KR20230026291A - 재봉 시뮬레이션 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
일 실시예에 따르면, 3차원 분해도(exploded view)에서 재봉 시뮬레이션 방법은 디자인 물품에 포함된 적어도 하나의 피스 및 피스에 포함된 복수의 패턴들 사이의 거리가 멀어지도록 조정된 3차원 분해도를 생성하는 단계; 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보-상기 재봉선 매칭 정보는 서로 다른 패턴의 외곽선 상에 존재하는 재봉선 간의 매칭 관계를 포함하는-에 기초하여 표시하는 단계; 및 복수의 패턴들 중 하나의 패턴을 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보에 기초하여 표시하는 단계를 포함할 수 있다.
Description
아래 실시예들은 재봉 시뮬레이션 방법 및 장치들에 관한 것이다.
의상(garment)은 사람이 착용한 경우에 3차원으로 보이지만, 실제로는 2차원의 패턴(pattern)에 따라 재단된 직물(fabric) 조각의 조합에 해당하므로 2차원에 가깝다. 의상의 재료가 되는 직물은 유연하기 때문에 의상을 착용한 사람의 신체 모양이나 움직임에 따라 그 형태가 다양하게 변화될 수 있다.
3차원 시뮬레이션에서 패턴 간에 재봉으로 결합된 선들은 최소 2개의 재봉선으로 구성될 수 있다. 사용자가 재봉선을 수정하기 위해서는 복수의 재봉선들 중 원하는 재봉선을 선택할 수 있을 필요성이 존재할 수 있다. 따라서, 3차원 시뮬레이션에서 사용자가 편집하고자 하는 재봉선을 선택할 수 있도록 하는 기술이 중요할 수 있다.
전술한 배경기술은 발명자가 본원의 개시 내용을 도출하는 과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다.
일 실시예에 따르면, 재봉 시뮬레이션 방법은 디자인 물품에 계층적으로 포함된 적어도 하나의 피스 및 복수의 패턴들을 단계적으로 표시하기 위한 시각적 깊이의 선택 입력을 수신하는 단계; 시각적 깊이에 기초하여 복수의 패턴들 중 적어도 하나의 패턴과 적어도 하나의 다른 패턴 사이의 거리가 멀어지도록 조정된 3차원 분해도를 생성하는 단계; 및 적어도 하나의 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보-상기 재봉선 매칭 정보는 서로 다른 패턴의 외곽선 상에 존재하는 재봉선 간의 매칭 관계를 포함하는-에 기초하여 3차원 분해도 상에 표시하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는 선택 입력된 시각적 깊이에서 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 복수의 재봉선들을 표시하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는 선택 입력된 시각적 깊이에서 복수의 패턴들 중 하나의 패턴을 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 상기 재봉선 매칭 정보에 기초하여 표시하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 재봉 시뮬레이션 방법은 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 표시하고, 표시된 복수의 재봉선들과 매칭되지 않은 재봉선은 표시하지 않는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보에 기초하여 표시하는 단계는 재봉선 매칭 정보에 기초하여 매칭되는 재봉선들 사이를 연결하는 복수의 가이드선들을 생성하는 단계를 포함하고, 가이드선은 매칭된 재봉선들이 재봉되도록 안내하는 선을 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 재봉 시뮬레이션 방법은 선택 패턴에 연결된 가이드선들은 표시하는 단계; 및 선택 패턴과 연결되지 않은 가이드선들은 표시하지 않는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는 재봉선 편집 모드에서, 선택 입력된 시각적 깊이에서 상기 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 재봉선들 및 재봉선들을 연결하는 가이드선들을 표시하는 단계; 및 선택 피스가 아닌 적어도 하나의 피스는 표시하지 않는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는 재봉선 편집 모드에서, 선택 입력된 시각적 깊이에서 복수의 패턴들 중 하나의 패턴을 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들 및 재봉선들을 연결하는 가이드선들을 표시하는 단계; 선택 패턴이 아닌 적어도 하나의 패턴과 관련된 재봉선들 및 재봉선들을 연결하는 가이드선들을 표시하지 않는 단계; 및 선택 패턴이 포함되지 않은 피스는 표시하지 않는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는 재봉선 생성 모드에서, 선택 입력된 시각적 깊이에서 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 복수의 재봉선들을 표시하는 단계; 및 선택 피스가 아닌 적어도 하나의 피스를 표시하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 재봉선 매칭 정보는3차원 분해도에서 사용자 선택 입력에 기초하여 제1 패턴의 외곽선의 적어도 일부에 생성된 제1 재봉선과 제2 패턴의 외곽선의 적어도 일부에 생성된 제2 재봉선 사이의 매칭 정보를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 재봉 시뮬레이션 방법은 재봉선들 각각의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 다르게 설정하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 재봉 시뮬레이션 방법은 매칭되는 재봉선들 및 매칭되는 재봉선들 사이를 연결하는 가이드선의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 동일하게 설정하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 재봉 시뮬레이션 방법은 선택 패턴과 선택 패턴에 인접한 복수의 패턴들 사이의 거리를 증가시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 재봉 시뮬레이션 방법은 디자인 물품에 포함된 피스가 2개 이상인 경우, 피스들 사이의 거리가 멀어지도록 조정하는 단계; 및 피스들 각각에 포함된 복수의 패턴들 사이 거리가 멀어지도록 조정하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 재봉 시뮬레이션 방법은 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우, 3차원 분해도에서 패턴의 재봉선 및 매칭된 2개 이상의 재봉선들 중 적어도 하나의 재봉선 쌍의 선택을 수신하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 재봉 시뮬레이션 방법은 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우, 3차원 분해도에서 패턴의 재봉선과 매칭된 2개 이상의 재봉선들을 연결하는 가이드선들의 선택을 수신할 수 있다.
일 실시예에 따른 재봉 시뮬레이션 방법은 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 가이드선들을 삭제하고, 선택된 가이드선들에 의하여 연결되는 재봉선들 간의 매칭 관계를 삭제하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 재봉 시뮬레이션 방법은 사용자 선택 입력에 기초하여 제1 패턴의 외곽선 중 적어도 일부인 제1 재봉선 및 제2 패턴의 외곽선 중 적어도 일부인 제2 재봉선-상기 제2 재봉선은 제1 재봉선과 매칭되는-을 생성하는 단계; 및 제1 재봉선 및 제2 재봉선을 연결하는 가이드선을 생성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 재봉 시뮬레이션 방법은 1 재봉선 또는 제2 재봉선 중 적어도 하나를 편집하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 재봉 시뮬레이션 방법은 3차원 의상의 스타일을 변형시키는 스타일 라인(Style Line)을 패턴 위에 생성하는 단계; 스타일 라인에 기초하여 제1 재봉선, 제2 재봉선 및 가이드선을 생성하는 단계; 및 제1 재봉선 또는 제2 재봉선 중 적어도 하나를 편집하는 단계를 더 포함할 수 있다.
다른 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 사용자 인터페이스; 메모리; 및 프로세서; 를 포함하고, 상기 프로세서는 디자인 물품에 포함된 적어도 하나의 패턴 조각피스 및 상기 패턴 조각에 포함된 복수의 패턴들을 단계적으로 표시하기 위한 시각적 깊이의 선택 입력을 수신하고, 시각적 깊이에 기초하여 복수의 패턴들 중 적어도 하나의 패턴과 적어도 하나의 다른 패턴 사이의 거리가 멀어지도록 조정된 3차원 분해도를 생성하고, 그리고 적어도 하나의 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보-상기 재봉선 매칭 정보는 서로 다른 패턴의 외곽선 상에 존재하는 재봉선 간의 매칭 관계를 포함하는-에 기초하여 3차원 분해도 상에 표시할 수 있다.
일 측에 따르면, 피스들 또는 패턴들 사이 거리를 조정한 3차원 분해도를 통해서 재봉선 생성 및 재봉선 수정 작업이 원활하게 수행되도록 할 수 있다.
