct00002
Crate[ΔC°/s] = 냉각 파라미터;
ΔT[°C] = 제 1 및/또는 제 2 열 교환 챔버(11, 12)에 걸친 온도 변화, 특히 상기 온도 변화는 고온 센서와 저온 센서에 의해 측정된 온도 사이의 차이로서 계산됨;
tpg[s] = 가스 입자가 고온 센서에서 저온 센서로 이동하는 데 걸리는 시간;
Vc[m3] = 고온 센서와 저온 센서 사이에 포함된 가스 부피로 정의된 제어 부피;
Fg[m3/s] = 특히 유량 측정 장치(60, 61)에 의해 측정된 연도 가스의 유량.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 21 양태에서, 기준 파라미터는 온도 및/또는 유속 값 모두에 기초하고, 특히 온도 변화 파라미터 및 유속 값에 기초하고, 더 특히 제 1 및/또는 또는 제 2 온도 변화 파라미터 및 연도 가스의 유량 값.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 22 양태에서, 상기 기준 파라미터는 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12) 상류의 연도 가스의 온도 값에 기초한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 23 양태에서, 유량 측정 장치(60, 61)는 특히 가스 공급원(20)에 의해 방출된 연도 가스의 총 유량을 나타내는 신호를 제공하도록 구성된다. 여기서 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)를 통해 흐르는 연도 가스의 유량의 합은 상기 총 유량에 대응하고, 상기 기준 파라미터는 상기 연도 가스의 총 유량에 기초한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 24 양태에서, 기준 파라미터를 정의하는 단계는 연도 가스의 유속, 선택적으로 상기 총 유속을 결정하는 단계를 포함하며, 제어 유닛은 추가로:
상기 유량, 선택적으로 상기 총 유량을 각각의 유량 임계값과 비교하고;
상기 유량이 상기 각각의 유량 임계값보다 낮은 경우, 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 제 1 위치로 명령하고; 또는
선택적으로 상기 유량이 상기 각각의 유량 임계값보다 높으면, 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 제 2 위치로 명령하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 25 양태에서, 유량 측정 장치는 각각 가스 회로의 제 1 분기 및 제 2 분기 상에 배열되고 연도 가스의 유속을 나타내는 신호를 각각 제 1 및 제 2 분기에 제공하도록 구성된 적어도 제 1 및 제 2 유량 센서(60, 61)를 포함한다. 제어 유닛은 유속의 상기 대표 신호를 수신하고 제 1 및 제 2 분기에 대한 연도 가스의 제 1 및 제 2 유속 값을 결정하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 26 양태에서, 기준 파라미터는 상기 제 1 및 제 2 유량 값에 기초하고 선택적으로 이들의 조합에 기초하고, 선택적으로 제 1 분기에서의 유량과 제 2 분기에서의 유량 사이의 차이에 기초한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 27 양태에서, 제 1 및 제 2 유량 센서(60, 61)는 각각:
제 1 및 제 2 배가스 공급 덕트(23, 24), 또는
제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26)에 배치된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 28 양태에서, 가스 회로는 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24)의 입구(28)를 연도 가스 공급원(20)에 연결하는 메인 연도 가스 공급 덕트(22)를 포함하고, 상기 메인 연도 가스 공급 덕트(22)는 연도 가스 공급원(20)에 의해 방출된 연도 가스, 특히 연도 가스의 총량을 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24) 모두를 향해 이송하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 29 양태에서, 유량 측정 장치는 상기 메인 연도 가스 공급 덕트(22) 상에 배열되고 가스 공급원(20)에 의해 방출된 연도 가스의 유량을 나타내는 신호를 제공하도록 구성된 상류측 유량 센서를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 30 양태에서, 온도 측정 장치는 상기 메인 연도 가스 공급 덕트(22) 상에 배열되고 가스 공급원(20)에 의해 방출된 연도 가스의 온도를 나타내는 신호를 제공하도록 구성된 상류 온도 센서를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 31 양태에서, 제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26)의 출구는 메인 연도 가스 배출 덕트(27)로 수렴하고, 상기 메인 연도 가스 배출 덕트(27)는 연도 가스 공급원(20)에 의해 방출되는 연도 가스, 특히 연도 가스의 총량을 이송하도록 구성되고, 유량 측정 장치는 상기 메인 연도 가스 배출 덕트(27) 상에 배열되고 가스 공급원(20)에 의해 방출된 연도 가스의 유량을 나타내는 신호를 제공하도록 구성된 하류 유량 센서를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 32 양태에서, 적어도 하나의 조절 부재는 가스 회로의 제 1 분기에 배열된 제 1 댐퍼(40)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 33 양태에서, 적어도 하나의 조절 부재는 가스 회로의 제 2 분기에 배열된 제 2 댐퍼(41)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 34 양태에서, 적어도 하나의 조절 부재는 가스 회로의 제 1 분기 상에 배열된 제 1 부스터(40)를 포함하고, 상기 부스터는 가스 회로 내의 연도 가스의 속도, 특히 유동을 촉진하거나 방지하도록 구성된 팬을 포함하며, 상기 부스터는 팬을 회전시키도록 구성된 전기 모터를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 35 양태에서, 적어도 하나의 조절 부재는 가스 회로의 제 2 분기에 배열된 제 2 부스터(41)를 포함하고, 상기 부스터는 가스 회로 내의 연도 가스의 속도, 특히 유동을 촉진하거나 방지하도록 구성된 팬을 포함하며 상기 부스터는 팬을 회전시키도록 구성된 전기 모터를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 36 양태에서, 제 1 및 제 2 댐퍼(40, 41)는:
제 1 및 제 2 배가스 공급 덕트(23, 24), 또는
제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26)에 배치된다
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 37 양태에서, 스팀 드럼(110)은 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103) 사이의 적어도 하나로부터 작동 유체의 기상을 수용하도록 구성되고, 작동 유체의 액상을 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103) 중 적어도 하나에 전달한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 38 양태에서:
- 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)가 제 1 위치에 배치될 때, 스팀 드럼(110)은 제 1 열 교환 유닛(101)으로부터 기상의 작동 유체를 공급받아 액상의 작동유체를 제 1 열교환 유닛(101)로 전달하도록 구성되고; 및
- 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)가 제 2 위치에 배치될 때, 스팀 드럼(110)은 제 1 및 제 2 열 교환 유닛(101, 103) 모두로부터 작동 유체의 기상을 수용하여, 작동 유체의 액상을 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103) 모두에 전달하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 39 양태에서, 연도 가스와 작동 유체 사이의 열 교환은 작동 유체의 액상에서 기체 상으로의 전이를 결정하고, 상기 전이는 유체 회로를 통한 작동 유체의 흐름을 결정하고, 상기 전이는 제 1 및 제 2 열 교환 유닛(101, 103) 사이의 적어도 하나로부터 스팀 드럼(110)을 향하는 작동 유체의 기상의 전이를 결정한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 40 양태에서:
적어도 하나의 조절 부재(40, 41)가 제 1 위치에 배치되면, 제 1 열교환 챔버(11)에서 열교환이 일어나고 제 2 열교환 챔버(12)에서 열교환이 방지되며; 및
적어도 하나의 조절 부재(40, 41)가 제 2 위치에 배치될 때, 열 교환은 제 1 및 제 2 열 교환 챔버(11, 12) 모두에서 발생한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 41 양태에서, 스팀 드럼(110)은 지면에 대해 제 1 및 제 2 열 교환 유닛(101, 103)의 각각의 높이보다 높은 높이에 배열되고, 선택적으로 스팀 드럼(110)은 지면에 대해 제 1 및 제 2 열 교환 챔버(11, 12)의 각각의 높이보다 높은 높이에 배열된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 42 양태에서, 유체 회로는 제 1 열 교환 유닛(101)의 출구를 스팀 드럼(110)에 유체 연결하는 제 1 전달 덕트(111)를 포함하고, 제 1 열교환 유닛(101)에서 스팀드럼(110)으로 기상의 작동유체를 이송하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 43 양태에서, 유체 회로는 제 1 열 교환 유닛(101)의 입구를 스팀 드럼(110)에 연결하는 제 1 리턴 덕트(112)를 포함하고, 스팀드럼(110)에서 제 1 열교환기(101)로 액상의 작동 유체를 이송하도록 구성된다..
