KR20220137527A - 의상 시뮬레이션 방법 및 장치 - Google Patents

Abstract

일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법 및 장치는 아바타에 착장 시뮬레이션 된 3차원 의상에서 3차원 의상에 포함된 하나 또는 그 이상의 피스들 및 피스들 각각을 구성하는 2차원 패턴들을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨에 대응하는 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력을 수신하고, 복수의 객체들 중 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체에 의하여 선택된 객체가 가려지지 않도록 복수의 객체들의 시각화를 제어함으로써 다음 깊이 레벨을 표시하고, 다음 깊이 레벨에 대응하여 선택된 객체를 편집하는 입력에 기초하여 선택된 객체를 변형하고, 선택된 객체에 대한 변형을 반영함으로써 3차원 의상을 변형하며, 변형된 3차원 의상을 출력한다.

Description

의상 시뮬레이션 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS OF SIMULATING GARMENT}

실시예들은 의상 시뮬레이션 방법 및 장치에 관한 것이다.

의상(garment)은 사람이 착용한 경우에 3차원으로 보이지만, 실제로는 2차원의 패턴(pattern)에 따라 재단된 직물(fabric) 조각의 조합에 해당하므로 2차원에 가깝다. 의상의 재료가 되는 직물은 유연하기 때문에 의상을 착용한 사람의 신체 모양이나 움직임에 따라 그 형태가 다양하게 변화될 수 있다.

예를 들어, 3차원 의상이 아바타에 착장된 상태에서 의상을 수정하고자 하는 경우, 해당 의상을 구성하는 2차원의 패턴들이 서로 겹쳐 위치하므로 수정하고자 하는 패턴의 모습을 확인하기 어렵다. 또한, 수정 대상이 되는 2차원 패턴의 수정을 위한 사용자 인터페이스(UI) 요소가 다른 2차원 패턴의 수정을 위한 사용자 인터페이스 요소와 겹치는 경우, 수정하고자 하는 2차원 패턴의 사용자 인터페이스 요소가 가려져 선택하기 어려울 뿐만 아니라, 해당 2차원 패턴이 다른 2차원 패턴에 의해 가려져 수정 결과물을 제대로 확인하기가 어렵다.

전술한 배경기술은 발명자가 본원의 개시 내용을 도출하는 과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다.

일 실시예에 따르면, 아바타에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상에서 3차원 의상에 포함된 피스들(pieces) 및 피스들 각각을 구성하는 2차원 패턴들(patterns)을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 사용자가 수정을 진행할 깊이 레벨을 선택 가능하도록 함으로써 3차원의 시뮬레이션 공간에서 수정 가능한 여러 대상들이 복잡하게 얽혀 있을 때에도 수정할 대상이 다른 대상과 명확하게 분리되어 시각화 및/또는 수정이 가능하도록 할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 의상 시뮬레이션 장치의 동작 모드를 각 깊이 레벨 별로 수행 가능한 편집 기능들을 수행하는 작업 모드와 깊이 레벨들을 전환하는 이동 모드로 설정함으로써 깊이 레벨들 간의 이동과 이동된 깊이 레벨에서의 작업이 원활하게 수행되도록 할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 깊이 레벨 별로 편집 가능한 객체를 달리 설정함으로써 사용자가 희망하는 편집 대상 별로 다양한 작업이 가능하도록 할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 의상 시뮬레이션 방법은 아바타에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상에서 상기 3차원 의상에 포함된 하나 또는 그 이상의 피스들(pieces) 및 상기 피스들 각각을 구성하는 2차원 패턴들(patterns)을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨에 대응하는 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력을 수신하는 동작, 상기 복수의 객체들 중 상기 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체에 의하여 상기 선택된 객체가 가려지지 않도록, 상기 복수의 객체들의 시각화를 제어함으로써 상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작, 상기 다음 깊이 레벨에 대응하여 상기 선택된 객체를 편집하는 입력에 기초하여, 상기 선택된 객체를 변형하는 동작, 상기 선택된 객체에 대한 변형을 반영함으로써 상기 3차원 의상을 변형하는 동작, 및 상기 변형된 3차원 의상을 출력하는 동작을 포함한다.

상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작은 상기 선택된 객체를 활성화하여 시각화하는 동작, 및 상기 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체를 비활성화하여 투명 또는 반투명하게 시각화하는 동작 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

상기 선택된 객체를 활성화하여 시각화하는 동작은 상기 다음 깊이 레벨이 상기 피스들을 표시하는 제1 레벨인 경우, 상기 제1 레벨에 대응하여 선택된 어느 하나의 피스를 활성화하여 시각화하는 동작, 및 상기 다음 깊이 레벨이 상기 2차원 패턴들을 표시하는 제2 레벨인 경우, 상기 제2 레벨에 대응하여 선택된 2차원 패턴을 활성화하여 시각화하는 동작 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

상기 선택된 2차원 패턴을 활성화하여 시각화하는 동작은 상기 선택된 2차원 패턴이 선택되지 않은 다른 2차원 패턴들에 의해 가려지는 경우, 상기 선택된 2차원 패턴을 상기 다른 2차원 패턴들을 투과하여 선명하게 시각화하는 동작을 포함할 수 있다.

상기 선택된 객체를 변형하는 동작은 상기 선택된 2차원 패턴을 제외한 나머지의 2차원 패턴들 중 어느 하나의 2차원 패턴이 새로 선택된 경우, 상기 제2 레벨에 대응하여 상기 새로 선택된 2차원 패턴을 편집하는 사용자 인터페이스들을 활성화하는 동작을 포함할 수 있다.

상기 의상 시뮬레이션 방법은 상기 복수의 객체들이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 상기 복수의 객체들을 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력을 수신하는 동작을 더 포함하고, 상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작은 상기 빈 공간에 대한 사용자 입력에 대응하여 상기 다음 깊이 레벨을 표시하지 않고, 상기 현재 표시 중인 깊이 레벨의 이전 깊이 레벨로 이동하는 동작을 더 포함할 수 있다.

상기 선택된 객체를 변형하는 동작은 상기 다음 깊이 레벨에서 적용 가능한 편집 요소들을 상기 선택된 객체에 대응하여 활성화하는 동작, 및 상기 활성화된 편집 요소들에 의해 상기 선택된 객체를 변형하는 동작을 포함할 수 있다.

상기 편집 요소들을 상기 선택된 객체에 대응하여 활성화하는 동작은 상기 다음 깊이 레벨이 상기 피스들을 표시하는 제1 레벨인 경우, 상기 제1 레벨에 대응하여 선택된 피스를 편집하기 한 편집 요소들을 활성화하는 동작, 및 상기 다음 깊이 레벨이 상기 2차원 패턴들을 표시하는 제2 레벨인 경우, 상기 제2 레벨에 대응하여 선택된 2차원 패턴을 편집하는 편집 요소들을 활성화하는 동작 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

상기 선택된 객체에 대응하여 활성화하는 동작은 상기 다음 깊이 레벨에서 적용 가능한 편집 요소들을, 상기 3차원 의상에 대응하여 설정된 편집 기능에 따라, 상기 선택된 객체에 대응하여 활성화하는 동작을 포함할 수 있다.

상기 편집 요소들은 상기 3차원 의상, 상기 피스들, 및 상기 2차원 패턴들 중 어느 하나의 면(surface)을 편집하기 위한 제1 사용자 인터페이스, 상기 피스들 및 상기 2차원 패턴들 중 어느 하나의 선(line)을 편집하기 위한 제2 사용자 인터페이스, 및 상기 피스들 및 상기 2차원 패턴들 중 어느 하나의 점(point)을 편집하기 위한 제3 사용자 인터페이스, 및 상기 3차원 의상, 상기 피스들, 및 상기 2차원 패턴들 중 어느 하나에 대응하는 부자재를 편집하기 위한 제4 사용자 인터페이스 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

상기 의상 시뮬레이션 방법은 상기 적어도 하나의 나머지 객체 중 어느 하나를 개별적으로 활성화되도록 하는 사용자 입력에 응답하여, 상기 어느 하나를 포함하는 상기 적어도 하나의 나머지 객체를 비활성화되도록 시각화하는 동작을 더 포함할 수 있다.

상기 선택된 객체를 변형하는 동작은 상기 선택된 객체를 편집하는 편집 모드에서 발생한, 상기 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력에 대응하여, 상기 선택된 객체를 변형하는 동작을 포함할 수 있다.

상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작은 상기 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨로 이동하도록 하는 이동 모드에서 발생한, 상기 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력에 대응하여, 상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작을 포함할 수 있다.

상기 의상 시뮬레이션 방법은 상기 3차원 의상이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 발생하는 상기 사용자 입력이 미리 설정된 유형에 해당하는 경우, 상기 3차원 의상에 대응하여 설정된 편집 기능 과 병행하여 사용 가능한 서브 툴(sub tool)을 활성화하는 동작을 더 포함할 수 있다.

