KR20220141827A - Methods for handling CVD-reactor and process chamber-cover plates - Google Patents

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올리비에 페론
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아익스트론 엘티디.
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Abstract

본 발명은 하우징(1)을 구비한 CVD-반응기에 관한 것으로, 공정 챔버(process chamber)(23)를 아래쪽에서 제한하는 서셉터(susceptor)(5) 및 상기 공정 챔버(23)를 위쪽에서 제한하는 커버 플레이트(cover plate)(6)를 포함하고, 이때 상기 커버 플레이트(6)는, 하강한 위치에서 조립 위치로 상승 가능한 리프팅 요소(lifting element)(11)에 의해 상기 하우징(1)의 고정 섹션(21)에 인접하는 인접 위치까지 상승 가능하고, 상기 고정 섹션(21)에서 상기 커버 플레이트(6)는 상기 하우징(1)에 고정 가능하다. 상기 커버 플레이트(6)를 자동으로, 또는 반자동으로 상기 하우징(1)에 고정할 수 있기 위해, 상기 서셉터(5)를 둘러싸거나, 또는 상기 서셉터의 가장자리에서 지지하는 리프팅 요소(11)가 제공되어 있다. 상기 리프팅 요소(11)는 보호관에 의해서도 형성될 수 있다. 상기 리프팅 요소(11)에 의해 상기 커버 플레이트(6)는, 상기 커버 플레이트가 적재 개구(18)를 통해 제거될 수 있는 위치로 제공될 수 있다.The present invention relates to a CVD-reactor having a housing (1), a susceptor (5) confining a process chamber (23) from below and a susceptor (5) confining said process chamber (23) from above and a cover plate (6) for fixing the housing (1) by means of a lifting element (11) which can be raised from the lowered position to the assembled position. It is liftable to an adjacent position adjacent to the section 21 , wherein the cover plate 6 is fixable to the housing 1 in the fixed section 21 . In order to be able to automatically or semi-automatically fix the cover plate 6 to the housing 1 , a lifting element 11 surrounding the susceptor 5 or supporting it at the edge of the susceptor is provided. is provided. The lifting element 11 may also be formed by a protective tube. The lifting element 11 allows the cover plate 6 to be provided in a position in which the cover plate can be removed via the loading opening 18 .

Description

CVD-반응기 및 공정 챔버-커버 플레이트를 취급하기 위한 방법Methods for handling CVD-reactor and process chamber-cover plates

본 발명은, 특히 커버 플레이트(cover plate)의 완전 자동 또는 반자동 교체를 위해, CVD-반응기의 공정 챔버(process chamber)를 위쪽에서 제한하는 커버 플레이트를 취급하기 위한 방법에 관한 것이다. 더 나아가 본 발명은, 커버 플레이트가 리프팅 요소(lifting element)에 의해 하강한 위치에서 조립 위치로 상승할 수 있는, CVD-반응기의 개선예에 관한 것이다.The present invention relates to a method for handling a cover plate which limits the process chamber of a CVD-reactor from above, in particular for fully or semi-automatic replacement of the cover plate. The invention further relates to a refinement of the CVD-reactor, wherein the cover plate can be raised from a lowered position to an assembly position by a lifting element.

독일 특허 출원서 DE 10 2012 110 125 A1호로부터 CVD-반응기가 사전 공지되어 있다. 그곳에서 커버 플레이트는 샤워 헤드(shower head)의 가스 배출 플레이트(gas outlet plate) 아래에 배치된 가스 관통 개구들을 구비한 차폐 플레이트인데, 상기 차폐 플레이트는 서셉터(susceptor) 및 커버 플레이트의 동시 수직 변위에 의해 조립 위치로 제공되며, 이때 상기 서셉터는 리프팅 장치에 의해 수직 방향으로 변위되고 자체 표면상에 상기 차폐 플레이트를 지지한다. 상기 커버 플레이트의 자동화된 고정을 구현하는 고정 수단들이 제공되어 있다. 유사한 장치는 독일 특허 출원서 DE 10 2019 117 479 A1호에서 기술된다. 국제 특허 출원서 WO 2007/060143 A1호도 고정 요소들에 의해 가스 배출 플레이트 아래에 고정된 커버 플레이트를 공개한다. 일본 특허 출원서 JP 5721132 B2호도 선행기술에 포함된다.A CVD-reactor is known in advance from the German patent application DE 10 2012 110 125 A1. Wherein the cover plate is a shield plate with gas through openings disposed below a gas outlet plate of a shower head, said shield plate having simultaneous vertical displacement of the susceptor and the cover plate. is provided in an assembly position by means of which the susceptor is vertically displaced by means of a lifting device and supports the shielding plate on its own surface. Fastening means are provided for implementing automated fastening of the cover plate. A similar device is described in the German patent application DE 10 2019 117 479 A1. International patent application WO 2007/060143 A1 also discloses a cover plate fixed under the gas outlet plate by means of fastening elements. Japanese patent application JP 5721132 B2 is also included in the prior art.

본 발명의 과제는, 유사한 종류의 장치 및 유사한 종류의 방법을 사용에 바람직하도록 개선하는 것이다.It is an object of the present invention to improve a device of a similar kind and a method of a similar kind to be preferred for use.

상기 과제는 청구항들에 제시된 본 발명에 의해 해결되며, 이때 종속 청구항들은 독립 청구항들에 제시된 본 발명의 바람직한 개선예들뿐만 아니라, 상기 과제의 독립적인 해결책들도 나타낸다.Said object is solved by the invention set forth in the claims, wherein the dependent claims represent not only preferred developments of the invention set forth in the independent claims, but also independent solutions to the object.