일 측에 따르면, 3차원의 시뮬레이션에서 수정 가능한 복수의 재봉선들이하나의 선에 겹쳐져 있는 경우에도, 3차원 분해도를 통해 수정할 재봉선이 다른 재봉선과 명확하게 분리되어 시각화 및/또는 수정이 가능하도록 할 수 있다.
일 측에 따르면, 사용자가 편집을 희망하는 재봉선 별로 다양한 작업이 가능하도록 할 수 있다.
일 측에 따르면, 3차원 분해도에서 재봉선을 용이하게 편집하고, 편집 결과 또한 용이하게 확인할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 재봉 시뮬레이션 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도2a 내지 2b는 일 실시예에 따른 3차원 분해도의 제1 깊이 레벨에서 피스가 선택된 경우 재봉선을 표시하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 내지 3b는 일 실시예에 따른 3차원 분해도의 제2 깊이 레벨에서 패턴이 선택된 경우 재봉선을 표시하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 일 실시예에 따른 2차원 도면에서 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 일 실시예에 따른 3차원 분해도에서 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 일 실시예에 따른 스타일 라인에 기초한 재봉선 편집을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 다양한 실시예에 따른 시뮬레이션 장치를 설명하기 위한 블록도이다.
도2a 내지 2b는 일 실시예에 따른 3차원 분해도의 제1 깊이 레벨에서 피스가 선택된 경우 재봉선을 표시하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 내지 3b는 일 실시예에 따른 3차원 분해도의 제2 깊이 레벨에서 패턴이 선택된 경우 재봉선을 표시하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 일 실시예에 따른 2차원 도면에서 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 일 실시예에 따른 3차원 분해도에서 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 일 실시예에 따른 스타일 라인에 기초한 재봉선 편집을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 다양한 실시예에 따른 시뮬레이션 장치를 설명하기 위한 블록도이다.
본 명세서에서 개시되어 있는 특정한 구조적 또는 기능적 설명들은 단지 기술적 개념에 따른 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 실시예들은 다양한 다른 형태로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되지 않는다.
제1 또는 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이런 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 이해되어야 한다. 예를 들어 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소는 제1 구성요소로도 명명될 수 있다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 표현들, 예를 들어 "~간에"와 "바로~간에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함으로 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.
도 1은 일 실시예에 따른 재봉 시뮬레이션 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도면에 도시되지는 않았으나, 3차원 의상들 및 2차원 패턴들은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 구성될 수 있다. 실시예들에 따라 메쉬는 다양하게 모델링 될 수 있다. 일례로, 메쉬에 포함되는 다각형의 꼭지점들은 질량을 가지고 있는 점(point mass)이며, 다각형의 변들은 그 질량을 연결하는 탄성을 가지고 있는 스프링들로 표현될 수 있다. 이에 따라, 일 실시예에 따른 3차원 의상은 예를 들어, 질량-스프링 모델(Mass-Spring Model)에 의해 모델링될 수 있다. 스프링들은 사용되는 천(fabric)의 물성에 따라, 예를 들어, 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending)에 대한 각 저항값(resist)을 가질 수 있다.
또는, 메쉬는 스트레인(strain) 모델로 모델링될 수 있다. 메쉬에 포함되는 다각형은 예를 들어, 삼각형으로 모델링되거나, 혹은 사각형 이상의 다각형으로 모델링될 수도 있다. 경우에 따라, 3차원 볼륨(volume)을 모델링해야 하는 경우, 메쉬는 3차원 다면체로 모델링될 수 있다.
메쉬에 포함된 다각형(들)의 꼭지점들은 예를 들어, 중력 등과 같은 외력(external force) 및 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending) 등과 같은 내력(internal force)에 의해 이동할 수 있다. 외력 및 내력을 계산하여 각 꼭지점에 가해지는 힘을 구하면 각 꼭지점의 변위 속도와 운동을 구할 수 있다. 의상의 움직임은 각 시간 동작에서 메쉬를 구성하는 다각형(들)의 꼭지점들의 움직임을 통해 시뮬레이션 될 수 있다. 예를 들어, 다각형 메쉬로 구성된 의상이 3차원 아바타 위에 착장되면, 물리 법칙에 기반한 자연스러운 3차원의 가상 의상이 구현될 수 있다. 메쉬에 포함된 다각형(들)의 꼭지점들은 중력 등과 같은 외부적인 힘(external force)과 신축, 비틀림, 및 굽힘의 내부적인 힘(internal force)의 작용에 따라 움직일 수 있다. 외부적인 힘과 내부적인 힘을 계산하여 각 꼭지점에 가해지는 힘을 구하면, 각 꼭지점의 변위 및 움직임의 속도를 구할 수 있다. 그리고 각 시점(time step)에서의 메쉬의 다각형의 꼭지점들의 움직임을 통하여 가상 의상의 움직임을 시뮬레이션 할 수 있다. 다각형 메쉬로 이루어진 2차원 패턴을 3차원의 아바타에 착장시키면 물리 법칙에 기반한 자연스러운 모습의 3차원 가상 의상을 구현할 수 있다.
일 실시예에 따른 3차원 의상들은 예를 들어, 사용자의 신체 치수에 맞는 가상 의상, 3차원 가상 캐릭터를 위한 가상 의상 및 3차원 가상 아바타를 위한 가상 의상 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
어느 2차원 패턴의 외곽선 중 하나를 다른 2차원 패턴의 외곽선 중 하나에 맞닿아 접합, 즉, '재봉'함으로써 3차원 의상을 생성할 수 있다. 가상 의상의 재봉은 2차원 패턴의 외곽선 중 하나의 메쉬를 이것이 재봉될 다른 2차원 패턴의 외곽선 중 하나의 메쉬에 이어 붙여서 하나의 3차원 의상을 생성하는 것으로 구현할 수 있다. 더 구체적으로는, 두 2차원 패턴의 외곽선 상에는 그 2차원 패턴을 구성하는 메쉬의 다각형 꼭지점이 존재할 것이고, 사용자가 재봉을 설정하고자 하는 외곽선 및 길이 ('재봉선')를 입력하면 각 2차원 패턴에서 재봉선 상에 위치하는 메쉬의 다각형 꼭지점을 연결(welding)하여 가상 의상의 재봉을 구현할 수 있다.
각 재봉선의 시작과 끝은 어느 메쉬의 다각형 꼭지점이다. 사용자가 입력한 각 재봉선 상의 다각형 꼭지점의 갯수가 일치하지 않는 경우에는 해당 2차원 패턴의 메쉬를 갱신하여 두 재봉선 상의 다각형 꼭지점의 개수가 일치하도록 메쉬를 새로 생성한 후 대응되는 다각형 꼭지점을 연결하여 3차원 가상 의상의 재봉을 수행할 수 있다.
이하에서는 재봉 시뮬레이션 방법이 설명된다.
일 실시예에 따르면, 시뮬레이션 장치는 디자인 물품에 계층적으로 포함된 적어도 하나의 피스(Piece) 및 상기 패턴 조각에 포함된 복수의 패턴들을 단계적으로 표시하기 위한 시각적 깊이(visual depth)의 선택 입력을 수신(110)할 수 있다.