상기 서브 툴은 상기 현재 표시 중인 깊이 레벨과 상기 다음 깊이 레벨 간의 이동하기 위한 깊이 레벨 선택 툴; 상기 3차원 의상 또는 상기 피스들에서의 스타일 라인을 편집하기 위한 라인 편집 툴; 및 상기 2차원 패턴들의 재봉선이 수정됨에 따라 재봉을 수행하는 재봉 툴 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

일 실시예에 따르면, 의상 시뮬레이션 장치는 아바타에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상에서 상기 3차원 의상에 포함된 하나 또는 그 이상의 피스들(pieces) 및 상기 피스들 각각을 구성하는 2차원 패턴들(patterns)을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨에 대응하는 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력을 수신하는 사용자 인터페이스; 상기 복수의 객체들 중 상기 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체에 의하여 상기 선택된 객체가 가려지지 않도록, 상기 복수의 객체들의 시각화를 제어함으로써 상기 다음 깊이 레벨을 표시하고, 상기 다음 깊이 레벨에 대응하여 상기 선택된 객체를 편집하는 입력에 기초하여, 상기 선택된 객체를 변형하고, 상기 선택된 객체에 대한 변형을 반영함으로써 상기 3차원 의상을 변형하는 프로세서; 및 상기 변형된 3차원 의상을 표시하는 디스플레이를 포함한다.

상기 프로세서는 상기 선택된 객체를 활성화하여 시각화하고, 상기 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체를 비활성화하여 투명 또는 반투명하게 시각화하거나, 또는 상기 적어도 하나의 나머지 객체의 선택 우선 순위를 낮출수 있다.

상기 프로세서는 상기 다음 깊이 레벨이 상기 피스들을 표시하는 제1 레벨인 경우, 상기 제1 레벨에 대응하여 선택된 어느 하나의 피스를 활성화하여 시각화하고, 상기 다음 깊이 레벨이 상기 2차원 패턴들을 표시하는 제2 레벨인 경우, 상기 제2 레벨에 대응하여 선택된 2차원 패턴을 활성화하여 시각화할 수 있다.

상기 프로세서는 상기 선택된 2차원 패턴이 선택되지 않은 다른 2차원 패턴들에 의해 가려지는 경우, 상기 선택된 2차원 패턴을 상기 다른 2차원 패턴들을 투과하여 선명하게 시각화할 수 있다.

상기 사용자 인터페이스는 상기 복수의 객체들이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 상기 복수의 객체들을 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력을 수신하고, 상기 프로세서는 상기 빈 공간에 대한 사용자 입력에 대응하여 상기 다음 깊이 레벨을 표시하지 않고, 상기 현재 표시 중인 깊이 레벨을 유지할 수 있다.

일 측에 따르면, 3차원의 시뮬레이션 공간에서 수정 가능한 여러 대상들이 복잡하게 얽혀 있을 때에도 수정할 대상이 다른 대상과 명확하게 분리되어 시각화 및/또는 수정이 가능하도록 할 수 있다.

일 측에 따르면, 깊이 레벨들 간의 이동과 이동된 깊이 레벨에서의 작업이 원활하게 수행되도록 할 수 있다.

일 측에 따르면, 사용자가 희망하는 편집 대상 별로 다양한 작업이 가능하도록 할 수 있다.

일 측에 따르면, 의상에 대한 전문적인 지식이 없는 사용자라 하더라도 깊이 레벨 별로 제공되는 다양한 사용자 인터페이스를 통해 3차원 공간에 표현되는 편집 대상을 용이하게 편집하고, 편집 결과 또한 용이하게 확인할 수 있다.

도 1은 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법을 나타낸 흐름도이다.
도 2는 일 실시예에 따른 깊이 레벨(depth level)의 개념을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 일 실시예에 따른 3차원 의상을 구성하는 패턴들 및 피스들을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 일 실시예에 따라 선택된 객체를 활성화하여 시각화하는 방법을 나타낸 흐름도이다.
도 5a 내지 도 5c는 일 실시예에 따른 깊이 레벨들 간의 이동 및 시각화를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 일 실시예에 따라 동일한 깊이 레벨에서의 이동 가능 여부를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 일 실시예에 따라 이전 깊이 레벨로 이동하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 일 실시예에 따라 현재 깊이 레벨에서 투명으로 표시되어 선택이 불가능한 객체를 선택하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 일 실시예에 따라 선택된 객체를 변형하는 방법을 나타낸 흐름도이다.
도 10a 내지 도 10d는 일 실시예에 따른 기능 별로 깊이 레벨에 대응하는 사용자 인터페이스를 시각화하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 일 실시 예에 따른 의상 시뮬레이션 장치의 블록도이다.

이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명한다. 그러나, 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있어서 특허출원의 권리 범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 실시예들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물이 권리 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.

실시예에서 사용한 용어는 단지 설명을 목적으로 사용된 것으로, 한정하려는 의도로 해석되어서는 안된다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 동작, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 동작, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 실시예의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.

또한, 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.

어느 하나의 실시 예에 포함된 구성요소와, 공통적인 기능을 포함하는 구성요소는, 다른 실시 예에서 동일한 명칭을 사용하여 설명하기로 한다. 반대되는 기재가 없는 이상, 어느 하나의 실시 예에 기재한 설명은 다른 실시 예에도 적용될 수 있으며, 중복되는 범위에서 구체적인 설명은 생략하기로 한다.

도 1은 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법을 나타낸 흐름도이다. 이하 실시예에서 각 동작들은 순차적으로 수행될 수도 있으나, 반드시 순차적으로 수행되는 것은 아니다. 예를 들어, 각 동작들의 순서가 변경될 수도 있으며, 적어도 두 동작들이 병렬적으로 수행될 수도 있다.

도 1을 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치가 동작(110) 내지 동작(150)를 통해 변형된 3차원 의상을 출력하는 과정이 도시된다. 동작(110) 내지 동작(150)은 예를 들어, 아래의 도 11에 도시된 의상 시뮬레이션 장치(1100)의 프로세서(1130)에서 수행될 수 있다.

동작(110)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 아바타에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상에서 3차원 의상에 포함된 하나 또는 그 이상의 피스들(pieces) 및 피스들 각각을 구성하는 2차원 패턴들(patterns)을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음(next) 깊이 레벨에 대응하는 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력을 수신한다. 예를 들어, 현지 표시 중인 깊이 레벨이 깊이 레벨 1인 경우, 해당 레벨의 다음 깊이 레벨은 깊이 레벨 2일 수 있다. 일 실시예에 따른 깊이 레벨의 개념 및 깊이 레벨의 구성 요소들에 대하여는 아래의 도 2 내지 도 3을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.

동작(120)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 복수의 객체들 중 동작(110)에서 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체에 의하여 동작(110)에서 선택된 객체가 가려지지 않도록, 복수의 객체들의 시각화를 제어함으로써 다음 깊이 레벨을 표시한다.

의상 시뮬레이션 장치는 사용자에 의해 선택된 객체를 활성화하여 시각화할 수 있다. 여기서, '(선택된 객체를) 활성화하여 시각화한다'는 의미는 해당 피스 또는 패턴에 대한 사용자의 선택이 가능하도록 하거나, 또는 해당 피스 또는 패턴의 편집 객체(예를 들어, 점, 선, 면, 부자재 등)에 대한 사용자의 편집이 가능하도록 해당 피스 또는 패턴에 대응하는 편집 인터페이스를 표시(시각화)한다는 의미로 이해될 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치가 선택된 객체를 활성화하여 시각화하는 방법은 아래의 도 4를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.

또한, 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체를 비활성화하여 투명 또는 반투명하게 시각화하거나, 및/또는 적어도 하나의 나머지 객체의 선택 우선 순위를 낮출 수 있다.

일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치는 각 깊이 레벨 별로 수행 가능한 편집 기능들을 수행하는 작업 모드와 깊이 레벨이 전환되는 이동 모드 중 어느 하나의 동작 모드에 따라 동작할 수 있다. 예를 들어, 의상 시뮬레이션 장치의 동작 모드가 이동 모드로 설정된 상태에서 상의 피스의 일부 패턴이 선택된 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 깊이 레벨1에서 깊이 레벨 2로 깊이 레벨의 이동 또는 전환을 수행할 수 있다. 이와 달리, 동작 모드가 작업 모드로 설정된 상태에서 상의 피스의 일부 패턴이 선택된 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 패턴에 대한 다양한 기능들이 수행되도록 해당 기능에 대응하는 사용자 인터페이스를 활성화할 수 있다. 일 실시예에 따른 작업 모드와 이동 모드는 각 모드 별로 기능이 분리될 수도 있고, 또는 하나의 기능으로 공존할 수도 있다.

