DE102015107315A1 - Method and device for cleaning a gas inlet element - Google Patents

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Michael Griebel
Benjamin David Wright
Mark Edlef Oppen
Keith Allen
Alexandre Jouvray
Thorsten Ostermann
Ralf Arnold Bongartz
Hans-Gerd Fuss
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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Reinigen eines Gaseinlassorgans eines durch Inkontaktbringen eines Reinigungsgerätes (18) an einer Gasaustrittsfläche (12) des Gaseinlassorgans (11) und Bewegen des Reinigungsgerätes (18) entlang der Gasaustrittsfläche (12), wobei ein Reinigungsgerätträger (16) ein relativ gegenüber dem Reinigungsgerätträger (16) bewegbares Reinigungsgerät aufweist. Es sind Mittel vorgesehen, mit denen mindestens eine Bürste (18, 18') mit kreisringförmig angeordneten Reinigungselementen (48) auf einer kreisförmigen Bewegungsbahn um die Drehachse (25) und um sich selbst drehend entlang der Gasaustrittsfläche (12) bewegt wird, bzw. um das Gehäuse (17) in eine Drehbewegung zu versetzen.The invention relates to a device for cleaning a gas inlet member by contacting a cleaning device (18) on a gas outlet surface (12) of the gas inlet member (11) and moving the cleaning device (18) along the gas outlet surface (12), wherein a cleaning device carrier (16) a relative relative to the cleaning device carrier (16) has movable cleaning device. Means are provided with which at least one brush (18, 18 ') with annularly arranged cleaning elements (48) is moved on a circular trajectory around the axis of rotation (25) and about itself rotating along the gas outlet surface (12), or to put the housing (17) in a rotational movement.

Description

Gebiet der TechnikField of engineering

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Reinigen eines Gaseinlassorgans eines CVD-Reaktors. Der CVD-Reaktor besitzt ein CVD-Reaktorgehäuse, das in einer Betriebskammer angeordnet ist, die insbesondere gegenüber der Umgebungsatmosphäre gasdicht abgeschlossen sein kann. Eine derartige Betriebskammer kann von einer Handschuhbox ausgebildet sein. Sie kann von einem Schutzgas gespült sein. Das Reinigen der Gasaustrittsflächen eines Gaseinlassorgans ist in gewissen Zeitabständen erforderlich, da in der zwischen der Gasaustrittsfläche und einem Suszeptor angeordneten Prozesskammer Gasphasenreaktionen zwischen Prozessgasen stattfinden und Reaktionsprodukte nicht nur auf dem Suszeptor beziehungsweise auf auf dem Suszeptor aufliegenden Substraten abgeschieden werden, sondern auch an der zur Prozesskammer weisenden Gasaustrittsfläche des Gaseinlassorgans. Das Gaseinlassorgan ist typischerweise ein Showerhead. Er besitzt ein oder mehrere Gasverteilvolumen, in die das Prozessgas zusammen mit einem Trägergas eingespeist wird. Durch zur Prozesskammer weisende Gasaustrittsöffnungen einer Gasaustrittsfläche gelangt das vom Trägergas geförderte Prozessgas in die Prozesskammer. Bei einem CVD-Prozess zum Abscheiden von III-V-Schichten oder aber auch zum Abscheiden von IV-Schichten oder II-VI-Schichten werden ein, meistens aber zwei voneinander verschiedene Prozessgase verwendet, die in der Prozesskammer und insbesondere auf der Oberfläche der Substrate miteinander reagieren. Zum Abscheiden von GaN werden bspw. TMGa und NH3 verwendet.The invention relates to a method and a device for cleaning a gas inlet member of a CVD reactor. The CVD reactor has a CVD reactor housing, which is arranged in an operating chamber, which can be sealed in particular gas-tight with respect to the ambient atmosphere. Such a working chamber may be formed by a glove box. It can be purged by a protective gas. The cleaning of the gas outlet surfaces of a gas inlet member is required at certain intervals, since in the arranged between the gas outlet surface and a susceptor gas phase reactions between process gases take place and reaction products are deposited not only on the susceptor or on the susceptor resting substrates, but also at the process chamber pointing gas outlet surface of the gas inlet member. The gas inlet member is typically a showerhead. It has one or more Gasverteilvolumen into which the process gas is fed together with a carrier gas. By pointing to the process chamber gas outlet openings of a gas outlet surface, the process gas supplied by the carrier gas passes into the process chamber. In a CVD process for depositing III-V layers or else for depositing IV layers or II-VI layers one, but usually two different process gases are used, in the process chamber and in particular on the surface of the substrates react with each other. For depositing GaN, for example, TMGa and NH 3 are used.

Der Suszeptor wird von unten mittels einer Heizung, beispielsweise einer Lampenheizung, einer Widerstandsheizung oder einer RF-Heizung beheizt. Die vertikal oberhalb des Suszeptors angeordnete Gasaustrittsfläche des Gaseinlassorgans (Showerhead) wird hingegen gekühlt. Die sich mit der Zeit an der Gasaustrittsfläche ablagernden parasitären Belegungen sollen erfindungsgemäß mittels eines Reinigungsgerätes entfernt werden. Dies erfolgt durch Inkontaktbringen eines mechanischen Reinigungselementes des Reinigungsgerätes an die Gasaustrittsfläche des Gaseinlassorgans und durch Bewegen des Reinigungselementes bzw. des Reinigungsgerätes relativ gegenüber der Gasaustrittsfläche. Die Reinigungsgeräte können Bürsten und die Reinigungselemente Borsten sein. Mit diesen Bürsten bzw. Borsten erfolgt ein mechanisches Abtragen der parasitären Belegungen.The susceptor is heated from below by means of a heater, for example a lamp heater, a resistance heater or an RF heater. On the other hand, the gas outlet surface of the gas inlet element (showerhead), which is arranged vertically above the susceptor, is cooled. The parasitic deposits which deposit with time on the gas outlet surface are to be removed according to the invention by means of a cleaning device. This is done by contacting a mechanical cleaning element of the cleaning device to the gas outlet surface of the gas inlet member and by moving the cleaning element or the cleaning device relative to the gas outlet surface. The cleaning devices may be brushes and the cleaning elements may be bristles. With these brushes or bristles, a mechanical removal of the parasitic assignments takes place.

Stand der TechnikState of the art

Eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Entfernen derartiger parasitärer Belegungen an der Gasaustrittsfläche eines Gaseinlassorgans wird in der EP 2 690 193 A1 beschrieben. Dort wird die Drehantreibbarkeit eines Suszeptorträgers genutzt, um ein mit an ihrer Breitseite mit Borsten versehene Reinigungsscheibe anzutreiben. Die Reinigungsscheibe wird anstelle des Suszeptors in die Prozesskammer und in eine berührende Anlagestellung zur Gasaustrittsfläche gebracht. Durch Drehen der Reinigungsplatte soll die Gasaustrittsfläche mechanisch gereinigt werden. Dabei entstehen Partikel, die in der Prozesskammer bleiben.An apparatus and a method for removing such parasitic coatings on the gas outlet surface of a gas inlet member is in the EP 2 690 193 A1 described. There, the Drehantreibbarkeit a Suszeptorträgers is used to drive a cleaning disk provided with bristles on its broad side. The cleaning disk is brought into the process chamber instead of the susceptor and into a contacting contact position with the gas outlet surface. Turn the cleaning plate to mechanically clean the gas outlet surface. This creates particles that remain in the process chamber.

Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein gebrauchsvorteilhaftes Verfahren beziehungsweise eine gebrauchsvorteilhafte Vorrichtung zum Reinigen der Gasaustrittsfläche eines Gaseinlassorgans anzugeben.The invention has for its object to provide a nutzsvorteilhaftes method or a nutzsvorteilhafte device for cleaning the gas outlet surface of a gas inlet member.

Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung.The object is achieved by the invention specified in the claims.