디자인이란 물품의 형상, 모양, 색채 또는 이들을 결합한 것으로서 시각을 통하여 미감을 일으키게 하는 것일 수 있다. 그리고 물품은 독립성 있는 구체적인 유체동산을 의미할 수 있다. 디자인 물품은 시각을 통하여 미감을 일으키게 하는 물품을 의미할 수 있다. 예를 들어, 디자인 물품은 의상, 신발, 악세서리, 가방, 모자 등을 포함할 수 있다. 디자인 물품을 적어도 하나의 피스들로 구성될 수 있다. 예를 들어, 디자인 물품이 의상인 경우, 의상은 상의 피스 및 하의 피스로 구성될 수 있다. 피스는 복수의 패턴들로 구성될 수 있다. 예를 들어, 피스가 상의 피스 중 티셔츠인 경우, 패턴은 전면 몸통 패턴, 후면 몸통 패턴, 팔 소매 패턴 등으로 구성될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 시각적 깊이에 기초하여 복수의 패턴들 중 적어도 하나의 패턴과 적어도 하나의 다른 패턴 사이의 거리가 멀어지도록 조정된 3차원 분해도를 생성(120)할 수 있다. 3차원 분해도(Exploded View)는 3차원 시뮬레이션에서 디자인 물품에 포함된 복수의 패턴들을 분해시켜서 서로 떨어 뜨려 놓은 도면일 수 있다. 예를 들어, 3차원 분해도에서 시뮬레이션 장치는 피스 사이가 멀어지도록 피스들 사이 거리를 조정할 수 있다. 또 다른 예를 들어, 3차원 분해도에서 시뮬레이션 장치는 패턴들 사이 거리가 멀어지도록 패턴들 사이의 거리를 조정할 수 있다. 이를 통해, 사용자들은 디자인 이미지의 패턴에 포함된 각각의 패턴에 대하여 재봉선, 소재, 치수 변환 등 섬세한 작업을 할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 디자인 물품에 포함된 피스가 2개 이상인 경우, 피스들 사이의 거리가 멀어지도록 조정할 수 있다. 피스들 사이 거리를 증가시킨 후, 시뮬레이션 장치는 피스들 각각에 포함된 복수의 패턴들 사이 거리가 멀어지도록 조정함으로써 3차원 분해도를 생성할 수 있다. 본 개시의 3차원 분해도는 기존 3차원 의상의 형상을 최대한 유지하면서 복수의 패턴들 사이 거리가 멀어지도록 조정되었으므로, 사용자는 전체 3차원 의상을 쉽게 이해하면서 디자인 작업을 용이하게 수행할 수 있도록 도와줄 수 있는 시각적 효과도 기대할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 시뮬레이션 장치는 3차원 분해도에서 입력된 적어도 하나의 재봉선에 기초하여 생성된 재봉선 매칭 정보-상기 재봉선 매칭 정보는 서로 다른 패턴의 외곽선 상에 존재하는 재봉선 간의 매칭 관계를 포함하는-를 저장할 수 있다. 시뮬레이션 장치는 사용자 단말로부터 재봉선 정보를 수신할 수 있다. 재봉선 정보는 재봉선과 관련된 정보로서, 재봉선 매칭 정보, 재봉선 생성 정보 및/또는 재봉선 수정 정보를 포함할 수 있다. 사용자는 3차원 분해도에서 재봉선을 생성하는 작업을 수행할 수 있다. 또한 사용자는 3차원 분해도에서 재봉선을 수정하는 작업을 수행할 수도 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 사용자의 재봉선 관련 작업 내용을 포함하는 재봉선 정보를 수신하여 재봉선 매칭 정보를 저장할 수 있다. 재봉선 매칭 정보는 서로 다른 패턴의 외곽선 상에 존재하는 재봉선 간의 매칭 관계를 포함할 수 있다. 3차원 분해도에서 2개 이상의 재봉선은 서로 매칭될 수 있다. 디자인 물품의 3차원 시뮬레이션에서 하나의 선에 2개 이상의 재봉선이 존재할 수 있으므로, 3차원 분해도에서는 서로 다른 피스 각각에 존재하는 2개 이상의 재봉선은 매칭되는 선들일 수 있다. 구체적으로 매칭되는 복수의 재봉선들을 따라 패턴들이 접합되므로, 매칭되는 재봉선 쌍은 하나의 선을 이루게 될 수 있다. 따라서, 매칭되는 복수의 재봉선들은 디자인 물품의 3차원 시뮬레이션에서 하나의 선으로 표현될 수도 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 저장된 재봉선 매칭 정보를 호출하여, 3차원 분해도에서 복수의 재봉선들을 표시할 수 있다.
일 실시예에 따른 재봉선 매칭 정보는 시뮬레이션 장치 또는 사용자 단말에 저장된 정보일 수 있다. 예를 들어, 사용자가 특정 의상을 디자인하고 재봉선을 입력한 후, 해당 의상 디자인 관련 데이터를 저장할 수 있다. 이 과정에서 의상 디자인에 대응하는 재봉선 매칭 정보도 함께 저장될 수 있다. 사용자가 해당 의상 디자인 파일을 호출하는 경우, 시뮬레이션 장치는 해당 의상 디자인에 대응하는 재봉선 매칭 정보도 함께 호출하여, 3차원 분해도에서 재봉선들을 표시할 수 있다.
일 실시예에 따른 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보-상기 재봉선 매칭 정보는 서로 다른 패턴의 외곽선 상에 존재하는 재봉선 간의 매칭 관계를 포함하는-에 기초하여 3차원 분해도 상에 표시(130)할 수 있다. 디자인 물품에는 적어도 하나의 피스가 포함될 수 있다. 사용자가 적어도 하나의 피스 중 하나를 선택하는 입력을 수신하는 경우, 시뮬레이션 장치는 선택 피스에 포함된 복수의 재봉선들을 표시할 수 있다. 도 2a를 참조하여 설명하면, 피스가 티셔츠일 수 있다. 사용자는 티셔츠 피스(210)를 선택할 수 있다. 이 경우, 티셔츠는 선택 피스가 될 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택 피스에 포함된 모든 재봉선들을 표시할 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택 피스에 포함된 재봉선 및/또는 해당 재봉선과 매칭된 재봉선을 표시할 수 있다. 이를 통해 사용자가 특정 피스에 대하여 재봉선 편집 작업을 원활하게 수행할 수 있다. 다른 예를 들어, 피스가 상의 피스 및 하의 피스를 포함하는 상황에서, 사용자는 상의 피스를 선택할 수 있다. 이 경우, 시뮬레이션 장치는 상의 피스와 관련된 모든 재봉선을 표시하고, 하의 피스에 포함된 재봉선을 표시하지 않을 수 있다. 시뮬레이션 장치는 선택된 상의 피스에 포함된 복수의 패턴들 사이의 거리를 멀어지도록 조정함으로써 상의 피스의 3차원 분해도를 생성할 수 있다. 반면에, 시뮬레이션 장치는 선택되지 않은 하의 피스의 3차원 분해도는 생성하지 않을 수도 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉선 편집 모드에서, 선택된 피스의 3차원 분해도를 생성할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 선택되지 않은 피스를 화면에 출력하지 않을 수 있다. 따라서, 재봉선 편집 모드에서는 선택된 피스의 3차원 분해도만 화면에 출력될 수 있다. 재봉선 편집 모드는 3차원 시뮬레이션에서 사용자가 재봉선을 편집할 수 있는 모드를 의미할 수 있다. 재봉선 편집 모드에서 사용자는 재봉선 길이를 수정하거나 재봉선을 삭제할 수 있다,
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉선 편집 모드에서 선택 입력된 시각적 깊이에서 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 재봉선들 및 재봉선들을 연결하는 가이드선들을 표시할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 선택 피스가 아닌 적어도 하나의 피스는 표시하지 않을 수 있다. 따라서 시뮬레이션 장치는 사용자가 선택한 피스, 피스와 관련된 재봉선 및 가이드선들만 화면에 출력함으로써, 사용자가 편집 대상으로 선택한 선택 피스에 대해서만 집중적으로 편집할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉선 편집 모드에서, 선택 입력된 시각적 깊이에서 복수의 패턴들 중 하나의 패턴을 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들 및 재봉선들을 연결하는 가이드선들을 표시할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 선택 패턴이 아닌 적어도 하나의 패턴과 관련된 재봉선들 및 재봉선들을 연결하는 가이드선들을 표시하지 않을 수 있다. 나아가 시뮬레이션 장치는 선택 패턴이 포함되지 않은 피스는 표시하지 않을 수 있다. 따라서 시뮬레이션 장치는 선택 패턴이 포함된 피스, 선택 패턴과 관련된 재봉선 및 가이드선들만 표시할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 선택 패턴과 관련이 없는 피스, 재봉선 및 가이드선들은 표시하지 않을 수 있다. 이를 통해, 사용자는 편집 대상 선택 패턴에 집중하여 편집할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉선 생성 모드에서, 선택된 피스의 3차원 분해도를 생성할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 선택되지 않은 피스들의 3차원 분해도를 생성할 수 있다. 따라서, 재봉선 생성 모드에서는 디자인 물품의 모든 피스가 3차원 분해도로 표현될 수 있다. 재봉선 생성 모드는 사용자가 3차원 시뮬레이션에서 사용자가 재봉선을 생성할 수 있는 모드일 수 있다. 사용자는 재봉선 생성 모드에서 패턴 위에 새로운 재봉선을 생성할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉선 생성 모드에서, 선택 입력된 시각적 깊이에서 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 복수의 재봉선들을 표시할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 선택 피스가 아닌 적어도 하나의 피스를 표시할 수 있다, 선택 피스가 아닌 적어도 하나의 피스는 디자인 물품에 포함된 복수의 피스들 중 선택 피스가 아닌 피스를 포함할 수 있다. 따라서, 시뮬레이션 장치는 재봉선 생성 모드에서 디자인 물품에 포함된 모든 피스들의 3차원 분해도를 표시할 수 있다. 그 이유는 다른 피스에 포함된 패턴이 서로 연결되는 경우가 존재할 수 있기 때문이다. 따라서, 시뮬레이션 장치는 재봉선 편집 모드와 달리 재봉선 생성 모드에서는 선택 피스 뿐만 아니라 다른 피스들의 3차원 분해도도 표시할 수 있다.
