KR20230112570A - 패턴 생성 시뮬레이션 방법 및 장치 - Google Patents

Abstract

아래의 개시는 패턴 생성 시뮬레이션 방법에 관한 것이다. 패턴 생성 시뮬레이션 방법은 3차원 가상 공간에서 디자인 물품의 디자인을 생성하거나 변형하기 위한 복수의 기능들을 제어하는 제1 영역 및 복수의 기능들에 대응하여 복수의 인터페이스들이 전환되는 제2 영역을 포함하는 사용자 인터페이스를 제공할 수 있다.

Description

패턴 생성 시뮬레이션 방법 및 장치{METHOD AND DEVICES FOR CREATING PATTERN SIMULATION}

아래의 개시는 패턴 생성 시뮬레이션 방법 및 장치에 관한 것이다.

의상(garment)은 사람이 착용한 경우에 3차원으로 보이지만, 실제로는 2차원 패턴(pattern)에 따라 재단된 직물(fabric) 조각의 조합에 해당하므로 2차원에 가깝다. 의상의 재료가 되는 직물은 유연하기 때문에 의상을 착용한 사람의 신체 모양이나 움직임에 따라 그 형태가 다양하게 변화될 수 있다.

의상의 3차원 시뮬레이션을 수행하기 위해서는 의상을 구성하는 2차원 패턴의 물성, 중력, 아바타의 체형이나 자세 등 다양한 요인이 고려되어야 한다. 3차원 시뮬레이션을 통하여 3차원 공간에서 아바타에 착장된 의상을 표현할 수 있으나, 아바타에 착장된 상태로 3차원 공간에서 의상의 디자인을 변형하는 사용자 경험을 제공하는 것은 새로운 기술적 영역에 해당한다.

전술한 배경기술은 발명자가 본원의 개시 내용을 도출하는 과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다.

일 실시예에 따른 패턴 생성 시뮬레이션 방법은 3차원 가상 공간에서 디자인 물품의 디자인을 생성하거나 변형하기 위한 복수의 기능들을 제어하는 제1 영역 및 상기 복수의 기능들에 대응하여 복수의 인터페이스들이 전환되는 제2 영역을 포함하는 사용자 인터페이스를 제공하는 단계, 상기 3차원 가상 공간에서 상기 디자인 물품을 표시하는 제1 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계, 상기 제1 영역을 통한 패턴 생성 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 복수의 패턴 영역들 중 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 선택하는 제2 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계, 상기 제2 인터페이스를 통하여 선택된 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 복제하여 복제 패턴 영역을 생성하는 단계, 상기 제1 영역을 통한 재봉 생성 또는 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 선택된 적어도 하나의 패턴 영역 및 상기 복제 패턴 영역과 관련된 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 생성하거나 수정하는 제3 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계 및 상기 제1 영역을 통한 시뮬레이션 기능의 선택에 반응하여, 상기 제2 인터페이스를 통하여 생성된 복제 패턴 영역 및 상기 제3 인터페이스를 통하여 수정된 재봉 관계에 기초하여 상기 디자인 물품의 착장 시뮬레이션을 수행하는 단계를 포함할 수 있다.

상기 복제 패턴 영역을 생성하는 단계는 상기 선택된 패턴 영역의 테두리와 상기 복제 패턴 영역의 테두리에 재봉선을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.

상기 선택된 패턴 영역이 복수인 경우, 상기 선택된 복수의 패턴 영역들이 공유하는 스타일라인은 상기 테두리에서 제외될 수 있다.

상기 복제 패턴 영역을 생성하는 단계는 상기 선택된 패턴 영역에 대응하는 2차원 패턴 조각을 식별하는 단계 및 상기 식별된 2차원 패턴 조각에 기초하여, 상기 복제 패턴 영역에 대응하는 2차원 복제 패턴 조각을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.

상기 복제 패턴 영역을 생성하는 단계는 상기 2차원 패턴 조각과 상기 2차원 복제 패턴 조각 사이에 재봉 관계를 생성하는 단계를 더 포함할 수 있다.

상기 제1 영역을 통한 스타일라인 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 스타일라인을 수정하는 제4 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계를 더 포함할 수 있다.

상기 제1 영역을 통한 스타일라인 드로우 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 스타일라인을 부가하는 제5 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계를 더 포함할 수 있다.

상기 제1 영역을 통한 패턴의 길이 또는 너비 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 패턴의 길이 또는 너비를 조절하는 제6 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계를 더 포함할 수 있다.

상기 제3 인터페이스를 제공하는 단계는 상기 3차원 가상 공간에서 상기 디자인 물품의 패턴 영역들을 서로 분리하여 표시하는 분해도(exploded view)를 제공하는 단계 및를 포함할 수 있고, 상기 분해도에서 서로 분리하여 표시되는 상기 패턴 영역들 사이의 재봉 관계가 시각화 되고, 상기 시각화 된 재봉 관계를 통하여 상기 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 수정하는 명령이 입력될 수 있다.

상기 착장 시뮬레이션을 수행하는 단계는 상기 제1 영역을 통한 시뮬레이션 기능이 선택될 때 상기 제2 영역에 제공 중인 인터페이스를 통하여 상기 착장 시뮬레이션의 결과를 제공하는 단계를 포함할 수 있다.

상기 제1 영역을 통한 스타일라인 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 스타일라인을 수정하는 제4 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계, 상기 제1 영역을 통한 스타일라인 드로우 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 스타일라인을 부가하는 제5 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계 및 상기 제1 영역을 통한 패턴의 길이 또는 너비 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 패턴의 길이 또는 너비를 조절하는 제6 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계를 더 포함할 수 있고, 상기 제4 인터페이스, 상기 제5 인터페이스, 및 상기 제6 인터페이스 중 적어도 하나를 통하여 상기 복제 패턴 영역의 형상이 수정되고, 상기 제3 인터페이스를 통하여 상기 복제 패턴 영역을 상기 디자인 물품의 다른 패턴 영역에 연결하거나 상기 다른 패턴 영역으로부터 분리할 수 있다.

상기 복수의 기능들 중 상기 패턴 생성 기능, 상기 재봉 생성 또는 수정 기능, 상기 스타일라인 수정 기능, 상기 스타일라인 드로우 기능 및 상기 길이 또는 너비 수정 기능은 서로 배타적으로 활성화될 수 있다.

상기 사용자 인터페이스, 상기 제1 인터페이스, 상기 제2 인터페이스 및 상기 제3 인터페이스를 제공하는 단계들 중 적어도 하나의 단계에서, 사용자 단말에 상기 사용자 인터페이스, 상기 제1 인터페이스, 상기 제2 인터페이스 및 상기 제3 인터페이스 중 적어도 하나를 표시하기 위한 데이터가 네트워크를 통하여 상기 사용자 단말에 전송될 수 있다.

하드웨어와 결합되어 제1항 내지 제12항 중 어느 하나의 항의 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 기록매체에 저장된 컴퓨터 프로그램.

일 실시예에 따른 패턴 생성 시뮬레이션을 하기 위한 시뮬레이션 장치는 사용자 인터페이스, 메모리 및 프로세서를 포함할 수 있고, 상기 프로세서는 3차원 가상 공간에서 디자인 물품의 디자인을 생성하거나 변형하기 위한 복수의 기능들을 제어하는 제1 영역 및 상기 복수의 기능들에 대응하여 복수의 인터페이스들이 전환되는 제2 영역을 포함하는 상기 사용자 인터페이스를 제공하고, 상기 3차원 가상 공간에서 상기 디자인 물품을 표시하는 제1 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고, 상기 제1 영역을 통한 패턴 생성 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 복수의 패턴 영역들 중 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 선택하는 제2 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고, 상기 제2 인터페이스를 통하여 선택된 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 복제하여 복제 패턴 영역을 생성하고, 상기 제1 영역을 통한 재봉 생성 또는 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 선택된 적어도 하나의 패턴 영역 및 상기 복제 패턴 영역과 관련된 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 생성하거나 수정하는 제3 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고, 상기 제1 영역을 통한 시뮬레이션 기능의 선택에 반응하여, 상기 제2 인터페이스를 통하여 생성된 복제 패턴 영역 및 상기 제3 인터페이스를 통하여 수정된 재봉 관계에 기초하여 상기 디자인 물품의 착장 시뮬레이션을 수행할 수 있다.

상기 프로세서는 상기 선택된 패턴 영역의 테두리와 상기 복제 패턴 영역의 테두리에 재봉선을 생성할 수 있다.

상기 프로세서는 상기 선택된 패턴 영역이 복수인 경우, 상기 선택된 복수의 패턴 영역들이 공유하는 스타일라인을 상기 테두리에서 제외할 수 있다.

상기 프로세서는 상기 선택된 패턴 영역에 대응하는 2차원 패턴 조각을 식별하고, 상기 식별된 2차원 패턴 조각에 기초하여, 상기 복제 패턴 영역에 대응하는 2차원 복제 패턴 조각을 생성할 수 있다.

상기 프로세서는 상기 2차원 패턴 조각과 상기 2차원 복제 패턴 조각 사이에 재봉 관계를 생성할 수 있다.

상기 프로세서는 상기 3차원 가상 공간에서 상기 디자인 물품의 패턴 영역들을 서로 분리하여 표시하는 분해도(exploded view)를 제공하고, 상기 분해도에서 서로 분리하여 표시되는 상기 패턴 영역들 사이의 재봉 관계가 시각화 되고, 상기 시각화 된 재봉 관계를 통하여 상기 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 수정하는 명령을 입력할 수 있다.

