KR20220152640A - 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 감광재, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 감광성 수지 조성물의 저온 경화 방법 - Google Patents

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KR20220152640A
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정현진
김대현
이수희
노병일
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Abstract

본 발명은 감광성 수지 조성물, 감광재, 디스플레이 장치 및 감광성 수지 조성물의 저온 경화 방법에 관한 것이다.

Description

감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 감광재, 이를 포함하는 디스플레이 장치 및 감광성 수지 조성물의 저온 경화 방법{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTO RESIST COMPRISING SAME, DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME AND METHOD OF LOW TEMPERATURE CURING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}
본 발명은 감광성 수지 조성물, 감광재, 디스플레이 장치 및 감광성 수지 조성물의 저온 경화 방법에 관한 것이다.
최근 유기 발광 소자 (Organic Light Emitting Diode, OLED) 디스플레이가 확대 적용되고, 상부 터치 패널 또한 필름 형태의 애드 온(add on) 방식에서 온 셀(on cell) 방식으로의 적용이 확대되고 있다. 온 셀(On cell) 방식의 터치스크린 패널의 경우 OLED 패널을 완성 후 패널 상부에 직접적으로 제조되므로, OLED 소자 수명에 영향을 주지 않는 저온경화 공정(100 ℃미만)을 필수적이다.
상기와 같은 이유로 OLED 상부에 적용되는 온 셀(On cell) 방식의 터치스크린 패널에서 전극 간 혹은 전극 상부에 사용되는 절연막 재료의 경우 저온경화 특성이 구현되어야 한다.
저온경화 특성 구현을 위해, 패턴을 만들기 위한 자외선(UV) 공정 조건 외 후속 UV 경화 공정을 적용하여 후경화 시키는 공정이 일반적이나 이런 재료들의 경우 공정성(2번의 UV공정) 및 내화학 특성이 부족한 경우가 대부분이다.
한국 특허공개공보 제10-2012-0022616호
본 발명은 감광성 수지 조성물, 감광재 및 이를 포함하는 디스플레이를 제공하는 것이 목적이다.
본 발명은 감광성 수지 조성물을 이용한 저온 경화 방법을 제공하는 것이 목적이다.
본 발명의 일 실시상태는 바인더 수지 및 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물로서,
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 화학식 1에 있어서,
A1은 -OH; -SH; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아민기이고,
상기 "-"은 화학식 1에 연결되는 부위를 의미하고,
A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이고,
x는 20 내지 50의 정수이고,
상기 바인더 수지는 하기 화학식 3-1 내지 3-4의 반복 단위를 포함하는 중합체를 포함하는 것인 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 3-1]
Figure pat00002
[화학식 3-2]
Figure pat00003
[화학식 3-3]
Figure pat00004
[화학식 3-4]
Figure pat00005
상기 화학식 3-1 내지 3-4에 있어서,
Ar은 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
L101 및 L102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 알킬렌기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
R101 및 R102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이며,
T는 치환 또는 비치환된 지방족 탄화수소고리이고,
a 내지 d는 몰분율로서 각각 0 이상 1 이하이고, 0 < a + b + c + d ≤ 1 이며,
r101은 1 내지 3의 정수이고, r101가 2 이상인 경우 R101은 서로 동일하거나 상이하고,
r102는 1 이상의 정수이고, r102가 2 이상인 경우 R102는 서로 동일하거나 상이하고,
상기 "
Figure pat00006
"은 다른 부분에 연결되는 부위를 의미한다.
본 발명의 일 실시상태는 상기 감광성 수지 조성물 또는 경화물을 이용하여 제조된 감광재를 제공한다.
본 발명의 일 실시상태는 상기 감광재를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시상태는 (a) 전술한 감광성 수지 조성물을 기판에 코팅하는 단계;
(b) 상기 코팅된 기판을 건조 또는 프리베이킹하는 단계;
(c) 상기 건조 또는 프리베이킹된 기판을 노광하는 단계;
(d) 패턴 형성 단계; 및
(e) 상기 기판을 50 ℃ 이상 100 ℃ 미만의 온도 범위에서 포스트베이킹하는 단계를 포함하는 감광성 수지 조성물의 저온 경화 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광성 수지 조성물은 용제에 대한 용해도가 우수하며, 내열성 및 내화학성이 우수하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 감광성 수지 조성물은 유기막 형성 시 패턴 특성이 우수하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 감광성 수지 조성물은 100 ℃ 미만의 저온에서도 쉽게 경화하여 우수한 내화학특성을 가진다.
도 1은 본 발명의 일 실시상태에 따른 바인더 수지의 GPC 측정 결과를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시상태인 실시예 1에 따른 미세 홀의 마스크 홀을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시상태인 실시예 1에 따른 미세 홀의 최소 홀 패턴 특성을 도시한 것이다.
도 4는 비교예 1에 따른 미세 홀의 마스크 홀을 도시한 것이다.
도 5는 비교예 1에 따른 미세 홀의 최소 홀 패턴 특성을 도시한 것이다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명의 일 실시상태는 바인더 수지 및 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00007
상기 화학식 1에 있어서,
A1은 -OH; -SH; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아민기이고,
상기 "-"은 화학식 1에 연결되는 부위를 의미하고,
A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이고,
x는 20 내지 50의 정수이다.
상기 바인더 수지는 하기 화학식 3-1 내지 3-4의 반복 단위를 포함하는 중합체를 포함한다.
[화학식 3-1]
Figure pat00008
[화학식 3-2]
Figure pat00009
[화학식 3-3]
Figure pat00010
[화학식 3-4]
Figure pat00011
상기 화학식 3-1 내지 3-4에 있어서,
Ar은 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
L101 및 L102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 알킬렌기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
R101 및 R102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이며,
T는 치환 또는 비치환된 지방족 탄화수소고리이고,
a 내지 d는 몰분율로서 각각 0 이상 1 이하이고, 0 < a + b + c + d ≤ 1 이며,
r101은 1 내지 3의 정수이고, r101가 2 이상인 경우 R101은 서로 동일하거나 상이하고,
r102는 1 이상의 정수이고, r102가 2 이상인 경우 R102는 서로 동일하거나 상이하고,
상기 "
Figure pat00012
"은 다른 부분에 연결되는 부위를 의미한다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광성 수지 조성물은 에폭시기를 포함하는 중합체를 바인더 수지로 포함한다. 상기 바인더 수지에 포함된 에폭시기는 열 경화가 가능하게 한다. 또한, 본 발명의 일 실시상태에 따른 바인더 수지는 산기(예를 들면 카르복실기)를 포함하고, 이에 따라 패턴 특성을 우수하게 하여 우수한 현상력을 가진다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함한다. 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 경화 촉진제로 사용된다. 구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 자외선(UV) 경화 및 열 경화가 모두 가능하게 하여, 조성물 내에 포함되어 우수한 내화학성 특성을 갖게하고, 초미세화된 패턴을 형성할 수 있도록 한다. 또한, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 100 ℃ 미만의 저온이나 적은 노광량에서도 상기 감광성 수지 조성물이 경화할 수 있게 하는 장점이 있다.