이하에서는 재봉선 생성 및 편집에 대하여 구체적으로 설명된다.
사용자는 패턴에 새로운 재봉선을 생성할 수 있다. 그리고 기존에 존재하였거나 새롭게 생성된 재봉선을 편집할 수도 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 사용자 선택 입력에 기초하여 제1 패턴의 외곽선 중 적어도 일부인 제1 재봉선 및 제2 패턴의 외곽선 중 적어도 일부인 제2 재봉선- 제2 재봉선은 제1 재봉선과 매칭되는-을 생성할 수 있다. 제1 패턴과 제2 패턴을 동일한 피스에 포함된 패턴일 수도 있고, 각각 다른 피스에 포함된 패턴일 수도 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 재봉선 및 제2 재봉선을 연결하는 가이드선을 생성할 수 있다.
사용자 선택 입력은 재봉선의 시작점 및 끝점을 포함할 수 있다. 사용자는 패턴에서 재봉선의 시작점 및 끝점을 입력할 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 시작점 및 끝점을 연결하는 재봉선을 생성할 수 있다. 생성된 재봉선의 길이는 패턴의 외곽선의 길이 또는 외곽선 상에 존재하는 2 점 사이 거리와 반드시 일치할 필요는 없다. 생성된 재봉선의 길이는 사용자가 입력한 시작점 및 끝점에 기초하여 결정될 수 있다. 서로 매칭되는 재봉선 간의 길이는 동일할 수도 있고 다를 수도 있다. 예를 들어, 제1 재봉선과 제2 재봉선의 길이는 동일할 수도 있고 다를 수도 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 재봉선 또는 제2 재봉선 중 적어도 하나를 편집할 수 있다. 재봉선 편집은 재봉선 길이의 수정 또는 재봉선 삭제를 포함할 수 있다. 재봉선 길이 수정은 재봉선의 일 끝점의 위치를 변경함으로써 재봉선 길이 수정이 완료될 수 있다. 사용자가 재봉선 끝점을 이동시키는 입력을 하는 경우, 시뮬레이션 장치는 재봉선 길이를 수정하여 3차원 시뮬레이션에서 수정된 재봉선을 출력할 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 재봉선 또는 제2 재봉선 중 적어도 하나의 길이가 수정되는 경우, 제1 재봉선과 제2 재봉선을 연결하는 가이드선들을 변형시킬 수 있다. 시뮬레이션 장치는 수정된 재봉선의 길이에 기초하여 가이드선들을 변형시킬 수 있다. 제1 재봉선 또는 제2 재봉선 중 적어도 하나의 길이가 수정되는 경우, 두 패턴이 재봉되는 길이가 수정될 수 있다. 재봉선 삭제는 매칭되는 재봉선 쌍을 삭제하는 동작일 수 있다. 시뮬레이션 장치는 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 재봉선 쌍을 삭제할 수 있다. 선택된 재봉선 쌍이 생성된 경우, 시뮬레이션 장치는 재봉선 쌍의 매칭 관계를 삭제하고, 3차원 시뮬레이션에서 재봉선 쌍을 연결하는 가이드선을 삭제할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 패턴들 중 하나의 패턴을 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보에 기초하여 3차원 분해도 상에 표시(130)할 수 있다. 하나의 피스에는 복수의 패턴들이 포함될 수 있다. 사용자가 복수의 패턴들 중 하나를 선택하는 입력을 하는 경우, 선택 패턴에 포함된 복수의 재봉선들을 표시할 수 있다. 또한 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택 패턴에 포함된 복수의 재봉선들 및 해당 재봉선들 각각과 매칭되는 재봉선들도 표시할 수 있다. 도 3a을 참조하여 설명하면, 피스는 티셔츠이고, 티셔츠는 복수의 패턴들로 구성될 수 있다. 사용자는 복수의 패턴들 중 팔 소매 패턴을 선택할 수 있다. 이 경우, 팔 소매 패턴은 선택 패턴이 될 수 있다. 시뮬레이션 장치는 선택 패턴과 관련된 모든 재봉선들(330, 332)을 표시할 수 있다. 또한 시뮬레이션 장치는 선택 패턴과 관련된 복수의 가이드선(331)을 표시할 수도 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 표시하고, 표시된 복수의 재봉선들과 매칭되지 않은 재봉선은 표시하지 않을 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 특정한 색상을 가진 실선으로 표시할 수 있다. 반면에 시뮬레이션 장치는 표시된 복수의 재봉선들과 매칭되지 않은 재봉선을 화면에 출력하지 않을 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택 피스와 관련된 복수의 재봉선들을 표시하고, 표시된 복수의 재봉선들과 매칭되지 않은 재봉선을 표시하지 않을 수도 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉선 매칭 정보에 기초하여 매칭되는 재봉선들 사이를 연결하는 복수의 가이드선들을 생성할 수 있다. 가이드선은 매칭된 재봉선들이 재봉되도록 안내하는 선을 포함할 수 있다. 구체적인 설명은 도 2a를 참조하여 후술된다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택 패턴에 연결된 가이드선들을 표시할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 선택 패턴과 연결되지 않은 가이드선들은 표시하지 않을 수 있다. 이를 통해, 시뮬레이션 장치는 사용자가 작업 대상으로 선택한 패턴과 관련된 가이드선들만 화면에 출력함으로써, 사용자의 재봉선 수정 작업을 용이하게 할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택 피스에 연결된 가이드선들을 표시할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 선택 피스와 연결되지 않은 가이드선들은 표시하지 않을 수 있다. 이를 통해, 시뮬레이션 장치는 사용자가 작업 대상으로 선택한 피스와 관련된 가이드선들만 화면에 출력함으로써, 사용자의 재봉선 수정 작업을 용이하게 할 수 있다.
도2a 내지 2b는 일 실시예에 따른 3차원 분해도의 제1 깊이 레벨에서 피스가 선택된 경우 재봉선을 표시하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2a에서는 티셔츠 피스(210), 티셔츠 피스(210)에 포함된 패턴1(211), 패턴2(212), 패턴3(213), 패턴4(214), 패턴5(215), 패턴6(216), 패턴7(217), 재봉선1(232), 재봉선2(230), 가이드선(231), 재봉선3(250), 재봉선4(252) 및 가이드선(251)이 도시되어 있다.