우선적으로, 그리고 실질적으로, 리프팅 요소로서 서셉터를 둘러싸는 몸체가 사용되거나, 또는 리프팅 요소로서 서셉터의 가장자리에서 상기 서셉터를 지지하는 몸체가 사용되도록 제안된다. 몸체는 단일 부품으로 이루어지거나, 또는 여러 부품으로 이루어질 수 있다. 서셉터를 둘러싸는 몸체의 경우, 폐쇄된 몸체 또는 둘레 방향으로 중단된 몸체가 고려될 수 있다. 리프팅 요소는 예를 들어 관(pipe)일 수 있다. 몸체는 둘레 방향으로 나란히 놓인 복수의 부분 몸체로 형성될 수 있고, 이와 같은 방식으로 상기 몸체는 예를 들어 원형 링(circular ring)에 상응하는 레이아웃(layout)을 가질 수 있다. 이와 같은 방식으로 몸체는 예를 들어 원형 링 형태의 레이아웃을 가질 수 있다. 그러나 몸체는, 서셉터 또는 가열 장치를 둘러싸며 서로 다른 방위각 위치들에 배치되어 있는, 수직 방향으로 연장되는 복수의 로드(rod), 칼럼(column) 등에 의해 형성될 수도 있다. 본 발명의 바람직한 하나의 설계예에서 리프팅 요소는, 예를 들어 독일 특허 출원서 DE 10 2007 027 704 A1호로부터 사전 공지되어 있는 것과 같이, 서셉터를 지지하는 지지 요소에 의해 형성될 수 있다. 지지 요소는 상부 가장자리 및 관의 형태를 가질 수 있다. 공정 위치에서 상부 가장자리 상에 서셉터가 지지 된다. 이 경우, 서셉터의 가장자리가 상부 가장자리 상에 놓인다. 커버 플레이트를 상승시킬 목적으로 이와 같은 지지 요소를 사용하기 위해, 서셉터는 사전에 적재 개구(loading opening)를 통해 CVD-반응기의 하우징 외부로 제공된다. 이를 위해, 적재 개구를 밀폐하는 게이트(gate)가 개방된다. 이를 위해, 가스 배출 부재가 자체 표면 연장 평면 내에서 이동하는 서셉터의 이동 경로 내에 놓이지 않도록, 서셉터를 둘러싸는 링형 가스 배출 부재가 하강해야 한다. 리프팅 요소는 수직 방향으로 변위 가능한 캐리어 장치(carrier device)에 고정될 수 있다. 캐리어 장치는 수직 방향으로 변위 가능할 수 있다. 더 나아가 캐리어 장치는, 공정 위치에서 서셉터를 아래에서 가열하는 가열 장치도 지지할 수 있다. 본 발명의 하나의 변형예에서 가스 배출 부재는 리프팅 요소의 기능을 수행할 수 있다. 바람직한 하나의 변형예에서 커버 플레이트의 조립이 자동으로, 그리고 특히 완전 자동으로 이루어진다. 특히, 커버 플레이트의 교체가 반자동으로, 또는 완전 자동으로 이루어진다. 본 발명의 하나의 변형예에서 커버 플레이트는, 위쪽으로 향해 있는 하우징 개구를 밀폐하는 하우징의 덮개에 고정될 수 있다. 이와 같은 덮개에 샤워 헤드의 형태를 갖는 가스 유입 부재가 고정될 수 있다. 커버 플레이트는, 가스 유입 부재의 가스 배출면에 대해 평행하게 연장되는 보호 플레이트일 수 있다. 가스 배출면은 커버 플레이트의 방향으로 통하는 복수의 가스 배출 개구를 포함할 수 있다. 가스 배출면과 가스 관통 개구들을 포함하는 커버 플레이트의 상부측 사이에는 간극이 위치할 수 있는데, 상기 간극 내에서 상기 가스 배출면으로부터 배출되는 가스가 분배될 수 있다. 커버 플레이트의 가장자리는 실링 비드(sealing bead)를 형성할 수 있는데, 상기 실링 비드는 상기 커버 플레이트의 조립 위치에서 고정 섹션, 예를 들어 고정 링(retaining ring) 등에 밀봉 방식으로 인접한다. 커버 플레이트는 고정 수단들, 예를 들어 나사, 베이어닛(bayonet) 등에 의해 고정 섹션에 고정될 수 있다. 고정 수단 또는 복수의 고정 수단은 커버 플레이트의 외부 링 구역 밖에 배치될 수도 있다. 커버 플레이트를 덮개 또는 가스 유입 부재와 연결하기 위해, 고정 수단들은 커버 플레이트의 전체 표면상에 제공될 수 있다. 고정 수단들은 커버 플레이트의 중심 가까이에 배치될 수도 있다. 이와 같은 고정 수단들은 바람직하게, 차단하지 않고, 가스 유입 부재에 대해 플레이트의 약간의 횡방향 이동을 허용하도록 설계되어 있다. 그럼으로써 서로 다른 열 팽창들이 보상될 수 있다. 본 발명의 제1 변형예에서 커버 플레이트의 교체 시, 코팅들이 형성된, 선행하는 증착 공정에서 이용된 커버 플레이트가 세척된 커버 플레이트로 교체된다. 이를 위해, 리프팅 요소는, 고정 섹션에 고정된 커버 플레이트를 지지하는 상승한 위치로 제공될 수 있다. 커버 플레이트를 고정 섹션에 고정하는 고정 수단들은, 리프팅 요소가 상기 커버 플레이트에 인접하는 이와 같은 위치에서 해제된다. 커버 플레이트는 리프팅 요소의 하강에 의해, 적재 개구로부터 내부 공간으로부터 제거될 수 있기 위해, 적재 개구를 통해 하우징의 내부 공간으로 맞물리는 그리퍼에 의해 파지될 수 있는 위치로 제공된다. 세척된 커버 플레이트는 반대의 순서로 고정 섹션에 고정된다. 본 발명의 제2 변형예에서, 커버 플레이트를 지지하는, 하우징의 개구를 밀폐하는 덮개가 상승한다. 커버 플레이트를 고정 섹션에 유지하기 위해, 상승한 위치에서 임시 고정 수단들이 사용된다. 커버 플레이트를 고정 섹션에 고정하는 나사들 또는 다른 고정 수단들은 수동으로 또는 자동으로 해제될 수 있다. 후속하여 덮개는, 커버 플레이트가 리프팅 요소에 의해 지지 되는 위치까지 하강한다. 이와 같은 위치에서 임시 고정 수단들이 해제된다. 리프팅 요소의 하강에 의해 커버 플레이트는 고정 섹션으로부터 해제되고, 그리퍼에 의해 파지될 수 있는 위치로 제공된다. 세척된 커버 플레이트는 리프팅 요소 상에 배치된다. 후자의 리프팅 요소는, 커버 플레이트가 고정 섹션에 인접하는 상승한 위치로 제공되는데, 그곳에서 상기 커버 플레이트는 임시 고정 수단들에 의해 고정된다. 덮개는, 나사들 또는 다른 고정 수단들이 조립될 수 있는 위치까지 추가 상승할 수 있다. 임시 고정 수단들은 제거된다. 덮개는 자체 폐쇄 위치로 제공될 수 있다. 임시 고정 수단들로서 C자형 클램프들(clamps)이 사용될 수 있는데, 상기 클램프들에 의해 커버 플레이트는 고정 섹션, 특히 덮개에 일시적으로 유지된다. 내부 공간 밖으로, 또는 내부 공간 안으로 커버 플레이트의 운반은, 적재 개구를 통해 맞물릴 수 있는 로봇 암(robot arm)에 의해 이루어질 수 있다. 완전 자동 조립 시 커버 플레이트는 자동으로 작동 가능한 고정 수단들에 의해 고정 섹션과 연결된다. 반자동 조립 시에는, 커버 플레이트를 고정 섹션에 일시적으로 고정하는 임시 고정 수단들, 예를 들어 C자형 클램프들이 사용된다. 이는 바람직하게 제1 개구 위치로 제공된 덮개에서 이루어지는데, 이때 커버 플레이트는 리프팅 요소에 의해 하우징 개구의 상부 가장자리 위로 제공됨으로써, 결과적으로, 임시 고정 수단들이 고정될 수 있는 상기 커버 플레이트의 가장자리에 접근 가능해진다. 그 다음에 반자동 조립 시, 아래쪽으로 향해 있는 커버 플레이트의 넓은 측면에 접근 가능해질 때까지 덮개가 추가로 상승함으로써, 그곳에, 예를 들어 나사형 요소(threaded element)일 수 있는 고정 수단들이 제공된다. 완전 자동 조립 시 이와 같은 중간 단계들은 필요하지 않다. 커버 플레이트의 조립은 폐쇄된 덮개에서 이루어질 수 있다. 고정 수단들의 고정 이후에 리프팅 요소는 하강할 수 있다. 리프팅 요소로서 공정 위치에서 서셉터를 지지하는 지지 요소가 사용되면, 상기 서셉터는 커버 플레이트의 교체 이전에 공정 챔버로부터 제거되어야 한다. 이는 공정 위치에서 제거될 서셉터의 이동 경로 내에 놓인 가스 배출 부재의 하강 이후에 이루어진다. 커버 플레이트의 교체 이후에 코팅될 기판들이 장착된 서셉터가 적재 개구를 통해 하강한 가스 배출 부재에 위로 공정 챔버 내로 제공될 수 있다. 이는, 서셉터를 지지 요소 상에 배치하는 로봇 암에 의해 이루어진다. 후속하여, 가스 배출 부재의 상부 가장자리가 커버 플레이트의 가장자리 또는 상기 커버 플레이트를 둘러싸는 하우징의 섹션에 부딪칠 때까지, 가스 배출 부재가 상승한다. 석영, 강, 특히 스테인리스 강(stainless steel) 또는 세라믹 재료(ceramic material)로 구성될 수 있는 커버 플레이트는, 커버 플레이트와 가스 유입 부재 사이의 간극 내로 공급되는 공정 가스를 관류시키기 위한 관통 개구들을 구비한다. 서셉터를 둘러싸는 리프팅 요소는 강, 특히 스테인리스 강, 석영 또는 세라믹 재료로 구성될 수 있다. 상기 리프팅 요소는, 그 공동 내에 서셉터를 가열하기 위한 가열 장치가 배치되어 있는 관형 몸체에 의해 형성될 수 있다. 가열 장치는 리프팅 요소와 함께 수직 방향으로 변위될 수 있다. 리프팅 요소는 공정 위치에서, 서셉터 아래에 배치된 공간을 공정 가스들에 대해 차폐하는 라이너(liner)의 기능도 수행할 수 있다. 그에 따라 리프팅 요소는 차폐관의 기능을 수행할 수 있다.Preferably, and in practice, it is proposed that a body surrounding the susceptor be used as a lifting element, or that a body supporting the susceptor at the edge of the susceptor is used as a lifting element. The body may consist of a single part, or it may consist of several parts. For the body surrounding the susceptor, a closed body or a circumferentially interrupted body can be considered. The lifting element may be, for example, a pipe. The body can be formed from a plurality of partial bodies placed side by side in the circumferential direction, and in this way the body can have a layout corresponding to, for example, a circular ring. In this way the body can have a layout, for example in the form of a circular ring. However, the body may be formed by a plurality of vertically extending rods, columns, etc., which surround the susceptor or heating device and are disposed at different azimuthal positions. In one preferred design of the invention, the lifting element can be formed by a support element supporting the susceptor, as is known, for example, from the German patent application DE 10 2007 027 704 A1. The support element may have the form of an upper edge and a tube. A susceptor is supported on the upper edge in the process position. In this case, the edge of the susceptor rests on the top edge. In order to use such a support element for the purpose of raising the cover plate, a susceptor is previously provided outside the housing of the CVD-reactor through a loading opening. For this purpose, a gate closing the loading opening is opened. To this end, the ring-shaped gas evacuation member surrounding the susceptor must be lowered so that the gas evacuation member does not lie in the travel path of the susceptor moving in its own surface extension plane. The lifting element may be fixed to a carrier device which is displaceable in the vertical direction. The carrier device may be displaceable in a vertical direction. Furthermore, the carrier device can also support a heating device that heats the susceptor from below in the process position. In one variant of the invention, the gas evacuation member can perform the function of a lifting element. In one preferred variant, the assembly of the cover plate is automatic, and in particular fully automatic. In particular, the replacement of the cover plate is made semi-automatically or fully automatically. In one variant of the invention, the cover plate can be fixed to a cover of the housing which closes the housing opening facing upwards. A gas inlet member having the shape of a shower head may be fixed to such a cover. The cover plate may be a protective plate extending parallel to the gas discharge surface of the gas inlet member. The outgassing surface may include a plurality of outgassing openings leading in the direction of the cover plate. A gap may be located between the gas outlet surface and the upper side of the cover plate including the gas through openings, in which the gas discharged from the gas outlet surface may be distributed. The edge of the cover plate may form a sealing bead, which sealingly adjoins a fixing section, for example a retaining ring or the like, in the assembly position of the cover plate. The cover plate can be fixed to the fastening section by fastening means, for example screws, bayonets or the like. The fixing means or a plurality of fixing means may be arranged outside the outer ring region of the cover plate. In order to connect the cover plate with the cover or gas inlet member, fastening means may be provided on the entire surface of the cover plate. The fixing means may be arranged near the center of the cover plate. Such fastening means are preferably designed to permit a slight lateral movement of the plate relative to the gas inlet member without blocking. Different thermal expansions can thereby be compensated for. Upon replacement of the cover plate in the first variant of the invention, the cover plate used in the preceding deposition process, on which the coatings have been formed, is replaced with a cleaned cover plate. To this end, the lifting element may be provided in an elevated position supporting a cover plate fixed to the fixing section. The fixing means for fixing the cover plate to the fixing section are released in such a position where the lifting element abuts the cover plate. The cover plate is provided in a position where it can be gripped by a gripper which engages through the loading opening into the interior space of the housing so that it can be removed from the interior space from the loading opening by lowering of the lifting element. The cleaned cover plate is fixed to the fixing section in the reverse order. In a second variant of the present invention, a cover, which supports the cover plate, and closes the opening of the housing, is raised. Temporary fastening means are used in the raised position to hold the cover plate in the fastening section. The screws or other fastening means securing the cover plate to the fastening section may be released manually or automatically. Subsequently, the cover is lowered to a position where the cover plate is supported by the lifting element. In this position, the temporary fixing means are released. The lowering of the lifting element releases the cover plate from the fixed section and is provided in a position where it can be gripped by the gripper. The cleaned cover plate is placed on the lifting element. The latter lifting element is provided in an elevated position in which the cover plate is adjacent to the fixing section, in which the cover plate is fixed by means of temporary fixing means. The cover may further rise to a position where screws or other fastening means may be assembled. Temporary fixing means are removed. The lid may be provided in a self-closing position. As temporary fixing means C-clamps can be used, by means of which the cover plate is temporarily held in the fixing section, in particular the cover. Transport of the cover plate out of or into the interior space may be effected by a robot arm engageable through a loading opening. In fully automatic assembly, the cover plate is connected to the fixing section by means of automatically actuable fixing means. In semi-automatic assembly, temporary fixing means for temporarily fixing the cover plate to the fixing section are used, for example C-clamps. This preferably takes place in the cover provided in the first opening position, wherein the cover plate is provided over the upper edge of the housing opening by means of a lifting element, so that the edge of the cover plate, on which temporary fastening means can be fastened, is accessible as a result. becomes Then, in semi-automatic assembly, the cover is raised further until it becomes accessible on the wide side of the cover plate facing downwards, whereby fastening means, which can for example be threaded elements, are provided. In fully automatic assembly, these intermediate steps are not necessary. Assembly of the cover plate can take place in a closed lid. After fastening of the fastening means, the lifting element can be lowered. If a support element supporting the susceptor in the process position is used as a lifting element, the susceptor must be removed from the process chamber prior to replacement of the cover plate. This is done after the lowering of the gas evacuation member placed in the travel path of the susceptor to be removed from the process position. After replacement of the cover plate, a susceptor on which the substrates to be coated are mounted may be provided into the process chamber above the lowered gas exhaust member through the loading opening. This is done by a robotic arm that places the susceptor on the support element. Subsequently, the gas exhaust member is raised until the upper edge of the gas exhaust member hits the edge of the cover plate or a section of the housing surrounding the cover plate. The cover plate, which may be made of quartz, steel, in particular stainless steel or ceramic material, has through openings for passing process gas into the gap between the cover plate and the gas inlet member. . The lifting element surrounding the susceptor may consist of steel, in particular stainless steel, quartz or ceramic material. The lifting element may be formed by a tubular body in which a heating device for heating the susceptor is arranged in its cavity. The heating device can be displaced in the vertical direction together with the lifting element. The lifting element may also perform the function of a liner in the process position to shield the space disposed under the susceptor against process gases. The lifting element can thus perform the function of a shield tube.