의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨로 이동하도록 하는 이동 모드에서 발생한, 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력에 대응하여, 다음 깊이 레벨을 표시할 수 있다.

일 실시예에서 의상 시뮬레이션 장치의 동작 모드가 이동 모드로 설정된 경우에 깊이 레벨들 간의 이동 방법에 대하여는 아래의 도 5 내지 도 8을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.

동작(130)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 다음 깊이 레벨에 대응하여 동작(110)에서 선택된 객체를 편집하는 입력에 기초하여, 선택된 객체를 변형한다. 의상 시뮬레이션 장치가 선택된 객체를 변형하는 방법은 아래의 도 9를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.

동작(140)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 객체에 대한 동작(140)에서의 변형을 반영함으로써 3차원 의상을 변형한다.

동작(150)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 동작(140)에서 변형된 3차원 의상을 출력한다.

실시예에 따라서, 3차원 의상이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 발생하는 사용자 입력이 미리 설정된 유형에 해당하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 3차원 의상에 대응하여 설정된 편집 기능과 병행하여 사용 가능한 서브 툴(sub tool)을 활성화할 수 있다. 이때, 서브 툴은 현재 표시 중인 깊이 레벨과 다음 깊이 레벨 간의 이동을 위한 깊이 레벨 선택 툴, 3차원 의상 또는 피스들에서의 스타일 라인(style line)을 편집하기 위한 라인 편집 툴, 및 2차원 패턴들의 재봉선이 수정됨에 따라 재봉을 수행하는 재봉 툴 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

일 실시예에서 '스타일 라인'은 3차원 의상들에서 보여지는 라인들로서, 예를 들어, 3차원 의상들을 구성하는 2차원 패턴들 간의 재봉에 의해 3차원 의상에서 보여지는 재봉선, 3차원 의상들의 실루엣을 나타내는 외곽선, 3차원 의상의 스타일을 위해 추가한 절개선 등과 같이 3차원 의상들의 스타일 및/또는 실루엣을 나타내는 라인들에 해당할 수 있다. 이하, '스타일 라인'은 3차원 의상에서 보여지는 3차원 라인을 지칭하고, '라인' 또는 '선'은 3차원 의상을 구성하는 피스 및/또는 2차원 패턴 상에 보이는 2차원 라인을 지칭하는데 사용하기로 한다.

도 2는 일 실시예에 따른 깊이 레벨(depth level)의 개념을 설명하기 위한 도면이다. 도 2를 참조하면, 일 실시예에 따른 아바타(200)에 착장된 상의(230) 및 하의(250)를 포함하는 3차원 의상이 도시된다.

일반적으로 3차원 의상을 디자인하는 방법은 예를 들어, 2차원 공간에서 의상을 구성하는 2차원 패턴들을 수정한 후, 3차원 공간에서 2차원 패턴 조각들에 대한 수정 결과를 확인하는 두 단계를 거쳐 수행될 수 있다.

예를 들어, 2차원 공간에서 2차원 패턴들에 대해 수행하던 수정 작업을 3차원 공간에서 수행한다고 가정하자. 이때, 도 2에 도시된 것과 같이 상의(230)의 밑단 부분이 하의(250) 안으로 들어간 상태이면, 하의(250)에 해당하는 2차원 패턴들과 하의 안으로 들어간 상의의 2차원 패턴들이 서로 겹쳐지므로 수정 대상의 모습을 확인하기 어렵다.

또한, 사용자가 상의(230)의 밑단 부분에 대한 실루엣을 수정하고 싶은 경우, 상의(230)의 밑단 부분이 하의(250)와 겹쳐 있으므로 상의(230)의 수정을 위해 제공되는 사용자 인터페이스 1과 하의(250)의 수정을 위해 제공되는 제2 사용자 인터페이스가 서로 겹치게 되고, 이에 따라 상의(230)의 수정을 위해 제공되는 사용자 인터페이스 2를 선택하는데 어려움이 발생할 수 있다.

이 밖에도, 상의(230)의 밑단 부분에 대한 수정 작업 중에는 수정을 위해 제공되는 사용자 인터페이스 1로 인해 수정의 최종 결과, 다시 말해 수정된 상의(230)의 밑단 부분이 하의(250) 안쪽으로 들어간 결과를 제대로 확인하기 어려울 수 있다.

일 실시예에서는 아바타(200)에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상에서 3차원 의상에 포함된 상, 하의 피스들(pieces)(230,250) 및 상, 하의 피스들(230,250) 각각을 구성하는 2차원 패턴들(patterns)을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 수정을 진행할 깊이 레벨을 선택 가능하도록 함으로써 3차원의 시뮬레이션 공간에서 수정 가능한 여러 객체들이 복잡하게 얽혀 있을 때에도 수정할 대상이 다른 대상과 용이하게 분리되어 시각화 및/또는 수정되도록 할 수 있다. 수정을 진행할 깊이 레벨을 선택하는 작업은 수정을 의해 선택된 객체에 대한 수정 작업을 수행하는 중에도 모드 변환을 통해 빠르게 전환 및/또는 병행될 수 있다. 각 깊이 레벨에 대하여는 아래의 도 3을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.

도 3은 일 실시예에 따른 3차원 의상을 구성하는 패턴들 및 피스들을 설명하기 위한 도면이다. 도 3을 참조하면, 일 실시예에 따른 2차원 패턴들(310), 피스(들)(320) 및 3차원 의상(garment)(330)이 도시된다.

2차원 패턴들(310)은 3차원 의상(330)을 구성하는 각 신체 부위에 대응할 수 있다. 2차원 패턴들(310)은 3차원 의상(330)의 시뮬레이션을 위하여 복수의 다각형들의 집합으로 모델링되는 가상의 의상 패턴일 수 있다. 2차원 패턴들(310)은 3차원 의상(330)을 구성하는 옷감의 일부 조각에 해당한다는 점에서 '패턴 조각들'이라고 부를 수도 있다. 2 차원 패턴들(310)은 복수의 패턴 조각들을 포함하고, 복수의 패턴 조각들 각각은 예를 들어, 3차원 아바타의 체형에 기초한 다각형 메쉬로 모델링될 수 있다. 이때, 다각형 메쉬는 복수의 다각형들(예를 들어, 삼각형 또는 사각형 등)을 포함할 수 있다.

도면에 도시되지는 않았으나, 2차원 패턴들(310)은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 구성될 수 있다. 실시예들에 따라 메쉬는 다양하게 모델링 될 수 있다. 일례로, 메쉬에 포함되는 다각형의 꼭지점들은 질량을 가지고 있는 점(point mass)이며, 다각형의 변들은 그 질량을 연결하는 탄성을 가지고 있는 스프링들로 표현될 수 있다. 이에 따라, 일 실시예에서 따른 3차원 의상(330)은 예를 들어, 질량-스프링 모델(Mass-Spring Model)에 의해 모델링될 수 있다. 스프링들은 사용되는 천(fabric)의 물성에 따라, 예를 들어, 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending)에 대한 각 저항값(resist)을 가질 수 있다. 또는, 메쉬는 스트레인(strain) 모델로 모델링될 수 있다. 메쉬에 포함되는 다각형은 예를 들어, 삼각형으로 모델링되거나, 혹은 사각형 이상의 다각형으로 모델링될 수도 있다. 경우에 따라, 3차원 볼륨(volume)을 모델링해야 하는 경우, 메쉬는 3차원 다면체로 모델링될 수 있다. 메쉬에 포함된 다각형(들)의 꼭지점들은 예를 들어, 중력 등과 같은 외력(external force) 및 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending) 등과 같은 내력(internal force)에 의해 이동할 수 있다. 외력 및 내력을 계산하여 각 꼭지점에 가해지는 힘을 구하면 각 꼭지점의 변위 속도와 운동을 구할 수 있다. 3차원 의상(330)의 움직임은 각 시간 동작에서 메쉬를 구성하는 다각형(들)의 꼭지점들의 움직임을 통해 시뮬레이션 될 수 있다. 예를 들어, 다각형 메쉬로 구성된 3차원 의상(330)이 3차원 아바타 위에 착장되면, 물리 법칙에 기반한 자연스러운 3차원의 가상 의상을 구현될 수 있다. 메쉬에 포함된 다각형(들)의 꼭지점들은 중력 등과 같은 외부적인 힘(external force)과 신축, 비틀림, 및 굽힘의 내부적인 힘(internal force)의 작용에 따라 움직일 수 있다. 외부적인 힘과 내부적인 힘을 계산하여 각 꼭지점에 가해지는 힘을 구하면, 각 꼭지점의 변위 및 움직임의 속도를 구할 수 있다. 그리고 각 시점(time step)에서의 메쉬의 다각형의 꼭지점들의 움직임을 통하여 가상 의상의 움직임을 시뮬레이션할 수 있다. 다각형 메쉬로 이루어진 2차원 패턴들(310)을 3차원의 아바타에 착장시켜 물리 법칙에 기반한 자연스러운 모습의 피스(320) 또는 3차원 의상(330)을 구현할 수 있다.