재봉선 매칭 정보는 3차원 분해도에서 사용자 선택 입력에 기초하여 제1 패턴의 외곽선의 적어도 일부에 생성된 제1 재봉선과 제2 패턴의 외곽선의 적어도 일부에 생성된 제2 재봉선 사이의 매칭 정보를 포함할 수 있다. 도 2를 참조하여 설명하면, 패턴2(212)의 외곽선 상에 존재하는 재봉선1(232)과 패턴6(216)의 외곽선 상에 존재하는 재봉선2(230)는 서로 매칭되는 재봉선일 수 있다. 이 경우, 제1 패턴은 패턴2(212)이고, 제1 재봉선은 재봉선1(232)일 수 있다. 그리고 제2 패턴은 패턴6(216)이고, 제2 재봉선은 재봉선2(230)일 수 있다. 사용자가 패턴2(212)의 외곽선 상에 재봉선1(232)을 생성한 후, 패턴6(216)의 외곽선 상에 재봉선2(230)를 생성한 경우, 재봉선1(232)과 재봉선2(230) 사이는 매칭 관계라는 재봉선 매칭 정보가 생성될 수 있다. 재봉선 정보를 수신하여, 해당 재봉선 매칭 정보를 저장할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉선 매칭 정보에 기초하여 매칭되는 재봉선들 사이를 연결하는 복수의 가이드선들을 생성할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 재봉선1(232) 및 재봉선2(230) 사이의 재봉선 매칭 정보에 기초하여 가이드선(231)을 생성할 수 있다. 이 경우, 가이드선(231)은 복수개 존재할 수도 있다. 다른 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 재봉선3(250) 및 재봉선4(252) 사이의 재봉선 매칭 정보에 기초하여 가이드선(251)을 생성할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉선들 각각의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 다르게 설정할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 재봉선1(232) 및 재봉선2(230)와 재봉선3(250) 및 재봉선4(252)의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 다르게 설정할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치가 재봉선1(232) 및 재봉선2(230)을 노란색으로 설정한 경우, 재봉선3(250) 및 재봉선4(252)의 색상을 빨간색으로 설정할 수 있다. 이를 통해, 시뮬레이션 장치는 서로 매칭되지 않은 재봉선들을 다르게 시각화 할 수 있다. 따라서, 사용자는 동일 패턴의 외곽선 상에 존재하는 서로 다른 재봉선들을 쉽게 구분할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 매칭되는 재봉선들 및 매칭되는 재봉선들 사이를 연결하는 가이드선의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 동일하게 설정할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 매칭되는 재봉선들인 재봉선1(232), 재봉선2(230)의 색상 및 투명도 중 적어도 하나는 동일하게 설정할 수 있다. 다른 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 가이드선(231)의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 매칭되는 재봉선들인 재봉선1(232), 재봉선2(230)의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 동일하게 설정할 수 있다. 마찬가지로 시뮬레이션 장치는 재봉선3(250), 가이드선(251) 및 재봉선4(252)의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 서로 동일하게 설정할 수 있다.
도 2b에서는 제1 깊이 레벨에서 티셔츠 피스가 선택된 경우 표시된 재봉선들이 도시되어 있다. 도 2b에서 도시된 아바타는 3차원 시뮬레이션에서 표시될 수도 있고, 표시되지 않을 수도 있다. 아바타가 표시되지 않은 경우, 디자인 물품들(예, 피스들 또는 패턴들만 표시될 수 있다. 시뮬레이션 장치(600)는 시각적 깊이의 선택 입력을 수신하여 깊이 레벨을 결정할 수 있다. 깊이 레벨은 의상 전체를 표시하는 레벨, 피스들을 표시하는 레벨 및 패턴들을 표시하는 레벨 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제한이 아닌 예로서, 선택된 하나의 피스를 활성화하여 해당 피스에 포함된 재봉선들을 표시하는 레벨은 제1 깊이 레벨일 수 있다.
제1 깊이 레벨은 3차원 의상을 전체적으로 수정할 수 있는 레벨에 해당할 수 있다. 제1 깊이 레벨에 대응하여 피스가 화면에 표시될 수 있다. 현재 표시 중인 깊이 레벨이 '제1 깊이 레벨'인 경우, 피스가 화면에 표시될 수 있다. 제1 깊이 레벨에서는 3차원 의상에서 사용자에 의해 선택된 피스의 수정을 위한 사용자 인터페이스가 시각화될 수 있다. 예를 들어, 화면에 표시된 3차원 의상이 상의 및 하의의 2개의 피스들로 구성되고, 사용자에 의해 상의 피스가 선택되었다고 가정하자. 시뮬레이션 장치(600)는 선택된 상의 피스를 전체적으로 수정할 수 있는 사용자 인터페이스를 시각화하고, 선택되지 않은 하의 피스는 투명화 또는 반투명화할 수 있다.
도 2b에 도시된 바와 같이 의상 전체를 표시하는 레벨(201)에서 상의인 티셔츠 피스가 선택된 경우가 존재할 수 있다. 제한이 아닌 예로서, 시뮬레이션 장치(600)는 제1 깊이 레벨에 대한 선택 입력을 수신할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치(600)는 의상에 포함된 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스에 대한 선택 입력을 수신할 수 있다. 시뮬레이션 장치(600)는 제1 깊이 레벨(202)에서 선택된 피스에 포함된 재봉선들을 표시할 수 있다. 제한이 아닌 예로서, 시뮬레이션 장치(600)는 제1 깊이 레벨(202)에 대응하여, 티셔츠 피스에 포함된 패턴들을 연결하는 모든 재봉선들을 표시할 수 있다. 제1 깊이 레벨(202)에 표시된 세부적인 재봉선들은 도 2a처럼 표시될 수 있다.
도 3a 내지 3b는 일 실시예에 따른 3차원 분해도의 제2 깊이 레벨에서 패턴이 선택된 경우 재봉선을 표시하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a에서는 팔 소매 패턴(310), 선택 패턴인 팔 소매 패턴(310)과 관련된 재봉선들(330, 332), 가이드선(331), 전면 몸통 패턴(350) 후면 몸통 패턴(370) 및 목 소매 패턴(390)이 도시되어 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택 패턴과 선택 패턴에 인접한 복수의 패턴들 사이의 거리를 증가시킬 수 있다. 예를 들어, 선택 패턴은 팔 소매 패턴(310)일 수 있다. 팔 소매 패턴과 인접한 패턴들은 팔 소매 패턴(310)과 재봉으로 연결되거나 상대적 거리가 가까운 패턴들일 수 있다. 예를 들어, 팔 소매 패턴(310)과 인접한 패턴은 목 소매 패턴(390), 전면 몸통 패턴(350) 및 후면 몸통 패턴(370)일 수 있다. 시뮬레이션 장치는 선택 패턴인 팔 소매 패턴(310)과 인접 패턴인 목 소매 패턴(390), 전면 몸통 패턴(350) 및/또는 후면 몸통 패턴(370) 각각 사이 거리를 증가시킬 수 있다. 이를 통해, 시뮬레이션 장치는 사용자가 편집 대상으로 결정한 패턴과 관련된 재봉선을 원활하게 편집할 수 있도록 디자인 물품(예, 도 3a에서는 티셔츠)을 3차원 분해도를 통해 시각화 할 수 있다.
도 3b에서는 제2 깊이 레벨에서 피스에 포함된 패턴이 선택된 경우 표시된 재봉선들이 도시되어 있다. 도 3b에서 도시된 아바타는 3차원 시뮬레이션에서 표시될 수도 있고, 표시되지 않을 수도 있다. 아바타가 표시되지 않은 경우, 디자인 물품들(예, 피스들 또는 패턴들)만 표시될 수 있다. 시뮬레이션 장치(600)는 시각적 깊이의 선택 입력을 수신하여 깊이 레벨을 결정할 수 있다. 깊이 레벨은 의상 전체를 표시하는 레벨, 피스들을 표시하는 레벨 및 패턴들을 표시하는 레벨 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제한이 아닌 예로서, 선택된 패턴을 활성화하여 해당 패턴에 포함된 재봉선들을 표시하는 레벨은 제2 깊이 레벨일 수 있다.
제2 깊이 레벨은 3차원 의상의 세부적인 디테일을 수정할 수 있는 레벨에 해당할 수 있다. 제2 깊이 레벨에 대응하여 패턴들이 화면에 표시될 수 있다. 제2 깊이 레벨에서는 피스를 구성하는 패턴들에 대한 수정이 가능할 수 있다. 시뮬레이션 장치(600)는 사용자에 의해 선택된 패턴에 대하여는 수정을 위한 사용자 인터페이스를 시각화하고, 사용자에 의해 선택되지 못한 2차원 패턴에 대하여는 사용자 인터페이스를 시각화하지 않을 수 있다.