본 발명은 추가로 커버 플레이트의 개선예에 관한 것이다. 커버 플레이트는 자체 가장자리 가까이에 가스 유입 부재 또는 가스 배출 플레이트를 향해 있는 링 비드(ring bead)를 구비한다. 이와 같은 링 비드는 가스 배출 플레이트와 커버 플레이트 사이의 간극을 규정한다. 링 비드는 바람직하게 가스 유입 부재의 평면 하부측 또는 상기 가스 유입 부재에 의해 형성된 가스 배출 플레이트의 평면 하부측에 밀봉 방식으로 인접한다. 가스 배출 플레이트는 비드의 영역 내에서 경사진 가장자리면을 가질 수 있다. 이와 같은 경사진 가장자리면의 영역 내에서 비드가 연장된다. 비드는 간극 내로 공급된 공정 가스의 측면 배출을 방지한다.The invention further relates to an improvement of the cover plate. The cover plate has a ring bead facing the gas inlet member or gas outlet plate near its edge. This ring bead defines a gap between the gas exhaust plate and the cover plate. The ring bead preferably adjoins in a sealing manner to the planar underside of the gas inlet member or to the planar underside of the gas outlet plate formed by the gas inlet member. The outgassing plate may have a beveled edge surface within the area of the bead. The bead extends within the region of this beveled edge face. The bead prevents side venting of the process gas fed into the gap.

본 발명의 또 다른 하나의 양상은 하우징의 덮개의 개선예에 관한 것이다. 가스 유입 부재는 하우징 덮개의 통합된 구성 부품이다. 이를 위해, 하우징 덮개는, 상기 덮개의 덮개 플레이트에 재료 일치하도록 성형되어 있는 링 웹(ring web)을 형성한다. 링 웹은, 덮개가 설치된 상태에서 하우징의 벽의 내면에 인접하는, 반경 방향으로 외부로 향해 있는 벽을 구비한다. 또한, 링 웹은, 가스 유입 부재의 외부 가장자리 섹션(outer edge section)이 인접하는, 반경 방향으로 내부로 향해 있는 표면을 갖는다. 가스 유입 부재는 바람직하게 링 웹에 의해 둘러싸이고 상기 링 웹에 의해 감싸인다.Another aspect of the present invention relates to an improvement of the cover of the housing. The gas inlet member is an integral component of the housing cover. To this end, the housing cover forms a ring web which is molded into material conformance to the cover plate of the cover. The ring web has a radially outward facing wall adjacent the inner surface of the wall of the housing with the cover installed. The ring web also has a radially inwardly facing surface to which an outer edge section of the gas inlet member abuts. The gas inlet member is preferably surrounded by and surrounded by a ring web.

본 발명의 실시예들은 다음에서 첨부된 도면들에 의해 설명된다.
도 1은, 공정 챔버(23)가 아래쪽에서 서셉터(5)에 의해 제한되고 위쪽에서 커버 플레이트(6)에 의해 제한되며, 이때 상기 공정 챔버(23)는 가스 배출 부재(3)에 의해 둘러싸인, 공정 위치에서 CVD-반응기를 횡단면도로 보여주고,
도 1a는 섹션 Ⅰa를 확대하여 보여주며,
도 2는 도 1에 따른 도면을, 가스 배출 부재(3)가 하강한 상태에서 보여주고,
도 3은 도 2에 따른 도면을, 서셉터(5)가 적재 개구(18)를 통해 제거되는 상태에서 보여주며,
도 4는 도 3에 따른 도면을, 덮개(2)가 하우징(1)의 개구(24)의 가장자리(24’)의 대략 20 내지 30㎜ 위에 위치하는, 제1 개방 위치에 제공된 상태에서 보여주는데, 이때 상기 덮개(2)에 커버 플레이트(6)를 일시적으로 고정하기 위한 임시 고정 수단들(19)이 배치되며,
도 5는 도 4에 따른 도면을, 덮개(2)가 제2 개방 위치에 제공된 상태에서 보여주고,
도 6은 도 5에 따른 도면을 보여주는데, 이때 커버 플레이트(6)를 덮개(2)에 고정하는 나사형 요소들(20)이 해제되어 있고, 상기 커버 플레이트(6)는 단지 임시 고정 수단들(19)에 의해서만 상기 덮개(2)에 유지되며,
도 7은 도 6에 따른 도면을 보여주는데, 이때 단지 임시 고정 수단들(19)에 의해서만 덮개(2)에 유지되어 있는 커버 플레이트(6)는 제1 개방 위치로 제공되고, 이때 리프팅 요소(11)의 상부 가장자리는 상기 커버 플레이트(6)를 지지하며,
도 8은 도 7에 따른 도면을 보여주는데, 이때 임시 고정 수단들(19)이 제거됨으로써, 결과적으로 커버 플레이트(6)는 단지 리프팅 요소(11)에 의해서만 지지가 되고,
도 9는, 커버 플레이트(6)가 덮개(2)로부터 해제되고 그리퍼 암(gripper arm)에 의해 적재 개구(18)를 통해 제거될 수 있는 위치로 리프팅 요소(11)가 하강한 이후에 도 8에 따른 도면을 보여주며,
도 10은, 실질적으로 반대의 순서로 덮개(2)에 고정되는 세척된 커버 플레이트가 내부 공간(22)으로 제공되기 이전에, 내부 공간(22)이 서셉터도 포함하지 않고 커버 플레이트(6)도 포함하지 않는, 도 9에 따른 도면을 보여주고,
도 11은, 가스 배출 부재(3)가 리프팅 요소의 기능을 수행하는, 제2 실시예의 도 1a에 따른 도면을 보여준다.
Embodiments of the present invention are illustrated in the following by the accompanying drawings.
1 shows that the process chamber 23 is bounded by a susceptor 5 from the bottom and a cover plate 6 from the top, wherein the process chamber 23 is surrounded by a gas outlet member 3 . , showing the CVD-reactor in cross-section in the process position,
Figure 1a shows an enlarged view of section Ia;
2 shows the view according to FIG. 1 in a state in which the gas discharge member 3 is lowered,
3 shows the view according to FIG. 2 with the susceptor 5 removed through the loading opening 18 ,
FIG. 4 shows the view according to FIG. 3 with the lid 2 provided in the first open position, positioned approximately 20 to 30 mm above the edge 24' of the opening 24 of the housing 1 , Temporary fixing means (19) for temporarily fixing the cover plate (6) to the cover (2) are then arranged,
5 shows the view according to FIG. 4 with the lid 2 provided in the second open position,
FIG. 6 shows a view according to FIG. 5 , wherein the threaded elements 20 securing the cover plate 6 to the cover 2 are released, said cover plate 6 only having temporary fastening means ( 19) held on the cover (2) only by
7 shows the view according to FIG. 6 , wherein the cover plate 6 , which is held in the lid 2 only by means of temporary fastening means 19 , is provided in a first open position, with the lifting element 11 . the upper edge of which supports the cover plate (6),
8 shows a view according to FIG. 7 , wherein the temporary fastening means 19 are removed, so that the cover plate 6 is supported only by the lifting element 11 ,
Fig. 9 shows Fig. 8 after the lifting element 11 has been lowered into a position in which the cover plate 6 can be released from the lid 2 and removed through the loading opening 18 by means of a gripper arm. shows a drawing according to
FIG. 10 shows that the interior space 22 also contains no susceptors and the cover plate 6 before the cleaned cover plate fixed to the lid 2 is provided to the interior space 22 in a substantially reverse order. shows the drawing according to FIG. 9 , not including
FIG. 11 shows a view according to FIG. 1a of a second embodiment, in which the gas outlet element 3 performs the function of a lifting element.