피스(Piece)들(320)은 재봉으로 연결된 2차원 패턴들(310)의 그룹에 해당할 수 있다. 3차원 의상(330)은 예를 들어, 상의 및 하의와 같이 2개의 피스들로 구성될 수도 있고, 또는 원피스와 같이 1개의 피스로 구성될 수도 있다. 피스들(320)은 3차원의 피스들에 해당할 수 있다.

3차원 의상(330)은 3차원 화면에 보이는 의상 전체, 다시 말해 3차원 시뮬레이션 공간에서 아바타에 착장된 가상의 3차원 의상 전부를 의미하는 것으로 이해될 수 있다. 일 실시예에 따른 3차원 의상(330)은 예를 들어, 사용자의 신체 치수에 맞는 가상 의상, 3차원 가상 캐릭터를 위한 가상 의상 및 3차원 가상 아바타를 위한 가상 의상 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

전술한 2차원 패턴들(310), 피스(들)(320) 및 3차원 의상(330)은 일 실시예에서 계층적으로 표시되는 깊이 레벨에 대응하는 객체들에 해당할 수 있다.

깊이 레벨 0('Depth 0')은 수정에 따른 최종 결과물, 다시 말해 3차원 의상의 형태를 그대로 보고 확인할 수 있는 레벨에 해당할 수 있다. 깊이 레벨 0에 대응하여 3차원 의상(330)이 화면에 표시될 수 있다. 현재 표시 중인 깊이 레벨이 'Depth 0인 경우, 3차원 의상(330)이 화면에 표시될 수 있다. 깊이 레벨 0에서는 수정을 위한 별도의 사용자 인터페이스가 시각화되지 않을 수도 있다.

깊이 레벨 1('Depth 1')은 3차원 의상을 전체적으로 수정할 수 있는 레벨에 해당할 수 있다. 깊이 레벨 1에 대응하여 피스(320)가 화면에 표시될 수 있다. 현재 표시 중인 깊이 레벨이 '깊이 레벨 1'인 경우, 피스(320)가 화면에 표시될 수 있다. 깊이 레벨 1에서는 3차원 의상(330)에서 사용자에 의해 선택된 피스(320)의 수정을 위한 사용자 인터페이스가 시각화될 수 있다. 예를 들어, 화면에 표시된 3차원 의상이 상의 및 하의의 2개의 피스들로 구성되고, 사용자에 의해 상의 피스가 선택되었다고 가정하자. 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 상의 피스를 전체적으로 수정할 수 있는 사용자 인터페이스를 시각화하고, 선택되지 않은 하의 피스는 투명화 또는 반투명화할 수 있다.

깊이 레벨 2('Depth 2')는 3차원 의상(330)의 세부적인 디테일을 수정할 수 있는 레벨에 해당할 수 있다. 깊이 레벨 2에 대응하여 2차원 패턴들(310)이 화면에 표시될 수 있다. 깊이 레벨 2에서는 피스(320)를 구성하는 2차원 패턴들(310)에 대한 수정이 가능하다. 의상 시뮬레이션 장치는 사용자에 의해 선택된 2차원 패턴에 대하여는 수정을 위한 사용자 인터페이스를 시각화하고, 사용자에 의해 선택되지 못한 2차원 패턴에 대하여는 사용자 인터페이스를 시각화하지 않을 수 있다.

도 4는 일 실시예에 따라 선택된 객체를 활성화하여 시각화하는 방법을 나타낸 흐름도이다. 이하 실시예에서 각 동작들은 순차적으로 수행될 수도 있으나, 반드시 순차적으로 수행되는 것은 아니다. 예를 들어, 각 동작들의 순서가 변경될 수도 있으며, 적어도 두 동작들이 병렬적으로 수행될 수도 있다.

도 4를 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치가 동작(410) 내지 동작 (420)를 통해 선택된 객체를 활성화하여 시각화하는 과정이 도시된다. 아래의 동작(410) 내지 동작(420)은 예를 들어, 도 11에 도시된 의상 시뮬레이션 장치(1100)의 프로세서(1130)에서 수행될 수 있다.

동작(410)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 아래의 도 5b에 도시된 것과 같이 다음 깊이 레벨이 피스들(520,530)을 표시하는 제1 깊이 레벨인 경우, 제1 레벨에 대응하여 선택된 어느 하나의 피스를 활성화하여 시각화할 수 있다.

동작(420)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 아래의 도 5c에 도시된 것과 같이 다음 깊이 레벨이 2차원 패턴들(540,550)을 표시하는 제2 레벨인 경우, 제2 레벨에 대응하여 선택된 2차원 패턴을 활성화하여 시각화할 수 있다.

도 5a 내지 도 5c는 일 실시예에 따른 깊이 레벨들 간의 이동 및 시각화를 설명하기 위한 도면이다.

도 5a를 참조하면, 일 실시예에 따라 화면에 현재 표시 중인 깊이 레벨이 '깊이 레벨 0(Depth 0)'인 경우에 화면에 표시되는 객체인 3차원 의상(510)이 도시된다. 깊이 레벨이 ' 깊이 레벨 0' 인 경우에는 시뮬레이션의 최종 결과물이 그대로 시각화되며, 수정을 위한 별도의 사용자 인터페이스가 제공되지 않을 수 있다.

사용자가 화면에 표시 중인 3차원 의상(510)에서 상의 피스 또는 하의 피스 중 어느 하나에 해당하는 부분을 선택하는 경우, 아래의 도 5b와 같은 화면이 제공될 수 있다.

도 5b를 참조하면, 화면에 현재 표시 중인 깊이 레벨 0('Depth 0')에서 수정을 위해 3차원 의상(510)의 일 영역을 선택한 경우에 화면에 표시되는 객체들(예를 들어, 피스들(520, 530))이 도시된다. 이때, 3차원 의상(510)의 일 영역은 피스들(520, 530)에 해당하는 영역일 수 있다.

의상 시뮬레이션 장치는 현재 표시 중인 깊이 레벨('Depth 0')의 다음 깊이 레벨인 깊이 레벨 1('Depth 1')에 대응하는 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력을 수신함에 따라 복수의 객체들 중 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체에 의하여 선택된 객체가 가려지지 않도록, 복수의 객체들의 시각화를 제어함으로써 다음 깊이 레벨을 표시할 수 있다.

이때, 사용자에 의해 깊이 레벨 1('Depth 1')에 대응하는 복수의 객체들(예를 들어, 피스들(520, 530)) 내의 어느 하나의 패턴이 선택되는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 더 깊은 다음 깊이 레벨인 깊이 레벨 2('Depth 2')에서 적용 가능한 편집 요소들을, 선택된 어느 하나의 패턴에 대응하여 활성화할 수 있다. 다음 깊이 레벨인 깊이 레벨 2에서 적용 가능한 편집 요소들이 활성화됨에 따라 의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 2를 화면에 표시할 수 있다.

또는, 예를 들어, 현재 표시 중인 깊이 레벨 0('Depth 0')에 대응하는 복수의 객체들(예를 들어, 피스들(520, 530))이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 복수의 객체들(피스들(520, 530))을 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력이 수신될 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 빈 공간에 대한 사용자 입력에 대응하여 깊이 레벨 0의 다음 깊이 레벨인 깊이 레벨 1을 표시하지 않고, 현재 표시 중인 깊이 레벨 0을 유지할 수 있다.

도 5c를 참조하면, 화면에 현재 표시 중인 깊이 레벨 1에서 어느 한 피스(530)의 일 영역을 선택한 경우에 화면에 표시되는 객체들(예를 들어, 2차원 패턴들(540,550)이 도시된다. 이때, 어느 한 피스(530)의 일 영역은 2차원 패턴들(540,550)에 해당하는 영역일 수 있다.

예를 들어, 사용자가 깊이 레벨 1에서 피스(530)의 전면 우측 영역을 선택했다고 하자. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 전면 우측 영역에 대응하는 객체(예를 들어, 하의 우측 전면의 2차원 패턴(540))를 활성화하여 시각화할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 객체(예를 들어, 2차원 패턴(540))를 제외한 나머지 객체들은 비활성화하여 투명 또는 반투명하게 시각화할 수 있다.