도 3b에 도시된 바와 같이 의상 전체를 표시하는 레벨(301)에서 상의인 티셔츠 피스에 포함된 패턴이 선택된 경우가 존재할 수 있다. 제한이 아닌 예로서, 시뮬레이션 장치(600)는 제2 깊이 레벨에 대한 선택 입력을 수신할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치(600)는 티셔츠 피스에 포함된 패턴들 중 적어도 하나에 대한 패턴 선택 입력을 수신할 수 있다. 시뮬레이션 장치(600)는 제2 깊이 레벨(302)에 대응하여, 선택된 패턴과 관련된 재봉선들을 표시할 수 있다.
도 3b에서는 티셔츠 피스에 포함된 모든 패턴들 사이 거리가 멀어진 상태로 도시되어 있으나, 제한이 아닌 예로서, 선택된 패턴 이외의 다른 패턴들은 모두 재봉된 상태이고, 선택된 패턴만 다른 패턴들과 멀어진 상태로 화면에 출력될 수도 있다. 제2 깊이 레벨(302)에 표시된 세부적인 재봉선들은 도 3a처럼 표시될 수 있다.
도 4는 일 실시예에 따른 2차원 도면에서 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우를 설명하기 위한 도면이다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우, 3차원 분해도에서 패턴의 재봉선 및 상기 매칭된 2개 이상의 재봉선들 중 적어도 하나의 재봉선 쌍의 선택을 수신할 수 있다.
일 실시예에 따른 하나의 재봉선에는 2개 이상의 재봉선이 매칭된 경우가 존재할 수 있다. 예를 들어, 재봉선1(420)에는 재봉선2(440) 및 재봉선3(460)이 매칭될 수 있다. 재봉선1(420)과 재봉선2(440)은 서로 매칭 관계에 있을 수 있으며, 동시에 재봉선1(420)과 재봉선3(460)은 서로 매칭 관계에 존재할 수 있다. 이 경우, 3차원 의상 시뮬레이션에서, 재봉선1(420), 재봉선2(440) 및 재봉선3(460)은 하나의 선으로 겹쳐질 수 있다. 그렇다면 패턴1(410), 패턴2(430) 및 패턴3(450)은 하나의 선으로 연결되는 패턴들일 수 있다. 하나의 재봉선에 2개 이상의 재봉선이 매칭될 경우, 사용자는 각각의 재봉선을 개별적으로 선택하여 재봉선을 수정할 필요성이 존재할 수 있다. 예를 들어, 재봉선1(420)과 재봉선2(440)의 매칭 관계는 사용자가 의도한 매칭일 수 있으나, 재봉선1(420)과 재봉선3(460)의 매칭 관계는 사용자가 의도한 매칭이 아닐 수 있다. 이 경우, 사용자는 재봉선3(460)을 선택하여 재봉선3(460)을 수정할 필요가 존재할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 재봉선1(420), 재봉선2(440) 및 재봉선3(460) 각각에 대한 개별 선택을 허용함으로써, 사용자가 재봉선 편집을 원활하게 하도록 할 수 있다.
도 5는 일 실시예에 따른 3차원 분해도에서 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우를 설명하기 위한 도면이다.
3차원 분해도에서 패턴1(510)은 2차원 패턴인 패턴1(410)과 대응되고, 패턴2(530)는 2차원 패턴인 패턴2(430)과 대응되고, 패턴3(550)은 2차원 패턴인 패턴3(450)과 대응될 수 있다. 그리고 3차원 분해도에서 재봉선1(520)은 2차원 상의 재봉선1(420)과 대응되고, 재봉선2(540)은 2차원 상의 재봉선2(440)과 대응되고, 재봉선3(560)은 2차원 상의 재봉선3(460)과 대응될 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 3차원 분해도에서 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인지 여부를 사용자가 쉽게 판단할 수 있도록 시각화 할 수 있다. 예를 들어, 재봉선1(520)과 재봉선2(540)은 매칭 관계에 있으므로, 재봉선1(520)과 재봉선2(540) 사이에는 복수의 가이드선들(570)이 표시될 수 있다. 그리고 재봉선1(520)과 재봉선3(560)은 매칭 관계에 있으므로, 재봉선1(520)과 재봉선3(560) 사이에는 복수의 가이드선들(580)이 표시될 수 있다. 재봉선 매칭 정보에 기초하여 가이드선들이 생성되므로, 시뮬레이션 장치는 하나의 재봉선에 2개 이상의 재봉선이 매칭되었는지 여부를 사용자가 쉽게 판단할 수 있도록 3차원 분해도를 통해 시각화 할 수 있다. 3차원 분해도에서, 서로 매칭되는 재봉선은 서로 겹쳐질 수 없기 때문에, 사용자는 정확하게 매칭된 재봉선이 2개 이상인지 판단하고, 각각의 매칭된 재봉선 쌍을 선택할 수 있다. 따라서, 사용자는 2개 이상 매칭된 재봉선 쌍들을 선택하여 수정할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우, 3차원 분해도에서 패턴의 재봉선과 매칭된 2개 이상의 재봉선들을 연결하는 가이드선들의 선택을 수신할 수 있다. 예를 들어, 재봉선1(520)과 재봉선2(540)은 매칭 관계에 있으므로, 재봉선1(520)과 재봉선2(540) 사이에는 복수의 가이드선들(570)이 표시될 수 있다. 그리고 재봉선1(520)과 재봉선3(560)은 매칭 관계에 있으므로, 재봉선1(520)과 재봉선3(560) 사이에는 복수의 가이드선들(580)이 표시될 수 있다. 시뮬레이션 장치는 사용자로부터 가이드선들(570) 또는 가이드선들(580)의 선택 입력을 수신할 수 있다. 가이드선들이 선택되는 경우, 가이드선들에 연결된 재봉선 쌍들도 함께 선택될 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 가이드선들을 삭제할 수 있다. 사용자는 선택한 가이드선들을 삭제하는 입력을 전자 장치에 할 수 있다. 예를 들어, 가이드선들(570)의 선택을 수신하고 해당 가이드선들(570)의 삭제 입력을 수신하는 경우, 시뮬레이션 장치는 선택된 가이드선들(570)을 삭제할 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 선택된 가이드선들을 삭제하고 선택된 가이드선들에 의하여 연결된 재봉선들 간의 매칭 관계를 삭제할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치는 선택된 가이드선들(570)에 의하여 연결된 재봉선들(520, 540) 간의 매칭 관계를 삭제할 수 있다.
도 6은 일 실시예에 따른 스타일 라인에 기초한 재봉선 편집을 설명하기 위한 도면이다.
스타일 라인은 3차원 의상의 스타일을 변형시키는 기능을 가지는 선일 수 있다. 스타일 라인은 사용자가 패턴 상에 임의로 생성할 수 있는 패턴 내부 선일 수 있다. 스타일 라인은 패턴 상에서 일정 조건 하에 생성될 수 있다. 스타일 라인은 패턴 상의 선 또는 점에 기초하여 생성될 수 있다. 스타일 라인의 시작점 및 끝점은 패턴 상의 선 또는 점일 수 있다. 스타일 라인이 패턴 상에 생성된 경우, 패턴 내부적으로 자동으로 스타일 라인을 따라 패턴이 분할되고, 스타일 라인을 따라 재봉선 쌍이 생성될 수 있다.
사용자는 스타일 라인을 패턴 위에 생성함으로써 3차원 의상의 스타일을 변형시킬 수 있다. 예를 들어, 패턴 위에 스타일 라인이 생성된 경우, 스타일 라인을 기준으로 패턴이 2개의 패턴으로 분할되고, 스타일 라인을 기준으로 분할된 패턴 각각에 재봉선 및 가이드선이 생성될 수 있다. 따라서, 분할된 패턴의 외곽선에는 재봉선이 존재하게 되고, 재봉선을 연결하면 스타일 라인이 될 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 사용자 선택 입력에 기초하여 3차원 의상의 스타일을 변형시키는 스타일 라인을 패턴 위에 생성할 수 있다. 사용자 선택 입력은 패턴 위에 스타일 라인을 생성하는 입력일 수 있다. 화면1(700)에서 사용자는 스타일 라인을 패턴 위에 입력할 수 있다. 화면2(701)에서는 패턴(720) 위에 생성된 스타일 라인(710)이 표시되어 있다.