도 1은 CVD-반응기의 횡단면도로 상기 CVD-반응기의 주요 구성 부품들을 개략적으로 보여준다. 상기 CVD-반응기는, 위로 향해 있는 개구(24)를 포함하는 기밀성 하우징(1)을 구비한다. 도 1에 도시된 공정 위치에서 상기 개구(24)는 덮개(2)에 의해 밀폐되어 있다. 상기 덮개(2)는 샤워 헤드 형태의 가스 유입 부재(4)를 지지한다. 상기 가스 유입 부재(4)는, 아래쪽에서 가스 배출 플레이트(21)에 의해 제한되어 있는 가스 분배 볼륨을 구비하는데, 상기 가스 배출 플레이트의 하부측은 가스 배출면을 형성한다. 상기 가스 배출 플레이트(21)는, 가스를 가스 분배 챔버(17)로부터 간극(15) 내로 배출시킬 수 있는 복수의 가스 배출 개구(17)를 포함한다. 상기 간극(15)은 상기 가스 배출 플레이트(21)와 커버 플레이트(6) 사이에서 연장되는데, 상기 커버 플레이트(6)는 상기 가스 유입 부재(4) 아래에 배치되어 있다. 실질적으로 원형 디스크 형태의 상기 커버 플레이트(6)의 가장자리는, 상기 가스 배출 플레이트(21)의 가장자리 섹션에 지지 되는 비드(14)를 구비하고, 이때 상기 비드(14)의 높이는 상기 간극(15)의 높이를 규정한다. 그러나 간극을 규정하기 위해, 도면들에는 도시되어 있지 않고 비드(14)에 의해 둘러싸인 표면의 내부에 배치되어 있는 또 다른 스페이서 요소들(spacer elements)이 제공될 수도 있다. 상기 유형의 스페이서 요소들에 의해 열 변형들이 보상될 수 있다. 상기 간극(15)의 높이는 다른 스페이서 요소들에 의해 추가로 제한될 수도 있다. 상기 커버 플레이트(6)는 복수의 가스 관통 개구(16)를 구비하고, 상기 가스 관통 개구들을 통해 상기 간극(15) 내로 유입된 가스가 상기 커버 플레이트(6) 아래에 배치된 공정 챔버(23) 내로 유동할 수 있다. 상기 커버 플레이트(6)가 상기 공정 챔버(23)를 위쪽에서 제한하는 반면, 서셉터(5)는 상기 공정 챔버(23)를 아래쪽에서 제한한다.1 is a cross-sectional view of a CVD-reactor schematically showing the main components of the CVD-reactor. The CVD-reactor has an airtight housing ( 1 ) comprising an opening ( 24 ) facing upwards. In the process position shown in FIG. 1 , the opening 24 is closed by a lid 2 . The cover 2 supports a gas inlet member 4 in the form of a shower head. The gas inlet member 4 has a gas distribution volume defined at the bottom by a gas outlet plate 21 , the lower side of which forms a gas outlet surface. The gas exhaust plate 21 includes a plurality of gas exhaust openings 17 through which gas can be exhausted from the gas distribution chamber 17 into the gap 15 . The gap 15 extends between the gas outlet plate 21 and a cover plate 6 , which is arranged under the gas inlet member 4 . The edge of the cover plate 6 in the form of a substantially circular disk has a bead 14 supported on the edge section of the gas outlet plate 21, the height of the bead 14 being the gap 15 . define the height of However, to define the gap, further spacer elements, not shown in the figures, may be provided which are arranged on the inside of the surface surrounded by the bead 14 . Thermal deformations can be compensated for by spacer elements of this type. The height of the gap 15 may be further limited by other spacer elements. The cover plate 6 has a plurality of gas through openings 16 , and a process chamber 23 in which gas introduced into the gap 15 through the gas through openings is disposed under the cover plate 6 . can flow in. The cover plate 6 limits the process chamber 23 from above, while the susceptor 5 limits the process chamber 23 from the bottom.

상기 커버 플레이트(6)의 가장자리는, 둘레를 둘러싸는 상기 비드(14)가 배치되어 있는 영역 내에서 중앙 영역 내에서보다 더 작은 재료 두께를 가질 수 있고, 이때 상기 재료 두께는 바람직하게 상부측에서 감소함으로써, 결과적으로 상기 가스 유입 부재 쪽으로 외부로 확대되는 간극이 주어질 수 있다. 상기 재료 두께는 상기 상부측에서 감소할 수도 있음으로써, 결과적으로 상기 가스 유입 부재 쪽으로 외부로 확대되는 간극이 주어진다.The edge of the cover plate 6 may have a smaller material thickness in the area around which the bead 14 is arranged than in the central area, wherein the material thickness is preferably at the upper side. By reducing, a gap can be given which consequently expands outwardly towards the gas inlet member. The material thickness may decrease on the upper side, resulting in a gap that expands outwardly towards the gas inlet member.

상기 서셉터(5)의 가장자리는, 본 실시예에서 관의 형태를 가질 수 있는 지지 요소 상에 놓인다. 상기 지지 요소는 특히 보호관(11)에 의해 형성될 수 있다. 상기 보호관(11)은, 상기 서셉터(5) 아래에 위치하고 가열 장치(7)에 전류를 공급하기 위한 지지체 플레이트(12)를 포함하는 가열 장치(7)를 구비한 어레인지먼트를 둘러싼다. 리프팅 장치(10)에 의해 상기 지지 요소, 다시 말해 특히 상기 보호관(11) 및 상기 가열 장치(7)는 상승할 수 있다. 본 발명의 하나의 변형예에서 서셉터의 가장자리를 지지하는 관(11)은 지지관의 기능을 갖는다. 상기 관(11)은 상기 서셉터(5)의 캐리어를 형성한다.The edge of the susceptor 5 rests on a support element, which in this embodiment may have the form of a tube. Said support element can in particular be formed by a protective tube 11 . The sheath (11) encloses an arrangement with a heating device (7) located below the susceptor (5) and comprising a support plate (12) for supplying an electric current to the heating device (7). The lifting device 10 allows the support element, ie in particular the sheath 11 and the heating device 7 , to rise. In one variant of the present invention, the tube 11 supporting the edge of the susceptor has the function of a support tube. The tube 11 forms the carrier of the susceptor 5 .