실시예에 따라서, 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 2차원 패턴이 선택되지 않은 다른 2차원 패턴들에 의해 가려지는 경우, 선택된 2차원 패턴을 다른 2차원 패턴들을 투과하여 선명하게 시각화할 수 있다. 예를 들어, 사용자가 깊이 레벨 1('Depth 1')에서 피스(530)의 좌측 주머니 영역을 선택했다고 하자. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 좌측 주머니 영역에 대응하는 객체(예를 들어, 하의 좌측의 주머니에 대응되는 2차원 패턴(550))을 활성화하여 시각화할 수 있다. 이때, 주머니에 대응되는 2차원 패턴(550)이 하의 좌측 전면의 2차원 패턴에 의해 가려질 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 2차원 패턴(550)을 가리는 하의 좌측 전면의 2차원 패턴을 투명하게 표시하거나, 또는 하의 좌측 전면의 2차원 패턴을 투과하여 2차원 패턴(550)을 선명하게 시각화할 수 있다.

의상 시뮬레이션 장치는 기능에 따라서, 사용자에 의해 선택되지 못한 2차원 패턴들에 예를 들어, 불투명, 반투명, 또는 투명 등의 별도의 시각화를 제공할 수 있다. 이때, 사용자는 선택되지 못한 2차원 패턴들에 대한 시각화 정도에 따라 새로운 2차원 패턴을 선택할 수도 있다. 예를 들어, 사용자가 다른 2차원 패턴을 새로이 선택하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 2에서 다른 2차원 패턴을 편집하는 사용자 인터페이스를 시각화할 수도 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 기능에 따라서, 사용자에 의해 선택되지 못한 피스들에 대하여도 2차원 패턴들과 마찬가지로 별도의 시각화를 제공할 수 있다.

예를 들어, 현재 표시 중인 깊이 레벨 1에 대응하는 복수의 객체들(예를 들어, 피스들(530))이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 피스(530)를 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력이 수신될 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 빈 공간에 대한 사용자 입력에 대응하여 다음 깊이 레벨인 깊이 레벨 2를 표시하지 않고, 현재 표시 중인 깊이 레벨 1의 이전 레벨인 깊이 레벨 0으로 이동할 수 있다.

도 6은 일 실시예에 따라 동일한 깊이 레벨에서의 이동 가능 여부를 설명하기 위한 도면이다. 도 6을 참조하면, 일 실시예에 따라 사용자 입력이 깊이 레벨 1에서 하의 피스와 상의 피스 간에 이동하는 상황을 나타낸 도면들(610,620) 및 사용자 입력이 깊이 레벨 2에서 상의의 2차원 패턴 간에 이동하는 상황을 나타낸 도면들(630, 640)이 도시된다.

예를 들어, 도면(610)과 같이 하의 피스가 활성화된 경우, 상의 피스는 투명으로 표시될 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 사용자가 도면(610)에서 투명으로 표시된 상의 피스를 선택하더라도 도면(620)과 같이 선택된 상의 피스에 대응하는 2차원 패턴을 시각화하지 않을 수 있다. 도면(610)과 같이 투명으로 시각화된 객체, 다시 말해 표시되지 않은 객체(피스 또는 패턴)는 선택 불가능하며, 동일한 깊이 레벨이라도 하의 피스와 상의 피스 간의 이동은 불가능할 수 있다.

또는 예를 들어, 도면(630)과 같이 상의 피스에 포함된 앞판 좌측의 2차원 패턴이 활성화되고, 하의 피스에 포함된 2차원 패턴들이 반투명 또는 불투명으로 표시될 수 있다. 이때, 상의 피스에서 활성화되지 않은 다른 2차원 패턴들 또한 화면 상에 표시된 상태이고, 이와 같이 화면 상에 2차원 패턴들이 표시된 경우, 해당 2차원 패턴들이 활성화되지 않은 상태라도 동일한 깊이 레벨에서의 이동이 가능하다.

마찬가지로, 깊이 레벨 1에서도 피스들이 반투명, 또는 불투명으로 표시된 상태에서 사용자에 의해 선택되면, 피스들이 활성화되지 않은 상태라도 동일한 깊이 레벨에서의 이동이 가능하다.

예를 들어, 사용자가 도면(630)과 같이 화면에 표시는 되었으나 활성화되지 않은 소매 부분의 2차원 패턴을 선택하는 경우, 도면(640)과 같이 소매 부분에 대응하는 2차원 패턴으로의 이동이 가능하고, 소매 부분에 대응하는 2차원 패턴에 대한 수정은 설정 여부에 따라 가능할 수도 있고, 불가능할 수도 있다.

다시 말해, 의상 시뮬레이션 장치는 객체가 화면 상에 표시된 경우에는 해당 객체의 활성화 여부와 무관하게 동일 깊이 레벨에서의 이동 기능은 제공하지만, 수정 기능은 제공하지 않을 수 있다.

도 7은 일 실시예에 따라 이전 깊이 레벨로 이동하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 7을 참조하면, 일 실시예에 따른 깊이 레벨들에 대응하는 시뮬레이션 공간을 나타낸 도면들(710, 730)에서 객체가 표시되지 않은 빈 공간(715, 735)에 사용자 입력이 발생한 경우에 이동되는 이전 깊이 레벨에 대응하는 시뮬레이션 공간을 나타낸 도면들(720, 740)이 도시된다.

예를 들어, 도면(710)과 같이 깊이 레벨 2에 대응하는 시뮬레이션 공간에 표시된 객체(상의 피스)를 제외한 나머지의 빈 공간(715)에서 사용자 입력이 수신될 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 빈 공간(715)에 대한 사용자 입력에 대응하여 화면(720)과 같이 깊이 레벨 2의 이전 깊이 레벨인 깊이 레벨 1로 이동할 수 있다.

실시예에 따라서, 의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 1에서 적용 가능한 편집 요소들을 상의 피스에 대응하여 활성화하고, 활성화된 편집 요소들에 의해 선택된 상의 피스를 변형할 수도 있다.

또는 도면(730)과 같이 깊이 레벨 1에 대응하는 시뮬레이션 공간에서 상의 피스를 제외한 나머지의 빈 공간(735)에서 사용자 입력이 수신될 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 빈 공간(735)에 대한 사용자 입력에 대응하여 화면(740)과 같이 깊이 레벨 1의 이전 깊이 레벨인 깊이 레벨 0로 이동할 수 있다.

도 8은 일 실시예에 따라 현재 깊이 레벨에서 투명으로 표시되어 선택이 불가능한 객체를 선택하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.

의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 화면(810)과 같이 깊이 레벨 1에서 하의 피스를 투명으로 표시하여 비활성화할 수 있다. 이와 같이 투명으로 표시된 비활성화된 객체는 사용자에 의한 선택이 불가능할 수 있다. 객체가 투명으로 표시된 경우, 동일한 깊이 레벨 간의 이동이 불가능하므로 화면(810)에서 화면(830)으로의 전환은 불가능할 수 있다.

의상 시뮬레이션 장치가 레벨 1에서 투명으로 비활성화하여 선택이 불가능한 객체를 사용자가 선택하고자 하는 경우, 사용자는 화면(810)에서 객체가 표시되지 않은 빈 공간(815)을 선택함으로써 화면(820)과 같이 깊이 레벨 1의 이전 레벨인 깊이 레벨 0으로 이동할 수 있다. 화면(820)과 같이 깊이 레벨 0으로 이동한 후, 사용자는 화면(820)애 표시된 3차원 의상에서 하의 피스에 해당하는 영역(825)을 선택함으로써 화면(830)과 같이 하의 피스를 선택될 수 있다.

도 9는 일 실시예에 따라 선택된 객체를 변형하는 방법을 나타낸 흐름도이다. 이하 실시예에서 각 동작들은 순차적으로 수행될 수도 있으나, 반드시 순차적으로 수행되는 것은 아니다. 예를 들어, 각 동작들의 순서가 변경될 수도 있으며, 적어도 두 동작들이 병렬적으로 수행될 수도 있다.

도 9를 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치가 동작(910) 내지 동작 (920)를 통해 선택된 객체를 변형하는 과정이 도시된다. 아래의 동작(910) 내지 동작(920)은 예를 들어, 도 11에 도시된 의상 시뮬레이션 장치(1100)의 프로세서(1130)에서 수행될 수 있다.

동작(910)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 다음 깊이 레벨에서 적용 가능한 편집 요소들을 선택된 객체에 대응하여 활성화할 수 있다. 예를 들어, 다음 깊이 레벨이 피스들을 표시하는 제1 레벨인 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 레벨에 대응하여 선택된 피스를 편집하기 한 편집 요소들을 활성화할 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 1에서 선택된 피스 전체에 대응하여 사용자 인터페이스(UI)가 시각화되도록 할 수 있다.