상기 프로세서는 상기 제1 영역을 통한 스타일라인 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 스타일라인을 수정하는 제4 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고, 상기 제1 영역을 통한 스타일라인 드로우 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 스타일라인을 부가하는 제5 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고, 상기 제1 영역을 통한 패턴의 길이 또는 너비 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 패턴의 길이 또는 너비를 조절하는 제6 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고, 상기 제4 인터페이스, 상기 제5 인터페이스, 및 상기 제6 인터페이스 중 적어도 하나를 통하여 상기 복제 패턴 영역의 형상을 수정하고, 상기 제3 인터페이스를 통하여 상기 복제 패턴 영역을 상기 디자인 물품의 다른 패턴 영역에 연결하거나 상기 다른 패턴 영역으로부터 분리할 수 있다.

도 1a는 일 실시예에 따른 패턴 생성 시뮬레이션 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 1b는 일 실시예에 따른 시뮬레이션을 제공하는 인터페이스들이 표시된 개략적인 블록도이다.
도 2는 일 실시예에 따른 패턴 생성 방법의 인터페이스 설명하기 위한 개략적인 블록도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 패턴 복제 방법을 설명하기 위한 블록 순서도이다.
도 4는 일 실시예에 따른 복수의 패턴 복제 방법을 설명하기 위한 블록 순서도이다.
도 5는 일 실시예에 따른 패턴 선택에 대한 시각화를 개략적으로 도시한 것이다.
도 6은 일 실시예에 따른 제2 영역에서의 패턴 생성 동작을 개략적으로 도시한 것이다.
도 7a 및 도 7b는 일 실시예에 따른 제6 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.
도 8a 및 도 8b는 일 실시예에 따른 제4 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.
도 9a 및 도 9b는 일 실시예에 따른 제5 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.
도 10a 및 도 10b는 일 실시예에 따른 제2 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.
도 11a 내지 도 11d는 일 실시예에 따른 제3 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.

실시예들에 대한 특정한 구조적 또는 기능적 설명들은 단지 예시를 위한 목적으로 개시된 것으로서, 다양한 형태로 변경되어 구현될 수 있다. 따라서, 실제 구현되는 형태는 개시된 특정 실시예로만 한정되는 것이 아니며, 본 명세서의 범위는 실시예들로 설명한 기술적 사상에 포함되는 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.

제1 또는 제2 등의 용어를 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이런 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 해석되어야 한다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소는 제1 구성요소로도 명명될 수 있다.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설명된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함으로 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

본 문서에서, "A 또는 B", "A 및 B 중 적어도 하나", "A 또는 B 중 적어도 하나", "A, B 또는 C", "A, B 및 C 중 적어도 하나", 및 "A, B, 또는 C 중 적어도 하나"와 같은 문구들 각각은 그 문구들 중 해당하는 문구에 함께 나열된 항목들 중 어느 하나, 또는 그들의 모든 가능한 조합을 포함할 수 있다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

실시예들은 퍼스널 컴퓨터, 랩톱 컴퓨터, 태블릿 컴퓨터, 스마트 폰, 텔레비전, 스마트 가전 기기, 지능형 자동차, 키오스크, 웨어러블 장치 등 다양한 형태의 제품으로 구현될 수 있다. 이하, 실시예들을 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조 부호를 부여하고, 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.

도 1a는 일 실시예에 따른 패턴 생성 시뮬레이션 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 도 1a의 동작은 도시된 순서 및 방식으로 수행될 수 있지만, 도시된 실시예의 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서 일부 동작의 순서가 변경되거나 일부 동작이 생략될 수 있다. 도 1a에 도시된 다수의 동작은 병렬로 또는 동시에 수행될 수 있다.

도 1b는 일 실시예에 따른 시뮬레이션을 제공하는 인터페이스들이 표시된 개략적인 블록도이다. 도 1b의 하나 이상의 블록들 및 블록들의 조합은 특정 기능을 수행하는 특수 목적 하드웨어 기반 컴퓨터, 또는 특수 목적 하드웨어 및 컴퓨터 명령들의 조합에 의해 구현될 수 있다.

도면에 도시되지는 않았으나, 3차원 의상들 및 2차원 패턴들은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 구성될 수 있다. 실시예들에 따라 메쉬는 다양하게 모델링 될 수 있다. 일례로, 메쉬에 포함되는 다각형의 꼭지점들은 질량을 가지고 있는 점(point mass)이며, 다각형의 변들은 그 질량을 연결하는 탄성을 가지고 있는 스프링들로 표현될 수 있다. 이에 따라, 일 실시예에 따른 3차원 의상은 예를 들어, 질량-스프링 모델(Mass-Spring Model)에 의해 모델링될 수 있다. 스프링들은 사용되는 천(fabric)의 물성에 따라, 예를 들어, 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending)에 대한 각 저항값(resist)을 가질 수 있다.

또는, 메쉬는 스트레인(strain) 모델로 모델링될 수 있다. 메쉬에 포함되는 다각형은 예를 들어, 삼각형으로 모델링되거나, 혹은 사각형 이상의 다각형으로 모델링될 수도 있다. 경우에 따라, 3차원 볼륨(volume)을 모델링해야 하는 경우, 메쉬는 3차원 다면체로 모델링될 수 있다.

메쉬에 포함된 다각형(들)의 꼭지점들은 예를 들어, 중력 등과 같은 외력(external force) 및 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending) 등과 같은 내력(internal force)에 의해 이동할 수 있다. 외력 및 내력을 계산하여 각 꼭지점에 가해지는 힘을 구하면 각 꼭지점의 변위 속도와 운동을 구할 수 있다. 의상의 움직임은 각 시간 동작에서 메쉬를 구성하는 다각형(들)의 꼭지점들의 움직임을 통해 시뮬레이션 될 수 있다. 예를 들어, 다각형 메쉬로 구성된 의상이 3차원 아바타 위에 착장되면, 물리 법칙에 기반한 자연스러운 3차원의 가상 의상이 구현될 수 있다. 메쉬에 포함된 다각형(들)의 꼭지점들은 중력 등과 같은 외부적인 힘(external force)과 신축, 비틀림, 및 굽힘의 내부적인 힘(internal force)의 작용에 따라 움직일 수 있다. 외부적인 힘과 내부적인 힘을 계산하여 각 꼭지점에 가해지는 힘을 구하면, 각 꼭지점의 변위 및 움직임의 속도를 구할 수 있다. 그리고 각 시점(time step)에서의 메쉬의 다각형의 꼭지점들의 움직임을 통하여 가상 의상의 움직임을 시뮬레이션 할 수 있다. 다각형 메쉬로 이루어진 2차원 패턴을 3차원의 아바타에 착장시키면 물리 법칙에 기반한 자연스러운 모습의 3차원 가상 의상을 구현할 수 있다.

일 실시예에 따른 3차원 의상들은 예를 들어, 사용자의 신체 치수에 맞는 가상 의상, 3차원 가상 캐릭터를 위한 가상 의상 및 3차원 가상 아바타를 위한 가상 의상 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

어느 2차원 패턴의 외곽선 중 하나를 다른 2차원 패턴의 외곽선 중 하나에 맞닿아 접합, 즉, '재봉'함으로써 3차원 의상을 생성할 수 있다. 가상 의상의 재봉은 2차원 패턴의 외곽선 중 하나의 메쉬를 이것이 재봉될 다른 2차원 패턴의 외곽선 중 하나의 메쉬에 이어 붙여서 하나의 3차원 의상을 생성하는 것으로 구현할 수 있다. 더 구체적으로는, 두 2차원 패턴의 외곽선 상에는 그 2차원 패턴을 구성하는 메쉬의 다각형 꼭지점이 존재할 것이고, 사용자가 재봉을 설정하고자 하는 외곽선 및 길이 ('재봉선')를 입력하면 각 2차원 패턴에서 재봉선 상에 위치하는 메쉬의 다각형 꼭지점을 연결(welding)하여 가상 의상의 재봉을 구현할 수 있다.

각 재봉선의 시작과 끝은 어느 메쉬의 다각형 꼭지점이다. 사용자가 입력한 각 재봉선 상의 다각형 꼭지점의 갯수가 일치하지 않는 경우에는 해당 2차원 패턴의 메쉬를 갱신하여 두 재봉선 상의 다각형 꼭지점의 개수가 일치하도록 메쉬를 새로 생성한 후 대응되는 다각형 꼭지점을 연결하여 3차원 가상 의상의 재봉을 수행할 수 있다.

이하에서 패턴 생성 시뮬레이션 방법이 상세히 설명된다.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 사용자에게 3차원 가상 공간에서 디자인 물품에 대한 패턴 생성 기능을 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 서버와 관련된 어플리케이션의 설치 및 실행이 가능한 장치로, 시뮬레이션 장치는 사용자에게 인터페이스를 제공할 수 있다. 인터페이스는 시뮬레이션 장치 자체적으로 제공하는 것일 수 있다. 예를 들면, 시뮬레이션 장치의 OS(Operation System)에 의해 제공되는 것일 수도 있고, 시뮬레이션 장치에 설치된 어플리케이션에 의해 제공되는 것일 수도 있다. 또한, 인터페이스는 서버에 의해 제공되는 것일 수도 있으며, 시뮬레이션 장치는 단순히 서버로부터 제공되는 인터페이스를 수신하여 표시하기만 할 수도 있다. 또는, 시뮬레이션 장치는 사용자에게 인터페이스를 제공하는 클라이언트 단말과 대응하는 서버 장치를 지칭할 수도 있다.