공정 챔버는 링형 가스 배출 부재(3)에 의해 둘러싸인다. 또 다른 하나의 리프팅 장치에 의해 가스 배출 부재(3)는, 상기 가스 배출 부재가 적재 개구(18) 앞에 배치되어 있는 도 1에 도시된 공정 위치에서, 상기 적재 개구(18)가 개방되어 있는 위치로 하강한다. 도 2에 도시된 이와 같은 위치에서 서셉터(5)는 적재 개구(18)를 통해 하우징의 내부 공간(22)으로 맞물리는 그리퍼에 의해 파지될 수 있으며, 다른 서셉터(5)로 교체되기 위해, 도 3에 도시된 것처럼, 상기 적재 개구(18)를 통해 상기 하우징(1)으로부터 제거될 수 있다. 도면 부호 9에 의해 표시된 요소는 가스 배출관을 형성하는데, 상기 가스 배출관에 의해 가스 배출 부재(3) 내에 수집되는 가스가 외부로 운반될 수 있다. 그러나 도면들에서 도면 부호 9에 의해 표시된 요소는, 가스 배출 부재(3)를 하강 및 상승시키는 또 다른 리프팅 장치를 나타낼 수도 있다.The process chamber is surrounded by a ring-shaped gas exhaust member 3 . By means of another lifting device, the gas evacuation member 3 is moved in the process position shown in FIG. 1 in which the gas evacuation member is arranged in front of the loading opening 18 , in the position in which the loading opening 18 is open. descend to In this position, shown in FIG. 2 , the susceptor 5 can be gripped by a gripper that engages through the loading opening 18 into the interior space 22 of the housing, to be replaced with another susceptor 5 . , can be removed from the housing 1 through the loading opening 18 , as shown in FIG. 3 . The element indicated by reference numeral 9 forms a gas discharge pipe, by which the gas collected in the gas discharge member 3 can be conveyed to the outside. However, the element indicated by reference numeral 9 in the drawings may represent another lifting device for lowering and raising the gas discharge member 3 .

예를 들어 도입부에 언급된 선행기술에서 제안되는 것처럼, 커버 플레이트를 덮개(2) 또는 가스 유입 부재(4)에 유지하는 고정 수단들이 자동으로 해제될 수 있도록, 상기 커버 플레이트(6)를 지지하기 위해, 커버 플레이트(6)의 완전 자동화된 교체 시, 본 실시예에서 보호관에 의해 형성되는, 상기 커버 플레이트(6)의 가장자리 영역에 아래에서 맞물리는 리프팅 요소(11)가 위로 이동한다. 후속하여 상기 커버 플레이트(6)는 상기 리프팅 요소(11)의 하강에 의해, 적재 개구(18)를 통해 내부 공간(22)으로 맞물리는 그리퍼 암에 의해 상기 내부 공간(22)으로부터 제거될 수 있는 제거 위치로 제공된다. 덮개(2) 또는 가스 유입 부재(4)에 교체된 커버 플레이트(6)를 고정하는 것은 반대의 순서로 이루어진다. 상기 커버 플레이트(6)는 리프팅 요소(11) 상에 배치된다. 상기 리프팅 요소(11)는 상기 커버 플레이트(6) 또는 비드(14)가 상기 가스 유입 부재(4) 또는 상기 덮개(2)에 인접할 때까지 상승한다. 후속하여 고정 수단들이 고정 위치로 제공된다. 상기 커버 플레이트(6)를 센터링된(centered) 위치로 제공할 수 있는 추가 센터링 수단들(centring means)이 제공될 수 있다. 그러나 상기 센터링 수단들은 고정 수단들에 의해 형성될 수도 있다.Supporting the cover plate 6 , such that the fixing means holding the cover plate on the cover 2 or on the gas inlet member 4 can be automatically released, for example as suggested in the prior art mentioned in the introduction. For this purpose, upon fully automated replacement of the cover plate 6 , the lifting element 11 , which in the present embodiment is formed by a sheath, engages in the edge region of the cover plate 6 from below, moves upward. The cover plate 6 can subsequently be removed from the interior space 22 by lowering of the lifting element 11 by means of a gripper arm engaging into the interior space 22 through the loading opening 18 . A removal position is provided. Fixing the replaced cover plate 6 to the cover 2 or the gas inlet member 4 is performed in the reverse order. The cover plate 6 is arranged on the lifting element 11 . The lifting element 11 rises until the cover plate 6 or bead 14 abuts the gas inlet member 4 or the cover 2 . The fixing means are subsequently provided in the fixing position. Additional centering means can be provided which can provide the cover plate 6 in a centered position. However, the centering means may also be formed by fixing means.

커버 플레이트(6)를 반자동으로 교체하기 위해, 덮개(2)는, 특히 리프팅 요소(11)에 의해 개구 가장자리(24’)의 대략 10 내지 30㎜ 위에 배치되도록, 도 4에 도시된 제1 개방 위치로 상승한다. 이와 같은 제1 개방 위치에서 C자형 클램프들(19)이 나사들(20)에 의해(도 6 참조) 상기 덮개(2)의 고정 섹션(21)에 고정된 커버 플레이트(6)에 제공된다. 후속하여 덮개(2)는 도 5에 도시된 제2 개방 위치로 제공된다. 이에 대해 대안적으로 덮개(2)는 바로 도 5에 도시된 개방 위치로 제공될 수도 있음으로써, 그곳에서 C자형 클램프들(19)에 의해 형성된 임시 고정 수단들이 고정된다.In order to semi-automatically replace the cover plate 6 , the cover 2 is placed in the first opening shown in FIG. 4 , in particular by means of a lifting element 11 , approximately 10 to 30 mm above the opening edge 24 ′. rise to position In this first open position C-shaped clamps 19 are provided on the cover plate 6 fixed to the fixing section 21 of the cover 2 by means of screws 20 (see FIG. 6 ). The lid 2 is subsequently provided in the second open position shown in FIG. 5 . Alternatively to this, the lid 2 may be provided directly in the open position shown in FIG. 5 , in which the temporary fixing means formed by the C-clamps 19 are fixed.

도 6은, 커버 플레이트(6)를 영구적으로 덮개(2)에 고정하는 위에 언급된 나사들(20)이 어떻게 제2 개방 위치에서 해제되는지 보여준다. 상기 덮개(2)는 단지 클램프들(19)에 의해서만 유지된 커버 플레이트(6)와 함께 제1 개방 위치로 하강한다. 본 실시예에서 리프팅 요소의 기능을 갖는 보호관(11)이 사전에, 상기 리프팅 요소(11)의 상부 가장자리가 상기 커버 플레이트(6)를 지지하는 상승한 조립 위치로 제공된다. 클램프들(19)은 제거됨으로써, 커버 플레이트(6)가 단지 리프팅 요소(11)에 의해서만 지지 되는 도 8에 도시된 작동 위치가 달성된다. 이와 같은 위치에서 덮개(2)는 도면에 도시되지 않은 또 다른 고정 수단들에 의해 유지될 수 있다.FIG. 6 shows how the above-mentioned screws 20 securing the cover plate 6 permanently to the cover 2 are released in the second open position. The cover 2 is lowered into the first open position with the cover plate 6 held only by clamps 19 . In this embodiment, a protective tube 11 having the function of a lifting element is provided in advance, in an elevated assembly position in which the upper edge of the lifting element 11 supports the cover plate 6 . The clamps 19 are removed, whereby the operating position shown in FIG. 8 is achieved in which the cover plate 6 is supported only by the lifting element 11 . In this position, the lid 2 may be held by other fixing means not shown in the drawings.

리프팅 요소(11)의 하강에 의해, 적재 개구(18)가 위치하는 평면 내에 커버 플레이트(6)가 놓이는 도 9에 도시된 작동 위치가 달성됨으로써, 결과적으로 상기 커버 플레이트(6)는 도면에 도시되지 않은 그리퍼 암에 의해 자체 연장 평면 내에서 변위되어 상기 적재 개구(18)를 통해 내부 공간(22)으로부터 제거될 수 있다.The lowering of the lifting element 11 achieves the operating position shown in FIG. 9 in which the cover plate 6 lies in the plane in which the loading opening 18 is located, whereby the cover plate 6 is consequently shown in the figure It can be displaced in its own extending plane by a non-removable gripper arm and removed from the interior space 22 through the loading opening 18 .

실질적으로 반대의 순서로 세척된 커버 플레이트(6)가 덮개(2)에 고정된다. 이를 위해, 커버 플레이트(6)는, 예컨대 도 10에 따른 작동 위치를 갖는 하우징(1)의 내부 공간(22)으로 제공된다. 커버 플레이트(6)는 도 9에 따라 리프팅 요소(11) 상에 놓인다. 리프팅 요소(11)는, 커버 플레이트(6)가 가스 유입 부재(4) 또는 덮개(2)에 인접하는 도 8에 도시된 제1 개방 위치로 상승한다. 커버 플레이트(6)를 덮개(2)에 유지하는 도 7에 도시된 임시 고정 수단들(19)이 제공된다. 이 경우, 경우에 따라 필요한 센터링이 실시될 수 있다. 덮개(2)는, 커버 플레이트(6)를 영구적으로 상기 덮개(2)에 고정하는 나사들(20) 또는 다른 고정 수단들이 제공되는 도 6에 도시된 제2 개방 위치로 상승한다. 이에 대해 대안적으로 커버 플레이트(6)의 센터링은 영구적인 고정 수단들(20)에 의해서도 이루어질 수 있다.The cover plate 6 washed in substantially the reverse order is fixed to the cover 2 . For this purpose, a cover plate 6 is provided, for example, into the interior space 22 of the housing 1 having an operating position according to FIG. 10 . The cover plate 6 rests on the lifting element 11 according to FIG. 9 . The lifting element 11 rises to the first open position shown in FIG. 8 , in which the cover plate 6 adjoins the gas inlet member 4 or the lid 2 . Temporary fastening means 19 shown in FIG. 7 are provided for holding the cover plate 6 to the lid 2 . In this case, the necessary centering may be carried out in some cases. The lid 2 is raised to the second open position shown in FIG. 6 , where screws 20 or other fixing means are provided for permanently fixing the cover plate 6 to the lid 2 . Alternatively to this, the centering of the cover plate 6 can also be achieved by means of permanent fastening means 20 .