본 발명에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 발명에 있어서, 상기 "층"은 본 기술분야에 주로 사용되는 "필름"과 호환되는 의미이며, 목적하는 영역을 덮는 코팅을 의미한다. 상기 "층"의 크기는 한정되지 않으며, 각각의 "층"은 그 크기가 같거나 상이할 수 있다. 일 실시상태에 따르면, "층"의 크기는 전체 소자와 같을 수 있고, 특정 기능성 영역의 크기에 해당할 수 있으며, 단일 서브픽셀(sub-pixel)만큼 작을 수도 있다.
본 발명에서 달리 정의되지 않는 한, 본 발명에서 사용되는 모든 기술적 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자에 의해 통상적으로 이해되는 바와 동일한 의미를 갖는다. 본 발명에서 설명되는 것과 유사하거나 등가인 방법 및 재료가 본 발명의 실시 형태의 실시 또는 시험에서 사용될 수 있지만, 적합한 방법 및 재료가 후술된다. 본 발명에서 언급되는 모든 간행물, 특허 출원, 특허 및 다른 참고 문헌은 전체적으로 본 발명에 참고로 포함되며, 상충되는 경우 특정 어구(passage)가 언급되지 않으면, 정의를 비롯한 본 발명이 우선할 것이다. 게다가, 재료, 방법, 및 실시예는 단지 예시적인 것이며 제한하고자 하는 것은 아니다.
본 발명에서, 마쿠시 형식의 표현에 포함된 "이들의 조합"의 용어는 마쿠시 형식의 표현에 기재된 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 혼합 또는 조합을 의미하는 것으로서, 상기 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 의미한다.
본 발명에 있어서, "-" 및 "
Figure pat00013
"은 연결되는 부위를 의미한다.
본 발명에서 치환기의 예시들은 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 상기 "치환"이라는 용어는 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
본 발명에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 수소; 중수소; 알킬기; 알케닐기; 시클로알킬기; 아릴기; 헤테로고리기; 아민기; 및 경화성기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상의 치환기로 치환되었거나, 상기 예시된 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환되거나, 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다.
본 발명에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 20일 수 있다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 10이다. 상기 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기 등이 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 2 내지 30; 2 내지 20; 2 내지 10; 또는 2 내지 5인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 비닐기; 1-프로페닐기; 이소프로페닐기; 1-부테닐기; 2-부테닐기; 3-부테닐기; 1-펜테닐기; 2-펜테닐기; 3-펜테닐기; 3-메틸-1-부테닐기; 1,3-부타디에닐기; 알릴기; 1-페닐비닐-1-일기; 2-페닐비닐-1-일기; 2,2-디페닐비닐-1-일기; 2-페닐-2-(나프틸-1-일)비닐-1-일기; 2,2-비스(디페닐-1-일)비닐-1-일기; 스틸베닐기; 스티레닐기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 시클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 60일 수 있고, 일 실시상태에 따르면, 상기 시클로알킬기의 탄소수는 3 내지 30이다. 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 시클로알킬기의 탄소수는 3 내지 20이다. 상기 시클로알킬기의 구체적인 예로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 상기 아릴기는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 6 내지 60일 수 있으며, 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 30이다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 20이다. 상기 아릴기가 단환식 아릴기로는 페닐기, 비페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트레닐기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 트리페닐레닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 상기 헤테로고리기는 이종원자로 N, O, P, S, Si 및 Se 중 1개 이상을 포함하는 방향족고리기로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 2 내지 60일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 헤테로고리기의 탄소수는 2 내지 30이다. 상기 헤테로고리기의 예로는 피리딘기, 피롤기, 피리미딘기, 피리다진기, 퓨란기, 티오펜기, 벤조티오펜기, 벤조퓨란기, 디벤조티오펜기, 디벤조퓨란기, 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 상기 아민기는 -NRamin1Ramin2를 의미하며, 상기 Ramin1 및 Ramin2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 알킬기, 아릴기, 또는 이들의 중수소화된 유사체일 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 알킬렌기는 2가인 것을 제외하고는 전술한 알킬기에 관한 설명이 적용된다.
본 발명에 있어서, 상기 아릴렌기는 2가인 것을 제외하고는 전술한 아릴기에 관한 설명이 적용된다.
본 발명에 있어서, "인접한" 기는 해당 치환기가 치환된 원자와 직접 연결된 원자에 치환된 치환기, 해당 치환기와 입체구조적으로 가장 가깝게 위치한 치환기, 또는 해당 치환기가 치환된 원자에 치환된 다른 치환기를 의미할 수 있다. 예컨대, 벤젠고리에서 오르토(ortho)위치로 치환된 2개의 치환기 및 지방족 고리에서 동일 탄소에 치환된 2개의 치환기는 서로 "인접한" 기로 해석될 수 있다.
본 발명에 있어서, "경화성기"는 열처리 및/또는 광 노출을 통해 가교결합을 유발할 수 있는 기, 또는 화합물 등 간에 가교를 시키는 반응성 치환기를 의미할 수 있다. 가교는 열처리 또는 광조사에 의하여, 탄소-탄소 다중결합 또는 환형 구조가 분해되면서 생성된 라디칼이 연결되면서 생성될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 라디칼 화합물은 쌍을 이루지 않은(unpaired) 전자를 가진 화합물을 의미한다. 또한 라디칼 화합물은 쌍을 이루지 않은(unpaired) 전자를 지닌 화합물을 의미하는데, 화합물의 종류에 따라 양이온이면서 동시에 라디칼인 화합물이 존재할 수 있다. 참고로, 본 발명에 있어서 양이온 화합물은 양성자수가 전자수보다 많아 양의 알짜 전하(net charge)를 가진 화합물을 의미한다. 일반적으로 Π-라디칼 화합물은 불안정한 것으로 알려져있지만 Π-컨쥬게이션 시스템(Π-conjugated system), 알킬 치환기 등 적절한 구조를 지닌 경우 양이온 라디칼 물질은 안정하게 존재할 수 있다. (Org. Biomol. Chem., 2005, 3, 561-569)
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 경화성기는 하기 구조들 중 선택될 수 있다.