'스타일 라인(style line)'은 디자인 물품(예를 들어, 3차원 의상)에서 보여지는 라인들로서, 예를 들어, 디자인 물품(예를 들어, 3차원 의상)을 구성하는 2차원 패턴들 간의 재봉에 의해 디자인 물품(예를 들어, 3차원 의상)에서 보여지는 재봉선, 디자인 물품(예를 들어, 3차원 의상)의 실루엣을 나타내는 외곽선, 디자인 물품(예를 들어, 3차원 의상)의 스타일을 위해 추가한 절개선 등과 같이 디자인 물품(예를 들어, 3차원 의상)의 스타일 및/또는 실루엣을 나타내는 라인들에 해당할 수 있다.

이하, '스타일 라인'은 디자인 물품(예를 들어, 3차원 의상)에서 보여지는 3차원 라인을 지칭하는데 사용하기로 한다.

시뮬레이션 장치는 디자인 물품의 편집(edit)에 적용할 수 있는 기능들이 제공되는 제1 영역(101) 및 디자인 물품을 표시하는 제2 영역(102)를 포함하는 사용자 인터페이스를 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)에서 디자인 물품 템플릿 선택 기능(103), 시뮬레이션 기능(103), 복수의 기능들(105)(예: 스타일라인 수정 기능(Edit Styleline), 스타일라인 드로우 기능(Draw Styleline), 패턴의 길이 또는 너비 수정 기능(Length or Width), 패턴 생성 기능(Create Pattern) 및 재봉선 수정 기능(Edit Sewing)) 또는 이들의 다양한 조합을 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)의 복수의 기능들(105) 중 어느 하나에 대한 선택에 반응하여 제2 영역(103)에 제공되는 인터페이스를 선택된 기능에 맞게 전환할 수 있다. 이하에서, 설명의 편의를 위하여 제1 영역(101)과 제2 영역(102)이 서로 구분되어 표시되는 사용자 인터페이스를 설명하나, 실시예에 따라 사용자 인터페이스 상에 제1 영역(101)이 별도로 표시되지 않고 제2 영역(102) 위에 제1 영역(101)의 복수의 기능들이 아이콘이나 메뉴 등의 형태로 제공될 수 있다. 이 경우, 제1 영역(101)은 제2 영역(102) 위에 투명, 반투명, 또는 불투명하게 오버레이되는 것으로 이해되거나, 아이콘이나 메뉴 등을 포함하는 가상의 영역으로 이해될 수 있다. 또는, 제2 영역(102)에서 우클릭 등의 인터랙션에 반응하여 팝업 메뉴 등의 형태로 제1 영역(101)의 복수의 기능들이 제공될 수도 있다. 이 경우, 제1 영역(101)은 사용자 인터랙션에 반응하여 표시되는 투명, 반투명, 또는 불투명한 팝업 메뉴의 영역으로 이해될 수 있다. 더 나아가, 제1 영역(101)의 복수의 기능들은 단축키에 의하여 선택될 수 있다.

시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)의 시뮬레이션 기능(104)에 대한 선택에 반응하여 디자인 물품의 착장 시뮬레이션을 수행할 수 있다. 앞서 설명한 것과 같이, 시뮬레이션 기능(104)도 단축키에 의하여 선택될 수 있다.

디자인이란 물품의 형상, 모양, 색채 또는 이들을 결합한 것으로서 시각을 통하여 미감을 일으키게 하는 것일 수 있다. 그리고 물품은 독립성 있는 구체적인 유체동산을 의미할 수 있다. "디자인 물품"은 시각을 통하여 미감을 일으키게 하는 물품을 의미할 수 있다. 예를 들어, 디자인 물품은 의상, 신발, 악세서리, 가방, 모자 등을 포함할 수 있다. 디자인 물품을 적어도 하나의 피스로 구성될 수 있다. 예를 들어, 디자인 물품이 의상인 경우, 의상은 상의 피스 및 하의 피스로 구성될 수 있다. 피스는 복수의 패턴들로 구성될 수 있다. 예를 들어, 피스가 상의 피스 중 티셔츠인 경우, 패턴은 전면 몸통 패턴, 후면 몸통 패턴, 팔 소매 패턴 등으로 구성될 수 있다.

단계(110)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 3차원 가상 공간에서 디자인 물품의 디자인을 생성하거나 변형하기 위한 복수의 기능들을 제어하는 제1 영역(101) 및 복수의 기능들에 대응하여 복수의 인터페이스들이 전환되는 제2 영역(102)을 포함하는 사용자 인터페이스를 제공할 수 있다. 제2 영역(102)의 인터페이스들 각각은 사용자의 선택에 따라 디자인 물품만 표시하거나, 디자인 물품과 아바타를 함께 표시할 수 있다.

단계(120)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 3차원 가상 공간에서 디자인 물품을 표시하는 제1 인터페이스를 제2 영역(102)에 제공할 수 있다. 제1 인터페이스는 제1 영역(101)의 복수의 기능들이 모두 비활성화된 상태에서 제공되는 것일 수 있다. 또는, 사용자 인터페이스의 초기 구동 시 제1 영역(101)의 기능들 중 미리 정해진 기능(예를 들어, 스타일라인 수정 기능)이 디폴트로 활성화되도록 설정되는 경우, 제1 인터페이스는 해당 기능(예를 들어, 스타일라인 수정 기능)에 대응하는 인터페이스(예를 들어, 제4 인터페이스)를 포함하는 것으로 해석될 수 있다.

단계(130)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)을 통한 패턴 생성 기능 선택에 반응하여, 디자인 물품에 포함된 복수의 패턴 영역들(예: 도 도 9b 및 도 10a의 패턴(910, 921, 922, 930, 940)) 중 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 선택하는 제2 인터페이스를 제2 영역(102)에 제공할 수 있다.

단계(140)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제2 인터페이스를 통하여 선택된 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 복제하여 복제 패턴 영역(예: 도 10b의 복제 패턴(1010, 1030, 1040))을 생성할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 선택된 패턴 영역(예: 도 9b의 패턴(910, 930, 940))과 복제 패턴 영역의 테두리를 따라 자동으로 재봉선을 생성할 수 있다. 일 예로, 시뮬레이션 장치는 선택된 패턴 영역(예: 도 9b의 패턴(910, 930, 940))의 테두리와 복제 패턴 영역의 테두리에 재봉선을 생성할 수 있다. 상기 재봉선을 생성할 때, 시뮬레이션 장치는 선택된 패턴 영역이 복수인 경우, 선택된 패턴 영역들이 공유하는 스타일라인은 테두리에서 제외할 수 있다. 아래 도 4 내지 도 11d 에서 패턴 생성 및 재봉에 대하여 상세히 설명된다.

시뮬레이션 장치는 선택된 패턴 영역에 대응하는 2차원 패턴 조각을 식별할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 식별된 2차원 패턴 조각에 기초하여, 복제 패턴 영역에 대응하는 2차원 복제 패턴 조각을 생성할 수 있다. 도면에 도시되진 않았지만, 시뮬레이션 장치는 3차원 가상 공간에서의 패턴 영역과 대응되는 2차원 패턴 조각에 대한 데이터를 실시간으로 식별할 수 있다. 또한, 3차원 가상 공간에서 패턴 영역과 복제 패턴 영역이 재봉될 때, 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴 조각과 2차원 복제 패턴 조각 사이에 재봉 관계를 생성할 수 있다.

단계(150)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 영역을 통한 재봉 생성 또는 수정 기능의 선택에 반응하여, 선택된 적어도 하나의 패턴 영역 및 복제 패턴 영역과 관련된 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 생성하거나 수정하는 제3 인터페이스를 제2 영역(102)에 제공할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 3차원 가상 공간에서 디자인 물품의 패턴 영역들을 서로 분리하여 표시하는 분해도(exploded view)를 제공할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 분해도에서 서로 분리하여 표시되는 패턴 영역들 사이의 재봉 관계가 시각화 되고, 시각화 된 재봉 관계를 통하여 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 수정하는 명령이 입력될 수 있다.

분해도는 3차원 시뮬레이션에서 디자인 물품에 포함된 복수의 패턴들을 분해시켜서 서로 떨어 뜨려 놓은 도면일 수 있다. 예를 들어, 3차원 분해도에서 시뮬레이션 장치는 피스 사이가 멀어지도록 피스들 사이 거리를 조정할 수 있다. 또 다른 예를 들어, 3차원 분해도에서 시뮬레이션 장치는 패턴들 사이 거리가 멀어지도록 패턴들 사이의 거리를 조정할 수 있다. 이를 통해, 사용자들은 디자인 이미지의 패턴에 포함된 각각의 패턴에 대하여 재봉선, 소재, 치수 변환 등 섬세한 작업을 할 수 있다.

실시예에 따라, 제3 인터페이스는 사용자에 의하여 선택된 제1 패턴만 다른 패턴들로부터 분해하여 표시한 뒤, 선택된 제1 패턴과 다른 패턴들 사이의 재봉 관계를 시각화하여 제공할 수 있다. 제3 인터페이스는 시각화된 재봉 관계를 수정하거나 새로운 재봉 관계를 생성하는 기능을 제공할 수 있다. 제1 패턴이 선택된 상태에서 제2 패턴이 새롭게 선택되는 경우, 제3 인터페이스는 새롭게 선택된 제2 패턴만 다른 패턴들로부터 분해하여 표시한 뒤, 제2 패턴과 다른 패턴들 사이의 재봉 관계를 시각화하여 제공할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)을 통한 스타일라인 수정 기능의 선택에 반응하여, 디자인 물품에 포함된 스타일라인을 수정하는 제4 인터페이스(예: 도 8의 제4 인터페이스(801))를 제2 영역(102)에 제공할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)을 통한 스타일라인 드로우 기능의 선택에 반응하여, 디자인 물품의 스타일라인을 부가하는 제5 인터페이스(예: 도 9의 제5 인터페이스(901))를 제2 영역(102)에 제공할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 제1 영역을 통한 패턴의 길이 또는 너비 수정 기능의 선택에 반응하여, 디자인 물품의 패턴의 길이 또는 너비를 조절하는 제6 인터페이스(예: 도 7의 제 6 인터페이스(701))를 제2 영역(102)에 제공할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 전술한 제4 인터페이스, 제5 인터페이스, 제6 인터페이스 중 적어도 하나를 통하여 (패턴 영역의 복제 전) 디자인 물품의 패턴 영역의 형상을 수정한 뒤 복제 패턴 영역을 생성할 수도 있고, 제4 인터페이스, 제5 인터페이스, 제6 인터페이스 중 적어도 하나를 통하여 (패턴 영역의 복제 후) 복제 패턴 영역의 형상을 수정할 수도 있다.

