KR20230008073A - 화장료 - Google Patents

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KR20230008073A
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류노스케 하타
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신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은, 하기 식(I), (II) 및 (III)으로 표시되는, (메트)아크릴계의 반복단위를 갖는 주쇄와, 불포화결합 및 오가노폴리실록산구조를 측쇄에 갖는 (메트)아크릴계 그래프트실리콘인 고분자가교제와, 하기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산의 부가중합체인 고분자 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료이다. 이에 따라 액상 유제에 대한 친화성이 높은 고분자 중합체를 배합함으로써, 보존안정성, 사용감이 우수한 화장료가 제공된다.
Figure pct00036

(A는, 탄소수 1~22의 알콕시기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기로부터 선택되는 기이다. B는 하기 식(1)로 표시되는 불포화결합을 갖는 기이다. C는 하기 식(2)로 표시되는 기, 또는 하기 (3-1) 혹은 (3-2)로 표시되는 기이다.)
MxDyTzQw (4)

Description

화장료
본 발명은, 화장료에 관한 것이다.
오가노하이드로겐폴리실록산과, 적어도 2개의 지방족 불포화결합기를 갖는 오가노폴리실록산을 부가중합함으로써 얻어지는 특정의 오가노폴리실록산 중합물은, 소프트하고 안정성이 우수한 화장품용 기재가 되는 것이 특허문헌 1에 개시되어 있으며, 많은 화장품에 이용되고 있다. 일반적으로는, 액상유(液狀油)로 팽윤시킴으로써 페이스트상 조성물로 하여, 화장료를 증점시키기 위해서나, 유화 조성물을 안정화시키기 위해 이용된다.
한편, 화장품에는, 액상유로서 실리콘유, 탄화수소유, 에스테르유, 천연동식물유, 및 반합성유 등이 이용되고 있다. 특히, 에스테르유는, 자외선흡수제의 용해성이 높은 점에서, 선케어 제품에 있어서 다용되고 있다. 그러나, 상기 오가노폴리실록산 중합물은, 에스테르유 등의 극성이 높은 유제로는 팽윤하기 어려운 것이 알려져 있다.
이러한 문제를 해결하기 위해, 특허문헌 2~3에서는, 장쇄알킬기나 폴리에테르쇄, 폴리글리세린쇄로 변성시킨 오가노폴리실록산 중합물, 및 이 중합물에 실리콘유를 팽윤시킨 페이스트상 실리콘 조성물이, 보존안정성이 우수한 화장료를 제공하는 것을 개시하고 있다. 그러나, 특허문헌 2~3에 기재된 중합물은, 에스테르유로 팽윤시킬 수 있으나, 에스테르유와의 친화성이 충분하지 않아, 그들을 함유하는 화장료는, 보존안정성이나 사용감에 있어서 개선의 여지가 있었다.
일본특허공개 H1-207354호 공보 일본특허공개 H4-272932호 공보 국제공개 제2004/024798호 공보
본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 액상 유제에 대한 친화성이 높은 고분자 중합체를 배합함으로써, 보존안정성, 사용감이 우수한 화장료를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에서는, 하기 식(I), (II) 및 (III)으로 표시되는, (메트)아크릴계의 반복단위를 갖는 주쇄와, 불포화결합 및 오가노폴리실록산구조를 측쇄에 갖는 (메트)아크릴계 그래프트실리콘인 고분자가교제와, 하기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산의 부가중합체인 고분자 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료를 제공한다.
[화학식 1]
Figure pct00001
[식 중, R1은 서로 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기이고, A는, 탄소수 1~22의 알콕시기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기로부터 선택되는 기이다. B는 하기 식(1)로 표시되는 불포화결합을 갖는 기이다.
[화학식 2]
Figure pct00002
(식 중 R2는 단결합, 또는 탄소수 1~20의 치환 또는 비치환된 2가의 탄화수소기이며, 단, 상기 식(1) 중의 인접하지 않는 위치에 산소원자를 포함하고 있을 수도 있다.)
C는 하기 식(2)로 표시되는 직쇄상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기, 또는 하기 (3-1) 혹은 (3-2)로 표시되는 수지상(樹枝狀) 오가노폴리실록산구조를 갖는 기이다.
[화학식 3]
Figure pct00003
(식(2) 중, Z1은 2가의 유기기이고, R3은 서로 독립적으로 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R4는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기이고, m은 0~100의 정수이다.)
[화학식 4]
Figure pct00004
(식(3-1) 및 (3-2) 중, Z2는 2가의 유기기이고, a는 0~3의 수이고, Q는 하기 식(3)으로 표시되는 기이고, D는 계층수c의 수지상 구조를 갖는 3c+1(즉, 3의 c승+1)가의 오가노폴리실록사닐기이고, c는 1~8의 정수이고,
[화학식 5]
Figure pct00005
R5는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R6은 탄소수 1~8의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R7은 수소원자, 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, a2는 0~2의 실수(實數), 및, n은 2~12의 정수이다.)
상기 식(I), (II) 및 (III)으로 표시되는 반복단위의 결합순서는 제한되는 것이 아니며, p, q 및 r은 정수이고, q 및 r은 0은 아니고, 상기 고분자가교제의 수평균분자량이 1,000~1,000,000g/mol이 되는 수이다.]
MxDyTzQw (4)
(식 중, M은 R8 3SiO1/2, D는 R8 2SiO2/2, T는 R8SiO3/2, 및 Q는 SiO4/2로 표시되는 실록산단위이고, R8은 서로 독립적으로 수소원자, 또는, 치환 또는 비치환된 탄소수 1~10의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6~22의 아릴기이고, 적어도 2개의 실록산단위가 수소원자를 포함한다. x, y, z, w는 0 또는 양의 수이며, 단, y+z+w≥1이고, 상기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산의 수평균분자량이 500~900,000g/mol이 되는 수이다. 상기 M, D, T, Q로 표시되는 각 실록산단위의 결합순서는 제한되지 않는다.)
이러한 화장료이면, 보존안정성, 사용감이 우수하다.
또한, 본 발명에서는, 상기 반복단위(III)의 C가 상기 식(2)로 표시되는 직쇄상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기로 할 수 있다.
이러한 화장료이면, 본 발명의 효과를 보다 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에서는, 상기 고분자 중합체를, 액상 유제에 의해 팽윤한 조성물로서 함유할 수 있다.
이러한 화장료이면, 보다 보존안정성이 우수하다.
또한, 본 발명에서는, 상기 액상 유제를 에스테르유로 할 수 있다.
이러한 화장료이면, 보다 보존안정성, 사용감이 우수하다.
또한, 본 발명에서는, 물을 추가로 함유하여, 에멀션의 형태로 할 수 있다.
이러한 화장료이면, 보다 사용감이 우수하다.
이상과 같이, (메트)아크릴계 그래프트실리콘인 고분자가교제와, 오가노하이드로겐폴리실록산의 부가중합체인 고분자 중합체는, 많은 에스테르결합을 갖기 때문에, 액상 유제 중에서도 에스테르유나 극성유에 대한 친화성이 높아, 용이하게 팽윤할 수 있다. 그 때문에, 화장료에 배합한 경우, 에스테르유 등의 극성유를 포함하는 조성물이어도, 통상의 실리콘 중합체와 비교하여 보존안정성이 높으며, 사용감이 우수하다.
상기 서술한 바와 같이, 보존안정성, 사용감이 우수한 화장료의 개발이 요구되고 있었다.
본 발명자는, 창의연구를 거듭한 결과, (메트)아크릴기를 갖는 주쇄와, 불포화결합 및 오가노폴리실록산구조를 측쇄에 갖는 그래프트 폴리머를 고분자가교제로 하여, 오가노하이드로겐폴리실록산과 부가중합한 고분자 중합체가, 액상 유제 중에서도 에스테르유 등의 극성유에 대한 친화성이 높은 것을 발견하고, 특히 상기 고분자 중합체를 액상 유제로 팽윤시켜 이루어지는 페이스트상 조성물을 화장료에 배합함으로써 보존안정성이나 사용감을 개선할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 하기 식(I), (II) 및 (III)으로 표시되는, (메트)아크릴계의 반복단위를 갖는 주쇄와, 불포화결합 및 오가노폴리실록산구조를 측쇄에 갖는 (메트)아크릴계 그래프트실리콘인 고분자가교제와, 하기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산의 부가중합체인 고분자 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료이다.
[화학식 6]
Figure pct00006
[식 중, R1은 서로 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기이고, A는, 탄소수 1~22의 알콕시기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기로부터 선택되는 기이다. B는 하기 식(1)로 표시되는 불포화결합을 갖는 기이다.
[화학식 7]
Figure pct00007
(식 중 R2는 단결합, 또는 탄소수 1~20의 치환 또는 비치환된 2가의 탄화수소기이며, 단, 상기 식(1) 중의 인접하지 않는 위치에 산소원자를 포함하고 있을 수도 있다.)
C는 하기 식(2)로 표시되는 직쇄상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기, 또는 하기 (3-1) 혹은 (3-2)로 표시되는 수지상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기이다.
[화학식 8]
Figure pct00008
(식(2) 중, Z1은 2가의 유기기이고, R3은 서로 독립적으로 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R4는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기이고, m은 0~100의 정수이다.)
[화학식 9]
Figure pct00009
(식(3-1) 및 (3-2) 중, Z2는 2가의 유기기이고, a는 0~3의 수이고, Q는 하기 식(3)으로 표시되는 기이고, D는 계층수c의 수지상 구조를 갖는 3c+1(즉, 3의 c승+1)가의 오가노폴리실록사닐기이고, c는 1~8의 정수이고,
[화학식 10]
Figure pct00010
R5는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R6은 탄소수 1~8의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R7은 수소원자, 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, a2는 0~2의 실수, 및, n은 2~12의 정수이다.)
상기 식(I), (II) 및 (III)으로 표시되는 반복단위의 결합순서는 제한되는 것이 아니며, p, q 및 r은 정수이고, q 및 r은 0은 아니고, 상기 고분자가교제의 수평균분자량이 1,000~1,000,000g/mol이 되는 수이다.]
MxDyTzQw (4)
(식 중, M은 R8 3SiO1/2, D는 R8 2SiO2/2, T는 R8SiO3/2, 및 Q는 SiO4/2로 표시되는 실록산단위이고, R8은 서로 독립적으로 수소원자, 또는, 치환 또는 비치환된 탄소수 1~10의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6~22의 아릴기이고, 적어도 2개의 실록산단위가 수소원자를 포함한다. x, y, z, w는 0 또는 양의 수이며, 단, y+z+w≥1이고, 상기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산의 수평균분자량이 500~900,000g/mol이 되는 수이다. 상기 M, D, T, Q로 표시되는 각 실록산단위의 결합순서는 제한되지 않는다.)
이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명하는데, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 설명에서 이용하는 용어 「(메트)아크릴」은, 메타크릴 및 아크릴을 말한다. 동일한 것은, 용어 「(메트)아크릴레이트」에도 적용되며, 이것은 마찬가지로, 메타크릴산에스테르 및 아크릴산에스테르를 말한다.