또는 다음 깊이 레벨이 2차원 패턴들을 표시하는 제2 레벨인 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 제2 레벨에 대응하여 선택된 2차원 패턴을 편집하는 편집 요소들을 활성화할 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 2에서 선택된 2차원 패턴에 대응하는 사용자 인터페이스(UI)가 시각화되도록 할 수 있다.

동작(910)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 다음 깊이 레벨에서 적용 가능한 편집 요소들을, 3차원 의상에 대응하여 설정된 편집 기능에 따라, 선택된 객체에 대응하여 활성화할 수 있다. 여기서, '편집 기능'은 예를 들어, 3차원 의상에 대한 원단 부여, 패턴에 대한 길이 조절, 너비조절, 실루엣 변경, 내부선 변경, 내부선 추가 등의 기능을 포함할 수 있으며, 반드시 이에 한정되지는 않는다. 편집 기능은 예를 들어, 다양한 툴(tool)을 통해 설정될 수 있다. '편집 요소들'은 예를 들어, 3차원 의상, 피스, 및 2차원 패턴들 중 어느 하나의 면(surface)을 편집하기 위한 제1 사용자 인터페이스, 피스들 및 2차원 패턴들 중 어느 하나의 선(line)을 편집하기 위한 제2 사용자 인터페이스, 피스들 및 2차원 패턴들 중 어느 하나의 점(point)을 편집하기 위한 제3 사용자 인터페이스, 및 3차원 의상, 피스들, 및 2차원 패턴들 중 어느 하나에 대응하는 부자재를 편집하기 위한 제4 사용자 인터페이스 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이때, 제2 사용자 인터페이스에 의해 편집되는 어느 하나의 선(line)에는 전술한 의상, 피스들, 2차원 패턴들의 형태를 나타내는 외곽선 이외에도, 재봉선 및 스타일 라인이 모두 포함할 수 있다.

의상 시뮬레이션 장치가 기능 별로 깊이 레벨에 대응하는 사용자 인터페이스를 시각화하는 방법은 아래의 도 10을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.

동작(920)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 동작(910)에서 활성화된 편집 요소들에 의해 선택된 객체를 변형할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 객체를 편집하는 편집 모드에서 발생한, 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력에 대응하여, 선택된 객체를 변형할 수 있다.

도 10a 내지 도 10d는 일 실시예에 따른 기능 별로 깊이 레벨에 대응하는 사용자 인터페이스를 시각화하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.

일 실시예에서 깊이 레벨 별로 수행 가능한 기능에 달라질 수 있으며, 이에 따라 의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 별로 수행 가능한 기능에 따라 객체에 대한 시각화를 달리 수행할 수 있다.

의상 시뮬레이션 장치는 해당 기능이 작동 가능한 깊이 레벨에서 사용자 인터페이스를 시각화할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 해당 기능에 따라서 시각화 가능한 편집 요소들을 동시에 제공할 수도 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 선택가능한 기능에 대응하여 점의 시각화 및 점과 선의 시각화를 함께 제공할 수 있다.

의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 깊이 레벨 1과 깊이 레벨 2에서는 점과 선에 대응하는 사용자 인터페이스를 시각화하여, 다시 말해 제어점이 표시되도록 함으로써 선 및 점에 대한 편집이 가능하도록 할 수 있다. 따라서, 사용자는 예를 들어, 스타일 라인의 수정, 2차원 패턴의 면적 변화 및/또는 길이 변화, 및 실루엣 변경 등과 같이 제어점을 통해 수행 가능한 기능들을 깊이 레벨 1과 깊이 레벨 2에서 수행할 수 있다.

또한, 의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 0에서는 면에 대응하는 사용자 인터페이스를 시각화하여 의상의 면에 대한 편집이 가능하도록 할 수 있다. 따라서, 사용자는 예를 들어, 패턴 또는 의상에 대한 패브릭(fabric) 성질 부여, 원단 변경, 색상 변경 등과 같이 제어점이 없이 수행 가능한 기능들을 깊이 레벨 0에서 수행할 수 있다. 깊이 레벨 0에서는 제어점들(control points)이 나타나지 않으므로 스타일라인에 대한 편집은 불가능하다.

의상 시뮬레이션 장치는 현재 표시 중인 깊이 레벨의 상태를 저장해 두었다고 깊이 레벨이 변경됨에 따라 저장된 상태에 대응하는 값들이 변경된 깊이 레벨에서도 반영되도록 할 수 있다.

이하, 도 10a 내지 도 10d를 참조하여 의상 시뮬레인이션 장치가 다양한 기능들에 따른 시각화를 제공하는 방법을 설명한다.

도 10a를 참조하면, 일 실시예에 따라 깊이 레벨 1에서 상의 피스의 소매 영역에 해당하는 패턴에 서로 다른 원단을 부여하는 기능을 수행하는 화면들(1010, 1020)이 도시된다.

의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 1에 대응하는 상의 피스에서 해당 상의 피스를 구성하는 2차원 패턴들의 외곽선을 표시함으로써 2차원 패턴들이 더 잘 구분되도록 할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 화면(1010) 또는 화면(1020)과 같이 해당 상의 피스를 구성하는 2차원 패턴들의 외곽선을 표시함으로써 패턴 구분이 용이하도록 할 수 있다. 예를 들어, 사용자가 화면(1010) 또는 화면(1020)에 표시된 상의 피스에서 소매 부분에 해당하는 2차원 패턴(1015, 1025)을 마우스로 호버하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴(1015, 1025)에 대응하는 소매 부분에 대한 하이라이트(high light) 효과를 제공할 수 있다.

사용자가 하이라이트 된 소매 부분을 선택한 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 해당 부분에 대한 하이라이트 효과를 유지한 채로 적용 가능한 편집 요소들(예를 들어, 원단 부여 기능)을 활성화할 수 있다. 예를 들어, 사용자가 상의 피스를 제외한 빈 공간, 다시 말해 배경 영역을 선택하는 경우, 소매 부분에 해당하는 2차원 패턴(1015, 1025)에 대한 선택은 취소되고, 해당 부분에 대한 하이라이트가 해제될 수 있다.

도 10b를 참조하면, 일 실시예에 따라 깊이 레벨 1 및 깊이 레벨 2에서 상의 피스의 일부에 대한 길이 또는 넓이를 조절하는 기능을 수행하는 화면들(1030, 1040)이 도시된다.

의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 1에 대응하는 상의 피스의 외곽선 또는 깊이 레벨 2에서 해당 상의 피스를 구성하는 2차원 패턴들의 외곽선을 표시함으로써 상의 피스에서 선택된 라인 및/또는 2차원 패턴에서 선택된 라인에 대응하는 길이 및/또는 너비가 조절 가능하도록 할 수 있다.

예를 들어, 화면(1030)에서 소매 부분의 라인(1035)이 마우스에 의해 호버되는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 화면(1040)과 같이 소매 부분의 라인(1045)에 하이라이트 효과를 부여하거나, 또는 소매 부분의 라인(1045)이 다른 색상으로 표시되도록 할 수 있다. 마우스 클릭에 의해 소매 부분의 라인(1045)이 선택된 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 소매 부분의 라인(1045)에 대한 하이라이트 또는 다른 색상을 그대로 유지할 수 있다. 이때, 사용자가 화면(1030) 또는 화면(1040)에서 상의 피스를 제외한 빈 공간, 다시 말해 배경 영역을 선택하는 경우, 소매 부분의 라인(1045)에 대한 선택은 취소되고, 해당 부분에 대한 하이라이트 또는 색상 변경은 해제될 수 있다.

예를 들어, 깊이 레벨 2에서는 상의 피스를 구성하는 2차원 패턴들 중 어느 하나의 2차원 패턴만이 시각화될 수 있다. 예를 들어, 사용자에 의해 선택된 2차원 패턴이 사용자에 의해 선택되지 않은 다른 2차원 패턴들에 의해 가려지는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 2차원 패턴을 다른 2차원 패턴들을 투과하여 선명하게 시각화할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 2차원 패턴이 X-ray처럼 투과되어 보이도록 선택된 2차원 패턴을 다른 2차원 패턴들을 투과하여 시각화 함으로써 선택된 2차원 패턴을 가리는 다른 2차원 패턴보다 선택된 2차원 패턴이 우선적으로 표시되도록 할 수 있다.

도 10c를 참조하면, 일 실시예에 따라 깊이 레벨 1 및 깊이 레벨 2에서 상의 피스 상의 일부 지점을 선택하는 화면들(1050,1060,1070)이 도시된다.

의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 2에서 상의 피스를 구성하는 2차원 패턴들의 외곽선 상의 점을 표시함으로써 상의 피스에서 선택된 지점 및/또는 2차원 패턴에서 선택된 지점에 대응하는 길이 및/또는 너비 조절 등과 같은 기능이 수행 가능하도록 할 수 있다. 여기서, 외곽선 상에 표시되는 점은 해당 라인의 길이 변경 및/또는 면적 변경 등이 가능하도록 하는 제어점에 해당할 수 있다.