시뮬레이션 장치는 전술한 제3 인터페이스를 통하여 복제 패턴 영역을 디자인 물품의 다른 패턴 영역에 연결하거나 다른 패턴 영역으로부터 분리할 수 있다.

실시예에 따라, 복제 패턴 영역이 생성되면 복제 패턴 영역의 테두리를 따라 원본 패턴 영역과 자동으로 재봉될 수 있다. 이 경우, 사용자는 복제 패턴 영역을 생성한 이후, 자동으로 생성된 재봉선 중 적어도 일부를 삭제함으로써 원하는 디자인 물품을 디자인할 수 있다. 이 때, 자동 생성된 재봉선 중 적어도 일부가 삭제됨에 따라 복제 패턴 영역이 원본 패턴 영역과 분리되면서, 사용자가 원하는 디자인 물품이 디자인 될 수 있다.

실시예에 따라, 복제 패턴 영역이 생성되면 복제 패턴 영역과 원본 패턴 영역이 자동으로 재봉되지 않을 수도 있다. 이 경우, 사용자는 복제 패턴 영역을 생성한 이후, 복제 패턴 영역과 원본 패턴 영역을 재봉하는 재봉선을 추가함으로써 원하는 디자인 물품을 디자인할 수 있다. 이 때, 재봉선의 추가로 인하여 복제 패턴 영역의 적어도 일부가 원본 패턴 영역과 연결되면서, 사용자가 원하는 디자인 물품이 디자인 될 수 있다.

실시예에 따라, 복제 패턴 영역이 생성된 이후 자동으로 재봉 생성 또는 수정 기능이 활성화될 수 있다. 이 경우, 복제 패턴 영역이 생성됨에 따라 제2 영역(102)에 제공되는 인터페이스가 제2 인터페이스에서 제3 인터페이스로 자동 전환될 수 있다. 또는, 제2 인터페이스의 하위 기능으로 복제 패턴 영역의 재봉 생성 또는 수정 기능이 구동될 수도 있다.

전술한 복수의 기능들 중 패턴 생성 기능, 재봉 생성 또는 수정 기능, 스타일라인 수정 기능, 스타일라인 드로우 기능 및 길이 또는 너비 수정 기능은 서로 배타적으로 활성화 될 수 있다. 예를 들어, 복수의 기능들 중 어느 하나의 기능이 선택됨에 따라 활성화되어 있던 다른 기능이 비활성화될 수 있다.

단계(160)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 영역을 통한 시뮬레이션 기능의 선택에 반응하여, 제2 인터페이스를 통하여 생성된 복제 패턴 영역 및 제3 인터페이스를 통하여 수정된 재봉 관계에 기초하여 디자인 물품의 착장 시뮬레이션을 수행할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)을 통한 시뮬레이션 기능이 선택될 때, 제2 영역(102)에 제공 중인 인터페이스를 통하여 착장 시뮬레이션 결과를 제공할 수 있다.

도 2는 일 실시예에 따른 패턴 생성 방법의 인터페이스 설명하기 위한 개략적인 블록도이다.

도 1a 및 도 1b를 참조한 설명은, 도 2에도 동일하게 적용될 수 있고, 중복되는 내용은 생략될 수 있다.

설명의 편의를 위해, 도 2의 인터페이스는 도 1a 및 도 1b에서 설명한 시뮬레이션 장치를 사용하여 수행되는 것으로 기술된다. 그러나 이 인터페이스는 어떤 다른 적절한 전자 기기를 통해, 그리고 어떤 적절한 시스템 내에서도 사용될 수 있을 것이다.

도 2를 참조하면, 일 실시예에 따른 패턴 생성 방법(Pattern Creation Method)(200)은 패턴 선택 기능(Choose Patterns) 버튼(210) 및 패턴 생성 기능(Create Patterns) 버튼(220)을 포함할 수 있다. 패턴 생성 방법(200)은 제1 영역(101)의 복수의 기능들(105)중 하나일 수 있다. 또한, 패턴 생성 방법(200)은 제2 인터페이스를 통하여 사용자에게 제공될 수 있다.

일 실시예에 따른 패턴 생성 방법(200)은 복제(Duplicate) 기능, 포켓(Pocket) 기능, 스타일라인 가공(Extrude) 기능(미도시) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 예를 들어, 복제 기능은 외부선을 참고해 생성하는 기능일 수 있다. 또한, 디자인 물품의 면(예: 패턴 영역)을 선택하고, 복제 기능을 선택할 경우 선택된 디자인 물품의 면이 동일하게 복제될 수 있다. 포켓 기능은 내부선을 생성하는 기능일 수 있다. 디자인 물품에서 주머니 등을 생성할 경우 스타일라인을 새롭게 그릴수 있다. 가공 기능은 외부선을 그리거나 수정하는 기능일 수 있다. 가공 기능을 통해 외부선인 스타일라인을 선택하면 외부선을 복제하여 생성할 수도 있다. 가공 기능은 스타일라인을 일정 길이만큼 줄이거나 늘릴 수 있다.

스타일라인은 3차원 의상의 스타일을 변형시키는 선일 수 있다. 스타일라인은 사용자가 패턴 상에 임의로 생성할 수 있는 패턴 내부 선일 수 있다. 스타일라인은 패턴 상에서 일정 조건 하에 생성될 수 있다. 스타일라인은 패턴 상의 선 또는 점에 기초하여 생성될 수 있다. 스타일 라인의 시작점 및 끝점은 패턴 상의 선 또는 점일 수 있다. 스타일 라인이 패턴 상에 생성된 경우, 패턴 내부적으로 자동으로 스타일 라인을 따라 패턴이 분할되고, 스타일 라인을 따라 재봉선 쌍이 생성될 수 있다.

사용자는 스타일 라인을 패턴 위에 생성함으로써 3차원 의상의 스타일을 변형시킬 수 있다. 예를 들어, 패턴 위에 스타일 라인이 생성된 경우, 스타일 라인을 기준으로 패턴이 2개의 패턴으로 분할되고, 스타일 라인을 기준으로 분할된 패턴 각각에 재봉선 및 가이드선이 생성될 수 있다. 따라서, 분할된 패턴의 외곽선에는 재봉선이 존재하게 되고, 재봉선을 연결하면 스타일 라인이 될 수 있다.

일 실시예에 따른 복제 기능을 사용시, 패턴 선택 기능 버튼(210)은 디자인 물품의 패턴 영역을 선택하기 이전에 활성화 될 수 있다. 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 선택하게 되면, 패턴 생성 기능 버튼(220)이 활성화 될 수 있다. 패턴 선택 기능 버튼과 패턴 생성 기능 버튼은 도시된 것 처럼 서로 병렬로 나란하게 배치 거나, 패턴 선택 기능 버튼(210)이 활성화 될 때 패턴 생성 기능 버튼(220) 숨겨지고, 패턴 영역을 선택하여 패턴 선택 기능 버튼(210)이 비활성화 될 때 패턴 생성 기능 버튼(220)이 활성화 되면서 나타날 수도 있다.

패턴 생성 기능 버튼(220)이 선택된 후, 패턴 생성 완료 버튼(미도시)이 생성될 수 있다. 예를 들어, 패턴 생성 완료 버튼이 선택되면, 복제된 패턴 영역에 선택된 패턴 영역과 동일한 재봉선이 생성되거나 스타일라인이 생성될 수 있다. 제2 영역(102)은 생성된 복제 패턴 영역을 시뮬레이션한 결과를 제공할 수 있다.

패턴 생성 방법(200)의 썸네일은 패턴 생성이 완료되기 전에, 생성될 복제 패턴 영역에 대한 결과물을 간단한 시뮬레이션으로 제공할 수 있다. 시뮬레이션 기능(104)은 복제 패턴 영역 생성이 완료된 후의 시뮬레이션을 지속적으로 제공할 수 있고, 패턴 생성 방법(200)의 썸네일은 시뮬레이션 기능(104) 보다 적은 프레임(또는 시간) 동안만 시뮬레이션을 제공할 수 있다.

복제 패턴 영역 생성이 완료된 후, 제1 영역(101)의 패턴 생성 기능이 다시 선택되면, 전술한 것과 같이 패턴 영역을 선택하기 이전으로 돌아가 패턴 선택 기능 버튼(210)이 다시 활성화 될 수 있다.

도 3은 일 실시예에 따른 패턴 복제 방법을 설명하기 위한 블록 순서도이다.

도 1a 내지 도 2를 참조한 설명은, 도 3에도 동일하게 적용될 수 있고, 중복되는 내용은 생략될 수 있다.

설명의 편의를 위해, 도 3의 단계들(310 내지 340)은 도 1a 및 도 2에서 설명한 시뮬레이션 장치를 사용하여 수행되는 것으로 기술된다. 그러나 이 인터페이스는 어떤 다른 적절한 전자 기기를 통해, 그리고 어떤 적절한 시스템 내에서도 사용될 수 있을 것이다.