본 발명에 있어서 수평균분자량이란, 하기 조건으로 측정한 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의한 폴리스티렌을 표준물질로 한 수평균분자량을 가리킨다. 또한, 본 발명에 있어서 다분산도(Mw/Mn)란, 상기 수평균분자량과 동일한 조건으로 측정한 중량평균분자량의 값을 수평균분자량의 값으로 나눈 것이다.
[측정조건]
전개용매: 테트라하이드로푸란(THF)
유량: 0.6mL/min
검출기: 시차굴절률검출기(RI)
칼럼: TSK Guardcolumn SuperH-H
TSKgel SuperHM-N(6.0mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperH2500(6.0mmI.D.×15cm×1)
(모두 토소사제)
칼럼온도: 40℃
시료주입량: 50μL(농도 0.3질량%의 THF용액)
본 발명에서는, (메트)아크릴계의 반복단위를 갖는 주쇄와, 불포화결합 및 오가노폴리실록산구조를 측쇄에 갖는 (메트)아크릴계 그래프트실리콘인 고분자가교제와, 오가노하이드로겐폴리실록산을 부가중합시켜 이루어지는 고분자 중합체를 포함하는 화장료를 제공한다. 고분자 중합체는, 보존안정성의 관점에서, 액상 유제로 미리 팽윤시키는 것이 바람직하다. 이때, 상기 액상 유제가 에스테르유인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 화장료는, 상기 고분자 중합체를 팽윤시키기 위한 액상 유제 외에, 유성 성분을 포함하는 것이 바람직하다. 이 유성 성분으로는, 통상의 화장료에 사용되는 것이면 고체, 반고체, 액상, 어느 유성 성분이나 사용할 수 있으며, 2종 이상의 혼합유일 수도 있다. 바람직하게는, 액상의 유성 성분이다.
나아가, 본 발명의 화장료는, 물을 배합함으로써 에멀션의 형태로 할 수 있다.
추가로 본 발명의 화장료는, 필요에 따라 임의의 성분을 배합할 수 있다. 이들 임의성분으로는 화장품에 통상 이용되는 성분, 예를 들어 자외선흡수제, 자외선흡수산란제, 알코올성 수산기를 갖는 화합물, 수용성 혹은 수팽윤성 고분자, 분체, 계면활성제, 유성 증점제, 유성 피막형성제, 방부제, 산화방지제, pH조정제, 킬레이트제, 청량제, 항염증제, 기타 약제 등을 들 수 있는데 특별히 한정되지 않는다.
○고분자 중합체
본 발명에서 이용되는 고분자 중합체는, 하기 식(I), (II) 및 (III)으로 표시되는, (메트)아크릴계의 반복단위를 갖는 주쇄와, 불포화결합 및 오가노폴리실록산구조를 측쇄에 갖는 (메트)아크릴계 그래프트실리콘인 고분자가교제와, 하기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산을 부가중합시켜 얻을 수 있다.
[화학식 11]
Figure pct00011
식 중, R1은 서로 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기이다. 그 중에서도 가교제 합성시의 반응제어가 용이하기 때문에 메틸기가 바람직하다. A는, 탄소수 1~22의 알콕시기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기로부터 선택되는 기이다. 상기 알콕시기의 예로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, i-부톡시기, t-부톡시기, 이소펜틸옥시기, n-헥실옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 3,5,5-트리메틸-1-헥실옥시기, 노나닐옥시기, 이소데실옥시기, 2-프로필헵틸옥시기, 2-이소프로필-5-메틸헥실옥시기, 라우릴옥시기, 트리데실옥시기, 헵타데실옥시기, 스테아릴옥시기, 헤네이코사닐옥시기, 베헤닐옥시기 등의 지방족 알콕시기, 시클로헥실옥시기, 이소보르닐옥시기 등의 지환식 알콕시기 등을 들 수 있고, 메톡시메톡시기, 2-에톡시에톡시기, 1-에톡시부톡시기, 2-부톡시에톡시기 등의 알콕시알콕시기도 포함하는 것으로 한다. 상기 아릴옥시기의 예로는, 페녹시기, 벤질옥시기, 톨릴옥시기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 에스테르유에 대한 친화성의 관점에서, 탄소수 1~20의 알콕시기가 바람직하고, 보다 바람직하게는 탄소수 4~18의 알콕시기이다.
B는 하기 식(1)로 표시되는 불포화결합을 갖는 기인데, 부가중합의 반응속도의 관점에서, 알릴옥시기, 2-알릴옥시에톡시기가 바람직하고, 보다 바람직하게는, 2-알릴옥시에톡시기이다.
[화학식 12]
Figure pct00012
식 중 R2는 단결합, 또는 탄소수 1~20의 치환 또는 비치환된 2가 탄화수소기이며, 단, 상기 식(1) 중의 인접하지 않는 위치에 산소원자를 갖고 있을 수도 있다.
C는, 하기 식(2)로 표시되는 직쇄상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기, 또는, 하기 (3-1) 혹은 (3-2)로 표시되는 수지상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기이다. 그 중에서도, 하기 식(2)로 표시되는 직쇄상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기인 것이 바람직하다.
(직쇄상 오가노폴리실록산기)
[화학식 13]
Figure pct00013
(식(2) 중, Z1은 2가의 유기기이고, R3은 서로 독립적으로 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R4는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기이고, m은 0~100의 정수이다.)
상기 식(2)에 있어서, Z1은 2가의 유기기이고, 탄소수 2~12의 2가의 포화탄화수소기가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 프로필렌기이다. R3은 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, 바람직하게는 탄소수 1~5의 포화탄화수소기, 더욱 바람직하게는 메틸기이다. R4는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기이고, 바람직하게는 탄소수 1~5의 포화탄화수소기, 더욱 바람직하게는 메틸기이다. m은 0~100의 정수이고, 바람직하게는 1~60의 정수이고, 더욱 바람직하게는 5~30의 정수이다.
(수지상 오가노폴리실록산기)
[화학식 14]
Figure pct00014
(식(3-1) 및 (3-2) 중, Z2는 2가의 유기기이고, a는 0~3의 수이고, Q는 하기 식(3)으로 표시되는 기이고, D는 계층수c의 수지상 구조를 갖는 3c+1(즉, 3의 c승+1)가의 오가노폴리실록사닐기이고, c는 1~8의 정수이고,
[화학식 15]
Figure pct00015
R5는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R6은 탄소수 1~8의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R7은 수소원자, 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, a2는 0~2의 실수이고, 및, n은 2~12의 정수이다.)
상기 식(3-1) 및 (3-2)에 있어서, R5는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, 바람직하게는 탄소수 1~5의 포화탄화수소기이고, 더욱 바람직하게는 메틸기이다. R6은 탄소수 1~8의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, 바람직하게는 탄소수 1~6의 포화탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~3의 포화탄화수소기이고, 더욱 바람직하게는 메틸기이다. Z2는 2가의 유기기이고, 바람직하게는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기이고, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~5의 포화탄화수소이다. D는 계층수c의 수지상 구조를 갖는 3c+1(즉, 3의 c승+1)가의 오가노폴리실록사닐기이고, c는 1~8의 정수이고, 바람직하게는 1~4의 정수이고, 더욱 바람직하게는 1~2의 정수이다.
상기 식(3-1) 또는 (3-2)로 표시되는 기는, 상세하게는 하기 구조로 표시된다.
[화학식 16]
Figure pct00016
상기 식(3-2’)에 있어서 D는 예를 들어, 하기 구조로 표시된다.
[화학식 17]
Figure pct00017
식(III)의 C로 표시되는 기로는, 예를 들어 하기 구조를 들 수 있다.
[화학식 18]
Figure pct00018
상기 식(I), (II) 및 (III)으로 표시되는 반복단위의 결합순서는 제한되는 것이 아니고, 각각의 반복단위가 구성하는 배열은, 불규칙해도 되고, 규칙적이어도 된다. 반복단위(I), (II), 및 반복단위(III)는, 각각 적어도 1종류로 구성되어 있으면 되고, 복수로 구성되어 있어도 된다. 상기 식에 있어서, p, q 및 r은 정수이고, q 및 r은 0은 아니고, q는 2 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2~10이고, r은 1 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1~20이다. 고분자가교제의 수평균분자량이 1,000~1,000,000g/mol이 되는 수, 바람직하게는 3,000~100,000g/mol이 되는 수, 더욱 바람직하게는 5,000~50,000g/mol이 되는 수이다.
이하, 고분자가교제의 중합법에 대하여 상세히 설명한다. 본 발명의 고분자가교제의 중합법은, 특별히 한정되는 것은 아닌데, 예를 들어, 하기 일반식(5), (6), 및 (7)로 표시되는 단량체를 그룹이동중합함으로써 얻을 수 있다.
[화학식 19]
Figure pct00019
(식 중, R1, A, B 및 C는 상기 서술한 바와 같다.)
상기 일반식(5)로 표시되는 화합물로는, 예를 들어 하기 화합물을 들 수 있는데, 이들로 제한되는 것이 아니다.
메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 이소펜틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 베헤닐(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, 2-프로필헵틸(메트)아크릴레이트, 3,5,5-트리메틸-1-헥실(메트)아크릴레이트, 노나닐(메트)아크릴레이트, 2-프로필헵틸(메트)아크릴레이트, 2-이소프로필-5-메틸헥실(메트)아크릴레이트, 트리데실(메트)아크릴레이트, 헵타데실(메트)아크릴레이트, 헤네이코사닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 2-부톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 1-에톡시부틸(메트)아크릴레이트.
상기 일반식(6)으로 표시되는 화합물로는, 예를 들어 하기 화합물을 들 수 있는데, 이들로 제한되는 것이 아니다.
비닐(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 2-알릴옥시에틸(메트)아크릴레이트.
상기 일반식(7)로 표시되는 화합물로는, 예를 들어 하기 화합물을 들 수 있는데, 이들로 제한되는 것이 아니다.
[화학식 20]
Figure pct00020
[화학식 21]
Figure pct00021
[화학식 22]
Figure pct00022
[화학식 23]
Figure pct00023
이하에 그룹이동중합에 의한 제조방법을 예시하는데, 제조방법은 다른 중합법을 사용할 수도 있고, 하기 방법으로 제한되는 것이 아니다.
충분히 건조한 3구 플라스크에 촉매를 넣고, 용매를 첨가한다. 나아가, 개시제를 첨가하여 혼합한 후, 적하깔때기를 이용하여 단량체(5), (6) 및 (7)을 적하하고, 교반한다. 발열의 정도에 따라, 반응용액을 냉각하고, 알맞은 온도로 유지한다. 적하 후, 단량체가 소비될 때까지 교반하고, 반응정지제를 첨가하여, 반응을 종료한다. 반응 후, 필요에 따라 수세를 행하고, 용매를 감압유거(留去)한다.