클램프들(19)은 제거될 수 있다. 그러나 덮개(2)를 사전에 도 4에 도시된 위치로 하강시키고, 이와 같은 위치에서 클램프들(19)을 제거하는 것도 가능하다. 후속하여 덮개(2)는 도 3에 도시된 폐쇄 위치로 하강한다. 리프팅 요소(11)는 하강한 위치로 제공된다. 이와 같은 위치에서 새로운 서셉터(5)가 적재 개구(18)를 통해 내부 공간(22)으로 제공될 수 있으며, 그곳에서 상기 서셉터는 리프팅 요소(11) 상에 설치된다.The clamps 19 can be removed. However, it is also possible to lower the lid 2 in advance to the position shown in FIG. 4 and remove the clamps 19 in this position. Subsequently the lid 2 is lowered to the closed position shown in FIG. 3 . The lifting element 11 is provided in a lowered position. In this position a new susceptor 5 can be provided via the loading opening 18 into the interior space 22 , where the susceptor is installed on the lifting element 11 .

도 11은 도 1a에 따른 도면에서, 커버 플레이트(6)의 가장자리가 링형 가스 배출 부재(3)의 상부 섹션에 의해 지지 될 수 있는 본 발명의 하나의 변형예를 보여준다. 이와 같은 변형예에서 가스 배출 부재(3)는 도 2에 도시된 하강한 위치로 하강할 수 있다. 더 나아가 상기 가스 배출 부재(3)는 도 1에 도시된 공정 위치로부터, 상기 가스 배출 부재가 가장자리(24’) 위로 돌출하는 도면에 도시되지 않은 상승한 위치로 제공될 수도 있음으로써, 이와 같은 방식으로 커버 플레이트(6)가 상승한 위치로 제공된다.FIG. 11 shows one variant of the invention in which the edge of the cover plate 6 can be supported by an upper section of a ring-shaped gas discharge element 3 in the view according to FIG. 1a . In this modified example, the gas discharging member 3 may be lowered to the lowered position shown in FIG. 2 . Furthermore, the gas evacuation member 3 may be provided from the process position shown in FIG. 1 to an elevated position not shown in the figure in which the gas evacuation member protrudes above the edge 24', in this way The cover plate 6 is provided in an elevated position.

도 1 및 도 1a는, 금속으로 구성된 덮개 플레이트에 재료 일치하도록 성형되어 있는, 덮개의 하부측에 의해 형성된 링 웹(25)을 보여준다. 이와 같은 링 웹(25)은, 하우징(1)의 벽의 표면에 인접하는 반경 방향으로 외부로 향해 있는 표면을 갖는다. 덮개가 폐쇄된 경우, 상기 링 웹(25)은 개구(24) 내로 돌출한다.1 and 1A show a ring web 25 formed by the underside of the cover, which is shaped to conform in material to a cover plate made of metal. Such a ring web 25 has a radially outward facing surface adjacent to the surface of the wall of the housing 1 . When the lid is closed, the ring web 25 projects into the opening 24 .

상기 링 웹(25)은 가스 유입 부재(4)를 둘러싼다. 상기 링 웹(25)은, 그 내부에 상기 덮개(2)의 하부측에 접촉하며 고정된 상기 가스 유입 부재(4)가 놓인 원형 수용 챔버를 형성한다. 바람직하게 가스 배출 플레이트(21)와 재료 일치하도록 형성되어 있는 상기 가스 유입 부재(4)의 외부 가장자리 섹션(26)은, 상기 링 웹(25)의 반경 방향으로 내부로 향해 있는 벽에 인접하는 반경 방향으로 외부로 향해 있는 벽을 구비한다. 상기 링 웹(25)의 높이는 바람직하게 상기 가스 유입 부재(4)의 높이에 상응함으로써, 결과적으로 공정 챔버(23) 쪽으로 향해 있는 상기 가스 유입 부재(4)의 표면은 축 방향으로 향해 있는 상기 링 웹(25)의 표면과 동일 평면상에 있다.The ring web 25 surrounds the gas inlet member 4 . The ring web 25 forms a circular receiving chamber in which the gas inlet member 4 fixed and in contact with the lower side of the cover 2 is placed. The outer edge section 26 of the gas inlet member 4 , which is preferably formed in material conformance with the gas outlet plate 21 , has a radius adjacent the radially inwardly facing wall of the ring web 25 . and a wall facing outward in the direction. The height of the ring web 25 preferably corresponds to the height of the gas inlet element 4 , so that the surface of the gas inlet element 4 facing towards the process chamber 23 is axially oriented. It is flush with the surface of the web 25 .

도 1a는, 가스 유입 부재(4) 쪽으로 향해 있는 커버 플레이트(6)의 표면이 가장자리 영역 내에서 비스듬히 진행함으로써, 결과적으로 상기 커버 플레이트(6)의 재료 두께가 가장자리측에서 쐐기형(wedge-shaped)으로 감소한다는 사실을 보여준다. 이와 같은 영역 내에서, 가스 유입 부재(4) 또는 가스 배출 플레이트(21)에 접촉하며 인접하는 위에서 이미 기술된 비드(14)가 연장된다. 본 실시예에서는 원형으로 진행하는 비드(14)가 외부 가장자리 섹션(26)에 인접한다. 상기 비드(14)에 의해, 가스 배출 개구들(17)을 통해 간극(15) 내로 유입되는 공정 가스가 측면에서 상기 간극(15)으로부터 배출되는 상황이 방지된다.1A shows that the surface of the cover plate 6 facing towards the gas inlet member 4 runs obliquely in the edge region, so that the material thickness of the cover plate 6 is wedge-shaped on the edge side as a result. ) shows that it decreases. Within this region, the bead 14 described above, which is adjacent and abuts against the gas inlet member 4 or the gas outlet plate 21 , extends. In this embodiment, a bead 14 running in a circle abuts the outer edge section 26 . The bead 14 prevents a situation in which the process gas entering the gap 15 through the gas outlet openings 17 is discharged from the gap 15 at the side.

전술된 실시예들은 본 출원서에 의해 전체적으로 기술된 발명들을 설명하기 위해 이용되는데, 상기 발명들은 적어도 다음 특징 조합들에 의해 선행기술을 각각 독립적으로도 개선하며, 이때 2개, 복수의, 또는 모든 이와 같은 특징 조합들은 서로 조합될 수도 있다:The foregoing embodiments are used to illustrate the inventions fully described by this application, each independently improving upon the prior art by at least the following feature combinations, wherein two, a plurality, or all of them The same feature combinations may be combined with each other:

리프팅 요소(11)는, 서셉터(5)를 둘러싸거나, 또는 상기 서셉터의 가장자리에서 지지하는 하나 또는 복수의 몸체에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기.A CVD-reactor, characterized in that the lifting element (11) is formed by one or a plurality of bodies surrounding the susceptor (5) or supporting it at the edge of the susceptor (5).

리프팅 요소(11)는, 서셉터(5)를 둘러싸거나, 또는 상기 서셉터의 가장자리에서 지지하는 하나 또는 복수의 몸체에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 방법.Method, characterized in that the lifting element (11) is formed by one or a plurality of bodies surrounding the susceptor (5) or supporting it at the edge of the susceptor (5).

리프팅 요소(11)는 서셉터(5)를 지지하는 지지 요소 또는 상기 서셉터(5)를 둘러싸는 가스 배출 부재(3)인 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.A CVD-reactor or method, characterized in that the lifting element (11) is a support element supporting the susceptor (5) or a gas evacuation element (3) surrounding the susceptor (5).

리프팅 요소(11)는 원형 링 형태의 레이아웃을 갖고, 그리고/또는 상기 리프팅 요소(11)는 관의 형태를 갖는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.A CVD-reactor or method, characterized in that the lifting element (11) has a layout in the form of a circular ring, and/or the lifting element (11) has the form of a tube.

고정 섹션(21)은 하우징(1)의 상부 개구(24)를 밀폐하는 덮개(2)에 의해 형성되어 있고, 리프팅 요소(11)는, 적어도 상기 리프팅 요소(11)의 상부 섹션이 상기 개구(24)의 가장자리(24’) 위로 외부로 돌출하는 위치까지 상승 가능한 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.The fixing section 21 is formed by a cover 2 sealing the upper opening 24 of the housing 1 , the lifting element 11 being such that at least the upper section of the lifting element 11 has the opening ( 24) CVD-reactor or method, characterized in that it is liftable to a position which projects outwardly above the edge (24') of the CVD-reactor.

커버 플레이트(6)는 임시적인 그리고/또는 영구적인 고정 수단들(19, 20)에 의해 고정 섹션(21)에 고정 가능하거나, 또는 고정되고, 그리고/또는 상기 커버 플레이트(6)는 가스 유입 부재(4) 또는 가스 배출 플레이트(21) 쪽으로 향해 있는 둘레를 둘러싸는 링 비드(14)를 포함하는데, 상기 링 비드는 상기 가스 유입 부재(4) 또는 상기 가스 배출 플레이트(21)에 밀봉 방식으로 인접하고, 그리고/또는 덮개(2)는 개구(24) 내로 돌출하고 상기 가스 유입 부재(4)를 둘러싸는 링 웹(25)을 포함하는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.The cover plate 6 is fixable, or fixed, to the fixing section 21 by means of temporary and/or permanent fixing means 19 , 20 , and/or the cover plate 6 is a gas inlet member (4) or an encircling ring bead (14) directed towards the gas outlet plate (21), said ring bead sealingly adjacent the gas inlet member (4) or the gas outlet plate (21) and/or the shroud (2) comprises a ring web (25) protruding into the opening (24) and surrounding the gas inlet member (4).