단계(310)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 패턴 영역 선택에 대한 입력을 수신할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치가 디자인 물품의 패턴 A(Pattern A) 영역 선택에 대한 입력을 수신할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 입력에 반응하여 선택된 패턴 A 영역의 색감 또는 명암 등을 다르게하여, 선택된 패턴 A 영역을 선택되지 않은 부분과 구별되도록 할 수 있다.

단계(320)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 패턴 생성 기능의 선택에 반응할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치가 디자인 물품의 패턴 A 영역 선택에 대한 입력을 수신하면, 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)의 패턴 생성 기능 버튼을 활성화하여 사용자가 손쉽게 복제 패턴 영역을 생성할 수 있도록 유도할 수 있다.

단계(330)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택된 패턴 영역에 대한 복제를 수행하여, 복제 패턴 A'(Pattern A')을 생성할 수 있다.

단계(340)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택된 패턴 A 영역과 복제된 패턴 A' 영역을 재봉할 수 있다. 예를 들어, 패턴 A 영역이 정사각형이라고 가정하면, 패턴 A의 스타일라인도 정사각형일 수 있다. 이 경우, 복제 패턴 A' 영역도 정사각형이고, 복제 패턴 A'의 스타일라인도 정사각형일 수 있다. 패턴 A의 스타일라인은 패턴 A의 테두리이고 복제 패턴 A'의 스타일라인은 복제 패턴 A'의 테두리일 수 있으며, 시뮬레이션 장치는 패턴 A의 테두리와 복제 패턴 A'의 테두리를 재봉할 수 있다. 즉, 시뮬레이션 장치는 패턴 A의 스타일라인과 복제 패턴 A'의 스타일라인을 모두 재봉할 수 있다.

도 4는 일 실시예에 따른 복수의 패턴 복제 방법을 설명하기 위한 블록 순서도이다.

도 1a 내지 도 3을 참조한 설명은, 도 4에도 동일하게 적용될 수 있고, 중복되는 내용은 생략될 수 있다.

설명의 편의를 위해, 도 4의 단계들(410 내지 430)은 도 1a 및 도 3에서 설명한 시뮬레이션 장치를 사용하여 수행되는 것으로 기술된다. 그러나 이 인터페이스는 어떤 다른 적절한 전자 기기를 통해, 그리고 어떤 적절한 시스템 내에서도 사용될 수 있을 것이다.

단계(410)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 복수의 패턴 영역들에 대한 선택 입력을 수신할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치가 디자인 물품의 패턴 A(Pattern A) 영역 및 패턴 B 영역에 대한 선택 입력을 수신할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 입력에 반응하여 선택된 패턴 A 영역 및 패턴 B 영역의 색감 또는 명암 등을 다르게하여, 선택된 패턴 A 영역 및 패턴 B 영역을 선택되지 않은 부분과 구별되도록 할 수 있다.

단계(420)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택된 복수의 패턴 영역들에 대한 패턴 생성 입력을 수신하는 경우, 선택된 패턴들을 복제하여 복제 패턴 영역들을 생성할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치가 패턴 A 및 패턴 B에 대한 패턴 생성 입력을 수신한 경우, 시뮬레이션 장치는 복제 패턴 A' 및 복제 패턴 B'을 생성할 수 있다.

단계(430)에서, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택된 복수의 패턴 영역들이 스타일라인을 공유하는 경우, 공유하는 스타일라인은 재봉이 수행되는 테두리에서 제외할 수 있다. 예를 들어, 정사각형 패턴 A와 정사각형 패턴 B는 서로 맞닿는 한 변의 스타일라인을 공유할 수 있다. 이 경우, 정사각형 복제 패턴 A'과 정사각형 복제 패턴 B'도 한 변의 스타일라인을 공유할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 패턴 A 및 패턴 B 에서 공유된 스타일라인을 제외한 나머지를 재봉 대상 패턴 테두리로 결정할 수 있고, 복제 패턴 A' 및 복제 패턴 B' 에서도 공유된 스타일라인을 제외한 나머지를 재봉 대상 복제 패턴 테두리로 결정할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 재봉 대상 패턴 테두리와 재봉 대상 복제 패턴 테두리를 재봉할 수 있다. 시뮬레이션 장치가 전술한 재봉 기능을 수행한 경우에도, 패턴 A와 패턴 B가 합성(merge)되어 단일 패턴이 되는 것은 아닐 수 있다. 마찬가지로, 복제된 패턴 A'과 복제된 패턴 B'이 합성되어 단일 패턴이 되는 것은 아닐 수 있다.

도 5는 일 실시예에 따른 패턴 선택에 대한 시각화를 개략적으로 도시한 것이다.

도 5를 참조하면, 시뮬레이션 장치는 패턴 선택 기능에 반응하여, 호버링 시각화(510), 선택 시각화(520) 및/또는 패턴 생성 시각화(530)를 제공할 수 있다.

일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 호버링(hovering) 시각화(510)를 이용하여, 패턴 선택 이전에 패턴 영역의 명확한 구별을 위한 시각적 효과를 제공할 수 있다. 예를 들어, 사용자가 마우스 커서를 이용하여 패턴 B에 마우스 커서를 위치시키면, 시뮬레이션 장치는 마우스 커서가 위치한 패턴 B의 색을 파란색 하이라이트로 표시할 수 있다.

일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택 시각화(520)를 이용하여, 선택된 패턴에 대한 시각적 효과를 제공할 수 있다. 예를 들어, 사용자가 패턴 A 및 패턴 B를 모두 선택하는 경우, 시뮬레이션 장치는 패턴 선택에 반응하여, 패턴 A 및 패턴 B 의 색을 노란색 하이라이트로 표시할 수 있다.

일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 패턴 생성 시각화(530)를 이용하여, 패턴 생성이 완료되었다는 시각적 효과를 제공할 수 있다. 예를 들어, 사용자가 패턴 생성 기능을 이용하여, 복제 패턴 A 및 복제 패턴 B를 생성한 경우, 시뮬레이션 장치는 패턴 선택 및 선택 시각화(520)를 취소할 수 있다.

본 개시가 기재된 실시예의 색감(예: 파란색 하이라이트, 노란색 하이라이트)등에 한정되는 것은 아니고, 호버링 시각화(510) 및 선택 시각화(520)는 다른 적절한 색감(예: 초록색, 빨간색 등)으로 표현될 수도 있다.

도 6은 일 실시예에 따른 제2 영역에서의 패턴 생성 동작을 개략적으로 도시한 것이다.

도 1 내지 도 5를 참조한 설명은, 도 6에도 동일하게 적용될 수 있고, 중복되는 내용은 생략될 수 있다.

도 6을 참조하면, 일 실시예에 따라 도시된 아바타는 3차원 시뮬레이션에서 표시될 수도 있고, 표시되지 않을 수도 있다. 아바타가 표시되지 않은 경우, 디자인 물품들(예, 피스들 또는 패턴들)만 표시될 수 있다.

시뮬레이션 장치는 제2 영역(102)에 활성화되는 인터페이스를 시각적 깊이(visual depth)에 대응하는 깊이 레벨로 표현할 수 있다. 일 예로, 제0 깊이 레벨에서는 의상 전체가 표현되고, 제1 깊이 레벨에서는 의상에 포함된 피스가 표현되며, 제3 깊이 레벨에서는 피스에 포함된 패턴이 표현될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 의상 전체 및 툴 선택을 표시하는 툴 선택 인터페이스(610)는 제0 깊이 레벨로 표현되고, 피스들을 표시하는 피스 선택 인터페이스(620)는 제1 깊이 레벨로 표현될 수 있다. 패턴들을 표시하는 패턴 표시 인터페이스도 제1 깊이 레벨로 표현될 수 있으며, 패턴 표시 인터페이스는 패턴 호버 인터페이스(630) 및/또는 패턴 선택 및 패턴 생성 인터페이스(640)를 포함할 수 있다. 제한이 아닌 예로서, 선택된 하나의 피스를 활성화하여 해당 피스에 포함된 스타일라인들을 표시하는 인터페이스도 제1 깊이 레벨로 표현될 수 있다.

제1 깊이 레벨은 3차원 의상을 전체적으로 수정할 수 있는 레벨에 해당할 수 있다. 제1 깊이 레벨에 대응하여 피스가 화면에 표시되고, 3차원 의상에서 사용자에 의해 선택된 피스의 수정을 위한 사용자 인터페이스가 시각화될 수 있다. 예를 들어, 화면에 표시된 3차원 의상이 상의 및 하의의 2개의 피스들로 구성되고, 사용자에 의해 상의 피스가 선택되었다고 가정한다. 시뮬레이션 장치는 선택된 상의 피스를 전체적으로 수정할 수 있는 사용자 인터페이스를 시각화하고, 선택되지 않은 하의 피스는 투명화 또는 반투명화할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 3차원 가상 공간에 디자인 물품을 표시하는 제1 인터페이스를 제2 영역(102)에 제0 깊이 레벨로(예를 들어, 610으로) 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 3차원 가상 공간에 디자인 물품의 피스들, 패턴들 및 스타일라인 중 적어도 하나 이상을 표시하는 제2 인터페이스를 제1 깊이 레벨로(예를 들어, 620으로) 제공할 수 있다. 제2 인터페이스는 복수의 기능들(105)중 패턴 생성 기능이 활성화 됐을 때 제공되는 사용자 인터페이스일 수 있다.

도 6에 도시된 바와 같이 제0 깊이 레벨에서(예를 들어, 610에서) 상의인 티셔츠 피스가 선택된 경우가 존재할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 제1 깊이 레벨에서(예를 들어, 620에서) 티셔츠 피스에 포함된 스타일라인들을 표시할 수 있다.