Figure pat00014
상기 구조에 있어서,
L11은 직접결합; -O-; -S-; 치환 또는 비치환된 알킬렌기; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 헤테로고리기이고,
lk는 1 또는 2이며,
상기 lk가 2인 경우, 상기 L11은 서로 같거나 상이하고,
R21은 치환 또는 비치환된 알킬기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 L11은 직접결합; 메틸렌기; 또는 에틸렌기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L11은 직접결합이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 R21은 메틸기; 또는 에틸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 R21은 메틸기이다.
본 발명에 있어서, 몰분율은 모든 성분들의 총 몰 수에 대한 주어진 성분의 몰 수의 비를 의미한다.
본 발명에 있어서, "단량체"는 화합물이 중합 반응에 의해서 고분자 화합물로 전환될 수 있는 단위 화합물을 의미하고, "단량체 단위"는 중합체 또는 공중합체 내의 반복 단위를 의미하고자 하는 것이다. 구체적으로, 이는 해당 화합물이 중합되어 중합체 내에 결합된 상태로, 해당 화합물의 구조에서 2 이상의 치환기의 전부 또는 일부가 탈락되고, 그 위치에 중합체의 다른 단위와 결합하기 위한 라디칼이 위치하는 것을 의미한다.
본 발명에 있어서, "중합체"는 동일한 유형 또는 상이한 유형인지에 관계 없이 단량체를 중합하여 제조된 중합체 조성물을 의미한다. 따라서, 포괄적인 용어 "중합체"는 통상적으로 한 가지 유형의 단량체로부터 제조된 중합체를 의미하는 "단일중합체" 및 둘 이상의 상이한 유형의 단량체로부터 제조된 중합체를 의미하는 "공중합체"를 포함한다.
본 발명에 있어서,"공중합체"는 상이한 두 가지 단량체로부터 제조된 중합체 및 둘 초과의 상이한 유형의 단량체로부터 제조된 중합체를 포함한다.
본 발명에 있어서. 고형분이란 수지 조성물에서 용매를 제외한 성분을 의미한다. 고형분 및 각 성분의 고형분을 기준으로 한 중량부의 기준은 액체크로마토그래피 또는 가스크로마토그래피 등의 당업계에서 쓰이는 일반적인 분석 수단으로 측정할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 하기 화학식 3-1로 표시되는 제1 단위; 하기 화학식 3-2로 표시되는 제2 단위; 하기 화학식 3-3로 표시되는 제3 단위; 및 하기 화학식 3-4로 표시되는 제4 단위를 포함하는 중합체를 포함한다.
[화학식 3-1]
Figure pat00015
[화학식 3-2]
Figure pat00016
[화학식 3-3]
Figure pat00017
[화학식 3-4]
Figure pat00018
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 상기 화학식 3-1 내지 3-4가 임의의 순서로 반복하여 결합된 상태를 포함할 수 있다. 다시 말해, 본 발명의 일 실시상태에 따른 바인더 수지 내의 상기 화학식 3-1 내지 3-4의 반복 단위가 연속적으로 결합될 수도 있고, 연속적으로 결합되지 않을 수도 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar은 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar은 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로고리기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar은 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 헤테로고리기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar은 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 비페닐기; 치환 또는 비치환된 나프틸기; 또는 치환 또는 비치환된 플루오레닐기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar은 페닐기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 L101 및 L102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 알킬렌기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴렌기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 L101 및 L102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 L101 및 L102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 5의 알킬렌기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴렌기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 L101 및 L102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 메틸렌기; 치환 또는 비치환된 에틸렌기; 치환 또는 비치환된 프로필렌기; 치환 또는 비치환된 페닐렌기; 치환 또는 비치환된 비페닐릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 나프틸렌기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 L101 및 L102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 메틸렌기; 또는 에틸렌기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 L101은 메틸렌기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 L102는 메틸렌기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 L101 및 L102는 메틸렌기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 R101 및 R102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 R101 및 R102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 10의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로고리기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 R101은 수소이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 R102는 수소이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 R101 및 R102는 수소이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 T는 치환 또는 비치환된 지방족 탄화수소고리이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 T는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 10의 지방족 탄화수소고리이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 T는 시클로헥산고리이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, a는 몰분율로서 0 < a < 1 이고, b는 몰분율로서 0 < b < 1 이고, c는 몰분율로서 0 < c < 1 이고, d는 몰분율로서 0 < d < 1 이고, a + b + c + d ≤ 1 이다.
상기 a, b, c 및 d의 몰분율은 각각의 단위 반복 수를 단위 반복 총 합으로 나눈 값을 말한다. 즉, a는 화학식 3-1의 단위 반복 수를 공중합체의 총 단위 수로 나눈 값이며, b는 화학식 3-2의 단위 반복 수를 공중합체의 총 단위 수로 나눈 값이며, c는 화학식 3-3의 단위 반복 수를 공중합체의 총 단위 수로 나눈 값이며, d는 화학식 3-4의 단위 반복 수를 공중합체의 총 단위 수로 나눈 값이다. 또한, 상기 몰분율은 반복 순서 또는 반복 수를 의미하지 않는다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 a는 몰분율로서, 0 초과 1 미만이며, 바람직하게는 0.1 내지 0.6; 또는 0.3 내지 0.4이다. a가 상기의 범위 내일 때 적절한 막강도 특성이 구현된다. 특히 0.3 이상이면 막강도가 우수하며, 0.4 이하이면 패턴 특성이 우수하다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 b는 몰분율로서, 0 초과 1 미만이며, 바람직하게는 0.01 내지 0.5; 또는 0.1 내지 0.2이다. b가 상기의 범위 내일 때 원하는 미세패턴 특성 구현이 가능하다. 특히, 0.1 이상인 경우 현상 특성이 우수하며, 0.2 이하인 경우 과현상이 일어나지 않아 과현상에 의한 패턴 탈락 현상의 염려가 없다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 c는 몰분율로서, 0 초과 1 미만이며, 바람직하게는 0.1 내지 0.6: 또는 0.2 내지 0.4이다. c가 상기의 범위 내일 때 원하는 열경화 특성이 구현된다. 특히, 0.2 이상인 경우 열경화 특성이 우수하고, 0.4 이하인 경우 미세패턴 구현에 유리하다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 d는 몰분율로서, 0 초과 1 미만이며, 바람직하게는 0.01 내지 0.5; 또는 0.1 내지 0.3이다. d가 상기의 범위 내일 때 열경화 특성(특히 내화학 특성)이 구현된다. 특히, 0.1 이상인 경우 내화학 특성이 우수하고, 0.3 이하인 경우 열경화에 의한 미세특성 구현에 유리하다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 a + b + c + d는 1이다.