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 44 양태에서, 유체 회로는 제 2 열 교환 유닛(103)의 출구를 스팀 드럼(110)에 유체 연결하는 제 2 전달 덕트(113)를 포함하고, 제 2 열교환유닛(103)에서 스팀드럼(110)으로 기상의 작동유체를 이송하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 45 양태에서, 유체 회로는 제 2 열 교환 유닛(103)의 입구를 스팀 드럼(110)에 연결하는 제 2 리턴 덕트(114)를 포함하고, 스팀 드럼(110)에서 제 2 열 교환 유닛(103)으로 액상의 작동 유체를 이송하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 46 양태에서, 유체 회로는 작동 유체 공급원(70) 및 적어도 하나의 유체 전달 덕트(73, 74)를 포함하고, 상기 적어도 하나의 유체 전달 덕트(73, 74)는 작동유체 공급원(70)은 스팀드럼(110)으로 작동유체를 스팀드럼(110)으로 전달하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 47 양태에서, 가스 회로는 가스 입구(120a) 및 가스 출구(120b)를 갖는 보조 열교환 챔버(120)를 포함하고, 유체 회로는 보조 열교환 유닛(102') 보조 열교환 챔버(120), 특히 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)로부터 분리되고 구별되는 보조 열교환 챔버(120)에 배열되거나 그와 열 접촉하고, 보조 열 교환 챔버(120)는 스팀 드럼(110)에 들어가기 전에 유체 공급원(70)으로부터 나오는 작동 유체를 예열하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 48 양태에서, 보조 열 교환 유닛(102')은 유체 전달 덕트(73)를 통해 유체 공급원(70)에 유체 연결되는 입구(102'a) 및 스팀 드럼(110)의 유체 공급 입구에 유체 연결되는 출구(102'b)를 포함 한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 49 양태에서, 유체 회로는 제 1 열교환 챔버(11)에 배열되거나 제 1 열교환 챔버(11)와 열 접촉하고 작동유체원(70)에서 스팀드럼(110)으로 흐르는 작동 유체를 가열하도록 구성된 제 1 보조 열교환 유닛(102)을 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 50 양태에서, 유체 회로는 제 2 열교환 챔버(12)에 배열되거나 열 접촉하고 작동유체원(70)에서 스팀드럼(110)으로 흐르는 작동 유체를 가열하도록 구성된 제 2 보조 열교환 유닛(104)을 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 51 양태에서, 제 1 보조 열교환 유닛(102)은 유체 공급원(70)에 유체적으로 연결된 입구 및 스팀 드럼(110)의 유체 공급 입구에 유체적으로 연결된 출구를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 52 양태에서, 제 2 보조 열교환 유닛(104)은 유체 공급원(70)에 유체적으로 연결된 입구 및 스팀 드럼(110)의 유체 공급 입구에 유체적으로 연결된 출구를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 53 양태에서, 제 1 및 제 2 열교환기 챔버(11, 12), 특히 제1 및 제2 열교환기 유닛(101, 103)은 연도 가스의 다른 유속 및/또는 작동 유체와 연도 가스의 다른 열 교환을 허용하기 위해 크기가 다르다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 54 양태에서, 제 1 열 교환 유닛(101)은 연도 가스와 작동 유체 사이의 열 교환을 위한 제 1 표면을 정의하고, 제 2 열 교환 유닛(103)은 연도 가스와 작동 유체 사이의 열 교환을 위한 제 2 표면을 정의하며, 상기 제 1 표면은 상기 제 2 표면과 상이하고 특히 더 낮다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 55 양태에서, 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)는 제 3 위치에서 이동 가능하고, 연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 열교환 챔버(11)로의 연도 가스의 이동이 방지되거나 감소되는 반면, 연도 가스의 이동은 방지된다. 연도 가스 공급원(20)에서 제2 열 교환 챔버(12)로의 유입이 허용된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 56 양태에서, 유량 측정 장치(60, 61)는 차압을 나타내는 신호를 제공하도록 구성된 차압 센서 또는 피토 프로브를 포함하고, 제어 유닛은 상기 대표적인 신호에 기초하여 가스 회로 내에서 흐르는 연도 가스의 유속 또는 속도를 결정하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 57 양태에서, 제 1 열교환 챔버(11)는 하나 이상, 특히 둘 이상의 제 1 열교환 유닛(101)을 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 58 양태에서, 제 2 열교환 챔버(12)는 하나 이상, 특히 둘 이상의 제 2 열교환 유닛(103)을 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 59 양태에서, 가스 회로는 추가 열 교환 챔버, 특히 제 3 또는 제 4 교환 챔버를 포함 하고, 연도 가스를 입구에 수용하도록 구성되고, 상기 추가 열 교환 챔버는 연도 가스를 수용하고 배출하도록 구성된 각각의 입구 및 출구를 가지며, 유체 회로는 각각의 추가 열 교환 챔버에 각각 배열된 추가 열 교환 유닛을 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 60 양태에서, 제어 유닛은 저온 센서를 통해 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버(11, 12) 하류의 연도 가스의 하류 온도 값을 결정하고, 상기 하류측 온도값을 하류측 온도값 임계값과 비교하며, 특히 상기 제어 유닛은 상기 비교에 기초하여 조절 부재를 명령하도록 추가로 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 61 양태에서, 다운스트림 온도 값 임계값은 150℃ 내지 350℃, 특히 200℃ 내지 300℃, 보다 특히 230℃ 내지 270 ℃, 보다 특히 약 250°C 근처에 포함된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 62 양태에서, 가스 공급원(20)은 전기 아크로 (EAF)를 포함한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 63 양태에서, 선행 양태 중 어느 하나에 따르면, 연도 가스 회로의 제 1 분기는 연도 가스 회로의 제 2 분기와 병렬로 배열된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 64 양태에서, 선행 양태 중 어느 하나에 따르면, 연도 가스 공급원(20)은 상기 연도 가스를 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 분배하도록 구성된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 65 양태에서, 앞선 양태 중 어느 하나에 따르면, 제 1 열교환 챔버(11)는 제 1 연도 가스 공급 덕트(23)를 통해 연도 소스(20)에 직접 연결되고, 제 2 열교환 챔버(12) 제 2 연도 가스 공급 덕트(24)를 통해 연도 소스(20)에 직접 연결되고, 상기 제 1 및 제 2 공급 덕트(23, 24)는 뚜렷하고 연속적이지 않으며, 특히 서로 평행하게 배열되며, 특히, 적어도 하나의 작동 조건에서, 제 2 열교환 챔버(12)는 제 1 열교환 챔버(11)를 통과하지 않은 다량의 연도 가스를 수용한다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 66 양태에서, 선행 양태 중 어느 하나에 따르면, 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24)는 연도 가스 공급원(20)으로부터의 연도 가스 공급 방향을 따라 서로 평행하다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 67 양태에서, 선행 양태 중 어느 하나에 따르면, 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24)는 동일한 연도 가스 공급원(20)에 따라 서로 연결된다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 68 양태에서, 전술한 양태 중 어느 하나에 따르면, 스팀 드럼(110)은 제 1 및 제 2 열 교환 유닛(101, 103)에 공통이다.
전술한 양태 중 어느 하나에 따른 제 69 양태에서, 전술한 양태 중 어느 하나에 따르면, 유체 회로는:
- 제 1 열교환 챔버(11)의 제 1 열교환 유닛(101)의 출구에 연결되고 특히 기상의 상기 작동 유체를 제 1 열교환 유닛(101)으로부터 스팀드럼(110)으로 이송하도록 구성된 제 1 전달 덕트(111) ; 및
- 제 2 열교환 챔버(12)의 제 2 열교환 유닛(103)의 출구에 연결되고 특히 기상의 상기 작동 유체를 제 2 열교환 유닛(103)으로부터 스팀드럼(110)으로 이송하도록 구성된 제 2 전달 덕트(113)를 포함한다.