그룹이동중합의 촉매, 용매, 개시제, 단량체를 첨가하는 순번은, 경우에 따라 적절한 순번을 선택할 수 있다. 예를 들어, 단량체(5), (6) 및 (7), 용매, 개시제를 미리 혼합한 용액에, 마지막으로 촉매를 첨가함으로써 반응을 행할 수도 있다.
반응에 이용하는 모든 단량체를, 미리 혼합하여 적하한 경우, 랜덤공중합체를 합성할 수 있다. 또한, 반응에 이용하는 각 단량체를 교호로 첨가하면, 블록공중합체를 합성할 수 있다.
개시제로는, 이하의 화합물을 이용할 수 있는데, 본 발명에서 이용할 수 있는 개시제가, 이하에 예시하는 개시제로 한정되는 것은 아니다.
[화학식 24]
Figure pct00024
식 중 Me는 메틸기, Et는 에틸기, nPr은 n-프로필기, iPr은 이소프로필기, nBu는 n-부틸기를 나타낸다.
반응용매로는, 비프로톤성의 유기용매를 이용할 수 있다. 예를 들어, 아세트산에틸, 프로피오니트릴, 톨루엔, 자일렌, 브로모벤젠, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄, 디에틸에테르, 테트라메틸렌설폰, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 아니솔, 2-부톡시에톡시트리메틸실란, 셀로솔브아세테이트, 크라운에테르, 아세토니트릴, 테트라하이드로푸란(이하, THF라고 기재하는 경우가 있다)을 들 수 있다. 반응효율의 관점에서, 바람직하게는, 디클로로메탄, 톨루엔, 아세토니트릴, 테트라하이드로푸란이고, 더욱 바람직하게는 테트라하이드로푸란이다.
반응온도는 -100℃~150℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0℃~50℃, 더욱 바람직하게는 10℃~30℃이다.
감압유거할 때의 온도는, 80℃~300℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100℃~200℃, 더욱 바람직하게는 120℃~180℃이다. 또한, 그때의 압력은 1013hPa 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 101.3hPa 이하, 더욱 바람직하게는 1.013hPa 이하이다.
촉매로는, 일반적으로, 그룹이동중합의 촉매로서 알려져 있는, 음이온계 촉매, 루이스산촉매, 유기분자촉매 중으로부터 선택하여, 이용할 수 있다.
음이온계 촉매
예를 들어, 트리스(디메틸아미노)설포늄디플루오로트리메틸실리케이트, 트리스(디메틸아미노)설포늄시아나이드, 테트라페닐아르소늄시아나이드, 트리스(디메틸아미노)설포늄아지드, 테트라에틸암모늄아지드, 비스(디알킬알루미늄)옥사이드, 보론트리플루오라이드에테레이트, 알칼리금속플루오라이드, 알칼리금속시아나이드, 알칼리금속아지드, 트리스(디메틸아미노)설포늄디플루오로트리페닐스타네이트, 테트라부틸암모늄플루오라이드, 테트라메틸암모늄플루오라이드, 테트라에틸암모늄시아나이드, 테트라부틸암모늄벤조에이트, 테트라부틸암모늄비벤조에이트, 테트라부틸암모늄m-클로로벤조에이트를 들 수 있다.
루이스산촉매
예를 들어, 요오드화아연, 브롬화아연, 염화아연, 모노 및 디알킬알루미늄할라이드, 디알킬알루미늄옥사이드를 들 수 있다.
유기분자촉매
예를 들어, 1,3-디이소프로필-4,5-디메틸이미다졸-2-일리덴, 1,3-디이소프로필이미다졸-2-일리덴, 1,3-디-t-부틸이미다졸-2-일리덴, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]-7-운데센, 2,8,9-트리메틸-2,5,8,9-테트라아자-1-포스파비시클로[3.3.3]운데칸, 2,8,9-트리이소부틸-2,5,8,9-테트라아자-1-포스파비시클로[3.3.3]운데칸, 1-t-부틸-2,2,4,4,4-펜타키스(디메틸아미노)-2λ5,4λ5-카테나디(포스파젠), 1-t-부틸-4,4,4-트리스(디메틸아미노)-2,2-비스[트리스(디메틸아미노)-포스포라닐리덴아미노]-2λ5,4λ5-카테나디(포스파젠), 트리스(2,4,6-트리메톡시페닐)포스핀, 트리스-(펜타플루오로페닐)보란, 트리플루오로메탄설폰산트리에틸실릴, 트리페닐카르베늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리플루오로메탄설폰이미드, 1-[비스(트리플루오로메탄설포닐)메틸]-2,3,4,5,6-펜타플루오로벤젠을 들 수 있다.
반응정지제로는, 프로톤을 공여할 수 있는 화합물이 이용된다. 예를 들어, 메탄올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 물을 들 수 있다.
상기 고분자가교제는, 하기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산과 부가중합함으로써 고분자 중합체가 되고, 이 고분자 중합체는, 자중과 동일 질량 이상의 액상 유제를 포함하여 팽윤할 수 있다.
MxDyTzQw (4)
식 중, M은 R8 3SiO1/2, D는 R8 2SiO2/2, T는 R8SiO3/2, 및 Q는 SiO4/2로 표시되는 실록산단위이고, R8은 서로 독립적으로 수소원자, 치환 또는 비치환된 탄소수 1~10의 알킬기, 또는, 치환 또는 비치환된 탄소수 6~22의 아릴기이고, 적어도 2개의 실록산단위가 수소원자를 포함한다. 바람직하게는, 수소원자, 탄소수 1~4의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기인데, 더욱 바람직하게는 수소원자, 메틸기, 페닐기이다. 이러한 관능기이면, 얻어지는 고분자 중합체는 에스테르유에 대한 친화성이 향상된 것이 된다.
x, y, z, w는 0 또는 양의 수이며, 단, y+z+w≥1이다. z, w는, 바람직하게는 10 이하이고, 더욱 바람직하게는 0이다. z, w가 상기 범위 내이면, 상기 오가노하이드로겐폴리실록산이 분지가 적은 직쇄상이 되어, 고분자가교제와 반응했을 때에 보다 균일한 고분자 중합체가 되므로 바람직하다.
상기 오가노하이드로겐폴리실록산의 1분자 중의 하이드로실릴기(SiH기)의 수는, 2개 이상이고, 바람직하게는 2~3개이다. 또한, 상기 일반식(4)에 있어서의 M단위에만 하이드로실릴기가 있는 것이 바람직하다. 2개 미만이면, 가교점이 지나치게 적어서, 액상 유제에 대한 팽윤성을 저해하는 경우가 있다.
상기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산의 수평균분자량은 500~900,000g/mol이고, 바람직하게는 500~100,000g/mol이고, 더욱 바람직하게는 500~50,000g/mol이다. 상기 범위 외이면 얻어지는 고분자 중합체의 액상 유제에 대한 친화성이 나빠지는 경우가 있다. 상기 M, D, T, Q로 표시되는 각 실록산단위의 결합순서는 제한되지 않는다.
또한, 상기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산의 다분산도(Mw/Mn)로는, 1.0~2.5가 바람직하고, 1.2~1.8이 보다 바람직하다. 이 범위 내에 있으면, 가교체 내부가 균일해져, 액상 유제로 팽윤시키는 것이 용이하여 바람직하다.
본 발명의 고분자 중합체를 얻으려면, 상기 고분자가교제와 오가노하이드로겐폴리실록산을, 백금 화합물(예를 들어, 염화백금산, 알코올변성 염화백금산, 염화백금산-비닐실록산착체 등), 또는 로듐 화합물의 존재하, 실온 또는 가온하(약 50~120℃)에서 반응시키면 된다. 반응시에는, 무용매로 행할 수도 있고, 필요에 따라 유기용매를 사용할 수도 있다. 이러한 유기용매로는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 부탄올 등의 지방족 알코올계 용매; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소계 용매; n-펜탄, n-헥산, 시클로헥산 등의 지방족 또는 지환식 탄화수소계 용매; 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소 등의 할로겐화탄화수소계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤계 용매; 데카메틸시클로펜타실록산 등의 실리콘유; 트리이소옥탄산글리세릴(트리에틸헥사노인), 디에틸헥산산네오펜틸글리콜, 미리스트산이소프로필 등의 에스테르유 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 본 발명의 고분자 중합체는 에스테르유에 대한 친화성이 우수하기 때문에, 얻어진 고분자 중합체를 에스테르유에 팽윤시키는 것을 상정한 경우, 무용매로 행하거나, 에스테르유를 용매로서 이용하는 것이 바람직하다.
상기 고분자 중합체를 액상 유제로 팽윤한 조성물을 얻기 위해서는, 우선 상기 고분자 중합체만을 합성한 후 정제하고, 이어서 액상 유제를 혼합하여 혼련함으로써 얻을 수 있다. 또한, 반응에 이용한 유기용매를 함유한 그대로의 중합물을 정제처리하고, 이어서 용매 및 냄새 성분 등의 휘발 성분을 제거하고 나서 액상 유제를 혼합하여, 혼련함으로써도 얻을 수 있다. 또한, 고분자 중합체를 액상 유제와 혼합한 후, 정제처리를 행할 수도 있다.
상기 정제처리는 필요에 따라 행해진다. 예를 들어 유기산 혹은 무기산 및 그의 염으로부터 선택되는 산성 물질, 또는 물을 첨가하여 행하는 것이 바람직하다. 산성 물질을 첨가하지 않고 물로만 행하는 것도 가능하나, 반응을 일정하게 제어하기 위해서는 산성 물질을 첨가하여 행하는 것이 바람직하다. 또한 이때 첨가하는 산성 물질의 첨가량은, 고분자 중합체 100질량부에 대하여, 0.01~10질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.02~5질량부이다. 상기 범위 내이면 탈취효과가 높고, 정제처리 후의 조성물 중에 중화염이 석출되지 않는다. 또한 이들 유기산은 그대로 첨가할 수도 있으나, 1~50질량% 수용액으로 하여 첨가하는 것이 바람직하다. 그러나, 액상 유제를 함유하지 않는 중합물에 유기산수용액을 첨가해도, 처리액과의 접촉효율이 낮기 때문에, 정제도를 높이는 것도, 중화반응도 곤란해진다. 정제처리는, 고분자 중합체 100질량부에 대하여 5~30질량부의 수용액을 첨가하는 것이 접촉효율의 점에서 바람직하다. 산성 물질의 수용액의 pH는 2~5가 되도록 행하는데, pH가 이 범위 내이면 실록산쇄의 절단 등의 반응이 일어나는 경우가 없으므로 바람직하고, 보다 바람직한 pH는 3~5이다.
산성 물질 첨가 후의 처리조건은, 가열하지 않아도 되는데, 20~150℃가 바람직하고, 특히 50~100℃로 가열하는 것이 바람직하다. 산성 물질 첨가 후는 염기성 중화제로 중화하는 것이 바람직하며, 이 염기성 중화제는 그대로 첨가할 수도 있으나, 1~50질량% 수용액으로 하여 첨가하는 것이 바람직하다. 또한, 첨가량은 상기 산성 물질과 염기성 중화제의 관능기당량이, 1/0.1~0.1/1이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1/0.3~0.3/1이고, 중화 후의 pH가 5~8이 되도록 조정된다.