Ein Reinigungsverfahren wird an einem Reaktor angewendet, der einen Deckel aufweist, der eine Entnahmeöffnung für das Gaseinlassorgan verschließt. Das Gaseinlassorgan kann fest am Deckel befestigt sein, so dass es beim Öffnen des Deckels aus der Prozesskammer beziehungsweise aus dem CVD-Reaktorgehäuse entnommen werden kann. Es ist aber auch vorgesehen, zunächst den Deckel zu öffnen und anschließend das Gaseinlassorgan aus dem CVD-Reaktorgehäuse zu entnehmen. Das Herausverlagern des Gaseinlassorgans aus dem CVD-Reaktorgehäuse erfolgt bevorzugt in Vertikalrichtung und besonders bevorzugt nur in Vertikalrichtung. Das Herausverlagern des Gaseinlassorgans gegebenenfalls zusammen mit dem Deckel erfolgt somit lediglich durch ein Anheben des Deckels beziehungsweise des Gaseinlassorgans. Das Gaseinlassorgan wird soweit gegenüber dem Öffnungsrand der Entnahmeöffnung angehoben, dass ein Reinigungsgerät zwischen den Rand der Entnahmeöffnung und der Gasaustrittsfläche bringbar ist. Die Gasaustrittsfläche erstreckt sich bevorzugt in einer Parallelebene zur Ebene des Deckels beziehungsweise zur Entnahmeöffnung. Es ist aber auch vorgesehen, den Deckel des CVD-Reaktorgehäuses zusammen mit dem Gaseinlassorgan zunächst anzuheben und anschließend in einer Vertikalebene zu verlagern. Dies kann durch eine Drehung erfolgen, aber auch durch eine Linearverlagerung. Die Reinigungsgeräte können von Bürsten ausgebildet sein. Beispielsweise kann eine Bürste eine Zylinderform aufweisen und um die Zylinderachse drehangetrieben werden. Als Drehantrieb kann ein Motor, beispielsweise ein Elektromotor oder ein Pneumatikmotor verwendet werden. Eine derartige Bürste oder eine aus mehreren Bürsten bestehende Bürstenanordnung kann in Linearrichtung an der Gasaustrittsfläche entlang verlagert werden. Die Bürste oder Bürstenanordnung kann aber auch über eine Drehbewegung oder eine kombinierte Linear-Drehbewegung derart an der Gasaustrittsfläche entlang bewegt werden, dass mechanische Reinigungselemente, die von der Zylindermantelwand der Bürste abstehen, die Partikel durch mechanische Einwirkung von der Gasaustrittsfläche entfernen. Die mechanischen Reinigungselemente können elastische Elemente, insbesondere Borsten, Zungen oder Lippen sein, die nachfolgend ohne Beschränkung der Allgemeinheit mit Borsten bezeichnet werden. Die mindestens eine Bürste der Bürstenanordnung oder mehrere Bürsten der Bürstenanordnung werden auf einer derartigen Bewegungsbahn über die Gasaustrittsfläche verlagert, dass mit den Borsten die gesamte Gasaustrittsfläche mechanisch gereinigt wird. In einer Variante kann eine kreisscheibenförmige Bürste oder eine topfförmige Bürste verwendet werden, die um eine Vertikalachse drehangetrieben wird. Die kreisscheibenförmige Bürste besitzt einen kreisscheibenförmigen Bürstenträger, dessen Breitseitenfläche vollständig mit Borsten belegt sein kann. Bei einer topfförmigen Bürste ist lediglich ein Randabschnitt der Kreisscheibe mit Borsten besetzt. Die Borsten können aber auch auf einem ringförmigen Borstenträger sitzen, der um die Ringachse gedreht wird. Hierzu kann ein Ringkörper mit geeigneten Verbindungsmitteln mit einem Zentralkörper beispielsweise in Form einer Kreisscheibe verbunden sein. Die Verbindung kann über sich in Radialrichtung erstreckende Speichen erfolgen, so dass zwischen dem Ringkörper und dem Zentralkörper ein Umfangsabstandsraum verbleibt, durch den ein Partikel-Absaug-Gasstrom hindurchtreten kann. Es ist nicht nur ein radial innenseitiger Absaugspalt, sondern bevorzugt auch ein radial äußerer Absaugspalt vorgesehen, durch den ein Gasstrom hindurchgesaugt werden kann, um die bei der Reinigung entstehenden Partikel abzusaugen. Die Borsten können aus Kunststoff oder aus Metall bestehen. Die Bürste selbst kann wiederum auf einer linearen Bewegungsbahn oder einer kreisförmigen Bewegungsbahn an der Gasaustrittsfläche entlang verlagert werden. Bevorzugt sind Mittel vorgesehen, mit denen die beim mechanischen Reinigen der Gasaustrittsfläche gebildeten Partikel aufgefangen werden. Eine derartige Partikelauffangvorrichtung kann von einem Reinigungsgerätträger ausgebildet sein. Es ist insbesondere vorgesehen, dass ein oder mehrere Bürsten in einem die Bürsten aufnehmenden Gehäuse angeordnet sind. Dieses Gehäuse besitzt eine Gehäuseöffnung, die in einer Reinigungsstellung zur zu reinigenden Gasaustrittsfläche weist. Das Gehäuse kann eine kreisförmige Gehäusewand aufweisen, die den oben erwähnten Ringkörper mit einem Absaugspalt umgibt, so dass der die Borsten tragende Ringkörper zwischen Absaugspalten angeordnet ist. Das Gehäuse kann von einem Arm getragen werden. Dieser kann mit ergänzenden Haltemitteln am Deckel des CVD-Reaktors befestigt sein. Der Arm kann aber auch von einem Roboter ausgebildet sein oder mit Haltemitteln an einer Wand einer Handschuhbox befestigt sein. Der Arm kann eine Höhlung aufweisen, die einen Absaugkanal aufweist, durch den die durch die Absaugspalte abgesaugten Partikel abtransportiert werden können. Das Reinigungsgerät wird vor der Reinigung der Gasaustrittsfläche in der Betriebskammer bereitgehalten. Es kann dort eine Parkposition einnehmen, wenn es permanent in der Betriebskammer angeordnet ist, bspw. wenn es über den besagten Arm am Deckel befestigt ist. Der Arm kann höhenverlagerbar am Deckel befestigt sein. Beim Öffnen des CVD-Reaktors, also beim Anheben des Deckels, wird das am Deckel befestigte Reinigungsgerät mit angehoben. Es wird dann durch eine Schwenkbewegung um ein Schwenk-Halteelement in eine Zwischenposition gebracht, in der sich das Reinigungsgerät im Zwischenraum zwischen der Gasaustrittsfläche und der Entnahmeöffnung befindet. In einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung trägt das Gehäuse topfförmige Bürsten, die jeweils um eine Drehachse drehantriebbar sind. Besonders bevorzugt sind die Bürsten auf einem ringförmigen Tragkörper angeordnet. Das Gehäuse kann gegenüber dem Arm gedreht werden. Die Drehachse des Gehäuses liegt bevorzugt im Zentrum der kreisförmigen Gasaustrittsfläche. Die Drehachse kann hohl sein, so dass durch die Drehachse ein Absaugkanal verlaufen kann. Es ist aber auch vorgesehen, dass ein Absaugstrom durch radial außerhalb der Drehachse angeordnete Kanäle hindurchströmen kann. Insbesondere kann ein kreisringförmiger Absaugkanal vorgesehen sein, der das das Reinigungsgerät aufweisende Gehäuse mit einem schwenkbaren Tragarm verbindet. Es kann eine einzige Bürste vorgesehen sein, die einen Borstenkranz aufweist, der einen Durchmesser aufweist, der der Hälfte des Durchmessers der Gasaustrittsfläche entspricht. Es könne aber auch mehrere Bürsten vorgesehen sein. Die Bürsten sind innerhalb des Gehäuses derart angeordnet, dass sich eine Bürste bei der Drehung des Gehäuses um seine Drehachse auf einer radial inneren Kreisbahn bewegt, bei der das Zentrum der Gasaustrittsfläche und ein um das Zentrum liegender Kreisabschnitt gereinigt wird. Die andere Bürste liegt radial außerhalb und reinigt einen Ringabschnitt der Gasaustrittsfläche zwischen äußerem Rand der Gasaustrittsfläche und ihrem Zentrum. Einhergehend mit der Drehbewegung des Gehäuses werden die beiden Bürsten jeweils um ihre Achse drehangetrieben. Die Drehbewegung der Bürsten kann aus der Drehbewegung des die Brüsten tragenden Gehäuses abgeleitet werden. Beide Reinigungsabschnitte überlappen sich. Besitzt die Vorrichtung nur eine Bürste, so reicht es aus, wenn deren Achse mit einer Drehbewegung des Gehäuses auf einer Kreisbahn um das Zentrum der Gasaustrittsfläche bewegt wird. Dem Bürstenkranz wird dabei eine Relativbewegung gegenüber dem Gehäuse um das Zentrum des Bürstenkranzes aufgezwungen. Um das Reinigungsgerät von der Zwischenposition in eine Reinigungsposition zu bringen, in der die Borsten in Kontakt zur Gasaustrittsfläche stehen, kann das die Bürsten aufnehmende Gehäuse oder können die Bürsten vertikal verlagert werden. Bevorzugt wird der das Gehäuse tragende Arm gegenüber einem säulenförmigen Halteelement höhenverlagert, welches säulenförmige Halteelement an einem fest mit dem Deckel verbundenen Haltearm befestigt ist. Bei der Reinigung kann die Entnahmeöffnung durch eine Abdeckeinrichtung, beispielsweise einen temporär verwendbaren Deckel, abgedeckt werden, so dass das Eindringen von Partikeln in das Reaktorgehäuse vermieden wird. Das Reinigen der Gasaustrittsfläche des Gaseinlassorgans erfolgt innerhalb der Betriebskammer, also innerhalb der Handschuhbox oder dergleichen. Hierzu wird das Reinigungsgerät vor dem Öffnen des CVD-Reaktors in die Betriebskammer gebracht oder es befindet sich permanent innerhalb der Betriebskammer. Die Betriebskammer ist gegenüber der Umgebungsatmosphäre gasdicht verschlossen. Sie wird insbesondere mit einem Reinstgas gespült und ist an einer Abgasentsorgung angeschlossen. In einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass der Reinigungsgerätträger Mittel aufweist, mit denen die beim Reinigen entstehenden Partikel abtransportiert werden. Es kann sich dabei um eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Gasstroms handeln. Mit dieser Vorrichtung wird der oben erwähnte Gasstrom erzeugt, der die Partikel von dem Ort, wo sie durch die mechanische Einwirkung der mechanischen Reinigungselemente auf die Belegung der Gasaustrittsfläche entstehen, abtransportiert werden. Es kann sich dabei um eine Pumpe handeln, die einen Unterdruck erzeugt. Diese Unterdruckerzeugungseinrichtung ist über Absaugkanäle mit dem Gehäuse und den oben genannten Absaugspalten strömungsverbunden. Es ist auch vorgesehen, dass der Reinigungsgerätträger ein Reinigungsgerätträgergehäuse aufweist. Dieses Gehäuse kann zur Reinigung der Gasaustrittsfläche in den Zwischenraum zwischen Gasaustrittsfläche und Entnahmeöffnung gebracht werden. Es ist aber auch vorgesehen, dass der Deckel beziehungsweise das Gaseinlassorgan nicht nur vertikal nach oben, sondern auch in Horizontalrichtung innerhalb der Betriebskammer verlagert werden kann, so dass das Reinigungsgerätträgergehäuse neben dem CVD-Reaktorgehäuse angeordnet werden kann. Wird das Reinigungsgerätträgergehäuse in den Zwischenraum zwischen Entnahmeöffnung und Gasaustrittsfläche gebracht, so wird es bevorzugt auf der Entnahmeöffnung abgesetzt. Es kann die Entnahmeöffnung vollständig verschließen. Das Reinigungsgerätträgergehäuse kann eine topfförmige Gestalt aufweisen. Der Topfrand bildet eine Öffnung, die durch Absenken des Gaseinlassorgans verschlossen werden kann. Das bevorzugt am Deckel befestigte Gaseinlassorgan befindet sich dann innerhalb des Reinigungsgerätträgergehäuses. Innerhalb dieses Gehäuses befindet sich ein Reinigungsgerät, welches in der oben beschriebenen Weise von einem Motor angetrieben werden kann. Es kann sich um Walzen, Scheiben oder topfförmige Bürsten handeln. In einer bevorzugten Ausgestaltung wird die topfförmige Bürste auf einer Kreisbahn um das Zentrum des kreisscheibenförmigen Gaseinlassorgans beziehungsweise um das Zentrum der kreisscheibenförmigen Gasaustrittsfläche gedreht. Die scheibenförmige oder topfförmige Bürste besitzt eine eigene, vertikale Drehachse, um die die Bürste gedreht werden kann. Das vom Deckel geschlossene Reinigungsgerätträgergehäuse kann von einem Inertgas gespült und/oder von einer Vakuumpumpe evakuiert werden. Die bei der Reinigung entstehenden Partikel werden somit unmittelbar abtransportiert, dass keine Partikel in die Betriebskammer gelangen. Die Verwendung eines Gehäuses zur Aufnahme des mindestens einen Reinigungsgerätes bringt den Vorteil, dass das Gaseinlassorgan in dieses Gehäuse einbringbar ist. Die Gehäuseöffnung kann dieselbe Geometrie aufweisen, die auch die Entnahmeöffnung aufweist. Die Öffnung des das Reinigungsgerät beinhaltenden Gehäuses kann somit beim Reinigen vom Deckel verschlossen werden. Es ist aber auch möglich, die Gehäuseöffnung der Umrisskontur des Gaseinlassorgans anzupassen, so dass die Gehäuseöffnung von Abschnitten des Gaseinlassorgans verschlossen werden kann. Mit einer Vakuumpumpe kann das Reinigungsgerätträgergehäuse evakuiert werden. Es ist eine Gaszuleitung vorgesehen, so dass das Innere des Reinigungsgerätträgergehäuses auch von einem Inertgas gespült werden kann. Eine Unterseite des Reinigungsgerätträgergehäuses kann der Geometrie des Deckels entsprechen, so dass mit der Unterseite des Reinigungsgerätträgergehäuses die Entnahmeöffnung des Reaktorgehäuses verschließbar ist. Das Reinigen der Gasaustrittsfläche erfolgt somit bevorzugt dadurch, dass ein Deckel des Reaktorgehäuses, an dem das Gaseinlassorgan befestigt ist, geöffnet und in einer Vertikalrichtung angehoben wird. In den Zwischenraum zwischen Gasaustrittsfläche und Entnahmeöffnung wird das Reinigungsgerätträgergehäuse gebracht und auf die Entnahmeöffnung aufgesetzt, so dass diese verschlossen ist. Dann wird der Deckel so weit abgesenkt, bis das Gaseinlassorgan in dem Reinigungsgerätträgergehäuse aufgenommen ist und dessen Öffnung vom Deckel verschlossen ist. Bei der dann erfolgenden mechanischen Reinigung mittels der Bürsten wird das Innere des Reinigungsgerätträgergehäuses mit einem Reinigungsgas gespült. Die Partikel werden von einer Vakuumpumpe abgesaugt.A purification process is applied to a reactor having a lid which closes a gas inlet body removal opening. The gas inlet member may be fixedly attached to the lid, so that it can be removed when opening the lid from the process chamber or from the CVD reactor housing. However, it is also provided to first open the lid and then remove the gas inlet member from the CVD reactor housing. The shifting out of the gas inlet member from the CVD reactor housing is preferably carried out in the vertical direction and particularly preferably only in the vertical direction. The shifting out of the gas inlet member optionally together with the lid thus takes place only by lifting the lid or the gas inlet member. The gas inlet member is raised so far relative to the opening edge of the removal opening that a cleaning device between the edge of the removal opening and the gas outlet surface can be brought. The gas outlet surface preferably extends in a parallel plane to the plane of the lid or to the removal opening. However, it is also envisaged first to lift the cover of the CVD reactor housing together with the gas inlet member and then to displace it in a vertical plane. This can be done by a rotation, but also by a linear displacement. The cleaning devices may be formed by brushes. For example, a brush may have a cylindrical shape and be rotated about the cylinder axis. As a rotary drive, a motor, for example a Electric motor or a pneumatic motor can be used. Such a brush or a brush arrangement consisting of a plurality of brushes can be displaced in the linear direction along the gas outlet surface. However, the brush or brush arrangement can also be moved along the gas outlet surface via a rotary movement or a combined linear rotary movement such that mechanical cleaning elements which project from the cylinder jacket wall of the brush remove the particles from the gas outlet surface by mechanical action. The mechanical cleaning elements may be elastic elements, in particular bristles, tongues or lips, which are hereinafter referred to as bristles without restriction of the generality. The at least one brush of the brush arrangement or several brushes of the brush arrangement are displaced on such a movement path over the gas outlet surface, that the entire gas outlet surface is mechanically cleaned with the bristles. In a variant, a circular disk-shaped brush or a cup-shaped brush can be used, which is rotationally driven about a vertical axis. The circular disk-shaped brush has a circular disk-shaped brush holder whose broad side surface can be completely covered with bristles. In a cup-shaped brush only one edge portion of the circular disc is occupied by bristles. The bristles can also sit on an annular bristle carrier, which is rotated about the ring axis. For this purpose, a ring body can be connected with suitable central connection means with a central body, for example in the form of a circular disk. The connection may be via radially extending spokes such that there remains a circumferential clearance space between the annulus and the central body through which a particulate exhaust gas stream may pass. It is not only a radially inside suction gap, but preferably also a radially outer suction gap provided through which a gas stream can be sucked through to suck the resulting particles during cleaning. The bristles may be made of plastic or metal. The brush itself can in turn be displaced along a linear trajectory or a circular trajectory along the gas outlet surface. Preferably, means are provided with which the particles formed during mechanical cleaning of the gas outlet surface are collected. Such a particle collecting device may be formed by a cleaning device carrier. It is in particular provided that one or more brushes are arranged in a housing accommodating the brushes. This housing has a housing opening, which points in a cleaning position to be cleaned gas outlet surface. The housing may have a circular housing wall which surrounds the above-mentioned annular body with a suction gap, so that the ring body carrying the bristles is arranged between Absaugspalten. The housing can be carried by an arm. This can be fastened with supplementary holding means on the cover of the CVD reactor. However, the arm can also be formed by a robot or fastened with holding means on a wall of a glove box. The arm may have a cavity which has a suction channel through which the particles sucked through the suction gaps can be removed. The cleaning device is kept ready before cleaning the gas outlet surface in the operating chamber. It can assume a parking position there if it is permanently arranged in the operating chamber, for example if it is fastened to the cover via said arm. The arm can be mounted höhenverlagerbar on the lid. When opening the CVD reactor, so when lifting the lid, the attached to the lid cleaning device is raised with. It is then brought by a pivoting movement about a pivot-holding element in an intermediate position in which the cleaning device is located in the intermediate space between the gas outlet surface and the removal opening. In a preferred embodiment of the invention, the housing carries cup-shaped brushes, which are each rotatable about an axis of rotation. Particularly preferably, the brushes are arranged on an annular support body. The housing can be rotated relative to the arm. The axis of rotation of the housing is preferably in the center of the circular gas outlet surface. The axis of rotation can be hollow, so that a suction channel can run through the axis of rotation. However, it is also envisaged that a suction flow can flow through channels arranged radially outside the axis of rotation. In particular, an annular suction channel may be provided which connects the housing having the cleaning device with a pivotable support arm. It may be provided a single brush having a bristle rim having a diameter corresponding to half the diameter of the gas outlet surface. But it could also be provided several brushes. The brushes are arranged within the housing such that a brush moves during rotation of the housing about its axis of rotation on a radially inner circular path in which the center of the gas outlet surface and a lying around the center circle section is cleaned. The other brush is located radially outside and cleans a ring portion of the gas outlet surface between the outer edge of the gas outlet surface and its center. Along with the rotational movement of the housing, the two brushes are rotationally driven about their axis. The rotational movement of the brushes can be derived from the rotational movement of the breast-carrying housing. Both cleaning sections overlap. If the device has only one brush, it is sufficient if its axis rotates with the housing on a circular path is moved around the center of the gas outlet surface. The brush ring is thereby forced a relative movement relative to the housing to the center of the brush ring. In order to bring the cleaning device from the intermediate position to a cleaning position in which the bristles are in contact with the gas outlet surface, the housing housing the brushes or the brushes can be displaced vertically. Preferably, the arm carrying the housing is height-shifted relative to a column-shaped holding element, which column-shaped holding element is fixed to a holding arm fixedly connected to the lid. During cleaning, the removal opening can be covered by a covering device, for example a temporarily usable cover, so that the penetration of particles into the reactor housing is avoided. The cleaning of the gas outlet surface of the gas inlet member takes place within the operating chamber, ie within the glove box or the like. For this purpose, the cleaning device is brought into the operating chamber before opening the CVD reactor or it is permanently located inside the operating chamber. The operating chamber is gas-tight against the ambient atmosphere. It is flushed in particular with a high-purity gas and is connected to an exhaust gas disposal. In a preferred embodiment of the invention it is provided that the cleaning device carrier has means with which the particles formed during cleaning are removed. It may be a device for generating a gas stream. With this device, the above-mentioned gas flow is generated, which removes the particles from the place where they arise due to the mechanical action of the mechanical cleaning elements on the occupancy of the gas outlet surface. It can be a pump that generates a negative pressure. This negative pressure generating device is connected via suction channels with the housing and the above Absaugspalten flow-connected. It is also envisaged that the cleaning device carrier has a cleaning device carrier housing. This housing can be brought to clean the gas outlet surface in the space between the gas outlet surface and discharge opening. But it is also envisaged that the lid or the gas inlet member can be moved not only vertically upwards, but also in the horizontal direction within the operating chamber, so that the cleaning device carrier housing can be arranged next to the CVD reactor housing. If the cleaning device carrier housing is brought into the intermediate space between the removal opening and the gas outlet surface, it is preferably deposited on the removal opening. It can completely close the removal opening. The cleaning device carrier housing may have a cup-shaped shape. The pot edge forms an opening that can be closed by lowering the gas inlet member. The preferably attached to the lid gas inlet member is then located within the cleaning device carrier housing. Within this housing is a cleaning device which can be driven in the manner described above by a motor. It may be rollers, discs or cup-shaped brushes. In a preferred embodiment, the pot-shaped brush is rotated on a circular path around the center of the circular disk-shaped gas inlet member or about the center of the circular disk-shaped gas outlet surface. The disc-shaped or cup-shaped brush has its own, vertical axis of rotation about which the brush can be rotated. The cleaning device carrier housing closed by the lid can be purged of an inert gas and / or evacuated by a vacuum pump. The resulting particles during cleaning are thus transported away immediately, so that no particles get into the operating chamber. The use of a housing for receiving the at least one cleaning device has the advantage that the gas inlet member can be introduced into this housing. The housing opening may have the same geometry, which also has the removal opening. The opening of the housing containing the cleaning device can thus be closed when cleaning the lid. However, it is also possible to adapt the housing opening to the contour of the gas inlet member, so that the housing opening can be closed by sections of the gas inlet member. With a vacuum pump, the cleaning device carrier housing can be evacuated. A gas supply line is provided, so that the interior of the cleaning device carrier housing can also be purged by an inert gas. An underside of the cleaning device carrier housing may correspond to the geometry of the lid, so that the removal opening of the reactor housing can be closed with the underside of the cleaning device carrier housing. The cleaning of the gas outlet surface is thus preferably carried out in that a cover of the reactor housing, on which the gas inlet member is attached, is opened and raised in a vertical direction. In the space between the gas outlet surface and removal opening the cleaning device carrier housing is brought and placed on the removal opening, so that it is closed. Then, the lid is lowered until the gas inlet member is received in the cleaning device carrier housing and the opening is closed by the lid. During the subsequent mechanical cleaning by means of the brushes, the interior of the cleaning device carrier housing is flushed with a cleaning gas. The particles are sucked off by a vacuum pump.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung besitzt eine elektronische Steuerungseinrichtung. Diese elektronische Steuerungseinrichtung kann mit einem Bedienfeld zusammenwirken, mit dem beispielsweise über Schalter oder Knöpfe der Steuerungseinrichtung Steuerbefehle gegeben werden können. Die Steuerungseinrichtung wirkt mit Sensoren und Aktoren zusammen. Beispielsweise kann ein Aktor ein Elektromotor sein, mit dem der Deckel der Prozesskammer angehoben wird. Ein weiterer Aktor kann ein Elektromotor sein, der den Arm, der das Reinigungsgerät trägt unter die Gasaustrittsfläche bringt. Der Antriebsmotor für die Bürsten kann ebenfalls von der Steuerungseinrichtung angesteuert werden. Es ist möglich, die Reinigungseinrichtung automatisch, halbautomatisch oder manuell in Betrieb zu nehmen, wobei durch geeignete Sensoren jeweils die Stellung des Deckels, der Armes oder des Reinigungsgerätträgers ermittelt wird. Bei der vollautomatischen Steuerung wird von der Steuerung zunächst die Prozesskammer geöffnet, der Deckel in die angehobene Position gebracht und anschließend der Reinigungsgerätträger von Parkposition in die Arbeitsposition gebracht. Anschließend erfolgt der Antrieb des Reinigungsgerätes und die Reinigung der Gasaustrittsfläche. Im Anschluss daran fährt der Reinigungsgerätträger zurück in die Parkposition und die Prozesskammer wird wieder geschlossen.The device according to the invention has an electronic control device. These electronic control device can cooperate with a control panel, with which control commands can be given, for example via switches or buttons of the control device. The control device cooperates with sensors and actuators. For example, an actuator may be an electric motor with which the lid of the process chamber is lifted. Another actuator may be an electric motor, which brings the arm, which carries the cleaning device under the gas outlet surface. The drive motor for the brushes can also be controlled by the control device. It is possible to automatically, semi-automatically or manually put the cleaning device into operation, whereby the position of the cover, the arm or the cleaning device carrier is determined by suitable sensors. In the case of fully automatic control, the control system first of all opens the process chamber, places the cover in the raised position, and then moves the cleaning device carrier from the parking position into the working position. Subsequently, the drive of the cleaning device and the cleaning of the gas outlet surface takes place. Subsequently, the cleaning device carrier moves back to the parking position and the process chamber is closed again.

Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen:Embodiments of the invention are explained below with reference to accompanying drawings. Show it:

1 schematisch den Schnitt durch einen CVD-Reaktor mit geschlossenem Deckel 10, 1 schematically the section through a CVD reactor with a closed lid 10 .

2 eine Darstellung gemäß 1, jedoch mit angehobenem Deckel und einem Reinigungsgerätträger 16 eines ersten Ausführungsbeispiels, 2 a representation according to 1 , but with the lid raised and a cleaning device carrier 16 a first embodiment,

3 eine Folgedarstellung zu 2, wobei der Reinigungsgerätträger 16 auf das Reaktorgehäuse 1 aufgesetzt und der Deckel 10 auf den Reinigungsgerätträger 16 aufgesetzt ist, 3 a follow-up presentation to 2 , wherein the cleaning device carrier 16 on the reactor housing 1 put on and the lid 10 on the cleaning device carrier 16 is set up,

4 einen Schnitt gemäß der Linie IV-IV in 3 zur Verdeutlichung der Bewegung einer Bürstenanordnung eines Reinigungsgerätträgers 16 in einem Gehäuse 17, 4 a section along the line IV-IV in 3 to illustrate the movement of a brush assembly of a cleaning device carrier 16 in a housing 17 .

5 als zweites Ausführungsbeispiel schematisch eine Variante einer Bürstenanordnung, 5 as a second embodiment schematically a variant of a brush assembly,

6 die Bürstenanordnung gemäß 5 mit Blickrichtung in Richtung des Pfeils VI, 6 the brush assembly according to 5 looking in the direction of the arrow VI,

7 als drittes Ausführungsbeispiel eine Unteransicht auf eine Gasaustrittsfläche 12 eines Gaseinlassorgans 11 mit einer walzenförmigen Bürste 18, 7 as a third embodiment, a bottom view of a gas outlet surface 12 a gas inlet member 11 with a roller-shaped brush 18 .

8 als viertes Ausführungsbeispiel eine weitere Variante einer Bürstenanordnung in einer Darstellung ähnlich 4, 8th as a fourth embodiment, a further variant of a brush assembly in a representation similar 4 .

9 schematisch einen Schnitt durch einen CVD-Reaktor eines fünften Ausführungsbeispiels mit geöffnetem Deckel und in Reinigungsposition gebrachtem Reinigungsgerätträger 16, 9 schematically a section through a CVD reactor of a fifth embodiment with the lid open and brought in cleaning position cleaning device carrier 16 .

10 der Blick in Richtung des Pfeiles X in 9 von unten auf die Gasaustrittsfläche, wobei sich der Reinigungsgerätträger 16 des fünften Ausführungsbeispiels in einer Reinigungsposition befindet, 10 the view in the direction of the arrow X in 9 from below on the gas outlet surface, with the cleaning device carrier 16 of the fifth embodiment is in a cleaning position,

11 eine Darstellung gemäß 9, jedoch bei geschlossenem CVD-Reaktor und in eine Parkposition gebrachtem Reinigungsgerätträger 16; 11 a representation according to 9 , but with the CVD reactor closed and in a parking position brought cleaning device carrier 16 ;

12 in Blickrichtung des Pfeiles XII in 11 in Draufsicht auf den CVD-Reaktor, wobei der Reinigungsgerätträger seine Parkstellung einnimmt und 12 in the direction of arrow XII in 11 in plan view of the CVD reactor, wherein the cleaning device carrier assumes its parking position and

13 eine Schnittdarstellung eines Reinigungsgerätträgers 16 zur Verdeutlichung des Drehantriebs des Reinigungsgerätträgers 16 und der dort angeordneten Reinigungsgeräte 18, 13 a sectional view of a cleaning device carrier 16 to clarify the rotary drive of the cleaning device carrier 16 and the cleaning equipment arranged there 18 .

14 als sechstes Ausführungsbeispiel der Erfindung eine Reinigungsvorrichtung, die innerhalb einer Betriebskammer in der Nachbarschaft eines CVD-Reaktors befestigbar ist in einer Seitenansicht, 14 as a sixth embodiment of the invention, a cleaning device which can be fastened within an operating chamber in the vicinity of a CVD reactor in a side view,

15 die in 14 gezeigte Vorrichtung in einer perspektivischen Darstellung, 15 in the 14 shown device in a perspective view,

16 die Draufsicht auf die in der 14 dargestellte Reinigungsvorrichtung gemäß Pfeil XVI, 16 the top view of the in the 14 shown cleaning device according to arrow XVI,

17 den Schnitt gemäß der Linie XVII-XVII in 16, 17 the section according to the line XVII-XVII in 16 .

18 den Schnitt gemäß der Linie XVIII-XVIII in 16, 18 the section according to the line XVIII-XVIII in 16 .

19 den Schnitt gemäß der Linie XIX-XIX in 16, 19 the section according to the line XIX-XIX in 16 .

20 den Schnitt gemäß der Linie XX-XX in 16, 20 the section according to the line XX-XX in 16 .

21 den Schnitt gemäß der Linie XXI-XXI in 16 und 21 the section according to the line XXI-XXI in 16 and

22 eine Darstellung ähnlich der 4, 7, 8 und 10 zur Verdeutlichung der Wirkungsweise des mechanischen Reinigungselementes 48 des Reinigungsgerätes 18 des fünften Ausführungsbeispiels an einer Gasaustrittsfläche 12 eines Gaseinlassorganes 11. 22 a representation similar to the 4 . 7 . 8th and 10 to illustrate the operation of the mechanical cleaning element 48 of the cleaning device 18 of the fifth Embodiment on a gas outlet surface 12 a gas inlet organ 11 ,

Beschreibung der AusführungsformenDescription of the embodiments

Die 1 bis 3 zeigen einen Vertikalschnitt durch einen CVD-Reaktor, der einen im Wesentlichen rotationssymmetrischen Grundriss aufweist. Er besitzt ein Reaktorgehäuse 1, welches eine Beladeöffnung 6 aufweist, die von einem Tor 7 verschließbar ist. Innerhalb der Gehäusehöhlung des Reaktorgehäuses 1 befindet sich eine Heizung 5, die eine Widerstandsheizung, Lampenheizung oder RF-Heizung sein kann. Oberhalb der Heizung 5 befindet sich ein kreisscheibenförmiger Suszeptor 3 aus beschichtetem Graphit, der von der Heizung 5 beheizt wird. Der Suszeptor 3 ist Träger mehrerer Substrate 4, die beschichtet werden sollen. Oberhalb des Suszeptors 3 erstreckt sich eine Prozesskammer 2, in die mittels eines Gaseinlassorgans 11 zumindest zwei verschiedene Prozessgase jeweils mittels eines Trägergases eingespeist werden.The 1 to 3 show a vertical section through a CVD reactor having a substantially rotationally symmetrical plan view. He has a reactor housing 1 which is a loading opening 6 that is from a gate 7 is closable. Within the housing cavity of the reactor housing 1 there is a heater 5 which may be a resistance heater, lamp heater or RF heater. Above the heater 5 there is a circular disk-shaped susceptor 3 made of coated graphite, by the heater 5 is heated. The susceptor 3 is a carrier of several substrates 4 to be coated. Above the susceptor 3 extends a process chamber 2 into which by means of a gas inlet organ 11 at least two different process gases are each fed by means of a carrier gas.

Die Oberseite des im Wesentlichen rotationssymmetrischen Reaktorgehäuses 1 bildet eine kreisrunde Entnahmeöffnung 9 aus, in der das Gaseinlassorgan 11 in Vertikalrichtung aus dem Reaktorgehäuse 1 entnommen werden kann. Die Entnahmeöffnung 9 wird von einem kreisrunden Deckel 10 verschlossen.The top of the substantially rotationally symmetrical reactor housing 1 forms a circular discharge opening 9 out, in which the gas inlet organ 11 in the vertical direction from the reactor housing 1 can be removed. The removal opening 9 comes from a circular lid 10 locked.

Mittels einer Hubeinrichtung 22 kann der Deckel 10 in Horizontalrichtung von der in 1 dargestellten Geschlossenstellung in eine in 2 dargestellte Öffnungsstellung angehoben werden.By means of a lifting device 22 can the lid 10 in horizontal direction from the in 1 illustrated closed position in an in 2 shown opening position to be raised.

Das Gaseinlassorgan 11 ist fest mit der Unterseite 10 des Deckels verbunden. Es bildet zwei Kammern 14, 14' aus, die vertikal übereinander angeordnet sind. Die Kammer 14 wird durch eine Zuleitung 13 mit einem ersten Prozessgas gespeist. Dieses Prozessgas kann aus der Kammer 14 durch Gasaustrittsöffnungen 15 durchströmen. Die Gasaustrittsöffnungen 15 münden an einer Gasaustrittsfläche 12 des Gaseinlassorgans 11, die sich parallel zur Oberseite des Suszeptors 3 beziehungsweise zum Deckel 10 erstreckt. Eine zweite Kammer 14' ist über eine zweite Zuleitung 13' mit einem zweiten Prozessgas speisbar. Dieses Prozessgas kann durch Gasaustrittsöffnungen 15, die ebenfalls in der Gasaustrittsfläche 12 münden, in die Prozesskammer eintreten.The gas inlet organ 11 is stuck to the bottom 10 connected to the lid. It forms two chambers 14 . 14 ' from which are arranged vertically one above the other. The chamber 14 is through a supply line 13 fed with a first process gas. This process gas may come from the chamber 14 through gas outlet openings 15 flow through. The gas outlet openings 15 lead to a gas outlet surface 12 of the gas inlet member 11 , which are parallel to the top of the susceptor 3 or to the lid 10 extends. A second chamber 14 ' is via a second supply line 13 ' can be fed with a second process gas. This process gas can through gas outlet openings 15 , which are also in the gas outlet area 12 open, enter the process chamber.