패턴 표시 레벨은 상술한 도 3내지 도 5의 시뮬레이션 장치의 패턴 선택 동작에 따라서 구현될 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 패턴 호버 인터페이스(630)를 제1 깊이 레벨에서 표현하여 파란색 하이라이트로 호버링 시각화를 지원할 수 있다. 또한 시뮬레이션 장치는 패턴 선택 및 패턴 생성 인터페이스(640)를 제1 깊이 레벨에서 표현하여 노란색 하이라이트로 선택 시각화 및 패턴 생성 시각화를 지원할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 3차원 가상 공간에 아바타 또는 디자인 물품이 존재하지 않는 빈공간의 선택 입력을 받은 경우 선택된 피스들을 선택되지 않은 피스들로 시각화 할 수 있다. 시뮬레이션 장치가 Undo 명령 입력을 받은 경우, 직전에 선택된 피스부터 하나씩 취소할 수 있다. 시뮬레이션 장치에 선택된 피스가 없는 경우에 빈공간 선택 입력을 받은 경우, 시뮬레이션 장치는 제0 깊이 레벨로(예를 들어, 610으로) 되돌아 갈 수 있다.

도 7a 및 도 7b는 일 실시예에 따른 제6 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.

도 1 내지 도 6을 참조한 설명은, 도 7a 및 도 7b에도 동일하게 적용될 수 있고, 중복되는 내용은 생략될 수 있다.

일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)의 디자인 물품 템플릿 선택 기능(103)의 선택에 반응하여 제2 영역(102)에 표시된 아바타(예: 도 7a 내지 도 10b의 아바타)에 디자인 물품을 로드(load) 할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 디자인 물품 템플릿 선택 기능(103)에 포함된 복수의 디자인 물품들 중 상의 피스 및 하의 피스를 아바타의 전신에 착장시킬 수 있다. 실시예에 따르면, 시뮬레이션 장치는 각 템플릿의 착장 시뮬레이션을 사전에 수행하고, 로딩 과정에서는 사전 수행된 착장 시뮬레이션 결과를 불러오는 방식으로 동작할 수 있다. 디자인 물품 템플릿은 의류의 피스들(예: 스커트, 바지, 티셔츠, 후드 등)을 포함할 수 있다.

도 7a를 참조하면, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)에 포함된 복수의 기능들(105) 중 패턴 길이 또는 너비 수정 기능의 선택에 반응하여, 제2 영역(102)에 제6 인터페이스(700)의 형태로 제공될 수 있다.

예를 들어, 시뮬레이션 장치가 패턴 길이 또는 너비 수정 기능의 선택과 상의 피스에 대한 선택에 반응하였다고 가정한다. 시뮬레이션 장치는 제6 인터페이스(700)에 상의 피스에 포함된 스타일라인을 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치가 상의 피스에 포함된 스타일 라인 중 카라 부분의 스타일 라인에 대한 길이 수정 명령(701)을 입력 받으면, 시뮬레이션 장치는 카라 부분의 패턴 길이를 수정하는 시뮬레이션(710)을 제공할 수 있다. 이 때, 실시예에 따라 시뮬레이션 장치는 대칭(symmetric)적인 수정을 적용하여, 선택한 카라 부분과 대칭되는 반대편 카라 부분의 패턴 길이도 동일하게 수정할 수 있다. 다만, 시뮬레이션 장치가 반드시 대칭적인 수정을 적용하는 것은 아니고, 대칭적인 수정 기능은 옵션에 의하여 on/off 될 수 있다.

도 8a 및 도 8b는 일 실시예에 따른 제4 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.

도 1a 내지 도 6을 참조한 설명은, 도 8a 및 도 8b에도 동일하게 적용될 수 있고, 중복되는 내용은 생략될 수 있다.

일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)에 포함된 복수의 기능들(105) 중 스타일라인 수정 기능의 선택에 반응하여, 제2 영역(102)에 제4 인터페이스(800)의 형태로 제공될 수 있다.

예를 들어, 시뮬레이션 장치가 스타일라인 수정 기능의 선택과 상의 피스에 대한 선택에 반응하였다고 가정한다. 시뮬레이션 장치는 제4 인터페이스(800)에 상의 피스에 포함된 스타일라인을 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치가 상의 피스에 포함된 스타일 라인 중 카라 부분에 대한 스타일라인 수정 명령(예를 들어, 801)을 입력 받으면, 시뮬레이션 장치는 카라 부분의 스타일라인을 수정하는 시뮬레이션(예를 들어, 810)을 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 제4 인터페이스(800)를 통해 표시된 스타일라인에 포함된 점을 이용하여, 스타일라인을 연장하거나 축소할 수 있다.

시뮬레이션 장치가 제4 인터페이스(800)를 통해 카라 부분의 스타일라인 길이를 연장하는 명령(801)을 수신하면, 시뮬레이션 장치는 카라 부분의 스타일라인의 길이를 수정하는 시뮬레이션(810)을 제공할 수 있다. 이 때, 실시예에 따라 선택한 카라 부분과 대칭되는 반대편 카라 부분이 존재하는 경우, 시뮬레이션 장치는 대칭(symmetric)적인 수정을 적용하여, 선택한 카라 부분과 대칭되는 반대편 카라 부분의 스타일라인 길이도 동일하게 수정할 수 있다. 다만, 시뮬레이션 장치가 반드시 대칭적인 수정을 적용하는 것은 아니고, 대칭적인 수정 기능은 옵션에 의하여 on/off 될 수 있다.

도 9a 및 도 9b는 일 실시예에 따른 제5 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.

도 1a 내지 도 6을 참조한 설명은, 도 9a 및 도 9b에도 동일하게 적용될 수 있고, 중복되는 내용은 생략될 수 있다.

일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)에 포함된 복수의 기능들(105) 중 스타일라인 드로우 기능의 선택에 반응하여, 제2 영역(102)에 제5 인터페이스(900)의 형태로 제공될 수 있다.

예를 들어, 시뮬레이션 장치가 스타일라인 드로우 기능의 선택과 상의 피스에 대한 선택에 반응하였다고 가정한다. 시뮬레이션 장치는 제5 인터페이스(900)에 상의 피스에 포함된 스타일라인을 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치가 상의 피스의 카라 부분에 대한 스타일라인(901)을 드로우하는 명령을 입력 받으면, 시뮬레이션 장치는 카라 부분에 스타일라인(901)을 추가하는 시뮬레이션을 제공할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 카라 부분에 스타일라인(901)을 생성할 수 있다. 또한, 시뮬레이션 장치는 대칭(symmetric)적인 생성을 적용하여, 선택한 카라 부분과 대칭되는 반대편 카라 부분에 스타일라인(902)을 생성할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 추가된 스타일라인에 따라 패턴을 분할하고, 분할된 패턴 사이에 재봉을 추가할 수 있다. 결과적으로, 카라 부분의 패턴은 제1 패턴(910), 제2 패턴(940), 제3 패턴(921), 제4 패턴(922) 및 제5 패턴(도 10a의 930)으로 구분될 수 있다. 다만, 시뮬레이션 장치가 반드시 대칭적인 수정을 적용하는 것은 아니고, 대칭적인 수정 기능은 옵션에 의하여 on/off 될 수 있다.

도 10a 및 도 10b는 일 실시예에 따른 제2 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.

도 1a 내지 도 6을 참조한 설명은, 도 10a 및 도 10b에도 동일하게 적용될 수 있고, 중복되는 내용은 생략될 수 있다.

일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)에 포함된 복수의 기능들(105) 중 패턴 생성 기능의 선택에 반응하여, 제2 영역(102)에 제2 인터페이스(1000)의 형태로 제공될 수 있다. 도 2 내지 도 6에 설명된 바와 같이, 제2 인터페이스(1000)는 패턴 영역을 선택하는 기능을 제공할 수 있다.

예를 들어, 시뮬레이션 장치가 패턴 생성 기능의 선택 이후, 제1 패턴(910), 제2 패턴(940) 및 제3 패턴(930)에 대한 선택 입력을 수신하였다고 가정한다. 시뮬레이션 장치는 제2 인터페이스(1000)에 상의 피스에 포함된 스타일라인 및 선택된 패턴(910, 940, 930)에 대한 하이라이트(예: 도 5의 패턴 선택 시각화(520))를 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치가 선택된 패턴(910, 940, 930)에 대한 패턴 생성 명령을 입력 받으면, 복제 패턴들(1010, 1040, 1030)을 생성할 수 있다. 실시예에 따라, 시뮬레이션 장치는 추가된 복제 패턴의 스타일라인을 기초로 재봉선을 추가할 수 있다. 도 4 및 도 5에서 설명한 것과 같이, 시뮬레이션 장치는 선택된 패턴 영역들(910, 930, 940)의 테두리와 복제 패턴 영역들(1010, 1030, 1040)의 테두리를 재봉할 수 있다.

도 11a 내지 도 11d는 일 실시예에 따른 제3 인터페이스의 일부를 개략적으로 도시한 것이다.

도 1a 내지 도 6을 참조한 설명은, 도 11a 및 도 11d에도 동일하게 적용될 수 있고, 중복되는 내용은 생략될 수 있다.

도 11a 내지 도 11d를 참조하면, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 영역(101)의 재봉 생성 또는 수정 기능의 선택에 반응하여, 제3 인터페이스(1100)을 제공할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 제3 인터페이스(1100)를 제공하기 위해 제2 영역(102)의 시각적 깊이 레벨을 제2 깊이 레벨로 적용할 수 있다.