본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따르면, a=0.3, b=0.2, c=0.4, d=0.1 이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, r101은 1 내지 3의 정수이고, r101가 2 이상인 경우 R101은 서로 동일하거나 상이하다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 r101은 3이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, r102는 1 이상의 정수이고, r102가 2 이상인 경우 R102는 서로 동일하거나 상이하다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 r102는 1 내지 11의 정수이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 r102는 11이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 에폭시기를 포함하는 중합체를 포함한다. 상기 에폭시기는 열경화 특성을 가진다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 중량 평균 분자량이 5,000 g/mol 이상 150,000 g/mol 이하이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 중량 평균 분자량이 8,000 g/mol 이상 12,000 g/mol 이하이다. 상기 바인더 수지의 중량 평균 분자량이 상기 범위 내인 경우, 용액의 점도 조절이 용이하고 다른 성분과 상분리가 일어나지 않는 효과가 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 바인더 수지의 함량이 5 내지 30 중량부이다. 바람직하게는 5 내지 15 중량부이다. 상기 바인더 수지의 함량이 5 중량부 이상인 경우 고분자 성분이 적당하여 박막 형성이 용이하며, 상기 바인더 수지의 함량이 30 중량부 이하인 경우 계면활성제 등의 첨가제를 투입하여 박막 형성 효과를 기대할 수 있다.
상기 중량 평균 분자량은 겔투과크로마토그래피 (Gel Permeation Chromatography, GPC) 방법으로 측정할 수 있다. GPC법에 의하여 중량 평균 분자량을 측정하는 과정에서는, 통상적으로 알려진 분석 장치와 시차 굴절 검출기(Refractive Index Detector) 등의 검출기 및 분석용 컬럼을 사용할 수 있으며, 통상적으로 적용되는 온도 조건, 용매, 용매 속도 등을 적용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 에폭시기를 작용기로 포함하는 바인더 수지는 당업계에서 일반적으로 사용되는 것들이 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 에폭시기 함유 단량체를 1종 이상 포함하는 공중합체이다.
상기 에폭시기 함유 단량체는 글리시딜(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸(메트)아크릴레이트, 4,5-에폭시헥실(메트)아크릴레이트, 6,7-에폭시펩틸(메트)아크릴레이트 일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 에폭시계 단량체 및 (메트)아크릴레이트계 단량체를 포함하는 바인더 수지용 조성물로부터 중합된 공중합체일 수 있다.
상기 에폭시계 단량체로는 옥세테닐 메타크릴레이트, 알릴 글리시딜에테르, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 5-노보넨-2-메틸-2-카복실레이트(엔도, 엑소 혼합물), 1,2-에폭시-5-헥센 및 1,2-에폭시-9-데센으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 화합물을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 (메트)아크릴레이트계 단량체로는 메타크릴산, (메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 에틸 α히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α히드록시메틸 아크릴레이트 및 부틸 α히드록시메틸 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A1은 -OH, -SH, 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아민기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A1은 -OH, -SH, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아민기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A1은 -OH, -SH, 탄소수 1 내지 20의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아민기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A1은 -OH, -SH, 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아민기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 1 내지 10의 알킬기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 메틸기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 메틸기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 A2 및 A3은 메틸기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 11로 표시된다.
[화학식 11]
Figure pat00019
상기 화학식 11에 있어서, A1 및 x는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 x는 20 내지 50의 정수이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따르면, 상기 x는 25 내지 45의 정수이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 101로 표시된다.
[화학식 101]
Figure pat00020
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 함량이 0.05 내지 9 중량부이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 중량부에 대하여, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 함량이 0.1 내지 9 중량부이다. 다만, 상기 예시에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 화학식 1로 표시되는 화합물이 상기 범위의 함량으로 포함될 경우, 100 ℃ 미만에서의 저온 경화가 가능하고, 내화학성 및 홀 패턴 특성이 우수해지는 장점이 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물은 다관능성 모노머; 계면활성제; 및 광중합 개시제 중 적어도 하나를 더 포함한다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물은 다관능성 모노머; 계면활성제; 및 광중합 개시제를 더 포함한다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다관능성 모노머는 불포화 카르복시산 에스테르류; 방향족 비닐류; 불포화 에테르류; 불포화 이미드류; 및 산 무수물 중 어느 하나 이상일 수 있고, 또 당 기술분야에 알려진 기타 다관능성 모노머를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 상기 다관능성 모노머의 함량이 1 내지 40 중량부; 또는 1 내지 20 중량부이다. 바람직한 일 예로서, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 상기 다관능성 모노머의 함량이 1 내지 20 중량부이다. 다만, 상기 범위에 한정되는 것은 아니다.
상기 불포화 카르복시산 에스테르류의 구체적인 예로는, 벤질(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 (메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 메틸 α히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α히드록시메틸 아크릴레이트 및 부틸 α히드록시메틸 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 그리고, 기타 방향족 비닐류, 불포화 에테르류, 불포화 이미드류, 산 무수물 또한 공지된 물질 중 당 업계의 기술자가 임의로 선택할 수 있다.