Es sind nicht dargestellte Mittel, wie Kühlkanäle oder dergleichen, vorgesehen, mit denen die Gasaustrittsfläche 12 in bekannter Weise gekühlt wird. Trotz einer derartigen Kühlung der Gasaustrittsfläche 12 ist es bei einem Beschichtungsprozess nicht vermeidbar, dass sich an der Gasaustrittsfläche 12 parasitäre Ablagerungen bilden. Diese parasitären Ablagerungen müssen von Zeit zu Zeit entfernt werden. Dies erfolgt mit einer erfindungsgemäßen Reinigungseinrichtung.There are not shown means, such as cooling channels or the like, provided with which the gas outlet surface 12 is cooled in a known manner. Despite such cooling of the gas outlet surface 12 it is unavoidable in a coating process that at the gas outlet surface 12 form parasitic deposits. These parasitic deposits must be removed from time to time. This is done with a cleaning device according to the invention.

Ein erstes Ausführungsbeispiel der Reinigungsvorrichtung zeigen die 1 bis 4. Die Reinigungsvorrichtung besitzt einen Reinigungsgerätträger 16, der wiederum ein rotationssymmetrisches, topfförmiges Gehäuse 17 aufweist. Die Umrisskontur der Unterseite des Gehäuses 17 entspricht der Umrisskontur des Deckels 10, so dass das Gehäuse 17 auf die Entnahmeöffnung 19 aufsetzbar ist und sie gleichzeitig verschließt (siehe 3). Durch einen Spülgaseinlass 19 kann ein Spülgas in die Gehäusehöhlung des Gehäuses 17 eingespeist werden. Dieses Spülgas kann die Gehäusehöhlung durch einen Spülgasauslass 20 wieder verlassen. Der Spülgasauslass 20 kann mit einer Vakuumpumpe verbunden sein. Im Zentrum des einen kreisrunden Grundriss aufweisenden Gehäuses 17 befindet sich eine Drehachse 25, die einen Bürstenträger 24 lagert. Der Bürstenträger 24 kann eine Kreisscheibenform besitzt. Er kann mit nicht dargestellten elektrischen oder pneumatischen Antriebsmitteln um die Drehachse 25 drehangetrieben werden. Exzentrisch zur Drehachse 25 ist eine weitere Drehachse 23 angeordnet, die ein kreisscheibenförmiges Reinigungsgerät 18 trägt. Mit nicht dargestellten elektrischen oder pneumatischen Antriebsmitteln kann das Reinigungsgerät 18 um die Drehachse 23 angetrieben werden. Die von der Breitseitenfläche des Reinigungsgerätes 18 abragenden Borsten können somit durch eine überlagerte Drehbewegung eine zykloidische Bewegung durchführen. Die Borsten ragen dabei vertikal nach oben. Die Gehäuseöffnung 17' des Gehäuses 17 hat dieselbe Umrisskontur wie die Entnahmeöffnung 9, so dass die Gehäuseöffnung 17' vom Deckel 10 verschließbar ist, wie es die 3 zeigt. Hierzu wird zunächst der Reinigungsgerätträger 16, also das Gehäuse 17, von der in 2 dargestellten Position nach links in den Zwischenraum zwischen Entnahmeöffnung 9 und Gasaustrittsfläche 12 gebracht und auf das Reaktorgehäuse 1 abgesetzt, so dass die Entnahmeöffnung 9 von der Unterseite des Gehäuses 17 verschlossen ist. Dann wird mittels der Hubeinrichtung 22 der Deckel 10 und das am Deckel befestigte Gaseinlassorgan 11 abgesenkt, bis der Deckel 10 mit seinem Rand auf dem Rand der Gehäuseöffnung 17' dichtend anliegt. Die Borsten des Reinigungsgerätes 18 sind jetzt in Kontakt mit der Gasaustrittsfläche 12 getreten. Durch Drehen des Bürstenträgers 24 und der Bürste 18 in jeweils einer Ebene parallel zur Ebene der Gasaustrittsfläche 12 wird die Gasaustrittsfläche 12 mechanisch gereinigt. Die scheibenförmige Bürste 18 sollte einen Durchmesser besitzen, der größer ist wie der Radius der kreisscheibenförmigen Gasaustrittsfläche 12. Der Durchmesser kann aber auch kleiner sein. Die kreisscheibenförmige Bürste 18 bewegt sich auf einer Bewegungsbahn über die gesamte Gasaustrittsfläche 12. Während des Reinigungsprozesses wird ein Spülgas durch den Spülgaseinlass 19 in die Gehäusehöhlung des Gehäuses 17 eingespeist. Der Binnendruck innerhalb der Gehäusehöhlung kann durch eine Vakuumpumpe, die am Spülgasauslass 20 angeschlossen ist, auf einen Niedrigdruck eingestellt werden.A first embodiment of the cleaning device show the 1 to 4 , The cleaning device has a cleaning device carrier 16 , in turn, a rotationally symmetrical, cup-shaped housing 17 having. The outline contour of the bottom of the case 17 corresponds to the outline contour of the lid 10 so that the case 17 on the removal opening 19 can be placed and it closes at the same time (see 3 ). Through a purge gas inlet 19 may be a purge gas in the housing cavity of the housing 17 be fed. This purge gas may drain the housing through a purge gas outlet 20 leave again. The purge gas outlet 20 can be connected to a vacuum pump. In the center of a circular plan having housing 17 there is a rotation axis 25 holding a brush holder 24 outsourced. The brush holder 24 can have a circular disk shape. He can with not shown electric or pneumatic drive means about the axis of rotation 25 be driven in rotation. Eccentric to the axis of rotation 25 is another axis of rotation 23 arranged, which is a circular disc-shaped cleaning device 18 wearing. With not shown electric or pneumatic drive means, the cleaning device 18 around the axis of rotation 23 are driven. The of the broad side surface of the cleaning device 18 projecting bristles can thus perform a cycloidal movement by a superimposed rotary motion. The bristles protrude vertically upwards. The housing opening 17 ' of the housing 17 has the same outline contour as the removal opening 9 so that the case opening 17 ' from the lid 10 is lockable, as is the 3 shows. For this purpose, first the cleaning device carrier 16 So the case 17 from the in 2 shown position to the left in the space between the removal opening 9 and gas outlet surface 12 brought and onto the reactor housing 1 discontinued, leaving the removal opening 9 from the bottom of the case 17 is closed. Then by means of the lifting device 22 the lid 10 and the gas inlet member attached to the lid 11 lowered until the lid 10 with its edge on the edge of the housing opening 17 ' sealingly rests. The bristles of the cleaning device 18 are now in contact with the gas outlet surface 12 resigned. By turning the brush holder 24 and the brush 18 in each case in a plane parallel to the plane of the gas outlet surface 12 becomes the gas outlet surface 12 mechanically cleaned. The disc-shaped brush 18 should have a diameter which is larger than the radius of the circular disk-shaped gas outlet surface 12 , The diameter can also be smaller. The circular disk-shaped brush 18 moves on a trajectory over the entire gas outlet surface 12 , During the Purification process becomes a purge gas through the purge gas inlet 19 in the housing cavity of the housing 17 fed. The internal pressure within the housing cavity can be controlled by a vacuum pump located at the purge gas outlet 20 is connected to a low pressure.

Die 5 und 6 zeigen ein zweites Ausführungsbeispiel eines Reinigungsgerätträgers. Das Reinigungsgerät 18 wird hier von einem walzenförmigen Körper ausgebildet, dessen Konturachse die Drehachse ist und in der Horizontalebene liegt. Von der Mantelfläche des walzenförmigen Körpers ragen Borsten ab. Es ist ein Antriebsaggregat 26 vorgesehen, mit dem die Bürste 18 einerseits um ihre Drehachse gedreht und andererseits linear in einer Horizontalebene bewegt werden kann.The 5 and 6 show a second embodiment of a cleaning device carrier. The cleaning device 18 is formed here by a cylindrical body whose contour axis is the axis of rotation and lies in the horizontal plane. From the lateral surface of the cylindrical body protrude bristles. It is a drive unit 26 provided with the brush 18 on the one hand can be rotated about its axis of rotation and on the other hand can be moved linearly in a horizontal plane.

Das in der 7 dargestellte dritte Ausführungsbeispiel zeigt ebenfalls ein Reinigungsgerät 18 in Form einer um ihre Achse drehantreibbaren Walze mit von der Mantelfläche der Walze abragenden Borsten. Hier wird die Walze um eine vertikale Schwenkachse geschwenkt. Zum Schwenken des Reinigungsgerätes 18 und zum Drehen der Walze ist ein Antriebsaggregat 26 vorgesehen, das in der Schwenkachse liegt. Das Reinigungsgerät 18 kann über einen Winkel von etwa 90° hin und her geschwenkt werden, um so die gesamte Gasaustrittsfläche 12 zu reinigen.That in the 7 illustrated third embodiment also shows a cleaning device 18 in the form of a roller rotatably driven about its axis with projecting from the lateral surface of the roller bristles. Here, the roller is pivoted about a vertical pivot axis. For swiveling the cleaning device 18 and for rotating the roller is a drive unit 26 provided, which lies in the pivot axis. The cleaning device 18 can be swiveled over an angle of about 90 ° back and forth, so the entire gas outlet surface 12 to clean.

Das in der 8 dargestellte vierte Ausführungsbeispiel zeigt eine Anordnung gemäß 4. Während das Reinigungsgerät gemäß 4 eine kreisförmige Scheibe ist, deren gesamte Breitseitenfläche mit Borsten belegt ist, zeigt das in der 8 dargestellte Ausführungsbeispiel eine um eine Drehachse 23 drehangetriebene Kreisscheibe, bei der lediglich der äußerste Rand mit Borsten versehen ist. Es handelt sich somit um eine topfförmige Bürste.That in the 8th illustrated fourth embodiment shows an arrangement according to 4 , While the cleaning device according to 4 a circular disc is, whose entire broadside surface is covered with bristles, shows that in the 8th illustrated embodiment one about an axis of rotation 23 Rotationally driven disc in which only the outermost edge is provided with bristles. It is thus a pot-shaped brush.

Erfindungsgemäß erfolgt der gesamte Reinigungsablauf in einer Betriebskammer 8. Es handelt sich dabei um eine Handschuhbox, innerhalb derer das Reaktorgehäuse 1 angeordnet ist. Die Handschuhbox wird mit einem Spülgas gespült. Der Reinigungsgerätträger 16 befindet sich innerhalb der Handschuhbox 8 und wird von einem nicht dargestellten Handhabungsautomaten in die in 2 dargestellte Stellung und weiter bin in die in 3 dargestellte Stellung gebracht. Es kann ein nicht dargestellter weiterer Deckel vorgesehen sein, mit dem die Gehäuseöffnung 17' verschlossen werden kann, wenn die Reinigungsvorrichtung sich in einem Nichtgebrauchszustand befindet.According to the invention, the entire cleaning process takes place in an operating chamber 8th , It is a glove box, within which the reactor housing 1 is arranged. The glove box is rinsed with a purge gas. The cleaning device carrier 16 is inside the glove box 8th and is by an unillustrated handling machine in the in 2 position shown and further I am in the 3 shown position brought. It may be provided an unillustrated further lid, with which the housing opening 17 ' can be closed when the cleaning device is in a non-use state.

Bei dem in den 9 bis 13 dargestellten fünften Ausführungsbeispiel besitzt das Reaktorgehäuse 1 im Wesentlichen die Gestalt eines hohlen Zylinders. Ein unteres Gehäuseteil bildet eine Wandung mit einer Beladeöffnung 6 und eine kreisförmige Entnahmeöffnung 9 aus, die im geschlossenen Zustand von einem Deckel 10 verschlossen ist. Innerhalb des Unterteils des Reaktorgehäuses befindet sich eine Heizung 5, mit der ein sich im Unterteil des Gehäuses befindender Suszeptor 3 auf eine Betriebstemperatur aufgeheizt werden kann, wobei der Suszeptor 3 der Träger von in der Prozesskammer 2 zu beschichtenden Substraten 4 ist.In the in the 9 to 13 illustrated fifth embodiment has the reactor housing 1 essentially the shape of a hollow cylinder. A lower housing part forms a wall with a loading opening 6 and a circular discharge opening 9 off, in the closed state of a lid 10 is closed. Within the lower part of the reactor housing is a heater 5 with which a susceptor located in the lower part of the housing 3 can be heated to an operating temperature, wherein the susceptor 3 the carrier of in the process chamber 2 to be coated substrates 4 is.

Es sind zwei Säulen 28 vorgesehen, auf denen jeweils Führungen 29 angeordnet sind. Die Führungen 29 sind mittels eines Halteelementes 31 und eines Haltearmes 30 mit dem Deckel 10 verbunden, so dass der Deckel 10 in Vertikalrichtung von einer Geschlossenstellung in eine Offenstellung gebracht werden kann. Hierzu gleiten die Führungen 29 an den Säulen 28.They are two pillars 28 provided on each of which guides 29 are arranged. The guides 29 are by means of a holding element 31 and a holding arm 30 with the lid 10 connected so that the lid 10 can be brought in the vertical direction from a closed position to an open position. To do this, slide the guides 29 at the columns 28 ,

An der Unterseite des Deckels 10 befindet sich ein Gaseinlassorgan 11, mit dem Prozessgase in die Prozesskammer 2 eingespeist werden können. Dies erfolgt durch eine Zuleitung 13, durch die das Prozessgas in eine Kammer 14 des Gaseinlassorganes 11 strömen kann. Eine untere Begrenzungswand der Kammer 14 besitzt eine Vielzahl von sieb- oder gitterartig angeordneten Gasaustrittsöffnungen 15 und bildet eine Gasaustrittsfläche 12 aus, die eine Kreisform besitzt. Im geschlossenen Zustand des CVD-Reaktors 1 bildet die Gasaustrittsfläche 12 die obere Begrenzung der Prozesskammer 2, deren untere Begrenzung die Oberseite des Suszeptors 3 ausbildet. Die Gasaustrittsfläche besitzt duschkopfartig angeordnete Gasaustrittsöffnungen, weshalb das Gasauslassorgan 11 auch als Duschkopf (showerhead) bezeichnet wird.At the bottom of the lid 10 there is a gas inlet organ 11 , with the process gases in the process chamber 2 can be fed. This is done by a supply line 13 through which the process gas enters a chamber 14 of the gas inlet organ 11 can flow. A lower boundary wall of the chamber 14 has a plurality of screen or grid-like arranged gas outlet openings 15 and forms a gas outlet surface 12 out, which has a circular shape. In the closed state of the CVD reactor 1 forms the gas outlet surface 12 the upper limit of the process chamber 2 whose lower limit is the top of the susceptor 3 formed. The gas outlet surface has shower head-like arranged gas outlet openings, which is why the Gasauslassorgan 11 Also referred to as showerhead (showerhead).