본 발명의 일부 실시예 및 일부 양태는 예시 목적으로만 제공되는 첨부된 도면을 참조하여 아래에서 설명될 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 처리장치의 개략도이다.
본 상세한 설명에서, 다양한 도면에 예시된 대응하는 부분은 동일한 참조 번호로 표시된다. 도면은 축척이 아닌 표현으로 본 발명을 설명할 수 있다. 따라서, 본 발명의 목적과 관련하여 도면에 예시된 부품 및 컴포넌트는 개략적인 표현에만 관련될 수 있다.
업스트림 및/다운스트림
업스트림 및 다운스트림이라는 용어는 처리 장치의 정상적인 사용 중에 유체 튜브 내에서 흐르도록 구성된 유체의 진행 방향 또는 궤적을 의미한다. 특히 가스 회로에 대한 상류 및 하류라는 용어는 가스 공급원, 즉 산업 플랜트로부터 처리 장치의 출구를 향하는 가스 방향을 지칭한다.
처리 장치 및 방법
참조 번호 1은 도시 고형 폐기물 처리 플랜트, 폐기물 에너지화(Waste-to-Energy) 플랜트 또는 고철, 특히 철 스크랩이 녹는 전기 아크로(EAF)와 같은 산업 플랜트에 의해 방출되는 고온 연도 가스의 도 1 및 도 2에 각각 제 1 실시예 및 제 2 실시예에 따라 도시된 처리 장치에 관한 것이다. 배출되는 뜨거운 연도 가스는 종종 인간의 건강 위험을 결정하는 다이옥신 및/또는 푸란 배출과 같은 여러 오염 물질을 포함한다. 산업 플랜트에서 방출되는 연도 가스는 또한 예를 들어 800°C와 1600°C 사이에 포함된 고온이며 한편으로는 열 에너지의 적어도 부분적인 회수를 허용하고 다른 한편으로는 열적 및 화학적으로 적절하게 처리되지 않은 경우 위에서 언급한 오염 물질의 생성을 초래하는 특징을 가진다.
산업 플랜트는 도 1 및 2에 도시된 바와 같이 전기 아크로(EAF)와 같은 로를 포함하는 가스 공급원(20)으로 지칭된다.: 메인 연도 가스 공급 덕트(22)는 가스 처리 및 에너지 회수를 허용하기 위해 처리 장치를 향하여 산업 플랜트 외부의 고온 연도 가스를 수용 및 이송하도록 구성된다. 메인 연도 가스 공급 덕트(22)는 가스 공급원(20)으로부터 처리 장치를 향해 연도 가스의 전체 유량을 이송하도록 구성된다.
메인 연도 가스 공급 덕트(22)는 분기점(28)에서 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24)로 분기되며, 여기서 제 1 연도 가스 공급 덕트(23)는 제 1 열교환 챔버(11)에 연결되고 제 2 연도 가스 공급관은 덕트(24)는 제 2 열교환 챔버(12)에 연결된다. 따라서, 연도 가스는 가스 공급원(20)으로부터 메인 연도 가스 공급 덕트(22)로 흐를 수 있고, 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24)로 분할되어 제 1 및 제 2 챔버(11, 12) 내로 들어갈 수 있다. 침강 챔버(30)는 또한 가스 공급 덕트(22) 상에 제공될 수 있는데, 여기서 - 공지된 방식으로 - 연기는 그 속도를 감소시키고 서스펜션 내의 먼지의 가장 거친 부분은 중력에 의해 침전되고 침전 챔버(30)의 바닥에 수집되고: 공정 요구 사항에 따라 공기 또는 산소가 주입되어 CO 및 H2와 같은 가스의 연소를 완료할 수 있다.
각각의 열 교환 챔버(11, 12)는 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24)에 각각 유체 연결되는 각각의 입구(11a, 12a) 및 제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26)에 각각 연결되는 각각의 출구(11b, 12b)를 갖는다. 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)는 내부적으로 가스 통과를 위한 내부 체적을 정의한다: 실시예에 따르면, 제 1 열교환 챔버(11)의 크기는 제 2 열교환 챔버(12)의 크기와 동일하다. 추가 실시예에 따르면, 제 1 및 제 2 열교환 챔버, 따라서 각각의 내부 체적은 상이한 크기를 가질 수 있다: 예를 들어, 제 1 열교환 챔버(11)의 내부 체적은 제 2 열교환 챔버(12)의 내부 체적보다 높을 수 있다.
도 1 및 도 2에 도시된 실시예에 따르면, 제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26)는 연도 가스 공급원(20)에 의해 방출되는 연도 가스 특히 연도 가스의 총량을 이송하도록 구성된 공통 또는 메인 연도 가스 배기 덕트(27)로 수렴 지점(29)에서 수렴할 수 있다.
제 1 연도 가스 공급 덕트(23), 제 1 연도 가스 배출 덕트(25) 및 제 1 열 교환 챔버(11)의 조합은 가스 회로의 제 1 분기를 정의한다: 유사하게, 제 2 연도 가스 공급 덕트(24), 제 2 연도 가스 배출 덕트(26) 및 제 2 열교환 챔버(12)는 가스 회로의 제 2 분기를 정의한다: 특히 제 1 및 제 2 분기는 병렬로 배열되고 분기점(28) 및 수렴점(29)을 통해서만 서로 유체 소통한다. 즉, 제 1 분기로 흐르는 연도 가스는 제 1 열교환 챔버(11)로 처리되는 반면, 제 2 분기로 흐르는 연도 가스는 제 2 열교환 챔버(12)로 처리된다.
가스 회로는 또한 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)와 연도 가스의 유량 및 온도의 대표 신호를 각각 제공하도록 구성된 유량 측정 장치(60, 61) 사이에 적어도 하나를 포함한다. 각각의 대표적인 신호를 수신하고 연도 가스의 온도 및/또는 유량 값을 결정하도록 제어 유닛(200)이 제공 및 구성된다.
보다 상세하게는, 온도 측정 장치는 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 상류에 배열된 적어도 하나의 고온 센서(50, 51)를 포함한다. 고온 센서는 분기 지점(28) 상류의 메인 연도 가스 공급 덕트(22) 상에 배열될 수 있다.: 이 경우 가스 회로는 선택적 실시예에 따라 단일 고온 센서를 포함할 수 있다. 대안적으로, 도 1 및 2의 실시예에 도시된 바와 같이, 고온 센서는 제 1 연도 가스 공급 덕트(23) 상의 제 1 열 교환 챔버(11) 상류에 배열된 제 1 고온 센서(50) 및 분리된 제 2 고온 센서(51)를 포함한다. 제 2 연도 가스 공급 덕트(24) 상의 제 2 열 교환 챔버(12) 상류에 배열된 제 1 고온 센서(50)와는 구별된다.
온도 측정 장치는 또한 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 하류에 배열된 적어도 하나의 저온 센서(50a, 51a)를 포함할 수 있다. 첨부된 도면에 도시되지 않은 실시예에 따르면, 저온 센서는 수렴 지점(29) 하류의 메인 연도 가스 배출 덕트(27)에 배치될 수 있다. 대안적으로, 도 1 및 도 2에 도시된 실시예에 따르면, 온도 측정 장치는 제 1 열교환 챔버 하류의 제 1 연도 가스 배출 덕트(25) 상에 배열된 제 1 저온 센서(50a) 및 제 2 열교환 챔버(12) 하류의 제 2 연도 가스 배출 덕트(26) 상에 배열된 제 2 저온 센서(51a)를 포함한다.