상기 다관능성 모노머의 다른 예로는 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(DPHA) 등을 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 계면활성제는 실리콘계 계면활성제 또는 불소계 계면활성제이며, 구체적으로 실리콘계 계면활성제는 BYK-Chemie 사의 BYK-077, BYK-085, BYK-300, BYK-301, BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-335, BYK-341v344, BYK-345v346, BYK-348, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358, BYK-361, BYK-370, BYK-371, BYK-375, BYK-380, BYK-390 등을 사용할 .수 있으며, 불소계 계면활성제로는 DIC(DaiNippon Ink & Chemicals) 사의 F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F-493, F-494, F-443, F-444, F-445, F-446, F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F-480SF, F-482, F-483, F-484, F-486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF-1129, TF-1126, TF-1130, TF-1116SF, TF-1131, TF-1140 TF1132, TF1027SF, TF-1441, TF-1442 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따르면, 전술한 계면활성제 군으로부터 선택되는 2종 이상의 화합물을 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 계면활성제의 함량이 0.1 내지 5 중량부이다. 다른 예로서, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 계면활성제의 함량이 0.1 내지 3 중량부이다. 바람직한 예로, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 계면활성제의 함량이 0.1 내지 1 중량부이다. 바람직한 예로, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 계면활성제의 함량이 0.2 내지 0.4 중량부이다. 다만, 상기 범위에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광중합 개시제는 빛에 의해 라디칼을 발생시켜 가교를 촉발하는 재료로서, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 및 옥심계 화합물로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 화합물을 혼합하여 사용한다. 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광중합 개시제로는 Tronly사 PBG-304, PBG-305, PBG-309, BASF사 IRGACURE 651, IRGACURE 184, DAROCURE 1173, IRGACURE 2959, IRGACURE 127, IRGACURE 907, IRGACURE 369, IRGACURE 379EG, LUCIRIN TPO, IRGACURE 819, IRGACURE 784 등을 사용할 수 있으나, 상기 예시에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따르면, 전술한 광중합 개시제 군으로부터 선택되는 2종 이상의 화합물을 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 광중합 개시제의 함량이 1 내지 10 중량부이다. 바람직한 예로서, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 광중합 개시제의 함량이 2 내지 6 중량부이다. 더 바람직한 예로서, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 광중합 개시제의 함량이 2 내지 4 중량부이다. 다만, 상기 범위에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물은 기타 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 기타 첨가제에는 가교제, 실란 커플링제 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 가교제는 알칼리 가용성 폴리이미드 수지 또는 기타 첨가 성분 간 가교 반응을 유도하여, 생성된 막의 내열성 및 내약품성을 증가시킬 수 있다. 이 때 가교제는 아크릴기 등의 관능기를 포함하는 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 상기 가교제의 예로 열 가교제가 있는데, 이러한 열 가교제는 메틸올기, 에폭시기 등의 열반응성 관능기를 포함하는 화합물을 사용할 수 있다. 구체적인 예로, 당 업계에서 일반적으로 사용하는 가교제인 DML-PC, DML-PEP, DML-OC, DML-OEP, DML-34X, DML-PTBP, DML-PCHP, DML-OCHP, DML-PFP, DML-PSBP, DML-POP, DML-MBOC, DML-MBPC,DML-MTrisPC, DML-BisOC-Z, DML-BisOCHP-Z, DML-BPC, DML-BisOC-P, DMOM-PC, DMOM-PTBP, DMOM-MBPC, TriML-P,TriML-35XL, TML-HQ, TML-BP, TML-pp-BPF, TML-BPE, TML-BPA, TML-BPAF, TML-BPAP, TMOM-BP, TMOM-BPE, TMOM-BPA, TMOM-BPAF, TMOM-BPAP, HML-TPPHBA, HML-TPHAP, HMOM-TPPHBA, HMOM-TPHAP(이상, 상품명, 혼슈 가가쿠 고교(주)제), "NIKALAC"(등록 상표) MX-290, "NIKALAC"(등록 상표) MX-280, "NIKALAC"(등록 상표) MX-270,"NIKALAC"(등록 상표) MX-279, "NIKALAC"(등록 상표) MW-100LM, "NIKALAC"(등록 상표) MX-750LM(이상, 상품명,(주)산와 케미컬제)을 등을 사용할 수 있다. 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 가교제의 함량이 10 내지 30 중량부이다. 다만, 상기 범위에 한정되는 것은 아니다.
상기 실란 커플링제의 경우는, 예를 들면, 알루미나와 같은 열전도성 필러의 분산성을 개선하기 위해 사용될 수 있고, 상기와 같은 작용을 나타낼 수 있는 것이라면 업계에서 공지된 다양한 종류의 것을 제한 없이 사용할 수 있다. 실란 커플링제는 가수분해성의 실릴기 또는 실라놀기를 포함하는 화합물을 의미한다. 또한, 실란 커플링제는 경화되어 생성된 막 및 기판의 특정 일면 간의 상호 밀착 작용을 증가시켜, 내열성 및 내약품성을 증가시킬 수 있다. 상기 실란 커플링제의 예로서 옥틸트리메톡시 실란, 도데실트리메톡시 실란, 옥타데실트리메톡시 실란 등에서 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따르면, 전술한 실란 커플링제 군으로부터 선택되는 2종 이상의 화합물을 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
상기 실란 커플링제의 함량은 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 2 중량부로 포함될 수 있다. 바람직한 예로서, 상기 실란 커플링제의 함량은 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.2 내지 1 중량부로 포함될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 전술한 조성물은 용매를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 용매로는 본 발명이 속하는 기술분야에서 감광성 수지 조성물의 형성을 가능하게 하는 것으로 알려진 화합물이 특별한 제한 없이 적용될 수 있다. 예컨대, 상기 용매는 에스터류, 에터류, 케톤류, 방향족 탄화수소류, 및 설폭사이드류로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상의 화합물일 수 있다.
상기 에스터류 용매는 아세트산 에틸, 아세트산-n-뷰틸, 아세트산 아이소뷰틸, 폼산 아밀, 아세트산 아이소아밀, 아세트산 아이소뷰틸, 프로피온산 뷰틸, 뷰티르산 아이소프로필, 뷰티르산 에틸, 뷰티르산 뷰틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸, 감마-뷰티로락톤, 엡실론-카프로락톤, 델타-발레로락톤, 옥시아세트산 알킬(예: 옥시아세트산 메틸, 옥시아세트산 에틸, 옥시아세트산 뷰틸(예를 들면, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 뷰틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸 등)), 3-옥시프로피온산 알킬에스터류(예: 3-옥시프로피온산 메틸, 3-옥시프로피온산 에틸 등(예를 들면, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸 등)), 2-옥시프로피온산 알킬에스터류(예: 2-옥시프로피온산 메틸, 2-옥시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 프로필 등(예를 들면, 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸)), 2-옥시-2-메틸프로피온산 메틸 및 2-옥시-2-메틸프로피온산 에틸(예를 들면, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸 등), 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소뷰탄산 메틸, 2-옥소뷰탄산 에틸 등일 수 있다.
상기 에터류 용매는 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 테트라하이드로퓨란, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 에틸렌글라이콜모노에틸에터, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 다이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜모노에틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜모노프로필에터아세테이트 등일 수 있다.
상기 케톤류 용매는 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온, 2-헵탄온, 3-헵탄온, N-메틸-2-피롤리돈 등일 수 있다.
상기 방향족 탄화수소류 용매는 톨루엔, 자일렌, 아니솔, 리모넨 등일 수 있다.
또한, 상기 설폭사이드류 용매는 공지된 물질 중 당 업계의 기술자로부터 적절히 선택되어 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 용매는 프로필렌글리콜모노메틸아세테이트가 사용된다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 용매는 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르가 사용된다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 용매는 프로필렌글리콜모노메틸아세테이트 및 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르을 일정 비율 혼합한 물질이 사용된다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 용매의 함량이 20 내지 90 중량부이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 용매의 함량이 20 내지 80 중량부이다. 본 발명의 더 바람직한 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 상기 용매의 함량이 40 내지 80 중량부이다.
용매의 함량이 상기 범위 내로 포함되거나, 용매로서 혼합액이 사용될 경우 혼합비가 상기 범위 내로 포함될 경우, 감광성 수지 조성물의 도포성이 우수하거나 평탄성이 우수한 도막을 얻을 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 전술한 감광성 수지 조성물에 있어서, 다관능성 모노머; 계면활성제; 광중합 개시제; 및 용매를 더 포함하고, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 상기 다관능성 모노머의 함량이 1 내지 20 중량부이고, 상기 계면활성제의 함량이 0.1 내지 3 중량부이고, 상기 광중합 개시제의 함량이 1 내지 10 중량부이고, 상기 용매의 함량이 40 내지 80 중량부이다.