Um die Gasaustrittsfläche 12 von Belegungen zu reinigen, wird der Deckel 10 zusammen mit dem daran befestigten Gaseinlassorgan 11 von der in 11 dargestellten Geschlossenstellung in die in 9 dargestellte Offenstellung gebracht. Die Reinigung erfolgt mittels zweier Reinigungsgeräte 18, 18', die jeweils die Form einer topfförmigen Bürste aufweisen. Jede der beiden topfförmigen Bürsten 18, 18' ist um eine Drehachse 23, 23' drehbar. Die Bürsten 18, 18' können von einem nicht dargestellten Antriebsmotor angetrieben werden. Jede Bürste 18, 18' kann von einem eigenen Antriebsmotor angetrieben werden. Es ist aber auch möglich, die beiden Bürsten 18, 18' miteinander zu koppeln, beispielsweise mit einem Zahnradgetriebe oder einem Zahnriemen.To the gas outlet surface 12 cleaning of assignments, the lid becomes 10 together with the gas inlet member attached thereto 11 from the in 11 shown closed position in the in 9 shown open position brought. The cleaning takes place by means of two cleaning devices 18 . 18 ' , each having the shape of a cup-shaped brush. Each of the two pot-shaped brushes 18 . 18 ' is about a rotation axis 23 . 23 ' rotatable. The brushes 18 . 18 ' can be driven by a drive motor, not shown. Every brush 18 . 18 ' can be powered by its own drive motor. But it is also possible, the two brushes 18 . 18 ' to couple with each other, for example with a gear transmission or a toothed belt.

Beide Bürsten 18, 18' sind gemeinsam in einem Gehäuse 17 angeordnet, welches einen Reinigungsgerätträger 16 ausbildet. Das Gehäuse 17 ist wannenförmig und besitzt eine zur Gasaustrittsfläche 12 weisende Gehäuseöffnung. Es handelt sich um ein langgestrecktes Gehäuse, welches um eine Drehachse 25 gedreht werden kann. Das Gehäuse 17 wird von einem Arm 27 getragen, der um ein säulenförmiges Halteglied 32 schwenkbar ist. Es kann von einer in der 12 dargestellten Parkstellung in eine in der 10 dargestellten Reinigungsstellung geschwenkt werden. In der Parkstellung befindet sich das Gehäuse 17 neben dem Deckel 10. In der Reinigungsstellung befindet sich das Gehäuse 17 unterhalb der Gasaustrittsfläche 12, und zwar derart, dass die Drehachse 25 des Gehäuses 17 im Zentrum der Gasaustrittsfläche 12 liegt.Both brushes 18 . 18 ' are together in one housing 17 arranged, which is a cleaning device carrier 16 formed. The housing 17 is trough-shaped and has a gas outlet surface 12 facing housing opening. It is an elongated housing, which is about a rotation axis 25 can be turned. The housing 17 becomes from an arm 27 carried around a pillar-shaped holding member 32 is pivotable. It can be from one in the 12 Parking position shown in a in the 10 be pivoted cleaning position shown. In the parking position is the housing 17 next to the lid 10 , In the cleaning position is the housing 17 below the gas outlet surface 12 , in such a way that the axis of rotation 25 of the housing 17 in the center of the gas outlet area 12 lies.

Die beiden Bürsten, 18, 18' sind derart im Gehäuse 17 angeordnet, dass sie bei einer Drehung des Gehäuses 17 um die Drehachse 25 auf zwei voneinander verschiedenen Kreisbahnen um das Zentrum der Gasaustrittsfläche gedreht werden. Dabei reinigt die Bürste 18 eine Kreisfläche um das Zentrum der Gasaustrittsfläche 12 und die Bürste 18' einen Ringbereich, der bis an den äußeren Rand der Gasaustrittsfläche 12 ragt und den Kreisbereich überlappt, den die Bürste 18 reinigt.The two brushes, 18 . 18 ' are so in the case 17 arranged that they turn on the case 17 around the axis of rotation 25 be rotated on two different circular paths around the center of the gas outlet surface. The brush cleans 18 a circular area around the center of the gas outlet surface 12 and the brush 18 ' a ring area that extends to the outer edge of the gas outlet surface 12 protrudes and overlaps the circular area that the brush 18 cleans.

Das Gehäuse 17 kann in Vertikalrichtung relativ gegenüber dem Deckel 10 verlagert werden. Hierzu kann der Arm 27 in Richtung des Doppelpfeiles gegenüber dem Halteglied 32 verlagert werden. Das Halteglied 32 sitzt fest an einem Haltearm 30, der fest am Deckel 10 befestigt ist. Gleichzeitig dient der Haltearm 30 aber auch zur Verbindung des Deckels 10 mit der Führung 29.The housing 17 Can in the vertical direction relative to the lid 10 be relocated. For this, the arm 27 in the direction of the double arrow relative to the holding member 32 be relocated. The holding member 32 sits firmly on a support arm 30 , firmly on the lid 10 is attached. At the same time the holding arm serves 30 but also to the connection of the lid 10 with the leadership 29 ,

Das Gehäuse 17, in dem sich die Reinigungsgeräte 18 befinden, besitzt eine Länge, die größer ist als das Doppelte des Durchmessers der beiden im Wesentlichen gleich gestalteten Brüsten 18, 18'. Die Breite des Gehäuses 17 entspricht hingegen im Wesentlichen dem Durchmesser der Bürste 18, 18' zuzüglich eines geringen Wandabstandes, den die Brüsten zum Rand besitzen. Die Grundfläche des Gehäuses 17 ist wesentlich kleiner als die Grundfläche der Gasaustrittsfläche. Insbesondere ist die Gehäuselänge geringer als der Durchmesser der Gasaustrittsfläche 12.The housing 17 in which are the cleaning equipment 18 have a length greater than twice the diameter of the two substantially identically shaped breasts 18 . 18 ' , The width of the case 17 In contrast, corresponds essentially to the diameter of the brush 18 . 18 ' plus a small wall distance the breasts have to the edge. The base of the case 17 is much smaller than the base area of the gas outlet surface. In particular, the housing length is less than the diameter of the gas outlet surface 12 ,

Wie aus der 10 zu entnehmen ist, besitzt die Bürste 18 einen Bürstenkranz, der einen Kreis umschließt, in dem die Drehachse 25 liegt, um die das Gehäuse 16 gedreht wird. Die Bürste 18' besitzt einen Borstenkranz, der sich bis zum äußersten Rand der Gasaustrittsfläche 12 erstreckt. Die Durchmesser der Bürsten 18, 18' sind geringfügig größer als der halbe Radius der Gasaustrittsfläche 12.Like from the 10 can be seen, owns the brush 18 a brush ring enclosing a circle in which the axis of rotation 25 lies around the the housing 16 is turned. The brush 18 ' has a bristle rim that extends to the very edge of the gas outlet surface 12 extends. The diameters of the brushes 18 . 18 ' are slightly larger than half the radius of the gas outlet surface 12 ,

Das Reinigungsverfahren erfolgt in folgenden Schritten ausgehend von einem geschlossenen Reaktorgehäuse 1, wie es in den 11 und 12 dargestellt ist. Der Reinigungsgerätträger 16 wird innerhalb der Betriebskammer 8 bereitgehalten. Er befindet sich in seiner Parkposition neben dem CVD-Reaktorgehäuse 1. Der Deckel 10 wird in die in 9 dargestellte Position angehoben. Einhergehend damit wird auch der am Deckel 10 hängende Reinigungsgerätträger 16 vertikal nach oben verlagert. Als Nächstes wird der Arm 27 um die außerhalb der Grundfläche des CVD-Reaktors 1 angeordnete Schwenkachse 32 in eine Betriebsstellung gebracht, in der sich die Drehachse 25 des Reinigungsgerätträgers 16 im Zentrum der Gasaustrittsfläche 12 befindet. Daran anschließend wird der Arm 27 angehoben, bis die Borsten des Reinigungsgerätes 18, 18' die Gasaustrittsfläche 12 berühren. Alternativ dazu ist es aber auch möglich, dass nicht der Arm 27 angehoben wird, sondern lediglich das Gehäuse 17 oder das die Reinigungsgeräte 18, 18' relativ gegenüber dem Gehäuse 17 angehoben werden.The cleaning process is carried out in the following steps starting from a closed reactor housing 1 as it is in the 11 and 12 is shown. The cleaning device carrier 16 is inside the operating chamber 8th kept ready. He is in his parking position next to the CVD reactor housing 1 , The lid 10 will be in the in 9 raised position shown. Along with it will be the lid 10 hanging cleaning device carriers 16 shifted vertically upwards. Next is the arm 27 around the outside of the base of the CVD reactor 1 arranged pivot axis 32 brought into an operating position in which the axis of rotation 25 of the cleaning device carrier 16 in the center of the gas outlet area 12 located. Then the arm becomes 27 raised until the bristles of the cleaner 18 . 18 ' the gas outlet surface 12 touch. Alternatively, it is also possible that not the arm 27 is raised, but only the housing 17 or the cleaning equipment 18 . 18 ' relative to the housing 17 be raised.

Die Reinigung erfolgt durch gleichzeitiges Drehen des Gehäuses 17 um die Drehachse 25 und der beiden Reinigungsgeräte 18, 18' um Ihre jeweiligen Drehachsen 23, 23'. Dies kann über einen gemeinsamen Antrieb erfolge, wobei die Drehbewegung der Reinigungsgeräte 18 beispielsweise über ein Planetengetriebe oder ein Riemengetriebe aus der Drehbewegung des Gehäuses 17 gegenüber dem Arm 27 abgeleitet wird. Die einzelnen Borsten der topfförmigen Reinigungsgeräte 18 brüsten in einer zykloidischen Bewegungsbahn über die Gasaustrittsfläche 12.The cleaning is done by turning the housing at the same time 17 around the axis of rotation 25 and the two cleaning devices 18 . 18 ' around your respective axes of rotation 23 . 23 ' , This can be done via a common drive, wherein the rotational movement of the cleaning devices 18 for example, via a planetary gear or a belt transmission from the rotational movement of the housing 17 opposite the arm 27 is derived. The individual bristles of the cup-shaped cleaning devices 18 breast in a cycloidal trajectory over the gas outlet surface 12 ,

Das Gehäuse 17 kann verwendet werden, um von der Gasaustrittsfläche 12 abgebürstete Partikel aufzufangen. Es kann eine nicht dargestellte Reinigungseinrichtung aufweisen, mit der die Partikel aus dem Gehäuse 17 wieder entfernt werden. Dies kann beispielsweise unter Verwendung von Gasströmen erfolgen. Insbesondere ist vorgesehen, dass die Partikel mittels einer Saugströmung entfernt werden.The housing 17 Can be used to remove from the gas outlet surface 12 to catch brushed particles. It may have a cleaning device, not shown, with which the particles from the housing 17 be removed again. This can be done, for example, using gas streams. In particular, it is provided that the particles are removed by means of a suction flow.

Mit einer nicht dargestellten temporären Abdeckung wird während des Reinigens der Gasaustrittsfläche in der in der 9 dargestellten Betriebsstellung die Entnahmeöffnung 9 abgedeckt, so dass sich von der Gasaustrittsfläche 12 lösende Partikel nicht in die Prozesskammer hineinfallen können.With a temporary cover, not shown, during the cleaning of the gas outlet surface in the in the 9 shown operating position the removal opening 9 Covered so that differs from the gas outlet surface 12 Solvent particles can not fall into the process chamber.

Die 13 zeigt eine bevorzugte Getriebeanordnung, mit der das Gehäuse 17 um die Drehachse 25 drehangetrieben werden kann. Eine Welle 36 ist ortsfest mit dem Gehäuse 17, insbesondere mit einer Platte 46 verbunden, die eine Gehäusehöhlung 37 des Gehäuses 17 verschließt. In diese Gehäusehöhlung ragen um die Drehachsen 23, 23' drehbare Antriebswellen für die Bürsten 18, 18'. Am Ende der Antriebswellen sitzen Riemenscheiben 41, 41'.The 13 shows a preferred transmission arrangement, with which the housing 17 around the axis of rotation 25 can be rotated. A wave 36 is stationary with the housing 17 , especially with a plate 46 connected to a housing cavity 37 of the housing 17 closes. In this housing cavity protrude around the axes of rotation 23 . 23 ' rotatable drive shafts for the brushes 18 . 18 ' , Pulleys are located at the end of the drive shafts 41 . 41 ' ,

Die Welle 36 ist drehbar in einer Gehäusehöhlung 33 des Armes 27 gelagert. Auf dem freien Ende der Welle 36 sitzt eine Riemenscheibe 39, die von einem Antriebsriemen 34 angetrieben ist, der mit einer Riemenscheibe 38 eines Antriebsmotors 26 über einen Riemen 34 verbunden ist. Der Antriebsmotor 26 liegt außerhalb des Drehbereichs des Gehäuses 17.The wave 36 is rotatable in a housing cavity 33 of the arm 27 stored. On the free end of the shaft 36 sits a pulley 39 that by a drive belt 34 powered by a pulley 38 a drive motor 26 over a belt 34 connected is. The drive motor 26 is outside the range of rotation of the housing 17 ,

Eine fest mit dem Arm 27 einer Deckenplatte 47 des Armes 27 verbundene Befestigungsplatte 45 trägt zwei Riemenscheiben 40, 40'. Dies hat zur Folge, dass die Riemenscheiben 40, 40' dem Arm 27 drehfest zugeordnet sind. Das Gehäuse 70, welches den Reinigungsgerätträger 16 ausbildet, dreht sich um die Befestigungsplatte 45 und um die gegenüber dem Arm 27 feststehenden Riemenscheiben 40, 40'. Die Riemenscheibe 40' ist über einen Antriebsriemen 42 mit der Riemenscheibe 41' der Bürste 18 verbunden. Die Riemenscheibe 40 ist über den Riemen 42 mit der Riemenscheibe 41 der Bürste 18' verbunden. Es sind Riemenspanner 43, 35 vorgesehen, um die Riemen 42, 42' zu spannen. Bei den Riemen 42, 42' 34 kann es sich um Zahnriemen handeln.A tight with the arm 27 a ceiling tile 47 of the arm 27 connected mounting plate 45 carries two pulleys 40 . 40 ' , As a result, the pulleys 40 . 40 ' the arm 27 are assigned rotationally fixed. The housing 70 which the cleaning device carrier 16 forms, turns around the mounting plate 45 and around the arm 27 fixed pulleys 40 . 40 ' , The pulley 40 ' is via a drive belt 42 with the pulley 41 ' the brush 18 connected. The pulley 40 is over the belt 42 with the pulley 41 the brush 18 ' connected. They are belt tensioners 43 . 35 provided to the straps 42 . 42 ' to stretch. At the belts 42 . 42 ' 34 it can be a toothed belt.