상기에 따르면, 제어 유닛는 제 1 및/또는 제 2 열교환기에 걸쳐 고온센서(50, 51)와 저온센서(50a, 51a)에서 측정된 온도값의 차이로 온도변화 파라미터를 결정하도록 구성된다. 구체적으로 제어 유닛는 제 1고온센서(50)에서 측정된 온도값과 제 1저온센서(50a)에서 측정된 온도값의 차이를 제 1온도변화 파라미터로 결정한다. 즉, 제 1 열 교환 챔버(11)에 걸친 온도 변화는 제 1 분기에서 흐르는 연도 가스의 냉각 과정을 나타낸다.
유사하게 제어 유닛(200)는 제 2고온센서(51)에서 측정된 온도값과 제 2저온센서(51a)에서 측정된 온도값의 차이를 제 2온도변화 파라미터로 결정한다. 교환 챔버(12)는 제 2 분기에서 흐르는 연도 가스의 냉각 과정을 나타낸다.
처리 장치는 또한 가스 회로의 제 1 분기 및 제 2 분기 상에 각각 배열된 제 1 및 제 2 유량 센서(60, 61)를 포함하는 유량 측정 장치를 포함하고, 각각은 유량을 나타내는 신호를 제공하도록 구성된다. 연도 가스를 각각 제 1 및 제 2 분기로: 제어 유닛 은 유량의 상기 대표 신호를 수신하고 제 1 및 제 2 분기에 대한 연도 가스의 제 1 및 제 2 유량 값을 결정하도록 구성된다. 더 자세하게, 제 1 및 제 2 유량 센서(60, 61)는 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24) 또는 제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26)에 각각 배치될 수 있다. 속도 센서(60, 61)는 열 교환 챔버의 업스트림 또는 다운스트림에 배열될 수 있다. 어쨌든, 관련된 저온으로 인해 안전 및 신뢰성상의 이유로 다운스트림 배열이 선호된다.
유량 측정 장치(60, 61)는 차압을 나타내는 신호를 제공하도록 구성된 차압 센서 또는 피토 프로브를 포함할 수 있고, 제어 유닛은 차압의 상기 대표적인 신호에 기초하여 유량 또는 가스 회로 내에서 흐르는 연도 가스의 속도를 결정하도록 구성된다.
가스 회로는 또한 적어도 제 1 위치와 제 2 위치 사이에서 이동 가능한 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 포함한다. 제 1 위치에서, 연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 열 교환 챔버(11)로의 연도 가스의 이동이 허용되는 반면, 연도 가스 공급원(20)으로부터 제 2 열 교환 챔버(12)로의 연도 가스의 이동은 방지되거나 감소된다: 제 2 위치에서, 연도 가스 소스(20)로부터 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12) 모두로의 연도 가스의 통과가 허용된다. 즉, 조절 부재는 연도 가스를 제 1 열교환 챔버 쪽으로 또는 대안적으로 제 1 및 제 2 챔버 모두 쪽으로 편향시키도록 구성된다. 따라서, 조절 부재가 제 1 위치에 있을 때 연도 가스와 작동 유체 사이의 열 교환 표면은 조절 부재가 제 2 위치에 있을 때 각각의 열 교환 표면보다 낮다. 이는 또한 조절 부재가 제 1 위치에 있을 때 연도 가스와의 열 교환에 포함된 작동 유체의 양이 조절 부재가 제 2 위치에 있을 때 연도 가스와의 열 교환에 포함된 작동 유체의 양보다 적다는 것을 결정한다.
또한, 조절 부재(40, 41)는 연도 가스 소스(20)로부터 제 1 열 교환 챔버(11)로의 연도 가스의 이동이 방지되거나 감소되는 반면, 연도 가스로부터 연도 가스의 이동이 방지되는 제 3 위치에서 이동 가능할 수 있다. 소스(20)가 제 2 열 교환 챔버(12)로 유입되는 것이 허용된다. 이 마지막 경우는 제 1 열교환 챔버와 제 2 열교환 챔버의 크기가 서로 다를 때 특히 흥미로울 수 있다. 제 2 열교환 유닛(103)에 포함된 것보다 낮다. 제 1 및 제 2 열교환 챔버가 상이한 크기를 갖는 경우, 제어 유닛은 원하는 열 교환에 따라 제 1, 제 2 및 제 3 위치에서 조절 부재에 명령을 내릴 수 있다: 즉, 냉각 과정에 포함된 작동 유체의 양이 조절 부재의 제 1, 제 2 및 제 3 위치 사이에서 변경되므로 교환되는 열 에너지(따라서 냉각 성능)도 변경된다. 따라서, 제 1, 제 2 및 제 3 위치에서 조절 부재에 명령을 내림으로써 연도 가스와 작업 사이에 3개의 상이한 에너지 교환 수준이 정의될 수 있다.
일 실시예에서, 조절 부재는 가스 회로의 제 1 분기 및 제 2 분기 상에 각각 배열된 제 1 및 제 2 댐퍼(40, 41)를 포함한다: 이들 댐퍼는 사실상 가스가 제 1 및/또는 제 2 분기를 통과하는 것을 방지하거나 허용하는 셔터이다. 댐퍼가 부분적으로 열리면 연도 가스의 유량이 조절될 수 있다.
대안적으로, 조절 부재는 가스 회로의 제 1 분기 및 제 2 분기 상에 각각 배열된 제 1 및 제 2 부스터(40, 41)를 포함하고, 부스터는 연도 가스의 유속을 촉진하거나 방지하도록 구성된 팬을 포함한다. 가스 회로 내. 부스터는 팬을 회전시키도록 구성된 제어 유닛에 연결되고 그에 의해 명령되는 전기 모터를 포함한다: 특히 제어 유닛은 가스 회로 내의 연도 가스의 유량을 조절하기 위해 팬의 각속도를 변경할 수 있다.
조절 부재는 열교환 챔버(11, 12)의 상류 또는 하류에 배열될 수 있다: 특히 조절 부재는 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24) 모두에 또는 제 1 및 제 2 연도 가스 상에 배열될 수 있다. 또한, 규제 부재는 열 교환 챔버(11, 12)의 상류 및 하류 모두에 배열될 수 있다.
열 교환 챔버(11, 12)를 통과할 때 연도 가스를 냉각시키기 위해 액상 및 기상의 작동 유체, 예를 들어 물을 이송하도록 구성된 유체 회로를 포함한다. 유체 회로는 작동 유체 소스(70), 적어도 하나의 유체 전달 덕트(73, 74) 및 스팀 드럼(110)을 포함하고, 유체 전달 덕트(73, 74)는 작동 유체 소소를 스팀 드럼(110)에 유체 연결한다. 드럼(70)은 유체 전달 덕트(73, 74)를 통해 작동 유체를 스팀 드럼(110)으로 전달하도록 구성된다.: 펌프, 즉 전기 펌프는 유체 전달 덕트(73, 74)에 제공되어 스팀 드럼을 향한 작동 유체의 흐름을 결정할 수 있다.
유체 회로는 각각 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 배열되거나 그와 열 접촉하고 연도 가스와 작동 유체. 제 1 열교환 유닛(101)은 작동 유체를 수용하도록 구성된 적어도 하나의 입구(101a) 및 작동 유체를 전달하도록 구성된 적어도 하나의 출구(101b)를 포함하고: 제 1 열교환 유닛(101)의 입구(101a)는 스팀 드럼(110)의 출구에 유동적으로 연결된다. 제 1 리턴 덕트(112)를 통해, 제 1 열교환 유닛(101)의 출구(101b)는 제 1 전달 덕트(111)를 통해 스팀 드럼(110)의 입구에 유동적으로 연결된다. 유사하게, 제 2 열교환 유닛(103)은 스팀 드럼으로부터 작동 유체를 수용하도록 구성된 적어도 하나의 입구(103a) 및 작동 유체를 스팀 드럼으로 전달하도록 구성된 적어도 하나의 출구(103b)를 포함한다.: 제 2 열 교환 유닛(103)의 입구(103a)는 제 2 리턴 덕트(114)를 통해 스팀 드럼(110)의 출구와 유동적으로 연결되고, 제 2 열교환 유닛(103)의 출구(103b)는 제 2 전달 덕트(113)를 통해 스팀드럼(110)의 입구와 유동적으로 연결된다. 특히, 제 1 열교환 챔버(11)는 2개 이상의 제 1 열교환 유닛(101)을 포함할 수 있다: 유사하게, 제 2 열교환 챔버(12)는 2개 이상의 제 2 열교환 유닛(103)을 포함한다.