본 발명의 일 실시상태는 상기 감광성 수지 조성물 또는 이의 경화물을 포함하는 감광재를 제공한다.
본 발명의 일 실시상태는 상기 감광성 수지 조성물 또는 이의 경화물을 이용하여 제조된 감광재를 제공한다.
더 자세히는, 본 발명의 감광성 수지 조성물을 기재 위에 적절한 방법으로 도포하여 박막 또는 패턴형태의 감광재를 형성한다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 박막 트랜지트터 액정 표시장치(TFT LCD) 또는 OLED(유기 발광 다이오드)용 디스플레이, 블랙 매트릭스 형성용 감광재, 오버코트층 형성용 감광재, 컬럼 스페이서 감광재, 광경화형 도료, 광경화성 잉크, 광경화성 접착제, 인쇄판, 인쇄배선반용 감광재, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)용 감광재 등에 사용할 수 있으며, 그 용도에 제한을 특별히 두지는 않는다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광재는 절연막, 보호막 또는 평탄화막 등으로 사용된다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광재는 후술하는 감광성 수지 조성물의 저온 경화 방법에 의하여 제조된다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광재는 내화학성이 우수하다. 구체적으로 화학 시약에 노출되었을 때, 두께 변화율이 적다.
본 발명에 있어서, 내화학성 평가는 하나의 시약에 감광재를 50 내지 70 ℃에서 200 내지 300 초 처리하였을 때, 처리 전후의 두께 변화율을 측정하여 수행된다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광재는 특정 용매에 대하여 두께 변화율이 5% 미만이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따른 감광재는 특정 용매에 대하여 두께 변화율이 2% 미만이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따른 감광재는 특정 용매에 대하여 두께 변화율이 1% 미만이다. 이때, 상기 특정 용매로는 KOH, TMAH(테트라메틸암모늄 하이드록사이드), 옥살산 수용액 등이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 더 구체적으로 상기 특정 용매로는 5 % KOH, 2.38 % TMAH(테트라메틸암모늄 하이드록사이드), 5 % 옥살산 수용액 등이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광재는 내화학성이 95 % 이상이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따른 감광재는 내화학성이 98 % 이상이다. 본 발명의 더 바람직한 일 실시상태에 따른 감광재는 내화학성이 99 % 이상이다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광재는 최소 홀 패턴 특성이 7 ㎛ 이상이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따른 감광재는 최소 홀 패턴 특성이 7 내지 15 ㎛ 이다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광재는 내화학성이 95 % 이상이고, 최소 홀 패턴 특성이 7 ㎛ 이상이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따른 감광재는 내화학성이 98 % 이상이고, 최소 홀 패턴 특성이 7 내지 15 ㎛이다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 따른 감광재는 내화학성이 99 % 이상이고, 최소 홀 패턴 특성이 8 내지 14 ㎛이다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 감광재는 5% KOH, 2.38% 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 (TMAH), 5% 옥산살 (Oxalic acid), 또는 스트리퍼(Stripper, LGC의 LGS-900 grade)에 대하여 두께 변화율이 5% 이하이다.
본 발명에 따른 전술한 감광재를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
상기 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 발광 다이오드(Light Emitting Diode, LED), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diode, OLED), 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 터치스크린 패널(Touch screen panel, TSP), 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(Thin FIlm Transistor- Liquid Crystal Display, LCD-TFT) 및 음극선관(Cathode Ray Tube, CRT) 중 어느 하나일 수 있다.
본 발명의 또 다른 일 실시상태는 (a) 전술한 감광성 수지 조성물을 기판에 코팅하는 단계;
(b) 상기 코팅된 기판을 건조 또는 프리베이킹하는 단계;
(c) 상기 건조 또는 프리베이킹된 기판을 노광하는 단계;
(d) 패턴 형성 단계; 및
(e) 상기 기판을 50 ℃ 이상 100 ℃ 미만의 온도 범위에서 포스트베이킹하는 단계를 포함하는 감광성 수지 조성물의 저온 경화 방법을 제공한다.
본 발명에 있어서, 상기 (a) 단계(상기 전술한 감광성 수지 조성물을 기판에 코팅하는 단계)는 전술한 감광성 수지 조성물을 기판에 도포하고 코팅하는 것을 의미한다. 상기 도포 및 코팅 방법은 기 도포 방법으로는 특별히 제한되지는 않지만 스프레이 법, 롤 코팅법, 스핀 코팅법 등을 사용할 수 있으며, 일반적으로 스핀 코팅법을 널리 사용한다. 다만, 상기 예시에 한정되는 것은 아니고, 당 업계의 통상의 기술자가 선택한 방법으로 실시될 수 있다. 나아가, 도포막을 형성한 후 경우에 따라서 감압 하에 잔류 용매를 일부 제거할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 (b) 단계(상기 코팅된 기판을 건조 및/또는 프리베이킹(pre-baking)하는 단계)는 상기 도포막에 포함된 용매를 제거하는 것을 의미한다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 코팅된 기판을 건조 및/또는 프리베이킹(pre-baking)하는 단계는 상기 코팅된 기판을 건조하는 단계; 상기 코팅된 기판을 프리베이킹하는 단계; 또는 상기 코팅된 기판을 건조 및 프리베이킹하는 단계일 수 있다. 이 때, 상기 코팅된 기판을 건조 및 프리베이킹하는 단계는 상기 코팅된 기판을 선 건조 후 프리베이킹하는 단계; 또는 상기 코팅된 기판을 건조 및 프리베이킹을 동시에 하는 단계 등일 수 있으나, 상기와 같은 순서에 한정되지 않고, 당 업계의 통상의 기술자에 의해 순서가 조정될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 건조 단계는 50 내지 70 Pa 하에서 진공 배기 건조(Vacuum Dry)를 통해 실시된다. 다만, 상기 방법에 한정되는 것은 아니다.