제2 깊이 레벨은 3차원 의상의 세부적인 디테일을 수정할 수 있는 레벨에 해당할 수 있다. 제2 깊이 레벨에 대응하여 패턴들이 화면에 표시될 수 있다. 제2 깊이 레벨에서 분해도(exploded view)를 제공함으로써, 피스를 구성하는 패턴들에 대한 수정이 가능할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 사용자에 의해 선택된 피스(예를 들어, 상의 피스)에 대하여는 수정을 위한 사용자 인터페이스를 시각화하고, 사용자에 의해 선택되지 못한 피스(예를 들어, 하의 피스)에 대하여는 사용자 인터페이스를 시각화하지 않을 수 있다.

도 11a 내지 도 11d에서는 제2 깊이 레벨에서 상의 피스 중 카라 부분에 포함된 패턴의 재봉선들이 도시되어 있다.

일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 분해도(exploded view)를 통하여 피스에 포함된 패턴들 사이의 거리를 증가시킬 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 제1 복제 패턴(1010), 제2 복제 패턴(1040) 및 제5 복제 패턴(1030)과 제1 패턴(910), 제2 패턴(940) 및 제5 패턴(930) 사이의 거리를 각각 증가시킬 수 있다. 이처럼, 시뮬레이션 장치는 디자인 물품(예: 도 11a 내지 도 11b에서는 상의의 카라)을 3차원 분해도를 통해 시각화 함으로써, 사용자가 편집 대상으로 결정한 패턴과 관련된 재봉선을 원활하게 편집할 수 있도록 할 수 있다.

도 11a 내지 도 11d에서는 티셔츠 피스에 포함된 모든 패턴들 사이 거리가 멀어진 상태로 도시되어 있으나, 제한이 아닌 예로서, 사용자에 의하여 선택된 패턴 이외의 다른 패턴들은 모두 재봉된 상태이고, 선택된 패턴만 다른 패턴들과 멀어진 상태로 화면에 출력될 수도 있다.

도 1에서 전술한 것과 같이, 도 11a를 참조하면, 시뮬레이션 장치는 패턴 생성 기능에 따라 생성된 복제 패턴들(1010, 1030, 1040)과 기존의 패턴들(910, 930, 940)과 관련된 재봉 관계를 생성할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 제1 패턴(910), 제2 패턴(940) 및 제5 패턴(930)이 공유하는 스타일라인들을 제외한 부분과 제1 복제 패턴(1010), 제2 복제 패턴(1040) 및 제5 복제 패턴(1030)이 공유하는 스타일라인들을 제외한 부분을 재봉선으로 연결할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 제1 패턴(910)과 제1 복제 패턴 사이에는 제1 상단 재봉선, 제1 측면 재봉선(1101) 및 제1 하단 재봉선(1102)을 연결할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 제2 패턴(940)과 제2 복제 패턴(1040) 사이에는 제2 상단 재봉선, 제2 측면 재봉선(1101-1) 및 제2 하단 재봉선(1101-2)을 연결할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 제5 패턴(930)과 제5 복제 패턴(1030) 사에이는 제5 상단 재봉선 및 제5 하단 재봉선(1103)을 연결할 수 있다.

도 11b를 참조하면, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉 생성 또는 수정 기능의 선택에 반응하여, 패턴 영역들 및 복제 패턴 영역들과 관련된 재봉 관계를 생성하거나 수정할 수 있다. 예를 들어, 사용자는 제3 인터페이스(1100)에서 제1 측면 재봉선(1101), 제1 하단 재봉선(1102) 및 제2 측면 재봉선(1101-1) 및 제2 하단 재봉선(1102-1)을 삭제하는 명령을 입력 할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 입력된 명령에 기초하여, 상기 재봉선들을 삭제하여 재봉 관계를 수정할 수 있다. 또는, 도면에 도시하지 않았으나, 사용자는 제3 인터페이스(1100)에서 재봉선을 추가하여 재봉 관계를 생성할 수도 있다. 재봉 관계가 생성 및/또는 수정되면, 시뮬레이션 장치는 제3 인터페이스(1100)에서 수정된 재봉 관계를 제2 영역(102)에 시뮬레이션할 수 있고, 생성 및/또는 수정된 재봉 관계에 따라 제1 인터페이스 내지 제6 인터페이스의 재봉 관계도 생성 및/또는 수정될 수 있다.

도 11c 및 도 11d를 참조하면, 시뮬레이션 장치는 제2 영역(102)의 인터페이스를 통하여 3차원 가상 공간에서 그래픽의 회전을 통해 디자인 물품의 측면을 표시할 수 있다. 도 11c 및 도 11d에 도시된 바와 같이 시뮬레이션 장치는 제3 인터페이스(1100)에서 재봉 관계를 측면에서 제공할 수 있다. 제3 인터페이스(1100)에서 사용자는 측면 그래픽을 통해 재봉 생성 또는 수정 기능을 사용할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 제3 인터페이스(1100)에서 입력된 재봉 수정 명령에 기초하여, 제5 하단 재봉선(1103)을 삭제할 수 있다.

도면에 도시되진 않았지만, 시뮬레이션 장치는 도 7a 내지 도 11d에서 전술한 과정에 따라 편집되는 3차원 가상 공간에서의 수정되고 편집되는 패턴 영역 및 복제 패턴 영역을 2차원 패턴 조각에 연동할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 연동된 2차원 패턴 조각들에 3차원 패턴의 길이 또는 너비, 3차원 패턴의 스타일라인의 수정 및 추가, 3차원 패턴의 재봉 관계의 수정을 반영할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 도 7a 내지 도 11d에서 표현된 기능에 대한 명령을 입력받아 상의에서 접힌 카라를 생성하여 시뮬레이션 할 수 있다. 사용자는 시뮬레이션 장치를 사용하여, 3차원 가상 공간에서 디자인 물품의 패턴 길이 또는 너비를 수정하고, 스타일라인을 드로우하거나 수정하며, 스타일라인에 의하여 분리되는 패턴 영역을 선택하고, 선택된 패턴을 복제하며, 복제 패턴의 스타일라인을 수정하고, 복제 패턴의 재봉선을 추가, 삭제 또는 수정하는 등의 명령 시퀀스에 따라 새로운 패턴 영역 및 조각을 구현할 수 있다.

이로 인하여, 사용자는 시뮬레이션 장치를 통해 3차원 편집 공간에서 디자인 물품의 디자인을 직관적으로 손쉽게 편집할 수 있다.

시뮬레이션 장치는 3차원 편집 공간에서의 편집 입력을 토대로 디자인 물품의 3차원 패턴 영역들에 대응하는 2차원 패턴 조각들의 데이터를 자동으로 수정, 생성 및/또는 삭제할 수 있다.

일 예로, 사용자는 3차원 의상의 패턴 영역을 선택하여 복제함으로써, 선택된 패턴 영역에 대응하는 2차원 패턴 조각을 복제할 수 있다. 또한, 사용자는 스타일라인 드로우 및 수정 기능을 활용하여 패턴 영역의 스타일라인을 추가 및 수정함으로써, 대응하는 2차원 패턴 조각의 형상을 수정할 수 있다. 이 때, 스타일라인을 드로우한 뒤, 스타일라인에 의하여 분리되는 패턴 영역을 삭제하는 경우, 대응하는 2차원 패턴 조각을 잘라내는 효과를 낼 수도 있다. 또한, 사용자는 재봉선 추가 및/또는 삭제를 통해 복제된 2차원 패턴 조각을 다른 2차원 패턴 조각과 연결하거나, 별개의 패턴 구현할 수도 있다. 실시예들에 따른 UX를 통해 사용자는 3차원 편집 공간에서 2차원 패턴을 직관적으로 손쉽게 편집할 수 있다.

이상에서 설명된 실시예들은 하드웨어 구성요소, 소프트웨어 구성요소, 및/또는 하드웨어 구성요소 및 소프트웨어 구성요소의 조합으로 구현될 수 있다. 예를 들어, 실시예들에서 설명된 장치, 방법 및 구성요소는, 예를 들어, 프로세서, 콘트롤러, ALU(arithmetic logic unit), 디지털 신호 프로세서(digital signal processor), 마이크로컴퓨터, FPGA(field programmable gate array), PLU(programmable logic unit), 마이크로프로세서, 또는 명령(instruction)을 실행하고 응답할 수 있는 다른 어떠한 장치와 같이, 범용 컴퓨터 또는 특수 목적 컴퓨터를 이용하여 구현될 수 있다. 처리 장치는 운영 체제(OS) 및 상기 운영 체제 상에서 수행되는 소프트웨어 애플리케이션을 수행할 수 있다. 또한, 처리 장치는 소프트웨어의 실행에 응답하여, 데이터를 접근, 저장, 조작, 처리 및 생성할 수도 있다. 이해의 편의를 위하여, 처리 장치는 하나가 사용되는 것으로 설명된 경우도 있지만, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는, 처리 장치가 복수 개의 처리 요소(processing element) 및/또는 복수 유형의 처리 요소를 포함할 수 있음을 알 수 있다. 예를 들어, 처리 장치는 복수 개의 프로세서 또는 하나의 프로세서 및 하나의 콘트롤러를 포함할 수 있다. 또한, 병렬 프로세서(parallel processor)와 같은, 다른 처리 구성(processing configuration)도 가능하다.

소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 처리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로(collectively) 처리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 처리 장치에 의하여 해석되거나 처리 장치에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 장치, 가상 장치(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 장치, 또는 전송되는 신호 파(signal wave)에 영구적으로, 또는 일시적으로 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.

실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.