Wird der Motor 26 gedreht, so wird über den Antriebsriemen 34 die Riemenscheibe 39 und damit die Welle 36 relativ gegenüber dem Arm 27 gedreht. Da die Welle 36 fest mit dem Gehäuse 17 verbunden ist, wird das Gehäuse 17 gedreht. Da die in der Gehäusehöhlung 37 angeordneten Riemenscheiben 40, 40' bei einer Drehung des Gehäuses 17 um die Drehachse 25 festgehalten werden, vollziehen sie relativ gegenüber dem Gehäuse 17 eine Drehung, so dass sich auch die Riemenscheiben 41, 41' relativ gegenüber dem Gehäuse 17 drehen. Zufolge dieser Anordnung wird die Drehbewegung der Bürsten 18, 18' aus der Drehbewegung des Gehäuses 17 abgeleitet.Will the engine 26 turned, so is about the drive belt 34 the pulley 39 and with it the wave 36 relative to the arm 27 turned. Because the wave 36 firmly with the housing 17 is connected, the housing becomes 17 turned. As in the housing cavity 37 arranged pulleys 40 . 40 ' upon rotation of the housing 17 around the axis of rotation 25 be held, they perform relative to the housing 17 a turn, so that also the pulleys 41 . 41 ' relative to the housing 17 rotate. As a result of this arrangement, the rotational movement of the brushes 18 . 18 ' from the rotational movement of the housing 17 derived.

Eine Gehäusehöhlung 33, in der sich der Riemen 34 befindet, wird von einer Gehäusekappe verschlossen, die sich unterhalb der Armplatte 47 befindet.A housing cavity 33 in which the belt 34 is closed by a housing cap located below the arm plate 47 located.

Die 14 bis 22 zeigen als sechstes Ausführungsbeispiel eine Weiterentwicklung des in den 9 bis 13 dargestellten fünften Ausführungsbeispiels. Die wesentlichen Änderungen, die gegenüber dem fünften Ausführungsbeispiel vorgenommen sind, betreffen das Reinigungsgerät 18 sowie eine Absaugvorrichtung. Die Funktionsweise und konstruktive Ausgestaltung entspricht ansonsten dem fünften Ausführungsbeispiel, weshalb auf die diesbezüglichen Ausführungen Bezug genommen wird.The 14 to 22 show as a sixth embodiment, a further development of the in the 9 to 13 illustrated fifth embodiment. The essential changes made with respect to the fifth embodiment relate to the cleaning device 18 and a suction device. The operation and structural design otherwise corresponds to the fifth embodiment, which is why reference is made to the relevant embodiments.

Die Vorrichtung besitzt eine Säule 28, die in unmittelbarer Nachbarschaft eines nicht dargestellten Reaktorgehäuses angeordnet ist. Die Säule 28 trägt ein Halteglied 32, an welchem ein Schieber 50 angeordnet ist, der einen Haltearm 30 vertikal verschieben kann. Der Haltearm 30 trägt einen Arm 27, der gegenüber dem Haltearm 30 verschwenkbar ist, um den Reinigungsgerätträger 16 von einer Parkposition in eine Reinigungsposition zu bringen. Mit der von dem Schlitten 50 ausgebildeten Hubeinrichtung kann ein mechanisches Reinigungselement 48 von einer Abstandsstellung in eine Kontaktstellung zu der Gasaustrittsfläche 12 eines Gaseinlassorgans 11 gebracht werden.The device has a column 28 , which is arranged in the immediate vicinity of a reactor housing, not shown. The pillar 28 carries a holding member 32 on which a slider 50 is arranged, which has a holding arm 30 can move vertically. The holding arm 30 carries an arm 27 , the opposite of the arm 30 is pivotable to the cleaning device carrier 16 from a parking position to a cleaning position. With the from the sled 50 trained lifting device may be a mechanical cleaning element 48 from a distance position into a contact position to the gas outlet surface 12 a gas inlet member 11 to be brought.

Die mechanischen Reinigungselemente 48 werden von einem Borstenkranz ausgebildet, der einen im Querschnitt schwalbenschwanzförmigen Sockel aufweist, der in einer formentsprechenden Nut eines Ringkörpers 49 gehalten ist (siehe 17, 18). Der Ringkörper 49 ist Teil des Reinigungsgerätes 18 und ist über Speichen 52 mit einem Zentralkörper 51 verbunden, der eine Kreisscheibenform aufweist und um die Zentrumsachse drehangetrieben werden kann. Zwischen dem Ringkörper 49 und dem Zentralkörper 51 befindet sich ein Durchtrittsspalt 54. Es handelt sich dabei um einen ringförmigen Absaugspalt 54, der nur an wenigen Stellen von den Speichen 52 unterbrochen ist. Parallel zu dem radial inneren Absaugspalt 54 verläuft ein radial äußerer Absaugspalt 55, so dass der Ringkörper 49 auf beiden Seiten von einem Absaugspalt 54, 55 umgeben ist.The mechanical cleaning elements 48 are formed by a bristle rim having a dovetail-shaped in cross-section base, which in a formmentsprechenden groove of an annular body 49 is held (see 17 . 18 ). The ring body 49 is part of the cleaning device 18 and is about spokes 52 with a central body 51 connected, which has a circular disk shape and can be rotated about the center axis. Between the ring body 49 and the central body 51 there is a passage gap 54 , It is an annular suction gap 54 that only in a few places from the spokes 52 is interrupted. Parallel to the radially inner suction gap 54 runs a radially outer Absaugspalt 55 so that the ring body 49 on both sides of a suction gap 54 . 55 is surrounded.

Die ringförmige Bürstenanordnung 48, 49, 51 des Reinigungsgerätes 18 befindet sich in einem kreisringförmigen Gehäuse 17 welches eine Gehäusewand aufweist, die eine obere Öffnung 17' ausbildet, durch die bevorzugt die als Borsten ausgebildeten mechanischen Reinigungselemente 48 aus der Stirnseite des topfförmigen Gehäuses 17 herausragen.The annular brush arrangement 48 . 49 . 51 of the cleaning device 18 is located in an annular housing 17 which has a housing wall having an upper opening 17 ' forms, through which preferably designed as bristles mechanical cleaning elements 48 from the front side of the cup-shaped housing 17 protrude.

Das Gehäuse 17 besitzt eine Gehäusehöhlung 37 und ist an einem Reinigungsgerätträger 16 befestigt. Das Gehäuse 17 kann gegenüber dem Reinigungsgerätträger 16 gedreht werden. Es kann aber auch drehfest dem Reinigungsgerätträger 16 zugeordnet sein (siehe 19).The housing 17 has a housing cavity 37 and is on a cleaning device carrier 16 attached. The housing 17 can be compared to the cleaning device carrier 16 to be turned around. But it can also rotatably the cleaning device carrier 16 be assigned (see 19 ).

Ein Lagerkörper des Reinigungsgerätträgers 16 lagert eine Welle 44 zum Drehantrieb des Zentralkörpers 51 bzw. des Reinigungsgerätes 18. Der Lagerkörper bildet eine Höhlung 33 aus, die mittels eines ringförmigen Absaugspaltes 56 mit der Höhlung 37 des Gehäuses 17 strömungsverbunden ist. Der Absaugspalt 56 umgibt die Welle 44 bzw. ein die Welle lagerndes Lager, welches drehfest dem Reinigungsgerätträger 16 zugeordnet ist, kreisförmig und ist koaxial zur Drehachse der Welle 44 angeordnet.A bearing body of the cleaning device carrier 16 stores a wave 44 for the rotary drive of the central body 51 or the cleaning device 18 , The bearing body forms a cavity 33 out, by means of an annular Absaugspaltes 56 with the cavity 37 of the housing 17 fluidly connected. The suction gap 56 surround the shaft 44 or a bearing bearing the shaft, which rotatably the cleaning device carrier 16 is assigned, circular and is coaxial with the axis of rotation of the shaft 44 arranged.

Auf dem der Befestigungsstelle des Zentralkörpers 51 gegenüberliegenden Ende der Welle 44 sitzt eine Antriebsscheibe 41, die mittels eines Riemens 42 drehangetrieben werden kann. Der Drehantrieb erfolgt in ähnlicher Weise wie beim fünften Ausführungsbeispiel, weshalb auf die diesbezüglichen Ausführungen verwiesen wird.On the attachment point of the central body 51 opposite end of the shaft 44 sits a drive pulley 41 by means of a belt 42 can be rotated. The rotary drive is carried out in a similar manner as in the fifth embodiment, which is why reference is made to the relevant embodiments.

Der Reinigungsgerätträger 16 ist mittels einer Welle 36 drehbar mit dem Arm 27 verbunden. Auf der Welle 36 sitzt ein Antriebsrad 40, das den Riemen 42 antreibt. Die Welle 36 besitzt eine Höhlung, die mit der Gehäusehöhlung 33 strömungsverbunden ist. Die Höhlung 53 der Welle 36 ist darüber hinaus mit einem Absaugstutzen 57 strömungsverbunden, der über einen Schlauch mit einer Vakuumpumpe verbunden ist, um einen Saugstrom durch die axiale Höhlung 53, die Gehäusehöhlung 33, die Gehäusehöhlung 37 und durch die Absaugspalte 54, 55 zu erzeugen, welche auf beiden Seiten des Ringkörpers 49 angeordnet sind. The cleaning device carrier 16 is by means of a wave 36 rotatable with the arm 27 connected. On the wave 36 sits a drive wheel 40 that the belt 42 drives. The wave 36 It has a cavity with the housing cavity 33 fluidly connected. The cavity 53 the wave 36 is also with a suction nozzle 57 fluidly connected via a hose with a vacuum pump to a suction flow through the axial cavity 53 , the housing cavity 33 , the housing cavity 37 and through the suction column 54 . 55 to generate, which on both sides of the ring body 49 are arranged.

Ein weiteres Antriebsrad 39 sitzt auf der Welle 36 innerhalb einer Höhlung des Armes 27 und wird von einem Riemen 34 drehangetrieben, welcher wiederum von einem Antriebsrad 38 drehangetrieben wird. Letzteres wird von einem Elektromotor 26 drehangetrieben, der unterhalb des Armes 27 angeordnet ist und dessen Abtriebswelle über ein Winkelgetriebe 58 mit der Antriebswelle des Antriebsrades 38 verbunden ist.Another drive wheel 39 sits on the shaft 36 within a hollow of the arm 27 and is from a belt 34 rotationally driven, which in turn by a drive wheel 38 is rotated. The latter is powered by an electric motor 26 rotationally driven, the one below the arm 27 is arranged and whose output shaft via an angle gear 58 with the drive shaft of the drive wheel 38 connected is.

Die 22 zeigt den Ablauf der Reinigungsbewegung. Der Borstenkranz 48 wird in einer Kreisbewegung um sein Zentrum drehangetrieben. Er besitzt einen Durchmesser d, der der Hälfte des Durchmessers D der Gasaustrittsfläche 12 des Gaseinlassorganes 11 entspricht. Neben einer Bewegung um seine Achse wird der Borstenkranz 48 auf einer Kreisbogenbahn bewegt. Es handelt sich dabei um einen Kreisbogen des Mittelpunktes des Borstenkranzes 48 um den Mittelpunkt der Gasaustrittsfläche 12, so dass ein beliebiger Punkt auf dem Borstenkranz 48 eine zykloidische Bewegung auf der Gasaustrittsfläche 12 vollzieht, die durch das Zentrum der Gasaustrittsfläche 12 verläuft.The 22 shows the sequence of the cleaning movement. The bristle wreath 48 is driven in a circular motion around its center. It has a diameter d, which is half the diameter D of the gas outlet surface 12 of the gas inlet organ 11 equivalent. In addition to a movement about its axis, the bristle wreath 48 moved on a circular arc. It is a circular arc of the center of the bristle wreath 48 around the center of the gas outlet surface 12 so that any point on the bristle wreath 48 a cycloidal movement on the gas exit surface 12 which passes through the center of the gas exit surface 12 runs.

Der in der 21 dargestellte Schnitt zeigt eine Lagerkugel 59 auf der Oberseite des Reinigungsgerätträgers 16, auf der sich die Gehäuseunterseite des Gehäuses 17 abstützt. Es sind mehrere derartiger Lagerkugeln 59 vorgesehen.The Indian 21 section shown shows a bearing ball 59 on top of the cleaner carrier 16 , on which the case bottom of the housing 17 supported. There are several such bearing balls 59 intended.

Die Lagerkugeln 59 sind derart flächig in einer Horizontalebene verteilt angeordnet, dass die sich darauf abstützende Unterseite des Gehäuses 17 in der Horizontallage liegt und damit in einer Parallellage zur Gasaustrittsfläche 12 des Gaseinlassorgans 11. Es können auch Lagerkugeln vorgesehen sein, auf denen sich das Reinigungsgerät 18 und insbesondere der Zentralkörper 51 abstützt, damit der Zentralkörper 51 in einer Horizontallage bzw. einer Parallellage zur Gasaustrittsfläche 12 geführt ist.The bearing balls 59 are distributed so flat in a horizontal plane that the supporting thereon underside of the housing 17 lying in the horizontal position and thus in a parallel position to the gas outlet surface 12 of the gas inlet member 11 , It can also be provided bearing balls on which the cleaning device 18 and in particular the central body 51 supported, so that the central body 51 in a horizontal position or a parallel position to the gas outlet surface 12 is guided.