상기 프리베이킹(pre-baking) 단계는 후속의 경화 공정보다 동일하거나 낮은 온도에서 실시하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 프리베이킹(pre-baking) 온도는 약 80 ℃ 이상 100 ℃ 미만의 온도 범위에서 1 분 내지 5 분 간 수행할 수 있다. 바람직한 예로서, 프리베이킹(pre-baking) 온도는 약 80 ℃ 이상 100 ℃ 미만의 온도 범위에서 100 초 내지 180 초 간 수행할 수 있다. 더 바람직한 예로서, 프리베이킹(pre-baking) 온도는 약 80 ℃ 이상 100 ℃ 미만의 온도 범위에서 100 초 내지 120 초 간 수행할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 (c) 단계(상기 건조 또는 프리베이킹된 기판을 노광하는 단계)는 가공하고자 하는 패턴이 형성된 포토마스크를 이용하여 200 내지 500 nm 파장의 자외선 또는 가시 광선을 조사할 수 있고, 조사 시 노광량은 10 내지 4,000 mJ/㎠ 인 것이 바람직하다. 노광 시간도 특별히 한정되는 것이 아니고, 사용되는 노광 장치, 조사 광선의 파장 또는 노광량에 따라 적절히 변화시킬 수 있다, 다만, 바람직한 노광 시간은 5 내지 250 초의 범위 내에서 변화시킬 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 (d) 단계(패턴 형성 단계)는 기판에 패턴을 형성하기 위하여 마스크를 사용하여 상기 도포막을 선택적으로 노광한 후, 현상하는 것을 의미한다.
상기 감광성 수지막의 형성 단계에서는 반도체 또는 디스플레이 생산 단계에서 사용 가능한 것으로 통상적으로 알려진 알칼리성 수계 현상액을 별 다른 제한 없이 사용할 수 있다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.
<제조예>
제조예 1. 조성물 1의 제조
감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 하기 화학식 301로 표시되는 바인더 수지 10 중량부, 하기 화학식 101로 표시되는 화합물 0.1 중량부, 다관능성 모노머 9 중량부, 계면활성제 0.3 중량부, 광중합 개시제 2 중량부, 및 상기 감광성 수지 조성물 중량부 100에 대하여 용매 78.6 중량부를 사용하여 조성물 1을 얻었다.
[화학식 301]
Figure pat00021
상기 화학식 301에 있어서, a 내지 d는 몰분율이고, 각각 a=0.3, b=0.2, c=0.4, d=0.1이다. 상기 화학식 301로 표시되는 바인더 수지의 중량 평균 분자량은 10,000 g/mol이다. 상기 화학식 301로 표시되는 바인더 수지를 중합하기 위하여, 스티렌(스티렌, 덕산약품사), 메타크릴릭 산(Methacrylic acid) (MAA, 삼천화학사). 글리시딜 메타크레이트(Glycidyl methacrylate) (GMA, 대정화금사), 3,4-에폭시-시클로헥실 메틸-메타크릴레이트(3,4-Epoxy-Cyclohexyl methyl-Methacrylate) (Cyclomer M100, 다이셀사)의 모노머가 적용되었다. 중량 평균 분자량(Mw)의 경우, GPC(Gel Permeation Chromatography, Malvern사 Viscotek), 용리액(eluent)은 테트라하이드로퓨란 (Tetrahydrofuran (Stabilized) from J.T.Baker)를 이용하여 측정하였다. 상기와 같이, 화학식 301로 표시되는 바인더 수지에 대한 GPC 측정 결과를 도 1에 도시하였다.
[화학식 101]
Figure pat00022
상기 제조예 1에 있어서, 상기 화학식 101은 CAS 9046-40-0 중 x에 대응되는 수가 35의 정수인 것을, 상기 다관능성 모노머로는 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트(DPHA)를, 계면활성제로는 BYK-Chemie사 BYK-331 0.2 중량부 및 DIC사 TF-1140 0.1 중량부를, 광중합 개시제로는 Tronly사 PBG-305를, 용매로는 프로필렌글리콜모노메틸아세테이트 (Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate) 60 중량부 및 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 (Diethylene Glycol Ethyl Methyl Ether) 18.6 중량부를 사용하였다.
제조예 2 내지 5. 조성물 2 내지 5의 제조
상기 조성물 1의 제조에서 화학식 101로 표시되는 화합물을 각각 3 중량부, 5 중량부, 7 중량부 및 9 중량부를 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 조성물 2 내지 5를 제조하였다. 단, 각 제조예에서 각 조성물의 100 중량부에 대하여 화학식 101로 표시되는 화합물이 증가된 함량만큼 다른 구성들을 균등한 비율로 감소시켰다.
비교제조예 1, 추가제조예 1 및 2. 비교조성물 1, 추가조성물 1 및 2의 제조
상기 제조예 1에 있어서, 화학식 101로 표시되는 화합물을 각각 0 중량부, 10 중량부 및 12 중량부를 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 비교조성물 1, 추가조성물 1 및 2를 제조하였다. 단, 각 비교제조예 및 추가제조예에서 각 조성물의 100 중량부에 대하여 화학식 101로 표시되는 화합물이 변경된 함량만큼 다른 구성들을 균등한 비율로 증가 또는 감소시켰다.
실시예 1 내지 5, 비교예 1, 추가실험예 1 및 2
<코팅막 형성>
실시예 1 내지 5, 비교예 1, 추가실험예 1 및 2에서는 상기 제조예 1 내지 5, 비교제조예 1, 추가제조예 1 및 2에서 제조된 각 조성물을 기판 (SiNx, Ti/Al/Ti)에 도포하여 스핀 코팅하고, 65 Pa 하에 진공 건조하였다. 핫플레이트에서 85 ℃에서 110 초 동안 프리베이킹하였다. 광원(i, g, h 복합파장, Projection type 노광기)으로 50 mJ/cm2의 세기로 노광한 뒤 23 ℃, 2.38 % TMAH (테트라메틸암모늄 하이드록사이드)에서 90 초 동안 현상하였다. 증류수로 20 초 동안 세척하고, 컨벡션 오븐 (convection oven) 에서 85 ℃에서 60 분 동안 포스트베이킹하였다. 홀(hole) 패턴을 가진 코팅막이 형성되었다. 노광 마스크의 경우 5 내지 50 ㎛ 사이즈의 홀 패턴이 스플릿(split)되어 있는 마스크를 사용하였다. 효과의 차이를 비교하기 위하여 100 ℃에서도 60 분 동안 포스트베이킹하였다.
<코팅막 평가>
[내화학성 평가]
상기 형성된 각 코팅막을 스트리퍼(Stripper, LGC의 LGS-900 grade)로 65 ℃에서 200초 처리하여 처리 전 후의 두께를 측정하여 하기의 잔막율 공식으로 두께 변화율을 확인하였다.
잔막율 = (처리 후 막두께) / (처리 전 막두께)
[최소 홀 패턴 특성 평가]
홀 패턴 마스크를 적용하여 최소 홀 해상도(Hole resolution)을 측정하였다. 홀 패턴 특성의 경우, SNU 3D profiler, Optical microscope 및 SEM을 통해 분석하였다.
상기 내화학성 평가 및 최소 홀 패턴 특성 평가의 결과를 하기 표 1에 기재하였다.