실시예에 따르면, 제 1 열교환 유닛(101)은 연도 가스와 작동 유체 사이의 열 교환을 위한 제 1 표면을 정의하고, 제 2 열 교환 유닛(103)은 연도 가스와 작동 유체 사이의 열 교환을 위한 제 2 표면을 정의한다: 제 1 표면은 제 2 표면과 상이할 수 있다. 이러한 방식으로, 제 1 열교환 챔버(11)에서 교환되는 열은 제 2 열교환 챔버(12)에서 교환되는 열과 상이할 것이다.
상기 내용에 기초하여, 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103)과 결합된 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)는 가스 회로에서 흐르는 뜨거운 연도 가스와 유체 회로에 흐르는 작동 유체 사이의 열교환을 결정 하도록 구성된다. 연도 가스와 작동 유체 사이의 열 교환은 작동 유체의 액상에서 기체 상태로의 상태 전이를 결정한다. 상기 전이는 유체 회로를 통한 작동 유체의 흐름을 결정한다. 이것은 또한 유체 회로 내에서 작동 유체의 순환을 일으키도록 제공되는 펌프가 없기 때문에 자연 순환이라고도 한다.(다른 실시예에서 보조 또는 강제 순환을 얻기 위해 하나 이상의 펌프를 제공하는 것이 가능함). 특히 이러한 상태 전이는 제 1 및/또는 제 2 열 교환 유닛(101, 103)으로부터 스팀 드럼(110)을 향한 작동 유체의 기상의 전이를 결정한다. 따라서, 스팀 드럼(110)은 제 1 및 제 2 전달 덕트(111, 113)를 통해 기체 상태의 작동 유체를 수용하도록 구성되며: 액체 상태의 작동 유체는 제 1 및 제 2 리턴 덕트(112, 114)를 통해 열 교환 유닛(101, 103)으로 리턴된다.
보다 상세하게는 조절부재(40, 41)가 제 1 위치에 배치되면 제 1 열교환 챔버(11)에서는 열교환이 이루어지고 제 2 열교환 챔버(12)에서는 열교환이 방지된다. 유체는 기체 상태로 제 1 열교환 유닛(101)에서 스팀드럼(110)으로 흐르고, 유체는 제 2 열교환 유닛(103)에서 스팀드럼으로 흐르지 않는다.
대신, 조절 부재(40, 41)가 제 2 위치에 배치되면, 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12) 모두에서 열교환이 일어난다. 따라서 이 상태에서 작동유체는 제 1 및 제 2열교환 유닛(101, 103) 모두에서 가스상태로 스팀드럼(110)으로 흐른다.
일 실시예에서, 스팀 드럼(110)은 지면에 대해 제 1 및 제 2 열 교환 유닛(101, 103) 각각의 높이보다 높은 높이에 배치된다. 보다 상세하게는 가스 상태의 작동 유체가 열교환 유닛에서 스팀 드럼(110)으로 이동하는 것을 촉진하기 위해 스팀 드럼(110)은 지면에 대해 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 각각의 높이보다 높은 높이로 배치된다.
증기 드럼은 또한 증기 에 포함된 열 에너지를 적어도 부분적으로 회수하기 위해 회수 에너지 플랜트를 향해 기체 상태의 작동 유체를 전달하도록 구성된 증기 전달 덕트(130)를 포함한다. 회수 에너지 플랜트는 기체 상태의 작동 유체의 압력을 기계적 또는 전기적 에너지로 변환하기 위한 터빈을 포함할 수 있다. 에너지 회수 플랜트의 실시예가 본 발명의 목적을 위해 필수적이지 않기 때문에 회수 에너지 플랜트는 본 명세서에서 상세히 설명되지 않는다.
바람직한 실시예에서, 유체 회로는 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12) 사이의 적어도 하나에 배열되거나 열 접촉하는 적어도 하나의 보조 열교환 유닛(102, 104)을 포함한다: 보조 열교환 유닛(102, 104)은 작동유체원(70)에서 스팀드럼(110)으로 유입되는 작동유체를 가열하도록 구성된다. 즉, 보조열교환 유닛(102, 104)는 스팀드럼에 진입하기 전 작동유체의 예열 여부를 판단한다.
특히, 처리 장치는 제 1 또는 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 배열된 단일 보조 열교환 유닛(102)을 포함할 수 있다: 대안적으로, 도 1에 도시된 바와 같이, 처리 장치는 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 각각 배열되거나 열 접촉하는 제 1 및제 2 보조 열교환 유닛(102, 104)을 포함할 수 있다.
도 2에 도시된 제 2 실시예에 따르면, 유체 회로는 메인 연도 가스 배출 덕트(27)에 연결된 가스 입구(120a) 및 가스 출구(120b)를 갖는 보조 열 교환 챔버(120)를 포함할 수 있다. 유체 회로는 또한 보조 열교환 챔버(120)에 배열되거나 그와 열 접촉하는 보조 열교환 유닛(102')을 포함하며, 이는 스팀 드럼에 들어가기 전에 유체 소스(70)로부터 나오는 작동 유체를 예열하도록 구성된다. 특히 보조 열교환 유닛(102')의 입구(102'a)는 유체 전달 덕트(73)를 통해 유체 공급원(70)에 유체 연결되고 보조 열 교환 유닛(102')의 출구(102'b)는 유체 공급관(110)에 유체 연결된다. 추가 유체 전달 덕트(75)를 통한 스팀 드럼. 특히, 보조 열교환 챔버(120) 및 보조 열교환 유닛(102')은 구별되고 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12) 및 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103)으로부터 분리되며, 제 2 실시예에 따르면, 보조 열 교환 챔버(120)는 조절 부재(40, 41)의 제 1, 제 2 및 선택적으로 제 3 위치에서 연도 가스를 수용하도록 구성된다.
제 1 및 제 2 실시예 모두에 따르면, 보조 열교환 유닛(102, 104, 102')은 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103)에 대해 하류에 배치된다.
처리장치의 제어 유닛(200)은, 연도 가스의 유량 값 또는 온도 중 적어도 하나에 기초하여 기준 파라미터를 정의한다. 예를 들어 기준 파라미터는 제 1 또는 제 2 유량 센서 또는 유량 센서에 의해 측정된 유량 값에 의해 정의될 수 있다. 메인 연도 가스 공급 덕트(22) 또는 메인 연도 가스 배출 덕트(27) 상에 배치된다. 대안적으로, 기준 파라미터는 메인 연도 가스 공급 덕트(22) 또는 제 1 및/또는 제 2 분기에서 측정된 연도 가스의 온도 값에 의해 정의될 수 있다. 대안적으로, 기준 파라미터는 온도 및 유량 측정 장치에 의해 측정된 온도 및 유량 값의 조합에 기초할 수 있다. 또한, 특정 실시예에서, 기준 파라미터는 제 1 온도 변화 파라미터 또는 제 2 온도 변화 파라미터 또는 이들 모두 또는 이들의 조합에 기초한다. 또한, 기준 파라미터는 제 1 온도 변화 파라미터와 제 1 분기에서 측정된 유량 값의 조합을 기반으로 한다. 유사하게 기준 파라미터는 제 2 온도 변화 파라미터와 제 2 분기에서 측정된 유량 값의 조합을 기반으로 할 수 있다. 추가 실시예에서, 기준 파라미터는 제 1 및 제 2 온도 변화 파라미터와 제 1 제 2 분기에서 측정된 유량 값의 조합에 기초할 수 있다.