일 실시예에 다른 시뮬레이션 장치는 스타일 라인에 기초하여 제1 재봉선, 제2 재봉선 및 가이드선을 생성할 수 있다.
도 6을 참조하여 설명하면, 패턴(720)은 화면3(702)에서 도시된 바와 같이 제1 패턴(721)과 제2 패턴(722)으로 분할될 수 있다. 제1 패턴(721)의 외곽선에는 제1 재봉선(711)이 존재할 수 있다. 제2 패턴(722)의 외곽선에는 제2 재봉선(712)이 존재할 수 있다. 제1 재봉선(711)과 제2 재봉선(712)은 매칭 관계에 있을 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 제1 재봉선(711)과 제2 재봉선(712)을 연결하는 가이드선(713)을 표시할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치는 제1 재봉선 또는 제2 재봉선 중 적어도 하나를 편집할 수 있다. 사용자는 제1 재봉선 길이 수정 또는 제2 재봉선 길이 수정 입력을 전자 장치에 할 수 있다. 예를 들어, 사용자는 제1 재봉선의 끝점인 점1(730)의 위치를 조정하여 제1 재봉선(711)의 길이를 조정할 수 있다. 도 6을 참조하면, 점1(730)의 위치는 화면4(703)에서 도시된 바와 같이 점1(731)의 위치로 이동될 할 수 있다. 마찬가지로, 점2(740)의 위치는 화면4(703)에서 도시된 바와 같이 점2(741)의 위치로 이동될 수 있다. 재봉선의 길이가 수정됨에 따라, 재봉선들을 연결하는 가이드선들도 수정되어 표시될 수 있다. 따라서 시뮬레이션 장치는 사용자 선택 입력에 기초하여 수정된 제1 재봉선의 길이 또는 수정된 제2 재봉선의 길이를 결정할 수 있다. 그리고 시뮬레이션 장치는 수정된 제1 재봉선 길이 또는 수정된 제2 재봉선의 길이 중 적어도 하나에 기초하여 가이드선들을 수정할 수 있다. 그 결과 두 패턴이 재봉되는 길이가 달라지게 되므로, 3차원 의상 시뮬레이션에서 디자인 물품의 외관을 다양하게 변형시킬 수 있다.
도 7은 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치의 블록도이다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(600)는 서버 또는 단말일 수 있다. 본 문서에 개시된 다양한 실시예들에 따른 시뮬레이션 장치는 다양한 형태의 장치가 될 수 있다. 시뮬레이션 장치는 예를 들면, 서버, 휴대용 통신 장치(예: 스마트폰), 컴퓨터 장치, 휴대용 컴퓨팅 장치, 카메라, 웨어러블 장치 또는 태블릿 장치를 포함할 수 있다. 도 7을 참조하면, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(600)는 사용자 인터페이스(610), 프로세서(630), 디스플레이(650), 및 메모리(670)를 포함할 수 있다. 사용자 인터페이스(610), 프로세서(630), 디스플레이(650), 및 메모리(670)는 통신 버스(605)를 통해 서로 연결될 수 있다.
시각적 깊이는 사용자가 의상 수정을 진행할 때 화면에 출력되는 의상(예, 피스, 패턴)의 시각화 정도를 의미할 수 있다. 따라서, 시각적 깊이가 달라짐에 따라, 화면에 출력되는 의상의 시각화 정도가 달라질 수 있다. 시각적 깊이는 복수의 깊이 레벨로 구성될 수 있다. 일 실시예에 따르면, 3차원 분해도(예, 아바타에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상)에서 3차원 의상에 포함된 피스들 및 피스들 각각을 구성하는 패턴들을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 사용자가 수정을 진행할 깊이 레벨을 선택 가능하도록 함으로써 3차원의 시뮬레이션 공간에서 수정 가능한 여러 대상들이 복잡하게 얽혀 있을 때에도 수정할 대상이 다른 대상과 명확하게 분리되어 시각화 및/또는 수정이 가능하도록 할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 시뮬레이션 장치의 동작 모드를 각 깊이 레벨 별로 수행 가능한 편집 기능들을 수행하는 작업 모드와 깊이 레벨들을 전환하는 이동 모드로 설정함으로써 깊이 레벨들 간의 이동과 이동된 깊이 레벨에서의 작업이 원활하게 수행되도록 할 수 있다.
사용자 인터페이스(610)는 아바타에 착장 시뮬레이션된 3차원 의상에서 3차원 의상에 포함된 하나 또는 그 이상의 피스들 및 피스들 각각을 구성하는 패턴들(2차원 패턴)을 계층적으로 표시하기 위한 깊이 레벨들 중 현재 표시 중인 깊이 레벨의 다음 깊이 레벨에 대응하는 복수의 객체들 중 어느 하나를 선택하는 사용자 입력을 수신한다. 사용자 인터페이스(610)는 예를 들어, 스타일러스 펜, 마우스 클릭, 및/또는 사용자의 손가락을 통해 터치 입력 등을 통해 3차원 공간에 표시된 3차원 의상, 피스 및/또는 패턴에 대한 용자 입력을 수신할 수 있다.
또한, 사용자 인터페이스(610)는 복수의 객체들이 표시되는 시뮬레이션 공간에서 복수의 객체들을 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력을 수신할 수 있다.
프로세서(630)는 선택된 피스 및/또는 패턴을 활성화하여 시각화할 수 있다. 또한, 프로세서(630)는 선택된 피스 및/또는 패턴을 제외한 적어도 하나의 나머지 피스 및/또는 패턴을 비활성화하여 투명 또는 반투명하게 시각화할 수 있다.
프로세서(630)는 예를 들어, 다음 깊이 레벨이 피스들을 표시하는 제1 레벨인 경우, 제1 레벨에 대응하여 선택된 어느 하나의 피스를 활성화하여 시각화하고, 다음 깊이 레벨이 패턴들을 표시하는 제2 레벨인 경우, 제2 레벨에 대응하여 선택된 패턴을 활성화하여 시각화할 수 있다. 이때, 프로세서(630)는 선택된 패턴이 선택되지 않은 다른 2차원 패턴들에 의해 가려지는 경우, 선택된 2차원 패턴을 다른 2차원 패턴들을 투과하여 선명하게 시각화할 수 있다.
예를 들어, 사용자 인터페이스(610)가 시뮬레이션 공간에서 복수의 객체들을 제외한 나머지의 빈 공간에 대한 사용자 입력을 수신한 경우, 프로세서(630)는 빈 공간에 대한 사용자 입력에 대응하여 다음 깊이 레벨을 표시하지 않고, 현재 표시 중인 깊이 레벨을 유지할 수 있다.
디스플레이(650)는 프로세서(630)에 의해 생성된 3차원 분해도를 표시한다.
메모리(670)는 생성된 3차원 분해도, 재봉선 정보 등을 저장할 수 있다. 이 밖에도, 메모리(670)는 상술한 프로세서(630)의 처리 과정에서 생성되는 다양한 정보들을 저장할 수 있다. 이 밖에도, 메모리(670)는 각종 데이터와 프로그램 등을 저장할 수 있다. 메모리(670)는 휘발성 메모리 또는 비휘발성 메모리를 포함할 수 있다. 메모리(670)는 하드 디스크 등과 같은 대용량 저장 매체를 구비하여 각종 데이터를 저장할 수 있다.