Claims (20)

1. 3차원 가상 공간에서 디자인 물품의 디자인을 생성하거나 변형하기 위한 복수의 기능들을 제어하는 제1 영역 및 상기 복수의 기능들에 대응하여 복수의 인터페이스들이 전환되는 제2 영역을 포함하는 사용자 인터페이스를 제공하는 단계;
   상기 3차원 가상 공간에서 상기 디자인 물품을 표시하는 제1 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계;
   상기 제1 영역을 통한 패턴 생성 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 복수의 패턴 영역들 중 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 선택하는 제2 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계;
   상기 제2 인터페이스를 통하여 선택된 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 복제하여 복제 패턴 영역을 생성하는 단계;
   상기 제1 영역을 통한 재봉 생성 또는 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 선택된 적어도 하나의 패턴 영역 및 상기 복제 패턴 영역과 관련된 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 생성하거나 수정하는 제3 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계; 및
   상기 제1 영역을 통한 시뮬레이션 기능의 선택에 반응하여, 상기 제2 인터페이스를 통하여 생성된 복제 패턴 영역 및 상기 제3 인터페이스를 통하여 수정된 재봉 관계에 기초하여 상기 디자인 물품의 착장 시뮬레이션을 수행하는 단계
   를 포함하는
   패턴 생성 시뮬레이션 방법.
   
2. 제1항에 있어서,
   상기 복제 패턴 영역을 생성하는 단계는
   상기 선택된 패턴 영역의 테두리와 상기 복제 패턴 영역의 테두리에 재봉선을 생성하는 단계
   를 포함하는,
   패턴 생성 시뮬레이션 방법.
   
3. 제2항에 있어서,
   상기 선택된 패턴 영역이 복수인 경우, 상기 선택된 복수의 패턴 영역들이 공유하는 스타일라인은 상기 테두리에서 제외되는,
   패턴 생성 시뮬레이션 방법.
   
4. 제1항에 있어서,
   상기 복제 패턴 영역을 생성하는 단계는
   상기 선택된 패턴 영역에 대응하는 2차원 패턴 조각을 식별하는 단계; 및
   상기 식별된 2차원 패턴 조각에 기초하여, 상기 복제 패턴 영역에 대응하는 2차원 복제 패턴 조각을 생성하는 단계
   를 포함하는,
   패턴 생성 시뮬레이션 방법.
   
5. 제4항에 있어서,
   상기 복제 패턴 영역을 생성하는 단계는
   상기 2차원 패턴 조각과 상기 2차원 복제 패턴 조각 사이에 재봉 관계를 생성하는 단계
   를 더 포함하는,
   패턴 생성 시뮬레이션 방법.
   
6. 제1항에 있어서,
   상기 제1 영역을 통한 스타일라인 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 스타일라인을 수정하는 제4 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계
   를 더 포함하는,
   패턴 생성 시뮬레이션 방법.
   
7. 제1항에 있어서,
   상기 제1 영역을 통한 스타일라인 드로우 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 스타일라인을 부가하는 제5 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계
   를 더 포함하는,
   패턴 생성 시뮬레이션 방법.
   
8. 제1항에 있어서,
   상기 제1 영역을 통한 패턴의 길이 또는 너비 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 패턴의 길이 또는 너비를 조절하는 제6 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계
   를 더 포함하는,
   패턴 생성 시뮬레이션 방법.
   
9. 제1항에 있어서,
   상기 제3 인터페이스를 제공하는 단계는
   상기 3차원 가상 공간에서 상기 디자인 물품의 패턴 영역들을 서로 분리하여 표시하는 분해도(exploded view)를 제공하는 단계; 및
   를 포함하고,
   상기 분해도에서 서로 분리하여 표시되는 상기 패턴 영역들 사이의 재봉 관계가 시각화 되고, 상기 시각화 된 재봉 관계를 통하여 상기 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 수정하는 명령이 입력되는,
   패턴 생성 시뮬레이션 방법.
   
10. 제1항에 있어서,
    상기 착장 시뮬레이션을 수행하는 단계는
    상기 제1 영역을 통한 시뮬레이션 기능이 선택될 때 상기 제2 영역에 제공 중인 인터페이스를 통하여 상기 착장 시뮬레이션의 결과를 제공하는 단계
    를 포함하는,
    패턴 생성 시뮬레이션 방법.
    
11. 제1항에 있어서,
    상기 제1 영역을 통한 스타일라인 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 스타일라인을 수정하는 제4 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계;
    상기 제1 영역을 통한 스타일라인 드로우 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 스타일라인을 부가하는 제5 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계; 및
    상기 제1 영역을 통한 패턴의 길이 또는 너비 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 패턴의 길이 또는 너비를 조절하는 제6 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하는 단계
    를 더 포함하고,
    상기 제4 인터페이스, 상기 제5 인터페이스, 및 상기 제6 인터페이스 중 적어도 하나를 통하여 상기 복제 패턴 영역의 형상이 수정되고,
    상기 제3 인터페이스를 통하여 상기 복제 패턴 영역을 상기 디자인 물품의 다른 패턴 영역에 연결하거나 상기 다른 패턴 영역으로부터 분리하는,
    패턴 생성 시뮬레이션 방법.
    
12. 제11항에 있어서,
    상기 복수의 기능들 중 상기 패턴 생성 기능, 상기 재봉 생성 또는 수정 기능, 상기 스타일라인 수정 기능, 상기 스타일라인 드로우 기능 및 상기 길이 또는 너비 수정 기능은 서로 배타적으로 활성화되는,
    패턴 생성 시뮬레이션 방법.
    
13. 제1항에 있어서,
    상기 사용자 인터페이스, 상기 제1 인터페이스, 상기 제2 인터페이스 및 상기 제3 인터페이스를 제공하는 단계들 중 적어도 하나의 단계에서,
    사용자 단말에 상기 사용자 인터페이스, 상기 제1 인터페이스, 상기 제2 인터페이스 및 상기 제3 인터페이스 중 적어도 하나를 표시하기 위한 데이터가 네트워크를 통하여 상기 사용자 단말에 전송되는,
    패턴 생성 시뮬레이션 방법.
    
14. 제1항의 방법을 실행시키기 위한 프로그램이 기록된 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체.
    
15. 패턴 생성 시뮬레이션을 하기 위한 시뮬레이션 장치는
    사용자 인터페이스;
    메모리; 및
    프로세서;
    를 포함하고,
    상기 프로세서는
    3차원 가상 공간에서 디자인 물품의 디자인을 생성하거나 변형하기 위한 복수의 기능들을 제어하는 제1 영역 및 상기 복수의 기능들에 대응하여 복수의 인터페이스들이 전환되는 제2 영역을 포함하는 상기 사용자 인터페이스를 제공하고,
    상기 3차원 가상 공간에서 상기 디자인 물품을 표시하는 제1 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고,
    상기 제1 영역을 통한 패턴 생성 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 복수의 패턴 영역들 중 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 선택하는 제2 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고,
    상기 제2 인터페이스를 통하여 선택된 적어도 하나 이상의 패턴 영역을 복제하여 복제 패턴 영역을 생성하고,
    상기 제1 영역을 통한 재봉 생성 또는 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 선택된 적어도 하나의 패턴 영역 및 상기 복제 패턴 영역과 관련된 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 생성하거나 수정하는 제3 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고,
    상기 제1 영역을 통한 시뮬레이션 기능의 선택에 반응하여, 상기 제2 인터페이스를 통하여 생성된 복제 패턴 영역 및 상기 제3 인터페이스를 통하여 수정된 재봉 관계에 기초하여 상기 디자인 물품의 착장 시뮬레이션을 수행하는, 시뮬레이션 장치.
    
16. 제15항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 선택된 패턴 영역의 테두리와 상기 복제 패턴 영역의 테두리에 재봉선을 생성하며,
    상기 선택된 패턴 영역이 복수인 경우, 상기 선택된 복수의 패턴 영역들이 공유하는 스타일라인을 상기 테두리에서 제외하는,
    시뮬레이션 장치.
    
17. 제15항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 선택된 패턴 영역에 대응하는 2차원 패턴 조각을 식별하고,
    상기 식별된 2차원 패턴 조각에 기초하여, 상기 복제 패턴 영역에 대응하는 2차원 복제 패턴 조각을 생성하는,
    시뮬레이션 장치.
    
18. 제17항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 2차원 패턴 조각과 상기 2차원 복제 패턴 조각 사이에 재봉 관계를 생성하는,
    시뮬레이션 장치.
    
19. 제15항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 3차원 가상 공간에서 상기 디자인 물품의 패턴 영역들을 서로 분리하여 표시하는 분해도(exploded view)를 제공하고,
    상기 분해도에서 서로 분리하여 표시되는 상기 패턴 영역들 사이의 재봉 관계가 시각화 되고, 상기 시각화 된 재봉 관계를 통하여 상기 적어도 하나 이상의 재봉 관계를 수정하는 명령을 입력하는,
    시뮬레이션 장치.
    
20. 제15항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 제1 영역을 통한 스타일라인 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품에 포함된 스타일라인을 수정하는 제4 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고,
    상기 제1 영역을 통한 스타일라인 드로우 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 스타일라인을 부가하는 제5 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고,
    상기 제1 영역을 통한 패턴의 길이 또는 너비 수정 기능의 선택에 반응하여, 상기 디자인 물품의 패턴의 길이 또는 너비를 조절하는 제6 인터페이스를 상기 제2 영역에 제공하고,
    상기 제4 인터페이스, 상기 제5 인터페이스, 및 상기 제6 인터페이스 중 적어도 하나를 통하여 상기 복제 패턴 영역의 형상을 수정하고,
    상기 제3 인터페이스를 통하여 상기 복제 패턴 영역을 상기 디자인 물품의 다른 패턴 영역에 연결하거나 상기 다른 패턴 영역으로부터 분리하는,
    시뮬레이션 장치.

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