기준 파라미터는 또한 제어 유닛에 의해 결정된 냉각 파라미터에 기초할 수 있으며, 여기서 냉각 파라미터는 제 1 및/또는 또는 제 2 열 교환 챔버(11, 12). 특히 제어 유닛(200)은 다음 공식에 따라 냉각 파라미터를 계산하도록 구성될 수 있다:
Figure pct00003
여기서
Figure pct00004
여기서:
Crate = [ΔC°/s]는 냉각 파라미터다.
ΔT[°C]는 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 걸친 온도 변화이며, 특히 상기 온도 변화는 고온 센서에 의해 측정된 온도와 제 1 및/또는 제 2 분기의 저온 센서 사이의 차이로 계산되고;
tpg[s]는 가스 입자가 고온 센서에서 저온 센서로 이동하는 데 걸리는 시간이다.
Vc[m3]는 고온 센서에서 저온 센서 사이에 포함된 가스 부피로 정의되는 제어 부피이다.
Fg[m3/s]는 특히 유량 측정 장치(60, 61)에 의해 측정된 연도 가스의 유량이다.
또한, 제어 유닛은 기준 파라미터와 적어도 하나의 임계값 사이의 비교를 정의하도록 구성된다. 임계값은 기준 파라미터에 대한 온도 값 및/또는 유량 값을 포함할 수 있다. 즉, 참조 파라미터가 온도 또는 유속을 기반으로 하는 경우 상대 임계값도 온도 또는 유속 임계값이 된다.
예를 들어, 냉각 파라미터를 기반으로 하는 참조 파라미터가 냉각 속도 임계값보다 낮은 경우 제어 장치는 제 1 위치에서 조절 부재(40, 41)에 명령을 내린다. 또는 냉각 파라미터가 냉각 속도 임계값보다 높으면 제어 장치는 제어 유닛은 제 2 위치에서 조절 부재(40, 41)에 명령을 내린다. 냉각 속도 임계값은 200℃/초 내지 400℃/초, 특히 200℃/초 내지 250℃/초, 또는 250℃/초 내지 300℃/초, 또는 300°C/초와 350°C/초 사이 또는 350°C/초와 400°C/초 사이로 설정될 수 있다.: 이 냉각 속도 간격은 연도 가스에서 다이옥신과 퓨란의 성장을 방지하거나 줄이는 데 기여할 수 있다.
대안적으로, 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 걸친 온도 변화에 기초한 기준 파라미터가 각각의 온도 변화 임계값보다 낮은 경우, 제어 유닛은 제 1 위치에서 조절 부재에 명령을 내린다: 대안적으로, 온도 변화가 온도 변화 임계값보다 높으면 제어 유닛은 제 2 위치에서 조절 부재(40, 41)에 명령을 내린다.
일반적인 개념에 따르면, 처리 장치는 550 내지 700℃, 150℃ 내지 300℃, 보다 특히 230℃ 내지 270℃, 보다 특히 250℃ 까지에 포함된 온도(즉, 가스 소스(20)로부터의 연도 가스의 출력 온도에 가까운 온도)로부터 더 저온으로 연도 가스를 냉각시키도록 구성된다. 따라서, 열 교환 챔버에 걸친 원하는 온도 변화를 나타내는 온도 변화 임계값은 280℃와 550℃ 사이, 특히 350℃와 450℃ 사이에 포함된다.
상기 설명은 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)를 언급하지만, 처리 장치(1)는 추가적인 열교환 챔버, 특히 제 3 또는 제 4 교환 챔버를 포함할 수 있으며, 각각의 입구 및 출구는 열교환기를 수용하고 연도 가스를 배출하도록 구성된다. 추가 열 교환 챔버는 각각의 추가 열 교환 챔버에 각각 배열되고 전술한 열 교환 유닛과 동일한 특징을 갖는 추가 열 교환 유닛을 포함할 수 있다.
이러한 추가 교환 챔버는 작동 유체의 관점에서 단일 스팀 드럼(110)에 연결되어 있으므로 뜨거운 연기의 흐름이 일부 분기에서만 활성화되고 다른 분기에서는 활성화되지 않는 경우에도 시스템이 올바르게 작동할 수 있다.

Claims (23)

  1. 가스 회로 및 유체 회로를 포함하는, 산업 플랜트에 의해 배출되는 고온 연도 가스의 처리 장치(1)에 있어서,
    상기 가스 회로는:
    - 각각의 가스 입구(11a, 12a) 및 가스 출구(11b, 12b)를 모두 포함하는 적어도 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12), 상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)는 입구에 상기 연도 가스를 수용하고;
    - 상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 입구(11a, 12a)를 연도 가스 공급원(20)에 각각 연결하는 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24);
    - 상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 출구(11b, 12b)에 각각 연결되고 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)로부터 연도 가스를 이송하도록 구성된 제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26), 상기 제 1 연도 가스 공급 덕트(23), 제 1 연도 가스 배출 덕트(25) 및 제 1 열교환 챔버(11)는 가스 회로의 제 1 분기를 형성하고, 제 2 연도 가스 공급 덕트(24), 제 2 연도 가스 배출 덕트(26) 및 제 2 열 교환 챔버(12)는 가스 회로의 제 2 분기를 형성하며;
    - 상기 연소가스의 온도 및 유량의 대표신호를 각각 제공하도록 구성된 온도측정장치(50, 50a, 51, 51a) 및 유량측정장치(60, 61) 중 적어도 하나;
    - 적어도 °연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 열교환 챔버(11)로 연도 가스의 이동이 허용되는 한편, 연도 가스 공급원(20)으로부터 제 2 열교환 챔버로 연도 가스의 이동은 예방 또는 감소되는 제 1 위치(12), 및 °연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 및 제 2 열 교환 챔버(11, 12) 모두로 연도 가스의 통과가 허용되는 제 2 위치 사이에서 움직일 수 있는 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 포함하여 구성되고;
    유체 회로는 작동 유체, 특히 물을 액상 및 기상으로 이송하도록 구성되며,
    상기 유체 회로는:
    상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 각각 배열되거나 상기 제 2 열교환 챔버(11, 12)와 열 접촉하는 적어도 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103) 및 연도 가스와 작업 유체 사이의 열교환을 허용하도록 구성되고;
    적어도 상기 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103)에 유동적으로 연결된 스팀 드럼(110);
    상기 처리 장치(1)는:
    온도의 대표 신호와 연도 가스 유량의 대표 신호 중 적어도 하나를 수신하고;
    상기 각각의 대표 신호에 기초하여 온도와 유량 값 중 적어도 하나를 결정하고;
    연도 가스의 온도 또는 유량 값 사이의 적어도 하나에 기초하여 적어도 하나의 기준 파라미터를 정의하고;
    상기 기준 파라미터와 적어도 하나의 임계값 사이의 비교를 정의하고;
    상기 비교에 기초하여, 제 1 위치 또는 제 2 위치에 있는 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)에 명령을 내리도록 구성되는 제어 유닛(101, 103)을 포함하는 는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 가스 회로는 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a) 및 유량 측정 장치(60, 61)를 모두 포함하고, 기준 파라미터는 연도 가스의 온도 및 유량 값에 모두 기초하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  3. 전항중 어느 한 항에 있어서, 가스 회로는 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)를 포함하고, 상기 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)는 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 상류에 배열된 하나이상의 고온 센서(50, 51)를 포함하며,