예를 들어, 화면(1050)에서 상의 피스의 앞판 좌측 패턴(1055)이 사용자에 의해 선택되면, 의상 시뮬레이션 장치는 해당 패턴(1055)의 외곽선 및 해당 외곽선 상의 점을 굵게 표시할 수 있다. 이때, 사용자가 화면(1060)과 같이 해당 패턴(1055) 상의 어느 한 점(1065)에 마우스를 호버하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 점(1065)에 대한 하이라이트 효과 또는 색상 변경 효과를 부여할 수 있다. 사용자가 마우스 클릭 등을 통해 점(1065)을 선택한 경우, 점(1065)에 대한 하이라이트 효과 또는 색상 변경 효과는 유지될 수 있다. 이때, 사용자에 의해 선택된 점(1065)에 대응하는 지점에 눌린 표시가 표현될 수도 있다.

사용자가 화면(1060)에서 상의 피스를 제외한 빈 공간, 다시 말해 배경 영역을 선택하는 경우, 점(1065)에 대한 선택은 취소되고, 해당 부분에 대한 하이라이트 또는 색상 변경은 해제될 수 있다.

예를 들어, 점(1065)을 포함하는 상의 피스의 앞판 좌측 패턴(1055)이 다른 패턴에 의해 가려지는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 해당 2차원 패턴(1055)이 X-ray처럼 투과되어 보이도록 함으로써 해당 2차원 패턴을 가리는 다른 2차원 패턴보다 해당 2차원 패턴(1055)이 우선적으로 선택 가능하도록 할 수 있다.

또한, 의상 시뮬레이션 장치는 깊이 레벨 1에서는 화면(1070)과 같이 상의 피스를 구성하는 2차원 패턴들의 외곽선 및/또는 외관선 상의 점들을 모두 표시할 수 있다. 이에 따라, 사용자는 상의 피스 전체에 대한 스타일 라인, 내부선 변경, 2차원 패턴의 면적 및/또는 길이, 및 실루엣 등을 편집할 수 있다.

도 10d를 참조하면, 일 실시예에 따라 상의 피스에 부자재를 부가하는 기능을 수행하는 화면(1080)이 도시된다.

예를 들어, 단추, 지퍼, 또는 패턴 부착, 글씨 등과 같은 그래픽 패턴의 부가 등을 포함하는 부자재의 부착 및/또는 변경은 모든 깊이 레벨에서 수행될 수 있는 기능에 해당할 수 있다.

사용자가 화면(1080)와 같이 상의 피스의 앞판 좌측 패턴의 일 지점(1085)에 대해 부자재를 부가하는 기능을 수행한다고 하자. 사용자가 화면(1080)와 같이 해당 지점(1085)에 부자재를 부착하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 해당 지점(1085)에 점 대신 사용자가 부가하고자 선택한 부자재를 표시할 수 있다. 사용자가 마우스 클릭 등에 의해 해당 지점(1085)에 부가된 부자재를 선택한 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 선택된 부자재에 대해 하이라이트 효과를 부여할 수 있다.

도 11은 일 실시 예에 따른 의상 시뮬레이션 장치의 블록도이다. 도 11을 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치(1100)는 사용자 인터페이스(1110), 프로세서(1130), 디스플레이(1150), 및 메모리(1170)를 포함할 수 있다. 사용자 인터페이스(1110), 프로세서(1130), 디스플레이(1150), 및 메모리(1170)는 통신 버스(1105)를 통해 서로 연결될 수 있다.

사용자 인터페이스(1110)는 아바타에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상에서 3차원 의상에 포함된 하나 또는 그 이상의 피스들 및 피스들 각각을 구성하는 2차원 패턴들을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨에 대응하는 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력을 수신한다. 사용자 인터페이스(1110)는 예를 들어, 스타일러스 펜, 마우스 클릭, 및/또는 사용자의 손가락을 통해 터치 입력 등을 통해 3차원 공간에 표시된 3차원 의상, 피스, 및/또는 2차원 패턴에 대한 사용자 입력을 수신할 수 있다.

또한, 사용자 인터페이스(1110)는 복수의 객체들이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 복수의 객체들을 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력을 수신할 수 있다.

프로세서(1130)는 복수의 객체들 중 사용자 인터페이스(1110)를 통해 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체에 의하여 사용자 인터페이스(1110)를 통해 선택된 객체가 가려지지 않도록, 복수의 객체들의 시각화를 제어함으로써 다음 깊이 레벨을 표시한다. 프로세서(1130)는 다음 깊이 레벨에 대응하여 사용자 인터페이스(1110)를 통해 선택된 객체를 편집하는 입력에 기초하여, 선택된 객체를 변형한다. 프로세서(1130)는 사용자 인터페이스(1110)를 통해 선택된 객체에 대한 변형을 반영함으로써 3차원 의상을 변형한다. 프로세서(1130)는 선택된 객체를 활성화하여 시각화할 수 있다. 또한, 프로세서(1130)는 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체를 비활성화하여 투명 또는 반투명하게 시각화할 수 있다.

프로세서(1130)는 예를 들어, 다음 깊이 레벨이 피스들을 표시하는 제1 레벨인 경우, 제1 레벨에 대응하여 선택된 어느 하나의 피스를 활성화하여 시각화하고, 다음 깊이 레벨이 2차원 패턴들을 표시하는 제2 레벨인 경우, 제2 레벨에 대응하여 선택된 2차원 패턴을 활성화하여 시각화할 수 있다. 이때, 프로세서(1130)는 선택된 2차원 패턴이 선택되지 않은 다른 2차원 패턴들에 의해 가려지는 경우, 선택된 2차원 패턴을 상기 다른 2차원 패턴들을 투과하여 선명하게 시각화할 수 있다.

예를 들어, 사용자 인터페이스(1110)가 시뮬레이션 공간에서 복수의 객체들을 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력을 수신한 경우, 프로세서(1130)는 빈 공간에 대한 사용자 입력에 대응하여 다음 깊이 레벨을 표시하지 않고, 현재 표시 중인 깊이 레벨을 유지할 수 있다.

디스플레이(1150)는 프로세서(1130)에 의해 변형된 3차원 의상을 표시한다.

메모리(1170)는 프로세서(1130)에 의해 변형된 3차원 의상을 저장할 수 있다. 이 밖에도, 메모리(1170)는 상술한 프로세서(1130)의 처리 과정에서 생성되는 다양한 정보들을 저장할 수 있다. 이 밖에도, 메모리(1170)는 각종 데이터와 프로그램 등을 저장할 수 있다. 메모리(1170)는 휘발성 메모리 또는 비휘발성 메모리를 포함할 수 있다. 메모리(1170)는 하드 디스크 등과 같은 대용량 저장 매체를 구비하여 각종 데이터를 저장할 수 있다.

또한, 프로세서(1130)는 도 1 내지 도 10을 통해 전술한 적어도 하나의 방법 또는 적어도 하나의 방법에 대응되는 알고리즘을 수행할 수 있다. 프로세서(1130)는 목적하는 동작들(desired operations)을 실행시키기 위한 물리적인 구조를 갖는 회로를 가지는 하드웨어로 구현된 데이터 처리 장치일 수 있다. 예를 들어, 목적하는 동작들은 프로그램에 포함된 코드(code) 또는 인스트럭션들(instructions)을 포함할 수 있다. 프로세서(1130)는 예를 들어, CPU(Central Processing Unit), GPU(Graphics Processing Unit), 또는 NPU(Neural network Processing Unit)으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 하드웨어로 구현된 의상 시뮬레이션 장치(1100)는 마이크로프로세서(microprocessor), 중앙 처리 장치(central processing unit), 프로세서 코어(processor core), 멀티-코어 프로세서(multi-core processor), 멀티프로세서(multiprocessor), ASIC(Application-Specific Integrated Circuit), FPGA(Field Programmable Gate Array)를 포함할 수 있다.

프로세서(1130)는 프로그램을 실행하고, 의상 시뮬레이션 장치(1100)를 제어할 수 있다. 프로세서(1130)에 의하여 실행되는 프로그램 코드는 메모리(1170)에 저장될 수 있다.

실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다. 상기된 하드웨어 장치는 실시예의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.

소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 처리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로(collectively) 처리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 처리 장치에 의하여 해석되거나 처리 장치에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 장치, 가상 장치(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 장치에 영구적으로, 또는 일시적으로 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 하나 이상의 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.