Es sind nicht dargestellte optische Sensoren vorgesehen, mit denen die Lage und insbesondere die Schwenkstellung des Armes 27 ermittelbar ist. Mit diesen, insbesondere von Lasern gebildeten optischen Detektoren wird erreicht, dass die Welle 36 bei der Reinigung im Zentrum der kreisscheibenförmigen Gasaustrittsfläche 12 liegt. Es kann ferner eine mechanische Verrastung im Schwenkgelenk, mit dem der Arm 27 am Haltearm 30 befestigt ist, vorgesehen sein, die in einer Schwenkstellung des Armes 27 einrastet, in der die Welle 36 ihre Koaxialposition zur Gasaustrittsfläche einnimmt.There are not shown optical sensors are provided with which the position and in particular the pivotal position of the arm 27 can be determined. With these, especially laser-formed optical detectors is achieved that the shaft 36 during cleaning in the center of the circular disk-shaped gas outlet surface 12 lies. It can also be a mechanical latch in the pivot joint, with which the arm 27 on the support arm 30 is attached, be provided in a pivoting position of the arm 27 engages in the shaft 36 their coaxial position occupies the gas outlet surface.

Darüber hinaus sind nicht dargestellte Justiermittel, insbesondere Justierschrauben, vorgesehen, mit denen sich der Schwenkwinkel des Armes 27 in der eingerasteten Stellung bzw. ein Neigungswinkel der Bürstenanordnung und insbesondere des Reinigungsgerätes 18 gegenüber der Gasaustrittsfläche 12 korrigieren lässt.In addition, adjusting means, not shown, in particular adjustment screws, provided with which the pivot angle of the arm 27 in the locked position or a tilt angle of the brush assembly and in particular of the cleaning device 18 opposite the gas outlet surface 12 correct.

Die vorstehenden Erläuterungen dienen der Erläuterung der von der Anmeldung insgesamt erfassten Erfindungen, die den Stand der Technik zumindest durch die folgenden Merkmalskombinationen jeweils eigenständig weiterbilden, nämlich:
Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch einen Reinigungsgerätträger 16, der ein relativ gegenüber dem Reinigungsgerätträger 16 bewegbares Reinigungsgerät aufweist.
The above explanations serve to explain the inventions as a whole covered by the application, which independently further develop the state of the art, at least by the following combinations of features, namely:
A device characterized by a cleaning device carrier 16 that is relative to the cleaning device carrier 16 having movable cleaning device.

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass der Reinigungsgerätträger 16 ein Gehäuse 17 ausbildet, welches eine Gehäuseöffnung 17' aufweist, wobei das Reinigungsgerät 18 innerhalb des Gehäuses 17 angeordnet ist und zur Gasaustrittsfläche 12 weist.A device characterized in that the cleaning device carrier 16 a housing 17 forms, which is a housing opening 17 ' having, wherein the cleaning device 18 inside the case 17 is arranged and the gas outlet surface 12 has.

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass der Reinigungsgerätträger 16 um eine Drehachse 25 drehbar an einem Tragarm 27 sitzt, der von einer Parkstellung in eine Reinigungsstellung bringbar ist, in der das Reinigungsgerät 18 an der Gasaustrittsfläche 12 angreift.A device characterized in that the cleaning device carrier 16 around a rotation axis 25 rotatable on a support arm 27 sitting, which can be brought from a parking position in a cleaning position in which the cleaning device 18 at the gas outlet surface 12 attacks.

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das insbesondere fest mit einem Deckel 10 des CVD-Reaktors verbundene Gaseinlassorgan 11 in eine vertikale Abstandslage zu einer Entnahmeöffnung 9 des CVD-Reaktors bringbar ist, so dass der Reinigungsgerätträger 16 von der Parkstellung außerhalb des Raumes zwischen Gasaustrittsfläche 12 und Entnahmeöffnung 9, insbesondere durch eine Horizontalverlagerung in die Reinigungsstellung zwischen Entnahmeöffnung 9 und Gasaustrittsfläche 12 bringbar ist.A device which is characterized in that the particular fixed with a lid 10 the gas inlet device connected to the CVD reactor 11 in a vertical distance position to a removal opening 9 of the CVD reactor can be brought, so that the cleaning device carrier 16 from the parking position outside the space between gas outlet surface 12 and removal opening 9 , In particular by a horizontal displacement in the cleaning position between removal opening 9 and gas outlet surface 12 can be brought.

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Reinigungsgerät 18 mindestens eine von einem Motor drehantreibbare Bürste aufweist, die insbesondere topfförmig, mit am Topfrand angeordneten mechanischen Reinigungselementen 48, walzenförmig, mit an der Zylindermantelfläche angeordneten mechanischen Reinigungselementen 48 oder scheibenförmig, mit an einer Breitseitenfläche angeordneten mechanischen Reinigungselementen 48 ausgebildet ist, wobei die Bürste 18, 18' in einer Linearbewegung, einer Drehbewegung oder einer kombinierten Linear-Drehbewegung über die Gasaustrittsfläche verlagerbar ist.A device which is characterized in that the cleaning device 18 has at least one of a motor rotatably drivable brush, in particular cup-shaped, with arranged on the pot edge mechanical cleaning elements 48 , roller-shaped, with arranged on the cylindrical surface mechanical cleaning elements 48 or disk-shaped, with arranged on a broadside surface mechanical cleaning elements 48 is formed, wherein the brush 18 . 18 ' in a linear movement, a rotary motion or a combined linear rotary movement over the gas outlet surface is displaced.

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass Mittel vorgesehen sind, mit denen mindestens eine Bürste 18, 18' mit kreisringförmig angeordneten Reinigungselementen 48 auf einer kreisförmigen Bewegungsbahn um die Drehachse 25 und um sich selbst drehend entlang der Gasaustrittsfläche 12 bewegt wird und/oder um das Gehäuse 17 in eine Drehbewegung zu versetzen.A device, characterized in that means are provided, with which at least one brush 18 . 18 ' with circular cleaning elements 48 on a circular trajectory about the axis of rotation 25 and turning around itself along the gas exit surface 12 is moved and / or around the housing 17 to put in a rotary motion.

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Gehäuse 17 von einem Arm 27 getragen ist, der am Deckel 10 oder an einem Bereich der Betriebskammer befestigt ist und mit dem das Gehäuse 17 von der unter der Gasaustrittsfläche 12 angeordneten Reinigungsstellung in die neben dem Deckel 10 oder neben dem CVD-Reaktor angeordnete Parkstellung bringbar ist, wobei insbesondere vorgesehen ist, dass das Gehäuse 17 oder die im Gehäuse 17 angeordneten Reinigungselemente 48 horizontal in der Reinigungsstellung verlagerbar sind.A device characterized in that the housing 17 from an arm 27 is worn, the lid 10 or attached to an area of the operating chamber and with which the housing 17 from under the gas outlet surface 12 arranged cleaning position in the next to the lid 10 or arranged next to the CVD reactor parking position can be brought, in particular, it is provided that the housing 17 or in the case 17 arranged cleaning elements 48 horizontally displaced in the cleaning position.

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Gehäuse 17 des Reinigungsgerätträgers 16 eine Absaugeinrichtung 54, 55, 56, 57 zum Absaugen bei der Reinigung erzeugter Partikel aufweist und/oder vom Deckel 10 verschließbar und evakuierbar und/oder mit einem Spülgas spülbar ist.A device characterized in that the housing 17 of the cleaning device carrier 16 a suction device 54 . 55 . 56 . 57 for sucking in the cleaning produced particles and / or from the lid 10 can be closed and evacuated and / or flushed with a purge gas.

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass radial innerhalb und radial außerhalb eines ringförmigen Reinigungselementeträgers 49 Absaugspalte 54, 55 angeordnet sind, die mit einer von der Drehachse 25 ausgebildeten Axialhöhlung 53 und einer Absaugvorrichtung strömungsverbunden sind.A device characterized in that radially inwardly and radially outwardly of an annular cleaning element carrier 49 Absaugspalte 54 . 55 are arranged with one of the axis of rotation 25 trained axial cavity 53 and a suction device are fluidly connected.

Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch eines mittels Speichen 52 in einem radialen Abstand mit einem Zentralkörper 51 verbundenen Ringkörper 49, der die mechanischen Reinigungselemente (48) trägt.A device characterized by a spokes 52 at a radial distance with a central body 51 connected ring body 49 containing the mechanical cleaning elements ( 48 ) wearing.

Ein Verfahren, das gekennzeichnet ist durch folgende Schritte:

  • – Bereithalten des Reinigungsgerätes (18) in der Betriebskammer (8);
  • – Öffnen eines Deckels (10) des CVD-Reaktorgehäuses (1), der eine Entnahmeöffnung (9) zur Entnahme des Gaseinlassorgans (11) aus dem CVD-Reaktorgehäuse (1) verschließt;
  • – Herausverlagern des Gaseinlassorgans (11) aus dem CVD-Reaktorgehäuse (1);
  • – Inkontaktbringen des Reinigungsgerätes (18) an die Gasaustrittsfläche (12) und Reinigen der Gasaustrittsfläche (12);
  • – Entfernen des Reinigungsgerätes von der Gasaustrittsfläche;
  • – Hineinverlagern des Gaseinlassorgans (11) in das CVD-Reaktorgehäuse (1) und Schließen der Entnahmeöffnung (9) mittels des Deckels (10).
A method characterized by the following steps:
  • - keeping the cleaning device ( 18 ) in the operating chamber ( 8th );
  • - opening a lid ( 10 ) of the CVD reactor housing ( 1 ), which has a removal opening ( 9 ) for removal of the gas inlet member ( 11 ) from the CVD reactor housing ( 1 ) closes;
  • - relocating the gas inlet organ ( 11 ) from the CVD reactor housing ( 1 );
  • - contacting the cleaning device ( 18 ) to the gas outlet surface ( 12 ) and cleaning the gas outlet surface ( 12 );
  • - removing the cleaning device from the gas outlet surface;
  • - relocating the gas inlet element ( 11 ) into the CVD reactor housing ( 1 ) and closing the removal opening ( 9 ) by means of the cover ( 10 ).

Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass das fest am Deckel 10 befestigte Gaseinlassorgan 11 zusammen mit dem Deckel 10 vertikal nach oben und das Reinigungsgerät 18 in den Zwischenraum zwischen der Gasaustrittsfläche 12 und der Entnahmeöffnung 9 verlagert wird.A process that is characterized by being firm on the lid 10 attached gas inlet 11 together with the lid 10 vertically upwards and the cleaning device 18 in the space between the gas outlet surface 12 and the removal opening 9 is relocated.

Ein Verfahren, das gekennzeichnet ist durch Drehen des als Bürste angeordneten Reinigungsgerätes 18 um eine Drehachse 23, wobei die Bürste 18 eine an einer Zylindermantelwand angeordnete Borsten aufweisende Walze oder eine an ihrer Breitseitenfläche Borsten aufweisende Scheibe sein kann, wobei die Bürste 18 in einer linearen Bewegung, einer Drehbewegung oder einer kombinierten Dreh- und/oder Linearbewegung über die Gasaustrittsfläche 12 bewegt wird.A method characterized by rotating the cleaning device arranged as a brush 18 around a rotation axis 23 , with the brush 18 a roller having a bristle arranged on a cylinder jacket wall or a disk having bristles on its broad side surface, wherein the brush 18 in a linear movement, a rotary motion or a combined rotary and / or linear movement over the gas outlet surface 12 is moved.

Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass ein Reinigungsgeräteträger 16 verwendet wird, der ein Gehäuse 17 aufweist, welches eine zur Gasaustrittsfläche 12 weisende Öffnung 16 aufweist, wobei innerhalb des Reinigungsgeräteträgergehäuses 17 Bürsten 18 angeordnet sind, mit denen die Gasaustrittsfläche 12 des insbesondere fest am Deckel befestigten Gaseinlassorgans 11 gereinigt wird und mit einer Absaugeinrichtung, die von der Bürste 18 von der Gasaustrittsfläche 12 entfernten Partikel aus dem Gehäuse 17 entfernt werden, wobei ein diesbezüglicher Sauggastrom durch Höhlungen 37, 33, 53 hindurchtritt.A method characterized in that a cleaner carrier 16 is used, which is a housing 17 which has one to the gas outlet surface 12 pointing opening 16 wherein, within the cleaner carrier housing 17 to brush 18 are arranged, with which the gas outlet surface 12 the particular firmly attached to the lid gas inlet member 11 is cleaned and with a suction device by the brush 18 from the gas outlet surface 12 removed particles from the housing 17 be removed, with a related suction gas through cavities 37 . 33 . 53 passes.