    상기 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)는 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 하류에 배열된 적어도 하나의 저온 센서(50a, 51a)를 포함하고,
    제어 유닛은 적어도 하나의 고온 센서(50, 51)에 의해 측정된 온도 값과 적어도 하나의 저온 센서(50a, 51a)에 의해 측정된 온도 값의 차이로서 온도 변화 파라미터를 결정하도록 구성되고,
    기준 파라미터는 상기 온도 변동 파라미터에 기초하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  4. 전항중 어느 한 항에 있어서, 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)는 제 1 연도 가스 공급 덕트(23) 상의 제 1 열교환 챔버(11) 상류에 배치된 제 1 고온 센서(50), 및 제 1 고온 센서(50)와 분리되고 별개이며, 제 2 연도 가스 공급 덕트(24) 상의 제2 열 교환 챔버(12) 상류에 배열된 제2 고온 센서(51)를 포함하고, 및,
    상기 온도 측정 장치(50, 50a, 51, 51a)는 제 1 열교환 챔버(11) 하류의 제 1 연도 가스 배기덕트(25)에 배치된 제 1 저온센서(50a) 및, 제 2 열교환 챔버(12) 하류의 제 2 연도 가스 배기 덕트(26) 상에 배열된 제 2 저온 센서(51a)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  5. 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 제어 유닛(200)은:
    제 1 열교환 챔버(11)의 상류 및 하류 섹션 사이의 연도 가스의 온도 차이를 나타내는 제 1 온도 변화 파라미터, 및
    제 2 열 교환 챔버(12)의 상류 및 하류 섹션 사이의 연도 가스의 온도 차이를 나타내는 제 2 온도 변화 파라미터 사이에 적어도 하나를 결정하도록 구성되고,
    기준 파라미터는 제 1 온도 변동 파라미터와 제 2 온도 변동 파라미터 또는 이들의 조합 중 적어도 하나에 기초하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  6. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 제어 유닛은:
    상기 제 1 온도 변화 파라미터와 상기 제 2 온도 변화 파라미터 사이의 적어도 하나, 선택적으로 이들의 조합을 각각의 온도 변화 임계값과 비교하고;
    상기 온도 변화 파라미터가 상기 각각의 온도 변화 임계값보다 낮으면, 제 1 위치의 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)에 명령을 내리고;
    상기 온도 변화가 상기 각각의 온도 변화 임계값보다 높으면, 제 2 위치의 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)에 명령을 내리도록 구성되고,
    특히 상기 온도 변동 임계값은 200℃ 내지 600℃, 특히 300℃ 내지 500℃, 보다 특히 350℃ 내지 450℃에 포함되는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  7. 제 2항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)는 연도 가스의 냉각 과정을 결정하도록 구성되고, 제어 유닛(200)은:
    연도 가스의 유량 값 및 온도 변화 파라미터, 특히 제 1 및/또는 제 2 온도 변화 파라미터에 기초하여 연도 가스의 현재 냉각 속도를 나타내는 냉각 파라미터를 결정하고;
    200°C/초 내지 400°C/초 사이, 예를 들어 200°C/초 내지 250°C/초 사이 또는 250°C/초 내지 300°C/초 사이 또는 300°C/초 내지 350°C/초 또는 350°C/초 내지 400°C/초 사이에 포함된 냉각 속도 임계값을 설정하고;
    상기 냉각 파라미터를 상기 냉각 속도 임계값과 비교하고,
    냉각 파라미터가 냉각 속도 임계값보다 낮은 경우, 제 1 위치에서 조절 부재에 명령을 내리고;
    선택적으로 냉각 파라미터가 냉각 속도 임계값보다 높으면, 제 2 위치에서 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)에 명령을 내리고,
    상기 기준 파라미터는 상기 냉각 파라미터 및 상기 냉각 속도 임계값을 포함하는 적어도 하나의 임계값에 기초하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  8. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 냉각 파라미터는:
    Figure pct00005
    ,
    Figure pct00006
    에 따라 계산되고,
    Crate[ΔC°/s]는 냉각 파라미터,
    ΔT[°C]는 제 1 및/또는 제 2 열 교환 챔버(11, 12)에 걸친 온도 변화이며, 특히 상기 온도 변화는 고온 센서와 저온 센서에 의해 측정된 온도 사이의 차이로서 계산되며;
    tpg[s]는 가스 입자가 고온 센서에서 저온 센서로 이동하는 데 걸리는 시간,
    Vc[m3]는 고온 센서에서 저온 센서 사이에 포함된 가스 부피로 정의되는 제어 부피,
    Fg[m3/s]는 특히 유량 측정 장치(60, 61)에 의해 측정된 연도 가스의 유량인 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  9. 전항중 어느 한 항에 있어서, 기준 파라미터를 정의하는 단계는 연도 가스의 유속, 선택적으로 전체 유속을 결정하는 단계를 포함하고, 제어 유닛은 추가로:
    상기 유량, 선택적으로 총 유량을 각각의 유량 임계값과 비교하고;
    상기 유량이 상기 각각의 유량 임계값보다 낮은 경우, 적어도 제 1 위치에서 하나의 조절 부재(40, 41)에 명령을 내리고;
    선택적으로 상기 유량이 상기 각각의 유량 임계값보다 높으면, 제 2 위치에서 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)에 명령을 내리도록 구성되는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  10. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유량 측정 장치는 가스 회로의 제 1 분기 및 제 2 분기에 각각 배치되고, 연도 가스의 유량을 나타내는 신호를 각각 제 1 및 제 2 분기에 제공하도록 각각 구성되는 적어도 제 1 및 제 2 유량 센서(60, 61)를 포함하고,
    제어 유닛은 유량의 상기 대표 신호를 수신하고 제 1 및 제 2 분기에 대한 연도 가스의 제 1 및 제 2 유량 값을 결정하도록 구성되고,
    기준 파라미터는 상기 제 1 및 제 2 유량 값에 기초하고 선택적으로 이들의 조합에 기초하고,
    특히 제 1 및 제 2 유량 센서(60, 61)는 각각:
    제 1 및 제 2 배가스 공급 덕트(23, 24), 또는
    제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26)에 배열되는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  11. 전항중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 조절 부재는:
    가스 회로의 제 1 분기 및 제 2 분기 상에 각각 배열되고, °제 1 및 제 2 배출 가스 공급 덕트(23, 24), 또는 °제 1 및 제 2 가스 배출 덕트(25, 26)에 배치되는 제 1 및 제 2 댐퍼(40, 41), 및
    가스 회로의 제 1 분기 및 제 2 분기 상에 각각 배열되고 특히 가스 회로 내의 연도 가스의 유속을 촉진하거나 방지하도록 구성된 팬, 상기 팬을 회전시키도록 구성된 전기 모터를 포함하는 제 1 및 제 2 부스터(40, 41) 사이에 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 처리 장치.