염기성 중화제 첨가 후의 처리조건은, 20~150℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 20~80℃에서 가열처리하는 것이 바람직하다.
산성 물질의 구체예로는, 구연산, 유산, 주석산, 사과산, 글루타민산, 아세트산, 글리신, 인산이수소칼륨, 석신산 등을 들 수 있는데, 특히, 구연산, 유산, 및 글루타민산이 바람직하다. 염기성 중화제의 구체예로는, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 아세트산나트륨 등을 들 수 있는데, 특히 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 수산화나트륨이 바람직하다.
이들 산성 물질과 염기성 중화제는, 중화되어 생성되는 염이 pH의 완충제효과를 갖는 조합 중으로부터 선택하는 것이 바람직하고, 이와 같이 함으로써, 고분자 중합체의 냄새의 저감뿐만 아니라, 조성물의 pH안정화효과를 얻는 것이 가능해진다. 또한, 본 발명의 고분자 중합체는 자중과 동일 질량 이상의 액상 유제를 포함하여 팽윤할 수 있는데, 그 확인은 이하와 같이 하여 행한다. 고분자 중합체와 액상 유제를 동일 질량 혼합하고, 실온에서 정치한다. 정치 후의 샘플을 100메쉬의 망 위에 두고, 5분간 방치해도 액상 유제의 분리가 보이지 않는(샘플이 망을 통과하는) 것을 확인한다.
본 발명의 조성물을 제조함에 있어서, 고분자 중합체와 액상 유제의 혼련은 통상의 교반기로 행할 수도 있으나, 전단력하에서 혼련하는 것이 바람직하다. 이것은 고분자 중합체가 용제에 용해되지 않는 3차원 가교구조를 갖고 있으므로, 고분자 중합체와 액상 유제에 충분한 분산성을 부여함으로써, 외관이 매끄러운 조성물이 얻어지기 때문이다.
혼련처리는, 예를 들어 3본 롤밀, 2본 롤밀, 사이드그라인더, 콜로이드밀, 가우린호모지나이저, 디스퍼 등으로 행할 수 있는데, 3본 롤 또는 디스퍼에 의한 방법이 바람직하다.
본 발명의 화장료는, 필요에 따라 이하의 성분을 포함할 수 있다.
○액상 유제
본 발명에서 이용하는 액상 유제로는, 25℃에 있어서 유동성을 나타내는 것이면 호적하게 이용할 수 있다. 사용성의 점에서 바람직하게는 25℃에 있어서의 동점도가 1~10,000mm2/s인 액상 유제가 사용된다. 이러한 액상 유제로는, 실리콘유, 탄화수소유, 에스테르유, 고급지방산, 고급알코올, 천연동식물유, 반합성유 등을 들 수 있다. 고분자 중합체와 액상 유제의 혼합은, 상기와 같이 행하면 된다.
실리콘유로는, 디메틸폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 메틸하이드로겐폴리실록산, 디메틸실록산·메틸페닐실록산 공중합체 등의 저점도로부터 고점도의 상온에서 액상인 오가노폴리실록산, 옥타메틸시클로테트라실록산(D4), 데카메틸시클로펜타실록산(D5), 도데카메틸시클로헥사실록산(D6), 테트라메틸테트라하이드로겐시클로테트라실록산(H4), 테트라메틸테트라페닐시클로테트라실록산 등의 환상 실록산, 트리스트리메틸실록시실란(M3T), 테트라키스트리메틸실록시실란(M4Q), 트리스트리메틸실록시페닐실란 등의 분지상 실록산, 스테아록시실리콘 등의 고급알콕시변성 실리콘, 알킬변성 실리콘, 아미노변성 실리콘, 불소변성 실리콘 등을 들 수 있다.
탄화수소유로는, 쇄식 및 환식의 탄화수소유를 들 수 있다. 그러나, 세레신 또는 바셀린 등과 같이 상온에서 고체인 것은 사용성의 점에서 바람직하지 않다. 구체적으로는, α-올레핀 올리고머, 경질이소파라핀, 경질유동이소파라핀, 스쿠알란, 합성스쿠알란, 식물성 스쿠알란, 스쿠알렌, 유동파라핀, 유동이소파라핀 등을 들 수 있다.
에스테르유로는, 아디프산디이소부틸, 아디프산2-헥실데실, 아디프산디-2-헵틸운데실, 디스테아르산글리콜, 이소스테아르산이소세틸, 트리이소스테아르산트리메틸올프로판, 디-2-에틸헥산산에틸렌글리콜, 디에틸헥산산네오펜틸글리콜, 2-에틸헥산산세틸, 트리-2-에틸헥산산트리메틸올프로판, 테트라-2-에틸헥산산펜타에리스리톨, 옥탄산세틸, 옥틸도데실검에스테르, 올레산올레일, 올레산옥틸도데실, 올레산데실, 디옥탄산네오펜틸글리콜, 디카프르산네오펜틸글리콜, 구연산트리에틸, 석신산2-에틸헥실, 아세트산아밀, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 스테아르산이소세틸, 스테아르산부틸, 세바스산디이소프로필, 세바스산디-2-에틸헥실, 유산세틸, 유산미리스틸, 이소노난산이소노닐, 이소노난산이소트리데실, 팔미트산이소프로필, 팔미트산2-에틸헥실, 팔미트산2-헥실데실, 팔미트산2-헵틸운데실, 12-하이드록시스테아르산콜레스테릴, 디펜타에리스리톨지방산에스테르, 미리스트산이소프로필, 미리스트산옥틸도데실, 미리스트산2-헥실데실, 미리스트산미리스틸, 디메틸옥탄산헥실데실, 라우르산에틸, 라우르산헥실, N-라우로일-L-글루타민산-2-옥틸도데실에스테르, 사과산디이소스테아릴 등을 들 수 있다.
또한 에스테르유 중에서, 글리세라이드유의 범주에 있는 것으로는, 아세토글리세릴, 트리이소옥탄산글리세릴(트리에틸헥사노인), 트리이소스테아르산글리세릴, 트리이소팔미트산글리세릴, 모노스테아르산글리세릴, 디-2-헵틸운데칸산글리세릴, 트리미리스트산글리세릴, 미리스트산이소스테아르산디글리세릴 등을 들 수 있다.
고급지방산으로는, 운데실렌산, 올레산, 리놀레산, 리놀렌산, 아라키돈산, 에이코사펜타엔산(EPA), 도코사헥사엔산(DHA), 이소스테아르산 등을 들 수 있고, 고급알코올로는, 올레일알코올, 이소스테아릴알코올, 헥실데칸올, 옥틸도데칸올, 세토스테아릴알코올, 2-데실테트라데시놀, 모노올레일글리세릴에테르(세라킬알코올) 등을 들 수 있다.
또한, 천연동식물유제 및 반합성유제로는, 아보카도유, 아몬드유, 올리브유, 간유, 우각지, 행인유, 소맥배아유, 참기름, 쌀배아유, 쌀겨유, 산다화유, 홍화유, 시나몬유, 스쿠알란, 스쿠알렌, 터틀유, 대두유, 차실유, 동백유, 월견초유, 옥수수유, 유채씨유, 일본동유, 배아유, 살구씨유, 피마자유, 피마자유지방산메틸에스테르, 해바라기유, 포도유, 호호바유, 마카다미아너트유, 밍크유, 메도우폼유, 면실유, 트리야자유지방산글리세라이드, 낙화생유, 액상 라놀린, 아세트산라놀린알코올, 라놀린지방산폴리에틸렌글리콜, 난황유 등을 들 수 있다.
○물
본 발명의 화장료에는, 그 목적에 따라 물을 배합할 수 있다. 이것에 의해, 본 발명의 화장료는 사용목적에 따라 물을 배합함으로써, 보다 사용성이 우수한 화장료가 된다. 물의 배합량은, 화장료 전체의 95질량% 이하의 범위가 호적하다. 또한, 본 발명의 화장료는 물을 함유함으로써 에멀션의 형태로 할 수 있다.
○자외선흡수 성분
본 발명의 화장료는, 추가로 1종 또는 2종 이상의 자외선흡수 성분을 포함할 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 화장료는 사용감이 양호하고 사용성 및 지속성이 우수한 데다가, 자외선을 흡수할 수 있는 화장료가 된다. 자외선흡수 성분으로는, 자외선흡수제 및 자외선산란제가 포함된다. 자외선흡수제로는, 파라아미노안식향산 등의 안식향산계 자외선흡수제, 안트라닐산메틸 등의 안트라닐산계 자외선흡수제, 살리실산메틸 등의 살리실산계 자외선흡수제, 파라메톡시계피산옥틸 등의 계피산계 자외선흡수제, 2,4-디하이드록시벤조페논 등의 벤조페논계 자외선흡수제, 우로카닌산에틸 등의 우로카닌산계 자외선흡수제, 4-t-부틸-4’-메톡시-디벤조일메탄 등의 디벤조일메탄계 자외선흡수제 등이 예시된다. 또한, 앞서 서술한 자외선흡수성의 관능기를 구비하는 실리콘 유도체를 이용할 수도 있다.
자외선흡수산란제로는, 미립자산화티탄, 미립자철함유 산화티탄, 미립자산화아연, 미립자산화세륨 및 그들의 복합체 등, 자외선을 흡수산란하는 분체를 들 수 있다. 이들 중, 계피산계 자외선흡수제, 디벤조일메탄계 자외선흡수제, 산화티탄, 및 산화아연이 바람직하다.
○알코올성 수산기를 갖는 화합물
알코올성 수산기를 갖는 화합물은, 보습, 청량감의 부여, 방부나 용제로서의 목적으로 사용되며, 예를 들어, 에탄올, 이소프로판올 등의 저급알코올, 솔비톨, 말토오스 등의 당알코올, 부틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 펜틸렌글리콜, 글리세린, 에틸헥실글리세린 등의 다가알코올 등이 있다. 배합량으로는, 화장료 전체의 0.1~30질량%의 범위가 호적하다.