1100: 의상 시뮬레이션 장치
1105: 통신 버스
1110: 사용자 인터페이스
1130: 프로세서
1150: 디스플레이
1170: 메모리

Claims (20)

1. 아바타에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상에서 상기 3차원 의상에 포함된 하나 또는 그 이상의 피스들(pieces) 및 상기 피스들 각각을 구성하는 2차원 패턴들(patterns)을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨에 대응하는 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력을 수신하는 동작;
   상기 복수의 객체들 중 상기 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체에 의하여 상기 선택된 객체가 가려지지 않도록, 상기 복수의 객체들의 시각화를 제어함으로써 상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작;
   상기 다음 깊이 레벨에 대응하여 상기 선택된 객체를 편집하는 입력에 기초하여, 상기 선택된 객체를 변형하는 동작;
   상기 선택된 객체에 대한 변형을 반영함으로써 상기 3차원 의상을 변형하는 동작; 및
   상기 변형된 3차원 의상을 출력하는 동작
   를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
2. 제1항에 있어서,
   상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작은
   상기 선택된 객체를 활성화하여 시각화하는 동작; 및
   상기 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체를 비활성화하여 투명 또는 반투명하게 시각화하는 동작
   중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
3. 제2항에 있어서,
   상기 선택된 객체를 활성화하여 시각화하는 동작은
   상기 다음 깊이 레벨이 상기 피스들을 표시하는 제1 레벨인 경우, 상기 제1 레벨에 대응하여 선택된 어느 하나의 피스를 활성화하여 시각화하는 동작; 및
   상기 다음 깊이 레벨이 상기 2차원 패턴들을 표시하는 제2 레벨인 경우, 상기 제2 레벨에 대응하여 선택된 2차원 패턴을 활성화하여 시각화하는 동작
   중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
4. 제3항에 있어서,
   상기 선택된 2차원 패턴을 활성화하여 시각화하는 동작은
   상기 선택된 2차원 패턴이 선택되지 않은 다른 2차원 패턴들에 의해 가려지는 경우, 상기 선택된 2차원 패턴을 상기 다른 2차원 패턴들을 투과하여 선명하게 시각화하는 동작
   을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
5. 제3항에 있어서,
   상기 선택된 객체를 변형하는 동작은
   상기 선택된 2차원 패턴을 제외한 나머지의 2차원 패턴들 중 어느 하나의 2차원 패턴이 새로 선택된 경우,
   상기 제2 레벨에 대응하여 상기 새로 선택된 2차원 패턴을 편집하는 사용자 인터페이스들을 활성화하는 동작
   을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
6. 제1항에 있어서,
   상기 복수의 객체들이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 상기 복수의 객체들을 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력을 수신하는 동작
   을 더 포함하고,
   상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작은
   상기 빈 공간에 대한 사용자 입력에 대응하여 상기 다음 깊이 레벨을 표시하지 않고, 상기 현재 표시 중인 깊이 레벨의 이전 깊이 레벨로 이동하는 동작
   을 더 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
7. 제1항에 있어서,
   상기 선택된 객체를 변형하는 동작은
   상기 다음 깊이 레벨에서 적용 가능한 편집 요소들을 상기 선택된 객체에 대응하여 활성화하는 동작; 및
   상기 활성화된 편집 요소들에 의해 상기 선택된 객체를 변형하는 동작
   을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
8. 제7항에 있어서,
   상기 편집 요소들을 상기 선택된 객체에 대응하여 활성화하는 동작은
   상기 다음 깊이 레벨이 상기 피스들을 표시하는 제1 레벨인 경우, 상기 제1 레벨에 대응하여 선택된 피스를 편집하기 한 편집 요소들을 활성화하는 동작; 및
   상기 다음 깊이 레벨이 상기 2차원 패턴들을 표시하는 제2 레벨인 경우, 상기 제2 레벨에 대응하여 선택된 2차원 패턴을 편집하는 편집 요소들을 활성화하는 동작
   중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
9. 제7항에 있어서,
   상기 선택된 객체에 대응하여 활성화하는 동작은
   상기 다음 깊이 레벨에서 적용 가능한 편집 요소들을, 상기 3차원 의상에 대응하여 설정된 편집 기능에 따라, 상기 선택된 객체에 대응하여 활성화하는 동작
   을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
10. 제7항에 있어서,
    상기 편집 요소들은
    상기 3차원 의상, 상기 피스들, 및 상기 2차원 패턴들 중 어느 하나의 면(surface)을 편집하기 위한 제1 사용자 인터페이스;
    상기 피스들 및 상기 2차원 패턴들 중 어느 하나의 선(line)을 편집하기 위한 제2 사용자 인터페이스;
    상기 피스들 및 상기 2차원 패턴들 중 어느 하나의 점(point)을 편집하기 위한 제3 사용자 인터페이스; 및
    상기 3차원 의상, 상기 피스들, 및 상기 2차원 패턴들 중 어느 하나에 대응하는 부자재를 편집하기 위한 제4 사용자 인터페이스
    중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
11. 제1항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 나머지 객체 중 어느 하나를 개별적으로 활성화되도록 하는 사용자 입력에 응답하여, 상기 어느 하나를 포함하는 상기 적어도 하나의 나머지 객체를 비활성화되도록 시각화하는 동작
    을 더 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
12. 제1항에 있어서,
    상기 선택된 객체를 변형하는 동작은
    상기 선택된 객체를 편집하는 편집 모드에서 발생한, 상기 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력에 대응하여, 상기 선택된 객체를 변형하는 동작
    을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
13. 제1항에 있어서,
    상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작은
    상기 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨로 이동하도록 하는 이동 모드에서 발생한, 상기 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력에 대응하여, 상기 다음 깊이 레벨을 표시하는 동작
    을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
14. 제1항에 있어서,
    상기 3차원 의상이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 발생하는 상기 사용자 입력이 미리 설정된 유형에 해당하는 경우,
    상기 3차원 의상에 대응하여 설정된 편집 기능과 병행하여 사용 가능한 서브 툴(sub tool)을 활성화하는 동작
    을 더 포함하고,
    상기 서브 툴은
    상기 현재 표시 중인 깊이 레벨과 상기 다음 깊이 레벨 간의 이동하기 위한 깊이 레벨 선택 툴;
    상기 3차원 의상 또는 상기 피스들에서의 스타일 라인을 편집하기 위한 라인 편집 툴; 및
    상기 2차원 패턴들의 재봉선이 수정됨에 따라 재봉을 수행하는 재봉 툴
    중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.
15. 하드웨어와 결합되어 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항의 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램.
16. 아바타에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상에서 상기 3차원 의상에 포함된 하나 또는 그 이상의 피스들(pieces) 및 상기 피스들 각각을 구성하는 2차원 패턴들(patterns)을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨에 대응하는 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력을 수신하는 사용자 인터페이스;
    상기 복수의 객체들 중 상기 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체에 의하여 상기 선택된 객체가 가려지지 않도록, 상기 복수의 객체들의 시각화를 제어함으로써 상기 다음 깊이 레벨을 표시하고, 상기 다음 깊이 레벨에 대응하여 상기 선택된 객체를 편집하는 입력에 기초하여, 상기 선택된 객체를 변형하고, 상기 선택된 객체에 대한 변형을 반영함으로써 상기 3차원 의상을 변형하는 프로세서; 및
    상기 변형된 3차원 의상을 표시하는 디스플레이
    를 포함하는, 의상 시뮬레이션 장치.
17. 제16항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 선택된 객체를 활성화하여 시각화하고,
    상기 선택된 객체를 제외한 적어도 하나의 나머지 객체를 비활성화하여 투명 또는 반투명하게 시각화하거나, 또는 상기 적어도 하나의 나머지 객체의 선택 우선 순위를 낮추는,
    의상 시뮬레이션 장치.
18. 제17항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 다음 깊이 레벨이 상기 피스들을 표시하는 제1 레벨인 경우, 상기 제1 레벨에 대응하여 선택된 어느 하나의 피스를 활성화하여 시각화하고,
    상기 다음 깊이 레벨이 상기 2차원 패턴들을 표시하는 제2 레벨인 경우, 상기 제2 레벨에 대응하여 선택된 2차원 패턴을 활성화하여 시각화하는,
    의상 시뮬레이션 장치.
19. 제18항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 선택된 2차원 패턴이 선택되지 않은 다른 2차원 패턴들에 의해 가려지는 경우, 상기 선택된 2차원 패턴을 상기 다른 2차원 패턴들을 투과하여 선명하게 시각화하는,
    의상 시뮬레이션 장치.
20. 제16항에 있어서,
    상기 사용자 인터페이스는
    상기 복수의 객체들이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 상기 복수의 객체들을 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력을 수신하고,
    상기 프로세서는
    상기 빈 공간에 대한 사용자 입력에 대응하여 상기 다음 깊이 레벨을 표시하지 않고, 상기 현재 표시 중인 깊이 레벨을 유지하는,
    의상 시뮬레이션 장치.

Images