  12. 제 1항에 있어서, 연도 가스와 작동 유체 사이의 열 교환이 작동 유체의 액상에서 기상으로의 전이를 결정하고, 상기 전이가 유체 회로를 통한 작동 유체의 흐름을 결정하며,
    상기 전이는 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103) 사이의 적어도 하나로부터 스팀 드럼(110)을 향한 작동 유체의 기상의 전이를 추가로 결정하고,
    - 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)가 제 1 위치에 배치될 때, 스팀 드럼(110)은 제 1 열 교환 유닛(101)으로부터 기상의 작동 유체를 수용하고, 작동유체의 액상을 제 1 열교환 유닛(101)으로 전달하기 위해 특히 작동유체가 제 2 열교환 유닛에서 스팀드럼으로 흐르지 않도록 구성되고; 및
    적어도 하나의 조절 부재(40, 41)가 제 2 위치에 배치될 때, 스팀 드럼(110)은 제 1 및 제 2 열 교환 유닛(101, 103) 모두로부터 작동 유체의 기상을 수용하고, 작동 유체의 액상을 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103) 모두에 전달하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  13. 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)가 제 1 위치에 배치될 때, 제 1 열교환 챔버(11)에서 열교환이 일어나고 제 2 열교환 챔버(12)에서 열교환이 방지되며; 및
    - 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)가 제 2 위치에 배치될 때, 열 교환은 제 1 및 제 2 열 교환 챔버(11, 12) 모두에서 발생하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  14. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 회로는:
    상기 제 1 열교환유닛(101)의 출구를 스팀드럼(110)에 유동적으로 연결하고 제 1열 교환유닛(101)으로부터 기상의 작동 유체를 스팀드럼(110)으로 이송하도록 구성된 제 1 전달 덕트(111);
    상기 제 1열교환유닛(101)의 입구를 스팀드럼(110)에 연결하고 상기 스팀드럼(110)으로부터 액상의 작동유체를 상기 제 1열교환 유닛(101)으로 이송하도록 구성된 제 1 리턴덕트(112);
    상기 제 2 열교환 유닛(103)의 출구를 스팀드럼(110)에 유동적으로 연결하고, 상기 제 2 열교환 유닛(103)으로부터 스팀드럼(110)으로 기상의 작동유체를 이송하도록 구성된 제 2 전달 덕트;
    상기 제 2 열교환 유닛(103)의 입구를 스팀드럼(110)에 연결하고 상기 스팀드럼(110)으로부터 상기 액상의 작동유체를 상기 제 2 열교환 유닛(103)으로 이송시하도록 구성된 제 2 리턴덕트(114)를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  15. 전항중 어느 한 항에 있어서, 유체 회로는 작동 유체 공급원(70) 및 적어도 하나의 유체 전달 덕트(73, 74)를 포함하고, 상기 적어도 하나의 유체 전달 덕트(73, 74)는 스팀 드럼(110)에 작동 유체 공급원(70)을 연결하고, 작동 유체 공급원(70)은 스팀 드럼(110)에 작동 유체를 전달하도록 구성되며,
    유체 회로는 제 1 및/또는 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 배열되거나 그에 열 접촉하고, 작동유체원(70)에서 스팀드럼(110)으로 흐르는 작동 유체를 가열하도록 구성된 적어도 하나의 보조 열교환 유닛(102, 104)을 포함하고,
    유체 회로는 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 각각 배열되거나 열 접촉하고 작동유체원(70)에서 스팀드럼(110)으로 흐르는 작동 유체를 가열하도록 구성된 제 1 및 제 2 보조 열교환 유닛(102, 104)을 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  16. 전항중 어느 한 항에 있어서, 제 1 열교환 유닛(101)은 연도 가스와 작동 유체 사이의 열교환을 위한 제 1 표면을 정의하고, 제 2 열교환 유닛(103)은 연도 가스와 작동 유체 사이의 열 교환을 위한 제 2 표면을 정의하며, 상기 제 1 표면은 상기 제 2 표면과 다르고, 특히 제 2 표면보다 낮으며,
    적어도 하나의 조절 부재(40, 41)는, 연도 가스의 이동 연도 가스 공급원(20)에서 제 2 열 교환 챔버(12)로의 유입이 허용되는 동안, 연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 열 교환 챔버(11)로의 연도 가스의 이동이 방지되거나 감소되는 제 3 위치에서 이동 가능하고,
    선택적으로 제 1 교환기 챔버(11)는 연도 가스의 상이한 유속을 허용하기 위해 제 2 열교환기 챔버(12)에 대해 상이한 통로 섹션을 갖는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  17. 제 1항에 있어서, 연도 가스 회로의 제 1 분기는 연도 가스 공급원(20)으로부터의 연도 가스 공급 방향에 따라 연도 가스 회로의 제 2 분기와 병렬로 배열되는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  18. 제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 열교환 챔버(11)는 제 1 연도 가스 공급 덕트(23)를 통해 연도 가스 공급원(20)에 직접 연결되고, 제 2 열 교환 챔버는 제 2 연도 가스 공급 덕트(24)를 통해 연도 가스 공급원(20)에 직접 연결되며, 상기 제 1 및 제 2 공급 덕트(23, 24)는 구별되며, 특히 서로 평행하게 배열되는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  19. 전항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 작동 조건에서, 제 2 열교환 챔버(12)는 제 1 열교환 챔버(11)를 통과하지 않은 다량의 연도 가스를 수용하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  20. 전항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24)는 동일한 연도 가스 공급원(20)에 연결되는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  21. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 스팀 드럼(110)은 제 1 및 제 2 열 교환 유닛(101, 103)에 공통인 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  22. 전항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 회로는:
    - 제 1 열교환 챔버(11)의 제 1 열교환 유닛(101)의 출구에 연결되고 특히 기상의 상기 작동 유체를 제 1 열교환 유닛(101)으로부터 스팀드럼(110)으로 이송하도록 구성된 제 1 전달 덕트(111); 및
    - 제 2 열교환 챔버(12)의 제 2 열교환 유닛(103)의 출구에 연결되고 특히 기상의 상기 작동 유체를 제 2 열교환 유닛(103)으로부터 스팀드럼(110)으로 이송하도록 구성된 제 2 전달 덕트(113)를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  23. 산업 설비에서 방출되는 뜨거운 연도 가스를 처리하는 방법에 있어서, 상기 방법은 임의로 전술한 청구항 중 어느 한 항에 따른 처리 장치에 의해 수행되며,
    상기 장치는 가스 회로 및 유체 회로를 포함하고,
    상기 가스 회로는:
    - 각각의 가스 입구(11a, 12a) 및 가스 출구(11b, 12b)를 모두 포함하고 입구에 상기 연도 가스를 수용하는 적어도 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12);
    - 상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 입구(11a, 12a)를 연도 가스 공급원(20)에 각각 연결하는 제 1 및 제 2 연도 가스 공급 덕트(23, 24);
    - 상기 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)의 출구(11b, 12b)에 각각 연결되고 제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)로부터 연도 가스를 이송하도록 구성된 제 1 및 제 2 연도 가스 배출 덕트(25, 26), 여기서 제 1 연도 가스 공급 덕트(23), 제 1 연도 가스 배출 덕트(25) 및 제 1 열교환 챔버(11)는 가스 회로의 제 1 분기를 형성하고, 제 2 연도 가스 공급 덕트(24)는 제 2 연도 가스 배출 덕트(26) 및 제 2 열 교환 챔버(12)는 가스 회로의 제 2 분기를 형성하며;
    - 상기 연소가스의 온도 및 유량의 대표신호를 각각 제공하도록 구성된 온도측정장치(50, 50a, 51, 51a) 및 유량측정장치(60, 61) 중 적어도 하나;
    - 적어도 °연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 열교환 챔버(11)로 연도 가스의 이동이 허용되는 한편, 연도 가스 공급원(20)으로부터 제 2 열교환 챔버로 연도 가스의 이동이 예방 또는 감소되도록 하는 제 1 위치(12), 및 °연도 가스 공급원(20)으로부터 제 1 및 제 2 열 교환 챔버(11, 12) 모두로 연도 가스의 통과가 허용되는 제 2 위치 사이에서 움직일 수 있는 적어도 하나의 조절 부재(40, 41);를 포함하고,
    유체 회로는 액상 및 기상으로 작동 유체, 특히 물을 이송하도록 구성되며,
    상기 유체 회로는:
    제 1 및 제 2 열교환 챔버(11, 12)에 각각 배열되거나 열 접촉하고, 연도 가스와 작동 유체 사이의 열교환을 허용하도록 구성되는 적어도 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103);
    적어도 상기 제 1 및 제 2 열교환 유닛(101, 103)에 유동적으로 연결된 스팀 드럼(110);을 포함하고,
    상기 방법은 처리 장치(1)에 의해 수행되는:
    상기 온도 대표 신호와 상기 연도가스 유량 대표 신호 중 적어도 하나를 수신하는 단계;
    상기 각 대표 신호에 기초하여 온도 대표값과 유량 대표값 중 적어도 하나를 결정하는 단계;
    연도 가스의 유량 값 또는 온도 값 사이의 적어도 하나에 기초하여 적어도 하나의 기준 파라미터를 정의하는 단계;
    상기 기준 파라미터와 적어도 하나의 임계값 사이의 비교를 정의하는 단계;
    상기 비교에 기초하여, 제 1 위치 또는 제 2 위치에서 적어도 하나의 조절 부재(40, 41)를 명령하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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FR2464305A1 (fr) * 1979-08-30 1981-03-06 Siderurgie Fse Inst Rech Procede et dispositif de captage des gaz au four a arc
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