○수용성 혹은 수팽윤성 고분자
수용성 혹은 수팽윤성 고분자로는, 화장료의 점도조정·피막형성·보습감 등의 감촉조정의 목적으로 사용되며, 예를 들어, 아라비아고무, 트래거캔스, 갈락탄, 구아검, 카라야검, 카라기난, 펙틴, 한천, 퀸스시드(마르멜로), 전분(쌀, 옥수수, 감자, 소맥 등), 알게콜로이드, 로커스트빈검 등의 식물계 고분자, 잔탄검, 덱스트란, 석시노글루칸, 풀루란 등의 미생물계 고분자, 콜라겐, 카세인, 알부민, 젤라틴 등의 동물계 고분자, 카르복시메틸전분, 메틸하이드록시프로필전분 등의 전분계 고분자, 메틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 메틸하이드록시프로필셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 하이드록시메틸셀룰로오스, 하이드록시프로필셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨 등의 셀룰로오스계 고분자, 폴리에틸렌글리콜계 고분자, 알긴산나트륨, 알긴산프로필렌글리콜에스테르 등의 알긴산계 고분자, 폴리비닐알코올이나 폴리비닐피롤리돈 등의 피막형성제, 카르복시비닐 폴리머, (아크릴레이트/아크릴산알킬)(C10-30)) 크로스폴리머 등의 비닐계 고분자, 폴리아크릴산나트륨, (아크로일디메틸타우린암모늄/VP) 코폴리머, 아크릴로일디메틸타우린산나트륨 코폴리머, (아크릴산Na/아크릴로일디메틸타우린Na) 코폴리머, (아크릴산하이드록시에틸/아크릴로일디메틸타우린Na) 코폴리머, 폴리아크릴아미드 등의 아크릴계 고분자, 폴리에틸렌이민, 양이온 폴리머 등 다른 합성수용성 고분자를 들 수 있고, 상기 수용성 혹은 수팽윤성 고분자의 배합량으로는, 화장료 전체의 0.1~25질량%의 범위가 호적하다.
○분체
분체로는, 그 형상(구상, 침상, 판상 등)이나 입자경(연무상, 미립자, 안료급 등), 입자구조(다공질, 무공질 등)를 불문한다. 예를 들어 무기분체, 유기분체, 금속비누, 착색료(예를 들어, 금속분말안료 등의 무기착색안료, 타르색소, 천연색소, 펄안료) 등을 들 수 있다. 이들 분체 성분은, 표면활성을 억제하기 위해, 분산성을 향상시키기 위해, 화장료 도포시의 감촉의 개선 등의 목적으로, 금속비누, 실리카, 산화알루미늄, 수산화알루미늄 기타 공지의 방법에 의해 표면처리된 것일 수도 있고 복합화분체로 할 수도 있다.
무기분체의 예로는, 산화티탄, 산화아연, 황산바륨, 황산마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탈크, 마이카, 카올린, 세리사이트, 백운모, 합성운모, 금운모, 홍운모, 흑운모, 리티아운모, 규산, 무수규산, 규산알루미늄, 규산마그네슘, 규산알루미늄마그네슘, 규산칼슘, 규산바륨, 규산스트론튬, 텅스텐산금속염, 하이드록시아파타이트, 버미큘라이트, 하이디라이트, 벤토나이트, 몬모릴로나이트, 헥토라이트, 제올라이트, 세라믹스파우더, 제2인산칼슘, 알루미나, 수산화알루미늄, 질화붕소, 실리카 등을 들 수 있다.
유기분체의 예로는, 폴리에스테르파우더, 폴리에틸렌파우더, 폴리스티렌파우더, 폴리우레탄파우더, 폴리메틸메타크릴레이트파우더, 메틸메타크릴레이트 크로스폴리머, 셀룰로오스파우더, 실크파우더, 12나일론이나 6나일론 등의 나일론파우더, 또는, 이들의 섬유상 파우더, 디메틸폴리실록산을 가교한 구조를 갖는 가교형 실리콘미분말, 가교형 구상 폴리메틸실세스퀴옥산미분말, 가교형 구상 오가노폴리실록산고무 표면을 폴리메틸실세스퀴옥산 입자로 피복하여 이루어지는 미분말, 수지의 적층말(末), 전분말, 지방산전분 유도체말, 라우로일리신 등을 들 수 있다.
금속비누의 예로는, 스테아르산아연, 스테아르산알루미늄, 스테아르산칼슘, 스테아르산마그네슘, 미리스트산아연, 미리스트산마그네슘 등을 들 수 있다.
착색료의 예로는, 산화티탄, 산화철, 티탄블랙, 카본블랙, 수산화크롬, 산화크롬, 감청, 군청, 알루미늄파우더 등의 무기착색안료나, 적색226호, 황색4호 등의 타르색소, 카민 등의 천연색소, 운모티탄, 합성금운모, 산화철피복 운모티탄, 산화티탄피복 합성금운모 등의 펄안료 등이 있다.
나아가, 이들 분체는, 분체를 복합화한 것이나, 일반유제, 실리콘유, 불소 화합물, 계면활성제 등으로 처리한 것, 반응성을 갖는 오가노하이드로겐폴리실록산, 가수분해성 알콕시실란기를 갖는 오가노폴리실록산, 가수분해성 실릴기를 갖는 아크릴-실리콘계 공중합체 등으로 처리한 분체도 사용할 수 있으며, 필요에 따라 1종, 또는 2종 이상 이용할 수 있다.
특히, O/W계의 화장료로 한 경우에 있어서, 화장료 도포 후의 상기 분체의 흘러떨어짐을 저감하기 위해, 유상에 표면을 소수화처리한 분체를 포함하는(분산하는) 것이 바람직하다. 이에 따라 피부에 대한 밀착성과 화장유지가 보다 향상된 것이 된다. 분체의 구체예는 전술한 바와 같다. 그 중에서도, 표면을 소수화처리한 분체가 소수화처리안료인 것이 바람직하다.
또한, 이들 분체의 배합량은, 화장료 전체의 0.1~99질량%의 범위가 호적하다. 특히, 분말고형 화장료인 경우의 배합량은, 화장료 전체의 80~99질량%의 범위가 호적하다.
이들 분체는, 그대로 본 발명의 화장료에 배합할 수도 있고, 또한, 미리 분산매에 분산시킨 것을 이용할 수도 있다. 그때의 분산매로는, 예를 들어, 상기 액상 유제로서 예시한 것을 사용할 수 있다. 또한, 이 분산체를 조정할 때에 분산제를 이용할 수도 있고, 통상, 분체의 분산에 사용되는 분산제 외에, 예를 들어 아크릴실리콘 KP-578(신에쓰화학공업(주)제) 등을 호적하게 사용할 수 있다.
○계면활성제
본 발명의 화장료는, 추가로 1종 또는 2종 이상의 계면활성제를 포함할 수 있다. 이것에 의해, 본 발명의 화장료는 사용목적에 따라 계면활성제를 배합함으로써, 보다 사용성이 우수한 화장료가 된다. 계면활성제로는, 음이온성, 양이온성, 비이온성 및 양성(兩性)의 계면활성제가 있는데, 본 발명의 화장료에 포함되는 계면활성제는 특별히 제한되는 것은 아니고, 통상의 화장료에 사용되는 것이면, 어느 것이나 사용할 수 있다.
이하에 구체적으로 예시하면, 음이온성 계면활성제로는, 스테아르산나트륨이나 팔미트산트리에탄올아민 등의 지방산비누, 알킬에테르카르본산 및 그의 염, 아미노산과 지방산의 축합물염, 알칸설폰산염, 알켄설폰산염, 지방산에스테르의 설폰산염, 지방산아미드의 설폰산염, 포르말린축합계 설폰산염, 알킬황산에스테르염, 제2급 고급알코올황산에스테르염, 알킬 및 알릴에테르황산에스테르염, 지방산에스테르의 황산에스테르염, 지방산알킬올아미드의 황산에스테르염, 로트유 등의 황산에스테르염류, 알킬인산염, 에테르인산염, 알킬알릴에테르인산염, 아미드인산염, N-아실유산염, N-아실살코신염, N-아실아미노산계 활성제 등; 양이온성 계면활성제로는, 알킬아민염, 폴리아민 및 아미노알코올지방산 유도체 등의 아민염, 알킬4급암모늄염, 방향족4급암모늄염, 피리듐염, 이미다졸륨염 등을 들 수 있다.
비이온성 계면활성제의 예로는, 솔비탄지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리글리세린지방산에스테르, 프로필렌글리콜지방산에스테르, 폴리에틸렌글리콜지방산에스테르, 자당지방산에스테르, 메틸글루코시드지방산에스테르, 알킬폴리글루코시드, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시프로필렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌솔비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌솔비톨지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌프로필렌글리콜지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌피마자유, 폴리옥시에틸렌경화피마자유, 폴리옥시에틸렌피토스탄올에테르, 폴리옥시에틸렌피토스테롤에테르, 폴리옥시에틸렌콜레스탄올에테르, 폴리옥시에틸렌콜레스테롤에테르, 직쇄 혹은 분지상 폴리옥시알킬렌변성 오가노폴리실록산, 직쇄 혹은 분지상 폴리옥시알킬렌·알킬공변성 오가노폴리실록산, 직쇄 혹은 분지상 폴리글리세린변성 오가노폴리실록산, 직쇄 혹은 분지상 폴리글리세린·알킬공변성 오가노폴리실록산, 알칸올아미드, 당에테르, 당아미드 등을 들 수 있다.
양성 계면활성제의 예로는, 베타인, 아미노카르본산염, 이미다졸린 유도체, 아미드아민형 등을 들 수 있다.
이들 계면활성제 중에서도, 분자 중에 폴리옥시에틸렌쇄를 갖는 직쇄 혹은 분지상의 오가노폴리실록산, 분자 중에 폴리글리세린쇄를 갖는 직쇄 혹은 분지상의 오가노폴리실록산, 혹은 각각의 알킬공변성 오가노폴리실록산인 계면활성제가 바람직하다. 시판품으로는, 특별히 한정되는 것은 아닌데, KF-6011, KF-6011P, KF-6043, KF-6012, KF-6013, KF-6015, KF-6016, KF-6017, KF-6028, KF-6028P, KF-6038, KF-6100, KF-6104, KF-6105, KF-6106(모두 신에쓰화학공업(주)제) 등이 있다. 또한, HLB가 2~10인 계면활성제가 바람직하고, 배합량은, 화장료 전체의 0.1~20질량%인 것이 바람직하고, 특히 0.2~10질량%의 범위가 호적하다.
○유성 증점제
유성 증점제로는 실릴화실리카 등의 미립자실리카, 디스테아르디모늄헥토라이트 등의 유기변성 점토광물, 알루미늄스테아레이트 등의 금속비누, (팔미트산/2-에틸헥산산)덱스트린, 스테아르산이눌린 등의 다당지방산에스테르, 아세트산스테아르산수크로스 등의 자당지방산에스테르, 가교형 오가노폴리실록산 등을 들 수 있다.
가교형 오가노폴리실록산으로는, 자중 이상의 액상유를 포함하여 팽윤하는 것이 바람직하고, 폴리옥시알킬렌부분, 폴리글리세린부분, 알킬부분, 알케닐부분, 아릴부분, 및 플루오로알킬부분으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 부분을 분자 중에 함유하고 있을 수도 있다. 이들 시판품으로는, 유제로 페이스트상으로 한 KSG시리즈(신에쓰화학공업(주)제) 등이 있다. 이들 가교형 오가노폴리실록산은, 끈적임이 적고 매끈한 감촉이며 유성 또는 W/O화장료의 증점, 안정화가 우수하다.