Alle offenbarten Merkmale sind (für sich, aber auch in Kombination untereinander) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren mit ihren Merkmalen eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen.All disclosed features are essential to the invention (individually, but also in combination with one another). The disclosure of the associated / attached priority documents (copy of the prior application) is hereby also incorporated in full in the disclosure of the application, also for the purpose of including features of these documents in claims of the present application. The subclaims characterize with their features independent inventive developments of the prior art, in particular to make on the basis of these claims divisional applications.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Reaktorgehäusereactor housing
22
Prozesskammerprocess chamber
33
Suszeptorsusceptor
44
Substratsubstratum
5 5
Heizungheater
66
Beladeöffnungloading opening
77
Torgate
88th
Betriebskammeroperating chamber
99
Entnahmeöffnungremoval opening
1010
Deckel, UnterseiteCover, bottom
1111
GaseinlassorganGas inlet element
1212
GasaustrittsflächeDischarge area
1313
Zuleitungsupply
13'13 '
Zuleitungsupply
1414
Kammerchamber
14'14 '
Kammerchamber
1515
GasaustrittsöffnungGas outlet
1616
ReinigungsgerätträgerCleaning device carrier
1717
Gehäusecasing
17'17 '
Gehäuseöffnunghousing opening
1818
Reinigungsgerät, BürsteCleaning device, brush
1919
Entnahmeöffnung, SpülgaseinlassWithdrawal opening, purge gas inlet
2020
Spülgasauslasspurge gas
2121
Gasauslassgas outlet
2222
Hubeinrichtunglifting device
2323
Drehachseaxis of rotation
2424
Bürstenträgerbrush carrier
2525
Drehachseaxis of rotation
2626
Antriebsaggregatpower unit
2727
Armpoor
2828
Säulepillar
2929
Führungguide
3030
Haltearmholding arm
3131
Halteelementretaining element
3232
Haltegliedretaining member
3333
Höhlungcavity
3434
Riemenbelt
3535
Riemenspannertensioner
3636
Welle, festWave, tight
3737
Höhlungcavity
3838
Antriebsraddrive wheel
3939
Antriebsraddrive wheel
40, 40'40, 40 '
Antriebsraddrive wheel
41, 41'41, 41 '
Antriebsraddrive wheel
42, 42'42, 42 '
Riemenbelt
4343
Riemenspannertensioner
4444
Wellewave
4545
Platteplate
4646
Platteplate
4747
Platteplate
4848
Mechanisches Reinigungselement, BautenMechanical cleaning element, buildings
4949
Ringkörperring body
5050
Schlittencarriage
5151
Zentralkörpercentral body
5252
Speichespoke
5353
axiale Höhlungaxial cavity
5454
Absaugspaltsuction gap
5555
Absaugspaltsuction gap
5656
Absaugspaltsuction gap
5757
Absaugstutzensuction
5858
Winkelgetriebeangle gear
5959
Lagerkugelbearing ball
DD
Durchmesserdiameter
dd
Durchmesserdiameter

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant has been generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • EP 2690193 A1 [0003] EP 2690193 A1 [0003]

Claims (15)

Vorrichtung zum Reinigen eines Gaseinlassorgans eines in einer insbesondere gegenüber der Umgebungsatmosphäre gasdichten Betriebskammer (8) angeordneten CVD-Reaktors durch Inkontaktbringen eines Reinigungsgerätes (18) an einer Gasaustrittsfläche (12) des Gaseinlassorgans (11) und Bewegen des Reinigungsgerätes (18) entlang der Gasaustrittsfläche (12), gekennzeichnet durch einen Reinigungsgerätträger (16), der ein relativ gegenüber dem Reinigungsgerätträger (16) bewegbares Reinigungsgerät aufweist.Device for cleaning a gas inlet element of a working chamber which is gastight in particular in relation to the ambient atmosphere ( 8th ) arranged CVD reactor by contacting a cleaning device ( 18 ) at a gas outlet surface ( 12 ) of the gas inlet member ( 11 ) and moving the cleaning device ( 18 ) along the gas outlet surface ( 12 ), characterized by a cleaning device carrier ( 16 ), which is a relative to the cleaning device carrier ( 16 ) has movable cleaning device. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Reinigungsgerätträger (16) ein Gehäuse (17) ausbildet, welches eine Gehäuseöffnung (17') aufweist, wobei das Reinigungsgerät (18) innerhalb des Gehäuses (17) angeordnet ist und zur Gasaustrittsfläche (12) weist.Apparatus according to claim 1, characterized in that the cleaning device carrier ( 16 ) a housing ( 17 ) forming a housing opening ( 17 ' ), wherein the cleaning device ( 18 ) within the housing ( 17 ) and to the gas outlet surface ( 12 ). Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Reinigungsgerätträger (16) um eine Drehachse (25) drehbar an einem Tragarm (27) sitzt, der von einer Parkstellung in eine Reinigungsstellung bringbar ist, in der das Reinigungsgerät (18) an der Gasaustrittsfläche (12) angreift.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the cleaning device carrier ( 16 ) about a rotation axis ( 25 ) rotatable on a support arm ( 27 ) is seated, which can be brought from a parking position in a cleaning position in which the cleaning device ( 18 ) at the gas outlet surface ( 12 ) attacks. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das insbesondere fest mit einem Deckel (10) des CVD-Reaktors verbundene Gaseinlassorgan (11) in eine vertikale Abstandslage zu einer Entnahmeöffnung (9) des CVD-Reaktors bringbar ist, so dass der Reinigungsgerätträger (16) von der Parkstellung außerhalb des Raumes zwischen Gasaustrittsfläche (12) und Entnahmeöffnung (9), insbesondere durch eine Horizontalverlagerung in die Reinigungsstellung zwischen Entnahmeöffnung (9) und Gasaustrittsfläche (12) bringbar ist.Apparatus according to claim 3, characterized in that the particular fixed with a lid ( 10 ) of the CVD reactor connected gas inlet member ( 11 ) in a vertical distance position to a removal opening ( 9 ) of the CVD reactor, so that the cleaning device carrier ( 16 ) from the parking position outside the space between gas outlet surface ( 12 ) and removal opening ( 9 ), in particular by a horizontal displacement in the cleaning position between the removal opening ( 9 ) and gas outlet surface ( 12 ) can be brought. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Reinigungsgerät (18) mindestens eine von einem Motor drehantreibbare Bürste aufweist, die insbesondere topfförmig, mit am Topfrand angeordneten mechanischen Reinigungselementen (48), walzenförmig, mit an der Zylindermantelfläche angeordneten mechanischen Reinigungselementen (48) oder scheibenförmig, mit an einer Breitseitenfläche angeordneten mechanischen Reinigungselementen (48) ausgebildet ist, wobei die Bürste (18, 18') in einer Linearbewegung, einer Drehbewegung oder einer kombinierten Linear-Drehbewegung über die Gasaustrittsfläche verlagerbar ist.Device according to one of claims 1 to 4, characterized in that the cleaning device ( 18 ) comprises at least one brush rotatably driven by a motor, which in particular is cup-shaped, with mechanical cleaning elements arranged on the edge of the pot ( 48 ), roller-shaped, with arranged on the cylinder surface mechanical cleaning elements ( 48 ) or disk-shaped, with arranged on a broad side surface mechanical cleaning elements ( 48 ) is formed, wherein the brush ( 18 . 18 ' ) is displaceable over the gas outlet surface in a linear movement, a rotary movement or a combined linear rotary movement. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass Mittel vorgesehen sind, mit denen mindestens eine Bürste (18, 18') mit kreisringförmig angeordneten Reinigungselementen (48) auf einer kreisförmigen Bewegungsbahn um die Drehachse (25) und um sich selbst drehend entlang der Gasaustrittsfläche (12) bewegt wird und/oder um das Gehäuse (17) in eine Drehbewegung zu versetzen.Device according to one of claims 3 or 4, characterized in that means are provided with which at least one brush ( 18 . 18 ' ) with annularly arranged cleaning elements ( 48 ) on a circular trajectory about the axis of rotation ( 25 ) and about itself rotating along the gas outlet surface ( 12 ) and / or around the housing ( 17 ) to put in a rotary motion. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse (17) von einem Arm (27) getragen ist, der am Deckel (10) oder an einem Bereich der Betriebskammer befestigt ist und mit dem das Gehäuse (17) von der unter der Gasaustrittsfläche (12) angeordneten Reinigungsstellung in die neben dem Deckel (10) oder neben dem CVD-Reaktor angeordnete Parkstellung bringbar ist, wobei insbesondere vorgesehen ist, dass das Gehäuse (17) oder die im Gehäuse (17) angeordneten Reinigungselemente (48) horizontal in der Reinigungsstellung verlagerbar sind.Device according to one of claims 2 to 6, characterized in that the housing ( 17 ) from one arm ( 27 ), which is on the lid ( 10 ) or attached to an area of the operating chamber and with which the housing ( 17 ) from under the gas outlet surface ( 12 ) arranged cleaning position in the next to the lid ( 10 ) or arranged next to the CVD reactor parking position can be brought, in particular it is provided that the housing ( 17 ) or in the housing ( 17 ) arranged cleaning elements ( 48 ) are horizontally displaceable in the cleaning position. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse (17) des Reinigungsgerätträgers (16) eine Absaugeinrichtung (54, 55, 56, 57) zum Absaugen bei der Reinigung erzeugter Partikel aufweist und/oder vom Deckel (10) verschließbar und evakuierbar und/oder mit einem Spülgas spülbar ist.Device according to one of claims 2 to 7, characterized in that the housing ( 17 ) of the cleaning device carrier ( 16 ) a suction device ( 54 . 55 . 56 . 57 ) has suction particles generated during the cleaning and / or from the lid ( 10 ) can be closed and evacuated and / or flushed with a purge gas. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass radial innerhalb und radial außerhalb eines ringförmigen Reinigungselementeträgers (49) Absaugspalte (54, 55) angeordnet sind, die mit einer von der Drehachse (25) ausgebildeten Axialhöhlung (53) und einer Absaugvorrichtung strömungsverbunden sind.Device according to one of the preceding claims, characterized in that radially inside and radially outside of an annular cleaning element carrier ( 49 ) Suction column ( 54 . 55 ) arranged with one of the axis of rotation ( 25 ) formed axial cavity ( 53 ) and a suction device are fluidly connected. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch einen mittels Speichen (52) in einem radialen Abstand mit einem Zentralkörper (51) verbundenen Ringkörper (49), der die mechanischen Reinigungselemente (48) trägt.Device according to one of the preceding claims, characterized by a spokes ( 52 ) at a radial distance with a central body ( 51 ) connected ring body ( 49 ), the mechanical cleaning elements ( 48 ) wearing. Verfahren zum Reinigen eines Gaseinlassorgans (11) eines in einer insbesondere gegenüber der Umgebungsatmosphäre gasdichten Betriebskammer (8) angeordneten CVD-Reaktors durch Inkontaktbringen eines Reinigungsgerätes (18) an die Gasaustrittsfläche (12) des Gaseinlassorgans (11) und Bewegen des Reinigungsgerätes (18) entlang der Gasaustrittsfläche (12), gekennzeichnet durch folgende Schritte: – Bereithalten des Reinigungsgerätes (18) in der Betriebskammer (8); – Öffnen eines Deckels (10) des CVD-Reaktorgehäuses (1), der eine Entnahmeöffnung (9) zur Entnahme des Gaseinlassorgans (11) aus dem CVD-Reaktorgehäuse (1) verschließt; – Herausverlagern des Gaseinlassorgans (11) aus dem CVD-Reaktorgehäuse (1); – Inkontaktbringen des Reinigungsgerätes (18) an die Gasaustrittsfläche (12) und Reinigen der Gasaustrittsfläche (12); – Entfernen des Reinigungsgerätes von der Gasaustrittsfläche; – Hineinverlagern des Gaseinlassorgans (11) in das CVD-Reaktorgehäuse (1) und Schließen der Entnahmeöffnung (9) mittels des Deckels (10).Method for cleaning a gas inlet element ( 11 ) of a working chamber which is gastight in particular with respect to the ambient atmosphere ( 8th ) arranged CVD reactor by contacting a cleaning device ( 18 ) to the gas outlet surface ( 12 ) of the gas inlet member ( 11 ) and moving the cleaning device ( 18 ) along the gas outlet surface ( 12 ), characterized by the following steps: - keeping the cleaning device ( 18 ) in the operating chamber ( 8th ); - opening a lid ( 10 ) of the CVD reactor housing ( 1 ), which has a removal opening ( 9 ) for removal of the gas inlet member ( 11 ) from the CVD reactor housing ( 1 ) closes; - relocating the gas inlet organ ( 11 ) from the CVD reactor housing ( 1 ); - contacting the cleaning device ( 18 ) to the gas outlet surface ( 12 ) and cleaning the gas outlet surface ( 12 ); - removing the cleaning device from the gas outlet surface; - relocating the gas inlet element ( 11 ) into the CVD reactor housing ( 1 ) and closing the removal opening ( 9 ) by means of the cover ( 10 ). Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das fest am Deckel (10) befestigte Gaseinlassorgan (11) zusammen mit dem Deckel (10) vertikal nach oben und das Reinigungsgerät (18) in den Zwischenraum zwischen der Gasaustrittsfläche (12) und der Entnahmeöffnung (9) verlagert wird.A method according to claim 11, characterized in that the fixed to the lid ( 10 ) attached gas inlet member ( 11 ) together with the lid ( 10 ) vertically upwards and the cleaning device ( 18 ) in the space between the gas outlet surface ( 12 ) and the removal opening ( 9 ) is relocated. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 oder 12, gekennzeichnet durch Drehen des als Bürste angeordneten Reinigungsgerätes (18) um eine Drehachse (23), wobei die Bürste (18) eine an einer Zylindermantelwand angeordnete Borsten aufweisende Walze oder eine an ihrer Breitseitenfläche Borsten aufweisende Scheibe sein kann, wobei die Bürste (18) in einer linearen Bewegung, einer Drehbewegung oder einer kombinierten Dreh- und/oder Linearbewegung über die Gasaustrittsfläche (12) bewegt wird.Method according to one of claims 11 or 12, characterized by rotating the cleaning device arranged as a brush ( 18 ) about a rotation axis ( 23 ), whereby the brush ( 18 ) may be a roller disposed on a cylinder jacket wall bristles roller or on its broad side surface bristles having disc, the brush ( 18 ) in a linear movement, a rotary movement or a combined rotary and / or linear movement over the gas outlet surface ( 12 ) is moved. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass ein Reinigungsgeräteträger (16) verwendet wird, der ein Gehäuse (17) aufweist, welches eine zur Gasaustrittsfläche (12) weisende Öffnung (16) aufweist, wobei innerhalb des Reinigungsgeräteträgergehäuses (17) Bürsten (18) angeordnet sind, mit denen die Gasaustrittsfläche (12) des insbesondere fest am Deckel befestigten Gaseinlassorgans (11) gereinigt wird und mit einer Absaugeinrichtung, die von der Bürste (18) von der Gasaustrittsfläche (12) entfernten Partikel aus dem Gehäuse (17) entfernt werden, wobei ein diesbezüglicher Sauggastrom durch Höhlungen (37, 33, 53) hindurchtritt.Method according to one of claims 11 to 13, characterized in that a cleaning equipment carrier ( 16 ), which is a housing ( 17 ), which one to the gas outlet surface ( 12 ) pointing opening ( 16 ), wherein within the cleaning device carrier housing ( 17 ) To brush ( 18 ) are arranged, with which the gas outlet surface ( 12 ) of the particular firmly attached to the lid gas inlet member ( 11 ) and with a suction device which is removed from the brush ( 18 ) from the gas outlet surface ( 12 ) removed particles from the housing ( 17 ), whereby a relevant suction gas flow through cavities ( 37 . 33 . 53 ) passes. Verfahren und Vorrichtung, gekennzeichnet durch eines oder mehrere der kennzeichnenden Merkmale eines der vorangehenden Ansprüche.Method and device characterized by one or more of the characterizing features of one of the preceding claims.
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DE102020103947A1 (en) 2020-02-14 2021-08-19 AIXTRON Ltd. CVD reactor and method of handling a process chamber ceiling plate
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