또한, 프로세서(630)는 도 1 내지 도 5을 통해 전술한 적어도 하나의 방법 또는 적어도 하나의 방법에 대응되는 알고리즘을 수행할 수 있다. 프로세서(630)는 목적하는 동작들(desired operations)을 실행시키기 위한 물리적인 구조를 갖는 회로를 가지는 하드웨어로 구현된 데이터 처리 장치일 수 있다. 예를 들어, 목적하는 동작들은 프로그램에 포함된 코드(code) 또는 인스트럭션들(instructions)을 포함할 수 있다. 프로세서(630)는 예를 들어, CPU(Central Processing Unit), GPU(Graphics Processing Unit), 또는 NPU(Neural network Processing Unit)으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 하드웨어로 구현된 시뮬레이션 장치(600)는 마이크로프로세서(microprocessor), 중앙 처리 장치(central processing unit), 프로세서 코어(processor core), 멀티-코어 프로세서(multi-core processor), 멀티프로세서(multiprocessor), ASIC(Application-Specific Integrated Circuit), FPGA(Field Programmable Gate Array)를 포함할 수 있다.
프로세서(630)는 프로그램을 실행하고, 시뮬레이션 장치(600)를 제어할 수 있다. 프로세서(630)에 의하여 실행되는 프로그램 코드는 메모리(670)에 저장될 수 있다.
실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다. 상기된 하드웨어 장치는 실시예의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.
소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 처리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로(collectively) 처리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 처리 장치에 의하여 해석되거나 처리 장치에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 장치, 가상 장치(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 장치에 영구적으로, 또는 일시적으로 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 하나 이상의 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.
Claims (22)
- 3차원 분해도(exploded view)에서 재봉 시뮬레이션 방법에 있어서,
디자인 물품에 계층적으로 포함된 적어도 하나의 피스(Piece) 및 복수의 패턴들을 단계적으로 표시하기 위한 시각적 깊이(visual depth)의 선택 입력을 수신하는 단계;
상기 시각적 깊이에 기초하여 상기 복수의 패턴들 중 적어도 하나의 패턴과 적어도 하나의 다른 패턴 사이의 거리가 멀어지도록 3차원 분해도를 생성하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보-상기 재봉선 매칭 정보는 서로 다른 패턴의 외곽선 상에 존재하는 재봉선 간의 매칭 관계를 포함하는-에 기초하여 상기 3차원 분해도 상에 표시하는 단계
를 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는
상기 선택 입력된 시각적 깊이에서 상기 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 복수의 재봉선들을 표시하는 단계
를 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는
상기 선택 입력된 시각적 깊이에서 상기 복수의 패턴들 중 하나의 패턴을 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 상기 재봉선 매칭 정보에 기초하여 표시하는 단계
를 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제3항에 있어서,
상기 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 표시하고, 상기 표시된 복수의 재봉선들과 매칭되지 않은 재봉선은 표시하지 않는 단계
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보에 기초하여 표시하는 단계는
상기 재봉선 매칭 정보에 기초하여 매칭되는 재봉선들 사이를 연결하는 복수의 가이드선들을 생성하는 단계
를 포함하고,
상기 가이드선은 매칭된 재봉선들이 재봉되도록 안내하는 선을 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
선택 패턴에 연결된 가이드선들은 표시하는 단계; 및
상기 선택 패턴과 연결되지 않은 가이드선들은 표시하지 않는 단계;
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는
재봉선 편집 모드에서, 상기 선택 입력된 시각적 깊이에서 상기 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 재봉선들 및 상기 재봉선들을 연결하는 가이드선들을 표시하는 단계; 및
상기 선택 피스가 아닌 적어도 하나의 피스는 표시하지 않는 단계;
를 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는
재봉선 편집 모드에서, 상기 선택 입력된 시각적 깊이에서 상기 복수의 패턴들 중 하나의 패턴을 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 패턴과 관련된 복수의 재봉선들 및 상기 재봉선들을 연결하는 가이드선들을 표시하는 단계;
상기 선택 패턴이 아닌 적어도 하나의 패턴과 관련된 재봉선들 및 상기 재봉선들을 연결하는 가이드선들을 표시하지 않는 단계; 및
상기 선택 패턴이 포함되지 않은 피스는 표시하지 않는 단계;
를 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 3차원 분해도 상에 표시하는 단계는
재봉선 생성 모드에서, 상기 선택 입력된 시각적 깊이에서 상기 적어도 하나의 피스 중 하나의 피스를 선택하는 입력에 기초하여 결정된 선택 피스와 관련된 복수의 재봉선들을 표시하는 단계; 및
상기 선택 피스가 아닌 적어도 하나의 피스를 표시하는 단계;
를 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 재봉선 매칭 정보는
상기 3차원 분해도에서 사용자 선택 입력에 기초하여 제1 패턴의 외곽선의 적어도 일부에 생성된 제1 재봉선과 제2 패턴의 외곽선의 적어도 일부에 생성된 제2 재봉선 사이의 매칭 정보를 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 재봉선들 각각의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 다르게 설정하는 단계
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제11항에 있어서,
매칭되는 재봉선들 및 상기 매칭되는 재봉선들 사이를 연결하는 가이드선의 색상 및 투명도 중 적어도 하나를 동일하게 설정하는 단계
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
선택 패턴과 상기 선택 패턴에 인접한 복수의 패턴들 사이의 거리를 증가시키는 단계;
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
디자인 물품에 포함된 피스가 2개 이상인 경우, 피스들 사이의 거리가 멀어지도록 조정하는 단계; 및
상기 피스들 각각에 포함된 복수의 패턴들 사이 거리가 멀어지도록 조정하는 단계;
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우, 상기 3차원 분해도에서 상기 패턴의 재봉선 및 상기 매칭된 2개 이상의 재봉선들 중 적어도 하나의 재봉선 쌍의 선택을 수신하는 단계 또는
패턴의 재봉선에 매칭된 재봉선이 2개 이상인 경우, 상기 3차원 분해도에서 상기 패턴의 재봉선과 상기 매칭된 2개 이상의 재봉선들을 연결하는 가이드선들의 선택을 수신하는 단계;
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제15항에 있어서,
사용자 선택 입력에 기초하여 상기 선택된 가이드선들을 삭제하고, 상기 선택된 가이드선들에 의하여 연결되는 재봉선들 간의 매칭 관계를 삭제하는 단계;
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
사용자 선택 입력에 기초하여 제1 패턴의 외곽선 중 적어도 일부인 제1 재봉선 및 제2 패턴의 외곽선 중 적어도 일부인 제2 재봉선-상기 제2 재봉선은 상기 제1 재봉선과 매칭되는-을 생성하는 단계; 및
상기 제1 재봉선 및 상기 제2 재봉선을 연결하는 가이드선을 생성하는 단계;
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제17항에 있어서,
상기 제1 재봉선 또는 상기 제2 재봉선 중 적어도 하나를 편집하는 단계
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제1항에 있어서,
스타일 라인(Style Line)을 패턴 위에 생성하는 단계; 및
상기 스타일 라인에 기초하여 제1 재봉선, 제2 재봉선 및 가이드선을 생성하는 단계;
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 제19항에 있어서,
상기 제1 재봉선 또는 제2 재봉선 중 적어도 하나를 편집하는 단계;
를 더 포함하는,
재봉 시뮬레이션 방법.
- 하드웨어와 결합되어 제1항 내지 제20항 중 어느 하나의 항의 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 기록매체에 저장된 컴퓨터 프로그램.
- 3차원 분해도에서 재봉 시뮬레이션을 하기 위한 시뮬레이션 장치는
사용자 인터페이스;
메모리; 및
프로세서;
를 포함하고,
상기 프로세서는
디자인 물품에 포함된 적어도 하나의 피스 및 복수의 패턴들을 단계적으로 표시하기 위한 시각적 깊이의 선택 입력을 수신하고,
상기 시각적 깊이에 기초하여 상기 복수의 패턴들 중 적어도 하나의 패턴과 적어도 하나의 다른 패턴 사이의 거리가 멀어지도록 조정된 3차원 분해도를 생성하고, 그리고
상기 적어도 하나의 패턴과 관련된 복수의 재봉선들을 재봉선 매칭 정보-상기 재봉선 매칭 정보는 서로 다른 패턴의 외곽선 상에 존재하는 재봉선 간의 매칭 관계를 포함하는-에 기초하여 상기 3차원 분해도 상에 표시하는,
시뮬레이션 장치.
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|---|---|---|---|
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Family Applications Before (1)
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Also Published As
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