○유성 피막형성제
유성 피막형성제로는, 예를 들어 에이코센·비닐피롤리돈 공중합체 등의 α-올레핀·비닐피롤리돈 공중합체, 아크릴산/알킬아크릴레이트 공중합체, 아크릴/실리콘 그래프트 또는 블록공중합체의 아크릴실리콘, 트리메틸실록시규산 등의 실리콘 망상 수지, 실리콘 망상 수지는 그 분자 내에 추가로, 피롤리돈부분, 장쇄알킬부분, 폴리옥시알킬렌부분 및 플루오로알킬부분, 카르본산 등의 음이온부분을 함유하고 있는 것도 사용할 수 있다.
○방부제 또는 항균제
방부제로는, 예를 들어 파라옥시안식향산알킬에스테르, 안식향산, 안식향산나트륨, 소르브산, 소르브산칼륨, 페녹시에탄올 등, 항균제로는, 안식향산, 살리실산, 석탄산, 소르브산, 파라옥시안식향산알킬에스테르, 파라클로르메타크레졸, 헥사클로로펜, 염화벤잘코늄, 염화클로르헥시딘, 트리클로로카르바닐리드, 감광소, 페녹시에탄올 등으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 방부제 또는 항균제를 들 수 있다.
○산화방지제 등
산화방지제로는, 예를 들어 토코페롤, 부틸하이드록시아니솔, 디부틸하이드록시톨루엔, 피트산 등으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산화방지제, 상기 pH조정제로는, 예를 들어 유산, 구연산, 글리콜산, 석신산, 주석산, dl-사과산, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소암모늄 등, 상기 킬레이트제로는, 예를 들어 알라닌, 에데트산나트륨염, 폴리인산나트륨, 메타인산나트륨, 인산 등, 상기 청량제로는, 예를 들어 L-멘톨, 캠퍼 등, 상기 항염증제로는, 예를 들어 알란토인, 글리틸리틴산 및 그의 염, 글리틸레틴산 및 글리틸레틴산스테아릴, 트라넥삼산, 아줄렌 등을 들 수 있다.
그 외에, 필요에 따라 첨가할 수 있는 약제로서, 예를 들어, 글리신, 세린, 아르기닌, 글루타민산 등의 아미노산류 및 그의 유도체; 비타민A유, 레티놀 등의 비타민A류, 피리독신염산염, 판테놀, 판토테닐에틸에테르, 니코틴산아미드, 시아노코발라민 등의 비타민B류, 아스코르브산팔미테이트, 아스코르브산글루코시드 등의 비타민C류, α-토코페롤 등의 비타민E류, 등의 니코틴산류 그 외에 비타민류 및 그의 유도체; 글리틸리틴산K2염 등의 항염증제 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 화장료로는, 유액, 크림, 클렌징, 팩, 오일리퀴드, 마사지료, 미용액, 세정제, 탈취제, 핸드크림, 립크림 등의 스킨케어화장료, 메이크업하지(メㅡクアップ下地), 백분, 리퀴드파운데이션, 유성 파운데이션, 볼터치, 아이섀도우, 마스카라, 아이라이너, 아이브로우, 립스틱 등의 메이크업화장료, 샴푸, 린스, 트리트먼트, 세팅제 등의 모발화장료, 제한제, 자외선차단유액이나 자외선차단크림 등의 자외선방어화장료 등을 들 수 있다. 또한 이들 화장료의 형상으로는, 액상, 유액상, 크림상, 고형상, 페이스트상, 겔상, 분말상, 프레스상, 다층상, 무스상, 스프레이상, 스틱상 등, 다양한 형태를 선택할 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 하기 실시예로 제한되는 것은 아니다. 먼저, 실시예 및 비교예에서 이용하기 위해, 고분자 중합체(합성예 1~8)를 제작하였다. 한편, 하기 합성예에서 이용한 오가노하이드로겐폴리실록산의 실록산단위를 나타내는 MH, D는 각각 하기 식으로 표시되는 것이다.
[화학식 25]
Figure pct00025
(식 중, 결합수는, 다른 실록산단위와 결합하는 것이다)
<합성예>
우선, 고분자 중합체의 합성예 1~8에 대하여 설명한다.
-조성물의 제조-
[합성예 1]
3구 플라스크에, 감압건조한 테트라부틸암모늄m-클로로벤조에이트 100mg을 넣고, THF 125mL를 첨가하여 용해하였다. 질소분위기하에서, 디메틸케텐메틸트리메틸실릴아세탈 2.18g을 첨가하고, 단량체 혼합물(메타크릴산스테아릴(SMA) 50g, 메타크릴산2-알릴옥시에틸 6.5g, 하기 식으로 표시되는 단량체(a) 50g)을 30분에 걸쳐서 적하하였다. 실온에서 추가로 1시간 교반한 후, 톨루엔 100mL를 첨가하고, 물로 3회 세정하였다. 유기상을 분액하고, 황산나트륨으로 탈수하였다. 여과 후, 125℃에서 1시간, 용매를 감압유거하여, 목적의 고분자가교제(1)를 얻었다. GPC로 수평균분자량 및 다분산도(Mw/Mn, 분자량분포라고도 칭해진다.)(폴리스티렌 환산)를 구하였다. 수평균분자량(Mn)=12,350(g/mol), 다분산도(Mw/Mn)=1.31이었다.
이어서, 반응기 중에서, 평균조성식 MH 2D40(상기 일반식(4)에 있어서 R8의 2개 이상은 수소원자이고, 수평균분자량 3,100(g/mol)인 것)으로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산 3.29g, 고분자가교제(1) 6.71g, 이소노난산이소트리데실 23g을 혼합하고, 염화백금산 3질량%의 에탄올용액 10mg을 첨가하여, 80℃에서 1시간 교반함으로써 고분자 중합체를 얻었다.
나아가 얻어진 고분자 중합체를 3본 롤믹서에 의해 혼련한 후, 이소노난산이소트리데실을 첨가하고 희석하여, 고분자 중합체를 10질량% 함유하는 페이스트상의 조성물을 얻었다.
[화학식 26]
Figure pct00026
(식 중, X는 상기 단량체(a)의 잔기이고 p, q 및 r은 이 고분자가교제가 상기 수평균분자량을 갖는 수이며, 괄호 내에 나타나는 각 단위는 랜덤하게 결합되어 있다.)
[합성예 2]
3구 플라스크에, 감압건조한 테트라부틸암모늄m-클로로벤조에이트 100mg을 넣고, THF 125mL를 첨가하여 용해하였다. 질소분위기하에서, 디메틸케텐메틸트리메틸실릴아세탈 2.18g을 첨가하고, 단량체 혼합물(메타크릴산도데실(DMA) 50g, 메타크릴산2-알릴옥시에틸 6.5g, 상기 식으로 표시되는 단량체(a) 50g)을 30분에 걸쳐서 적하하였다. 실온에서 추가로 1시간 교반한 후, 톨루엔 100mL를 첨가하고, 물로 3회 세정하였다. 유기상을 분액하고, 황산나트륨으로 탈수하였다. 여과 후, 125℃에서 1시간, 용매를 감압유거하여, 고분자가교제(2)를 얻었다. GPC로 수평균분자량 및 다분산도(Mw/Mn)(폴리스티렌 환산)를 구한 결과, 수평균분자량(Mn)=12,030(g/mol), 다분산도(Mw/Mn)=1.28이었다.
이어서, 반응기 중에서, 평균조성식 MH 2D40(상기 일반식(4)에 있어서 R8의 2개 이상은 수소원자이고, 수평균분자량 3,100(g/mol)인 것)으로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산 2.96g, 고분자가교제(2) 7.04g, 이소노난산이소트리데실 23g을 혼합하고, 염화백금산 3질량%의 에탄올용액 10mg을 첨가하여, 80℃에서 1시간 교반함으로써 고분자 중합체를 얻었다.
나아가 얻어진 고분자 중합체를 3본 롤믹서에 의해 혼련한 후, 이소노난산이소트리데실을 첨가하고 희석하여, 고분자 중합체를 10질량% 함유하는 페이스트상의 조성물을 얻었다.
Figure pct00027
(식 중, X는 상기 단량체(a)의 잔기이고 p, q 및 r은 이 공중합체가 상기 수평균분자량을 갖는 수이며, 괄호 내에 나타나는 각 단위는 랜덤하게 결합되어 있다.)
[합성예 3]
3구 플라스크에, 감압건조한 테트라부틸암모늄m-클로로벤조에이트 100mg을 넣고, THF 125mL를 첨가하여 용해하였다. 질소분위기하에서, 디메틸케텐메틸트리메틸실릴아세탈 2.18g을 첨가하고, 단량체 혼합물(메타크릴산부틸(BMA) 50g, 메타크릴산2-알릴옥시에틸 6.5g, 상기 식으로 표시되는 단량체(a) 50g)을 30분에 걸쳐서 적하하였다. 실온에서 추가로 1시간 교반한 후, 톨루엔 100mL를 첨가하고, 물로 3회 세정하였다. 유기상을 분액하고, 황산나트륨으로 탈수하였다. 여과 후, 125℃에서 1시간, 용매를 감압유거하여, 고분자가교제(3)를 얻었다. GPC로 수평균분자량 및 다분산도(Mw/Mn)(폴리스티렌 환산)를 구한 결과, 수평균분자량(Mn)=12,460(g/mol), 다분산도(Mw/Mn)=1.37이었다.
이어서, 반응기 중에서, 평균조성식 MH 2D40(상기 일반식(4)에 있어서 R8의 2개 이상은 수소원자이고, 수평균분자량 3,100(g/mol)인 것)으로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산 3.08g, 고분자가교제(3) 6.92g, 이소노난산이소트리데실 23g을 혼합하고, 염화백금산 3질량%의 에탄올용액 10mg을 첨가하여, 80℃에서 1시간 교반함으로써 고분자 중합체를 얻었다.
나아가 얻어진 고분자 중합체를 3본 롤믹서에 의해 혼련한 후, 이소노난산이소트리데실을 첨가하고 희석하여, 고분자 중합체를 10질량% 함유하는 페이스트상의 조성물을 얻었다.
[화학식 28]
Figure pct00028
(식 중, X는 상기 단량체(a)의 잔기이고 p, q 및 r은 이 공중합체가 상기 수평균분자량을 갖는 수이며, 괄호 내에 나타나는 각 단위는 랜덤하게 결합되어 있다.)
[합성예 4]
합성예 2와 동일한 합성방법으로, 부가반응의 용제와, 3본 롤믹서에 의한 혼련 후의 희석용매를, 트리에틸헥사노인으로 변경하여, 고분자 중합체를 20질량% 함유하는 페이스트상의 조성물을 얻었다.
[합성예 5]
합성예 2와 동일한 합성방법으로, 부가반응의 용제와, 3본 롤믹서에 의한 혼련 후의 희석용매를, 옥탄산세틸로 변경하여, 고분자 중합체를 20질량% 함유하는 페이스트상의 조성물을 얻었다.
[합성예 6]
합성예 2와 동일한 합성방법으로, 부가반응의 용제와, 3본 롤믹서에 의한 혼련 후의 희석용매를, 트리옥탄산글리세릴로 변경하여, 고분자 중합체를 20질량% 함유하는 페이스트상의 조성물을 얻었다.