고정 섹션(21)은 가스 유입 부재(4)이거나, 또는 가스 유입 부재(4)를 둘러싸고, 이때 상기 가스 유입 부재(4)는, 커버 플레이트(6)와 상기 가스 유입 부재(4)의 가스 배출면 사이의 간극(15) 내로 통하는 복수의 가스 배출 개구(17)를 포함하고, 이때 상기 커버 플레이트(6)는 가스 관통 개구들(16)을 포함하는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.The fixed section 21 is a gas inlet member 4 or surrounds the gas inlet member 4 , wherein the gas inlet member 4 comprises a cover plate 6 and a gas outlet of the gas inlet member 4 . A CVD-reactor or method, characterized in that it comprises a plurality of gas outlet openings (17) leading into the interface gaps (15), wherein the cover plate (6) comprises gas through openings (16).

가스 배출 부재(3)는 서셉터(5) 또는 커버 플레이트(6)의 이동 경로 내에 놓인 공정 위치로부터 하강한 위치로 변위 가능한 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.CVD-reactor or method, characterized in that the gas release member (3) is displaceable from a process position lying within the travel path of the susceptor (5) or cover plate (6) to a lowered position.

고정 섹션(21)은 하우징(1)의 개구(24)를 밀폐하는 덮개(2)에 할당되어 있고, 커버 플레이트(6)의 조립을 위해 상기 덮개(2)는 상기 커버 플레이트(6)의 상승 이전에, 또는 상승 시 제1 개방 위치로 제공되고, 상기 상승 이후에 리프팅 요소(11)에 의해 지지 되는 상기 커버 플레이트(6)는 제1 고정 수단들(19)에 의해 상기 덮개(2)에 고정되며, 후속하여 제2 개방 위치로 상기 덮개(2)의 상승(그동안 상기 커버 플레이트(6)가 상기 리프팅 요소(11)로부터 분리됨) 이후에, 제2 고정 수단들(20)에 의해 상기 덮개(2)에 고정되고, 그리고/또는 상기 커버 플레이트(6)의 제거를 위해, 우선 상기 덮개(2)는, 제1 고정 수단들(19)이 상기 덮개(2)에 고정되는 제1 개방 위치로 제공되고, 제2 개방 위치로 상기 덮개(2)의 상승 이후에 제2 고정 수단들(20)이 해제되며, 후속하여 상기 덮개(2)는, 상기 커버 플레이트(6)가 상기 리프팅 요소(11) 상에 놓이는 상기 제1 개방 위치로 다시 제공되고, 이때 이와 같은 위치에서 상기 제1 고정 수단들(19)이 제거되는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.A fastening section 21 is assigned to the cover 2 sealing the opening 24 of the housing 1 , and for assembly of the cover plate 6 , the cover 2 is raised on the cover plate 6 . The cover plate 6 , which is provided in the first open position before or upon lifting, and which is supported by the lifting element 11 after the lifting, is secured to the lid 2 by means of first fastening means 19 . is secured and, after raising of the lid 2 to the second open position, during which the cover plate 6 is separated from the lifting element 11 , the lid is secured by means of second fastening means 20 . In order to be fastened to ( 2 ) and/or to remove the cover plate ( 6 ), the cover ( 2 ) is first in a first open position in which the first fastening means ( 19 ) are fixed to the cover ( 2 ). and the second fixing means 20 are released after lifting of the cover 2 to the second open position, and subsequently the cover 2 is provided such that the cover plate 6 is attached to the lifting element ( 11) a CVD-reactor or method, characterized in that it is provided again in said first open position overlying, in which position said first fixing means (19) are removed.

공개된 모든 특징들은 (그 자체로, 그러나 서로 조합된 상태로도) 본 발명에서 중요하다. 그에 따라, 우선권 서류들의 특징들을 본 출원서의 청구항들 내에 함께 포함시킬 목적으로도, 본 출원서의 공개 내용에는 관련된/첨부된 우선권 서류들(예비 출원서의 사본)의 공개 내용도 전체적으로 함께 포함한다. 특히 종속 청구항들에 기초하여 분할 출원을 실시하기 위해, 종속 청구항들은 인용 청구항의 특징들 없이 자체 특징들에 의해서도 선행기술의 독립적이고도 진보적인 개선예들을 특징짓는다. 각각의 청구항에 제시된 본 발명은 추가로, 전술된 설명에서, 특히 도면 부호들이 제공되고, 그리고/또는 도면 부호 목록에 제시된 하나 또는 복수의 특징을 포함할 수 있다. 특히 특징들이 개별적인 사용 목적을 위해 명백히 불필요하거나, 또는 기술적으로 동일하게 작용하는 다른 수단들에 의해 대체될 수 있는 경우에 한해, 본 발명은 전술된 설명에 언급된 개별적인 특징들이 구현되어 있지 않은 설계 형태들과도 관련이 있다.All disclosed features (by themselves, but also in combination with each other) are important to the invention. Accordingly, for the purpose of incorporating features of priority documents together within the claims of this application, the disclosure of this application also includes the disclosure of related/attached priority documents (copy of the preliminary application) in its entirety. In particular for implementing a divisional application on the basis of the dependent claims, the dependent claims characterize independent and progressive improvements of the prior art even by their own features without the features of the cited claim. The invention set forth in each claim may further comprise one or a plurality of features which are given in particular in the preceding description and/or are provided with reference numerals and/or indicated in the referenced list. In particular, the present invention is in a design form in which the individual features recited in the preceding description are not embodied only insofar as the features are clearly unnecessary for the respective purpose of use, or can be replaced by other means of technically equivalent function. are also related to

1 하우징 21 가스 배출 플레이트, 고정 섹션
2 덮개 22 내부 공간
3 가스 배출 부재 23 공정 챔버
4 가스 유입 부재 24 개구
5 서셉터 24’ 개구의 가장자리
6 커버 플레이트 25 링 웹
7 가열 장치 26 외부 가장자리 섹션
8 샹크
9 리프팅 장치, 배출관
10 리프팅 장치
11 리프팅 요소, 보호관
12 지지체 플레이트
13 캐리어
14 비드
15 간극
16 가스 관통 개구
17 가스 배출 개구, 가스 분배 챔버
18 적재 개구
19 고정 클램프, 고정 수단
20 나사, 고정 수단, 나사형 요소
1 Housing 21 Gas evacuation plate, fixed section
2 cover 22 interior space
3 Outgassing member 23 Process chamber
4 gas inlet member 24 opening
5 Edge of susceptor 24' opening
6 Cover plate 25 Ring web
7 Heating unit 26 Outer edge section
8 shank
9 Lifting device, discharge pipe
10 lifting device
11 Lifting element, sheath
12 support plate
13 carrier
14 bead
15 gap
16 gas through opening
17 gas outlet opening, gas distribution chamber
18 loading opening
19 Fixing clamp, means of fastening
20 screws, fixing means, threaded elements

Claims (11)