조성물 첨가제 양 (wt%) 내화학성 (PB 85℃) 내화학성 (PB 100℃) 최소 홀 패턴 특성 (㎛)
실시예 1 조성물 1 0.1 99% 이상 99% 이상 7
실시예 2 조성물 2 3.0 99% 이상 99% 이상 10
실시예 3 조성물 3 5.0 99% 이상 99% 이상 12
실시예 4 조성물 4 7.0 99% 이상 99% 이상 12
실시예 5 조성물 5 9.0 99% 이상 99% 이상 14
비교예 1 비교조성물 1 0 85% 95% 패턴 미형성
추가실험예 1 추가조성물 1 10.0 99% 이상 99% 이상 패턴 미형성
추가실험예 2 추가조성물 2 12.0 99% 이상 99% 이상 패턴 미형성
본 발명의 실시상태들에 따른 조성물 1 내지 5를 이용한 실시예 1 내지 5의 경우, 내화학성 및 최소 홀 패턴 특성이 모두 우수한 것을 확인할 수 있었다. 특히, 본 발명의 일 실시상태에 따라 화학식 1로 표시되는 화합물을 0.1 내지 9 중량부 포함함으로써, 100 ℃ 미만의 저온인 85 ℃에서 포스트베이킹하여도 99 % 이상의 우수한 내화학성을 가지는 것을 확인할 수 있었다. 구체적인 예로서, 도 2 및 3은 각각 실시예 1에 따른 미세 홀의 마스크 홀 및 최소 홀 패턴 특성을 도시한 것인데, 도 4와 같이 마스크 홀이 8 ㎛일 때, 도 5와 같이 최소 홀 패턴이 7 ㎛인 것을 확인할 수 있었다.
비교조성물 1을 이용한 비교예 1의 경우, 본 발명의 화학식 1에 따른 화합물을 포함하지 않으므로, 코팅 막의 두께 변화가 5 % 이상, 최대 15 %까지 발생하여, 내화학성이 불량한 것을 확인할 수 있었다. 구체적으로, 도 4 및 5는 각각 비교예 1에 따른 미세 홀의 마스크 홀 및 최소 홀 패턴 특성을 도시한 것인데, 도 4와 같이 마스크 홀이 8 ㎛일 때, 도 5와 같이 최소 홀 패턴이 형성되지 않는 것을 확인할 수 있었다.
추가조성물 1 및 2를 이용한 추가실험예 1 및 2의 경우, 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 본 발명의 화학식 1에 따른 화합물을 10 중량부 이상 포함함으로써, 패턴이 형성되지 않아 최소 홀 패턴 특성이 불량한 것을 확인할 수 있었다. 구체적으로, 본 발명의 화학식 1에 따른 화합물을 과량으로 포함할 경우, 패턴 형성이 진행되기 전에 경화 반응이 과도하게 진행되는 바, 패턴이 형성되지 않고, 최소 홀 패턴 특성이 불량한 것을 확인할 수 있었다.
상기 결과와 같이, 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물 또는 이의 경화물은 그 내화학성 및 패턴특성이 모두 우수한 것을 확인할 수 있었다.

Claims (14)

  1. 바인더 수지 및 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물로서,
    [화학식 1]
    Figure pat00023

    상기 화학식 1에 있어서,
    A1은 -OH; -SH; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아민기이고,
    상기 "-"은 화학식 1에 연결되는 부위를 의미하고,
    A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이고,
    x는 20 내지 50의 정수이고,
    상기 바인더 수지는 하기 화학식 3-1 내지 3-4의 반복 단위를 포함하는 중합체를 포함하는 것인 감광성 수지 조성물:
    [화학식 3-1]
    Figure pat00024

    [화학식 3-2]
    Figure pat00025

    [화학식 3-3]
    Figure pat00026

    [화학식 3-4]
    Figure pat00027

    상기 화학식 3-1 내지 3-4에 있어서,
    Ar은 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
    L101 및 L102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 알킬렌기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
    R101 및 R102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이며,
    T는 치환 또는 비치환된 지방족 탄화수소고리이고,
    a 내지 d는 몰분율로서 각각 0 이상 1 이하이고, 0 < a + b + c + d ≤ 1 이며,
    r101은 1 내지 3의 정수이고, r101가 2 이상인 경우 R101은 서로 동일하거나 상이하고,
    r102는 1 이상의 정수이고, r102가 2 이상인 경우 R102는 서로 동일하거나 상이하고,
    상기 "
    Figure pat00028
    "은 다른 부분에 연결되는 부위를 의미한다.
  2. 청구항 1에 있어서, Ar은 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 헤테로고리기인 것인 감광성 수지 조성물.
  3. 청구항 1에 있어서, L1O1 및 L102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 메틸렌기; 치환 또는 비치환된 에틸렌기; 치환 또는 비치환된 프로필렌기; 치환 또는 비치환된 페닐렌기; 치환 또는 비치환된 비페닐릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 나프틸렌기인 것인 감광성 수지 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서, R101 및 R102는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 10의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로고리기인 것인 감광성 수지 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서, T는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 10의 지방족 탄화수소고리인 것인 감광성 수지 조성물.
  6. 청구항 1에 있어서, A2 및 A3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기인 것인 감광성 수지 조성물.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 11로 표시되는 것인 감광성 수지 조성물:
    [화학식 11]
    Figure pat00029

    상기 화학식 11에 있어서, A1 및 x는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 함량이 0.05 내지 9 중량부인 것인 감광성 수지 조성물.
  9. 청구항 1에 있어서, 다관능성 모노머; 계면활성제; 및 광중합 개시제 중 적어도 하나를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
  10. 청구항 1에 있어서, 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
  11. 청구항 1에 있어서, 다관능성 모노머; 계면활성제; 광중합 개시제; 및 용매를 더 포함하고,
    상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 상기 다관능성 모노머의 함량이 1 내지 20 중량부이고, 상기 계면활성제의 함량이 0.1 내지 3 중량부이고, 상기 광중합 개시제의 함량이 1 내지 10 중량부이고, 상기 용매의 함량이 40 내지 80 중량부인 것인 감광성 수지 조성물.
  12. 청구항 1 내지 11 중 어느 한 항에 따른 감광성 수지 조성물 또는 이의 경화물을 포함하는 감광재.
  13. 청구항 12에 따른 감광재를 포함하는 디스플레이 장치.
  14. (a) 청구항 1 내지 11 중 어느 한 항에 따른 감광성 수지 조성물을 기판에 코팅하는 단계;
    (b) 상기 코팅된 기판을 건조 또는 프리베이킹하는 단계;
    (c) 상기 건조 또는 프리베이킹된 기판을 노광하는 단계;
    (d) 패턴 형성 단계; 및
    (e) 상기 기판을 50 ℃ 이상 100 ℃ 미만의 온도 범위에서 포스트베이킹하는 단계를 포함하는 감광성 수지 조성물의 저온 경화 방법.
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