[합성예 7]
합성예 2와 동일한 합성방법으로, 부가반응의 용제와, 3본 롤믹서에 의한 혼련 후의 희석용매를, 이소옥탄산세틸로 변경하여, 고분자 중합체를 20질량% 함유하는 페이스트상의 조성물을 얻었다.
[합성예 8]
합성예 2와 동일한 합성방법으로, 부가반응의 용제와, 3본 롤믹서에 의한 혼련 후의 희석용매를, 미리스트산이소프로필로 변경하여, 고분자 중합체를 20질량% 함유하는 페이스트상의 조성물을 얻었다.
[실시예 1~3, 비교예 1~3]
<보존안정성의 비교>
합성예 1~3, 및 비교로서 (디메티콘/(PEG10/15)) 크로스폴리머, (PEG-15/라우릴디메티콘) 크로스폴리머, (PEG-15/라우릴폴리디메틸실록시에틸디메티콘) 크로스폴리머를 이용하여 W/O에멀션을 작성하고, 보존안정성을 비교하였다. 한편, 비교예에 이용한 상기 3점의 크로스폴리머는, 모두 상기 식(I)~(III)의 반복단위를 포함하지 않는 것이다. 표 1의 1~8을 균일하게 혼합하여 유상을 조제하였다. 다음으로, 9~12를 균일하게 혼합용해하고, 유상에 첨가하여 유화교반함으로써 W/O에멀션을 작성하였다.
[표 1]
Figure pct00029
(주1)신에쓰화학공업(주)사제 KSG-210
(주2)신에쓰화학공업(주)사제 KSG-310
(주3)신에쓰화학공업(주)사제 KSG-320Z
(주4)신에쓰화학공업(주)사제 KF-6038
50℃에서 7일간 정치한 후, 외관을 확인함으로써, 보존안정성을 비교하였다. 결과는 표 2와 같이 되며, 본 발명의 W/O에멀션은 보존안정성이 높았다.
[표 2]
Figure pct00030
○: 균일한 에멀션
△: 약간 유상의 분리가 있다
×: 유상이 분리되어 있다
실시예 4: O/W형 크림
(성분) 질량(%)
1. 고분자 중합체 조성물(합성예 2) 8.0
2. 가교형 메틸페닐폴리실록산(주1) 2.0
3. 이소노난산이소트리데실 5.0
4. 디프로필렌글리콜 7.0
5. 글리세린 5.0
6. 메틸셀룰로오스(2% 수용액)(주2) 7.0
7. 폴리아크릴아미드계 유화제(주3) 2.0
8. 구아닌 1.0
9. 방부제 적량
10. 향료 적량
11. 정제수 63.0
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KSG-18
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 메토로즈 SM-4000
(주3) SEPIC제: 세피겔 305
(제조방법)
A: 성분 4~11을 혼합하였다.
B: 성분 1~3을 혼합하고, A를 첨가하여 교반유화하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 크림은, 결이 부드럽고, 펴발림이 가벼우며 끈적임이나 오일리함이 없는 데다가 촉촉하게 윤이나고, 산뜻한 사용감을 부여하는 것이었다. 또한, 화장유지가 매우 좋고, 온도변화나 경시(經時)에 따른 변화도 없어 안정성이 우수한 O/W형 크림인 것이 확인되었다.
실시예 5: W/O형 크림
(성분) 질량(%)
1. 알킬가교형 폴리에테르변성 실리콘(주1) 3.0
2. 고분자 중합체 조성물(합성예 4) 4.0
3. 유동파라핀 13.5
4. 마카다미아너트유 5.0
5. 알킬·폴리에테르공변성 분지형 실리콘(주2) 0.5
6. 하이브리드실리콘복합분체(紛體)(주3) 3.0
7. 구연산나트륨 0.2
8. 프로필렌글리콜 8.0
9. 글리세린 3.0
10. 방부제 적량
11. 향료 적량
12. 정제수 59.8
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KSG-310
(주2)신에쓰화학공업(주)제: KF-6038
(주3)신에쓰화학공업(주)제: KSP-100
(제조방법)
A: 성분 1~6을 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 7~12를 혼합한 후, A에 첨가하여 유화하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 크림은, 오일리함, 끈적임이 없고, 펴발림도 가볍고 산뜻하며, 게다가, 밀착감이 우수하고, 자연스러우며, 매트한 마무리가 얻어지는 W/O형 크림이었다.
실시예 6: W/O크림파운데이션
(성분) 질량(%)
1. 고분자 중합체 조성물(합성예 4) 4.0
2. 폴리에테르·알킬공변성 분지형 실리콘(주1) 1.0
3. 트리에틸헥사노인 2.0
4. 이소옥탄산세틸 5.0
5. 이소노난산이소트리데실 9.0
6. 하이브리드실리콘복합분체(주2) 3.0
7. 폴리글리세린공변성 분지형 실리콘(주3) 0.6
8. 폴리글리세린공변성 분지형 실리콘(주4) 0.3
9. 알킬·실리콘처리 안료(주5) 10.0
10. 1,3-부틸렌글리콜 5.0
11. 염화나트륨 0.5
12. 구연산나트륨 0.2
13. 방부제 적량
14. 향료 적량
15. 정제수 59.4
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KF-6038
(주2)신에쓰화학공업(주)제: KSP-100
(주3)신에쓰화학공업(주)제: KF-6100
(주4)신에쓰화학공업(주)제: KF-6105
(주5)신에쓰화학공업(주)제: KF-9909
(제조방법)
A: 성분 1~6을 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 7~10을 균일하게 혼합하였다.
C: 성분 11~13, 및 15의 일부를 혼합용해하였다.
D: B를 성분 15의 잔부에 첨가하여 균일하게 하였다.
E: C를 A에 첨가하여 유화하였다.
F: 추가로 D를 E에 첨가하여 유화하고, 마지막으로 성분 14를 첨가하여 균일하게 하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 크림파운데이션은, 끈적임이 없고, 펴발림도 가벼우며, 게다가, 안료의 분산성이 좋고, 밀착감이 우수하며, 자연스럽고, 매트감이 있는 마무리막이 매우 말끔한 W/O크림파운데이션이 얻어졌다.
실시예 7: 립스틱
(성분) 질량(%)
1. 폴리에틸렌왁스 12.0
2. 마이크로크리스탈린왁스 4.0
3. 폴리부텐 5.0
4. 아크릴레이트/디메틸실리콘 공중합체(주1) 12.0
5. 고분자 중합체 조성물(합성예 5) 7.0
6. 옥탄산세틸 20.0
7. 자당지방산에스테르 3.0
8. 트리이소스테아르산글리세릴 37.0
9. 안료 적량
10. 방부제 적량
11. 향료 적량
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KP-561
(제조방법)
A: 성분 5~8을 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 1~4를 가열(90℃)하여 용해하고, A에 첨가하여 균일하게 하였다.
C: 80℃에서 성분 9~11을 B에 첨가하여 균일하게 하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 립스틱은, 발림이 가볍고 오일리함이나 파우더리함이 없는 데다가, 산뜻한 사용감을 부여하는 것이었다. 또한, 내수성이나 발수성이 양호하고 유지도 좋아, 안정성도 우수한 것이었다.
실시예 8: 아이컬러
(성분) 질량(%)
1. 디스테아르산에틸렌글리콜 12.0
2. 고분자 중합체 조성물(합성예 4) 5.0
3. 이소노난산이소트리데실 35.0
4. 캔데릴라왁스 2.0
5. 레시틴 0.2
6. 하이브리드실리콘복합분체(주1) 3.0
7. 알킬·실리콘처리 안료(주2) 적량
8. 마이카처리 산화티탄 잔량
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KP-6038
(주2)신에쓰화학공업(주)제: AES-3083
A: 성분 2~3을 혼합하였다.
B: 성분 6~8을 혼합하였다.
C: 성분 1, 4~5를 혼합하고, A를 첨가하여 가온한다.
D: C를 B에 첨가하고, 용기에 흘려넣는다.
이상과 같이 하여 얻어진 아이컬러는, 오일리함, 끈적임이 없고, 펴발림도 가벼우며, 산뜻한 사용성을 갖고, 게다가, 밀착감이 우수하고, 자연스러우며 화장유지가 우수한 아이컬러였다.
실시예 9: 파우더아이브로우
(성분) 질량(%)
1. 바셀린 2.5
2. 디메틸폴리실록산(6mm2/초(25℃)) 1.5
3. 고분자 중합체 조성물(합성예 6) 0.5
4. 트리옥탄산글리세릴 4.0
5. 실리콘처리마이카 40.0
6. 실리콘처리탈크 잔량
7. 실리콘처리 산화티탄 10.0
8. 실리콘처리 황산바륨 15.0
9. 실리콘처리 안료 적량
10. 하이브리드실리콘복합분체(주1) 1.5
11. 구상 폴리메틸실세스퀴옥산 분체(주2) 2.5
12. 방부제 적량
13. 향료 적량
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KSP-100(상품명)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: KMP-590(상품명)
(제조방법)
A: 성분 5~12를 혼합, 균일하게 하였다.
B: 성분 1~4를 균일하게 혼합하고, A에 첨가하여 균일하게 하였다.
C: B에 성분 13을 첨가하고, 금형에 프레스성형하여 파우더아이브로우를 얻었다.
이상과 같이 하여 얻어진 아이브로우는, 끈적임이 없고, 펴발림도 가벼운 것이었다. 또한, 밀착감이 우수하고, 자연스러우며, 광택이 있는 마무리가 얻어지는 화장유지가 좋은 파우더아이브로우인 것을 알 수 있었다.
실시예 10: W/O형 타입 제한제
(성분) 질량(%)
1. 고분자 중합체 조성물(합성예 6) 2.0
2. 가교형 폴리에테르변성 실리콘(주1) 7.0
3. 데카메틸시클로펜타실록산 7.0
4. 트리옥탄산글리세릴 8.0
5. 1,3-부틸렌글리콜 5.0
6. 구연산나트륨 0.2
7. 알루미늄클로로하이드레이트 20.0
8. 향료 적량
9. 정제수 50.8
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KSG-21(상품명)
(제조방법)
A: 성분 1~4를 혼합하였다.
B: 성분 5~6 및 9를 혼합하고, 성분 7, 8을 첨가하여 용해하였다.
C: A에 B를 첨가하고 교반하여 유화하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 제한제는, 발림이 가볍고, 청량감이 있고 산뜻하며, 끈적임이나 오일감이 없는 것이었다. 또한, 온도나 경시에 따른 변화도 없어, 사용성도 안정성도 매우 우수한 W/O형 타입의 제한제였다.