하우징(1)을 구비한 CVD-반응기로서,
공정 챔버(process chamber)(23)를 아래쪽에서 제한하는 서셉터(susceptor)(5) 및 상기 공정 챔버(23)를 위쪽에서 제한하는 커버 플레이트(cover plate)(6)를 포함하고, 상기 커버 플레이트(6)는, 하강한 위치에서 조립 위치로 상승 가능한 리프팅 요소(lifting element)(11)에 의해 고정 섹션(21)에 인접하는 인접 위치까지 상승 가능하고, 상기 고정 섹션(21)에서 상기 커버 플레이트(6)는 상기 하우징(1)에 고정 가능하며,
상기 리프팅 요소(11)는, 상기 서셉터(5)를 둘러싸거나, 또는 상기 서셉터의 가장자리에서 지지하는 하나 또는 복수의 몸체에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기.
A CVD-reactor having a housing (1), comprising:
a susceptor (5) limiting a process chamber (23) from below and a cover plate (6) limiting said process chamber (23) from above, said cover plate (6) is liftable from a lowered position to an adjacent position adjacent to the fixed section (21) by means of a lifting element (11) which is liftable to the assembled position, in the fixed section (21) the cover plate (6) can be fixed to the housing (1),
CVD-reactor, characterized in that the lifting element (11) is formed by one or a plurality of bodies surrounding the susceptor (5) or supporting it at the edge of the susceptor (5).
CVD-반응기의 공정 챔버(23)를 제한하는, 서셉터(5)의 상부에 배치된 커버 플레이트(6)를 취급하기 위한 방법으로서,
다음 단계들:
1. 하우징(1) 내에 배치된 리프팅 요소(11) 상에 커버 플레이트(6)를 배치하는 단계;
2. 상기 커버 플레이트(6)를 지지하는 상기 리프팅 요소(11)를 조립 위치까지 상승시키는 단계;
3. 상기 하우징(1)의 고정 섹션(21)에 상기 커버 플레이트(6)를 고정하는 단계;
4. 하강한 위치로 상기 리프팅 요소(11)를 하강시키는 단계; 및/또는
5. 하강한 위치에서 조립 위치로 상기 리프팅 요소(11)를 상승시키는 단계;
6. 상기 하우징(1)의 고정 섹션(21)으로부터 상기 커버 플레이트(6)를 해제하는 단계;
7. 상기 커버 플레이트(6)를 지지하는 상기 리프팅 요소(11)를 하강한 위치까지 하강시키는 단계;
8. 상기 리프팅 요소(11)로부터 상기 커버 플레이트(6)를 제거하는 단계를 포함하고,
상기 리프팅 요소(11)는, 상기 서셉터(5)를 둘러싸거나, 또는 상기 서셉터의 가장자리에서 지지하는 하나 또는 복수의 몸체에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 방법.
A method for handling a cover plate (6) disposed on top of a susceptor (5), which limits a process chamber (23) of a CVD-reactor, comprising:
Next steps:
1. Placing the cover plate (6) on the lifting element (11) arranged in the housing (1);
2. raising the lifting element (11) supporting the cover plate (6) to an assembly position;
3. fixing the cover plate (6) to the fixing section (21) of the housing (1);
4. lowering the lifting element (11) to the lowered position; and/or
5. raising the lifting element (11) from the lowered position to the assembled position;
6. releasing the cover plate (6) from the fixing section (21) of the housing (1);
7. lowering the lifting element (11) supporting the cover plate (6) to a lowered position;
8. removing the cover plate (6) from the lifting element (11),
The method, characterized in that the lifting element (11) is formed by one or a plurality of bodies surrounding the susceptor (5) or supporting it at the edge of the susceptor (5).
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 리프팅 요소(11)는 상기 서셉터(5)를 지지하는 지지 요소 또는 상기 서셉터(5)를 둘러싸는 가스 배출 부재(3)인 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.
3. The method of claim 1 or 2,
CVD-reactor or method, characterized in that the lifting element (11) is a support element supporting the susceptor (5) or a gas exhaust member (3) surrounding the susceptor (5).
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 리프팅 요소(11)는 원형 링(circular ring) 형태의 레이아웃(layout)을 갖고, 그리고/또는 상기 리프팅 요소(11)는 관(pipe)의 형태를 갖는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
CVD-reactor or method, characterized in that the lifting element ( 11 ) has a layout in the form of a circular ring, and/or the lifting element ( 11 ) has the form of a pipe .
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고정 섹션(21)은 상기 하우징(1)의 상부 개구(24)를 밀폐하는 덮개(2)에 의해 형성되어 있고, 상기 리프팅 요소(11)는, 적어도 상기 리프팅 요소(11)의 상부 섹션이 상기 개구(24)의 가장자리(24’) 위로 외부로 돌출하는 위치까지 상승 가능한 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The fixing section (21) is formed by a cover (2) sealing the upper opening (24) of the housing (1), the lifting element (11) at least having an upper section of the lifting element (11) CVD-reactor or method, characterized in that it is liftable to a position which projects outwardly above the edge (24') of the opening (24).
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 커버 플레이트(6)는 임시적인 그리고/또는 영구적인 고정 수단들(19, 20)에 의해 상기 고정 섹션(21)에 고정 가능하거나, 또는 고정되고, 그리고/또는 상기 커버 플레이트(6)는 가스 유입 부재(4) 또는 가스 배출 플레이트(gas outlet plate)(21) 쪽으로 향해 있는 둘레를 둘러싸는 링 비드(ring bead)(14)를 포함하는데, 상기 링 비드는 상기 가스 유입 부재(4) 또는 상기 가스 배출 플레이트(21)에 밀봉 방식으로 인접하고, 그리고/또는 상기 덮개(2)는 상기 개구(24) 내로 돌출하고 상기 가스 유입 부재(4)를 둘러싸는 링 웹(ring web)(25)을 포함하는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The cover plate 6 is fixable, or fixed, to the fixing section 21 by means of temporary and/or permanent fixing means 19 , 20 , and/or the cover plate 6 is and a surrounding ring bead (14) directed towards an inlet member (4) or a gas outlet plate (21), said ring bead (14) being the gas inlet member (4) or the gas outlet plate (21). sealingly adjacent the gas outlet plate 21 , and/or the cover 2 has a ring web 25 protruding into the opening 24 and surrounding the gas inlet member 4 . A CVD-reactor or method comprising:
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고정 섹션(21)은 가스 유입 부재(4)이거나, 또는 가스 유입 부재(4)를 둘러싸고, 상기 가스 유입 부재(4)는, 상기 커버 플레이트(6)와 상기 가스 유입 부재(4)의 가스 배출면 사이의 간극(15) 내로 통하는 복수의 가스 배출 개구(17)를 포함하고, 상기 커버 플레이트(6)는 가스 관통 개구들(16)을 포함하는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The fixed section 21 is a gas inlet member 4 or surrounds the gas inlet member 4 , wherein the gas inlet member 4 includes the cover plate 6 and the gas of the gas inlet member 4 . A CVD-reactor or method, characterized in that it comprises a plurality of gas outlet openings (17) leading into the gaps (15) between the outlet faces, and the cover plate (6) comprises gas through openings (16).
하우징(1)을 구비한 CVD-반응기로서,
공정 챔버(23)를 아래쪽에서 제한하는 서셉터(5), 상기 공정 챔버(23)를 위쪽에서 제한하는 커버 플레이트(6) 및 상기 서셉터(5)를 둘러싸는 가스 배출 부재(4)를 포함하고, 상기 하우징(1)은 적재 개구(loading opening)(18)를 포함하고, 상기 적재 개구를 통해 상기 서셉터(5) 또는 상기 커버 플레이트(6)는 자체 표면 연장부의 방향으로 이루어지는 이동에 의해 상기 하우징(1)의 내부 공간(22)으로 제공 가능하며,
상기 가스 배출 부재(3)는 상기 서셉터(5) 또는 상기 커버 플레이트(6)의 이동 경로 내에 놓인 공정 위치로부터 하강한 위치로 변위 가능한 것을 특징으로 하는, CVD-반응기.
A CVD-reactor having a housing (1), comprising:
a susceptor (5) limiting the process chamber (23) from below, a cover plate (6) limiting the process chamber (23) from above, and a gas exhaust member (4) surrounding the susceptor (5) and the housing 1 comprises a loading opening 18 through which the susceptor 5 or the cover plate 6 is moved in the direction of its own surface extension. It can be provided as the inner space 22 of the housing 1,
CVD-reactor, characterized in that the gas discharge member (3) is displaceable from a process position lying within the movement path of the susceptor (5) or the cover plate (6) to a lowered position.
제2항 내지 제7항중 어느 한 항에 있어서,
상기 고정 섹션(21)은 상기 하우징(1)의 개구(24)를 밀폐하는 덮개(2)에 할당되어 있고, 상기 커버 플레이트(6)의 조립을 위해 상기 덮개(2)는 상기 커버 플레이트(6)의 상승 이전에, 또는 상승 시 제1 개방 위치로 제공되고, 상기 상승 이후에 상기 리프팅 요소(11)에 의해 지지 되는 상기 커버 플레이트(6)는 제1 고정 수단들(19)에 의해 상기 덮개(2)에 고정되며, 후속하여 제2 개방 위치로 상기 덮개(2)의 상승(그동안 상기 커버 플레이트(6)가 상기 리프팅 요소(11)로부터 분리됨) 이후에, 제2 고정 수단들(20)에 의해 상기 덮개(2)에 고정되는 것을 특징으로 하는, 방법.
8. The method according to any one of claims 2 to 7,
The fixing section 21 is assigned to a cover 2 sealing the opening 24 of the housing 1 , for assembly of the cover plate 6 , the cover 2 is connected to the cover plate 6 . ), the cover plate 6 , which is provided in the first open position before or upon lifting, and which is supported by the lifting element 11 after the lifting, is secured to the cover by means of first fastening means 19 . are secured to ( 2 ) and subsequently, after raising of the cover ( 2 ) to the second open position (while the cover plate ( 6 ) is separated from the lifting element ( 11 )), second fastening means ( 20 ) A method, characterized in that it is fixed to the cover (2) by means of
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 커버 플레이트(6)의 제거를 위해, 우선 상기 덮개(2)는, 제1 고정 수단들(19)이 상기 덮개(2)에 고정되는 제1 개방 위치로 제공되고, 제2 개방 위치로 상기 덮개(2)의 상승 이후에 제2 고정 수단들(20)이 해제되며, 후속하여 상기 덮개(2)는, 상기 커버 플레이트(6)가 상기 리프팅 요소(11) 상에 놓이는 상기 제1 개방 위치로 다시 제공되고, 이와 같은 위치에서 상기 제1 고정 수단들(19)이 제거되는 것을 특징으로 하는, 방법.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
For the removal of the cover plate 6 , first the cover 2 is provided in a first open position in which first fastening means 19 are fixed to the cover 2 , and in the second open position After lifting of the lid 2 , the second fastening means 20 are released, and subsequently the lid 2 is placed in the first open position in which the cover plate 6 rests on the lifting element 11 . method, characterized in that in this position the first fastening means (19) are removed.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 하나 또는 복수의 특징을 포함하는 것을 특징으로 하는, CVD-반응기 또는 방법.A CVD-reactor or method, characterized in that it comprises one or more features of any one of claims 1 to 10.
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