실시예 11: O/W형 UV컷크림
(성분) 질량(%)
1. 가교형 오가노폴리실록산(주1) 5.0
2. 이소옥탄산세틸 5.0
3. 고분자 중합체 조성물(합성예 7) 1.0
4. 산화티탄/데카메틸시클로펜타실록산 분산물(주2) 15.0
5. 폴리에테르변성 실리콘(주3) 1.0
6. 폴리에테르변성 실리콘(주4) 1.0
7. 아크릴산아미드계 혼합물(주5) 2.0
8. 프로필렌글리콜 5.0
9. 메틸셀룰로오스(2% 수용액)(주6) 5.0
10. 방부제 적량
11. 향료 적량
12. 정제수 60.0
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KSG-18(상품명)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: SPD-T1S(상품명)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: KF-6027(상품명)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: KF-6011(상품명)
(주5)세픽제: 세피겔 305(상품명)
(주6)신에쓰화학공업(주)제: 메토로즈 SM-4000(상품명)
(제조방법)
A: 성분 5~8 및 10, 12를 혼합하였다.
B: 성분 1~3을 혼합하고, A에 첨가하여 교반유화하였다.
C: 성분 4를 B에 첨가하고, 추가로 성분 9, 11을 첨가하여 균일하게 하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 UV컷크림은, 발림이 가볍고 산뜻하며, 끈적임이나 오일감이 없고, 투명감이 있으며 화장유지가 좋은 것이었다. 또한, 온도나 경시에 따른 변화도 없어, 사용성도 안정성도 매우 우수한 O/W형 UV컷크림이었다.
실시예 12: W/O형 UV컷크림
(성분) 질량(%)
1. 폴리에테르변성 실리콘(주1) 1.5
2. 디옥탄산네오펜틸글리콜 2.0
3. 고분자 중합체 조성물(합성예 4) 6.0
4. 디메틸폴리실록산(6mm2/초(25℃)) 2.0
5. 실리카(주2) 0.5
6. 산화티탄/데카메틸시클로펜타실록산 분산물(주3) 25.0
7. 산화아연/데카메틸시클로펜타실록산 분산물(주4) 10.0
8. 디부틸렌글리콜 15.0
9. 구연산나트륨 0.2
10. 염화나트륨 0.5
11. 방부제 적량
12. 정제수 37.3
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KF-6028(상품명)
(주2) 고드볼 E-16C
(주3)신에쓰화학공업(주)제: SPD-T5(상품명)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: SPD-Z5(상품명)
(제조방법)
A: 성분 1~7을 혼합, 균일하게 하였다.
B: 성분 8~12를 혼합용해하였다.
C: A에 B를 첨가하여 균일하게 하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 UV컷크림은, 발림이 가볍고 산뜻하며, 끈적임이나 오일감이 없고, 투명감이 있으며 화장유지가 좋고, 온도나 경시에 따른 변화도 없어, 사용성도 안정성도 매우 우수한 W/O형 UV컷크림이었다.
실시예 13: W/O/W형 크림
(성분) 질량(%)
1. 가교형 오가노폴리실록산(주1) 5.0
2. 이소옥탄산세틸 5.0
3. 고분자 중합체 조성물(합성예 7) 1.0
4. 데카메틸시클로펜타실록산 5.0
5. 디올레산메틸글루코오스 1.5
6. 이소헥사데칸 3.5
7. 황산마그네슘 0.5
8. 프로필렌글리콜 5.0
9. 정제수 39.5
10. 세틸알코올 1.0
11. PEG-10소야세테롤 2.0
12. 방부제 적량
13. 향료 적량
14. 정제수 31.0
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KSG-21(상품명)
(제조방법)
A: 성분 7~9를 혼합하였다.
B: 성분 1~6을 혼합하고, A에 첨가하여 교반유화하였다.
C: 성분 10~12 및 14를 혼합하고, B를 교반하, 첨가하여 유화하였다.
D: C에 성분 13을 첨가하여 균일하게 하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 크림은, 발림이 가볍고 산뜻하며, 끈적임이나 오일감이 없고, 투명감이 있으며 화장유지가 좋은 것이었다. 또한, 온도나 경시에 따른 변화도 없어, 사용성도 안정성도 매우 우수한 W/O/W형 크림이었다.
실시예 14: O/W/O형 유액
(성분) 질량(%)
1. 가교형 오가노폴리실록산(주1) 3.0
2. 트리이소옥탄산글리세릴 15.0
3. 고분자 중합체 조성물(합성예 6) 5.0
4. 자당모노스테아레이트 3.0
5. 글리세린 5.0
6. 1,3-부틸렌글리콜 5.0
7. 방부제 적량
8. 정제수 60.0
9. 마카다미아너트유 2.0
10. 세틸알코올 2.0
11. 향료 적량
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KSG-21(상품명)
(제조방법)
A: 성분 1~3을 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 4~8을 가열혼합하여, 균일하게 하였다.
C: 성분 9~11을 가열혼합하였다.
D: B를 교반하면서 C를 첨가하여 유화하고, 냉각하였다.
E: A를 교반하면서 D를 첨가하여 유화하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 유액은, 발림이 가볍고 산뜻하며, 끈적임이나 오일감이 없고 투명감이 있으며 화장유지가 좋은 것이었다. 또한, 온도나 경시에 따른 변화도 없어, 사용성도 안정성도 매우 우수한 O/W/O형 유액이었다.
실시예 15: O/W/O형 리퀴드파운데이션
(성분) 질량(%)
1. 가교형 오가노폴리실록산(주1) 5.0
2. 데칸산프로필렌글리콜 5.0
3. 미리스트산이소프로필 5.0
4. 안료 10.0
5. 난황유래 수소첨가 인지질 1.0
6. 글리세린 2.0
7. 1,3-부틸렌글리콜 10.0
8. 방부제 적량
9. 정제수 52.0
10. 스쿠알란 3.0
11. 고분자 중합체 조성물(합성예 8) 2.0
12. 세틸알코올 5.0
13. 향료 적량
(주1)신에쓰화학공업(주)제: KSG-21(상품명)
(제조방법)
A: 성분 1~3을 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 4~9를 가열혼합하여, 균일하게 하였다.
C: 성분 10~13을 가열혼합하였다.
D: B를 교반하면서 C를 첨가하여 유화하고, 냉각하였다.
E: A를 교반하면서 D를 첨가하여 유화하였다.
이상과 같이 하여 얻어진 리퀴드파운데이션은, 발림이 가볍고 산뜻하며, 끈적임이나 오일감이 없고, 투명감이 있으며 화장유지가 좋은 것이었다. 또한, 온도나 경시에 따른 변화도 없어, 사용성도 안정성도 매우 우수한 O/W/O형 리퀴드파운데이션이었다.
본 발명의 고분자 중합체에 에스테르유를 팽윤시킨 조성물을 배합한 화장료는, 도포시의 끈적임이나 무거움이 없이 보송보송하고, 펴발림도 가벼우며, 바른 후의 피부도, 보송보송하고 매끈한 감촉을 갖는 등, 가벼운 발림과 산뜻한 사용감을 갖는다. 따라서 본 발명의 화장료를 도포함으로써, 적당히 수분의 증산을 저해하는 일 없이, 유연성, 평활성, 에몰리언트효과를 부여하고, 자연스러운 광택에서 매트감까지 폭넓은 특성을 부여할 수 있는 등, 본 발명의 화장료는 사용성이 우수함과 함께, 양호한 경시안정성을 갖는다.
본 발명의 화장료는, 가벼운 발림과 산뜻한 사용감을 가짐과 함께, 도포함으로써, 유연성, 평활성, 및 에몰리언트효과를 부여하고, 자연스러운 광택에서 매트감까지의 폭넓은 효과가 우수하며, 양호한 경시안정성을 갖기 때문에, 실용상 매우 유용하다. 또한, 본 발명의 조성물은, 실용되는 화장료의 원료성분이기 때문에, 산업상 유용성은 크다.
한편, 본 발명은, 상기 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 상기 실시형태는 예시이며, 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 갖고, 동일한 작용효과를 나타내는 것은, 어떠한 것이라도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.

Claims (5)

  1. 하기 식(I), (II) 및 (III)으로 표시되는, (메트)아크릴계의 반복단위를 갖는 주쇄와, 불포화결합 및 오가노폴리실록산구조를 측쇄에 갖는 (메트)아크릴계 그래프트실리콘인 고분자가교제와, 하기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산의 부가중합체인 고분자 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료.
    [화학식 1]
    Figure pct00031

    [식 중, R1은 서로 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기이고, A는, 탄소수 1~22의 알콕시기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기로부터 선택되는 기이다. B는 하기 식(1)로 표시되는 불포화결합을 갖는 기이다.
    [화학식 2]
    Figure pct00032

    (식 중 R2는 단결합, 또는 탄소수 1~20의 치환 또는 비치환된 2가의 탄화수소기이며, 단, 상기 식(1) 중의 인접하지 않는 위치에 산소원자를 포함하고 있을 수도 있다.)
    C는 하기 식(2)로 표시되는 직쇄상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기, 또는 하기 (3-1) 혹은 (3-2)로 표시되는 수지상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기이다.
    [화학식 3]
    Figure pct00033

    (식(2) 중, Z1은 2가의 유기기이고, R3은 서로 독립적으로 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R4는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기이고, m은 0~100의 정수이다.)
    [화학식 4]
    Figure pct00034

    (식(3-1) 및 (3-2) 중, Z2는 2가의 유기기이고, a는 0~3의 수이고, Q는 하기 식(3)으로 표시되는 기이고, D는 계층수c의 수지상 구조를 갖는 3c+1(즉, 3의 c승+1)가의 오가노폴리실록사닐기이고, c는 1~8의 정수이고,
    [화학식 5]
    Figure pct00035

    R5는 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R6은 탄소수 1~8의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, R7은 수소원자, 탄소수 1~10의 포화탄화수소기 또는 페닐기이고, a2는 0~2의 실수, 및, n은 2~12의 정수이다.)
    상기 식(I), (II) 및 (III)으로 표시되는 반복단위의 결합순서는 제한되는 것이 아니며, p, q 및 r은 정수이고, q 및 r은 0은 아니고, 상기 고분자가교제의 수평균분자량이 1,000~1,000,000g/mol이 되는 수이다.]
    MxDyTzQw (4)
    (식 중, M은 R8 3SiO1/2, D는 R8 2SiO2/2, T는 R8SiO3/2, 및 Q는 SiO4/2로 표시되는 실록산단위이고, R8은 서로 독립적으로 수소원자, 또는, 치환 또는 비치환된 탄소수 1~10의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6~22의 아릴기이고, 적어도 2개의 실록산단위가 수소원자를 포함한다. x, y, z, w는 0 또는 양의 수이며, 단, y+z+w≥1이고, 상기 일반식(4)로 표시되는 오가노하이드로겐폴리실록산의 수평균분자량이 500~900,000g/mol이 되는 수이다. 상기 M, D, T, Q로 표시되는 각 실록산단위의 결합순서는 제한되지 않는다.)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 반복단위(III)의 C가 상기 식(2)로 표시되는 직쇄상 오가노폴리실록산구조를 갖는 기인 것을 특징으로 하는 화장료.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 고분자 중합체를, 액상 유제에 의해 팽윤한 조성물로서 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 액상 유제가 에스테르유인 것을 특징으로 하는 화장료.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    물을 추가로 함유하고, 에멀션의 형태인 것을 특징으로 하는 화장료.
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